JP2020194185A - 基板支持部、リソグラフィ装置、およびローディング方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2016年4月20日に出願された欧州出願第16166176.4号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に援用される。
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回で目標部分Cに投影される間、マスク支持構造MT及び基板支持部WTは実質的に静止状態とされる(すなわち単一静的露光)。そして基板支持部WTがX方向及び/またはY方向に移動されて、異なる目標部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で結像される目標部分Cのサイズを制限することになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、マスク支持構造MT及び基板支持部WTまたは「基板テーブル」は同期して走査される(すなわち単一動的露光)。マスク支持構造MTに対する基板支持部WTまたは「基板テーブル」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められうる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離が目標部分の(走査方向の)長さを決定する。
3.別のモードにおいては、マスク支持構造MTがプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とし、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、基板支持部WTまたは「基板テーブル」が移動または走査される。このモードではパルス放射源が通常用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは、基板支持部WTの毎回の移動後、または走査中の連続放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述の形式のプログラマブルミラーアレイ等のプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (15)
- 基板を支持する基板支持部であって、
前記基板を支持する支持表面を備える本体と、
前記基板を前記支持表面にクランプするクランプ力を提供するように構成されている真空クランプシステムと、
前記基板を前記支持表面に装着するように構成され、及び/または、前記基板を前記支持表面から取り外すように構成されているハンドリングデバイスと、
震動デバイスと、を備え、
前記震動デバイスは、前記基板が前記支持表面から取り外される間に、前記クランプ力を震わせるように構成されている基板支持部。 - 前記震動デバイスは、前記基板が前記ハンドリングデバイスによって部分的に支持されるとともに前記支持表面によって部分的に支持されている間に、前記クランプ力を震わせるように構成され、及び/または、前記震動デバイスは、前記基板及び/または前記支持表面を振動させるように構成されている請求項1に記載の基板支持部。
- 前記真空クランプシステムは、前記支持表面から真空源へと流れを伝える真空導管を備え、前記震動デバイスは、前記真空導管の断面を変化させるように構成されている請求項1または2に記載の基板支持部。
- 前記震動デバイスは、圧力波を印加するように構成されている請求項1から3のいずれかに記載の基板支持部。
- 前記圧力波は、前記真空クランプシステムの真空導管に生成され、及び/または、冷却システム回路または温度調整システムを通じて流れる流体に生成される請求項4に記載の基板支持部。
- 前記震動デバイスは、前記圧力波を生成するように構成されているスピーカーシステムを備える請求項4または5に記載の基板支持部。
- 前記スピーカーシステムは、前記基板を振動させるために前記圧力波が前記基板の上側に発せられるように前記基板の上方に配置され、及び/または、前記真空クランプシステムの真空導管に配置されている請求項6に記載の基板支持部。
- 前記真空クランプシステムに空気を供給するように構成されている空気注入システムをさらに備える請求項1から7のいずれかに記載の基板支持部。
- 前記震動デバイスは、前記クランプ力が最大クランプ力からゼロへと減少する期間において、前記クランプ力を震わせるように構成されている請求項1から8のいずれかに記載の基板支持部。
- 前記支持表面は、前記本体上に構成された複数のバールによって画定されている請求項1から9のいずれかに記載の基板支持部。
- 前記震動デバイスは、1kHzから1MHzの間の励起周波数で前記クランプ力を震わせるように構成されている請求項1から10のいずれかに記載の基板支持部。
- 前記ハンドリングデバイスは、ローディングピンを備え、前記ローディングピンは、後退位置において前記ローディングピンの上端が前記支持表面より下方に配置され、前記ローディングピンは、伸長位置において前記上端が前記支持表面より上方に延在する請求項1から11のいずれかに記載の基板支持部。
- 前記ハンドリングデバイスは、前記基板の上側から前記基板を支持するベルヌーイグリッパーを備える請求項1から12のいずれかに記載の基板支持部。
- 基板を支持する基板支持部であって、
前記基板を支持する支持表面を備える本体と、
前記基板を前記支持表面にクランプするクランプ力を提供するように構成されている真空クランプシステムと、
前記基板を前記支持表面に装着するように構成され、及び/または、前記基板を前記支持表面から取り外すように構成されているハンドリングデバイスと、
震動デバイスと、を備え、
前記震動デバイスは、前記基板が前記支持表面から取り外される間に、前記支持表面及び/または前記基板を振動させるように構成されている基板支持部。 - 請求項1から14のいずれかに記載の基板支持部を備えるリソグラフィ装置。
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