JP6765761B2 - 静電チャック装置及び静電吸着方法 - Google Patents
静電チャック装置及び静電吸着方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6765761B2 JP6765761B2 JP2016252944A JP2016252944A JP6765761B2 JP 6765761 B2 JP6765761 B2 JP 6765761B2 JP 2016252944 A JP2016252944 A JP 2016252944A JP 2016252944 A JP2016252944 A JP 2016252944A JP 6765761 B2 JP6765761 B2 JP 6765761B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- held
- electrostatic chuck
- electrostatic
- electrode
- ionized air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
- H01L21/6833—Details of electrostatic chucks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q3/00—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
- B23Q3/15—Devices for holding work using magnetic or electric force acting directly on the work
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N13/00—Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Description
1a 表面
1b 裏面
3 分割予定ライン
5 デバイス
7a ウェーハ上面の電荷
7b ウェーハ下面の電荷
2 静電チャック装置
4 静電チャックテーブル
4a 保持面
4b 絶縁体
4c 電極
4d 電源
6 イオン化エアー供給ユニット
6a イオン化エアー供給ヘッド
6b イオン化エアー供給源
6c 供給口
8 イオン化エアー
10 イオン化エアーによる電荷
12,14 電極に供給された電荷
Claims (3)
- 大気圧環境下で被保持物を静電吸着する静電チャック装置であって、
電極と、保持面と、を備える静電チャックテーブルと、
該保持面に保持した該被保持物の露出面にイオン化エアーを供給するイオン化エアー供給ユニットと、を有し、
該電極は、被保持物の静電吸着時に電荷が供給される機能を有し、
該イオン化エアー供給ユニットは、該電極に供給される電荷の極性と反対の極性の電荷のイオンを該被保持物の露出面に供給して、該被保持物の該露出面側の電荷を維持する機能を有することを特徴とする静電チャック装置。 - 該被保持物は、一方の面に保護部材が設けられており、
該保護部材を介して該被保持物を該保持面に静電吸着することを特徴とする請求項1に記載の静電チャック装置。 - 電極と、保持面と、を備える静電チャックテーブルの該保持面に被保持物を載置する載置ステップと、
該電極に電荷を供給し、静電吸引力を発生させる吸引制御ステップと、
該被保持物の露出面に、該電極に供給された電荷の極性と反対の極性の電荷のイオン化エアーを供給して該被保持物の該露出面の電荷を維持し、静電吸引力の制御を補助する吸引補助ステップと、
を備えることを特徴とする静電吸着方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016252944A JP6765761B2 (ja) | 2016-12-27 | 2016-12-27 | 静電チャック装置及び静電吸着方法 |
TW106138573A TWI745481B (zh) | 2016-12-27 | 2017-11-08 | 靜電吸盤裝置及靜電吸附方法 |
CN201711326311.7A CN108242421B (zh) | 2016-12-27 | 2017-12-13 | 静电卡盘装置和静电吸附方法 |
KR1020170174538A KR102281155B1 (ko) | 2016-12-27 | 2017-12-18 | 정전 척 장치 및 정전 흡착 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016252944A JP6765761B2 (ja) | 2016-12-27 | 2016-12-27 | 静電チャック装置及び静電吸着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018107308A JP2018107308A (ja) | 2018-07-05 |
JP6765761B2 true JP6765761B2 (ja) | 2020-10-07 |
Family
ID=62700501
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016252944A Active JP6765761B2 (ja) | 2016-12-27 | 2016-12-27 | 静電チャック装置及び静電吸着方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6765761B2 (ja) |
KR (1) | KR102281155B1 (ja) |
CN (1) | CN108242421B (ja) |
TW (1) | TWI745481B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111455355A (zh) * | 2020-04-13 | 2020-07-28 | 艾华(无锡)半导体科技有限公司 | 一种静电辅助外延生长的方法 |
WO2021241342A1 (ja) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | ソニーグループ株式会社 | 摩擦力発生装置およびその制御方法 |
CN112004340A (zh) * | 2020-07-03 | 2020-11-27 | 瑞声科技(沭阳)有限公司 | 一种柔性线路板的叠板方法 |
CN112329088B (zh) * | 2020-11-10 | 2022-12-09 | 天津工业大学 | 一种面向服装面料的静电吸附力建模方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0513556A (ja) * | 1991-07-01 | 1993-01-22 | Toshiba Corp | 静電チヤツク |
JPH11111830A (ja) * | 1997-10-07 | 1999-04-23 | Tokyo Electron Ltd | 静電吸着装置および静電吸着方法、ならびにそれを用いた処理装置および処理方法 |
JP2000269198A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Toshiba Corp | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP2004022979A (ja) * | 2002-06-19 | 2004-01-22 | Shibaura Mechatronics Corp | 吸着ステージおよびそれを用いた基板貼り合せ装置 |
JP4323232B2 (ja) * | 2002-12-04 | 2009-09-02 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 静電吸着方法、静電吸着装置及び貼り合せ装置 |
JP4938352B2 (ja) * | 2006-05-17 | 2012-05-23 | 株式会社ディスコ | 静電チャックテーブル機構 |
KR100690136B1 (ko) * | 2006-05-29 | 2007-03-08 | 우범제 | 정전척의 잔류 전하 제거 장치 및 제거 방법 |
JP2008251737A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 静電チャック装置用電極部材ならびにそれを用いた静電チャック装置および静電吸着解除方法 |
JP2014075372A (ja) * | 2010-12-27 | 2014-04-24 | Canon Anelva Corp | 静電吸着装置 |
KR102082271B1 (ko) * | 2013-05-24 | 2020-04-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 캐리어기판 분리 시스템 및 분리 방법 |
JP5938716B2 (ja) * | 2013-11-01 | 2016-06-22 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
US9101038B2 (en) * | 2013-12-20 | 2015-08-04 | Lam Research Corporation | Electrostatic chuck including declamping electrode and method of declamping |
KR20160015510A (ko) * | 2014-07-30 | 2016-02-15 | 삼성전자주식회사 | 정전척 어셈블리, 이를 구비하는 반도체 제조장치, 및 이를 이용한 플라즈마 처리방법 |
JP6433204B2 (ja) | 2014-09-01 | 2018-12-05 | 株式会社ディスコ | 静電支持プレート及び静電支持プレートの製造方法 |
JP2016111121A (ja) * | 2014-12-04 | 2016-06-20 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP6649689B2 (ja) * | 2015-03-16 | 2020-02-19 | 株式会社ディスコ | 減圧処理装置及びウエーハの保持方法 |
JP6165384B2 (ja) * | 2015-04-09 | 2017-07-19 | 信越エンジニアリング株式会社 | 貼合デバイスの製造装置 |
-
2016
- 2016-12-27 JP JP2016252944A patent/JP6765761B2/ja active Active
-
2017
- 2017-11-08 TW TW106138573A patent/TWI745481B/zh active
- 2017-12-13 CN CN201711326311.7A patent/CN108242421B/zh active Active
- 2017-12-18 KR KR1020170174538A patent/KR102281155B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102281155B1 (ko) | 2021-07-22 |
JP2018107308A (ja) | 2018-07-05 |
TW201834132A (zh) | 2018-09-16 |
CN108242421B (zh) | 2022-10-04 |
CN108242421A (zh) | 2018-07-03 |
TWI745481B (zh) | 2021-11-11 |
KR20180076306A (ko) | 2018-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6765761B2 (ja) | 静電チャック装置及び静電吸着方法 | |
KR20070009523A (ko) | 워크 제전 방법 및 그 장치 | |
TW200620528A (en) | Method for processing stuck object and electrostatic sticking method | |
JP2010199239A (ja) | 被処理基板の除電方法及び基板処理装置 | |
WO2021111732A1 (ja) | 吸着保持装置及び対象物表面加工方法 | |
CN110034065B (zh) | 器件芯片的制造方法和拾取装置 | |
JP2012524417A (ja) | 基板と静電クランプとの間の電荷の除去 | |
US20170170047A1 (en) | Plasma treatment device and wafer transfer tray | |
CN109285806B (zh) | 静电卡盘板的制造方法 | |
JP2004047979A (ja) | 静電把持装置及びそれを製造する方法 | |
JPH033250A (ja) | 基板保持装置 | |
KR102496166B1 (ko) | 정전척을 구비한 기판처리장치 | |
JPH0422153A (ja) | 静電吸着装置 | |
JP2018056452A (ja) | 搬送トレイ、及び搬送トレイの給電装置 | |
JPH0685045A (ja) | ウェーハ離脱方法 | |
US6376795B1 (en) | Direct current dechucking system | |
JP6609735B2 (ja) | 静電式ワーク保持方法,静電式ワーク保持システム及びワーク保持装置 | |
KR101526509B1 (ko) | 로렌츠 힘을 이용한 고정용 척 | |
JP6558901B2 (ja) | プラズマ処理方法 | |
JP6011965B2 (ja) | プラズマダイシング方法及びプラズマダイシング装置 | |
JP4590314B2 (ja) | ウェハキャリア | |
JP3880439B2 (ja) | 基板の搬送装置 | |
CN210575889U (zh) | 静电吸盘 | |
JPH0216749A (ja) | 電子ビーム露光装置用ウェハーホルダ | |
JPH04289046A (ja) | 半導体ウエハー保持装置及び半導体製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191018 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200821 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200915 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200915 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6765761 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |