JP2007180560A - 露光装置および露光方法 - Google Patents
露光装置および露光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007180560A JP2007180560A JP2006352495A JP2006352495A JP2007180560A JP 2007180560 A JP2007180560 A JP 2007180560A JP 2006352495 A JP2006352495 A JP 2006352495A JP 2006352495 A JP2006352495 A JP 2006352495A JP 2007180560 A JP2007180560 A JP 2007180560A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transport unit
- substrate transport
- exposure apparatus
- power source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70991—Connection with other apparatus, e.g. multiple exposure stations, particular arrangement of exposure apparatus and pre-exposure and/or post-exposure apparatus; Shared apparatus, e.g. having shared radiation source, shared mask or workpiece stage, shared base-plate; Utilities, e.g. cable, pipe or wireless arrangements for data, power, fluids or vacuum
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
- G03F7/70708—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details being electrostatic; Electrostatically deformable vacuum chucks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の露光装置は、静電気力により基板を適切な位置に保持する基板運搬部SCを備えている。基板Wは基板運搬部SCの突起部1の上端に接触して設置される。金属層4とダイヤモンド状炭素層2との間に電位差が設けられ、突起部1に基板Wを適切な位置に保持するための静電気力が発生する。基板運搬部は電源と一体形成され、基板運搬部を保持する基板テーブルを備えている。
【選択図】図2
Description
・放射ビームPB(例えば、紫外線あるいは極紫外線)を照射するための照明系(照明器)ILと、
・パターニング用デバイスMA(例えばマスク)を支持し、投影系PLに対してパターニング用デバイスの位置決めを正確に行う第1のポジショナPMに接続されている第1の支持構造部(例えばマスクテーブル)MTと、
・基板運搬部SCを保持し、投影系PLに対して基板テーブルST(基板テーブルSTに取り付けられている基板運搬部SCも同時に)の位置決めを正確に行う第2のポジショナPSTに接続されている基板テーブルSTと、
・基板W(例えばレジストでコーティングされたウエハ)を保持し、容易に露光装置から取り出したり、露光装置に導入したりできる基板運搬部SCと、
・パターニング用デバイスMAにより放射ビームPBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に転写する投影系(例えば屈折投影レンズ)PLと、を備える。
Claims (23)
- 静電気力を用いて基板を適切な位置に保持するための基板運搬部と、
前記基板運搬部を保持するための基板テーブルと、
を備え、
前記基板運搬部は、当該基板運搬部と一体形成されている電源を有することを特徴とする露光装置。 - 前記電源は、電池であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記電源は、ポリマー電池であることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記電池に充電するための充電部を更に備えることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記充電部は、誘導コイルであることを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 前記基板運搬部は、前記基板と実質的に同じ厚さであることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記基板運搬部は、前記基板よりも薄いことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記基板テーブルは、真空を用いて前記基板運搬部を保持することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記基板運搬部は、多数の突起部が設けられている平面を有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記基板運搬部は、規格外のサイズの基板を保持することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記電源は、前記基板運搬部と同時に移動可能であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 一体形成されている電源を有し、静電気力を用いて基板を適切な位置に保持することを特徴とする基板キャリア。
- 前記電源は、電池であることを特徴とする請求項12に記載の基板キャリア。
- 前記電池は、ポリマー電池であることを特徴とする請求項13に記載の基板キャリア。
- 前記電源は、前記基板キャリアと同時に移動可能なように構成されていることを特徴とする請求項12に記載の基板キャリア。
- 静電気力により基板が基板運搬部の適切な位置に保持されている間に、前記基板と前記基板運搬部とを露光装置に導入する工程と、
光リソグラフィにより前記基板にパターンを転写する工程と、
静電気力により前記基板が前記基板運搬部の適切な位置にまだ保持されている間に、前記基板と前記基板運搬部とを露光装置から取り出す工程と、
を含むことを特徴とする露光処理方法。 - 前記取り出す工程の後、前記基板が前記基板運搬部に保持されている間に行う処理工程を更に含むことを特徴とする請求項16に記載の露光処理方法。
- 前記導入する工程の前に、前記基板が前記基板運搬部に保持されている間に行う処理工程を更に含むことを特徴とする請求項16に記載の露光処理方法。
- 前記基板運搬部は、当該基板運搬部に一体形成されている電源を有することを特徴とする請求項16に記載の露光処理方法。
- 前記電源は、電池であることを特徴とする請求項19に記載の露光処理方法。
- 前記電池は、ポリマー電池であることを特徴とする請求項20に記載の露光処理方法。
- 前記電源は、前記基板運搬部と同時に移動することを特徴とする請求項19に記載の露光処理方法。
- 前記基板運搬部は、多数の突起部が設けられている平面を有することを特徴とする請求項16に記載の露光処理方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/319,192 US7626681B2 (en) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | Lithographic apparatus and method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007180560A true JP2007180560A (ja) | 2007-07-12 |
JP4541349B2 JP4541349B2 (ja) | 2010-09-08 |
Family
ID=38193251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006352495A Active JP4541349B2 (ja) | 2005-12-28 | 2006-12-27 | 露光装置および露光方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7626681B2 (ja) |
JP (1) | JP4541349B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011047048A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8384269B2 (en) | 2010-10-20 | 2013-02-26 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Electrostatic bonding of a die substrate to a package substrate |
US9360771B2 (en) * | 2011-03-17 | 2016-06-07 | Asml Netherlands B.V. | Electrostatic clamp, lithographic apparatus, and device manufacturing method |
NL2008833A (en) * | 2011-06-21 | 2012-12-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, method of deforming a substrate table and device manufacturing method. |
NL2009487A (en) | 2011-10-14 | 2013-04-16 | Asml Netherlands Bv | Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder. |
JP2013125791A (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-24 | Canon Inc | 保持装置、描画装置、および、物品の製造方法 |
WO2013113569A1 (en) | 2012-02-03 | 2013-08-08 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder |
EP2875404B1 (en) * | 2012-07-17 | 2019-08-07 | ASML Netherlands B.V. | Electrostatic clamp, lithographic apparatus and method |
US20160193824A1 (en) * | 2013-08-12 | 2016-07-07 | Tufts University | Micro forming devices and systems and uses thereof |
DE102014224735A1 (de) | 2013-12-06 | 2015-07-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung mit einem wärmeleitenden Bauelement |
JP6502498B2 (ja) | 2014-12-03 | 2019-04-17 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 熱伝導部品を有する光学アセンブリ |
WO2018022670A1 (en) | 2016-07-26 | 2018-02-01 | M Cubed Technologies, Inc. | Methods for masking a pin chuck, and articles made thereby |
DE102018116463A1 (de) * | 2018-07-06 | 2020-01-09 | Berliner Glas Kgaa Herbert Kubatz Gmbh & Co. | Elektrostatische Haltevorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung |
DE102018127658A1 (de) * | 2018-11-06 | 2020-05-07 | Asm Assembly Systems Gmbh & Co. Kg | Elektrostatisches Aufspannen von Elektronikplatten |
EP3767308A1 (en) | 2019-07-15 | 2021-01-20 | Imec VZW | A wafer suitable for reconditioning a support surface of a wafer holding stage |
KR20220004893A (ko) * | 2020-07-03 | 2022-01-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04206545A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Hitachi Ltd | 保持装置およびそれを用いた半導体製造装置 |
JPH05198663A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-08-06 | Hitachi Ltd | 試料搬送ホルダ |
JPH10270535A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Nikon Corp | 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法 |
JP2000277598A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Ibiden Co Ltd | 静電チャック及びその製造方法 |
JP2001076760A (ja) * | 1999-09-02 | 2001-03-23 | Toshiba Battery Co Ltd | ポリマーリチウム二次電池 |
JP2002110515A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Toshiba Corp | パターン描画装置の集塵方法 |
JP2002299426A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Toto Ltd | 静電チャックユニット |
JP2004165198A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-10 | Canon Inc | 半導体製造装置 |
JP2005209997A (ja) * | 2004-01-26 | 2005-08-04 | Canon Inc | 位置決めステージ装置 |
WO2006123680A1 (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Tsukuba Seiko Ltd. | 静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4412133A (en) * | 1982-01-05 | 1983-10-25 | The Perkin-Elmer Corp. | Electrostatic cassette |
US4999507A (en) * | 1990-05-10 | 1991-03-12 | At&T Bell Laboratories | Apparatus comprising an electrostatic wafer cassette |
US6215642B1 (en) * | 1999-03-11 | 2001-04-10 | Nikon Corporation Of Japan | Vacuum compatible, deformable electrostatic chuck with high thermal conductivity |
KR100548711B1 (ko) * | 2000-03-16 | 2006-02-02 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치용 기판 홀더 |
EP1359466A1 (en) * | 2002-05-01 | 2003-11-05 | ASML Netherlands B.V. | Chuck, lithographic projection apparatus, method of manufacturing a chuck and device manufacturing method |
KR100511854B1 (ko) * | 2002-06-18 | 2005-09-02 | 아네르바 가부시키가이샤 | 정전 흡착 장치 |
US7092231B2 (en) * | 2002-08-23 | 2006-08-15 | Asml Netherlands B.V. | Chuck, lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2004311955A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-11-04 | Sony Corp | 超薄型電気光学表示装置の製造方法 |
JP4192118B2 (ja) * | 2004-05-31 | 2008-12-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置並びに欠陥検査システム |
US7408624B2 (en) * | 2005-06-30 | 2008-08-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7494828B2 (en) * | 2005-08-03 | 2009-02-24 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and device manufacturing method |
-
2005
- 2005-12-28 US US11/319,192 patent/US7626681B2/en active Active
-
2006
- 2006-12-27 JP JP2006352495A patent/JP4541349B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04206545A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Hitachi Ltd | 保持装置およびそれを用いた半導体製造装置 |
JPH05198663A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-08-06 | Hitachi Ltd | 試料搬送ホルダ |
JPH10270535A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Nikon Corp | 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法 |
JP2000277598A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Ibiden Co Ltd | 静電チャック及びその製造方法 |
JP2001076760A (ja) * | 1999-09-02 | 2001-03-23 | Toshiba Battery Co Ltd | ポリマーリチウム二次電池 |
JP2002110515A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Toshiba Corp | パターン描画装置の集塵方法 |
JP2002299426A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Toto Ltd | 静電チャックユニット |
JP2004165198A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-10 | Canon Inc | 半導体製造装置 |
JP2005209997A (ja) * | 2004-01-26 | 2005-08-04 | Canon Inc | 位置決めステージ装置 |
WO2006123680A1 (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Tsukuba Seiko Ltd. | 静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011047048A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070146679A1 (en) | 2007-06-28 |
US7626681B2 (en) | 2009-12-01 |
JP4541349B2 (ja) | 2010-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4541349B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP4264676B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
US7999919B2 (en) | Substrate holding technique | |
KR101539153B1 (ko) | 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 | |
US20070061609A1 (en) | Holding system, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP4459194B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2005286068A (ja) | 露光装置及び方法 | |
JP2020194185A (ja) | 基板支持部、リソグラフィ装置、およびローディング方法 | |
JP2006186367A (ja) | 接合基板を形成するシステム及び方法並びに接合基板製品 | |
JP2010182866A (ja) | 静電吸着保持装置、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法 | |
JP5559284B2 (ja) | レチクルアセンブリ、リソグラフィ装置、リソグラフィプロセスにおけるその使用、およびリソグラフィプロセスの単一スキャン移動において2つ以上のイメージフィールドを投影する方法 | |
JP2002141270A (ja) | 露光装置 | |
JP2004119976A (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及び、それによって製造されたデバイス | |
JP2010087505A (ja) | 非接触洗浄のためのシステム、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | |
US7508494B2 (en) | Lithographic apparatus and a subtrate table for exciting a shockwave in a substrate | |
JP2008098635A (ja) | リソグラフィ装置、リソグラフィ装置とプロセシングモジュールとの組合せ、及び、デバイス製造方法 | |
TW201918798A (zh) | 微影方法 | |
JP5586668B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP2005116849A (ja) | 静電吸着装置及び方法、露光装置、デバイスの製造方法 | |
JP4754616B2 (ja) | リソグラフィ方法およびキャリア基板 | |
JP4812796B2 (ja) | 基板をマスクするリソグラフィ装置及び方法 | |
JP2010147264A (ja) | 物体保持装置、物体保持方法、露光方法、露光装置及び電子デバイスの製造方法 | |
JP2010103531A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
TW202303807A (zh) | 模組化晶圓台及其製造方法 | |
JP2002270446A (ja) | 積層ブロック及びその製造方法、電磁アクチュエータ、これを用いたステージ装置及び露光装置、並びに半導体デバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100525 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100622 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100623 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4541349 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130702 Year of fee payment: 3 |
|
S802 | Written request for registration of partial abandonment of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R311802 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130702 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |