JPWO2013137414A1 - 静電チャック装置及びその制御方法 - Google Patents

静電チャック装置及びその制御方法 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2013137414A1
JPWO2013137414A1 JP2014505009A JP2014505009A JPWO2013137414A1 JP WO2013137414 A1 JPWO2013137414 A1 JP WO2013137414A1 JP 2014505009 A JP2014505009 A JP 2014505009A JP 2014505009 A JP2014505009 A JP 2014505009A JP WO2013137414 A1 JPWO2013137414 A1 JP WO2013137414A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrostatic chuck
electrostatic
workpiece
capacitance
capacity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014505009A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6069768B2 (ja
Inventor
利文 菅原
利文 菅原
康之 天満
康之 天満
基樹 林
基樹 林
良昭 辰己
良昭 辰己
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Creative Technology Corp
Original Assignee
Creative Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Creative Technology Corp filed Critical Creative Technology Corp
Publication of JPWO2013137414A1 publication Critical patent/JPWO2013137414A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6069768B2 publication Critical patent/JP6069768B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6831Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
    • H01L21/6833Details of electrostatic chucks
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02NELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H02N13/00Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Jigs For Machine Tools (AREA)

Abstract

静電チャックのワーク離脱時の残留電荷に起因する問題、更には電源のオン・オフに起因する問題を解決できるデチャック性に優れた静電チャック装置を提供する。静電チャックと、静電チャックの直流電源と、静電チャックと直流電源との間に直列に接続された静電容量可変手段とを備え、静電容量可変手段の静電容量を変化させることにより、静電チャックに電圧を印加した状態で、この静電チャックの電荷量をワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させるデチャック性に優れた静電チャック装置である。

Description

この発明は、被吸着物(ワーク)を静電的に吸着して保持し、被吸着物をその位置決めのために固定し、あるいは、被吸着物を所定の目的の場所まで搬送するために用いられる静電チャック装置に係り、特にワーク離脱時のデチャック性に優れた静電チャック装置及びその制御方法に関する。
シリコン等の半導体ウェハに集積回路を形成してICやLSI等の半導体(集積回路)を製造する半導体製造プロセスにおいては、エッチング装置、化学気相蒸着(CVD)による薄膜形成等に用いるプラズマ処理装置、電子露光装置、イオン描写装置、イオン注入装置等の装置が使用されており、また、テレビ画面やコンピューター用ディスプレー等に用いる液晶ディスプレーパネルを製造する液晶パネル製造プロセスにおいては、イオンドーピング装置、ガラス等の絶縁性基板に液晶の圧入を行う際に用いる基板貼合せ装置等の装置が使用されており、これらの装置においては、ウェハやガラス等の位置決めのための保持や搬送を目的に、静電チャックが汎用されている。これは、静電チャックが、機械的な機構を利用する保持手段に比べて、ウェハやガラス等の被吸着物(ワーク)に対する損傷の問題がなく、機械的損傷に起因するパーティクル発生の問題や、保持した被吸着物の平坦性の補償等の観点から、より優れた性能を発揮するためである。
