JP5586668B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
リソグラフィ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5586668B2 JP5586668B2 JP2012186941A JP2012186941A JP5586668B2 JP 5586668 B2 JP5586668 B2 JP 5586668B2 JP 2012186941 A JP2012186941 A JP 2012186941A JP 2012186941 A JP2012186941 A JP 2012186941A JP 5586668 B2 JP5586668 B2 JP 5586668B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- gripper
- lithographic apparatus
- buffer
- clamp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
- G03F7/70708—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details being electrostatic; Electrostatically deformable vacuum chucks
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
[0068]「発明の概要」及び「要約」の項目は、発明者(ら)が想定するような本発明の1つ又は複数の例示的実施形態について述べることができるが、全部の例示的実施形態を述べることはできず、したがって本発明及び特許請求の範囲をいかなる意味でも限定しない。
Claims (13)
- パターニングデバイスから基板へパターンを転写するリソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブル上へ搭載される前の前記基板を保持するバッファと、
前記基板を前記基板テーブル上に位置決めするグリッパであって、前記基板をその上側でクランプする静電クランプを備えるグリッパと
を備え、
前記グリッパは前記基板の縁を把持するように配置され、
温度コンディショナ板は、前記グリッパによって保持されたときの前記基板の温度調節を実行するように配置される、
リソグラフィ装置。 - 前記温度コンディショナ板は、前記グリッパによって保持されたときの前記基板に対向し、前記基板に平行に配置される表面を備える、
請求項1記載のリソグラフィ装置。 - 前記バッファは、回転の垂直中心軸周りに回転できるように構成されたカルーセルである、
請求項2記載のリソグラフィ装置。 - 前記グリッパに保持されたときの前記基板の位置を測定する位置測定デバイスと、
前記位置測定デバイスによって測定された前記位置に応じて、前記グリッパに把持されたときの前記基板の位置を調整するアクチュエータと
をさらに備える、
請求項3に記載のリソグラフィ装置。 - 前記バッファは前記グリッパによって保持された前記基板の垂直変位を可能にするリフティングデバイスを備える、
請求項1〜4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記リフティングデバイスは前記基板を前記基板テーブル上に下降させる、
請求項5記載のリソグラフィ装置。 - 前記バッファはカルーセル本体およびスペーサを有し、前記温度コンディショナ板は前記スペーサによって前記カルーセル本体に接続され、前記スペーサは前記温度コンディショナ板と前記カルーセル本体との間の熱絶縁を提供する、
請求項3〜6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記バッファは複数のグリッパを備える、
請求項1〜7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記静電クランプは、前記基板の上面の周縁外側域の少なくとも一部をクランプする、請求項1〜8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記静電クランプは、少なくとも円のセグメントにほぼ追従する形状を有する電極を備える、請求項1〜9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記静電クランプは、2つの電極を備える双極クランプであり、該静電クランプは、該2つの電極に実質的に逆の電圧を印加する、請求項1〜10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 誘電体層が、前記電極又は各電極と、2つの前記電極に実質的に逆の電圧を印加する前記静電クランプの接触面との間に介在する、請求項10又は11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記グリッパは、前記基板をその底面縁部にて把持するエッジグリッパをさらに備える、請求項1〜12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161538612P | 2011-09-23 | 2011-09-23 | |
US61/538,612 | 2011-09-23 | ||
US201161547220P | 2011-10-14 | 2011-10-14 | |
US61/547,220 | 2011-10-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013070038A JP2013070038A (ja) | 2013-04-18 |
JP5586668B2 true JP5586668B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=47910968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012186941A Expired - Fee Related JP5586668B2 (ja) | 2011-09-23 | 2012-08-27 | リソグラフィ装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130077078A1 (ja) |
JP (1) | JP5586668B2 (ja) |
NL (1) | NL2009332A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10802394B2 (en) | 2017-11-21 | 2020-10-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for discharging static charges on reticle |
KR20210082900A (ko) | 2019-12-26 | 2021-07-06 | 삼성전자주식회사 | 엘이디 전사시스템 및 이의 제어 방법 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2581066B2 (ja) * | 1987-03-31 | 1997-02-12 | 富士通株式会社 | ウエ−ハ搬送方法及び装置 |
JP3064409B2 (ja) * | 1990-11-30 | 2000-07-12 | 株式会社日立製作所 | 保持装置およびそれを用いた半導体製造装置 |
JPH09330975A (ja) * | 1996-06-11 | 1997-12-22 | Nikon Corp | 搬送装置 |
US6562184B2 (en) * | 2000-02-29 | 2003-05-13 | Applied Materials, Inc. | Planarization system with multiple polishing pads |
SG125948A1 (en) * | 2003-03-31 | 2006-10-30 | Asml Netherlands Bv | Supporting structure for use in a lithographic apparatus |
JP4188144B2 (ja) * | 2003-06-02 | 2008-11-26 | 筑波精工株式会社 | 静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット、搬送装置 |
US7440076B2 (en) * | 2005-09-29 | 2008-10-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
US20070166134A1 (en) * | 2005-12-20 | 2007-07-19 | Motoko Suzuki | Substrate transfer method, substrate transfer apparatus and exposure apparatus |
JP4937772B2 (ja) * | 2007-01-22 | 2012-05-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の処理方法 |
NL1036460A1 (nl) * | 2008-02-20 | 2009-08-24 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
JP4617385B2 (ja) * | 2009-05-21 | 2011-01-26 | キヤノン株式会社 | 基板保持機構およびそれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
US20110085150A1 (en) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
-
2012
- 2012-08-17 NL NL2009332A patent/NL2009332A/en not_active Application Discontinuation
- 2012-08-27 JP JP2012186941A patent/JP5586668B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-29 US US13/597,831 patent/US20130077078A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130077078A1 (en) | 2013-03-28 |
JP2013070038A (ja) | 2013-04-18 |
NL2009332A (en) | 2013-03-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6556929B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5936161B2 (ja) | デバイス製造方法 | |
JP2019020729A (ja) | 計測装置及び基板ステージ・ハンドラ・システム | |
JP5600138B2 (ja) | 位置決めデバイス、位置決め方法及びデバイス製造方法 | |
JP5559284B2 (ja) | レチクルアセンブリ、リソグラフィ装置、リソグラフィプロセスにおけるその使用、およびリソグラフィプロセスの単一スキャン移動において2つ以上のイメージフィールドを投影する方法 | |
TWI592763B (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
JP5586668B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
TWI463274B (zh) | 微影裝置及基板處置方法 | |
JP4332146B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4392398B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP6366823B2 (ja) | オブジェクトテーブル、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | |
JP4669833B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP2007251133A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130927 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131002 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140603 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140625 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140710 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140722 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5586668 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |