JP2002299426A - 静電チャックユニット - Google Patents
静電チャックユニットInfo
- Publication number
- JP2002299426A JP2002299426A JP2001096340A JP2001096340A JP2002299426A JP 2002299426 A JP2002299426 A JP 2002299426A JP 2001096340 A JP2001096340 A JP 2001096340A JP 2001096340 A JP2001096340 A JP 2001096340A JP 2002299426 A JP2002299426 A JP 2002299426A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrostatic chuck
- sample
- capacitor
- power supply
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 減圧下での試料加工プロセスを持つ半導体製
造装置において、放電短絡を起こすことなく大気圧から
真空中まで連続的に使用可能な試料搬送固定兼用静電チ
ャックユニットを提供することを目的とする。 【解決手段】 半導体製造装置に用いられる静電チャッ
クユニットであって、静電チャック内部に電気回路的に
並列に外付けコンデンサーを内蔵可能とした構造にする
ことで吸着電圧切断後においても試料の吸着が可能とな
るようにし静電チャックを用いた搬送系の設計が簡素で
製作が安価にできるようにした。
造装置において、放電短絡を起こすことなく大気圧から
真空中まで連続的に使用可能な試料搬送固定兼用静電チ
ャックユニットを提供することを目的とする。 【解決手段】 半導体製造装置に用いられる静電チャッ
クユニットであって、静電チャック内部に電気回路的に
並列に外付けコンデンサーを内蔵可能とした構造にする
ことで吸着電圧切断後においても試料の吸着が可能とな
るようにし静電チャックを用いた搬送系の設計が簡素で
製作が安価にできるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、主としてシリコン
ウエハやガラス基板等の試料を加工する半導体製造装置
で使用される静電チャックユニットの構造およびその使
用方法に関するものである。
ウエハやガラス基板等の試料を加工する半導体製造装置
で使用される静電チャックユニットの構造およびその使
用方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の半導体製造工程では、減圧環境下
で試料を加工する工程が多い。この場合の半導体製造装
置への試料の搬入、加工、及び搬出手順は、大気圧下で
試料搬送機構に試料を保持させ、ロードロックチャンバ
ー内で大気圧から加工プロセスチャンバに近い真空圧力
領域まで減圧される。その後試料は減圧下のロードロッ
クチャンバーから処理室である加工プロセスチャンバー
内に搬入され所定の位置に固定され、所定の加工プロセ
スを実施する。加工プロセス終了後、試料は加工プロセ
スチャンバーからロードロックチャンバーに搬出され、
真空から大気圧に戻され半導体製造装置外に搬出され
る。
で試料を加工する工程が多い。この場合の半導体製造装
置への試料の搬入、加工、及び搬出手順は、大気圧下で
試料搬送機構に試料を保持させ、ロードロックチャンバ
ー内で大気圧から加工プロセスチャンバに近い真空圧力
領域まで減圧される。その後試料は減圧下のロードロッ
クチャンバーから処理室である加工プロセスチャンバー
内に搬入され所定の位置に固定され、所定の加工プロセ
スを実施する。加工プロセス終了後、試料は加工プロセ
スチャンバーからロードロックチャンバーに搬出され、
真空から大気圧に戻され半導体製造装置外に搬出され
る。
【０００３】このような半導体製造装置において、ロー
ドロックチャンバー内で試料を大気圧下から必要な減圧
環境下まで、連続して保持可能な試料搬送機構が必要と
なるが、この条件を満たす一例として、特願２０００−
３８７８４号や、その断面の概略図を示した図１のよう
な搬送／固定兼用静電チャックがある。図１は従来の搬
送／固定兼用静電チャックの概略断面図を示し、図２は
その動作を説明するためのチャンバー模式図である。半
導体製造装置の総部品点数を減らすため、一枚の静電チ
ャックで半導体製造装置内の搬送と加工プロセス時の固
定の両方が兼用可能な構造を取っている。つまり、静電
チャックには２系統の電源から接続される電極端子２
２、２３が設けられている。ロードロックチャンバー２
７内では、搬送用電源ケーブル３０を介して電源３１よ
り電圧が印可され試料を吸着し、加工プロセスチャンバ
ー２５内に移送される。ロードロックチャンバーと加工
プロセスチャンバー間が隔壁２６によって縁切りされる
ため連続的に吸着可能とするために、加工プロセスチャ
ンバーの所定位置において、静電チャックの他方の電極
端子２２に別系統の電源２８と接続された固定用電源ケ
ーブル２９が接続され電圧が印可されかつ、一方の搬送
