TW201403742A - 靜電吸盤裝置及其控制方法 - Google Patents

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Abstract

[解決課題]提供可以解決靜電吸盤之工件脫離時之殘留電荷所引起之問題，還有因電源之接通、斷開所引起之問題的吸盤釋放性優良之靜電吸盤裝置。[解決手段]為一種吸盤釋放性優良之靜電吸盤裝置，其具備靜電吸盤、靜電吸盤之直流電源、被串聯連接於靜電吸盤和直流電源之間的靜電電容可變手段，藉由使靜電電容可變手段之靜電電容變化，在對靜電吸盤施加電壓之狀態下，使該靜電吸盤之電荷量在工件吸附時之高值和工件脫離時之低值之間予以變化。

Description

靜電吸盤裝置及其控制方法
該發明關於靜電性地吸附並保持被吸附物(工件)，且為了對被吸附物進行其定位用於固定，或是用於將被吸附物搬運至特定目的之場所的靜電吸盤裝置，尤其關於工件脫離時之吸盤釋放性優良之靜電吸盤裝置及其控制方法。
在矽等之半導體晶圓形成積體電路而製造IC或LSI等之半導體(積體電路)之半導體製造製程中，使用蝕刻裝置、用於化學氣相蒸鍍(CVD)之薄膜形成等的電漿處理裝置、電子曝光裝置、離子描劃裝置、離子注入裝置等之裝置，再者，在製造電視畫面或電腦用顯示器等所使用之液晶顯示面板的液晶面板製造過程中，使用離子摻雜裝置、於進行液晶壓入至玻璃等之絕緣性基板之時所使用之基板貼合裝置等之裝置，在該些裝置中，以為了晶圓或玻璃等之定位所進行之保持或搬運為目的，廣泛使用靜電吸盤。該係因靜電吸盤比起利用機械性機構之保持手段，不會有對晶圓或玻璃等之被吸附物(工件)造成損傷之問題 ，從機械性損傷所導致的微粒產生之問題，或保持的被吸附物之平坦性之補償等的觀點來看，發揮更優良性能之故。
然後，該靜電吸盤由於其吸附方式或吸附原理之不同，有使用絕緣材料當作介電體之庫倫力型、使用固定電阻值為108~1013Ω．cm之半導體的強生拉貝克(Johnson-Rahbek)力型、具有梳齒形狀或複層電極構成等之各種圖案、構成的電極而在吸附面上形成不均勻電場，吸附玻璃等之絕緣材料的梯度(Gradient)力型等，任一者皆於脫離晶圓或玻璃等之工件之時，在靜電吸盤之吸附面和工件之間殘留電荷，因該殘留電荷有工件難以從靜電吸盤之吸附面脫離之情況，當工件難以從靜電吸盤之吸附面脫離時，對用以工件定位之保持或搬送產生大的障礙。
在此，即使在以往中，有提案用以解決如此之問題的幾個提案。
例如，在專利文獻1中，提案除了對靜電吸附裝置之各對電極間施加電壓的電源外，設置被連接於該電源之斷開時，以零電位為基準而使施加於各對電極間之電壓正負交互地予以衰減振動的電阻及線圈之串聯電路，在將被處理物載置在靜電吸盤之吸附面之狀態下使電極間之電壓成為斷開狀態之瞬間，形成由串聯電路和靜電吸盤之靜電電容所構成之RLC放電電路，以該放電電路使電極間電壓正負交互地予以衰減振動而使覆蓋電極之絕緣物成為電中性，迴避被處理物難以從吸附面脫離之現象。
再者，在專利文獻2中，於脫離被靜電吸附在承載器之被吸附體之時，切離電荷供給源，並且以反極性將中和電容器連接於靜電吸盤，並且藉由該中和電容器中和被蓄積於承載器和被吸附體間之電荷，依此可以實現被吸附體之脫離時間之短縮化的靜電吸盤。
並且，在專利文獻3中，提案有一種殘留電荷之檢測及除去系統，該係於將在反應室內被夾持於靜電吸盤之半導體製程零件進行吸盤釋放時，對靜電吸盤之電極施加相反極性之放電直流電壓，並且藉由上升銷單元，提供殘量電荷接地之出口而除去殘留電荷，此時將上升銷單元保持在與靜電吸盤之台座相同之電位而防止於施加RF功率時產生火花，再者，以電荷感測器檢測及測量殘留電荷之量而調整下一次之吸盤釋放工程中的相反極性之放電電壓的參數。
並且，在專利文獻4中，提案有雙極型靜電吸盤，該是針對雙極型靜電吸盤之第一電極部和第二電極部，施加互相不同之極性的電壓時，構成在具有一方極性的電極周圍配置具有另一方之極性的電極，依此，藉由施加電壓所產生之電力線停留在吸附面附近而使工件脫離時留在吸附面之殘留電荷之量成為最小限度，並且使殘留在某電極之電荷與殘留在其周邊之異極之電極的電荷有效率地互相抵銷，而於工件脫離時可以快速地消除殘留電荷。
在上述專利文獻1~3中所提案之方法，係於靜電吸盤之工件脫離時一旦阻斷該靜電吸盤之電性電路， 使滯留於靜電吸盤之吸附面或工件之殘留電荷接地而洩放，或藉由使相反極性之電荷流入至存在殘留電荷之吸附面或工件而進行中和，但是近年來，由於對靜電吸盤要求提升其吸附力或工件之吸附、脫離之高速化，隨此靜電吸盤之構造變得複雜化，故在僅進行接地使電荷洩放之方法或藉由流入相反極性之電荷而進行中和之方法中，難以快速並且完全地除去殘留電荷。
而且，針對該些專利文獻1~3之方法中，由於無法取得如任一者所期待之除去殘留電荷之效果，故至今幾乎還未被實用化或製品化，期盼開發出具有更有實效性之解決手段。
再者，在專利文獻4之方法中，係在雙極型靜電吸盤之電極部之構造上加工，使工件脫離時殘留在吸附面之殘留電荷之量成為最小限度，並且快速消除之技術，其技術特徵係在於靜電吸盤之電極構造之圖案形成，期盼開發出以對靜電吸盤之電性電路加工之另外的技術性為視點的解決手段。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平06-244270號公報
[專利文獻2]日本特開平11-040660號公報
[專利文獻3]日本特開2010-258452號公報
[專利文獻4]日本特表2010-004915號公報
在此，本發明者針對如和解決靜電吸盤之工件脫離時因殘留電荷所引起之各種問題，精心研究之結果，藉由在靜電吸盤和直流電源之間串聯連接靜電電容可變化之靜電電容可變手段及/或電容器，找出以簡單構造而且確實解決因工件脫離時之殘留電荷所引起之問題而改善靜電吸盤之吸盤釋放性，完成本發明。
再者，本發明者發現在靜電吸盤和直流電源之間串聯連接靜電電容可變化之靜電電容可變手段之時，藉由使該靜電電容可變手段之靜電電容變化，不僅不用阻斷對靜電吸盤施加電壓，可以使靜電吸盤之電荷量在工件吸附時之高值和工作脫離時之低值之間變化(即是，進行靜電吸盤之電荷量控制)，依此，不僅解決因工件脫離時之殘留電荷所引起之問題而改善靜電吸盤之吸盤釋放性，也可以解決因電源之接通、斷開引起的各種問題(即是，於重複使用靜電吸盤之時，每次以靜電吸盤吸附工件，再者每次脫離時需要進行電源之接通、斷開，然而於該電源接通、斷開時之每次的電源接通時，在靜電吸盤之電路流入大的衝擊電流，該成為電弧等之靜電吸盤之故障原因，或對電源的負載變大而成為開關元件等之電源元件之故障原因等)，而完成本發明。
因此，本發明之目的係解決因靜電吸盤之工件脫離時之殘留電荷所引起之問題而提供吸盤釋放性優良之靜電吸盤裝置。
再者，本發明之其他目的，提供不僅解決靜電吸盤之工件脫離時之殘留電荷所引起之問題，亦可以解決因電源之接通、斷開而引起之問題的吸盤釋放性優良之靜電吸盤裝置。
並且，本發明之其他目的係針對被連接於直流電源之靜電吸盤，提供不用阻斷對靜電吸盤施加電壓，可以配合靜電吸盤之工件吸附及工件脫離之動作，使靜電吸盤之電荷量在工件吸附時之高值和工件脫離時之低值之間變化(即是，進行靜電吸盤之電荷量控制)的靜電吸盤裝置之控制方法。
即是，本發明為吸盤釋放性優良之靜電吸盤裝置，其特徵為：具備靜電吸盤、該靜電吸盤之直流電源、被串聯連接於上述靜電吸盤和直流電源之間的靜電電容可變手段，藉由使上述靜電電容可變手段之靜電電容變化，在對上述靜電吸盤施加電壓之狀態下，使該靜電吸盤之電荷量在工件吸附時之高值和工件脫離時之低值之間予以變化。
再者，本發明為吸盤釋放性優良之靜電吸盤裝置，其特徵為具備：靜電吸盤、該靜電吸盤之直流電源 、被串聯連接於上述靜電吸盤和直流電源之間的電容器。
然後，本發明為一種靜電吸盤裝置之控制方法，為被連接於直流電源之靜電吸盤之控制方法，其特徵為：在上述靜電吸盤之電極和直流電源之間串聯連接靜電電容可變手段，藉由使該靜電電容可變手段之靜電電容變化，在維持對上述靜電吸盤施加電壓之狀態下，配合上述靜電吸盤之工件吸附及工件脫離之動作，使該靜電吸盤之電荷量在工件吸附時之高值和工件脫離時之低值之間予以變化。
在本發明中，理想上係在上述靜電吸盤的電極和直流電源之間串聯連接靜電電容可變手段，藉由該靜電電容可變手段，將靜電吸盤之靜電電容設為C1，再者將靜電電容可變手段之靜電電容設為C2時，將該靜電電容可變手段之靜電電容C2控制成於工件吸附時成為C1<C2，於工件脫離時成為C1>C2。藉由如此控制靜電電容可變手段之靜電電容而使變化，靜電吸盤於其工件吸附時吸附並保持工件，並且於工件脫離時，不會有在維持對靜電吸盤施加電壓之狀態下切斷直流電源之情形，可以防止靜電吸盤之電荷量強制性被降低，並且工件脫離時殘留電荷或電源之接通、斷開所引起的問題。
在本發明中，針對所使用之靜電吸盤之類型並不特別限制，就以靜電吸盤而言，即使為使用絕緣材料當作介電體的庫倫力型之靜電吸盤，再者使用固有電阻值為108~1013Ω．cm之半導體的強生拉貝克型之靜電吸盤 ，再者即使為使用具有梳齒形狀或複層電極構成等之各種圖案、構成的電極而在吸附面上形成不均勻電場之梯度力型之靜電吸盤亦可。尤其，於使用梯度力型靜電吸盤以作為靜電吸盤之時，有靜電電容之變化量比較小且容易控制之優點。
再者，即使針對在本發明中所使用之靜電電容可變手段，其本身之靜電電容可變化，若將靜電吸盤之電荷量，若配合其靜電吸盤之工件吸附及工件脫離之動作，可在工件吸附時之高值和工件脫離時之低值之間變化即可，並不特別限制，但是由於使靜電電容變化之時之操作或控制容易，故以可變電容器為理想，再者，為構成可脫離地使導電體吸附於具有特定吸附面積之吸附面，且藉由使導電體對該吸附面之吸附面積變化，靜電電容容易變化之庫倫力型或強生拉貝克型的輔助靜電吸盤。
在本發明中，針對控制靜電吸盤之電荷量的靜電電容可變手段，即使以可變電容器或輔助靜電吸盤等之一個靜電容量可變手段構成要素所構成亦可，再者，即使以被互相串聯連接之複數靜電電容可變手段構成要素來構成亦可，並且即使以被互相並聯連接之複數靜電電容可變手段構成要素來構成亦可。
在本發明中，針對上述靜電電容可變手段及/或電容器，即使將此組裝於靜電吸盤側亦可，再者即使組裝於直流電源側亦可，但是當構成組裝於直流電源側而內藏該靜電電容可變手段之直流電源裝置時，因應該內藏之 靜電電容可變手段之可變化的靜電電容之範圍，當作具有各種類型或是各種吸附性能之靜電吸盤之直流電源裝置使用，可以利用於其靜電吸盤之電荷量控制。
本發明之靜電吸盤裝置由於在其靜電吸盤和直流電源之間串聯連接靜電電容可變手段及/或電容器，故解決靜電吸盤之工件脫離時因殘留電荷所引起之各種問題，吸盤釋放性優良。
再者，於在靜電吸盤和直流電源之間串聯連接靜電電容可變手段之情況，藉由使靜電電容可變手段之靜電電容變化，容易控制靜電吸盤之電荷量，依此不用阻斷對靜電吸盤施加電壓，可以配合靜電吸盤之工件吸附及工件脫離之動作，使靜電吸盤之電荷量在工件吸附時之高值和工件脫離時之低值之間變化，並且不單係解決靜電吸盤之工件脫離時殘留電荷之問題而吸盤釋放性優良而已，也可以解決因電源之接通、斷開所引起之各種問題。
並且，若藉由本發明之靜電吸盤裝置之控制方法，針對被連接於直流電源之靜電吸盤，不用阻斷對靜電吸盤施加電壓，可配合靜電吸盤之工件吸附及工件脫離之動作，使靜電吸盤之電荷量在工件吸附時之高值和工件脫離時之低值之間變化，不會產生由於靜電吸盤之工件脫離時殘留電荷或電源接通、斷開所引起之各種問題。
1a、1b、1c、1d、1f‧‧‧靜電吸盤裝置
2‧‧‧靜電吸盤
2a‧‧‧介電體部
2b‧‧‧正電極
2c‧‧‧負電極
2x‧‧‧電容器
2y‧‧‧電阻
3‧‧‧直流電源
4‧‧‧靜電電容可變手段
4a、4b‧‧‧可變電容器
4c‧‧‧電容器
4x‧‧‧輔助靜電吸盤
4y‧‧‧導電體
W‧‧‧工件
C1、C2、C3‧‧‧靜電電容
第1圖
為用以說明本發明之第一實施型態之說明圖(a)及電路圖(b)。
第2圖
為用以說明本發明之第二實施型態之說明圖。
第3圖
為用以說明本發明之第三實施型態之說明圖(a)及電路圖(b)。
第4圖
為用以說明本發明之第四實施型態之說明圖。
第5圖
為用以說明本發明之第五實施型態之說明圖。
第6圖
為用以說明本發明之第六實施型態之說明圖。
第7圖
為用以說明本發明之第七實施型態之說明圖。
第8圖
第8圖為表示與本發明之實施例有關之靜電吸盤裝置之說明圖。
[第一實施型態]
第1圖(a)表示與本發明有關之第一實施型態有關的靜電吸盤裝置1a。該靜電吸盤裝置1a係由介電體部2a和被埋入在該介電體部2a內之正電極2b及負電極2c所構成之雙極型之靜電吸盤2，和對該靜電吸盤2之各電極2b、2c之間施加直流電壓的直流電源3，和當作被串聯連接於該些靜電吸盤2之正電極2b和直流電源3之正極之間的靜電電容可變手段4之可變電容器4a所構成。
在此，針對兩個電極2b、2c被埋入在介電體部2a內之雙極型靜電吸盤2，當電性地觀看此時，可以視為一對電容器2X和存在於其間的電阻2y所構成之一個電容器，故針對與組裝該雙極型靜電吸盤2之第一實施型態有關之靜電吸盤裝置1a，可以當作第1圖(b)所示之等效電路而予以掌握。
在此，在與該第一實施型態有關之靜電吸盤裝置1a中，將靜電吸盤2之靜電電容設為C1，將可變電容器4a之靜電電容設為C2，再者，將從直流電源3被施加之直流電壓設為V之時，在靜電吸盤2吸附工件W之工件吸附時和工件W從該靜電吸盤2脫離之工件脫離時，藉由使當作靜電電容可變手段4之可變電容器4a之靜電電容C2變化，可以使靜電吸盤2之電荷量Q在增加至為了吸附工件W所需要的足夠電荷量Q1之工件吸附時之 狀態A，和降低至工件W容易脫離而不會產生殘留電荷之問題的電荷量Q2的工件脫離時之狀態B之間變化。
在此，針對可變電容器4中之靜電電容C2之控制，理想上係控制成於工件吸附時成為C1<C2，於工件脫離時成為C1>C2即可，依此，可以使靜電吸盤2之電荷量Q在其工件吸附時之狀態A中所需並且足夠之電荷量Q1和不會產生在工件脫離時之狀態B下殘留電荷之問題的電荷量Q2之間確實變化。
[第二實施型態]
第2圖表示與本發明之第二實施型態有關的靜電吸盤裝置1b。該靜電吸盤裝置1b與上述第一實施型態有關之靜電吸盤裝置1a之情況不同，靜電吸盤2以僅一個電極(在本實施型態中為正電極2b)被埋入在介電體部2a內之單極型之靜電吸盤2所構成。然後，在該第二實施型態有關之靜電吸盤裝置1b中，在靜電吸盤2和負極被接地之直流電源3之正極之間串聯連接有當作靜電電容可變手段4之可變電容器4a，於進行工件W之吸附、脫離的靜電吸盤裝置1b之操作時在該工件W被接地之狀態下被使用。
即使在與該第二實施型態有關之靜電吸盤裝置1b中，與上述第一實施型態有關之靜電吸盤裝置1a之情況相同，因可以將一個正電極2b埋入至介電體部2a內之單極型之靜電吸盤2視為一個電容器(靜電電容C1)，故藉由使當作靜電電容可變手段4之可變電容器4a之靜電 電容C2變化，可以將靜電吸盤2之電荷量Q在工件吸附時之電荷量Q1之狀態A，和工件脫離時之電荷量Q2之狀態B之間變化，再者，即使針對該可變電容器4a之靜電電容C2控制，理想上也係控制成於工件吸附時成為C1<C2，於工件脫離時成為C1>C2為佳。
[第三至第五實施型態]
第3圖為表示與本發明之第三實施型態有關之靜電吸盤裝置1c，與第1圖之第一實施型態有關之靜電吸盤裝置1a不同，靜電電容可變手段4係由被串聯連接於靜電吸盤2之正電極2b和直流電源3之正極之間的可變電容器4a，和被串聯連接於負電極2c和直流電源3之負極之間的可變電容器4b之兩個可變電容器所構成。再者，第4圖係表示與本發明之第四實施型態有關之靜電吸盤裝置1d，與第1圖之第一實施型態有關之靜電吸盤裝置1a不同，靜電電容可變手段4係由被互相並聯連接之兩個可變電容器4a、4b所構成之兩個可變電容器所構成。並且，第5圖係表示與本發明之第四實施型態有關之靜電吸盤裝置1e，與第1圖之第一實施型態有關之靜電吸盤裝置1a不同，靜電電容可變手段4係由被互相並聯連接之兩個可變電容器4a和電容器4c所構成。
即使與該些第三至第五實施型態有關之靜電吸盤1c、1d、1e中，也與上述第一實施型態有關之靜電吸盤裝置1a之情況相同，藉由使當作靜電電容可變手段 4之可變電容器4a、4b之靜電電容C2變化，可以使靜電吸盤2之電荷量Q在工件吸附時之電荷量Q1之狀態A，和工件脫離時之電荷量Q2之狀態B之間變化。
[第六實施型態]
第6圖係表示與本發明之第六實施型態有關之靜電吸盤裝置1f，該靜電吸盤裝置1f係與第1圖之第一實施型態有關之靜電吸盤裝置1a不同，靜電電容可變手段4係由以庫倫型靜電吸盤所構成之輔助靜電吸盤4x，和以特定面積吸附於該輔助靜電吸盤4x之吸附面的鋁板、銅箔等之導電體4y所構成，藉由使該導電體4y對輔助靜電吸盤4x之吸附面的吸附面積變化，使靜電吸盤4x之靜電電容C2變化，依此使靜電吸盤2之電荷量Q在工件吸附時之電荷量Q1之狀態A，和工件脫離時之電荷量Q2之狀態B之間變化。
在與該第六實施型態有關之靜電吸盤裝置1f中，因藉由使導電體4y對輔助靜電吸盤4x之吸附面之吸附面積變化，可以容易使輔助靜電吸盤4x之靜電電容C2變化，故利用與藉由靜電吸盤2被吸附、脫離之工件W的關係，將工件吸附時和工件脫離時之吸附面積設定成最佳值，依此進行輔助靜電吸盤4x之靜電電容C2控制，理想上控制成工件吸附時成為C1<C2，於工件脫離時成為C1>C2為佳。
第7圖係表示本發明之第七實施型態有關之 靜電吸盤裝置1g，該靜電吸盤裝置1g係由在靜電吸盤2側及/或直流電源3側安裝其靜電電容可變手段4之電容器4c所構成，藉由該電容器4c之存在，減輕殘留電荷之問題，改善靜電吸盤2之吸盤釋放性。
[實施例]
如第8圖所示般，作為靜電吸盤2，使用具有夾持電極間絕緣層而在其工件吸附面側疊層被圖案化之電極層，再者在其相反側疊層其他電極層之複層電極構成，並且具有220mm×58mm之大小的吸附面之梯度力型靜電吸盤(ESC)(例如，參照專利第4825220號公報)，再者，作為靜電電容可變手段4之輔助靜電吸盤4x而言，使用具有300mm×300mm之大小之吸附面的庫倫型靜電吸盤，並且作為吸附於其吸附面之導電體4y，使用350mm×350mm×1.1mm之鋁板，並且，作為直流電源3，使用1kV之直流電源，然後，在靜電吸盤2之正電極2b連接輔助靜電吸盤4x之負電極，將該輔助靜電吸盤4x之正電極連接於直流電源3之正極，再者將該直流電源3之負極連接於靜電吸盤2之負電極2c，而構成與該實施例有關之靜電吸盤裝置1f。
[吸盤釋放性能之評估試驗]
針對上述靜電吸盤裝置1f，首先，不使工件W吸附在其靜電吸盤2之吸附面，構成將導電體4y載置在輔助 輔助靜電吸盤4x之吸附面的初期狀態，再者，使吸附於靜電吸盤2之吸附面，再者，使用大小20mm×20mm×0.5mm之晶圓作為脫離之被附著物之工件W，以下述順序調查該靜電吸盤裝置1f中之吸盤釋放性能。
順序1：以IPA(異丙醇)使靜電吸盤裝置1f之靜電吸盤2、輔助靜電吸盤4x及導電體4y和工件W進行清淨化。
順序2：在使直流電源3成為斷開之狀態下使工件W載置在靜電吸盤2之吸附面。
順序3：使直流電源3成為接通。
順序4：直流電源3之電壓在1kV左右安定(約2秒後)，以其吸附面成為垂直之方式使靜電吸盤2旋轉90°。
順序5：剝下並除去吸附於輔助靜電吸盤4x之吸附面的導電體4y，觀察此時之工件W之掉落狀態。
順序6：使直流電源3成為斷開，觀察此時之工件W之落下狀態。
[靜電吸盤及輔助靜電吸盤之電荷量變化之測量]
在上述吸盤釋放性能之評估試驗中，首先在靜電吸盤2載置大小155mm×60mm×55μm之銅箔以作為工件W，再者，在輔助靜電吸盤4x載置導電體4y，各測量上述順序5之前後的靜電吸盤2及輔助靜電吸盤4x之電荷量Q之變化，各測量工件吸附時之電荷量Q1及工件脫離時之電荷量Q2。
將結果表示於表1。
接著，準備一片上述工件W，再者準備一片上述導電體4y之鋁板，針對重複5次工件W依循順序1~6而進行的上述吸盤釋放性能之評估試驗，調查此時之吸盤釋放性能。再者，此時，就以比較例而言，除了上述輔助靜電吸盤4x及導電體4y之外僅使用靜電吸盤2及直流電源3以作為靜電吸盤裝置，依照上述順序1→順序2→順序3→順序4→順序6而評估靜電吸盤2之吸盤釋放性能。
並且，針對該吸盤釋放性能之評估，將工件W在5秒內從靜電吸盤2之吸附面掉落之情況評估成○，再者將不掉落之情況評估成×。
將該些結果表示於表2。
從表1所示之結果明顯可知，於使用實施例之靜電吸盤裝置1f之時，藉由導電體4y(鋁板)對輔助靜電吸盤4x之吸附面的吸附及脫離，可控制工件W對靜電吸盤2之吸附面的吸附及脫離，再者，藉由剝下吸附於輔助靜電吸盤4x之吸附面的導電體4y(銅箔)，靜電吸盤2之吸附面中之工件吸附力下降，改善工件脫離時之吸盤解放性，除了吸盤釋放性能優良而可以解決靜電吸盤之工件脫離時因殘留電荷所引起之各種問題外，不需要直流電源之接通、斷開操作，也可以解決因電源之接通、斷開所引起之各種問題。再者，當注視順序6後之掉落率時，於使用實施例之靜電吸盤裝置1f之情況比起比較例，明顯改善其掉落率，由於僅存在輔助靜電吸盤4x，就可看出吸盤釋放性能被改善，故可理解即使在靜電吸盤和直流電源之間串聯連接電容器亦可以改善吸盤釋放性能。
1a‧‧‧靜電吸盤裝置
2‧‧‧靜電吸盤
2a‧‧‧介電體部
2b‧‧‧正電極
2c‧‧‧負電極
2x‧‧‧電容器
2y‧‧‧電阻
3‧‧‧直流電源
4‧‧‧靜電電容可變手段
4a‧‧‧可變電容器
W‧‧‧工件
C1、C2‧‧‧靜電電容

Claims (10)

  1. 一種靜電吸盤裝置，其特徵為：具備靜電吸盤、該靜電吸盤之直流電源、被串聯連接於上述靜電吸盤和直流電源之間的靜電電容可變手段，藉由使上述靜電電容可變手段之靜電電容變化，在對上述靜電吸盤施加電壓之狀態下，使該靜電吸盤之電荷量在工件吸附時之高值和工件脫離時之低值之間予以變化。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之靜電吸盤裝置，其中於將靜電吸盤之靜電電容設為C1，將靜電電容可變手段之靜電電容設為C2之時，將該靜電電容可變手段之靜電電容C2控制成在工件吸附時成為C1<C2，在工件脫離時成為C1>C2。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所記載之靜電吸盤裝置，其中上述靜電電容可變手段為可變電容器。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所記載之靜電吸盤裝置，其中上述靜電電容可變手段為導電體可脫離地吸附於具有特定吸附面積之吸附面的庫倫力型或強生拉貝克(Johnson-Rahbek)型之輔助靜電吸盤，藉由使導電體對該輔助靜電吸盤之吸附面的吸附面積予以變化，使靜電吸盤之靜電電容變化。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中之任一項所記載之靜 電吸盤裝置，其中上述靜電電容可變手段係由互相串聯連接之複數可變電容器及/或輔助靜電吸盤所構成。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中之任一項所記載之靜電吸盤裝置，其中上述靜電電容可變手段係由互相並聯連接之複數可變電容器及/或輔助靜電吸盤所構成。
  7. 如申請專利範圍第1至6項中之任一項所記載之靜電吸盤裝置，其中上述靜電電容可變手段被安裝於直流電源側。
  8. 一種靜電吸盤裝置，其特徵為：具備：靜電吸盤、該靜電吸盤之直流電源、被串聯連接於上述靜電吸盤和直流電源之間的電容器。
  9. 一種靜電吸盤裝置之控制方法，為被連接於直流電源之靜電吸盤之控制方法，其特徵為：在上述靜電吸盤和直流電源之間串聯連接靜電電容可變手段，藉由使該靜電電容可變手段之靜電電容變化，在維持對上述靜電吸盤施加電壓之狀態下，配合上述靜電吸盤之工件吸附及工件脫離之動作，使該靜電吸盤之電荷量在工件吸附時之高值和工件脫離時之低值之間予以變化。
  10. 如申請專利範圍第9項所記載之靜電吸盤裝置之控制方法，其中於將靜電吸盤之靜電電容設為C1，將靜電電容可變手段之靜電電容設為C2之時，將該靜電電容可變手段之 靜電電容C2控制成在工件吸附時成為C1<C2，在工件脫離時成為C1>C2。
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