JP2000277595A - 静電チャック - Google Patents

静電チャック

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JP2000277595A
JP2000277595A JP8118399A JP8118399A JP2000277595A JP 2000277595 A JP2000277595 A JP 2000277595A JP 8118399 A JP8118399 A JP 8118399A JP 8118399 A JP8118399 A JP 8118399A JP 2000277595 A JP2000277595 A JP 2000277595A
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electrostatic chuck
chuck electrode
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Atsushi Ito
淳 伊藤
Yasutaka Ito
康隆 伊藤
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Ibiden Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 チャック力の強い静電チャックを提供するこ
と。 【解決手段】 この静電チャック1では、セラミック質
からなる絶縁基材2の内部に形成されたチャック電極層
3,4への通電により、絶縁基材2のチャック面S1に
被吸着物W1が静電的に吸着される。基材面方向に隣接
して配置された異極のチャック電極層3,4間には遮蔽
体層6が介在されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、静電チャックに関
するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造プロセスにおいては、シリコ
ン等からなる半導体ウェハを固定した状態でエッチング
やスパッタリング等の工程が行われる。このような場
合、通常、チャック装置と呼ばれる固定手段が用いられ
る。特に近年では、静電気の力を利用して半導体ウェハ
を吸着するセラミック製の静電チャックが提案されるに
至っている。
【0003】従来におけるこの種の静電チャックでは、
絶縁基材の内部に正負のチャック電極層がそれぞれ形成
されている。両チャック電極層は櫛歯状を呈していて互
い違いに配置されている。そして、両チャック電極層に
直流電流を通電すると、チャック面の外部領域に好適な
電場が形成される結果、同面に半導体ウェハが静電的に
吸着されるようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体の製
造時においては、例えば大口径のウェハをチャックした
い場合や、多数のウェハチャックしたい場合がある。そ
して、これらの場合には強いチャック力をもってウェハ
を確実に固定し、位置ずれや脱落等の発生を未然に防止
する必要がある。
【0005】しかし、チャック電極層に対する印加電圧
を大きくしてチャック力を向上させようとすると、隣接
して配置されている異極のチャック電極層間を絶縁する
箇所に絶縁破壊が起こり、両チャック電極層間にて電流
がリークしてしまうおそれがある。ゆえに、従来では絶
縁基材に用いているセラミック質の絶縁耐圧を超えない
範囲でしか、印加電圧を設定することができなかった。
つまり、印加電圧の増大という方法にて充分なチャック
力を得ることは、実際上は困難な状況にあった。
【0006】本発明は上記の課題を解決するためなされ
たものであり、その目的は、チャック力の強い静電チャ
ックを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1に記載の発明では、チャック電極層への
通電により、絶縁基材のチャック面に被吸着物が静電的
に吸着される静電チャックにおいて、基材面方向に隣接
して配置された異極のチャック電極層間に、遮蔽体層が
介在されていることを特徴とする静電チャックをその要
旨とする。
【0008】請求項2に記載の発明は、請求項1におい
て、前記遮蔽体層は、導電性を有する材料からなるもの
であってアースされているとした。請求項3に記載の発
明は、請求項2において、前記遮蔽体層は、前記チャッ
ク電極層と同じ導電性材料を用いて形成されているとし
た。
【0009】以下、本発明の「作用」について説明す
る。請求項1に記載の発明によると、隣接して配置され
た異極のチャック電極層同士が遮蔽体層によって遮蔽さ
れるため、印加電圧を大きく設定したときでも、両チャ
ック電極層間の絶縁箇所の絶縁が破壊されにくくなる。
よって、両チャック電極層間にて電流がリークする心配
がなくなる結果、絶縁基材中に電場が形成されにくくな
り、逆にチャック面の外部領域に電場が形成されやすく
なる。このため、印加電圧の増大という方法にて強いチ
ャック力を得ることができる。
【0010】請求項2に記載の発明によると、導電性を
有する材料からなる遮蔽体層をアースしたことによっ
て、より確実な遮蔽効果を得ることができる。ゆえに、
より大きな印加電圧に耐えることができ、より強いチャ
ック力を実現することが可能となる。
【0011】請求項3に記載の発明によると、チャック
電極層を形成するための手法や設備を、遮蔽体層の形成
に流用することができるので、静電チャックの高コスト
化を回避することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した一実施
形態の双極タイプの静電チャック1を図1〜図3に基づ
き詳細に説明する。
【0013】図1,図2には、本実施形態の静電チャッ
ク1が概略的に示されている。この静電チャック1を構
成している絶縁基材2は、好適な誘電体である窒化アル
ミニウム焼結体からなる。ここでは絶縁基材2として円
盤状かつ厚さが約数mmのものを用いている。なお、本
実施形態の絶縁基材2は、被吸着物であるシリコンウェ
ハW1を複数枚同時にチャックとすべく、シリコンウェ
ハW1の数倍の面積となるように形成されている。絶縁
基材2のチャック面S1 (図1においては上側面)の表
面粗さRaは0.07μm以下、より好ましくは0.0
5μm以下、最も好ましくは0.03μm以下に設定さ
れていることがよい。その理由は、チャック面S1 の平
坦度が高くなるほど、即ち表面粗さRaが小さくなるほ
ど、ジョンソン・ラーベック力が増大するからである。
【0014】本実施形態の絶縁基材2は多層構造をなし
ていて、その内部にはチャック電極層3,4や図示しな
いヒータ電極層が形成されている。正極のチャック電極
層3及び負極のチャック電極層4は、ともにチャック面
S1から近い層に位置している。チャック面S1からチ
ャック電極層3,4の下面までの深さは、0.3mm程
度に設定されている。また、ヒータ電極層はチャック電
極層3,4よりも下層に位置している。なお、前記各電
極層3,4は、いずれもタングステンペースト等のよう
な導電性ペーストP1 を用いて印刷形成されている。各
電極層3,4の印刷厚さは、数十μm程度に設定されて
いる。
【0015】図2に示されるように、正極のチャック電
極層3は、絶縁基材2の外周に位置する半円弧状部分
と、その半円弧状部分から平行にかつ等間隔に延びる多
数の直線部分3aとにより構成されている。従って、全
体的にみると同チャック電極層3は櫛歯状を呈してい
る。負極のチャック電極層4も、半円弧状部分と多数の
直線状部分4aとにより構成されていて、同じく櫛歯状
を呈している。本実施形態では、これら2つのチャック
電極層3,4の形状・大きさはほぼ等しくなっている。
【0016】両者の直線状部分3a,4a同士は、図2
に示されるように互い違いに配置されている。即ち、異
極のチャック電極層3,4の直線状部分3a,4aは、
基材面方向に隣接して配置されている。隣接する直線状
部分3a,4a同士の離間幅L1 は、5mm以上に、好
ましくは10mm以上に設定されていることがよい。そ
の理由は、直線状部分3a,4a間に充分な絶縁領域を
確保しておくためである。
【0017】各々のチャック電極層3,4は、別個のス
ルーホールT1,T2によって非チャック面(図1では
下側面)S2 とそれぞれ層間接続されている。正極のチ
ャック電極層3に対応するスルーホールT1の下端面に
は、チャック用の直流電源5のプラス側が配線を介して
接続されている。一方、負極のチャック電極層4に対応
するスルーホールT2の下端面には、前記直流電源5の
マイナス側が配線を介して接続されている。
【0018】図1,図2に示されるように、この静電チ
ャック1は、絶縁基材2の内部に遮蔽体層6を備えてい
る。細長くて連続した形状の遮蔽体層6は、異極のチャ
ック電極層3,4の直線状部分3a,4a間に介在され
ている。前記遮蔽体層6は、絶縁基材2を基材厚さ方向
から投影したときにチャック電極層3,4と重なり合わ
ない位置関係にある。本実施形態の遮蔽体層6は、タン
グステンペースト等のような導電性ペーストP1 を用い
て印刷形成された複数のペースト印刷層6aからなる。
個々のペースト印刷層6aの印刷厚さは、チャック電極
層3,4と同じく数十μm程度に設定されている。従っ
て、4層構造をなすこの遮蔽体層6は、見掛け上、約2
00μm前後の厚さを有し、チャック電極層3,4より
も数倍厚くなっている。なお、遮蔽体層6における最下
層のペースト印刷層6aは、チャック電極層3,4と同
じ層に形成されている。そして、このような導電性の遮
蔽体層6は、非チャック面S2側にある図示しないアー
ス層に対し、スルーホールT3を介して層間接続されて
いる。
【0019】導電性を有する遮蔽体層6とチャック電極
層3,4との間のクリアランスは、少なくとも0.1m
m以上、好ましくは0.5mm以上確保されていること
が望ましい。このような事情に鑑みて、直線状部分3
a,4aの離間幅L1を10mmに設定した本実施形態
では、遮蔽体層6の幅を1mm〜8mm程度に設定して
いる。
【0020】次に、本実施形態の静電チャック1を製造
する手順の一例を紹介する。絶縁基材2の材料となるグ
リーンシートは、セラミックス粉末を主成分として含む
スラリーをドクターブレード法にてシート成形すること
により作製される。得られたグリーンシートの所定位置
には、必要に応じて、ドリル加工あるいは打ち抜き加工
等によりスルーホール形成用孔が形成される。
【0021】グリーンシート用のセラミックス粉末とし
ては、窒化アルミニウム、高純度アルミナ、窒化ほう
素、窒化珪素等の粉末が用いられる。そのなかでも特に
窒化アルミニウム粉末を選択することが望ましい。窒化
アルミニウムからなる焼結体は、耐熱性に優れるばかり
でなく、熱伝導性や耐プラズマ性に優れるため、静電チ
ャック1用の材料として極めて好都合だからである。
【0022】穴あけ加工を経たグリーンシートには、導
電性粒子としてのタングステン(W)粒子、分散溶媒、
分散剤等を含む導電性ペーストP1が印刷される。もっ
とも、W粒子の代わりに一炭化一タングステン(WC)
粒子を含む導電性ペーストP1 としてもよい。
【0023】引き続いて行われるペースト印刷工程で
は、まず穴あけ工程を経たグリーンシートを一枚ずつ印
刷装置にセットして、印刷面にメタルマスクを配置す
る。この状態で上記の導電性ペーストP1を印刷し、ス
ルーホールを形成する。次いで、スルーホール印刷がな
されたグリーンシートを今度はスクリーン印刷機にセッ
トし、印刷面にスクリーンマスクを配置する。この状態
で上記の導電性ペーストP1をパターン印刷することに
より、グリーンシート表面にチャック電極層3,4、遮
蔽体層6及びヒータ電極層を形成する。即ち、チャック
電極層3,4を形成するための手法や設備をそのまま流
用して遮蔽体層6を形成する。
【0024】次に、ペースト印刷工程を経た複数枚のグ
リーンシートを位置決めして重ね合わせ、この状態で所
定圧力にて真空プレスを行う。その結果、各グリーンシ
ートが一体化し、グリーンシート積層体が形成される。
そして、得られたグリーンシート積層体を、常圧下にて
数十℃〜百数十℃の温度で所定時間加熱することにより
乾燥させる。乾燥工程は積層工程の実施前に行われても
よい。
【0025】乾燥工程を経たグリーンシート積層体は、
本焼成工程の前にあらかじめ下記のような熱処理工程に
付すことにより、非酸化性雰囲気下で脱脂及び仮焼成さ
れる。
【0026】その後、熱処理工程を経て得られたグリー
ンシート仮焼体をるつぼ内に入れるとともに、必要に応
じてその周囲をセッターで包囲する。この状態のるつぼ
を焼成炉内にセットし、常法に従い1700℃以上の温
度にて所定時間かつ所定圧力でのホットプレス焼成を実
施する。その結果、窒化アルミニウム及び導電性ペース
トP1 が完全に同時焼結し、チャック電極層3,4、遮
蔽体層6等を備える窒化アルミニウム製の絶縁基材2が
形成される。
【0027】この後、研削機等を用いて絶縁基材2の外
形加工及び面出し加工を行い、これによりチャック面S
1 の表面粗さRaを所定範囲内に調整する。さらに、常
法に従ってコーティング及びI/Oピンのろう付け等の
諸工程を実施し、図1,図2に示されるような所望の静
電チャック1を完成させる。
【0028】以上のようにして製造された静電チャック
1の2つのチャック電極層3,4に直流電流の通電を行
うと、チャック面S1の外部領域に電場が形成される結
果、シリコンウェハW1と静電チャック1との間に静電
的な力が働く。その結果、チャック面S1に対してシリ
コンウェハW1 が吸着され、シリコンウェハW1の固定
が図られる。このとき、遮蔽体層6のもたらす遮蔽効果
によって、異極のチャック電極層3,4間の電流リーク
が未然に防止され、当該箇所における絶縁破壊が回避さ
れるようになっている。図3では、異極のチャック電極
層3,4間におけるリーク電流を想定し、その流れをA
1にて概念的に示している。つまり、本実施形態では、
遮蔽体層6が異極のチャック電極層3,4間にていわば
邪魔をしているため、リーク電流は絶縁基材2中を通り
抜けて流れにくい。ゆえに、リーク電流は、もっぱら絶
縁基材2の外部、即ちチャック面S1の外部領域を通り
抜けて流れざるをえないことになる。従って、絶縁基材
2中に電場が形成されにくくなる反面、逆にチャック面
S1の外部領域に電場が形成されやすくなると考えられ
る。
【0029】
【実施例及び比較例】[サンプルの作製]ここでは次に
示すような9種の被験体サンプルをあらかじめ作製し
た。
【0030】実施例1〜6であるサンプル1〜6は、外
径190mm、厚さ1.5mmの窒化アルミニウム製の
絶縁基材2からなるものとし、そのチャック面S1の表
面粗さRaを0.03μmに設定した。これらのサンプ
ル1〜6については、上記のような遮蔽体層6を設ける
こととした。そして、絶縁基材2を構成している窒化ア
ルミニウム焼結体の気孔率を、サンプル1では2%に、
サンプル2では3%に、サンプル3では5%に、サンプ
ル4では10%に、サンプル5では15%に、サンプル
6では20%にそれぞれ設定した。
【0031】比較例1〜3であるサンプル7〜9では、
遮蔽体層6を全く設けないこととした(図4参照)。そ
して、絶縁基材2を構成している窒化アルミニウム焼結
体の気孔率を、サンプル7では3%に、サンプル8で5
%に、サンプル9では10%にそれぞれ設定した。
【0032】なお、グリーンシートや導電性ペーストP
1の組成等については、各サンプル1〜9で全く同一と
した。 [比較試験及びその結果]そして、これら9種のサンプ
ルについて、以下のような比較試験を行った。
【0033】即ち、各静電チャック1のチャック面S1
に、高温条件(具体的には600℃)にて20mmφの
シリコンウェハW1 を載せ、所定印加電圧(具体的には
1000V)にて通電を開始することによりシリコンウ
ェハW1をチャックさせた。そして、チャック開始時点
から所定時間経過後にシリコンウェハW1を垂直方向に
引っ張り、それを剥がすのに要する力の大きさ(kg/
cm2)を測定した。その結果を表1に示す。 [結論]表1より明らかなように、実施例1〜6では焼
結体の気孔率が3%を超えているにもかかわらず、比較
例1に匹敵する強いチャック力を得ることができた。つ
まり、所定チャック力を達成すべく大きな直流電圧を印
加しても、絶縁破壊に到らなかったと結論付けられる。
一方、比較例2,3については、比較例1と比べてチャ
ック力の低下が著しく、図4にて概念的に示されるごと
く、絶縁破壊に到っていることが示唆される結果となっ
た。
【0034】
【表1】 以上の結果を総合すると、本実施形態によれば以下のよ
うな効果を得ることができる。
【0035】(1)この静電チャック1では、隣接して
配置された異極のチャック電極層3,4同士が遮蔽体層
6によって遮蔽される。そのため、印加電圧を大きく設
定したときでも、両チャック電極層3,4間の絶縁箇所
の絶縁が破壊されにくくなる。よって、両チャック電極
層3,4間にて電流がリークする心配がなくなる結果、
絶縁基材2中に電場が形成されにくくなり、逆にチャッ
ク面S1の外部領域に電場が形成されやすくなる。この
ため、印加電圧の増大という方法にて強いチャック力を
得ることができる。
【0036】また、本実施形態によると、気孔率を3%
以下にする等といった絶縁耐圧の改善を特に必要としな
いので、使用できるセラミック材料の適用範囲も従来に
比較して広くなるという利点がある。
【0037】(2)この静電チャック1では、遮蔽体層
6を導電性を有する材料からなるものとし、さらにその
遮蔽体層6をアースさせている。このように構成するこ
とで、より確実な遮蔽効果を得ることができる。ゆえ
に、より大きな印加電圧に耐えることができ、より強い
チャック力を実現することが可能となっている。
【0038】(3)この静電チャック1では、遮蔽体層
6をチャック電極層3,4と同じ導電性ペーストP1を
用いて形成している。従って、チャック電極層3,4を
形成するための手法や設備を、遮蔽体層6の形成に流用
することができる。ゆえに、遮蔽体層6を形成するため
に専用の設備を必要とすることもなく、工程数の増加を
招くこともない。よって、静電チャック1の高コスト化
を回避することができる。
【0039】なお、本発明の実施形態は以下のように変
更してもよい。 ・ 図5に示される別例の静電チャック11のように、
遮蔽体層6を実施形態のものよりも厚めに形成してもよ
い。同図では6層構造からなる遮蔽体層6が形成される
とともに、最下層のペースト印刷層6aの下面がチャッ
ク電極層3,4の下面よりも内層側に位置している。こ
のような別例の静電チャック11であると、より確実な
遮蔽効果を得ることができ、いっそう強いチャック力を
実現できる。
【0040】・ 図6に示される別例の静電チャック2
1のように、多層構造ではなくて一体構造をなすような
遮蔽体層22を形成してもよい。このような遮蔽体層2
2は、例えば絶縁基材2を構成する各グリーンシートの
同じ箇所に導電性ペーストP1を用いてスルーホール印
刷を行なうことにより得ることができる。このような別
例の静電チャック21であっても、より確実な遮蔽効果
を得ることができ、いっそう強いチャック力を実現でき
る。
【0041】・ 図7に示される別例の静電チャック3
1のように、ペースト印刷層6aが1層のみからなる遮
蔽体層6を、チャック電極層3,4と同層においてそれ
ら3,4間に介在されるように形成してもよい。
【0042】・ 遮蔽体層6,22は、実施形態や別例
のように細長く連続的に形成されている場合のみに限定
されない。例えば、不連続的ないし断続的に形成されて
いたとしても、ある程度の遮蔽効果を期待することがで
きる。
【0043】・ 導電性を有する遮蔽体層6,22をア
ースせずに用いても構わない。 ・ 遮蔽体層6,22を形成するための導電性を有する
材料は、実施形態にて例示したタングステンのみに限定
されることはなく、これとは異なる金属材料(例えばニ
オブやタンタル等)であってもよい。その際、ペースト
印刷後の焼成工程での同時焼結に耐えるべく、高融点金
属材料が選択されることがよい。勿論、高融点かつ導電
性のセラミック材料を用いても差し支えない。また、遮
蔽体層6,22は、チャック電極層3,4と必ずしも同
じ導電性材料を用いて形成されていなくてもよい。
【0044】・ 遮蔽体層6,22を、チャック電極層
3,4を形成するためのペースト印印刷工程と別個の工
程にて形成してもよく、その場合には例えばグリーンシ
ートに対するめっきやスパッタリング等の手法を採用す
ることが可能である。
【0045】次に、特許請求の範囲に記載された技術的
思想のほかに、前述した実施形態によって把握される技
術的思想をその効果とともに以下に列挙する。 (1) 請求項1乃至3のいずれか1つにおいて、前記
遮蔽体層は少なくとも前記チャック電極層よりも厚く形
成されること。従って、この技術的思想1に記載の発明
によれば、より確実な遮蔽効果を得ることができる。
【0046】(2) 請求項1乃至3、技術的思想1の
いずれか1つにおいて、前記遮蔽体層の下端部は、前記
チャック電極層の下面よりも内層側に位置しているこ
と。従って、この技術的思想2に記載の発明によれば、
より確実な遮蔽効果を得ることができる。
【0047】(3) 請求項2,3、技術的思想1,2
のいずれか1つにおいて、前記異極のチャック電極層間
の離間幅は少なくとも10mm以上であり、そこに介在さ
れる前記遮蔽体層と前記各チャック電極層との間のクリ
アランスは少なくとも0.5mm以上であること。
【0048】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1〜3に記
載の発明によれば、チャック力の強い静電チャックを提
供することができる。
【0049】請求項2に記載の発明によれば、より確実
な遮蔽効果が得られる結果、よりチャック力の強い静電
チャックを実現することが可能となる。請求項3に記載
の発明によれば、高コスト化を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態の静電チャックの概略断面図。
【図2】図1のA−A線断面図。
【図3】実施形態の静電チャックの要部拡大断面図。
【図4】比較例の静電チャックの要部拡大断面図。
【図5】別例の静電チャックの要部拡大断面図。
【図6】別例の静電チャックの要部拡大断面図。
【図7】別例の静電チャックの要部拡大断面図。
【符号の説明】
1,11,21,31…静電チャック、2…絶縁基材、
3,4…チャック電極層、6,22…遮蔽体層、 S1…
チャック面、W1…被吸着物としてのシリコンウェハ、
P1…導電性材料としての導電性ペースト。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】チャック電極層への通電により、絶縁基材
    のチャック面に被吸着物が静電的に吸着される静電チャ
    ックにおいて、基材面方向に隣接して配置された異極の
    チャック電極層間に、遮蔽体層が介在されていることを
    特徴とする静電チャック。
  2. 【請求項2】前記遮蔽体層は、導電性を有する材料から
    なるものであってアースされていることを特徴とする請
    求項1に記載の静電チャック。
  3. 【請求項3】前記遮蔽体層は、前記チャック電極層と同
    じ導電性材料を用いて形成されていることを特徴とする
    請求項2に記載の静電チャック。
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