用電源ケーブル３０は切り離されて静電チャックの受け
渡しが完了する。その後加工プロセスチャンバーが隔壁
によって隔離２６され、真空度が上げられ試料が処理さ
れる。
ドロックチャンバー内で試料を大気圧下から必要な減圧
環境下まで、連続して保持可能な試料搬送機構が必要と
なるが、この条件を満たす一例として、特願２０００−
３８７８４号や、その断面の概略図を示した図１のよう
な搬送／固定兼用静電チャックがある。図１は従来の搬
送／固定兼用静電チャックの概略断面図を示し、図２は
その動作を説明するためのチャンバー模式図である。半
導体製造装置の総部品点数を減らすため、一枚の静電チ
ャックで半導体製造装置内の搬送と加工プロセス時の固
定の両方が兼用可能な構造を取っている。つまり、静電
チャックには２系統の電源から接続される電極端子２
２、２３が設けられている。ロードロックチャンバー２
７内では、搬送用電源ケーブル３０を介して電源３１よ
り電圧が印可され試料を吸着し、加工プロセスチャンバ
ー２５内に移送される。ロードロックチャンバーと加工
プロセスチャンバー間が隔壁２６によって縁切りされる
ため連続的に吸着可能とするために、加工プロセスチャ
ンバーの所定位置において、静電チャックの他方の電極
端子２２に別系統の電源２８と接続された固定用電源ケ
ーブル２９が接続され電圧が印可されかつ、一方の搬送
用電源ケーブル３０は切り離されて静電チャックの受け
渡しが完了する。その後加工プロセスチャンバーが隔壁
によって隔離２６され、真空度が上げられ試料が処理さ
れる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】搬送／固定用静電チャ
ック２４がロードロックチャンバー２７から加工チャン
バー２５へ移動するに伴い静電チャックの搬送用電源ケ
ーブル３０、加工チャンバー内の固定用電源ケーブル２
９も同時に移動するような構造としなければならない。
また搬送用電源３１から固定用電源２８の切り替えのた
めの電源切り替えシーケンス等の制御が必要となる。こ
のため装置全体の構造が複雑となり高価にならざるを得
なかった。特に処理チャンバーがトランスファーチャン
バーに対して放射状に複数配置されるマルチチャンバー
システムにおいては静電チャックを搬送と固定の両方に
使用するには搬送系が複雑になりすぎて困難な状況とな
っている。また従来の方式においては静電チャック自体
にも搬送用電極端子２３と固定用電極端子２２を配置し
なければならずそのために電極パターン設計の自由度が
無くなり設計が複雑となる。しかも電極端子は電極パタ
ーンの占有面積を小さくするので電極端子が無い場合と
比較して全面積あたりの静電吸着力が低下することとな
り最悪移動の際の振動などで試料が静電チャックからず
れる可能性があった。このために強い吸着力が要求され
ていたが逆に電圧切断後の残留する静電吸着力も大きく
試料を容易に離脱させることが困難で逆電圧を加えた
り、リフトピンで突き上げたりしなければならずこのた
め装置全体の製作費が高くなる傾向にあった。
ック２４がロードロックチャンバー２７から加工チャン
バー２５へ移動するに伴い静電チャックの搬送用電源ケ
ーブル３０、加工チャンバー内の固定用電源ケーブル２
９も同時に移動するような構造としなければならない。
また搬送用電源３１から固定用電源２８の切り替えのた
めの電源切り替えシーケンス等の制御が必要となる。こ
のため装置全体の構造が複雑となり高価にならざるを得
なかった。特に処理チャンバーがトランスファーチャン
バーに対して放射状に複数配置されるマルチチャンバー
システムにおいては静電チャックを搬送と固定の両方に
使用するには搬送系が複雑になりすぎて困難な状況とな
っている。また従来の方式においては静電チャック自体
にも搬送用電極端子２３と固定用電極端子２２を配置し
なければならずそのために電極パターン設計の自由度が
無くなり設計が複雑となる。しかも電極端子は電極パタ
ーンの占有面積を小さくするので電極端子が無い場合と
比較して全面積あたりの静電吸着力が低下することとな
り最悪移動の際の振動などで試料が静電チャックからず
れる可能性があった。このために強い吸着力が要求され
ていたが逆に電圧切断後の残留する静電吸着力も大きく
試料を容易に離脱させることが困難で逆電圧を加えた
り、リフトピンで突き上げたりしなければならずこのた
め装置全体の製作費が高くなる傾向にあった。
【０００５】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、本発明の目的は、減圧下での試料加工プロ
セスを持つ半導体製造装置において、簡単でしかも安価
な方法で大気圧から真空中まで連続的に使用可能な試料
搬送固定兼用静電チャックユニットを提供することにあ
る。
れたもので、本発明の目的は、減圧下での試料加工プロ
セスを持つ半導体製造装置において、簡単でしかも安価
な方法で大気圧から真空中まで連続的に使用可能な試料
搬送固定兼用静電チャックユニットを提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の請求項１は、試料を静電吸着するために平面
状電極を具備した静電チャックにおいて、その平面状電
極と電気回路的に並列にコンデンサーを接続したことを
特徴としている。本発明によれば、図４に示した概略電
気回路のように配線され、静電チャック電極と電気回路
的に並列にコンデンサーを接続している。このとき電源
１１ａ、１１ｂの配線９をスイッチ８で切断しても給電
時に充電されたコンデンサー１２が放電することによっ
て静電チャックの平面状電極３に給電されることにな
る。こうすればコンデンサー１２に蓄えられた電荷がな
くなるまで静電チャック１への給電が続くため静電吸着
力を長時間残留させられる。よって従来のようなケーブ
ル類を搬送／固定兼用静電チャック２４の移動とともに
移動させるような必要は一切必要ない。
に本発明の請求項１は、試料を静電吸着するために平面
状電極を具備した静電チャックにおいて、その平面状電
極と電気回路的に並列にコンデンサーを接続したことを
特徴としている。本発明によれば、図４に示した概略電
気回路のように配線され、静電チャック電極と電気回路
的に並列にコンデンサーを接続している。このとき電源
１１ａ、１１ｂの配線９をスイッチ８で切断しても給電
時に充電されたコンデンサー１２が放電することによっ
て静電チャックの平面状電極３に給電されることにな
る。こうすればコンデンサー１２に蓄えられた電荷がな
くなるまで静電チャック１への給電が続くため静電吸着
力を長時間残留させられる。よって従来のようなケーブ
ル類を搬送／固定兼用静電チャック２４の移動とともに
移動させるような必要は一切必要ない。
【０００７】請求項２では、前記コンデンサーは静電チ
ャックに内蔵したことを特徴としている。本発明によれ
ば、図６に示したように静電チャックにコンデンサー１
２を内蔵した構造としているので、搬送系を設計する場
合にコンデンサーの出っ張りがないため設計が容易とな
り製作面も含めて安価に製作が可能となる。
ャックに内蔵したことを特徴としている。本発明によれ
ば、図６に示したように静電チャックにコンデンサー１
２を内蔵した構造としているので、搬送系を設計する場
合にコンデンサーの出っ張りがないため設計が容易とな
り製作面も含めて安価に製作が可能となる。
【０００８】請求項３では、前記静電チャックは素材が
アルミナ焼結体からなり、その体積抵抗率が室温で１０
９〜１０１２Ωｃｍであることを特徴としている。本発
明によれば、試料を静電チャックから離脱させる場合は
すみやかに行える。その結果、試料離脱のために特別な
装置を必要とせず、装置全体の設計が複雑でなくそのた
め製作費を削減することが可能となる。
アルミナ焼結体からなり、その体積抵抗率が室温で１０
９〜１０１２Ωｃｍであることを特徴としている。本発
明によれば、試料を静電チャックから離脱させる場合は
すみやかに行える。その結果、試料離脱のために特別な
装置を必要とせず、装置全体の設計が複雑でなくそのた
め製作費を削減することが可能となる。
【０００９】請求項４では、前記コンデンサーは静電チ
ャックの下部に位置するプレートに内蔵したことを特徴
としている。本発明によれば、図３に示したように静電
チャックの下部に位置するプレートにコンデンサー１２
を内蔵した構造とした。こうすることによりよりコンデ
ンサーを取り付ける設計の自由度が増す。
ャックの下部に位置するプレートに内蔵したことを特徴
としている。本発明によれば、図３に示したように静電
チャックの下部に位置するプレートにコンデンサー１２
を内蔵した構造とした。こうすることによりよりコンデ
ンサーを取り付ける設計の自由度が増す。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の一実施例につい
て図４、図５、及び図６に基づいて具体的に説明する。
本発明に使用する静電チャックは素材がアルミナ焼結体
からなり、その体積抵抗率が室温で１０９〜１０１２Ω
ｃｍの範囲のものとし、吸着電圧切断後の電圧放電特性
において時定数が小さいものを用いる。その吸着面は凸
部突起２ａ、外周部突起２ｂ、凹部４が設けてある。
て図４、図５、及び図６に基づいて具体的に説明する。
本発明に使用する静電チャックは素材がアルミナ焼結体
からなり、その体積抵抗率が室温で１０９〜１０１２Ω
ｃｍの範囲のものとし、吸着電圧切断後の電圧放電特性
において時定数が小さいものを用いる。その吸着面は凸
部突起２ａ、外周部突起２ｂ、凹部４が設けてある。
【００１１】静電チャック１の電極パターンは後述する
コンデンサー配置用パターンを気にすることなく自由に
設計する。その後コンデンサー配置用のパターン別途設
計するが必要なコンデンサーの個数分だけ直列または並
列にコンデンサー配置パターンを設計する。なおこのコ
ンデンサーの配置パターンは電気回路的に電極パターン
と並列になるよう設計する。電極パターンはそのまま平
面状電極３を形成する。静電チャックにコンデンサー１
２を内蔵する場合は図６に示すように静電チャックの吸
着面とは反対側の裏面に配置され、端子７と電気的に接
続される。
コンデンサー配置用パターンを気にすることなく自由に
設計する。その後コンデンサー配置用のパターン別途設
計するが必要なコンデンサーの個数分だけ直列または並
列にコンデンサー配置パターンを設計する。なおこのコ
ンデンサーの配置パターンは電気回路的に電極パターン
と並列になるよう設計する。電極パターンはそのまま平
面状電極３を形成する。静電チャックにコンデンサー１
２を内蔵する場合は図６に示すように静電チャックの吸
着面とは反対側の裏面に配置され、端子７と電気的に接
続される。
【００１２】実際の静電チャックの製造においてはテー
プ成形されたアルミナ素材を何枚か積層し決められた厚
みのところで上記電極パターンを金属スクリーン印刷し
再度アルミナ素材を積層、そしてコンデンサー配置パタ
ーンを金属スクリーン印刷その後上記電極パターンとコ
ンデンサー配置パターンを電気的に接続するためのビア
ーホールを作成、その後再度積層、焼成といった手順で
静電チャックは製作される。ここで使用するコンデンサ
ーは積層セラミックの表面実装タイプの小型のものがよ
くこれらは所定の個数だけコンデンサー配置パターンに
半田付けされ静電チャック裏面の所定の場所に固定され
る。
プ成形されたアルミナ素材を何枚か積層し決められた厚
みのところで上記電極パターンを金属スクリーン印刷し
再度アルミナ素材を積層、そしてコンデンサー配置パタ
ーンを金属スクリーン印刷その後上記電極パターンとコ
ンデンサー配置パターンを電気的に接続するためのビア
ーホールを作成、その後再度積層、焼成といった手順で
静電チャックは製作される。ここで使用するコンデンサ
ーは積層セラミックの表面実装タイプの小型のものがよ
くこれらは所定の個数だけコンデンサー配置パターンに
半田付けされ静電チャック裏面の所定の場所に固定され
る。
【００１３】また、図３に示すようにコンデンサー１２
は静電チャック１の下部に接合層６を介して接合される
プレート５に配置される場合もある。プレートに内蔵す
ることによりコンデンサーの静電容量を大きくできた
り、変更が容易にできる。次に実際の搬送を例にとって
図４の概略電気回路図で動作説明をする。ロードロック
チャンバーで電源か１１ａ、１１ｂら電圧が供給され試
料を吸着した静電チャックは加工プロセスチャンバーへ
送るために電源電圧がスイッチ８により切断されるがそ
の電極と電気回路的に接続されたコンデンサー１２のた
め静電チャックの平面状電極３の電圧はすぐにはゼロに
ならない。そのため試料は静電チャックに吸着されたま
ま加工プロセスチャンバーまで図示しない搬送装置で搬
送できる。
は静電チャック１の下部に接合層６を介して接合される
プレート５に配置される場合もある。プレートに内蔵す
ることによりコンデンサーの静電容量を大きくできた
り、変更が容易にできる。次に実際の搬送を例にとって
図４の概略電気回路図で動作説明をする。ロードロック
チャンバーで電源か１１ａ、１１ｂら電圧が供給され試
料を吸着した静電チャックは加工プロセスチャンバーへ
送るために電源電圧がスイッチ８により切断されるがそ
の電極と電気回路的に接続されたコンデンサー１２のた
め静電チャックの平面状電極３の電圧はすぐにはゼロに
ならない。そのため試料は静電チャックに吸着されたま
ま加工プロセスチャンバーまで図示しない搬送装置で搬
送できる。
【００１４】加工プロセスチャンバー内では再度試料吸
着のための電源１１ａ、１１ｂより電圧供給が行なわれ
試料は処理される。加工プロセス終了後、同様な手段で
ロ−ドロックチャンバーに戻すことができる。試料を静
電チャックから離脱させる場合は電源を切断後スイッチ
ボックス１３を閉じコンデンサー１２に余分に蓄積され
た電荷を放電させればよい。スイッチボックス内には必
要に応じて負荷抵抗が挿入されている。特に本発明に用
いた静電チャックはその体積抵抗率が室温で１０９〜１
０１２Ωｃｍの範囲のもので吸着電圧切断後の平面状電
極間の電圧放電特性において時定数が小さいためすばや
く減衰する。それに応じて静電吸着力は急速に減衰し試
料の離脱は容易に行われる。体積抵抗率の下限を１０９
Ωｃｍとしたのはこれより下がると試料１０及び平面状
電極３間に流れる電流が非常に大きくなり、電源の負荷
が大きくなりすぎたり、加工プロセス自体に影響を与え
る場合があるからである。上限値を１０１２Ωｃｍとし
たのはこれ以上大きいと平面状電極間を短絡しても時定
数が大きすぎるため試料を離脱したいときに離脱に時間
がかかりすぎるからである。
着のための電源１１ａ、１１ｂより電圧供給が行なわれ
試料は処理される。加工プロセス終了後、同様な手段で
ロ−ドロックチャンバーに戻すことができる。試料を静
電チャックから離脱させる場合は電源を切断後スイッチ
ボックス１３を閉じコンデンサー１２に余分に蓄積され
た電荷を放電させればよい。スイッチボックス内には必
要に応じて負荷抵抗が挿入されている。特に本発明に用
いた静電チャックはその体積抵抗率が室温で１０９〜１
０１２Ωｃｍの範囲のもので吸着電圧切断後の平面状電
極間の電圧放電特性において時定数が小さいためすばや
く減衰する。それに応じて静電吸着力は急速に減衰し試
料の離脱は容易に行われる。体積抵抗率の下限を１０９
Ωｃｍとしたのはこれより下がると試料１０及び平面状
電極３間に流れる電流が非常に大きくなり、電源の負荷