そして、この静電チャックには、その吸着方式や吸着原理の違いにより、誘電体として絶縁材料を用いるクーロン力型、固有抵抗値が108〜1013Ω・cmの半導体を用いるジョンソン−ラベック力型、櫛歯形状や複層電極構成等の種々のパターン、構成を有する電極を用いて吸着面上に不均一な電界を形成し、ガラス等の絶縁材料を吸着するグラディエント(Gradient)力型等があるが、いずれにしても、ウェハやガラス等のワークを離脱する際に静電チャックの吸着面とワークとの間に電荷が残留し、この残量電荷が原因してワークが静電チャックの吸着面から離脱し難い場合があり、ワークが静電チャックの吸着面から離脱し難くなるとワークの位置決めのための保持や搬送に多大な障害が発生する。
そこで、従来においても、このような問題を解決するための幾つかの提案がされている。
例えば、特許文献1においては、静電吸着装置の各対の電極間に、電圧を印加する電源に加えて、この電源のオフ時に接続され、ゼロ電位を基準として各対の電極間に印加した電圧を正負交互に減衰振動させる抵抗及びコイルの直列回路を設け、被処理物を静電チャックの吸着面に載せた状態で電極間の電圧をオフ状態にする瞬間に、直列回路と静電チャックの静電容量とからなるRLC放電回路を形成させ、この放電回路で電極間電圧を正負交互に減衰振動させて電極を覆う絶縁物を電気的に中性にし、被処理物が吸着面から離脱し難いという現象を回避することが提案されている。
また、特許文献2においては、サセプタに静電吸着された被吸着体を脱離する時、電荷供給源を切り離すと共に静電チャックに中和コンデンサを逆極性で接続し、この中和コンデンサによりサセプタと被吸着体間に蓄積された電荷を中和することにより、被吸着体の離脱時間の短縮化を実現できる静電チャックが提案されている。
更に、特許文献3においては、反応室内で静電チャックにクランプされた半導体プロセス部品をデチャックする際に、静電チャックの電極に反対極性の放電直流電圧を印加すると共に、リフトピンユニットにより残量電荷が接地する出口を提供して残留電荷を除去するもので、この際に、リフトピンユニットを静電チャックの台座と同じ電位に保持してRFパワー印加時にスパークの発生を防止し、また、電荷センサで残理由電荷の量を検出及び測定して次回のデチャック工程での反対極性の放電電圧のパラメータを調整するようにした残留電荷の検出及び除去システムが提案されている。
更にまた、特許文献4においては、双極型静電チャックの第一電極部と第二電極部について、互いに異なる極性の電圧が印加された場合に、一方の極性を有する電極の周りに他方の極性を有する電極が配置されるように構成し、これによって、電圧印加により生じる電気力線を吸着面付近に留めてワーク離脱時に吸着面に留まる残留電荷の量を最小限にすると共に、ある電極に残留した電荷がその周辺の異極の電極に残留した電荷と効率的に打ち消し合うようにして、ワーク離脱時に残留電荷を迅速に消滅させることができる双極型静電チャックが提案されている。
上記の特許文献1〜3で提案された方法は、静電チャックのワーク離脱時にこの静電チャックの電気回路を一旦遮断し、静電チャックの吸着面やワークに滞留した残留電荷を接地して逃がすか、あるいは、残留電荷が存在する吸着面やワークに反対極性の電荷を流し込んで中和させるものであるが、近年、静電チャックに対してその吸着力の向上やワークの吸着・離脱の高速化が求められるようになり、また、これに伴って静電チャックの構造が複雑化していることから、単に接地して電荷を逃がす方法や反対極性の電荷を流し込んで中和する方法では、残留電荷を迅速にかつ完全に除去することが困難である。
しかも、これら特許文献1〜3の方法については、そのいずれも思うような残留電荷の除去の効果が得られていないことから、これまでに実用化、あるいは、製品化されたことが殆どないものであり、より実効性のある解決手段の開発が望まれている。
また、特許文献4の方法においては、双極型静電チャックの電極部の構造を工夫してワーク離脱時に吸着面に留まる残留電荷の量を最小限にすると共に、迅速に消滅するようにしたものであるが、その技術的特徴は静電チャックの電極構造のパターン形成にあり、静電チャックの電気回路を工夫した別の技術的観点からの解決手段の開発が望まれている。
特開平06-244,270号公報 特開平11-040,660号公報 特開2010-258,452号公報 特表2010-004,915号公報
そこで、本発明者らは、静電チャックのワーク離脱時における残留電荷に起因する種々の問題を如何に解決するかについて鋭意検討した結果、静電チャックと直流電源との間に静電容量が変化可能な静電容量可変手段及び/又はコンデンサを直列に接続することにより、簡単な構造でしかも確実にワーク離脱時の残留電荷に起因する問題を解決して静電チャックのデチャック性を改善できることを見い出し、本発明を完成した。
また、本発明者らは、静電チャックと直流電源との間に静電容量が変化可能な静電容量可変手段を直列に接続した場合には、この静電容量可変手段の静電容量を変化させることにより、静電チャックに対する電圧印加を遮断することなく、静電チャックの電荷量をワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させること(すなわち、静電チャックの電荷量制御を行うこと)ができ、これによってワーク離脱時の残留電荷に起因する問題を解決して静電チャックのデチャック性を改善できるだけでなく、電源のオン・オフに起因する種々の問題(すなわち、静電チャックを繰り返して使用する際に、静電チャックでワークを吸着し、また、離脱するたびに電源のオン・オフを行う必要があるが、この電源オン・オフ時の電源オンのたびに静電チャックの電気回路には大きな突入電流が流れ、これがアーキング等の静電チャックの故障原因になることや、電源に対する負荷が大きくなってスイッチング素子等の電源素子の故障原因になること等)も解決することができることを見い出し、本発明を完成した。
従って、本発明の目的は、静電チャックのワーク離脱時の残留電荷に起因する問題を解決してデチャック性に優れた静電チャック装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、静電チャックのワーク離脱時の残留電荷に起因する問題を解決するだけでなく、電源のオン・オフに起因する問題をも解決できるデチャック性に優れた静電チャック装置を提供することにある。
更に、本発明の他の目的は、直流電源に接続された静電チャックについて、静電チャックへの電圧印加を遮断することなく、静電チャックのワーク吸着及びワーク離脱の動作に合わせて、静電チャックの電荷量をワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させること(すなわち、静電チャックの電荷量制御を行うこと)ができる静電チャック装置の制御方法を提供することにある。
すなわち、本発明は、静電チャックと、この静電チャックの直流電源と、前記静電チャックと直流電源との間に直列に接続された静電容量可変手段とを備えており、前記静電容量可変手段の静電容量を変化させることにより、前記静電チャックに電圧を印加した状態で、この静電チャックの電荷量をワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させることを特徴とするデチャック性に優れた静電チャック装置である。
また、本発明は、静電チャックと、この静電チャックの直流電源と、前記静電チャックと直流電源との間に直列に接続されたコンデンサとを備えていることを特徴とするデチャック性に優れた静電チャック装置である。
そして、本発明は、直流電源に接続された静電チャックの制御方法であり、前記静電チャックの電極と直流電源との間に静電容量可変手段を直列に接続し、この静電容量可変手段の静電容量を変化させることにより、前記静電チャックに電圧を印加したまま、前記静電チャックのワーク吸着及びワーク離脱の動作に合わせてこの静電チャックの電荷量をワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させることを特徴とする静電チャック装置の制御方法である。
本発明において、好ましくは、前記静電チャックの電極と直流電源との間に静電容量可変手段を直列に接続し、この静電容量可変手段によって、静電チャックの静電容量をC1とし、また、静電容量可変手段の静電容量をC2としたとき、この静電容量可変手段の静電容量C2をワーク吸着時にはC1<C2であって、ワーク離脱時にはC1>C2となるように制御するのがよい。このように静電容量可変手段の静電容量を制御して変化させることにより、静電チャックは、そのワーク吸着時に確実にワークを吸着して保持すると共に、ワーク離脱時には、静電チャックに電圧を印加したまま直流電源を切ることなく、静電チャックの電荷量が強制的に低減され、ワーク離脱時における残留電荷や電源のオン・オフに起因する問題を防止することができる。
本発明において、使用される静電チャックのタイプについては特に制限されるものではなく、静電チャックとしては、誘電体として絶縁材料を用いるクーロン力型の静電チャックであっても、また、固有抵抗値が108〜1013Ω・cmの半導体を用いるジョンソン−ラベック力型の静電チャックであっても、更に、櫛歯形状や複層電極構成等の種々のパターン、構成を有する電極を用いて吸着面上に不均一な電界を形成するグラディエント力型の静電チャックであってもよい。特に、静電チャックとしてグラディエント力型静電チャックを用いた場合には、静電容量の変化量が比較的小さくて制御し易いという利点がある。
また、本発明で使用する静電容量可変手段についても、それ自体の静電容量が変化可能であって、静電チャックの電荷量を、その静電チャックのワーク吸着及びワーク離脱の動作に合わせて、ワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させることができればよく、特に制限されるものではないが、静電容量を変化させる際の操作や制御が容易であることから、好ましくは、可変コンデンサであり、また、所定の吸着面積を有する吸着面に導電体を離脱可能に吸着させて構成され、この吸着面に対する導電体の吸着面積を変化させることにより容易に静電容量が変化するクーロン力型又はジョンソン−ラベック型の補助静電チャックである。
本発明において、静電チャックの電荷量を制御する静電容量可変手段については、可変コンデンサや補助静電チャック等の1つの静電容量可変手段構成要素で構成されていてもよく、また、互いに直列に接続された複数の静電容量可変手段構成要素で構成されていてもよく、更に、互いに並列に接続された複数の静電容量可変手段構成要素で構成されていてもよい。
本発明において、上記の静電容量可変手段及び/又はコンデンサについては、これを静電チャック側に組み込んでもよく、また、直流電源側に組み込んでもよいが、直流電源側に組み込んでこの静電容量可変手段を内蔵する直流電源装置として構成すると、この内蔵する静電容量可変手段の変化可能な静電容量の範囲に応じて、種々のタイプの、あるいは、種々の吸着性能を有する静電チャックの直流電源装置として使用し、その静電チャックの電荷量制御に利用することができる。
本発明の静電チャック装置は、その静電チャックと直流電源との間に静電容量可変手段及び/又はコンデンサが直列に接続されていることから、静電チャックのワーク離脱時における残留電荷に起因する種々の問題が解決され、デチャック性に優れている。
また、静電チャックと直流電源との間に静電容量可変手段を直列に接続した場合には、静電容量可変手段の静電容量を変化させることにより、容易に静電チャックの電荷量を制御することができ、これによって静電チャックに対する電圧印加を遮断することなく、静電チャックのワーク吸着及びワーク離脱の動作に合わせて、静電チャックの電荷量をワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させることができ、単に静電チャックのワーク離脱時における残留電荷の問題が解決されてデチャック性に優れているだけでなく、電源のオン・オフに起因する種々の問題も解決することができる。
更に、本発明の静電チャック装置の制御方法によれば、直流電源に接続された静電チャックについて、静電チャックへの電圧印加を遮断することなく、静電チャックのワーク吸着及びワーク離脱の動作に合わせて、静電チャックの電荷量をワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させることができ、静電チャックのワーク離脱時における残留電荷や電源オン・オフに起因する種々の問題が生じることがない。
図1は、本発明の第一の実施態様を説明するための説明図(a)及び回路図(b)である。 図2は、本発明の第二の実施態様を説明するための説明図である。
図3は、本発明の第三の実施態様を説明するための説明図(a)及び回路図(b)である。 図4は、本発明の第四の実施態様を説明するための説明図である。
図5は、本発明の第五の実施態様を説明するための説明図である。 図6は、本発明の第六の実施態様を説明するための説明図である。
図7は、本発明の第七の実施態様を説明するための説明図である。 図8は、本発明の実施例に係る静電チャック装置を示す説明図である。
〔第一の実施態様〕
図1の(a)に、本発明の第一の実施態様に係る静電チャック装置1aが示されている。この静電チャック装置1aは、誘電体部2aとこの誘電体部2a内に埋め込まれた正電極2b及び負電極2cとで構成された双極型の静電チャック2と、この静電チャック2の各電極2b,2c間に直流電圧を印加する直流電源3と、これら静電チャック2の正電極2bと直流電源3の正極との間に直列に接続された静電容量可変手段4としての可変コンデンサ4aとで構成されている。
ここで、2つの電極2b,2cが誘電体部2a内に埋め込まれた双極型静電チャック2については、これを電気的にみると1対のコンデンサ2xとその間に存在する抵抗2yとからなる1つのコンデンサとみなすことができるので、この双極型静電チャック2が組み込まれた第一の実施態様に係る静電チャック装置1aについては、図1の(b)に示すような等価回路として把握することができる。
そこで、この第一の実施態様に係る静電チャック装置1aにおいては、静電チャック2の静電容量をC1とし、可変コンデンサ4aの静電容量をC2とし、また、直流電源3から印加される直流電圧をVとした場合、静電チャック2にワークWが吸着されているワーク吸着時とこの静電チャック2からワークWが離脱したワーク離脱時とにおいて、静電容量可変手段4としての可変コンデンサ4aの静電容量C2を変化させることにより、静電チャック2の電荷量Qを、ワークWを吸着するのに必要とする十分な電荷量Q1に増加したワーク吸着時の状態Aと、ワークWを容易に離脱して残留電荷の問題が発生しない電荷量Q2に低減したワーク離脱時の状態Bとの間で変化させることができる。
ここで、可変コンデンサ4における静電容量C2の制御については、好ましくは、ワーク吸着時にはC1<C2であって、ワーク離脱時にはC1>C2となるように制御するのがよく、これによって、静電チャック2の電荷量Qを、そのワーク吸着時の状態Aにおける必要かつ十分な電荷量Q1とワーク離脱時の状態Bにおける残留電荷の問題が発生しない電荷量Q2との間で確実に変化させることができる。
〔第二の実施態様〕
図2に、本発明の第二の実施態様に係る静電チャック装置1bが示されている。この静電チャック装置1bは、上記の第一の実施態様に係る静電チャック装置1aの場合とは異なり、静電チャック2が誘電体部2a内に1つの電極(この実施態様では正電極2b)のみが埋め込まれた単極型の静電チャック2で構成されている。そして、この第二の実施態様に係る静電チャック装置1bにおいては、静電チャック2と負極が接地された直流電源3の正極との間に静電容量可変手段4としての可変コンデンサ4aが直列に接続されており、ワークWの吸着・離脱を行う静電チャック装置1bの操作時にはこのワークWが接地された状態で使用される。
この第二の実施態様に係る静電チャック装置1bにおいても、上記の第一の実施態様に係る静電チャック装置1aの場合と同様に、1つの正電極2bが誘電体部2a内に埋め込まれた単極型の静電チャック2を1つのコンデンサ(静電容量C1)とみなすことができるので、静電容量可変手段4としての可変コンデンサ4aの静電容量C2を変化させることにより、静電チャック2の電荷量Qを、ワーク吸着時における電荷量Q1の状態Aと、ワーク離脱時における電荷量Q2の状態Bとの間で変化させることができ、また、この可変コンデンサ4aの静電容量C2制御についても、好ましくは、ワーク吸着時にはC1<C2であって、ワーク離脱時にはC1>C2となるように制御するのがよい。
〔第三乃至第五の実施態様〕
図3は、本発明の第三の実施態様に係る静電チャック装置1cを示すものであり、図1の第一の実施態様に係る静電チャック装置1aとは異なり、静電容量可変手段4が、静電チャック2の正電極2bと直流電源3の正極との間に直列に接続された可変コンデンサ4aと、負電極2cと直流電源3の負極との間に直列に接続された可変コンデンサ4bの2つ可変コンデンサで構成されている。また、図4は、本発明の第四の実施態様に係る静電チャック装置1dを示すものであり、図1の第一の実施態様に係る静電チャック装置1aとは異なり、静電容量可変手段4が、互いに並列に接続された2つの可変コンデンサ4a,4aからなる2つの可変コンデンサで構成されている。更に、図5は、本発明の第四の実施態様に係る静電チャック装置1eを示すものであり、図1の第一の実施態様に係る静電チャック装置1aとは異なり、静電容量可変手段4が、互いに並列に接続された可変コンデンサ4aとコンデンサ4cとで構成されている。
これら第三乃至第五の実施態様に係る静電チャック装置1c,1d,1eにおいても、上記の第一の実施態様に係る静電チャック装置1aの場合と同様に、静電容量可変手段4としての可変コンデンサ4a,4bの静電容量C2を変化させることにより、静電チャック2の電荷量Qを、ワーク吸着時における電荷量Q1の状態Aと、ワーク離脱時における電荷量Q2の状態Bとの間で変化させることができる。
〔第六の実施態様〕
図6は、本発明の第六の実施態様に係る静電チャック装置1fを示すものであり、この静電チャック装置1fは、図1の第一の実施態様に係る静電チャック装置1aとは異なり、静電容量可変手段4が、クーロン型静電チャックからなる補助静電チャック4xとこの補助静電チャック4xの吸着面に所定の吸着面積で吸着させたアルミニウム板、銅箔等の導電体4yとで構成されており、この導電体4yにおける補助静電チャック4xの吸着面に対する吸着面積を変化させることにより、補助静電チャック4xの静電容量C2を変化させ、これによって、静電チャック2の電荷量Qを、ワーク吸着時における電荷量Q1の状態Aと、ワーク離脱時における電荷量Q2の状態Bとの間で変化させるようにしたものである。
この第六の実施態様に係る静電チャック装置1fにおいては、補助静電チャック4xの吸着面に対する導電体4yの吸着面積を変化させることにより、容易に補助静電チャック4xの静電容量C2を変化させることができるので、静電チャック2により吸着・離脱されるワークWとの関係で、ワーク吸着時とワーク離脱時の吸着面積を最適な値に設定し、これによって補助静電チャック4xの静電容量C2制御を行い、好ましくは、ワーク吸着時にはC1<C2であって、ワーク離脱時にはC1>C2となるように制御するのがよい。
図7は、本発明の第七の実施態様に係る静電チャック装置1gを示すものであり、この静電チャック装置1gは、その静電容量可変手段4が静電チャック2側及び/又は直流電源3側に組み込まれたコンデンサ4cで構成されており、このコンデンサ4cの存在により残留電荷の問題が軽減され、静電チャック2のデチャック性が改善される。
図8に示すように、静電チャック2として電極間絶縁層を挟んでそのワーク吸着面側にパターン化された電極層を、また、反対側に他の電極層をそれぞれ積層させた複層電極構成を有すると共に、220mm×58mmの大きさの吸着面を有するグラディエント力型静電チャック(ESC)を用い(例えば、特許第4,825,220号公報を参照)、また、静電容量可変手段4の補助静電チャック4xとして300mm×300mmの大きさの吸着面を有するクーロン型静電チャックを用いると共に、その吸着面に吸着させる導電体4yとして350mm×350mm×1.1mmのアルミニウム板を用い、更に、直流電源3として1kVの直流電源を用い、そして、静電チャック2の正電極2bに補助静電チャック4xの負電極を接続し、この補助静電チャック4xの正電極を直流電源3の正極に接続し、また、この直流電源3の負極を静電チャック2の負電極2cに接続して、この実施例に係る静電チャック装置1fを構成した。
〔デチャック性能の評価試験〕
上記の静電チャック装置1fについて、先ず、その静電チャック2の吸着面にはワークWを吸着させずに補助静電チャック4xの吸着面に導電体4yを載せた初期状態を構成し、また、静電チャック2の吸着面に吸着させ、また、離脱させる被吸着物のワークWとして大きさ20mm×20mm×0.5mmのウェハを用い、以下の手順でこの静電チャック装置1fにおけるデチャック性能を調べた。
手順1:静電チャック装置1fの静電チャック2、補助静電チャック4x、及び導電体4yとワークWとをIPA(イソプロピルアルコール)で清浄化する。
手順2:直流電源3をオフにした状態でワークWを静電チャック2の吸着面に載せる。
手順3:直流電源3をオンにする。
手順4:直流電源3の電圧が1kV当りで安定してから(約2秒後)、静電チャック2をその吸着面が垂直になるように90°回転させる。
手順5:補助静電チャック4xの吸着面に吸着させた導電体4yを引き剥がして除去し、その際のワークWの落下状態を観察する。
手順6:直流電源3をオフにし、その際のワークWの落下状態を観察する。
〔静電チャック及び補助静電チャックの電荷量変化の測定〕
上記デチャック性能の評価試験において、先ず、静電チャック2にはワークWとして大きさ155mm×60mm×55μmの銅箔を載置し、また、補助静電チャック4xには導電体4yを載せ、上記の手順5の前後における静電チャック2及び補助静電チャック4xの電荷量Qの変化をそれぞれ測定し、ワーク吸着時の電荷量Q1及びワーク離脱時の電荷量Q2をそれぞれ測定した。
結果を表1に示す。
Figure 2013137414
次に、上記ワークWを1枚用意し、また、上記導電体4yのアルミニウム板1枚を用意し、ワークWについて手順1〜6に従って行った上記デチャック性能の評価試験を5回繰り返し、その際のデチャック性能を調べた。またこの際に、対照として、静電チャック装置として上記の補助静電チャック4x及び導電体4yを除いて静電チャック2及び直流電源3のみを用い、上記の手順1→手順2→手順3→手順4→手順6に従って静電チャック2のデチャック性能を評価した。
なお、このデチャック性能の評価については、ワークWが静電チャック2の吸着面から5秒以内に落下した場合を○と評価し、また、落下しない場合を×として評価した。
これらの結果を表2に示す。
Figure 2013137414
表1に示す結果から明らかなように、実施例の静電チャック装置1fを用いた場合には、補助静電チャック4xの吸着面に対する導電体4y(アルミニウム板)の吸着及び離脱により、静電チャック2の吸着面に対するワークWの吸着及び離脱の制御が可能であり、また、補助静電チャック4xの吸着面に吸着させた導電体4y(銅箔)の引き剥がしにより、静電チャック2の吸着面におけるワーク吸着力が低下し、ワーク離脱時のデチャック性が改善され、デチャック性能に優れていて静電チャックのワーク離脱時における残留電荷に起因する種々の問題を解決できるほか、直流電源のオン・オフ操作の必要がなくなり、電源のオン・オフに起因する種々の問題も解決することができる。また、手順6後の落下率をみると、実施例の静電チャック装置1fを用いた場合は、対照と比較して、その落下率が明らかに改善しており、補助静電チャック4xが存在するだけでデチャック性能の改善がみられることから、静電チャックと直流電源の間にコンデンサを直列に接続してもデチャック性能を改善できることが理解される。
1a,1b,1c,1d,1e,1f…静電チャック装置、2…静電チャック、2a…誘電体部、2b…正電極、2c…負電極、2x…コンデンサ、2y…抵抗、3…直流電源、4…静電容量可変手段、4a,4b…可変コンデンサ、4c…コンデンサ、4x…補助静電チャック、4y…導電体、W…ワーク、C1,C2,C3…静電容量。

Claims (10)

  1. 静電チャックと、この静電チャックの直流電源と、前記静電チャックと直流電源との間に直列に接続された静電容量可変手段とを備えており、前記静電容量可変手段の静電容量を変化させることにより、前記静電チャックに電圧を印加した状態で、この静電チャックの電荷量を、ワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させることを特徴とする静電チャック装置。
  2. 静電チャックの静電容量をC1とし、また、静電容量可変手段の静電容量をC2としたとき、この静電容量可変手段の静電容量C2を、ワーク吸着時にはC1<C2であって、ワーク離脱時にはC1>C2となるように制御する請求項1に記載の静電チャック装置。
  3. 前記静電容量可変手段が、可変コンデンサである請求項1又は2に記載の静電チャック装置。
  4. 前記静電容量可変手段が、所定の吸着面積を有する吸着面に導電体が離脱可能に吸着したクーロン力型又はジョンソン−ラベック型の補助静電チャックであり、この補助静電チャックの吸着面に対する導電体の吸着面積を変化させることにより、静電チャックの静電容量を変化させる請求項1又は2に記載の静電チャック装置。
  5. 前記静電容量可変手段が、互いに直列に接続された複数の可変コンデンサ及び/又は補助静電チャックで構成されている請求項1〜4の何れかに記載の静電チャック装置。
  6. 前記静電容量可変手段が、互いに並列に接続された複数の可変コンデンサ及び/又は補助静電チャックで構成されている請求項1〜5の何れかに記載の静電チャック装置。
  7. 前記静電容量可変手段が、直流電源側に組み込まれている請求項1〜6の何れかに記載の静電チャック装置。
  8. 静電チャックと、この静電チャックの直流電源と、前記静電チャックと直流電源との間に直列に接続されたコンデンサとを備えていることを特徴とする静電チャック装置。
  9. 直流電源に接続された静電チャックの制御方法であり、前記静電チャックと直流電源との間に静電容量可変手段を直列に接続し、この静電容量可変手段の静電容量を変化させることにより、前記静電チャックに電圧を印加したまま、前記静電チャックのワーク吸着及びワーク離脱の動作に合わせて、この静電チャックの電荷量をワーク吸着時の高い値とワーク離脱時の低い値との間で変化させることを特徴とする静電チャック装置の制御方法。
  10. 静電チャックの静電容量をC1とし、また、静電容量可変手段の静電容量をC2としたとき、この静電容量可変手段の静電容量C2を、ワーク吸着時にはC1<C2であって、ワーク離脱時にはC1>C2となるように制御する請求項9に記載の静電チャック装置の制御方法。
JP2014505009A 2012-03-16 2013-03-14 静電チャック装置及びその制御方法 Active JP6069768B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012060844 2012-03-16
JP2012060844 2012-03-16
PCT/JP2013/057276 WO2013137414A1 (ja) 2012-03-16 2013-03-14 静電チャック装置及びその制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2013137414A1 true JPWO2013137414A1 (ja) 2015-08-03
JP6069768B2 JP6069768B2 (ja) 2017-02-01

Family

ID=49161314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014505009A Active JP6069768B2 (ja) 2012-03-16 2013-03-14 静電チャック装置及びその制御方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6069768B2 (ja)
TW (1) TWI598987B (ja)
WO (1) WO2013137414A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9472410B2 (en) * 2014-03-05 2016-10-18 Applied Materials, Inc. Pixelated capacitance controlled ESC
JP7059064B2 (ja) * 2018-03-26 2022-04-25 株式会社日立ハイテク プラズマ処理装置
JPWO2022004022A1 (ja) * 2020-06-30 2022-01-06
CN113862645B (zh) * 2021-09-28 2023-09-08 北京北方华创微电子装备有限公司 承载装置及半导体工艺腔室

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006108643A (ja) * 2004-09-10 2006-04-20 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線描画装置および荷電粒子線描画方法
JP2007266534A (ja) * 2006-03-30 2007-10-11 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06244270A (ja) * 1993-02-19 1994-09-02 Ulvac Japan Ltd 静電吸着装置
JPH1140660A (ja) * 1997-07-22 1999-02-12 Kokusai Electric Co Ltd 被吸着体脱離方法、静電チャック、及びプラズマ処理装置
JP4337037B2 (ja) * 2003-11-04 2009-09-30 日立化成工業株式会社 静電チャック
JP2009170509A (ja) * 2008-01-11 2009-07-30 Hitachi High-Technologies Corp ヒータ内蔵静電チャックを備えたプラズマ処理装置
JP5283699B2 (ja) * 2008-07-08 2013-09-04 株式会社クリエイティブ テクノロジー 双極型静電チャック
CN101872733B (zh) * 2009-04-24 2012-06-27 中微半导体设备(上海)有限公司 感测和移除被加工半导体工艺件的残余电荷的系统和方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006108643A (ja) * 2004-09-10 2006-04-20 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線描画装置および荷電粒子線描画方法
JP2007266534A (ja) * 2006-03-30 2007-10-11 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI598987B (zh) 2017-09-11
WO2013137414A1 (ja) 2013-09-19
TW201403742A (zh) 2014-01-16
JP6069768B2 (ja) 2017-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5283699B2 (ja) 双極型静電チャック
KR101415551B1 (ko) 정전척, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
TWI390698B (zh) 靜電吸持裝置
JP2008041993A (ja) 静電チャック
JP6069768B2 (ja) 静電チャック装置及びその制御方法
JPH1074826A (ja) 静電チャックから被加工物を解放する方法および装置
US11107694B2 (en) Method for releasing sample and plasma processing apparatus using same
WO2020045286A1 (ja) クリーニング装置
CN108242421B (zh) 静电卡盘装置和静电吸附方法
JP2002203837A (ja) プラズマ処理方法および装置並びに半導体装置の製造方法
JP2014511561A (ja) 摩擦電気帯電が抑制された静電クランプ
JPH07130826A (ja) 静電チャック
JP2000340640A (ja) 非接触型静電吸着装置
TWI725011B (zh) 用於移除在基板製造處理期間累積在基板接觸表面上的粒子的裝置、基板支撐件、及方法
JP2004319700A (ja) 静電チャック
JP3974475B2 (ja) 静電チャック装置及びその装置を用いた基板の処理方法
KR101526509B1 (ko) 로렌츠 힘을 이용한 고정용 척
KR20150146065A (ko) 프린팅을 이용한 바이폴라 세라믹 정전척 제조 방법
JP4030360B2 (ja) 静電吸着装置及びこれを用いた真空処理装置
CN109068467A (zh) 一种除静电装置及除静电方法
JP2014107382A (ja) 半導体基板の脱離方法
JP2005310945A (ja) 半導体製造装置およびウェハの静電吸着方法・除電方法
JP3956620B2 (ja) 静電チャック
KR20100001609A (ko) 웨이퍼 척킹 및 디척킹 장치
KR20110064665A (ko) 전기장 구배를 이용한 쌍극형 정전척

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161028

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161215

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6069768

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250