JP2006148101A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置が開示される。リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、放射ビームのビーム光路に配置すべき物品を支持するようになされた物品サポートとを備えている。物品サポートは、複数の結合層を備えている。複数の結合層のうちの少なくとも1つは、複数の結合層のうちの他の結合層と対向する複数の凹所を備えており、それにより結合層と結合層の間の結合表面を小さくしている。
【選択図】図3
Description
1.ステップ・モード:ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:走査モードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:その他のモードでは、プログラム可能パターン化デバイスを保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
C 基板の目標部分
IF1、IF2 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
MA パターン化デバイス(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
PM 第1のポジショナ
PS、23 投影システム
PW 第2のポジショナ
P1、P2 基板アライメント・マーク
SO 放射源
W、21 基板
WT 基板テーブル
1、1’ ウェハ・テーブル(物品サポート部材、静電クランプ・ウェハ・テーブル)
2、2’、36 突起(節)
3 中央層(中間剛直層)
3’ より分厚い層
4、4’ 電極層(結合層、下部電極、下部電極アルミニウム層)
5、5’ 電極層(電極、結合層)
6、6’ 底部層(誘電体層)
7 層(誘電体層、頂部剛直層、ULE層)
7’ 誘電体層(頂部層)
8’ 含有物を含む領域
9 粒子
9’ 含有物
10’ ベース・プレート
11 凹所
12、29 内部節構造(内部節構造レイアウト)
13 結合表面
14 誘電体層の下部側面
15 中央充填ガス通路
16 内部節構造のドレーン
17 シール
18 環境
19 導電材料(一時層)
20 充填プレート構造(充填プレート)
22 位置決めデバイス
24 液体膜
25 頂部表面
26 センサ・エレメント(センサ)
27 カバー・プレート
28 懸垂構成
30 ダクト構造
31 積層エレメント
32 剛直カラム
32 第1のカラム(剛直カラム)
33 第1のカラムの第1の側面
34 第2のカラム
35 第2のカラムの第2の側面
37 第1の側面と第2の側面を結合している結合層
38 フレームワーク
39 ミラー
Claims (34)
- 放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、
前記放射ビームのビーム光路に配置すべき物品を支持するようになされた、複数の結合層を備えた物品サポートとを備えたリソグラフィ装置であって、
前記複数の結合層のうちの少なくとも1つが、前記複数の結合層のうちの他の結合層と対向する複数の凹所を備え、それにより前記結合層と結合層の間の結合表面を小さくしているリソグラフィ装置。 - 前記複数の結合層のうちの第1の結合層が、前記複数の結合層のうちの第2の結合層と対向する前記複数の凹所を形成している複数の突起を備え、前記第1及び前記第2の結合層が結合層によって結合された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の結合層が平らな結合表面を備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の結合層の各々が剛直材料を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記剛直材料が、セラミック材料、結晶性材料、ULE(登録商標)、ZERODUR(登録商標)、キン青石及びサファイヤ材料からなるグループから選択される材料を含む、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記結合層が陽極結合層である、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記結合層がアルミニウムを含み、前記剛直層がアルカリ金属を含む、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記物品を前記物品サポートにクランプするために、前記結合層が静電クランプ電極の一方の電極を形成し、前記複数の結合層のうちの1つが誘電体被覆層を形成している、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記誘電体被覆層が外側に向かって対向する複数の突起を備えた、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記物品サポートを前記リソグラフィ装置によって提供されるベース平面にクランプするために、第2の結合層が静電クランプ電極のもう1つの電極を形成している、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2の結合層が、外側に向かって対向する複数の突起を備えた結合層で覆われた、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 少なくとも前記複数の凹所が相互接続され、且つ、共通ドレーンにドレーンされた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記共通ドレーンが、前記リソグラフィ装置内に提供される圧力環境と連絡するようになされた、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記圧力環境が真空圧力環境若しくは充填ガス圧力環境である、請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置の放射ビームの光路に配置すべき物品を支持するようになされた、複数の結合層を備えた物品サポートであって、前記複数の結合層のうちの1つが、前記複数の結合層のうちの他の結合層と対向する複数の凹所を備え、それにより前記結合層と結合層の間の結合表面を小さくしている物品サポート。
- 前記物品サポートが、製造デバイス中で処理される基板、リソグラフィ投影マスク、マスク処理装置、マスク製造装置或いは光学エレメントを支持するようになされた、請求項15に記載の物品サポート。
- 剛直材料でできた、リソグラフィ装置に使用するための複数の対象物を結合する方法であって、
剛直材料でできた、第1の側面を備えた第1の対象物を提供するステップと、
剛直材料でできた、第2の側面を備えた第2の対象物を提供するステップと、
結合表面間の接触を少なくするために、前記第2の対象物の少なくとも前記第2の側面に複数の凹所のレイアウトを生成するステップと、
前記第1及び第2の側面を結合することによって前記第1及び前記第2の対象物を結合するステップとを含む方法。 - 前記複数の対象物のうちの少なくとも1つが層として形成される、請求項17に記載の方法。
- 結合後、前記少なくとも1つの対象物のもう一方に結合された薄い層を提供するために前記少なくとも1つの層が機械加工される、請求項18に記載の方法。
- 前記機械加工が、研磨、研削、化学機械処理若しくはそれらの任意の組合せを含む、請求項19に記載の方法。
- 前記結合ステップが陽極結合ステップを含む、請求項17に記載の方法。
- 前記レイアウトが前記複数の凹所をドレーンするための共通ドレーンを提供するようになされた、請求項17に記載の方法。
- 前記複数の凹所をドレーンするステップと、前記複数の凹所を密閉するステップとをさらに含む、請求項22に記載の方法。
- 前記剛直材料が、セラミック材料、結晶性材料、ULE(登録商標)、ZERODUR(登録商標)、キン青石及びサファイヤ材料からなるグループから選択される材料を含む、請求項23に記載の方法。
- 結合剛直材料でできた、リソグラフィ装置に使用するための結合構造であって、
剛直材料でできた、第1の側面を備えた第1の対象物と、
剛直材料でできた、前記第1の側面と対向する突起が形成された第2の側面を備えた第2の対象物と、
前記第1及び第2の側面を結合する結合材料とを備えた結合構造。 - 前記結合材料がアルミニウム材料であり、且つ/又は前記剛直材料が前記第1及び第2の対象物を陽極結合するためのアルカリ金属を含む、請求項25に記載の結合構造。
- 前記剛直材料が、セラミック材料、結晶性材料、ULE(登録商標)、ZERODUR(登録商標)、キン青石及びサファイヤ材料からなるグループから選択される材料を含む、請求項25に記載の結合構造。
- 前記対象物のうちの少なくともいずれか一方が複数の層を備えた、請求項25に記載の結合構造。
- 前記構造が、リソグラフィ装置のビーム光路に配置すべき物品を支持するようになされた物品サポートを形成している、請求項25に記載の結合構造。
- 前記構造が、前記物品サポート中にダクト構造を形成している、請求項29に記載の結合構造。
- 前記構造が、基板を液浸フォトリソグラフィ装置に収納するための充填構造を形成している、請求項25に記載の結合構造。
- 前記構造が、センサ・エレメント若しくはミラーを懸垂するための懸垂構造を形成している、請求項25に記載の結合構造。
- 放射ビームを生成するステップと、
物品サポートを使用して物品を前記放射ビームのビーム光路中で支持するステップと、
前記放射ビームをパターン化するステップと、
パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するステップとを含むデバイス製造方法であって、
前記物品サポートが複数の結合層を備え、前記複数の結合層のうちの1つが、前記複数の結合層のうちの他の結合層と対向する複数の凹所を備え、それにより前記結合層と結合層の間の結合表面を小さくしている方法。 - 請求項33に記載の方法に従って製造されたデバイス。
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