が大きくなりすぎたり、加工プロセス自体に影響を与え
る場合があるからである。上限値を１０１２Ωｃｍとし
たのはこれ以上大きいと平面状電極間を短絡しても時定
数が大きすぎるため試料を離脱したいときに離脱に時間
がかかりすぎるからである。
【００１５】本発明に用いた静電チャック素材はアルミ
ナを主成分とするが焼成前に体積抵抗率の管理しても焼
成後においては体積抵抗率のばらつきがある。体積抵抗
率のばらつきは残留する静電吸着力の減衰スピードに直
接影響をあたえるためそのまま残留する静電吸着力のば
らつきとなっていた。
ナを主成分とするが焼成前に体積抵抗率の管理しても焼
成後においては体積抵抗率のばらつきがある。体積抵抗
率のばらつきは残留する静電吸着力の減衰スピードに直
接影響をあたえるためそのまま残留する静電吸着力のば
らつきとなっていた。
【００１６】しかしこの減衰特性は図３に示したスイッ
チボックス１３内に図示しない調整用コンデンサー挿入
することである程度調整できることとなるため製品の特
性公差を広げることができる。
チボックス１３内に図示しない調整用コンデンサー挿入
することである程度調整できることとなるため製品の特
性公差を広げることができる。
【００１７】実施例を示す。 以下の条件でコンデンサーの有無による電圧印可停止
（切断）後３０秒後の残留する静電吸着力の大きさを比
較する。吸着力の評価は試料を真空中で横方向に引っ張
り摩擦力として計測した。 静電チャックの体積抵抗率 １０１１Ωｃｍ 静電チャックの誘電層の厚さ １ｍｍ 静電チャックの表面粗さ Ｒａ０．２μｍ コンデンサーの静電容量 １μＦ 電源電圧 ±５００Ｖ 電圧印可時間 ６０秒 試料 ８インチシリコンウェハ （結果） コンデンサーなしのとき １ｇｆ／ｃｍ２以下 コンデンサーありのとき ４ｋｇｆ／ｃｍ２以上 上記の結果のようにシリコンウェハのような電導性があ
る試料は電源を切断するとすぐに静電吸着力がなくな
る。これに対して本発明を利用すれば電源切断後搬送す
るのに十分な時間静電吸着をさせておくことができる。
（切断）後３０秒後の残留する静電吸着力の大きさを比
較する。吸着力の評価は試料を真空中で横方向に引っ張
り摩擦力として計測した。 静電チャックの体積抵抗率 １０１１Ωｃｍ 静電チャックの誘電層の厚さ １ｍｍ 静電チャックの表面粗さ Ｒａ０．２μｍ コンデンサーの静電容量 １μＦ 電源電圧 ±５００Ｖ 電圧印可時間 ６０秒 試料 ８インチシリコンウェハ （結果） コンデンサーなしのとき １ｇｆ／ｃｍ２以下 コンデンサーありのとき ４ｋｇｆ／ｃｍ２以上 上記の結果のようにシリコンウェハのような電導性があ
る試料は電源を切断するとすぐに静電吸着力がなくな
る。これに対して本発明を利用すれば電源切断後搬送す
るのに十分な時間静電吸着をさせておくことができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明は上記構成により次の効果を発揮
する。本発明は、半導体製造装置に用いられる試料の搬
送固定兼用の静電チャックユニットでありこれを用いて
搬送系を設計すると設計が簡素化され安価に搬送系の製
作が可能となる。
する。本発明は、半導体製造装置に用いられる試料の搬
送固定兼用の静電チャックユニットでありこれを用いて
搬送系を設計すると設計が簡素化され安価に搬送系の製
作が可能となる。
【図１】従来の搬送用静電チャックの例
【図２】従来の静電チャック搬送の発明の例
【図３】本発明の概略構成図
【図４】本発明の概略電気回路図
【図５】本発明にかかる静電チャックの表面該略図
【図６】本発明にかかる静電チャックの裏面該略図
１…静電チャック ２ａ…吸着面凸部突起 ２ｂ…吸着面外周部突起 ３…平面状電極 ４…吸着面凹部 ５…プレート ６…静電チャック／プレート接合層 ７…端子 ８…スイッチ ９…配線 １０…試料 １１ａ…電源１ １１ｂ…電源２ １２…コンデンサー １３…スイッチボックス ２１…平面状電極１ ２２…固定用電極端子 ２３…搬送用電極端子 ２４…搬送／固定兼用静電チャック ２５…加工プロセスチャンバー ２６…隔壁 ２７…ロードロックチャンバー ２８…固定用電源 ２９…固定用電源ケーブル ３０…搬送用電源ケーブル ３１…搬送用電源
Claims (4)
- 【請求項１】 試料を静電吸着するために平面状電極を
具備した静電チャックにおいて、その平面状電極と電気
回路的に並列にコンデンサーを接続したことを特徴とす
る静電チャック。 - 【請求項２】 前記請求項１に記載する静電チャックに
おいて、前記コンデンサーは静電チャックに内蔵したこ
とを特徴とする静電チャック。 - 【請求項３】 前記請求項１に記載する静電チャックに
おいて、前記静電チャックは素材がアルミナ焼結体から
なり、その体積抵抗率が室温で１０９〜１０ １２Ωｃｍ
であることを特徴とする静電チャック。 - 【請求項４】 前記請求項１に記載する静電チャックに
おいて、前記コンデンサーは静電チャックの下部に位置
するプレートに内蔵したことを特徴とする静電チャック
ユニット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001096340A JP4730697B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 静電チャックユニット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001096340A JP4730697B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 静電チャックユニット |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002299426A true JP2002299426A (ja) | 2002-10-11 |
| JP4730697B2 JP4730697B2 (ja) | 2011-07-20 |
Family
ID=18950264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001096340A Expired - Fee Related JP4730697B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 静電チャックユニット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4730697B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005101505A (ja) * | 2003-03-13 | 2005-04-14 | Ventec-Ges Fuer Venturekapital & Unternehmensberatung Mbh | 可動可搬型静電式基板保持器 |
| WO2005071130A1 (de) * | 2003-12-20 | 2005-08-04 | Aixtron Ag | Verfahren und vorrichtung zum handhaben eines dielektrischen substrates und einer dielektrischen maske |
| WO2006123680A1 (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Tsukuba Seiko Ltd. | 静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット |
| JP2007157886A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Seiko Epson Corp | 表面処理用冶具 |
| JP2007180560A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Asml Netherlands Bv | 露光装置および露光方法 |
| JP2012514544A (ja) * | 2009-01-11 | 2012-06-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ロボットおよびロボットの電気エンドエフェクタに電気的に接続するシステム、装置、および方法 |
| KR101458990B1 (ko) | 2007-12-26 | 2014-11-07 | 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 | 정전척 및 기판 온도조절-고정장치 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0216749A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-01-19 | Fujitsu Ltd | 電子ビーム露光装置用ウェハーホルダ |
| JPH04287946A (ja) * | 1990-05-10 | 1992-10-13 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 静電ウエーハ カセットから成る装置 |
| JPH05315429A (ja) * | 1992-05-07 | 1993-11-26 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置の搬送装置 |
| JPH0851137A (ja) * | 1994-08-08 | 1996-02-20 | Shinko Electric Co Ltd | 半導体製造装置における搬送装置 |
| JPH09172055A (ja) * | 1995-12-19 | 1997-06-30 | Fujitsu Ltd | 静電チャック及びウエハの吸着方法 |
| JPH09283608A (ja) * | 1996-04-15 | 1997-10-31 | Kyocera Corp | 静電チャック |
| JPH10107133A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Kyocera Corp | 静電チャック |
| JP2000286333A (ja) * | 2000-01-01 | 2000-10-13 | Toto Ltd | 静電チャック。 |
-
2001
- 2001-03-29 JP JP2001096340A patent/JP4730697B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0216749A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-01-19 | Fujitsu Ltd | 電子ビーム露光装置用ウェハーホルダ |
| JPH04287946A (ja) * | 1990-05-10 | 1992-10-13 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 静電ウエーハ カセットから成る装置 |
| JPH05315429A (ja) * | 1992-05-07 | 1993-11-26 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置の搬送装置 |
| JPH0851137A (ja) * | 1994-08-08 | 1996-02-20 | Shinko Electric Co Ltd | 半導体製造装置における搬送装置 |
| JPH09172055A (ja) * | 1995-12-19 | 1997-06-30 | Fujitsu Ltd | 静電チャック及びウエハの吸着方法 |
| JPH09283608A (ja) * | 1996-04-15 | 1997-10-31 | Kyocera Corp | 静電チャック |
| JPH10107133A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Kyocera Corp | 静電チャック |
| JP2000286333A (ja) * | 2000-01-01 | 2000-10-13 | Toto Ltd | 静電チャック。 |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005101505A (ja) * | 2003-03-13 | 2005-04-14 | Ventec-Ges Fuer Venturekapital & Unternehmensberatung Mbh | 可動可搬型静電式基板保持器 |
| WO2005071130A1 (de) * | 2003-12-20 | 2005-08-04 | Aixtron Ag | Verfahren und vorrichtung zum handhaben eines dielektrischen substrates und einer dielektrischen maske |
| JP5044395B2 (ja) * | 2005-05-20 | 2012-10-10 | 筑波精工株式会社 | 静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット |
| WO2006123680A1 (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Tsukuba Seiko Ltd. | 静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット |
| KR101265367B1 (ko) | 2005-05-20 | 2013-05-20 | 쓰쿠바 세이코 가부시키가이샤 | 정전 유지 장치 및 그것을 이용한 정전 핀셋 |
| CN100576486C (zh) * | 2005-05-20 | 2009-12-30 | 筑波精工株式会社 | 静电保持装置以及使用其的静电钳 |
| US7804675B2 (en) | 2005-05-20 | 2010-09-28 | Tsukuba Seiko Ltd. | Electrostatic holding apparatus and electrostatic tweezers using the same |
| JP2007157886A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Seiko Epson Corp | 表面処理用冶具 |
| JP4666219B2 (ja) * | 2005-12-02 | 2011-04-06 | セイコーエプソン株式会社 | コンテナ |
| JP4541349B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2010-09-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 露光装置および露光方法 |
| JP2007180560A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Asml Netherlands Bv | 露光装置および露光方法 |
| KR101458990B1 (ko) | 2007-12-26 | 2014-11-07 | 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 | 정전척 및 기판 온도조절-고정장치 |
| JP2012514544A (ja) * | 2009-01-11 | 2012-06-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ロボットおよびロボットの電気エンドエフェクタに電気的に接続するシステム、装置、および方法 |
| US8692500B2 (en) | 2009-01-11 | 2014-04-08 | Applied Materials, Inc. | Systems, apparatus and methods for making an electrical connection to a robot |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4730697B2 (ja) | 2011-07-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2665242B2 (ja) | 静電チャック | |
| JP2865472B2 (ja) | 静電チャック | |
| JPS59127847A (ja) | スパツタリング装置の静電チヤツク装置 | |
| JPH04186653A (ja) | 静電チャック | |
| JPH11502062A (ja) | 多層型の静電チャック及びその製造方法 | |
| JPH05347352A (ja) | 静電チャック装置及びその製造方法 | |
| JP2002299426A (ja) | 静電チャックユニット | |
| WO2020045286A1 (ja) | クリーニング装置 | |
| JP2009054746A (ja) | 静電チャック及び静電チャック方法 | |
| JP2002373862A (ja) | セラミックヒータ | |
| JP5203663B2 (ja) | 基板構造体、及び基板構造体の製造方法 | |
| US7075772B2 (en) | Electrostatic gripping device | |
| JPH04367247A (ja) | セラミック製静電チャック | |
| JPH056933A (ja) | セラミツク製静電チヤツク | |
| JP2001287982A (ja) | サセプタ及びその製造方法 | |
| JPH11340309A (ja) | 導電体内蔵型セラミック製リフトピンとそれを用いた静電チャック | |
| JPWO2013137414A1 (ja) | 静電チャック装置及びその制御方法 | |
| JP6068118B2 (ja) | 搬送装置及び搬送用部材 | |
| JP3860299B2 (ja) | 圧電振動子 | |
| JPH06244147A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP4378822B2 (ja) | 静電チャックおよびユニット | |
| JP2018133502A (ja) | 静電チャックおよび基板保持方法 | |
| JPH09293775A (ja) | 静電チャック | |
| JPH05343507A (ja) | 静電吸着方法 | |
| JP4189364B2 (ja) | 静電チャック及びこれを用いた処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070926 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091013 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091015 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20091118 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091211 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100416 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100615 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110328 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4730697 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110410 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |