JP7369146B2 - ノボラック／ｄｎｑベースの化学増幅型フォトレジスト - Google Patents

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Description

本発明の分野は、集積回路（ＩＣ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）デバイス、及びディスプレーデバイスを製造するために使用されるポジ型感放射線性水性塩基可溶性フォトレジスト組成物に関する。
フォトレジスト組成物は、コンピュータチップ、集積回路、発光ダイオード（ＬＥＤ）デバイス及びディスプレーの製造など、微細化された電子部品の製造のためのマイクロリソグラフィプロセスに使用されている。これらのプロセスでは、一般的に、先ずフォトレジスト組成物の膜を、集積回路の製造に使用されるケイ素ウェハなどの基材に施す。次いで、コーティングされた基材をベークして、フォトレジスト組成物中の溶媒を蒸発させ、基材上にコーティングを定着させる。基材のコーティング及びベークされた表面は次に画像形成放射線による像様露光に付される。
この放射線露光は、コーティングされた表面の露光された領域において化学的な変化を引き起こす。可視光線、紫外線（ＵＶ）、電子ビーム及びＸ線放射エネルギーが、現在マイクロリソグラフィプロセスにおいて常用されている画像形成放射線種である。この像様露光の後、コーティングされた基材を現像剤溶液で処理して、基材のコーティングされた表面の放射線露光された領域または未露光の領域のいずれかを溶解、除去する。
フォトレジスト組成物にはネガ型とポジ型の二つのタイプのものがある。ポジ型フォトレジスト組成物が放射線に像様露光されると、放射線に曝された領域のレジスト組成物が、現像剤溶液に対して溶け易くなり（例えば、塩基可溶化基の放出または溶解防止剤の光分解）、他方で、未露光の領域のフォトレジストは、このような溶液に対して比較的不溶性のまま維持される。それ故、露光されたポジ型レジストを現像剤で処理すると、露光された領域のフォトレジストコーティングが除去され、そしてコーティング中にポジ型画像が形成され、それによって、フォトレジスト組成物が堆積していたところの下にある基材表面の所望の部分が裸出される。
水性塩基で現像可能なポジ作用型の感光性フォトレジスト組成物の使用は従来技術において既知である。このような従来技術の殆どは、フェノール系もしくは（メタ）アクリレート樹脂をベースとする化学増幅型フォトレジストか、またはノボラック／ジアゾナフトキノンをベースとする非化学増幅型フォトレジストのいずれかに関する。ノボラック／ジアゾナフトキノンフォトレジストでは、露光されたレジスト領域において水性塩基中でのノボラック樹脂のより迅速な溶解をもたらすジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）の光分解を介して、ポジ型画像が形成されるものであるが、このようなタイプのフォトレジストはｉ線（３６５ｎｍ）などのより長いＵＶ波長で使用され、そして集積回路（ＩＣ）の製造において長年の間、主力のフォトレジストであった。
化学増幅型ポジ型フォトレジストでは、塩基可溶性樹脂、通常はフェノール系樹脂または（メタ）アクリレート樹脂が、元は塩基可溶化部分をマスクしていたレジスト上にある保護基の酸触媒解裂によってこの樹脂を水性塩基現像可能なものとする放射線に曝されたレジスト領域において、放出される。これらの化学増幅型フォトレレジストでは、光酸発生剤（ＰＡＧ）成分の光分解によって、触媒作用酸（ｃａｔａｌｙｔｉｃ ａｃｉｄ）が形成される。これらのタイプのレジストは、典型的には、ＩＣの製造においてより高い解像度を追求して、比較的短い波長で使用される。
厚膜用途では、慣用の（ジアゾナフトキノン）ＤＮＱ／ノボラック樹脂プラットフォームは、特に比較的厚い膜では、それらの高い膜吸収性の故に、傾斜のついたプロフィルを生成する。他方で、ポジ型化学増幅型（ＣＡ）プラットフォームは、５～１０μｍ膜厚で十分な性能を供することができるが、これらのレジストに従来使用されてきたポリマーは、慣用のノボラック樹脂よりもかなり高額である。また、ポスト露光ベークを必要とするポジ型化学増幅型レジストのための或る種の設計は、ＩＣデバイスのスループットに対して悪影響を及ぼす虞がある。コスト及びデバイススループットもディスプレーの製造に関連する用途にとって一つの問題であるが、この用途でのレジストへの厚さの要求は比較的低い（１～３μｍ）。デバイススループットの問題に対する潜在的な効果は、塩基可溶化部分をマスクする保護基が、塩基可溶化基を脱マスクするために、それらの解裂のために高い活性化エネルギー酸を有する或る種の化学増幅型レジストにおいて起こる。これらの高い活性化エネルギー基は、酸によって触媒作用により除去可能であるものの、この除去は、ポスト露光ベークステップを必要とし、これには時間がかかる。また、高い活性化エネルギーポジ型化学増幅型レジストでは、この設計に伴う空中塩基汚染に対する敏感さの問題もある。これは、良好な解像度を有するために、これらのレジストが、高活性化エネルギー基の解裂の程度と露光されたレジスト膜の溶解との間に高い非線形度を有するためである。そのため、露光後に表面上で酸がたとえ僅かでも枯渇すると、不溶性レジスト表面層としてそれ自体明らかになる表面上での低い程度のこれらの基の脱保護を、露光とベークとの間の遅延時間において引き起こす。これは、Ｔトップと称されるポスト露光遅延効果である、というのも、結果生じた形成されたポジ型画像は、製造時の欠陥及び低いデバイス収率の結果となる、望ましくない大きなＴ字型を有するからである。
"Ｄｉａｚｏｎａｐｔｈｏｑｕｉｎｏｎｅ－ｂａｓｅｄ Ｒｅｓｉｓｔ， Ｒａｌｐｈ Ｄａｍｍｅｌ"，ＳＰＩＥ，Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｐｒｅｓｓ，Ｖｏｌｕｍｅ ＴＴ １１，Ｃｈａｐｔｅｒｓ ２ ａｎｄ ３
本発明の課題の一つは、ディスプレーの製造において比較的薄い膜（１～２μｍ）の用途でも使用できるが、厚膜用途（３～１０μｍ）で使用するのにも十分にフレキシブルである、慣用の化学増幅型システムとノボラックジアゾキノンとの間のハイブリッドに基づくコスト競争力の高いレジストシステムを提供することである。
本発明は、慣用のノボラック／ＤＮＱレジストと化学増幅型レジストとの間のハイブリッドである新規のレジストを記載するものである。具体的には、このハイブリッドは、ノボラックポリマーが、そのフェノール官能基がアセタール基で部分的にブロックされているものである。このタイプのアセタールポリマーは、ノボラック及びＤＮＱ化合物の両方を、例えば、モノビニルエーテル及び／またはジビニルエーテル（ＤＶＥ）と低温で反応させることによって製造される。加えて、この新規ハイブリッドレジストシステムの一つの態様では、モノビニルエーテル保護基から誘導されるアセタールは、官能化結合点が非感酸性連結基または第二の酸解裂性アセタール部分のいずれかを介していてよいＤＮＱ部分で官能化されていることができる。
厚膜の用途の一部の態様では、これらの新規ハイブリッドは、最小で約４重量％までの低濃度のＤＮＱが組み込まれていることができる。これらの用途では、このような態様は、レジスト膜におけるＵＶ光の低吸収を保証することにより、これらのハイブリッドシステムを、厚膜を必要とするＩＣデバイスにおける製造など薄膜用途において有用なものとする。具体的には、慣用のＤＮＱレジストは、十分な溶解防止及びコントラストを得るためには、典型的には１７～３０％のＤＮＱを含む。標準的なノボラック／ＤＮＱレジストは、ここに記載の新規のハイブリッドシステムよりもかなり高い、μｍあたりの吸収を示す。そのため、標準的なノボラック／ＤＮＱは、ＤＮＱ光活性部分（ＰＡＣ）がブリーチされるものの、このブリーチングは厚膜用途では不十分であり、その結果、ＰＡＣが、厚膜のより深いところのかなりの程度で未ブリーチの状態で残る。これにより、レジストのプロフィルが傾斜しているかまたはスカムの付いたプロフィルを有するようになり、デバイスの収率に悪影響を及ぼす。また、ここに記載の新規ハイブリッドレジストシステムでは、アセタール保護の使用量は、ジビニルエーテル保護基による方策を使用する場合には、比較的少ない（例えば、ノボラック中で全フェノール部分の７モル％未満の保護が必要）。そのため、厚膜用途では、この新規プラットフォームは、吸収が少ないＤＮＱをかなり少ない濃度で及び慣用の化学増幅型システムと比べて少ない保護基保護率を用いて高防止システムを提供する。その結果、真っ直ぐな壁のプロフィルを有するレジスト画像を提供することによる本発明の厚膜の態様は、慣用のノボラック／ＤＮＱシステムで起こる傾斜の付いたプロフィルの問題を解決する。
より薄いレジスト膜を必要とするディスプレー用途では、ここに記載の新規ハイブリッドレジストシステムは、より多くのモノビニルエーテル保護とより多量のＤＮＱ ＰＡＣを有するノボラックを用いて調合し得る、というのも吸光度が決定的ではないからである。この方策は、高い解像度、コントラストを持つが、ポスト露光ベーク（ＰＥＢ）を必要とせず、製造スループットを高め、及び有害なポスト露光遅延効果、例えばかなりの程度のＴトップを有する図形の形成の可能性を低減させる、薄膜フォトレジストを有利に提供する。理論により拘束されるものではないが、これらの用途では、比較的薄い膜と結合した低活性化エネルギーアセタール保護基は、露光領域においてレジストフィルムが露光段階中に完全に脱保護化されて、ポスト露光ベーク処理の必要性を排除することを保証するのを助け得るために、ＰＥＢを不要とし得る。また、アセタール基は露光の間に脱保護化するので、光酸発生剤（ＰＡＧ）からの光酸の発生と、アセタールを脱保護するこの光酸の反応との間のタイムラグがない。それ故、露光の間のこの脱保護は、有利な空中汚染物が露光されたレジスト表面で光酸を消費する機会を減らして、画像形成されたレジスト図形の深刻なＴトップなどの薄膜レジストにおけるポスト露光遅延効果を回避し得る。画像形成されたレジスト図形の深刻なＴトップはデバイス収率を低下させ得るので、これは、解決することが重要な問題である。また、本発明による薄膜においてＰＥＢをなしで済ませることができるためには、本発明の態様は、プロセス時間を短縮することによりデバイススループットを高めるという問題を解決することを可能にする。
最後に、この新規ハイブリッドレジストシステムの厚膜または薄膜バリエーションのいずれにおいても、これらは反応後のポリマーの抽出または単離をすることなく直接製造するのが簡単な低コストレジストプラットフォームである。
本発明は、次のものを含む化学増幅型レジスト組成物に関する：
ポリマー成分、
光酸発生剤成分（ＰＡＧ）；
塩基成分、
光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分；
塩基成分、
溶剤成分、場合により及び
複素環式チオール成分。
前記ポリマー成分は、次のものを含むノボラック誘導体である：
フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位、及び
酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位。
前記酸解裂性アセタール部分は、次のものからなる群から選択される：
ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分；
ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単離を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー中に連結点を形成する部分を含む二官能性アセタール、及び；
これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物。
前記ＰＡＣ成分は、次のものからなる群から選択される：
ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣで官能化された前記アセタール含有部分；
フリーのＰＡＣ成分、
及び、これらの二種のＰＡＣ成分の混合物。
また、本発明は、基材上に前記組成物をコーティングする方法及び前記組成物のフォトレジストとしての使用にも関する。
図１は、フリーのＰＡＣ成分として使用し得る及び／またはアセタール含有連結基を介してフェノール部分上でポリマー成分に結合するＰＡＣｂ部分を形成するために使用し得るＤＮＱ ＰＡＣ化合物の非限定的な例を示す。 図２は、スルホン酸及び他の強酸を発生する光酸発生剤の非限定的な例を示す。 図３は、ＨＣｌ、ＨＢｒのいずれかを発生する光酸発生剤の非限定的な例を示す。 図４は、厚膜レジスト調合物１を用いて得られたＳＥＭ画像である。 図５は、厚膜レジスト比較調合物１を用いて得られたＳＥＭ画像である。
前記の一般的な説明及び以下の詳細な説明の双方とも例示、説明のためのものであって、特許請求の範囲に記載の発明を減縮するものではないと理解するべきである。本願において、他に具体的に記載がなければ、単数形の使用は複数を包含し、単数形は「少なくとも一つ」を意味し、そして「または」の使用は「及び／または」を意味する。更に、「含む」という記載、並びに「含まれる」などの他の動詞形の使用は限定的ではない。また、「要素」または「成分」などの記載は、他に具体的に記載がなければ、一つの構成単位を含む要素及び成分、並びに１つ超の構成単位を含む要素または成分を包含する。他に指示が無ければ、ここで使用する「及び」という接続詞は包括的であることを意図しており、「または」という接続詞は排他的であることを意図していない。例えば、「またはその代わりに」というフレーズは、排他的であることを意図している。ここで使用する「及び／または」という記載は、単一要素の使用も含む、前述される要素の任意の組み合わせを指す。
ここで使用する各章の表題は、文書構成を目的としたものであって、記載の主題を限定するものと解釈するべきではない。限定はされないが特許、特許出願、論文、書籍及び専門書を始めとした本願で引用する全ての文献または文献の一部は、全ての目的に関してそれらの内容の全てが本明細書中に掲載されたものとする。ここに掲載されたものとする文献及び類似の資料の一つ以上における用語の定義が、本願明細書における定義と矛盾する場合は、本願の定義が優先する。
ここで、「連結点」という用語は、本発明のいずれのポリマーについて言及する時も、他のポリマー鎖への分岐点及び／または他のポリマー鎖への架橋点を指し、ここで、分岐度及び／または架橋度は、生じる分岐状及び／または架橋されたポリマーが十分に低い分子量、すなわちポリマーがスピンキャスト溶剤などの溶剤中に不溶性となるゲル点に達するのを避けるのに十分に低い分子量をなおも有する程度のものである。
ここで、他に記載がなければ、アルキルとは、線状、分岐状（例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ－ブチル及び類似物）、または環状（例えばシクロヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル及び類似物）多環式（例えばノルボルニル、アダマンチル及び類似物）であることができる炭化水素基を指す。これらのアルキル部分は、以下に記載のように、置換されていても、置換されていなくともよい。アルキルという用語は、Ｃ１～Ｃ２０炭素を有するこのような部分を指す。構造的な理由から、線状アルキルはＣ１から始まり、他方で分岐状アルキル及び環状アルキルはＣ３から始まり、そして多環式アルキルはＣ５から始まると理解される。更に、以下に記載のアルキルから誘導される部分、例えばアルキルオキシ、ハロアルキルオキシは、他に指定が無ければ、同じ炭素数範囲を有するものと理解される。前記とは異なるアルキル基の長さが規定される場合は、アルキルの前記の定義は、前記の全てのタイプのアルキル部分を包含する点でなおも有効であり、及び所与のタイプのアルキル基の最小炭素数に関しての前記の構造に関する考察はなおも該当する。
アルキルオキシ（別称ではアルコキシ）は、オキシ（－Ｏ－）部分を介して結合した先に定義したようなアルキル基を指す（例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、１，２－イソプロポキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ及び類似物）。これらのアルキルオキシ部分は、以下に記載のように、置換されていても、置換されていなくともよい。
ハロまたはハライドは、有機部分に一つの結合によって接続したハロゲン、すなわちＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉを指す。
ハロアルキルは、水素のうちの少なくとも一つが、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、または（１超のハロ部分が存在する場合には）これらの混合物からなる群から選択されるハライドによって置き換えられている、先に定義したものなどの、線状、環状または分岐状の飽和アルキル基を指す。フルオロアルキルは、これらの部分の特定のサブグループである。
フルオロアルキルは、水素が部分的にもしくは完全にフッ素に置き換えられた先に定義したような線状、環状または分岐状飽和アルキル基を指す（例えば、トリフルオロメチル、パーフルオロエチル、２，２，２－トリフルオロエチル、パーフルオロイソプロピル、パーフルオロシクロヘキシル及び類似物）。これらのフルオロアルキル部分は、完全にフッ素化されていない場合には、以下に記載のように置換されていても、置換されていなくともよい。
フルオロアルキルオキシは、オキシ（－Ｏ－）を介して結合した先に定義したようなフルオロアルキル基を指し、これは完全にフッ素化されていてよいか（別の言い方ではパーフルオロ化）またはその代わりに部分的にフッ素化されていてよい（例えば、トリフルオロメチルオキシ、パーフルオロエチルオキシ、２，２，２－トリフルオロエトキシ、パーフルオロシクロヘキシルオキシ及び類似物）。これらのフルオロアルキル部分は、完全にフッ素化されていない場合には、以下に記載のように置換されていても、置換されていなくともよい。
ここで、Ｃ１から始まる可能な炭素原子の範囲を有するアルキル、アルキルオキシ、フルオロアルキル、フルオロアルキルオキシ部分、例えば非限定的な例として「Ｃ１～Ｃ２０アルキル」または「Ｃ１～Ｃ２０フルオロアルキル」に言及するときは、この範囲は、Ｃ１からは線状アルキル、アルキルオキシ、フルオロアルキル及びフルオロアルキルオキシを包含するが、Ｃ３からは分岐状アルキル、分岐状アルキルオキシ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、分岐状フルオロアルキル及び環状フルオロアルキルのみを指定する。
ここでアルキレンという用語は、線状、分岐状または環状であることができ、二つ以上の結合手を有する炭化水素基を指す（二つの結合手を有するものでは、例えばメチレン、エチレン、１，２－イソプロピレン、１，４－シクロヘキシレン及び類似物、三つの結合手を有するものでは、例えば１，１，１－置換メタン、１，１，２－置換エタン、１，２，４－置換シクロヘキサン及び類似物が挙げられる）。この場合もまた、可能な炭素範囲、例えば非限定的な例としてＣ１～Ｃ２０を指定する時は、この範囲は、Ｃ１からは線状アルキレンを包含するが、Ｃ３からは分岐状アルキレンまたはシクロアルキレンのみを指定する。これらのアルキレン部分は、以下に記載のように、置換されていても、置換されていなくともよい。
モノ及びオリゴマー性アルキレンオキシアルキレンという用語は、単純なアルキレンオキシアルキレン部分、例えばエチレンオキシエチレン（－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－）、プロピレンオキシプロピレン（－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－）及び類似物、並びにオリゴマー性材料、例えばトリ（エチレンオキシエチレン）（－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－）、トリ（プロピレンオキシプロピレン）（－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－）及び類似物の両方を包含する。
ここで、アリールまたは芳香族基という用語は、６～２４個の炭素原子を含むこのような基を指し、例えばフェニル、トリル、キシリル、ナフチル、アントラシル、ビフェニル類、ビス－フェニル類、トリス－フェニル類、及び類似物を包含する。これらのアリール基は、前記の適当な置換基のうちの任意のもの、例えば前記のアルキル、アルコキシ、アシル、またはアリール基によって更に置換されていてよい。
ノボラックという用語は、構造修飾語は使用せずにここで使用される場合は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド及び類似物などの水性塩基中に可溶性のノボラック樹脂を指す。
ここで、アリーレンという用語は、二つ以上の結合手（例えば２～５個）を有する芳香族炭化水素部分を指し、この部分は、単一のベンゼン部分（例えば二つの結合手を有する１，４－フェニレン、１，３－フェニレン及び１，２－フェニレン；三つの結合手を有する１，２，４－置換ベンゼン、１，３，５－置換ベンゼン及び類似物）、二つの結合手を有する多環式芳香族部分、例えばナフタレン、アントラセン、ピレン及び類似物から誘導される部分、または二つの結合手を有する連鎖した複数のベンゼン環（例えばビフェニレン）を指す。これらの例では、芳香族部分が縮合芳香族部分である場合には、これらは縮合環アリーレンと称することができ、より具体的には、例えばナフタレニレン、アントラセニレン、ピレニレン及び類似物と命名される。縮合環アリーレンは、以下に記載するように置換されていてもまたは置換されていなくともよく、追加的にこれらの縮合環アリーレンは、二つの結合サイトを有する炭化水素置換基を縮合環上に含んでいてもよく、そうして、追加的な脂肪族または不飽和環を形成し、縮合環への結合によって５～１０個の炭素原子を有する環を形成してよい。
ここで、「ＰＡＧ」という用語は、他に記載がなければ、２００～３００ｎｍ、ｉ線、ｈ線、ｇ線及び／または広帯域照射などのディープＵＶまたはＵＶ照射下に酸（別称では光酸）を発生することができる光酸発生剤を指す。前記の酸は、スルホン酸類、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＡｓＦ６、及び類似物であってよい。
ここで、ＰＡＣという用語は、ジアゾナフトキノン成分を指し、但し、この部分は、スルホニル部分（－ＳＯ２－）で更に置換され、そしてスルホネートエステル（－ＳＯ２－Ｏ－）結合を介してフェノール系化合物に結合している。このスルホネートエステル結合を形成するフェノール系化合物は、一つ超のフェノール性ＯＨ部分で置換されたフェノール系化合物であってよく、その結果、ＰＡＣは、フェノールＯＨの一つ超がこのスルホネート結合を形成しているこのようなフェノール系化合物であってよい。これらのフリーのＰＡＣ材料の非限定的な例は、“Ｄｉａｚｏｎａｐｔｈｏｑｕｉｎｏｎｅ－ｂａｓｅｄ Ｒｅｓｉｓｔ，Ｒａｌｐｈ Ｄａｍｍｅｌ”，ＳＰＩＥ，Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｐｒｅｓｓ，Ｖｏｌｕｍｅ ＴＴ １１，Ｃｈａｐｔｅｒｓ ２ ａｎｄ ３（非特許文献１）に記載されている。
ここで、縮合芳香族環という用語は、互いに縮合された２～８個の炭素ベースの芳香族環を含む炭素ベースの多環式芳香族化合物（例えばナフタレン、アントラセン、及び類似物）を指し、これらの縮合芳香族環は、光酸発生剤（ＰＡＧ）に懸垂した縮合芳香族環アリール基のように、アリール部分の一部として有機部分への一つの結合手を有してよいか、または例えばＰＡＧに結合した置換基におけるスペーサのように、アリーレン部分の一部として二つの結合手を有してよい。ＰＡＧでは、このような置換基は、共鳴非局在化によって相互作用し得る他の置換基と共に、３６５ｎｍ及び／または広帯域放射でより強い吸収を与え、そしてこれらの波長でより効果的なものとなる。
ここで、「アレーン」という用語は、一つの環を含むかまたは互いに縮合した２～８個の炭素ベース芳香族環を含む芳香族炭化水素部分を包含する。
ここで、「ヘテロアレーン」という用語は、その芳香族性が保持されるようにであるが、一つ以上の三価または二価のヘテロ原子を含むアレーンを指す。このようなヘテロ原子の例は、Ｎ、Ｏ、Ｐ及びＳである。非限定的な例としては、このようなヘテロアレーンは１～３個のこのようなヘテロ原子を含んでよい。
本明細書において他に指定がなければ、「置換された」という用語は、アリール、アルキル、アルキルオキシ、フルオロアルキル、フルオロアルキルオキシ、縮合芳香族環、アレーン、ヘテロアレーンについて言及する時は、置換されていないアルキル、置換されたアルキル、置換されていないアリール、アルキルオキシアリール（アルキル－Ｏ－アリール－）、ジアルキルオキシアリール（（アルキル－Ｏ－）２－アリール）、ハロアリール、アルキルオキシ、アルキルアリール、ハロアルキル、ハライド、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、アセチル、アルキルカルボニル、ホルミル、エテニル（ＣＨ２＝ＣＨ－）、フェニルエテニル（Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－）、アリールエテニル（アリール－ＣＨ＝ＣＨ－）、及びエテニレンアリーレン部分（例えばＡｒ（－ＣＨ＝ＣＨ－Ａｒ－）ｚ（ｚは１～３）を含む置換基からなる群から選択される一つ以上の置換基も含むこれらの部分のうちの一つを指す。置換されたアリール及び置換されたアリールエテニル置換基の非限定的な具体例は、次のものであり、
ここで
Figure 0007369146000001
 は結合手を表す：
Figure 0007369146000002
 他は、置換基が前記の置換基のいずれかから選択された置換されたアリール、及び置換されたエテニル類である。同様に、「置換されていない」という記載は、水素以外の置換基が存在しない同部分を指す。
「クエンチャ系」という用語は、レジスト調合物において、ｉ線または広帯域放射線に露光される間に光酸発生剤によって発生された酸を捕獲するために作用し得るアミン類などの基本成分の集合体を指す。
「固形成分」という用語は、フォトレジスト調合物中で溶剤以外の成分を指す。このような成分は固形物または液体であってよい。
「ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護して、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー中に連結点を形成する二官能性アセタール含有部分」というフレーズは、非限定的な例として以下の構造に示すように、二つの異なるフェノール系ヒドロキシノボラック繰り返し単位を保護する二官能性アセタール部分が形成する時に生じる、二つのノボラックポリマー主鎖間のジアセタール結合点を表すことを意図したものであり、ここで、有機二官能性スペーサ部分「スペーサ」は、二つのノボラックポリマー鎖を連結する二官能性アセタール部分を含む二つのアセタール部分を連結し、この例では、
Figure 0007369146000003
 は、第一のノボラックポリマーＡ及び第二のノボラックポリマーＢへの、ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を連結及び保護するこの二官能性アセタール部分の結合手を意味する。
「ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール」というフレーズは、非限定的な例として示した以下の構造において、ヒドロキシフェノール系ノボラック繰り返し単位を保護するモノアセタール部分を表すことを意図したものであり、ここで、直接原子価結合などの連結部分、または有機スペーサ基は、前記アセタール部分を光活性ジアゾナフトキノン化合物に連結し、この例では、
Figure 0007369146000005
 ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むこのアセタールによって保護された前記ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を含むノボラックポリマー鎖を意味する。
本発明のレジスト組成物の一般的な態様
本発明のレジスト組成物の一般的な態様は、次のものを含む化学増幅型レジスト組成物に関する：
ポリマー成分、
光酸発生剤成分（ＰＡＧ）；
塩基成分、
光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分；
塩基成分、
溶剤成分、場合により及び
複素環式チオール成分。
本発明の組成物の前記の一般的な態様では、ポリマー成分は、次のものを含むノボラック誘導体である：
フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位、及び
酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位。
本発明の組成物の前記の一般的な態様では、酸解裂性アセタール部分は、次のものからなる群から選択される：
ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分；
ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣで官能化された部分を含むアセタール；
ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー中に連結点を形成する二官能性アセタール含有部分、及び；
これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物。
本発明の組成物の前記の一般的な態様では、ＰＡＣ成分は、次のものからなる群から選択される：
ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣで官能化された前記アセタール含有部分；
フリーのＰＡＣ成分、
及び、これらの二種のＰＡＣ成分の混合物。
ここに記載の本発明の組成物の異なる観点では、ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣ化合物として使用し得る、及び／または本発明のポリマー成分中のアセタール含有連結基を介して、ノボラック樹脂単位中のフェノール系部分に結合（グラフト）したＰＡＣｂ部分であってよい。いずれの場合でも、このＰＡＣ成分は、１，２－ジアゾナフトキノン－５－スルホネート部分または１，２－ジアゾナフトキノン－４－スルホネート部分から誘導し得る。図１は、様々なＤＮＱ ＰＡＣの非限定的な例を示し、これらは、フリーのＰＡＣ成分として使用し得るか、またはその代わりに、ポリマー成分へのＰＡＣｂ部分としてポリマー成分に結合されていてよい。図１では、部分Ｄは、ＨまたはＶＩＩＩａ及びＶＩＩＩｂから選択される部分であり、ここで、この図に示される各々の化合物では、少なくとも一つのＤは、構造ＶＩＩＩａまたはＶＩＩＩｂの部分のいずれかである。ここに記載のように、アセタール含有部分を介したポリマー成分に対するＤＮＱ－ＰＡＣの結合は、エーテル結合、アセタール結合または炭素－炭素結合のいずれかを介したものであってよい。
本発明の一つの態様では、ポリマー成分に結合したＰＡＣｂ部分は、ポリマー成分のフェノール系繰り返し単位へのアセタール連結基のための結合手となる元々は少なくとも一つのフリーのフェノール官能基を含むＤＮＱ ＰＡＣ材料から誘導し得る。図１に示したＤＮＱ ＰＡＣの非限定的な例は、少なくとも一つのＤ部分がＨであり、そして少なくとも一つのＤ部分が構造ＡまたはＢから選択されることを条件に使用し得る。一つの非限定的な例では、ＰＡＣｂは、フリーのフェノールをＤＮＱ ＰＡＣと反応させて、ポリマーとのアセタール含有連結部分とエーテルまたはアセタール連結を形成させて、ポリマーに結合させることができる。ポリマー成分に対する図１のＤＮＱ－ＰＡＣのアセタール含有連結は、これらのＤＮＱ－ＰＡＣ中の芳香族部分との炭素－炭素結合であってよい。
Figure 0007369146000007
ポリマー成分：単官能性アルキルアセタール保護ノボラック樹脂
該新規組成物の一つの態様では、前記ポリマー成分は、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）を有する繰り返し単位（別の言い方では、（ＩＩ）は、単官能性アルキルアセタールを有する繰り返し単位）を含むものであり、ここでＲａ及びＲｃは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ及びＲｄは独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であり、ｎａ及びｎｃは独立して０～３であり、ｎｂ及びｎｄは独立して０または１であり、そしてｎａとｎｄとのまたはｎｄとｎｃとの合計はそれぞれ３を超えない。更に別の態様では、前記ポリマーは、Ｒｅ及びＲｆが独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択されるものである。また、この態様では、前記ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣを含む。
Figure 0007369146000008
 ポリマー成分が、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）の繰り返し単位を含む前記態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は、約６０モル％～約９８モル％で存在し；構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は最大で約４０モル％まで存在する。
ポリマー成分が、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）の繰り返し単位を含む前記態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は、約７０モル％～約９８モル％で存在する。
ポリマー成分が、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）の繰り返し単位を含む前記態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は、約７０モル％～約８０モル％で存在する。
前記ポリマーのこの態様の更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は最大で約２０モル％まで存在する。
このポリマー態様の更に別の観点の一つでは、ｎｂ及びｎｄは両方とも０に等しい。このポリマーの更に別の態様の一つでは、ｎａ及びｎｃは両方とも１に等しい。
この前記ポリマーの更に別の態様の一つでは、Ｒｅはメチルである。
この前記ポリマーの更に別の態様の一つでは、Ｒｆはエチルである。
この前記ポリマーの更に別の態様の一つでは、Ｒａはメチルである。
この前記ポリマーの更に別の態様の一つでは、Ｒｃはエチルである。
非限定的な例として、スキーム１は、アセタール保護ノボラック樹脂が、酸触媒の存在下でのノボラックとアルキルビニルエーテル（例えば、エチルビニルエーテル）との反応によってどのように生成できるかを示している。任意選択的に、これは、酸触媒の不在下でも行い得る。
Figure 0007369146000009
スキーム１
ポリマー成分：二官能性アセタール含有部分によって連結されたノボラック樹脂
前記の本発明による組成物の他の観点の一つは、前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含むものである組成物であり、ここで、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、
Figure 0007369146000010
 によって示される位置を介して互いに結合され、二官能性アセタール含有部分を形成し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する。この観点では、Ｒａ、Ｒｇ及びＲｋは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ及びＲ１は独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－である。更に、この観点において、ｎａ、ｎｇ、及びｎｋは独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ及びｎｌは独立して０または１であり、ｎａとｎｂとの合計、ｎｇとｎｈとの合計、及びｎｋとｎｌとの合計はそれぞれ３を超えない。更に、この観点において、Ｒｉ及びＲｍは独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、そして更に、Ｘａは、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン－（Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ここで、ｘ’は２～６である。また、この観点においても、前記組成物は、前記ＰＡＣ成分がフリーのＰＡＣを含むものである。
Figure 0007369146000011
 構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が約６０モル％～約９８モル％で存在するものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が約７０モル％～約９８モル％で存在するものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が約７０モル％～約８０モル％で存在するものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成された、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点が、ポリマー成分の繰り返し単位の最大で２５モル％まで存在するものである。好ましくは、この観点では、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は、約６０モル％～約９８モル％で存在し、そして構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分は、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位の合計のモル％が、ポリマー成分の全繰り返し単位の約２５モル％を超えないものである。より好ましくは、この観点では、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は、約７０モル％～約９８モル％で存在し、そして構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分は、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位の合計のモル％が、ポリマー成分の全繰り返し単位の約２５モル％を超えないものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成された、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点が、ポリマー成分の繰り返し単位の最大で１０モル％まで存在するものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、ｎｂ、ｎｈ及びｎｌが０であるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、ｎａ、ｎｇ及びｎｋが１であるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記の態様の一つでは、これは、Ｒａ及びＲｇ及びＲｋがメチルであるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｒｉがメチルであるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｒｍがメチルであるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｘａがアルキレン部分であるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｘａが－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ｘ’が２～６であるものである。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａはアルキレンオキシアルキレン部分である。この態様の一つの観点では、アルキレンはエチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ｘ’は２～６である。この態様の一つの観点では、アルキレンはエチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは、エチレン、プロピレン、ブチレン、構造（ＶＩＩ）の部分及び構造（ＶＩＩａ）の部分からなる群から選択されるアルキレン部分である。
Figure 0007369146000012
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは構造（ＶＩＩ）を有する部分または構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000013
 ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000014
 ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ｘ’は２～６でり、そしてこの態様の一つの観点では、この部分内のアルキレン基はエチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは－アルキレン－Ｏ－アルキレン－部分であり、そしてこれの一つの観点では、この部分内のこのアルキレンはエチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは－（ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２）－である。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含む前記のポリマー成分では、連結部分Ｘａがアルキレン基である場合、スキーム２は、このような連結基を、どのようにして、ノボラックフェノール部分とジビニルエーテル（例えば、１，４－ヘキサンジオールのジビニルエーテル）との反応によって、二つのポリマー鎖の間に導入してそれらを連結し得るかを非限定的な例として示す。任意選択的に、この反応は、酸触媒の存在下において行ってもよい。
Figure 0007369146000015
スキーム２
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含む前記のポリマー成分では、連結部分Ｘａがアルキレン－Ｏ－アルキレンである場合、スキーム３は、このような連結基を、どのようにして、ノボラックフェノール部分とジビニルエーテル（例えば、ジエチレングリコールのジビニルエーテル）との反応によって、二つのポリマー鎖の間に導入してそれらを連結し得るかを非限定的な例として示す。任意選択的に、これは、酸触媒の存在下において行ってもよい。
Figure 0007369146000016
スキーム３
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含む前記のポリマー成分では、連結部分Ｘａがアルキレン－Ｏ－アルキレンである場合、スキーム４は、このような連結基を、どのようにして、酸触媒の存在下で、ノボラックフェノール部分とジビニルエーテル（例えば、エチルビニルエーテル）、グリコール（例えば、ジエチレングリコール）との反応によって、二つのポリマー鎖の間に導入してそれらを連結し得るかを非限定的な例として示す。任意選択的に、これは、酸触媒の不在下でも行い得る。
Figure 0007369146000017
スキーム４
本発明による組成物の他の態様の一つでは、該ポリマー成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む組成を有し、但し、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位は、
Figure 0007369146000018
 によって示される位置を介して互いに結合して、二官能性アセタール含有部分を形成し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する。更に、本発明の組成物のこの観点では、該ポリマー成分において、Ｒａ、Ｒｇ及びＲｎは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ及びＲｏは独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であり、そしてｎａ、ｎｇ及びｎｎは独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ及びｎｏは独立して０または１であり、そして更にｎｂとｎｂとの合計、ｎｇとｎｈとの合計、更にはｎｎとｎｏとの合計はそれぞれ３を超えず；Ｒｉ及びＲｍ２は、独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され；Ｘｂは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であり；Ｘｃはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ｘ’は２～６である。好ましくは、この態様において、該レジスト組成物中のＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣ成分を含む。
Figure 0007369146000019
 構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つでは、これは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が約７０モル％～約９８モル％で存在するものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つでは、これは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が約７０モル％～約８０モル％で存在するものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（ＩＩＩ）及び構造（Ｖ）の繰り返し単位によって形成された、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点が、ポリマー成分の繰り返し単位の最大で２５モル％まで存在するものである。好ましくは、この観点では、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は、約７０モル％～約９８モル％で存在し、そして構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分は、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）の繰り返し単位の合計のモル％が、ポリマー成分の全繰り返し単位の約２５モル％を超えないものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（ＩＩＩ）及び構造（Ｖ）の繰り返し単位によって形成された、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点が、ポリマー成分の繰り返し単位の最大で１０モル％まで存在するものである。好ましくは、この観点では、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位のモル％の合計は、構造（Ｉ）の繰り返し単位のモル％の１０％を超えない。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これはｎｂ、ｎｈ及びｎｏが０であるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、ｎａ、ｎｇが１であり、ｎｎが０であるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を有する前記の態様の他の態様の一つでは、これはＲａ及びＲｇがメチルであるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｒｉ及びＲｍ２が両方ともメチルであるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｘｃがアルキレン部分であるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｘｃが－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ｘ’が２～６であるものである。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｂは－Ｏ－である。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｂは－Ｃ（ＣＨ３）２－である。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｂは－（Ｃ＝Ｏ）－である。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｂは－ＳＯ２－である。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｃはアルキレン部分である。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｃはアルキレンオキシアルキレン部分である。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｃは、エチレン、プロピレン、ブチレン、構造（ＶＩＩ）の部分及び構造（ＶＩＩａ）の部分からなる群から選択されるアルキレン部分である。
Figure 0007369146000020
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｃは構造（ＶＩＩ）を有する部分または構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000021
 ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｃは構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000022
 ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｃは－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ｘ’は２～６でり、そしてこの態様の一つの観点では、この部分内のアルキレン基はエチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｃは－アルキレン－Ｏ－アルキレン－部分であり、そしてこれの一つの観点では、この部分内のこのアルキレンはエチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｃは構造（ＶＩＩｂ）の－アルキレンオキシアルキレン－部分である。
Figure 0007369146000023
 構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）の繰り返し単位を含む前記のポリマー成分では、様々な態様の連結部分Ｘｃを、スキーム２～４中のＸａの対応する態様について記載したものと類似の方法で導入し得る。
ポリマー成分：ＰＡＣ部分（ＰＡＣｂ）に結合したアセタール含有連結基で官能化されたノボラック樹脂
本発明の組成物の他の観点の一つでは、前記ポリマー成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むものであり、但し、Ｒａ、Ｒｃ及びＲｐは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｄ及びＲｑは独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であり、そしてｎａ、ｎｃ及びｎｐは独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｄ及びｎｑは独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｃとｎｄとの合計、及びｎｐとｎｑとの合計はそれぞれ３を超えず；Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｒは独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、ＰＡＣｂは、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、但し、この際、Ｘｄは以下のものからなる群から選択される；
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合される、及び
次のもの、すなわちアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及びアルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）からなる群から選択されるアセタール含有部分、
更に、前記の各アセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合され、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部はＰＡＣｂ部分に結合される。
ＰＡＣｂ部分を含むここに記載の本発明の組成物の態様では、この部分は、１，２－ジアゾナフトキノン－５－スルホネート部分または１，２－ジアゾナフトキノン－４－スルホネート部分から誘導してよい。
図１は、ＰＡＣｂ成分を形成するために使用し得るこれらのタイプのＤＮＱ ＰＡＣの非限定的な例を示し、この図では、部分Ｄは、Ｈであるか、またはＶＩＩＩａ及びＶＩＩＩｂから選択される部分であり、ここでこの図に示される各化合物において、少なくとも一つのＤは、構造ＶＩＩＩａまたはＶＩＩＩｂの部分のいずれかである。図１に示されるＤＮＱ ＰＡＣにおいては、この態様の一つの観点では、ＰＡＣｂは、元はフリーのフェノール性ＯＨ（言い換えればＤ＝Ｈ）から生じた（ＶＩ）中の結合点を有し、ここで連結Ｘｄの形成は、図１中のＰＡＣ化合物において、このフリーのフェノール性位置とアセタール官能基またはエーテル官能基を形成した前駆体から生じたものである。他の態様では、図１に示したＤＮＱ－ＰＡＣは、これらのＤＮＱ－ＰＡＣ中で芳香族部分と炭素－炭素結合を形成するＸｄ部分を介して構造（ＶＩ）のノボラック繰り返し単位に結合してよい。
Figure 0007369146000024
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在する。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は最大で約４０モル％で存在する。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は、前記ポリマー成分中の繰り返し単位の約４５モル％を超えない。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在し；構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は０モル％超～約４０モル％で存在し；そして構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位及び構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は、前記ポリマー成分中の繰り返し単位の約４５モル％を超えない。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約９８モル％で存在する。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約８０モル％で存在する。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は最大で約２０モル％までで存在する。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位は最大で約１０モル％までで存在する。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これはｎｂ、ｎｄ及びｎｑが０であるものである。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐはメチルである。
ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、ｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐは１である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｒｉ、Ｒｍ及びＲｒはメチルである。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｄはアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含みかつＸｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）を有する部分及び構造（ＶＩＩａ）を有する部分からなる群から選択される。
Figure 0007369146000025
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含みかつＸｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩ）を有する部分である。
Figure 0007369146000026
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含みかつＸｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000027
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｄはアルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分から選択される部分である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分から選択される部分である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、構造（ＶＩＩｃ）を有する部分であり、但しａｃは２～４の整数である。
Figure 0007369146000028
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、構造（ＶＩＩｄ）を有する部分である。
Figure 0007369146000029
 構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記のポリマー成分では、構造（ＶＩ）の前記繰り返し単位において、非限定的な例としてＸｄがアルキレンアセタール部分（アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であり、ＰＡＣｂを結合する部分を連結する場合には、これは、少なくとも一つのフリーのフェノール官能基を有するＰＡＣ化合物の存在下に、ノボラック樹脂をジビニルエーテル（例えば、１，４－シクロヘキサンジオールまたはジエチレングリコールのジビニルエーテル）と反応させることによって生じ得る（スキーム５及び６）。任意選択的に、これらの反応は、酸触媒の存在下において行ってもよい。
Ｘｄ連結部分がアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であり、部分を連結する場合の態様のための経路の他の可能な非限定的な例の一つをスキーム７及び８に示す。この場合、ノボラックをグリコール化合物（例えばエチレングリコールまたはジエチレングリコール）、単官能性ビニルエーテル（例えばエチルビニルエーテル）及び酸触媒と反応させる。任意選択的に、これらの反応は、酸触媒の不在下に行ってもよい。
Ｘｄ連結部分が直接原子価結合Ｘｄ連結部分である場合の態様のための経路の他の可能な非限定的な例の一つをスキーム９に示す。この場合、酸の存在下に、ノボラック樹脂と、アルキルビニルエーテル（例えばエチルビニルエーテル）、及び少なくとも一つのフリーのフェノール官能基を有するＰＡＣとの間でトランスアセタール反応が起こる。任意選択的に、この反応は、酸触媒の不在下に行ってもよい。
更に別の非限定的な例として、スキーム１０は、どのようにアルキレンオキシＸｄ連結部分が、ビニルオキシアルキレンオキシＰＡＣ誘導体とノボラックポリマーとの間で、酸性条件下のアセタール形成反応によって生じ得るかを示す。任意選択的に、この反応は、酸触媒の不在下において行ってもよい。
同様に、スキーム１１は、どのようにアルキレンオキシＸｄ連結部分が、ビニルオキシアルキレンＰＡＣ誘導体とノボラックポリマーとの間で、酸性条件下のアセタール形成によって生じ得るかを示す。任意選択的に、この反応は、酸触媒の不在下に行ってもよい。
Figure 0007369146000030
スキーム５
Figure 0007369146000031
スキーム６
Figure 0007369146000032
スキーム７
Figure 0007369146000033
スキーム８
Figure 0007369146000034
スキーム９
Figure 0007369146000035
スキーム１０
Figure 0007369146000036
スキーム１１
ポリマー成分：ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含み及びＰＡＣ部分（ＰＡＣｂ）に結合したアセタール含有連結基で官能化された二つの繰り返し単位を連結及び保護する、二官能性アセタール含有部分を有するノボラック樹脂。
本発明の組成物の他の観点の一つでは、該ポリマー成分は、アセタール連結ノボラック樹脂であり、またＰＡＣ部分（ＰＡＣｂ）に結合したアセタール含有連結基で官能化もされているものであることができる。これらの態様では、アセタール連結ノボラック樹脂、及びＰＡＣ部分（ＰＡＣｂ）に結合したアセタール含有連結基でのそれの官能化は、先に記載した通りに（例えばスキーム２～１１）行うことができる。
具体的には、この本発明の組成物の他の観点の一つでは、該ポリマー成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むものであり、但し、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、
Figure 0007369146000037
 によって示される位置を介して互いに結合して、二官能性アセタール含有部分を形成し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する。また、この観点では、Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、そしてＲｂ、Ｒｈ、Ｒｌ及びＲｑは独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であり、そしてｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐは独立して０～３であり、そしてｎｂ、ｎｈ、ｎｌ及びｎｑは独立して０または１である。更に、この観点では、ｎａとｎｂとの合計、ｎｈとｎｇとの合計、ｎｌとｎｋとの合計、及びｎｐとｎｑとの合計はそれぞれ３を超えない。更に、この観点では、Ｒｉ及びＲｍは独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、またはアルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。また、この観点では、構造（ＶＩ）の繰り返し単位中の部分ＰＡＣｂは、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは、次のものからなる群から選択される：
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、
アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及び
アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、
更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する。
前記の本発明の組成物の他の態様では、ＰＡＣｂ部分は、１，２－ジアゾナフトキノン－５－スルホネート部分または１，２－ジアゾナフトキノン－４－スルホネート部分から誘導され得る。図１は、ＰＡＣｂ成分を形成するために使用し得るこれらのタイプのＤＮＱ ＰＡＣの非限定的な例を示し、この図では、部分Ｄは、Ｈであるか、またはＶＩＩＩａ及びＶＩＩＩｂから選択される部分であり、ここでこの図面に示される各化合物において、少なくとも一つのＤは、図１に示すＤＮＱ ＰＡＣにおいて構造ＶＩＩＩａまたはＶＩＩＩｂの部分のいずれかである。この態様の一つの観点では、ＰＡＣｂは、図１のＰＡＣ化合物において、元はフリーのフェノール性ＯＨ（別の言い方ではＤ＝Ｈ）から形成された（ＶＩ）中に結合点を有する。他の態様では、図１に示したＤＮＱ－ＰＡＣは、これらのＤＮＱ－ＰＡＣ中の芳香族部分と炭素－炭素結合を形成するＸｄ部分を介して構造（ＶＩ）のノボラック繰り返し単位に結合してよい。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在する。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成される、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖間の連結点は、該ポリマー成分の繰り返し単位の最大で約２５モル％までで存在する。ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は最大で約２０モル％までで存在する。好ましくは、この観点では、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は、約６０モル％～約９８モル％で存在し、そして構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成される、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖間の連結点は、該ポリマー成分の繰り返し単位の最大で約２５モル％までで存在し、そして構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は最大で約２０モル％までで存在する。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成される、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖間の連結点は、該ポリマー成分の繰り返し単位の最大で約１０モル％までで存在する。好ましくは、この観点では、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位のモル％の合計は、前記ポリマー成分中の繰り返し単位の１０モル％を超えない。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が約７０モル％～約９８モル％で存在するものである。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位が最大で約１０モル％までで存在するものである。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これはｎｂ、ｎｈ、ｎｌ及びｎｑが０であるものである。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐはメチルである。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、ｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐは１である。
ポリマー成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｒｉ、Ｒｍ及びＲｒはメチルである。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｄはアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含みかつＸｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）を有する部分及び構造（ＶＩＩａ）を有する部分からなる群から選択される。
Figure 0007369146000038
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含みかつＸｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩ）を有する部分である。
Figure 0007369146000039
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含みかつＸｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000040
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｄはアルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分から選択される部分である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分から選択される部分である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、構造（ＶＩＩｃ）を有する部分であり、但しａｃは２～４の整数である。
Figure 0007369146000041
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、構造（ＶＩＩｃ）を有する部分である。
Figure 0007369146000042
 この本発明の組成物の他の観点の一つでは、前記ポリマー成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むものであり、但し、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位は、
Figure 0007369146000043
 によって示される位置を介して互いに結合して、二官能性アセタール含有部分を形成し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間に前記ポリマー成分中で連結点を形成する。更に、この態様では、前記ポリマーは、Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｎ及びＲｐが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであるものである。更に、この態様では、前記ポリマーは、Ｒｂ、Ｒｈ、Ｒｏ及びＲｑは独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であるものである。更に、この態様では、該ポリマーは、ｎａ、ｎｇ、ｎｎ及びｎｐが独立して０～３であり、ｎｂ、ｎｈ、ｎｏ及びｎｑが独立して０または１であり、かつｎａとｎｂとの合計、ｎｎとｎｏとの合計、ｎｌとｎｋとの合計、及びｎｐとｎｑとの合計はそれぞれ３を超えないものである。更に、この態様では、前記ポリマーは、ＲｉがＣ１～Ｃ４アルキルであり、Ｘｂは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であるものである。
更に、この態様では、該ポリマーは、Ｘｃがアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’部分であり、ここでｘ’は２～６であるものである。
更に、この態様では、ＰＡＣｂは、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のものからなる群から選択される：
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、
アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及び
アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する。
前記の本発明の組成物の他の態様では、ＰＡＣｂ部分は、１，２－ジアゾナフトキノン－５－スルホネート部分または１，２－ジアゾナフトキノン－４－スルホネート部分から誘導され得る。図１は、ＰＡＣｂ成分を形成するために使用し得るこれらのタイプのＤＮＱ ＰＡＣの非限定的な例を示し、この図では、部分Ｄは、Ｈであるか、またはＶＩＩＩａ及びＶＩＩＩｂから選択される部分であり、ここでこの図面に示される各化合物において、少なくとも一つのＤは、構造ＶＩＩＩａまたはＶＩＩＩｂの部分のいずれかである。ＰＡＣｂとして使用される図１に示したＤＮＱ ＰＡＣでは、これは、部分Ｘｄを介して（ＶＩ）中の位置に共有結合により結合されている必要がある。一つの態様では、この結合は、元は図１のＰＡＣ中に存在するフリーのフェノール性ＯＨ（別の言い方ではＤ＝Ｈ）に由来し得、ここでこのようなフリーのＯＨ部分は元は存在したものである。そのため、この観点では、構造（ＶＩ）の繰り返し単位への結合のために、ＰＡＣは、少なくとも一つのＤが構造ＶＩＩＩａまたはＶＩＩＩｂから選択されるだけではなく、少なくとも一つのＤがはＨであり、そうして、構造（ＶＩ）の繰り返し単位への結合点を形成するために使用された少なくとも一つのＯＨ部分を形成するものである必要がある。
Figure 0007369146000044
 前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記本発明の組成物の前記の態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在する。
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記本発明の組成物の前記の態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（Ｖ）の繰り返し単位によって形成される、ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点は、該ポリマー成分の繰り返し単位の最大で２５モル％までで存在する。
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記本発明の組成物の前記の態様の他の観点の一つでは、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は最大で約２０モル％までで存在する。好ましくは、この観点では、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は、約６０モル％～約９８モル％で存在し、そして更に、構造（ＩＩＩ）及び構造（Ｖ）の繰り返し単位によって形成される、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖間の連結点は、該ポリマー成分の繰り返し単位の最大で約２５モル％までで存在し、そして更に、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は最大で約２０モル％までで存在する。
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものである前記本発明の組成物の前記の態様の他の観点の一つでは、前記ポリマーは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が約７０モル％～約９８モル％で存在するものである。
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものである前記本発明の組成物の前記の態様の他の観点の一つでは、前記ポリマーは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が約７０モル％～約８０モル％で存在するものである。
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものである前記本発明の組成物の前記の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、前記ポリマーは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位が最大で約１０モル％までで存在するものである。
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＶＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものである前記本発明の組成物の前記の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、このポリマーは、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位のモル％の合計が、前記ポリマー成分中の繰り返し単位のモル％の１０％を超えず、好ましくは構造（Ｉ）の繰り返し単位のモル％の１０％を超えないものである。
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものである前記本発明の組成物の前記の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、このポリマーは、ｎｂ、ｎｈ、ｎｏ及びｎｑが０であるものである。
前記ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものである前記本発明の組成物の前記態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐはメチルである。
前記ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものである前記本発明の組成物の前記態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、ｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐは１である。
前記ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものである前記本発明の組成物の前記態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｒｉ、Ｒｍ及びＲｒはメチルである。
前記ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の組成物の前記態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｄはアルキレンアセタール部分（アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｄはアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含みかつＸｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）を有する部分及び構造（ＶＩＩａ）を有する部分からなる群から選択される。
Figure 0007369146000045
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含みかつＸｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩ）を有する部分である。
Figure 0007369146000046
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含みかつＸｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000047
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘｄはアルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分から選択される部分である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分から選択される部分である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、構造（ＶＩＩｃ）を有する部分であり、但しａｃは２～４の整数である。
Figure 0007369146000048
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、構造（ＶＩＩｃ）を有する部分である。
Figure 0007369146000049
単官能性アセタール部分とＰＡＣ部分（ＰＡＣｂ）に結合したアセタール含有連結基との両方で官能化されたノボラック樹脂
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）を有する繰り返し単位を含むポリマーである前記態様のいずれにおいても、本発明の組成物の他の観点では、前記ポリマーは更に構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含んでよく、ここでＲｐはＣ１～Ｃ４アルキルであり、Ｒｑは－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であり、そしてｎｐは０～３であり；ｎｑは０または１であり、そしてｎｐとｎｑとの合計は３を超えない。本発明のこの観点の他の態様の一つでは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位は、前記ポリマー成分中の繰り返し単位の最大で約２０モル％までで存在する。この態様の他の観点の一つでは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位は最大で約１０モル％までで存在する。
前記ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、この繰り返し単位が最大で約１０モル％までで存在するものである。
前記ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これはｎｑが０であるものである。
前記ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これはＲｐがメチルであるものである。
前記ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これはｎｐが１であるものである。
前記ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これはＲｒがメチルであるものである。
前記ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるものである。
ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様の他の観点の一つでは、これは、Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であり、アルキレンアセタール部分のアルキレン部が、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）を有する部分及び構造（ＶＩＩａ）を有する部分からなる群から選択されるものである。
Figure 0007369146000050
 ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であり、アルキレンアセタール部分のアルキレン部が構造（ＶＩＩ）を有する部分であるものである。
Figure 0007369146000051
 ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であり、アルキレンアセタール部分のアルキレン部が、構造（ＶＩＩａ）を有する部分であるものである。
Figure 0007369146000052
 ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、Ｘｄがアルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるものである。
ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）が、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分から選択される部分であるものである。
ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）が、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分から選択される部分であるものである。
ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）が、構造（ＶＩＩｃ）を有する部分であり、但しａｃは２～４の整数であるものである。
Figure 0007369146000053
 ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、これは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）が、構造（ＶＩＩｄ）を有する部分であるものである。
Figure 0007369146000054
単官能性アルキルアセタール部分も含む、二官能性アセタール含有部分によって連結されたノボラック樹脂
前記のポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含むポリマー、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むポリマー、または構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むポリマーのいずれかである前記の態様のいずれにおいても、本発明の組成物の他の観点の一つでは、前記ポリマーは、更に構造（ＩＩ）の繰り返し単位を含んでいてよい。これらの態様では、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は、ＲｃがＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｄが－Ｘ－フェノールであり、ここでＸが－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であり、そしてｎｃが０～３であり；ｎｄが０または１であり、そしてｎｃとｎｄの合計は３を超えないものである。更に、これらの態様では、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は、Ｃ１～Ｃ４アルキルから選ばれるＲｅ、及びＲｆ、及びＲｆを有していてよい。これらの態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩ）の追加的な繰り返し単位は最大で約４０モル％までで存在する。これらの前記の態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は、ｎｄ＝０を有する。これらの前記の態様の更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は、最大で約２０モル％までで存在する。この態様の更に別の態様の一つでは、ｎｃは１に等しい。この前記ポリマーの更に別の態様の一つでは、Ｒｅはメチルである。この前記ポリマーの更に別の態様の一つでは、Ｒｆはエチルである。この前記ポリマーの更に別の態様の一つでは、Ｒｃはエチルである。
Figure 0007369146000055
 この本発明の組成物の他の態様の一つでは、ＰＡＣｂが結合した構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含むポリマー成分を有する組成物の前記の態様のいずれにおいても、光活性剤部分は、ポリマー成分に結合していない別個のＰＡＣ化合物であるフリーの光活性化合物（ＰＡＣ）を追加的に含む組成を有してよい。
前記のこの本発明の組成物の具体的な態様の一つでは、ポリマー成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含むもの、または構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むもののいずれかから選択され、ここで、構造（ＩＶ）の繰り返し単位において、部分Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分である。本発明のこの観点の他の態様の一つでは、部分Ｘａはアルキレン部分エチレンである。更に別の態様の一つでは、Ｘａは構造（ＶＩＩ）のアルキレン部分である。更に別の態様の一つでは、部分Ｘａは構造（ＶＩＩａ）のアルキレン部分である。
本発明のこの態様の他の態様の一つでは、部分Ｘａは、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。
Figure 0007369146000056
 前記のこの本発明の組成物の他の態様の一つでは、ポリマー成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含むもの、または構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むもののいずれかから選択され、ここで、構造（ＩＶ）の繰り返し単位において、部分Ｘａは－アルキレンオキシアルキレン－部分である。また、この観点では、前記組成物は、前記ＰＡＣ成分がフリーのＰＡＣを含むものである。本発明のこの観点の他の態様の一つでは、連結部分Ｘａは、構造（ＶＩＩｂ）の－アルキレンオキシアルキレン－部分である。
Figure 0007369146000057
 前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含むポリマーである前記態様のいずれにおいても、この本発明の組成物の他の具体的な観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、
Figure 0007369146000058
 によって示される位置を介して互いに結合しており、二官能性アセタール含有部分を形成して、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する。この観点では、Ｒａ、Ｒｇ及びＲｋは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ及びＲ１は独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－である。更に、この観点において、ｎａ、ｎｇ、及びｎｋは独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ及びｎｌは独立して０または１であり、ｎａとｎｂとの合計、ｎｇとｎｈとの合計、及びｎｋとｎｌとの合計はそれぞれ３を超えない。更に、この観点では、Ｒｉ及びＲｍは独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、及び更に、Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、またはアルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。［削除／］．［／削除］また、この観点では、前記組成物は、前記ＰＡＣ成分がフリーのＰＡＣを含むものである。これらの態様では、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は、ＲｃがＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｄが－Ｘ－フェノールであり、ここでＸが－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ２－であり、そしてｎｃが０～３であり；ｎｄが０または１であり、そしてｎｃとｎｄの合計が３を超えないものである。更に、これらの前記の態様のうちで、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は、Ｃ１～Ｃ４アルキルから選ばれるＲｅ、及びＲｆ、及びＲｆを有していてよい。これらの前記態様の他の観点の一つでは、ｎｂ、ｎｄ、ｎｈ及びｎｌは全て０であってよい。これらの前記態様の他の観点の一つでは、ｎａ、ｎｃ、ｎｇ及びｎｋは全て１であってよい。これらの前記態様の他の観点の一つでは、Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｇ及びＲｋは全てメチルであってよい。
Figure 0007369146000059
 構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の態様の一つでは、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は最大で約４０モル％までで存在してよい。これらの前記の態様の更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は、最大で約２０モル％までで存在する。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在する。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約９８モル％で存在する。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約８０モル％で存在する。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成された、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点が、ポリマー成分の繰り返し単位の最大で２５モル％までで存在するものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記ポリマー成分の他の観点の一つは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成された、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点が、ポリマー成分の繰り返し単位の最大で１０モル％までで存在するものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、ｎｂ、ｎｄ、ｎｈ及びｎｌが０であるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、ｎａ、ｎｃ、ｎｇ及びｎｋが１であるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記の態様の他の観点の一つは、これは、Ｒａ、Ｒｃ、及びＲｇ及びＲｋがメチルであるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｒｉがメチルであるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｒｍがメチルであるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｘａがアルキレン部分であるものである。
構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記のポリマー成分の他の観点の一つは、Ｘａが－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ’－部分であり、ｘ’が２～６であるものである。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａはアルキレンオキシアルキレン部分である。
ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは、エチレン、プロピレン、ブチレン、構造（ＶＩＩ）の部分及び構造（ＶＩＩａ）の部分からなる群から選択されるアルキレン部分である。
Figure 0007369146000060
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは構造（ＶＩＩ）を有する部分または構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000061
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000062
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、構造（ＩＶ）の繰り返し単位中の連結部分Ｘａは、構造（ＶＩＩｂ）の－アルキレンオキシアルキレン－である。
Figure 0007369146000063
 ポリマー成分が構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位を含む前記の本発明の態様のいずれにおいても、他の観点の一つでは、Ｘａは－（ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２）－である。
結合したＰＡＣ（ＰＡＣｂ）成分
前記のこの本発明の組成物の他のより具体的な態様の一つでは、ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む態様において、これらの態様は、Ｘｄが次のものからなる群から選択されるものである；
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、
アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及び
アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、
更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する、
及び更に、これらの態様において、前記ＰＡＣｂ部分は、構造（ＶＩＩＩ）を有する単一の化合物または複数種の化合物の混合物から選択され、ここでＤ１、Ｄ２及びＤ３は独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、更にここで、Ｄ１、Ｄ２またはＤ３の少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり、ここで
Figure 0007369146000064
 は、構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位への各々のＰＡＣｂ部分の結合点を示す。
Figure 0007369146000065
 前記のこの本発明の組成物の他の態様の一つでは、ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む態様において、構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む該ポリマー成分は、Ｘｄが次のものからなる群から選択されるものであるものである；
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、
アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及び
アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、
更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する、
及び更に、前記ＰＡＣｂ部分は、構造（ＶＩＩＩ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合物から選択され、ここでＤ１、Ｄ２及びＤ３は独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、更にここで、Ｄ１、Ｄ２またはＤ３の少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分であり、ここで
Figure 0007369146000066
 は、構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位への各々のＰＡＣｂの結合点を示す。
Figure 0007369146000067
 前記のこの本発明の組成物の他の態様の一つでは、ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む態様において、構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む該ポリマー成分は、Ｘｄが次のものからなる群から選択されるものである；
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、
アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及び
アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、ここでｘは２～６であり、更に、前記のアセタール含有部分の各々において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合し、そして更に、ＰＡＣｂ部分は、構造（ＶＩＩＩｃ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合物であり、ここでＤ１ａ、Ｄ２ａ及びＤ３ａは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、そして更に、Ｄ１ａ、Ｄ２ａまたはＤ３ａの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり、ここで
Figure 0007369146000068
 は、構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位への各々のＰＡＣｂの結合点を示す。
Figure 0007369146000069
 前記のこの本発明の組成物の他の態様の一つでは、ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む態様において、構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む該ポリマー成分は、Ｘｄが次のものからなる群から選択されるものである；
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、
アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及び
アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する、
及び更に、前記ＰＡＣｂ部分は、構造（ＶＩＩＩｃ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合物から選択され、ここでＤ１ａ、Ｄ２ａ及びＤ３ａは独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、更にここで、Ｄ１ａ、Ｄ２ａまたはＤ３ａの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり、ここで
Figure 0007369146000070
 は、構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位への各ＰＡＣｂの結合点を示す。
Figure 0007369146000071
 前記のこの本発明の組成物の他の態様の一つでは、ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む態様において、構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む該ポリマー成分は、Ｘｄが次のものからなる群から選択されるものである；
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、
アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及び
アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する、
及び更に、前記ＰＡＣｂ部分は、構造（ＶＩＩＩｄ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合物から選択され、ここでＤ１ｂ、Ｄ２ｂ及びＤ３ｂは独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、更にここで、Ｄ１ｂ、Ｄ２ｂまたはＤ３ｂの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり、ここで
Figure 0007369146000072
 は、構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位への各ＰＡＣｂの結合点を示す。
Figure 0007369146000073
 前記のこの本発明の組成物の他の態様の一つでは、ポリマー成分が構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む態様において、構造（ＶＩ）の繰り返し単位を含む該ポリマー成分は、Ｘｄが次のものからなる群から選択されるものである；
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、
アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及び
アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する、
及び更に、前記ＰＡＣｂ部分は、構造（ＶＩＩＩｄ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合物から選択され、ここでＤ１ｂ、Ｄ２ｂ及びＤ３ｂは独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、更にここで、Ｄ１ｂ、Ｄ２ｂまたはＤ３ｂの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分であり、ここで
Figure 0007369146000074
 は、構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位への各ＰＡＣｂの結合点を示す。
Figure 0007369146000075
ＰＡＧ成分
本発明の組成物の他の態様の一つでは、これは、前記ＰＡＧ成分が、有機スルホン酸の芳香族イミドＮ－オキシスルホネート誘導体、有機スルホン酸の芳香族スルホニウム塩、及びトリハロトリアジン誘導体からなる群またはこの群からのＰＡＧの混合物から選択される、前記の組成物のいずれかである。
例えば、より具体的には、前記ＰＡＧ成分は、３６５ｎｍ及び／または広帯域照射された時に、光酸、例えばスルホン酸類、例えばアルキルスルホン酸、アリールスルホン酸またはフルオロアルキルスルホン酸、パーフルオロスルホン酸、無機酸、例えばＨＡｓＦ６、ＨＳｂＦ６、ＨＰＦ６、またはテトラ（パーフルオロフェニル）ボレートから誘導される酸［Ｈ（ｐｅｒｆ－Ｐｈ）４Ｂ］、または類似のテトラ（パーフルオロアリール）ボレート［Ｈ（ｐｅｒｆ－Ａｒｙｌ）４Ｂ］を発生させるものであってよい。このようなＰＡＧの非限定的な例には、様々な光酸発生剤が挙げられ、例えばオニウム塩、ジカルボキシイミジルスルホネートエステル、オキシムスルホネートエステル、ジアゾ（スルホニルメチル）化合物、ジスルホニルメチレンヒドラジン化合物、ニトロベンジルスルホネートエステル、ビイミダゾール化合物、ジアゾメタン誘導体、グリオキシム誘導体、β－ケトスルホン誘導体、ジスルホン誘導体、スルホン酸エステル誘導体、イミドイルスルホネート誘導体、化合物、ジアゾナフトキノンスルホネートエステル、またはこれらの組み合わせなどがある。このような光酸発生剤は、生得的に、当技術分野で既知の適当な置換基によって３６５ｎｍ及び／または広帯域放射線に感度を示し得る。より具体的には、これらは、例えば、非限定的な例として、有機スルホン酸の置換されたまたは置換されていないトリアリールスルホニウム塩であってよく、ここでそのトリアリールスルホニウム部分またはその対応する酸アニオンは、共役アリールを有する少なくとも一つのアリール部分を含み、前記共役アリール部分は、アリールオキシ、アルキルオキシ、ニトロ、シアノ、アセチル、アリール、アルケニル、アルキルオキシアリール（アルキル－Ｏ－アリール－）、ジアルキルオキシアリール（（アルキル－Ｏ－）２－アリール）から選択される少なくとも一つの置換基を有するフェニル環から選択されるか、または前記共役アリール部分は、代替的に、２～４個の環を含む置換されたまたは置換されていない縮合芳香族環部分である。このような置換基は、共鳴非局在化を受けることができる二官能性部分、例えば、縮合芳香族類から誘導されるアリーレンを始めとしたアリーレン、または例えばエテニレン（－Ｃ＝Ｃ－）部分、エテニル（ＣＨ２＝ＣＨ－）、フェニレンエテニル（Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－）、アリールエテニル（アリール－ＣＨ＝ＣＨ－）や、及びエテニレンアリーレン部分（例えば、Ａｒ（－ＣＨ＝ＣＨ－Ａｒ－）ｚ、ｚ＝１～３）を含む置換基を介して結合し得る。
置換されたアリール及び置換されたアリールエテニル置換基の非限定的な具体例は、次のものであり、ここで
Figure 0007369146000076
 は結合手を表す。
Figure 0007369146000077
 ３６５ｎｍ及び／または広帯域放射線に感度がある一般的なＰＡＧの他の例は、置換されたまたは置換されていない１，３－ジオキソ－１Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］イソキノリン－２（３Ｈ）－イルエステル有機スルホン酸である。図２は、前記のＰＡＧの非限定的な例を示す。これらのＰＡＧは、上述した置換基を有してもよい。
本発明の組成物の他の観点の一つでは、前記ＰＡＧ成分は、光酸発生剤それ自体は、ｉ線または広帯域放射線に直接は感度を示さないが、有効波長及び／またはエネルギー範囲を拡大する増感剤によりこの放射線に感光化されたものであってよい。このような感光剤は、限定はされないが、置換された及び置換されていないアントラセン類、置換された及び置換されていないフェノチアジン類、置換された及び置換されていないペリレン類、置換された及び置換されていないピレン類、及び芳香族カルボニル化合物、例えばベンゾフェノン及びチオキサントン、フルオレン、カルバゾール、インドール、ベンゾカルバゾール、アクリドンクロルプロマジン、これらの等価物、または前記の任意のものの組み合わせであってよい。
本発明の他の態様では、前記ＰＡＧ成分は、トリハロメチル誘導体であってよく、そしてこれは、１～３個のトリハロメチル置換基を含むものであってよい。本発明のこの観点の他の態様の一つでは、前記トリハロメチル誘導体は、１～３個のトリハロメチル置換基を含む、アレーンまたは置換されたアレーンである。この態様の他の観点の一つでは、前記トリハロメチル誘導体は、スルホンスペーサ（－ＳＯ２－）を介して前記アレーンまたは置換されたアレーン部分に結合した１～３個のトリハロメチル置換基を含むものであってよい。
図３は、ＨＣｌまたはＨＢｒのいずれかを発生させるｉ線（広帯域）トリハロ光酸発生剤の非限定的な例を示す。
前記ＰＡＧ成分がトリハロメチルである本発明の他の態様の一つでは、これは、１～３個のトリハロメチル部分を含むヘテロアレーンまたは置換されたヘテロアレーンの一つであってよい。
前記ＰＡＧ成分がトリハロメチルである本発明の他の態様の一つでは、これは、スルホンスペーサ（－ＳＯ２－）を介して前記ヘテロアレーンまたは置換されたヘテロアレーンに結合した１～３個のトリハロメチル置換基を含むヘテロアレーンまたは置換されたヘテロアレーンの誘導体であってよい。
本発明の他の態様の一つでは、これは、前記ＰＡＧ成分が、構造（ＩＸａ）、構造（ＩＸｂ）及び構造（ＩＸｃ）を有する化合物からなる群またはこの群からの化合物の混合物から選択される前記組成物のいずれかであり、ここで、Ｒ１ｐはフルオロアルキル部分であり、そしてＲ２ｐはＨ、アルキル、オキシアルキル、チオアルキル、またはアリール部分であり；Ｒ３ｐはフルオロアルキル、アルキルまたはアリール部分であり、そしてＲ４ｐは、Ｈ、アルキル、オキシアルキル、チオアルキルまたはアリール部分であり；そして更にＸはＣｌまたはＢｒであり、Ｒ５ｐはアリールまたはアルキル部分であり、そしてｎは０または１である。
Figure 0007369146000078
 本発明の組成物の他の観点の一つでは、前記ＰＡＧ成分は、構造（ＩＸｄ）を有するトリハロメチル誘導体であってよく、ここでＲ６ｐは、置換されたもしくは置換されていないアルケニル、または置換されたもしくは置換されていないアリール基、または２～４個の環を含む置換されたもしくは置換されていない縮合芳香族環であり、そしてＹは酸素または窒素であり、そしてＸはＣｌまたはＢｒである。
Figure 0007369146000079
 本発明の組成物の他の態様の一つでは、前記ＰＡＧ成分はトリハロメチル誘導体であってよく、構造（ＩＸｅ）を有するオキサゾールまたは置換されたオキサゾンであってよく、ここでＲ７ｐは、置換されたもしくは置換されていないアルケニル、または置換されたもしくは置換されていないアリール基であり、そしてＸはＣｌまたはＢｒである。
Figure 0007369146000080
 本発明の組成物の他の態様の一つでは、前記ＰＡＧ成分は、トリハロメチル誘導体、１または２個のトリハロメチル部分を含む置換されたトリアジンの誘導体であってよい。
本発明の組成物の他の態様の一つでは、前記ＰＡＧ成分はトリハロメチル誘導体であってよく、これは、構造（ＩＸｆ）を有するトリハロメチル誘導体であってよく、ここでＸはＢｒまたはＣｌであり、そしてＲ８ｐは、置換されていないもしくは置換されたアルケニル、置換されていないアリールもしくは置換されたアリール部分、または２～４個の環を含む置換されたもしくは置換されていない縮合芳香族環部分である。
Figure 0007369146000081
 本発明の組成物の他の態様の一つでは、前記ＰＡＧ成分はトリハロメチル誘導体であってよく、これは、構造（ＩＸｇ）を有する誘導体であってよく、そしてＲ９ｐは、置換されていないもしくは置換されたアルケニルまたは置換されていないアリールもしくは置換されたアリール部分である。
Figure 0007369146000082
フリーのＰＡＣ成分
フリーのＰＡＣ成分を含む前記の本発明の組成物の他の態様では、このＰＡＣ成分は、１，２－ジアゾナフトキノン－５－スルホネート化合物または１，２－ジアゾナフトキノン－４－スルホネート化合物から選択し得る。図１は、フリーのＰＡＣ成分として使用し得るこれらのタイプのＤＮＱ ＰＡＣの非限定的な例を示し；ここで、この図において、部分ＤはＨであるか、またはＶＩＩＩａ及びＶＩＩＩｂから選択される部分であり、そしてこの図に示される各々の化合物では、少なくとも一つのＤは、構造ＶＩＩＩａまたはＶＩＩＩｂの部分のいずれかである。
Figure 0007369146000083
 フリーのＰＡＣ成分を含む前記の本発明の組成物の他の態様では、このＰＡＣ成分は、構造（Ｘ）を有する、単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、ここでＤ１ｃ、Ｄ２ｃ、Ｄ３ｃ及びＤ４ｃは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ１ｃ、Ｄ２ｃ、Ｄ３ｃまたはＤ４ｃの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000084
 フリーのＰＡＣ成分を含む前記の本発明の組成物の他の態様では、このＰＡＣ成分は、構造（Ｘ）を有する、単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、ここでＤ１ｃ、Ｄ２ｃ、Ｄ３ｃ及びＤ４ｃは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ１ｃ、Ｄ２ｃ、Ｄ３ｃまたはＤ４ｃの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分である。
Figure 0007369146000085
 フリーのＰＡＣ成分を含む前記の本発明の組成物の他の態様では、このＰＡＣ成分は、構造（Ｘａ）を有する、単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、ここでＤ１ｄ、Ｄ２ｄ、Ｄ３ｄ及びＤ４ｄは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ１ｄ、Ｄ２ｄ、Ｄ３ｄまたはＤ４ｄの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000086
 フリーのＰＡＣ成分を含む前記の本発明の組成物の他の態様では、このＰＡＣ成分は、構造（Ｘａ）を有する、単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、ここでＤ１ｄ、Ｄ２ｄ、Ｄ３ｄ及びＤ４ｄは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ１ｄ、Ｄ２ｄ、Ｄ３ｄまたはＤ４ｄの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分である。
Figure 0007369146000087
 フリーのＰＡＣ成分を含む前記の本発明の組成物の他の態様では、このＰＡＣ成分は、構造（Ｘｂ）を有する、単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、ここでＤ１ｅ、Ｄ２ｅ及びＤ３ｅは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ１ｅ、Ｄ２ｅまたはＤ３ｅの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000088
 フリーのＰＡＣ成分を含む前記の本発明の組成物の他の態様では、このＰＡＣ成分は、構造（Ｘｂ）を有する、単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、ここでＤ１ｅ、Ｄ２ｅ及びＤ３ｅは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ１ｅ、Ｄ２ｅまたはＤ３ｅの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分である。
Figure 0007369146000089
ＰＡＣ成分とポリマー成分との特定の組み合わせを用いた態様
前記の本発明の組成物の他の観点の一つでは、前記ポリマー成分は、前記の構造（ＩＩ）の繰り返し単位が存在し、但し、この繰り返し単位が、該ポリマー成分中の繰り返し単位の約１０モル％～約４０モル％で存在し、かつ前記の構造（Ｉ）の繰り返し単位も約９０モル％～約６０モル％で存在する、前記のポリマー成分のいずれかである。これらの態様の他の観点の一つでは、前記の構造（Ｉ）及び（ＩＩ）の繰り返し単位の他に、該ポリマー成分は、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点を形成する、前記の構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位も追加的に含んでいてよい。この態様の他の観点の一つでは、前記ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣとしてのみ存在する。この観点の更に別の態様の一つでは、前記フリーのＰＡＣ成分は、該ポリマー成分と前記フリーのＰＡＣ成分との重量比が、約９５／５～約７０／３０であるものである。この態様の他の観点の一つでは、この重量比は約９０／１０～約８０／２０である。この態様の更に別の態様の一つでは、該ＰＡＣ成分は、前記の構造（Ｘｂ）を有するものであり、但し、Ｄ１ｅ、Ｄ２ｅ及びＤ３ｅは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、そして更に、Ｄ１ｅ、Ｄ２ｅまたはＤ３ｅの少なくとも一つは、前記の構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000090
 前記の本発明の組成物の他の観点の一つでは、該ポリマー成分は、構造（ＩＩ）の繰り返し単位（ＩＩ）が存在し、但し、この繰り返し単位が、繰り返し単位の約１０モル％～約４０モル％で存在し、及び約９０モル％～約６０モル％の前記の構造（Ｉ）の繰り返し単位も含む、ポリマー成分のいずれかである。
これらの態様の他の観点の一つでは、該ポリマーは、構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含み、但し、構造（ＩＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位は、
Figure 0007369146000091
 によって示される位置を介して互いに結合され、二官能性アセタール含有部分を形成して、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する。この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位の合計は、該ポリマー繰り返し単位の約１モル％～約４モル％で存在する。この態様の他の観点の一つでは、前記ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣとしてのみ存在する。この観点の更に別の態様の一つでは、該ＰＡＣ成分は、該ポリマー成分と前記フリーのＰＡＣ成分との重量比が、約９５／５～約７０／３０であるものである。この態様の他の観点の一つでは、この重量比は約９０／１０～約８０／２０である。この態様の更に別の態様の一つでは、該ＰＡＣ成分は、前記の構造（Ｘｂ）を有するものであり、但し、Ｄ１ｅ、Ｄ２ｅ及びＤ３ｅは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、そして更に、Ｄ１ｅ、Ｄ２ｅまたはＤ３ｅの少なくとも一つは、前記の構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である。この態様の一つの特定の観点では、Ｘａは、構造（ＶＩＩｂ）を有するアルキレンオキシアルキレン部分である。この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩ）を有するアルキレン部分である。この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩａ）を有するアルキレン部分である。この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるこの態様の他の特定の観点の一つでは、該アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）を有する部分及び構造（ＶＩＩａ）を有する部分からなる群から選択される。
Figure 0007369146000092
 Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるこの態様の他の特定の観点の一つでは、該アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩ）を有する部分である。
Figure 0007369146000093
 Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるこの態様の他の特定の観点の一つでは、該アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000094
 この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－ＯＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分から選択される部分である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－ＯＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分から選択される部分である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、ａｃが２～４の整数である構造（ＶＩＩｃ）を有する部分である。
Figure 0007369146000095
 この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｃ）を有する部分である。
Figure 0007369146000096
 これらの態様の他の観点の一つでは、該ポリマーは、前記の構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含み、但し、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位は、
Figure 0007369146000097
 によって示される位置を介して互いに結合し、二官能性アセタール含有部分を形成して、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー中に連結点を形成し、及び該ポリマーは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位も含み、及び更に、ＰＡＣ成分は、部分ＰＡＣｂとして繰り返し単位ＶＩに結合し、そして該組成物中に追加的なフリーのＰＡＣ成分は存在しない。追加的に、本発明のこの観点において、前記ＰＡＣｂ部分は前記の構造（ＶＩＩＩｄ）のものであり、但し、Ｄ１ｂ、Ｄ２ｂ及びＤｂ３は、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、そして更に、Ｄ１ｂ、Ｄ２ｂまたはＤ３ｂの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり、そしてＸｄは次のものからなる群から選択される；
直接原子価結合、
アルキレン部分、
アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、
アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及び
アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する。
先に記載したこの特定のＰＡＣｂのより具体的な態様は、該組成物のこのより具体的な態様にも適用可能である。この態様の他の観点の一つでは、該ポリマー成分中の異なる繰り返し単位のためのモル％範囲は次の通りである：構造（Ｉ）の繰り返し単位が約７０モル％～約９８モル％である場合は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位については、これは、最大で約１０モル％まで存在し、構造（ＩＶ）の繰り返し単位及び構造（ＩＩＩ）の繰り返し単位については、これらの二つは、ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点を形成し、これは、該ポリマー成分繰り返し単位の約１モル％～約４モル％で存在する。この態様の一つの特定の観点では、Ｘａは、構造（ＶＩＩｂ）を有するアルキレンオキシアルキレン部分である。この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩ）を有するアルキレン部分である。この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩａ）を有するアルキレン部分である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘｄは直接原子価結合である。この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるこの態様の他の特定の観点の一つでは、該アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）を有する部分及び構造（ＶＩＩａ）を有する部分からなる群から選択される。
Figure 0007369146000098
 Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるこの態様の他の特定の観点の一つでは、該アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩ）を有する部分である。
Figure 0007369146000099
 Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるこの態様の他の特定の観点の一つでは、該アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000100
 この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－ＯＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分から選択される部分である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－ＯＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分から選択される部分である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、ａｃが２～４の整数である構造（ＶＩＩｃ）を有する部分である。
Figure 0007369146000101
 この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｃ）を有する部分である。
Figure 0007369146000102
 本発明の組成物の一つの観点では、これは、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記のポリマー成分を含み、但し、該ＰＡＣ成分は、部分ＰＡＣｂとして繰り返し単位ＶＩに結合し、かつ該組成物中には追加的なフリーのＰＡＣ成分は存在しない。追加的に、本発明のこの観点において、前記ＰＡＣｂ部分は前記の構造（ＶＩＩＩ）のものであり、但し、Ｄ１、Ｄ２及びＤ３は、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、そして更に、Ｄ１、Ｄ２またはＤ３の少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である。更に、この態様において、先に記載したこの特定のＰＡＣｂのより具体的な態様は、該組成物のこのより具体的な態様にも適用可能である。例えば、Ｘｄは、アルキレン部分；アルキレンオキシ部分（この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、及び前記アルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する）；及びアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）、及びアルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）からなる群から選択されるアセタールを含む部分、但し、ｘは２～６であり、及び更に、前記アセタール含有部分のそれぞれにおいて、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、及び前記のアセタール含有部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する。
この態様の他の観点の一つでは、該ポリマー成分中の異なる繰り返し単位のためのモル％範囲は次の通りである：構造（Ｉ）の繰り返し単位が約７０モル％～約９８モル％である場合は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位については、これは、最大で約１０モル％までで存在し、構造（ＩＶ）の繰り返し単位及び構造（ＩＩＩ）の繰り返し単位については、これらの二つは、ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間の連結点を形成し、これは、該ポリマー成分繰り返し単位の約１モル％～約４モル％で存在する。この態様の一つの特定の観点では、Ｘａは、構造（ＶＩＩｂ）を有するアルキレンオキシアルキレン部分である。
Figure 0007369146000103
 この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩ）を有するアルキレン部分である。
Figure 0007369146000104
 この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩａ）を有するアルキレン部分である。
Figure 0007369146000105
 Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるこの態様の他の特定の観点の一つでは、該アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）を有する部分及び構造（ＶＩＩａ）を有する部分からなる群から選択される。
Figure 0007369146000106
 Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるこの態様の他の特定の観点の一つでは、該アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩ）を有する部分である。
Figure 0007369146000107
 Ｘｄがアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）であるこの態様の他の特定の観点の一つでは、該アルキレンアセタール部分のアルキレン部は、構造（ＶＩＩａ）を有する部分である。
Figure 0007369146000108
 この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－ＯＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分から選択される部分である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－ＯＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、アルキレン部分が独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分から選択される部分である。
この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は、ａｃが２～４の整数である構造（ＶＩＩｃ）を有する部分である。
Figure 0007369146000109
 この態様の他の特定の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｃ）を有する部分である。
Figure 0007369146000110
 本発明の他の観点の一つでは、これは、前記の構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む前記のポリマー成分を含む態様であり、ここで、該組成物のこの特定の観点では、ＰＡＣ成分はフリーのＰＡＣのみである。更に、この態様では、前記フリーのＰＡＣは、構造（Ｘ）を有し、但し、Ｄ１ｅ、Ｄ２ｅまたはＤ３ｅが構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である上述のものである。組成物のこのより具体的な態様では、ポリマー成分（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）、及び構造（Ｘ）を有するフリーのＰＡＣｂ、但し、ここでＤ１ｅ、Ｄ２ｅ、Ｄ３ｅ及びＤ４ｅは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ１ｃ、Ｄ２ｃ、Ｄ３ｅ及びＤ４ｅの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である、更に別のより具体的な態様。前記の構造（ＶＩＩＩａ）の部分を有するこのフリーのＰＡＣ（Ｘ）のより具体的な態様は、該組成物のこのより具体的な態様にも適用可能である。この態様の他の観点の一つでは、該ポリマー成分中の異なる繰り返し単位のためのモル％範囲は次の通りである：構造（Ｉ）の繰り返し単位については、約７０モル％～約９８モル％；構造（ＩＶ）の繰り返し単位及び構造（ＩＩＩ）の繰り返し単位については、これらの二つは、ポリマー成分の二つのポリマー鎖の間に連結点を形成し、これが、ポリマー成分の繰り返し単位の約１モル％～約４モル％で存在する。この態様の他の観点の一つでは、前記のフリーのＰＡＣは、本発明の組成物中の固形成分の約２重量％～約１０重量％を含む。
Figure 0007369146000111
ヘテロ環状チオール成分
前記の本発明の組成物の他の態様の一つでは、前記ヘテロ環状チオール成分が存在し、そしてこれは、ヘテロ環状化合物中のヘテロ原子として窒素、硫黄またはこれらの二つの原子の組み合わせを含む不飽和ヘテロ環状化合物のモノもしくはジ－チオール誘導体から選択される。この態様の他の観点の一つでは、前記のモノ－もしくはジ－チオール誘導体は、トリアゾール系、ジアゾール系、イミダゾール系またはチアジアゾール系ヘテロ環式化合物の誘導体である。この態様の他の観点の一つでは、前記モノ－もしくはジ－チオール誘導体は、トリアジン系ヘテロ環状化合物の誘導体である。この態様の他の観点の一つでは、前記モノ－もしくはジ－チオール誘導体は、構造（ＸＩａ）、（ＸＩｂ）、（ＸＩｃ）、（ＸＩｄ）及び（Ｘｉｅ）を有するものからなる群から選択される。
Figure 0007369146000112
塩基成分
前記の本発明の組成物のいずれにおいても、他の観点の一つでは、前記塩基成分は、大気圧下に１００℃を超える沸点及び少なくとも１のｐＫａを有するアミン化合物または複数種のアミン化合物の混合物から選択される。
前記の本発明の組成物の他の態様の一つでは、前記塩基成分は、構造（ＸＩＩａ）、（ＸＩＩｂ）、（ＸＩＩｃ）、（ＸＩＩｄ）、（ＸＩＩｅ）、（ＸＩＩｆ）、（ＸＩＩｇ）、（ＸＩＩｈ）、（ＸＩＩｉ）及び（ＸＩＩｊ）を有する化合物からなる群またはこの群からの複数種の化合物の混合物から選択され、但し、Ｒｂ１はＣ１～Ｃ２０飽和状アルキル鎖またはＣ２～Ｃ２０不飽和状アルキル鎖であり、Ｒｂ２、Ｒｂ３、Ｒｂ４、Ｒｂ５、Ｒｂ６、Ｒｂ７、Ｒｂ８、Ｒｂ９、Ｒｂ１０、Ｒｂ１１、Ｒｂ１２、及びＲｂ１３は、独立して、Ｈ、及びＣ１～Ｃ２０アルキルからなる群から選択される。
Figure 0007369146000113
溶剤成分
前記の本発明の組成物において、前記溶剤成分は有機溶剤である。適当な有機溶剤の例には、限定はされないが、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸シクロヘキシル、酢酸３－メトキシブチル、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、エチル－３－エトキシプロパノエート、メチル－３－エトキシプロパノエート、メチル－３－メトキシプロパノエート、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、ジアセトンアルコール、ピバル酸メチル、ピバル酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロパノエート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロパノエート、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、３－メチル－３－メトキシブタノール、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ガンマ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、テトラメチレンスルホン、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテルまたはジエチレングリコールジメチルエーテル、ガンマブチロラクトンなどが挙げられる。これらの溶剤は、単独でまたは二種以上のものの混合物として使用し得る。
一つの態様では、溶剤成分はＰＧＭＥＡ（１－メトキシ－２－プロパニルアセテート）である。
ここに開示及び特許請求される本発明のフォトレジスト組成物と適合性がありそして必要に応じてそれに添加できる他の任意選択の添加剤としては、レジスト層の性質などを改善するための補助樹脂、可塑剤、表面レベリング剤及び安定剤などが挙げられる。表面レベリング剤には、界面活性剤などを挙げ得る。界面活性剤には特に制限はなく、そしてそれの例には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、及びポリオキシエチレンオレインエーテル；ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、例えばポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル及びポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル；ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー；ソルビタン脂肪酸エステル、例えばソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノバルミテート、及びソルビタンモノステアレート；ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルのノニオン界面活性剤、例えばポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレンソルビタントリオレエート、及びポリオキシエチレンソルビタントリステアレート；フッ素化界面活性剤、例えばＦ－Ｔｏｐ ＥＦ３０１、ＥＦ３０３及びＥＦ３５２（ジェムコ社製）、Ｍｅｇａｆａｃ Ｆ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｒ０８、Ｒ３０、Ｒ９０及びＲ９４（大日本化学工業社製）、Ｆｌｏｒａｄ ＦＣ－４３０、ＦＣ－４３１、ＦＣ－４４３０及びＦＣ－４４３２（住友３Ｍ社製）、Ａｓａｈｉ Ｇｕａｒｄ ＡＧ７１０、Ｓｕｒｆｌｏｎ Ｓ－３８１、Ｓ－３８２、Ｓ－３８６、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６、Ｓｕｒｆｉｎｏｌ Ｅ１００４、ＫＨ－１０、ＫＨ－２０、ＫＨ－３０及びＫＨ－４０（旭硝子社製）；有機シロキサンポリマー、例えばＫＰ－３４１、Ｘ－７０－０９２及びＸ－７０－０９３（信越化学工業社製）；及びアクリル酸もしくはメタクリル酸ポリマー、例えばＰｏｌｙｆｌｏｗ Ｎｏ．７５及びＮｏ．９５（共栄社化学社製）などが挙げられる。
本発明の他の観点の一つは、前記の本発明の組成物のいずれかの組成物を基材上にコーティングする方法である。
本発明の他の観点の一つは、次のステップを含むレジストの画像形成方法である：
ｉ）本発明の組成物を基材上にコーティングしてレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉｉ）前記選択露光された膜を現像して、前記基材上にポジに画像形成されたレジスト膜を形成するステップ。
本発明の他の観点の一つは、次のステップを含むレジストの画像形成方法である：
ｉａ）本発明の組成物を基材上にコーティングしてレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉａ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉｉａ）前記選択露光されたレジスト膜をベークして、選択露光及びベークされたレジスト膜を形成するステップ；
ｉｖａ）前記選択露光及びベークされたレジスト膜を現像して、ポジに画像形成されたレジスト膜を前記基材上に形成するステップ。
本発明の他の観点の一つは、本発明による組成物のレジスト組成物としての使用である。
本発明の他の観点の一つは、好ましくは薄膜レジストまたは厚膜レジストであるレジスト膜を調製するための、本発明による組成物の使用である。
本発明の他の観点の一つは、基材をコーティングするための、本発明による組成物の使用である。
以下、本開示のより具体的な態様と、このような態様をサポートする実験結果について説明する。しかし、以下の開示は、例示のみを目的としたものであり、それ故、請求項に記載の発明の範囲を如何様にも限定することを意図したものではない点を指摘しておく。
材料
ＳＰＮ－５６０－Ｆは、Ａｌｌｎｅｘ ＵＳＡ Ｉｎｃ．社によって供給されるＡｌｎｏｖａｌ ＳＰＮ－５６０ Ｆａｓｔ ４４％ＰＧＭＥＡの名称で販売されているｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラックである。このノボラックの平均分子量は、Ｍｗ＝８，４３０及びＭｎ＝１，５２０である。このノボラックの溶解速度は、ＡＺ３００ＭＩＦ現像剤中で１，２００Å／秒である。
ＣＫＳ－６７０は、アイカ工業社によってＣＫＳ－６７０（Ｃ）の名称で販売されているビスフェノール－Ａ／ｍ－クレゾール－ホルムアルデヒドノボラックである。このノボラックの分子量は、ＭＷ＝９，０３４及びＭｎ＝２，１９５である。このノボラックの溶解速度は、ＡＺ３００ＭＩＦ現像剤中で９０００Å／秒である。
ＮＫ－２８０は、東洋合成工業社によってこの名称で販売されているＤＮＱ－ＰＡＣである。
これは、一般式（Ｘ）を有する材料の混合物であり、但し、式中、Ｄ１ｃ、Ｄ２ｃ、Ｄ３ｃ及びＤ４ｃは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、ここで、Ｄ１ｃ、Ｄ２ｃ、Ｄ３ｃまたはＤ４ｃの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり、そしてフェノール系部分Ｄ１ｃ、Ｄ２ｃ、Ｄ３ｃ及びＤ４ｃ基のうち平均して約２．８個は、（ＶＩＩＩａ）構造でエステル化されている。
Figure 0007369146000114
 ＮＩＴ ＰＡＧ：Ｎ－ヒドロキシナフタルイミドトリフレートは、Ｈｅｒａｅｕｓ ＰＭ ＮＡ Ｄａｙｃｈｅｍ ＬＬＣによってこの名称（ＮＩＴ ＰＡＧ，１００％，Ｔｅｃｈ，ｐｈｒ）で販売されている。
ＭＴＡ：添加剤、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ社から購入した（１Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－チオール）
ＴＥＡ：Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ社から購入した（トリエチルアミン）
ＰＧＭＥＡ：（１－メトキシ－２－プロパニルアセタート）；フォトレジスト調合物例のために使用した溶剤は、Ｍｅｒｃｋ ＫＧａＡ（独国、ダルムシュタット）の子会社であるＳｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社から入手した。
ＡＰＳ－４３０は、信越化学工業社（日本国、東京）の界面活性剤である。
Ｒ－２０１１は、ＤＩＣ Ｃｏｒｐ（独国、デュッセルドルフ）の界面活性剤である。
ＥＭＤ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏｒｐ．（Ｍｅｒｃｋ ＫＧａＡ（独国、ダルムシュタット）の子会社）
ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤は、ＥＭＤ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏｒｐ．（Ｍｅｒｃｋ ＫＧａＡ（独国、ダルムシュタット）の子会社）から入手した（別称では、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ））。
ＰＤ－１２６Ａは、ＨＥＸＩＯＮ（オハイオ州、コロンブス）によってＤｕｒｉｔｅＴＭＲｅｓｉｎ Ｄ＿ＨＥＸＩＯＮ ＰＤ－１２６Ａの名称で販売されているｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドである。
ＰＤ－４２７ＡＦは、ＨＥＸＩＯＮ（オハイオ州、コロンブス）によってＤｕｒｉｔｅＴＭＲｅｓｉｎ Ｄ＿ＨＥＸＩＯＮ ＰＤ－４２７ＡＦの名称で販売されているｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドである。
ＡＰＳ－４３７は、信越化学工業社（日本国、東京）の界面活性剤である。
ＣＬ－２３ノボラックは、旭有機材社（日本国、東京）によってＣＬ２３Ｆ１０Ｇの名称で販売されているノボラックポリマー（５０％ｍ－クレゾール／２０％ｐ－クレゾール／３０％２，５－キシレノール類、ホルムアルデヒド、Ｍｗ＝４，０００、ＤＲ＝１５．７５ｎｍ／秒）である。
４，４’－（１－（４－（２－（４－ヒドロキシフェニル）プロパン－２－イル）フェニル）エタン－１，１－ジイル）ジフェノール（ＴＰＰＡ）及び２，５－ジイソプロピルアニリン（ＤＩＰＡ）は、Ｍｅｒｃｋ ＫＧａＡ（独国、ダルムシュタット）の子会社であるＳｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社から入手した。
全ての他の化学品は、特に記載がなければ、Ｍｅｒｃｋ ＫＧａＡ（独国、ダルムシュタット）の子会社であるＳｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社から入手した。
ポリマーの分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定した。
フォトレジストの調製及び加工、厚膜レジスト調合物
記載した厚膜調合物例の成分を、それらをＰＧＭＥＡ中に溶解し、その後、０．２ミクロンＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）フィルターに通してろ過することによって、これらの例に記載の割合で混ぜ合わせた。サンプルサイズ、試験する典型的なレジスト調合物では、これらは約５０ｍＬ～約１００ｍＬのＰＧＭＥＡを含んだ。
ＡＳＭＬ ｉ線ステッパ ＰＡＳ５５００を、開口数を０．４８として、これらの例のレジスト膜の露光に使用した。Ｎｉｋｏｎ ＦＸ－６０１０ステッパも、記載のように一つの例において使用した。一部では、フォトレジストを次いで、現像の前にポスト露光第二ベークまたは熱処理に付す。
露光されたポジ作用フォトレジストコート基材は、通常はアルカリ性現像液を用いて液浸、パドルまたはスプレー現像によって、現像して露光領域を除去する。これらの例のレジストコーティングは、標準的な水性テトラメチルアンモニウムヒドロキシド溶液であるＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤を用いてパドル現像した。これらの基材は、全てのまたは実質的に全てのフォトレジストコーティングが露光領域から溶解されるまで、現像剤中に留める。次いで、これらのウェハをＤＩ水で徹底的にすすいだ。
レジストパターンプロフィルの断面を、走査電子顕微鏡を用いて検査した。レジストプロフィルを評価するために、Ｈｉｔａｃｈｉ Ｓ－４７００またはＨｉｔａｃｈｉ ＳＵ８０３０ＳＥＭを使用した。
厚膜レジスト例
ポリマー合成例
厚膜レジストポリマー合成例１（ジビニルエーテルから誘導された連結基を介して連結されかつＤＮＱ部分で官能化されたポリマー主鎖を有するノボラック樹脂）
適切な機械的攪拌手段、加熱手段及び還流冷却器を備えた５００ｍＬ容積の丸底フラスコに、ＰＧＭＥＡ中のｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック（ＳＰＮ－５６０－Ｆ）の４７．４重量％溶液１５０．４ｇ、ＰＧＭＥＡ４１．２ｇを加えたＤＮＱ（ＮＫ－２８０）３．３５９ｇ、及び１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル（ＤＶＥ）５．８８ｇ（０．０３モル）を仕込んだ。その結果、各々の固形成分の全固形物重量％含有率は次のようになった：８８．７８６重量％のノボラック、７．０１８重量％のＤＶＥ、及び４．１９６重量％のＮＫ－２８０。還流冷却器をその頂部でシールして、蒸留による材料の損失を防いだ。この混合物を、室温下に攪拌しながら溶解させて透明な反応溶液を得た。固形成分が溶解した後、この透明反応溶液を攪拌しながら５５℃までゆっくりと加熱し、そしてこの温度に約１６～１８時間維持した。生じた溶液１９５．８３ｇは、４０．８９重量％の固形物（生じたポリマーの平均分子量はＭｗ＝３３，８１６、Ｍｎ＝１，７７１）を含み、そしてこれを、厚膜レジスト調合物１を調製するために使用した。
厚膜レジストポリマー合成例２（ジビニルエーテルから誘導された連結基を介して連結されかつＤＮＱ部分で官能化されたポリマー主鎖を有するノボラック樹脂）
適切な機械的攪拌手段、加熱手段及び還流冷却器を備えた５００ｍＬ容積の丸底フラスコに、ＤＮＱ（ＮＫ－２８０）４．１２ｇを加えたＰＧＭＥＡ中のｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック（ＳＰＮ－５６０－Ｆ）の４７．４重量％固形物溶液１８５．４６ｇ、ＰＧＭＥＡ４６．６ｇ、及び１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル（ＤＶＥ）７．２４ｇ（０．０３７モル）を仕込んだ。その結果、各々の固形成分の全固形物重量％含有率は次のようになった：８８．５５重量％のノボラック、７．２９２重量％のＤＶＥ、及び４．１５重量％のＮＫ－２８０。還流冷却器をその頂部でシールして、蒸留による材料の損失を防いだ。この混合物を、室温下に攪拌しながら溶解させて透明な反応溶液を得た。固形成分が溶解した後、この透明反応溶液を攪拌しながら５５℃までゆっくりと加熱し、そしてこの温度に約１６～１８時間維持した。生じた溶液２４２ｇは、４１重量％の固形物（生じたポリマーの平均分子量はＭｗ＝１４，８７１、Ｍｎ＝１，６２７）を含み、そしてこれを、厚膜レジスト調合物２を調製するために使用した。
厚膜レジストポリマー合成例３（ジビニルエーテルから誘導された連結基を介して連結されたポリマー主鎖を有するノボラック樹脂）
適切な機械的攪拌手段、加熱手段及び還流冷却器を備えた５００ｍＬ容積の丸底フラスコに、ｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック（ＳＰＮ－５６０－Ｆ）のＰＧＭＥＡ中の４７．４重量％溶液１５０．４ｇ、ＤＮＱ（ＮＫ－２８０）３．３５９ｇ、ＰＧＭＥＡ４１．２ｇ、及び１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル（ＤＶＥ）５．８８ｇ（０．０３モル）を仕込んだ。その結果、各々の固形成分の全固形物重量％含有率は次のようになった：８８．７８６重量％のノボラック、７．０１８重量％のＤＶＥ、及び４．１９６重量％のＮＫ－２８０。還流冷却器をその頂部でシールして、蒸留による材料の損失を防いだ。この混合物を、室温下に攪拌しながら溶解させて透明な反応溶液を得た。固形成分が溶解した後、この透明反応溶液を攪拌しながら５５℃までゆっくりと加熱し、そしてこの温度に約１６～１８時間維持した。生じた溶液１９５．８３ｇは、４０．８９重量％の固形物（生じたポリマーの平均分子量はＭｗ＝３３，８６１、Ｍｎ＝１，７７１）を含み、そしてこれを、厚膜レジスト調合物３を調製するために使用した。
厚膜レジストポリマー合成例４
適切な機械的攪拌手段、加熱手段及び還流冷却器を備えた５００ｍＬ容積の丸底フラスコに、ビスフェノール－Ａ／ｍ－クレゾール－ホルムアルデヒドノボラック（ＣＫＳ－６７０）の３６重量％固形物溶液１５２．８４ｇ（固形物含有量５５．０２ｇ；０．１５２８モル）、及び１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル（ＤＶＥ）１０．８３５ｇ（０．０５５３モル）を仕込んだ。ＣＫＳ－６７０ノボラックとＤＶＥとの全モル数に対するＤＶＥのモル比は、０．２６５７であり、これは、ＣＫＳ－６７０ノボラックとＤＶＥとの合計重量に対するＤＶＥの重量比０．１６４５に相当する。このＣＫＳ－６７０溶液を先ず１２６℃に加熱し、次いでＤＶＥを１５分間かけて加えた。この反応を、１２５℃で更に１２時間続け、次いで室温に冷却した。最終反応溶液（１６３．６５ｇ）を、ＰＧＭＥＡを用いて、固形物含有率４０．２２６重量％から固形物含有率３５重量％まで希釈した。この溶液は、Ｓｉウェハ上に２，０００ｒｐｍでスピンコートし、ホットプレート上で接触状態で１１０℃で１２０秒間ソフトベークした時に、５．８２μｍ～５．９９μｍのコートフィルムを与えた。このコーティングの溶解速度を、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦパドル現像剤を６分間使用して測定した。ポリマー溶解速度は４２．７Å／秒である。
厚膜レジストポリマー合成例５
適切な機械的攪拌手段、加熱手段及び還流冷却器を備えた５００ｍＬ容積の丸底フラスコに、ビスフェノール－Ａ／ｍ－クレゾール－ホルムアルデヒドノボラック（ＣＫＳ－６７０）６５．０ｇの３６％固形物溶液１８０ｇ（６５．０ｇ、０．００７１９モル）及びＤＶＥ７．７８ｇ（０．０３９７モル）を仕込んだ。ＣＫＳ－６７０ノボラックとＤＶＥとの全モル数に対するＤＶＥのモル比は、０．１０６９であり、これは、ＣＫＳ－６７０ノボラックとＤＶＥとの合計重量に対するＤＶＥの重量比０．１０６９に相当する。このＣＫＳ－６７０溶液を先ず１２６℃に加熱し、次いでＤＶＥを１５分間かけて加えた。この反応を、１２５℃で更に２７時間続け、次いで室温に冷却した。この最終反応溶液（１８０．８５ｇ）は、４０．２４固形物重量％である。この溶液は、Ｓｉウェハ上に１，６００ｒｐｍでスピンコートし、ホットプレート上で接触状態で１１０℃で１２０秒間ソフトベークした時に、９．０６μｍのコートフィルムを与えた。このコーティングの溶解速度は、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦパドル現像剤を１３３秒間用いて測定し、その中でフィルム全体が完全に現像され、６８１Å／秒の溶解速度が測定された。
厚膜レジスト調合物例
厚膜レジスト調合物例
厚膜レジスト調合物１
レジスト調合物を、ＮＩＴ ＰＡＧ（Ｎ－ヒドロキシナフタルイミドトリフレート）、ＭＴＡ添加剤（１Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－チオール）、塩基（ＴＥＡ（トリエチルアミン））、及び界面活性剤（ＡＰＳ－４３７）を、厚膜レジストポリマー合成例１からの溶液中に溶解し、そしてこのサンプルを、ＰＧＭＡＥ溶剤を用いて溶剤中３５．１６重量％まで、適当な粘度に希釈することによって、調製した。その結果、各成分についての全固形物重量％は次の通りであった。ポリマー（９９．２４重量％）；ＮＩＴ（０．６０３重量％）；ＴＥＡ（０．０２７重量％固形物）；ＭＴＡ（０．０４８６重量％）；ＡＰＳ－４３７（０．０８２重量％）。
厚膜レジスト調合物２
レジスト調合物を、厚膜レジストポリマー合成例２からの溶液を使用した点、及びＰＧＭＥＡ中のレジストの固形物重量％を溶剤中３９．４２重量％とした点、及び各成分について生じた全固形物重量％が次の通りであった点を除いて、厚膜レジスト調合物１の場合と同様に溶解することによって調製した：ポリマー（９９．２４５重量％）；ＮＩＴ（０．６０８重量％）；ＴＥＡ（０．０２８９重量％）；ＭＴＡ（０．０４７７重量％）；ＡＰＳ－４３７（０．０６９６重量％）。
厚膜レジスト調合物３
レジスト調合物を、厚膜レジストポリマー合成例３からの溶液を使用した点、ＰＧＭＥＡを用いて溶剤中３５．９５重量％に希釈した点、及び全固形物の重量％で以下の成分を次のように加えた点を除いて、厚膜レジスト調合物１の場合と同様に溶解することによって調製した：ポリマー（９３．２７重量％）；ＮＫ－２８０（５．９８８５重量％）；ＮＩＴ（０．６００重量％）；ＤＩＰＡ（０．０３８５重量％）；ＡＰＳ－４３７（０．０５２重量％）。
厚膜レジスト比較例１
標準的なＤＮＱノボラックレジスト調合物を、２７．５８ｇの（ＣＬ－２３）ノボラック、６．０５５ｇのＮＫ－２８０、１．３６５ｇの４，４’－（１－（４－（２－（４－ヒドロキシフェニル）プロパン－２－イル）（フェニル）エタン－１，１－ジイル）ジフェノール（ＴＰＰＡ）、０．０１７５ｇの界面活性剤（ＡＰＳ－４３７）を６５ｇのＰＧＭＥＡ中に溶解して、ＰＧＭＥＡ中３５．０重量％の溶液とすることによって、調製した。その結果、各成分についての全固形物重量％は次の通りであった。ポリマー（７８．８重量％）；ＮＫ－２８０（１７．３重量％）；ＴＰＰＡ（３．９重量％）；ＡＰＳ－４３７（０．０５０重量％）。
厚膜レジストのレジスト加工
レジスト溶液を６インチ径Ｃｕウェハ上に適当なスピン速度（１，０００～２，０００ｒｐｍ）でスピンコートして、所望の膜厚を形成する。このコーティングされたレジストを、１１０℃で１２０秒間、接触式ホットプレート上でソフトベークする。次いで、このレジストを、ＡＳＭＬ０．４８ＮＡステッパでｉ線露光（３６５ｎｍ）を用いてマスクパターンに露光する。ポスト露光ベーク（ＰＥＢ）を９０℃で６０秒間適用し、次いでこのウェハを、標準的なＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤を用いて２×６０秒間のパドル（合計１２０秒間）で現像する。
それぞれ厚膜ポリマー１または厚膜ポリマー２を用いて調合した、ポリマーに連結したＤＶＥ及びＤＮＱ部分の両方を有する（言い換えれば、アセタール分岐点及びアセタール連結ＤＮＱ部分の両方がポリマー上に存在している）厚膜レジスト調合物１及び２は、５：１超の高いアスペクト比パターンが、５μ厚膜でＣｕ基材上に、垂直側壁プロフィルをもって形成され、４．０μｍ０．９μｍ等ライン／スペースを解像したことを示した。これは、プロフィルに顕著な傾斜を示した標準的な厚膜レジスト調合物である比較厚膜レジスト１と比較すると際立っている。追加的に、厚膜調合物１及び２は、１５０ｍＪ／ｃｍ２の線量で最小で０．９ミクロンまでの解像度を示し、他方では、標準的なノボラック調合物である比較厚膜レジスト１は３４０ｍＪ／ｃｍ２を必要とし、そしてこれでも、本発明のサンプルの場合は最小１μｍまでの非常に傾斜の強い図形しか描画できなかった線量の二倍超である。図４は、厚膜レジスト調合物１を用いて得たＳＥＭ画像を示す。図５は、厚膜レジスト比較例１を用いて得たＳＥＭ画像を示す。
ＤＶＥのみがポリマーに連結し（言い換えれば、アセタール連結点のみが存在する）及びＤＮＱが調合中にフリーの成分として加えられた厚膜レジスト調合物３も、５：１超の高いアスペクト比パターンが、５μｍ厚膜でＣｕ基材上に垂直な側壁プロフィルを持って形成され、４．０μｍ～０．９μｍ等ライン／スペースを解像したことを示した。しかし、これらの調合物では、真っ直ぐな壁プロフィルが得られたものの、比較的小さい解像度では僅かなＴトップが観察された。この調合物は、有益な真っすぐな壁の特性と、標準的なＤＮＱ／ノボラック樹脂（厚膜レジスト比較例１）と比べて、真っ直ぐな壁プロフィルを維持するためにかなりより小さい解像線量をなおも示した。
ディスプレーデバイス製造に適した薄膜レジスト調合物
薄膜レジスト調合物に使用した装置
ＡＳＭＬ ｉ線ステッパＰＡＳ５５００及びＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇ，ｈ線ステッパを、開口数をそれぞれ０．４８（ｉ線）及び０．３０（ｇ，ｈ線）として例のレジスト膜の露光に使用した。一部の例では、フォトレジストを次いで、現像の前にポスト露光第二ベークまたは熱処理に付した。
ＨＭＤＳを下塗りしたＳｉウェハ上にフォトレジストをスピンコートし、そしてホットプレート上でベークし、次いでｇ，ｈ線またはｉ線ステッパを用いて露光した。レジストをコーティングしそして露光したこれらの基材を次いで、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤を用いて現像して、露光領域を除去した。最後に、これらのウェハを次いでＤＩ水ですすいだ。
レジストパターンプロフィルの断面を、Ｈｉｔａｃｈｉ Ｓ－４７００またはＳＵ８０３０走査電子顕微鏡を用いて検査した。
薄膜ポリマー合成例
ポリマー合成例
ポリマー合成例１
２リットル容積の丸底フラスコに、５００ｇのｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０－Ｆ、ＰＧＭＥＡ中４７．２重量％）を仕込み、そして更に、２２５．４ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、２８．３ｇのエチルビニルエーテルを、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、７７ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、４時間行った。ＰＧＭＥＡ中１０重量％のトリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン溶液１．４４ｇを加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、約３５重量％のエトキシエチル保護化ノボラック樹脂を含むものであった。生じたエトキシエチル保護化ノボラック樹脂は、１，４９６ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び８，６５１ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有した。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例２
２５０ｍＬの丸底フラスコに、２３．６ｇのｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＨＥＸＩＯＮ社のＰＤ－４２７ＡＦ）を仕込み、そして５１．７２ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を、透明溶液が生じるまで攪拌した。次いで、４．２５ｇのエチルビニルエーテルを、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、１１．４ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、４時間攪拌した。０．２１ｇのＰＧＭＥＡ中の２５．７ｍｇのトリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミンの溶液を一度に全て加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、約３５重量％のエトキシエチル保護化ノボラック樹脂を含むものであった。生じたエトキシエチル保護化ノボラック樹脂は、１，５８４ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び４，７７３ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有した。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例３
２５０ｍＬ容積の丸底フラスコに、５０．０ｇのｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０－Ｆ、ＰＧＭＥＡ中４７．２重量％）を仕込み、そして更に、２３．０７ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、２．８３ｇのエチルビニルエーテル及び０．２１ｇのジエチレングリコール（ＤＥＧ）を、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、９．２ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、一晩攪拌した。ＰＧＭＥＡ中の１０重量％トリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン溶液０．１７ｇ（ｐ－トルエンスルホン酸一水和物に対して１．１当量）を一度に全て加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、約３４．９７重量％のエトキシエチル保護化ノボラック樹脂を含むものであった。ジエチレングリコールから誘導された連結基を介して連結したポリマー主鎖を有する生じたエトキシエチル保護化ノボラック樹脂ポリマーは、２，１０７ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び１１，７１０ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有した。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例４
２５０ｍＬ容積の丸底フラスコに、５０．０ｇのｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０－Ｆ、ＰＧＭＥＡ中４７．２重量％）を仕込み、そして更に、２５．７１ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、４．２５ｇのエチルビニルエーテル及び０．２１ｇのジエチレングリコール（ＤＥＧ）を、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、１１．８ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、一晩攪拌した。ＰＧＭＥＡ中の１０．０重量％トリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン溶液０．２２ｇ（ｐ－トルエンスルホン酸一水和物に対して１．１当量）を一度に全て加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、約３４．９６重量％のエトキシエチル保護化ノボラック樹脂を含むものであった。ジエチレングリコール（ＤＥＧ）から誘導された連結基を介して連結したポリマー主鎖を有する生じたエトキシエチル保護化ノボラック樹脂ポリマーは、２，１３７ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び１２，３３１ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有した。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例５
２５０ｍＬ容積の丸底フラスコに、５０．０ｇのｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０－Ｆ、ＰＧＭＥＡ中４７．２重量％）を仕込み、そして更に、２６．１０ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、４．２５ｇのエチルビニルエーテル及び０．４２ｇのジエチレングリコールを、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、１２．２ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、一晩攪拌した。０．２７ｇのＰＧＭＥＡ中の２６．３ｍｇのトリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン溶液を加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、約３４．９７重量％のエトキシエチル保護化ノボラック樹脂を含むものであった。ジエチレングリコールから誘導された連結基を介して連結したポリマー主鎖を有する生じたエトキシエチル保護化ノボラック樹脂ポリマーは、１，６９３ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び１３，８０２ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有した。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例６
２５０ｍＬ容積の丸底フラスコに、５０．０ｇのｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０－Ｆ、ＰＧＭＥＡ中４７．２重量％）を仕込み、そして更に、２６．４９ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、４．２５ｇのエチルビニルエーテル及び０．６３ｇのジエチレングリコール（ＤＥＧ）を、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、１３．４ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、一晩攪拌した。０．２５ｇのＰＧＭＥＡ中の２６．６ｍｇのＴＭＥＥＡ（トリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン）の溶液を加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、約３４．９７重量％のエトキシエチル保護化ノボラック樹脂を含むものであった。ジエチレングリコールから誘導された連結基を介して連結したポリマー主鎖を有する生じたエトキシエチル保護化ノボラック樹脂ポリマーは、１，６９３ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び１３，８０２ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有した。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例７
２５０ｍＬ容積の丸底フラスコに、５０．０ｇのノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０－Ｆ、ＰＧＭＥＡ中４７．２重量％）を仕込み、そして更に、２６．８７ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、４．２５ｇのエチルビニルエーテル及び０．８３４ｇのジエチレングリコールを、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、１１．９ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、一晩攪拌した。ＰＧＭＥＡ中の１０重量％ＴＭＥＥＡ（トリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン）溶液を一度に全て加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、約３４．９６重量％のエトキシエチル保護化ノボラック樹脂を含むものであった。ジエチレングリコールから誘導された連結基を介して連結したポリマー主鎖を有する生じたエトキシエチル保護化ノボラック樹脂ポリマーは、２，１６１ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び１２，９９０ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有した。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例８
２５０ｍＬ容積の丸底フラスコに、５０．０ｇのｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０－Ｆ、ＰＧＭＥＡ中４７．２重量％）を仕込み、そして更に、２４．４３５ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、２．８３ｇのエチルビニルエーテル及び０．９４５ｇの４，４’－イソプロピリデンジシクロヘキサノール（ＤＥＧ）を、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、８．０ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、一晩攪拌した。ＰＧＭＥＡ中１０重量％のトリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン溶液０．１５ｇを加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、約３５重量％のエトキシエチル保護化ノボラック樹脂を含むものであった。４，４’－イソプロピリデンジシクロヘキサノールから誘導された連結基を介して連結したポリマー主鎖を有する生じた樹脂ポリマーは、２，０６０ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び１１，５８９ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有した。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例９
２５０ｍＬの丸底フラスコに、ｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０－Ｆ、ＰＧＭＥＡ中４７．２重量％）５０．０ｇ、６－ジアゾ－５，６－ジヒドロ－５－オキソ－１－ナフタレンスルホン酸との３，３’－ビス（２－ヒドロキシ－５－メチルベンジル）－４，４’－ジヒドロキシ－５，５’－ジメチルジフェニルメタンエステル（東洋合成社製、ＮＫ－２８０）１．１８ｇ、及びＰＧＭＥＡ２６．５８ｇを仕込み、次いでこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、３．５４ｇのエチルビニルエーテル及び０．２１ｇのジエチレングリコールを、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、１２．９ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、一晩攪拌した。ＰＧＭＥＡ中１０．０重量％のトリス［２－（２ーメトキシエトキシ）エチル］アミン溶液０．２４ｇを加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、ジエチレングリコールから誘導された連結基を介して連結されており、ＤＮＱ ＮＫー２８０で官能化されたポリマー主鎖を有し、かつ１，５９６ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び１０，６０８ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する、エトキシエチル保護化ノボラック樹脂を約３４．９４重量％含むものであった。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例１０
２ｍＬ容積の丸底フラスコに、７５０．３ｇのノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０－Ｆ、ＰＧＭＥＡ中４７．２重量％）を仕込み、そして３５２．１ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、４２．５ｇのエチルビニルエーテル及び６．２６ｇのジエチレングリコールを、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、１１５．０ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、一晩攪拌した。ＰＧＭＥＡ中の１０重量％のトリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン溶液２．１５ｇを加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、ジエチレングリコールから誘導された連結基を介して連結したポリマー主鎖を有するノボラック樹脂ポリマーを約３４．９８重量％で含むものであった。生じた樹脂は、１，６０８ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び１１，３４９ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
ポリマー合成例１１
２Ｌ容積の丸底フラスコに、３６０．５ｇのｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＨＥＸＩＯＮ社製ＰＤ－１２６Ａ）を仕込み、そして７８９．９ｇのＰＧＭＥＡをそれに加え、そしてこの混合物を攪拌して透明な溶液とした。次いで、６４．９ｇのエチルビニルエーテルを、攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、１７６．２ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。反応を、密閉系中で室温下に、一晩攪拌した。ＰＧＭＥＡ中の１０．０重量％のトリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン溶液３．３ｇを加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、約３４．９重量％のエトキシエチル保護化ノボラック樹脂を含むものであった。生じた樹脂は、９８０ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）及び２，２５７ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する。調製したままの生成物を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。
調合物例：
薄膜調合物例１
３５％エトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１）２．３４ｇ、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート０．４１４ｇ、４－イソプロリルチオ－Ｎ－（１，８－ナフタルイミド）トリフルオロメタンスルホネート０．０２７８ｇ、トリオクチルアミン０．００２３ｇをＰＧＭＥＡ１２．２１ｇ中に溶解することによって、化学増幅型レジスト（ＣＡＲ）組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてＡＳＭＬ ｉ線ステッパを用いて露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、２００ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例２）
３５％エトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１）２．３４ｇ、ＰＧＭＥＡ中３０％のＮＫ－２８０ １．８３ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート３．７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．３１ｇ、及びＰＧＭＥＡ５．２１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、２００ｍＪ／ｃｍ２で０．６０μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例３
ＰＧＭＥＡ中３５％のＤＥＧ連結－エトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例３）６．７ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート２．７７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３４ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、６０ｍＪ／ｃｍ２で０．７０μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例４
ＰＧＭＥＡ中３５％の、ジエチレングリコールによって連結されたＤＥＧ連結－エトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例５）６．７ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオナフタルイミドトリフレート２．７７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３４ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによって、ＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、２００ｍＪ／ｃｍ２で０．６０μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例５
ＰＧＭＥＡ中３５％のＤＥＧ連結－エトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例６）６．７ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート２．７７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３４ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、１２０ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例６
ＰＧＭＥＡ中３５％のＤＣＨ連結－エトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例８）６．７ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート２．７７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３４ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、１２０ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例７
ＰＧＭＥＡ中３５％のＤＥＧ連結－エトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例７）６．７ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート２．７７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３４ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、２００ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例８
ＰＧＭＥＡ中３５％のＤＥＧ連結－エトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例７）６．７ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート２．７７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３４ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、２００ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例９
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１）６．９ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＩｒｇａｃｕｒｅ １０８ ２．７７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３５ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、１００ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１０
ＰＧＭＥＡ中３５％の、ジエチレングリコールで連結されたエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例３）６．９ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＩｒｇａｃｕｒｅ１０８ ２．７７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３５ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、６０ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１１
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１１）６．９ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート２．７７ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３５ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、８０ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１２
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１）６．３ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート０．９２ｇ、ＰＧＭＥＡ中３０％のＮＫ－２８０ ０．９２ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート４．１４ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３ｇ、及びＰＧＭＥＡ２．５１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、２００ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１３
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１）６．６７ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート０．９２ｇ、ＰＧＭＥＡ中３０％のＮＫ－２８０ ０．４６ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート４．１４ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３ｇ、及びＰＧＭＥＡ２．５８ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、１２０ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１４
ＰＧＭＥＡ中３５％の、ジエチレングリコールによって連結されたエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例３）６．６７ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート０．９２ｇ、ＰＧＭＥＡ中３０％のＮＫ－２８０ ０．４６ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート（１１３Ｔ）４．１４ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３ｇ、及びＰＧＭＥＡ２．５８ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、１００ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１５
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１）６．３１ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．８４ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート２．７８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２３ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．８４ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、２００ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１６
ＰＧＭＥＡ中３５％の、ジエチレングリコールで連結されかつＮＫ－２８０がグラフトしたエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例９）８．０４ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．６５ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート３．３３ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２８ｇ、及びＰＧＭＥＡ４．６８ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、１６０ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１７
ＰＧＭＥＡ中３５％の、ジエチレングリコールで連結されかつＮＫ－２８０がグラフトしたエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例９）８．０３ｇ、３０％２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．６５ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＮ－ヒドロキシ－４－イソプロリルチオ－ナフタルイミドトリフレート３．３２ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン０．２６ｇ、及びＰＧＭＥＡ４．７１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して、１２０ｍＪ／ｃｍ２で０．５５μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１８
ＰＧＭＥＡ中３５％の、ジエチレングリコールで連結されたエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１０）８．０１ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％の２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート４．９５ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＩｒｇａｃｕｒｅ１０３ ０．９２ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．４７ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のモナゾリン Ｃ０．１８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ－２１１１ ０．９０ｇ及びＰＧＭＥＡ２．５８ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物を、ＨＭＤＳを下塗りしていないケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇ，ｈ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して１４０ｍＪ／ｃｍ２で０．７０μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例１９
ＰＧＭＥＡ中３５％の、ジエチレングリコールで連結されたエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１０）３．１６ｇ、ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１１）６．３３ｇ、ＰＧＭＥＡ中２０％の２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート２．９３ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＩｒｇａｃｕｒｅ１０３ １．０９ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．５５ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のモナゾリンＣ０．１８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ－２０１１ ０．０９ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．６８ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物を、ＨＭＤＳを下塗りしていないケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇ，ｈ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して６０ｍＪ／ｃｍ２で０．７０μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例２０
ＰＧＭＥＡ中３５％の、ジエチレングリコールで連結されたエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１０）１．５６ｇ、ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１１）７．９３ｇ、ＰＧＭＥＡ２０％の２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート２．９３ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＩｒｇａｃｕｒｅ１０３ １．０９ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のＢｏｃ－Ｌ－アラニンメチルエステル０．３２ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のモナゾリンＣ０．１８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ－２０１１ ０．０９ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物を、ＨＭＤＳを下塗りしていないケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇ，ｈ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して４５ｍＪ／ｃｍ２で０．７０μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例２１
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１１）１１２．０７ｇ、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート６．９１ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＩｒｇａｃｕｒｅ１０３ １２．８５ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン（ＴＯＡ）６．５２ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のモナゾリン Ｃ１．２８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ－２０１１ １．０６ｇ及びＰＧＭＥＡ３９．３１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物を、ＨＭＤＳを下塗りしていないケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇ，ｈ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して３５ｍＪ／ｃｍ２で０．７０μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物例２２
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂（ポリマー合成例１１）１１２．０７ｇ、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート６．９１ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＩｒｇａｃｕｒｅ１０３ １２．８５ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン６．５２ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のモナゾリン Ｃ０．８５ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ－２０１１ １．０６ｇ及びＰＧＭＥＡ３９．７４ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物を、ＨＭＤＳを下塗りしていないケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇ，ｈ線ステッパによって露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像して３０ｍＪ／ｃｍ２で０．７０μｍＬＳ（１：１）レジストパターンを得た。
薄膜調合物比較例１
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化ノボラック（ポリマー合成例１）８．４８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％の４－イソプロリルチオ－Ｎ－（１，８－ナフタルイミド）トリフルオロメタンスルホネート３ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２５７ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．３７ｇを混合することによってＣＡＲ組成物を調製した。
このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパによって露光し、そしてＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像した。２μｍライン／スペース１：１パターンが、１４０ｍＪ／ｃｍ２で得られたが、全てのパターンが深刻なＴトップを示し、これらは有用ではなかった。
薄膜調合物比較例２
ＰＧＭＥＡ中４７．５％のノボラック樹脂（ＳＰＮ ５６０－Ｆ）、ＰＧＭＥＡ中３０％の２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３９ｇ、及びＰＧＭＥＡ８．６０ｇを混合することによって組成物を調製した。
このノボラック及びＤＮＱ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、マスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパで露光し、そしてＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤を用いて６０秒間現像したが、膜は現像剤中に溶解し、パターンは得られなかった。
薄膜調合物比較例３
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護化（別の言い方では、エチルビニルエーテルとの反応によって保護された）ノボラック樹脂（ポリマー合成例１）、ＰＧＭＥＡ中３０％の２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート１．３９ｇ、及びＰＧＭＥＡ６．８２ｇを溶解することによって、ＣＡＲ組成物を調製した。このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、９０℃／９０秒間でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパで露光し、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤で６０秒間現像したが、感度は悪く、レジストは、２００ｍＪ／ｃｍ２でも開かなかった。
薄膜調合物例１～２２に示されるように、ＣＡＲ混合物は、ポスト露光ベーク（ＰＥＢ）を行わなくとも、高い解像度及び高い感度を有する。これは、アセタール保護化ノボラック樹脂、ＤＮＱ、光酸発生剤及び塩基を含むＣＡＲ組成物によって達成できる。
比較例１は、エトキシエチルエーテル保護化ノボラック樹脂、光酸発生剤及び塩基から構成されるＣＡＲを示す。この調合物は、ポスト露光ベーク（ＰＥＢ）無しでも画像を与えたが、全てのパターンが深刻なＴトップを示し、デバイスの製造には有用ではなかった。
比較例２は、ノボラック樹脂及びＤＮＱから構成されるレジストを実証するものである。現像の後に膜は完全に溶解し、パターンは得られなかった。
比較例３は、エトキシエチルビニルエーテル保護化ノボラック樹脂及びＤＮＱから構成されるＣＡＲを示す。この調合物は、ＰＥＢ無しで画像を与えたが、２００ｍＪ／ｃｍ２以下ではパターンが得られなかった。
本願は特許請求の範囲に記載の発明に係るものであるが、本願の開示は以下も包含する：
１．
ポリマー成分、光酸発生剤成分（ＰＡＧ）、光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分、塩基成分、溶剤成分、任意選択に及びヘテロ環状チオール成分を含むレジスト組成物であって、
前記ポリマー成分は、フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位と、酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位とを含むノボラック誘導体であり、但し、
・前記酸解裂性アセタール部分は、次のもの：
・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分、
・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する、二官能性アセタール含有部分；及び
・・これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物；
からなる群から選択され、及び更に
・前記ＰＡＣ成分は次のもの：
・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ成分で官能化された部分を含む前記アセタール；
・・フリーのＰＡＣ成分；及び
・・これらの二種のＰＡＣ成分の混合物；
からなる群から選択される、前記レジスト組成物。
２．
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）を有する繰り返し単位を含み、但し、Ｒａ及びＲｃは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ及びＲｄは独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり、そしてｎａ及びｎｃは独立して０～３であり、ｎｂ及びｎｄは独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、及びｎｄとｎｃとの合計はそれぞれ３を超えず；Ｒｅ及びＲｆは独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、及び
前記ＰＡＣ成分が、フリーのＰＡＣを含む、
前記１．に記載の組成物。
Figure 0007369146000115
 ３．
構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、約６０モル％～約９８モル％で存在し、及び構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位が最大で約４０モル％までで存在する、前記２．に記載の組成物。
４．
構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、約７０モル％～約９８モル％で存在する、前記２．または３．に記載の組成物。
５．
構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位が、最大で約２０モル％までで存在する、前記２．～４．のいずれか一つに記載の組成物。
６．
ｎｂ及びｎｄが両方とも０である、前記２．～５．のいずれか一つに記載の組成物。
７．
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含み、ここで、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、
Figure 0007369146000116
 によって示される位置を介して互いに結合されて、二官能性アセタール含有部分を形成し、この二官能性アセタール含有部分は、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含み、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成し、及び更に、
Ｒａ、Ｒｇ及びＲｋが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ及びＲｌが独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり、及びｎａ、ｎｇ及びｎｋが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ及びｎｌが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｇとｎｈとの合計及びｎｋとｎｌとの合計がそれぞれ３を超えず、及び更に；
Ｒｉ及びＲｍが独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、及び更に；
Ｘａが、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ’ －部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び更に；
前記ＰＡＣ成分が、フリーのＰＡＣ成分を含む、
前記１．に記載の組成物。
Figure 0007369146000117
 ８．
構造（Ｉ）を有する前記繰り返し単位が、約６０モル％～約９８モル％で存在し、及び構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分が、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位の合計のモル％がポリマー成分の全繰り返し単位の約２５モル％を超えないものである、前記７．に記載の組成物。
９．
構造（Ｉ）を有する前記繰り返し単位が、約７０モル％～約９８モル％で存在し、及び構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分が、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位の合計のモル％がポリマー成分の全繰り返し単位の約２５モル％を超えないものである、前記７．または８．に記載の組成物。
１０．
ｎｂ、ｎｈ及びｎｌが０である、前記７．～９．のいずれか一つに記載の組成物。
１１．
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含むものであり、但し、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位は、
Figure 0007369146000118
 によって示される位置を介して互いに結合して、二官能性アセタール含有部分を形成し、この二官能性アセタール含有部分は、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含み及び前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成し、及び更に、Ｒａ、Ｒｇ及びＲｎが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ及びＲｏが独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり、及びｎａ、ｎｇ及びｎｎが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ及びｎｏが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｇとｎｈとの合計及びｎｎとｎｏとの合計がそれぞれ３を超えず；
Ｒｉ及びＲｍ２が独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され；Ｘｂが－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり；
Ｘｃが、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ’ －部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び更に；
前記ＰＡＣ成分が、フリーのＰＡＣ成分を含む、
前記１．に記載の組成物。
Figure 0007369146000119
 １２．
構造（Ｉ）を有する前記繰り返し単位が、約７０モル％～約９８モル％で存在し、及び構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分が、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）の繰り返し単位の合計のモル％がポリマー成分の全繰り返し単位の約２５モル％を超えないものである、前記１１．に記載の組成物。
１３．
構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、約７０モル％～約８０モル％で存在する、前記１１．または１２．に記載の組成物。
１４．
構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位のモル％の合計が、構造（Ｉ）の繰り返し単位のモル％の１０％を超えない、前記１１．～１３．のいずれか一つに記載の組成物。
１５．
ｎｂ、ｎｈ及びｎｏが０である、前記１１．～１４．のいずれか一つに記載の組成物。
１６．
前記１．に記載の組成物であって、但し；
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むものであり、但し、
Ｒａ、Ｒｃ及びＲｐが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｄ及びＲｑが独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり、及びｎａ、ｎｃ及びｎｐが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｄ及びｎｑが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｃとｎｄとの合計及びｎｐとｎｑとの合計がそれぞれ３を超えず；
Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｒが独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、ＰＡＣｂが、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のもの：
・直接原子価結合、
・アルキレン部分、
・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
・・アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、
・・アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、及び
・・アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ －Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）；
（但し、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
からなる群から選択される、前記組成物。
Figure 0007369146000120
 １７．
構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が約６０モル％～約９８モル％で存在し；構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位が最大で約４０モル％までで存在し；及び構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位及び構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位が、前記ポリマー成分中の繰り返し単位の約４５モル％を超えない、前記１６．に記載の組成物。
１８．
構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、約７０モル％～約９８モル％で存在する、前記１６．または１７．に記載の組成物。
１９．
構造（ＩＩ）の繰り返し単位が、最大で約２０モル％までで存在する、前記１６．～１８．のいずれか一つに記載の組成物。
２０．
構造（ＶＩ）の繰り返し単位が、最大で約１０モル％までで存在する、前記１６．～１９．のいずれか一つに記載の組成物。
２１．
ｎｂ、ｎｄ及びｎｑが０である、前記１６．～２０．のいずれか一つに記載の組成物。
２２．
前記１．に記載の組成物であって、但し；
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むものであり、但し、
構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位が、
Figure 0007369146000121
 によって示される位置を介して互いに結合され、二官能性アセタール含有部分を形成して、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成し、及び更に；
Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ、Ｒｌ及びＲｑが独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり、及びｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ、ｎｌ及びｎｑが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｈとｎｇとの合計、ｎｌとｎｋとの合計、及びｎｐとｎｑとの合計がそれぞれ３を超えず；
Ｒｉ及びＲｍが独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、
Ｘａが、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ’ －部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び更に、－ＰＡＣｂが、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のもの：
・直接原子価結合、
・アルキレン部分、
・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
・・アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、
・・アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、及び
・アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ －Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（但し、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
からなる群から選択される、前記組成物。
Figure 0007369146000122
 ２３．
構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、約６０モル％～約９８モル％で存在し、そして更に、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成される、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖間の連結点が、該ポリマー成分の繰り返し単位の最大で約２５モル％までで存在し、そして更に、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位が最大で約２０モル％までで存在する、前記２２．に記載の組成物。
２４．
構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、約７０モル％～約９８モル％で存在する、前記２２．または２３．に記載の組成物。
２５．
構造（ＶＩ）の繰り返し単位が、最大で約１０モル％までで存在する、前記２２．～２４．のいずれか一つに記載の組成物。
２６．
構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位のモル％の合計が、前記ポリマー成分中の繰り返し単位の１０モル％を超えない、前記２２．～２５．のいずれか一つに記載の組成物。
２７．
ｎｂ、ｎｈ、ｎｌ及びｎｑが０である、前記２２．～２６．のいずれか一つに記載の組成物。
２８．
前記１．に記載の組成物であって、但し
前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものであり、但し、
構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位が、
Figure 0007369146000123
 によって示される位置を介して互いに結合され、二官能性アセタール含有部分を形成して、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成し、
Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｎ及びＲｐが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ、Ｒｏ及びＲｑは独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり、及びｎａ、ｎｇ、ｎｎ及びｎｐが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ、ｎｏ及びｎｑが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｎとｎｏとの合計、ｎｌとｎｋとの合計、及びｎｐとｎｑとの合計がそれぞれ３を超えず；
ＲｉがＣ１～Ｃ４アルキルであり、
Ｘｂが－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり、
Ｘｃが、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ’ －部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び更に、ＰＡＣｂが、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のもの：
・直接原子価結合、
・アルキレン部分、
・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
・・アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、
・・アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、及び
・・アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ －Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（但し、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
からなる群から選択される、前記組成物。
Figure 0007369146000124
 ２９．
構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、約６０モル％～約９８モル％で存在し、そして更に、構造（ＩＩＩ）及び構造（Ｖ）の繰り返し単位によって形成される、該ポリマー成分の二つのポリマー鎖間の連結点が、該ポリマー成分の繰り返し単位の最大で約２５モル％までで存在し、そして更に、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位が最大で約２０モル％までで存在する、前記２８．に記載の組成物。
３０．
構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、約７０モル％～約８０モル％で存在する、前記２８．または２９．に記載の組成物。
３１．
構造（ＶＩ）の繰り返し単位が、最大で約１０モル％までで存在する、前記２８．～３０．のいずれか一つに記載の組成物。
３２．
構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位のモル％の合計が、前記ポリマー成分中の繰り返し単位の１０モル％を超えない、前記２８．～３１．のいずれか一つに記載の組成物。
３３．
ｎｂ、ｎｈ、ｎｏ及びｎｑが０である、前記２８．～３２．のいずれか一つに記載の組成物。
３４．
前記２．～１５．のいずれか一つに記載の組成物であって、
前記ポリマー成分が、構造（ＶＩ）の繰り返し単位を更に含むものであり、但し、ＲｐがＣ１～Ｃ４アルキルであり、Ｒｑが－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり、そしてｎｐが０～３であり、ｎｑが０または１であり、そしてｎｐとｎｑとの合計が３を超えない、前記組成物。
Figure 0007369146000125
 ３５．
構造（ＶＩ）の繰り返し単位が、前記ポリマー中の繰り返し単位の最大で約２０モル％までで存在する、前記３４．に記載の組成物。
３６．
構造（ＶＩ）の繰り返し単位が、最大で約１０モル％までで存在する、前記３４．または３５．に記載の組成物。
３７．
前記ポリマー成分が、構造（ＩＩ）の繰り返し単位を更に含むものであり、但し
ＲｃがＣ１～Ｃ４アルキルであり、Ｒｄが－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ －、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ ２ －であり、そしてｎｃが０～３であり；ｎｄが０または１であり、そしてｎｃとｎｄとの合計が３を超えず；
Ｒｅ、及びＲｆ、及びＲｒが、Ｃ１～Ｃ４アルキルから選択される、前記７．～１５．、または２２．～３３．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000126
 ３８．
構造（ＩＩ）の繰り返し単位が、最大で約４０モル％までで存在する、前記３７．に記載の組成物。
３９．
構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位がｎｄ＝０を有する、前記３７．または３８．に記載の組成物。
４０．
構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位が、最大で約２０モル％までで存在する、前記３７．～３９．のいずれか一つに記載の組成物。
４１．
フリーのＰＡＣを更に含む、前記１６．～３３．のいずれか一つに記載の組成物。
４２．
Ｘａがアルキレン部分である、前記７．～１０．または２２．～２７．のいずれか一つに記載の組成物。
４３．
Ｘａがアルキレン部分のエチレンである、前記７．～１０．または２２．～２７．または４２．のいずれか一つに記載の組成物。
４４．
Ｘａが構造（ＶＩＩ）のアルキレン部分である、前記７．～１０．または２２．～２７．または４２．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000127
 ４５．
Ｘａが構造（ＶＩＩａ）のアルキレン部分である、前記７．～１０．または２２．～２７．または４２．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000128
 ４６．
Ｘａがアルキレンオキシアルキレン部分である、前記７．～１０．または２２．～２７．のいずれか一つに記載の組成物。
４７．
Ｘａが構造（ＶＩＩｂ）のアルキレンオキシアルキレンである、前記７．～１０．または２２．～２７．または４６．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000129
 ４８．
構造（ＶＩ）において、前記ＰＡＣｂ部分が、１，２－ジアゾナフトキノン－５－スルホネート部分または１，２－ジアゾナフトキノン－４－スルホネート部分から誘導される、前記１３．～４７．のいずれか一つに記載の組成物。
４９．
前記１６．～４８．のいずれか一つに記載の組成物であって、但し、構造（ＶＩ）において、Ｘｄが次のもの：
・直接原子価結合、
・アルキレン部分、
・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
・・アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、
・・アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、及び
・・アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ －Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、
（更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）
からなる群から選択され、
及び、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位において、前記ＰＡＣｂ部分が、構造（ＶＩＩＩ）を有する単一の化合物または複数種の化合物の混合物から選択され、ここでＤ １ 、Ｄ ２ 及びＤ ３ が、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ １ 、Ｄ ２ またはＤ ３ のうちの少なくとも一つが構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり；そして
Figure 0007369146000130
 が構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位に対する各ＰＡＣｂ部分の結合点を示す、前記組成物。
Figure 0007369146000131
 ５０．
前記１６．～４８．のいずれか一つに記載の組成物であって、但し、構造（ＶＩ）において、Ｘｄが次のもの：
・直接原子価結合、
・アルキレン部分、
・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
・・アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、
・・アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、及び
・・アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ －Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（但し、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
からなる群から選択され、
及び、前記ＰＡＣｂ部分が、構造（ＶＩＩＩ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合から選択され、ここでＤ １ 、Ｄ ２ 及びＤ ３ が、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ １ 、Ｄ ２ またはＤ ３ のうちの少なくとも一つが構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分であり；そして
Figure 0007369146000132
 が構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位に対する各ＰＡＣｂ部分の結合点を示す、前記組成物。
Figure 0007369146000133
 ５１．
前記１６．～４８．のいずれか一つに記載の組成物であって、但し、構造（ＶＩ）において、Ｘｄが次のもの：
・直接原子価結合、
・アルキレン部分、
・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
・・アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、
・・アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、及び
・・アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ －Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、
（更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
からなる群から選択され、
及び、前記ＰＡＣｂ部分が、構造（ＶＩＩＩｃ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合から選択され、ここでＤ １ａ 、Ｄ ２ａ 及びＤ ３ａ が、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ １ａ 、Ｄ ２ａ またはＤ ３ａ のうちの少なくとも一つが構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり；そして
Figure 0007369146000134
 が構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位に対する各ＰＡＣｂ部分の結合点を示す、前記組成物。
Figure 0007369146000135
 ５２．
前記１６．～４８．のいずれか一つに記載の組成物であって、但し、構造（ＶＩ）において、Ｘｄが次のもの：
・直接原子価結合、
・アルキレン部分、
・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
・・アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、
・・アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、及び
・・アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ －Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、
（更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
からなる群から選択され、
及び、前記ＰＡＣｂ部分が、構造（ＶＩＩＩｃ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合であり、ここでＤ １ａ 、Ｄ ２ａ 及びＤ ３ａ が、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ １ａ 、Ｄ ２ａ またはＤ ３ａ のうちの少なくとも一つが構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分であり；そして
Figure 0007369146000136
 は構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位に対する各ＰＡＣｂ部分の結合点を示す、前記組成物。
Figure 0007369146000137
 ５３．
前記１６．～４８．のいずれか一つに記載の組成物であって、但し、構造（ＶＩ）において、Ｘｄが次のもの：
・直接原子価結合、
・アルキレン部分、
・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
・・アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、
・・アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、及び
・・アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ －Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、
（更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
からなる群から選択され、
及び、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位において、前記ＰＡＣｂ部分が、構造（ＶＩＩＩｄ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合から選択され、ここでＤ １ｂ 、Ｄ ２ｂ 及びＤ ３ｂ が、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ １ｂ 、Ｄ ２ｂ またはＤ ３ｂ のうちの少なくとも一つが構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり；そして
Figure 0007369146000138
 が構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位に対する各ＰＡＣｂ部分の結合点を示す、前記組成物。
Figure 0007369146000139
 ５４．
前記１６．～４８．のいずれか一つに記載の組成物であって、但し、構造（ＶＩ）において、Ｘｄが次のもの：
・直接原子価結合、
・アルキレン部分、
・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
・・アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、
・・アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）、及び
・・アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール、（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン） ｘ －Ｏ－ＣＨ（ＣＨ ３ ）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）、
（更に、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
からなる群から選択され、
及び、前記ＰＡＣｂ部分が、構造（ＶＩＩＩｄ）を有する単一の部分または複数種の部分の混合から選択され、ここでＤ １ｂ 、Ｄ ２ｂ 及びＤ ３ｂ が、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、及び更に、Ｄ １ｂ 、Ｄ ２ｂ またはＤ ３ｂ のうちの少なくとも一つが構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分であり；そして
Figure 0007369146000140
 が構造（ＶＩ）の個々の繰り返し単位に対する各ＰＡＣｂ部分の結合点を示す、前記組成物。
Figure 0007369146000141
 ５５．
前記ＰＡＧ成分が、有機スルホン酸の芳香族イミドＮ－オキシスルホネート誘導体、有機スルホン酸の芳香族スルホニウム塩、及びトリハロトリアジン誘導体からなる群またはこの群からのＰＡＧの混合物から選択される、前記１．～５４．のいずれか一つに記載の組成物。
５６．
前記ＰＡＧ成分が、構造（ＩＸａ）、構造（ＩＸｂ）及び構造（ＩＸｃ）を有する化合物からなる群またはこの群からの化合物の混合物から選択され、ここで、Ｒ １ｐ はフルオロアルキル部分であり、そしてＲ ２ｐ はＨ、アルキル、オキシアルキル、チオアルキル、またはアリール部分であり；Ｒ ３ｐ はフルオロアルキル、アルキルまたはアリール部分であり、そしてＲ ４ｐ は、Ｈ、アルキル、オキシアルキル、チオアルキルまたはアリール部分であり；そして更にＸはＣｌまたはＢｒであり、Ｒ ５ｐ はアリールまたはアルキル部分であり、そしてｎは０または１である、前記１．～５５．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000142
 ５７．
フリーのＰＡＣ成分が存在し、そしてこれが、１，２－ジアゾナフトキノン－５－スルホネート化合物または１，２－ジアゾナフトキノン－４－スルホネート化合物から誘導される、前記１．～５６．のいずれか一つに記載の組成物。
５８．
フリーのＰＡＣ成分が存在し、そして前記ＰＡＣ成分が、構造（Ｘ）を有する単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、但し、Ｄ １ｃ 、Ｄ ２ｃ 、Ｄ ３ｃ 及びＤ ４ｃ は独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、そして更にＤ １ｃ 、Ｄ ２ｃ 、Ｄ ３ｃ またはＤ ４ｃ のうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である、前記１．～５６．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000143
 ５９．
フリーのＰＡＣ成分が存在し、そして前記ＰＡＣ成分が、構造（Ｘ）を有する単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、但し、Ｄ １ｃ 、Ｄ ２ｃ 、Ｄ ３ｃ 及びＤ ４ｃ は独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、そして更にＤ １ｃ 、Ｄ ２ｃ 、Ｄ ３ｃ またはＤ ４ｃ のうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分である、前記１．～５６．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000144
 ６０．
フリーのＰＡＣ成分が存在し、そして前記ＰＡＣ成分が、構造（Ｘａ）を有する単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、但し、Ｄ １ｄ 、Ｄ ２ｄ 、Ｄ ３ｄ 及びＤ ４ｄ は独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、そして更にＤ １ｄ 、Ｄ ２ｄ 、Ｄ ３ｄ またはＤ ４ｄ のうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である、前記１．～５６．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000145
 ６１．
フリーのＰＡＣ成分が存在し、そして前記ＰＡＣ成分が、構造（Ｘａ）を有する単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、但し、Ｄ １ｄ 、Ｄ ２ｄ 、Ｄ ３ｄ 及びＤ ４ｄ は独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、そして更にＤ １ｄ 、Ｄ ２ｄ 、Ｄ ３ｄ またはＤ ４ｄ のうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分である、前記１．～５６．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000146
 ６２．
フリーのＰＡＣ成分が存在し、そして前記ＰＡＣ成分が、構造（Ｘｂ）を有する単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、但し、Ｄ １ｅ 、Ｄ ２ｅ 及びＤ ３ｅ は独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、そして更にＤ １ｅ 、Ｄ ２ｅ またはＤ ３ｅ のうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である、前記１．～５６．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000147
 ６３．
フリーのＰＡＣ成分が存在し、そして前記ＰＡＣ成分が、構造（Ｘｂ）を有する単一のＰＡＣ化合物または複数種のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかであり、但し、Ｄ １ｅ 、Ｄ ２ｅ 及びＤ ３ｅ は独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分から選択され、そして更にＤ １ｅ 、Ｄ ２ｅ またはＤ ３ｅ のうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩｂ）を有する部分である、前記１．～５６．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000148
 ６４．
前記ヘテロ環状チオール成分が存在し、そしてこれは、ヘテロ環状化合物中のヘテロ原子として窒素、硫黄またはこれらの二つの原子の組み合わせを含む不飽和ヘテロ環状化合物のモノもしくはジ－チオール誘導体から選択される、前記１．～６３．のいずれか一つに記載の組成物。
６５．
前記モノ－もしくはジ－チオール誘導体が、トリアゾール系、ジアゾール系、イミダゾール系及びチアジアゾール系ヘテロ環式化合物の誘導体である、前記６４．に記載の組成物。
６６．
前記モノ－もしくはジ－チオール誘導体が、トリアジン系ヘテロ環式化合物の誘導体である、前記６４．に記載の組成物。
６７．
前記モノ－もしくはジ－チオール誘導体が、構造（ＸＩａ）、（ＸＩｂ）、（ＸＩｃ）、（ＸＩｄ）及び（Ｘｉｅ）を有するものからなる群から選択される、前記６４．に記載の組成物。
Figure 0007369146000149
 ６８．
前記塩基成分が、大気圧下に１００℃を超える沸点及び少なくとも１のｐＫ ａ を有するアミン化合物または複数種のアミン化合物の混合物から選択される、前記１．～６７．のいずれか一つに記載の組成物。
６９．
前記塩基成分が、構造（ＸＩＩａ）、（ＸＩＩｂ）、（ＸＩＩｃ）、（ＸＩＩｄ）、（ＸＩＩｅ）、（ＸＩＩｆ）、（ＸＩＩｇ）、（ＸＩＩｈ）、（ＸＩＩｉ）及び（ＸＩＩｊ）を有する化合物からなる群またはこの群からの複数種の化合物の混合物から選択され、但し、Ｒ ｂ１ はＣ１～Ｃ２０飽和状アルキル鎖またはＣ２～Ｃ２０不飽和状アルキル鎖であり、Ｒ ｂ２ 、Ｒ ｂ３ 、Ｒ ｂ４ 、Ｒ ｂ５ 、Ｒ ｂ６ 、Ｒ ｂ７ 、Ｒ ｂ８ 、Ｒ ｂ９ 、Ｒ ｂ１０ 、Ｒ ｂ１１ 、Ｒ ｂ１２ 、及びＲ ｂ１３ は、独立して、Ｈ、及びＣ１～Ｃ２０アルキルからなる群から選択される、前記１．～６８．のいずれか一つに記載の組成物。
Figure 0007369146000150
 ７０．
前記１．～６９．のいずれか一つに記載の組成物を基材上にコーティングする方法。
７１．
レジストの画像形成方法であって、次のステップ；
ｉ）前記１．～６９．のいずれか一つに記載の組成物を基材上にコーティングしてレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉｉ）前記選択露光された膜を現像して、前記基材上にポジに画像形成されたレジスト膜を形成するステップ；
を含む前記方法。
７２．
レジストの画像形成方法であって、次のステップ；
ｉａ）前記１．～７１．のいずれか一つに記載の組成物を基材上にコーティングしてレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉａ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉｉａ）前記選択露光されたレジスト膜をベークして、選択露光及びベークされたレジスト膜を形成するステップ；
ｉｖａ）前記選択露光及びベークされたレジスト膜を現像して、ポジに画像形成されたレジスト膜を前記基材上に形成するステップ；
を含む前記方法。
７３．
レジスト組成物としての、前記１．～６９．のいずれか一つに記載の組成物の使用。
７４．
レジスト膜の調製のための、前記１．～６９．のいずれか一つに記載の組成物の使用。
７５．
前記レジスト膜が薄膜レジストである、前記７４．に記載の使用。
７６．
前記レジスト膜が厚膜レジストである、前記７４．に記載の使用。
７７．
基材をコーティングするための、前記１．～６９．のいずれか一つに記載の組成物の使用。

Claims (26)

  1. ポリマー成分、光酸発生剤成分（ＰＡＧ）、光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分、塩基成分、溶剤成分、任意選択に及びヘテロ環状チオール成分を含むレジスト組成物であって、
    前記ポリマー成分は、フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位と、酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位とを含むノボラック誘導体であり、但し、
    ・前記酸解裂性アセタール部分は、次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する、二官能性アセタール含有部分；及び
    ・・これらの二種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物；
    からなる群から選択され、及び更に
    ・前記ＰＡＣ成分は次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含む前記アセタール；
    ・・フリーのＰＡＣ成分；及び
    ・・これらの二種のＰＡＣ成分の混合物；
    からなる群から選択される、前記レジスト組成物。
  2. ポリマー成分、光酸発生剤成分（ＰＡＧ）、光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分、塩基成分、溶剤成分、及びヘテロ環状チオール成分を含むレジスト組成物であって、
    前記ポリマー成分は、フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位と、酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位とを含むノボラック誘導体であり、但し、
    ・前記酸解裂性アセタール部分は、次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分、
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する、二官能性アセタール含有部分；及び
    ・・これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物；
    からなる群から選択され、及び更に
    ・前記ＰＡＣ成分は次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含む前記アセタール；
    ・・フリーのＰＡＣ成分；及び
    ・・これらの二種のＰＡＣ成分の混合物；
    からなる群から選択され、及び
    前記ヘテロ環状チオール成分が、ヘテロ環状化合物中のヘテロ原子として窒素、硫黄またはこれらの二つの原子の組み合わせを含む不飽和ヘテロ環状化合物のモノもしくはジ－チオール誘導体から選択されるか、または
    前記ヘテロ環状チオール成分が、ヘテロ環状化合物中のヘテロ原子として窒素、硫黄またはこれらの二つの原子の組み合わせを含む不飽和ヘテロ環状化合物のモノもしくはジ－チオール誘導体から選択され、及び更に、前記塩基成分が、大気圧下に１００℃を超える沸点及び少なくとも１のｐＫ a を有するアミン化合物または複数種のアミン化合物の混合物から選択される、
    前記レジスト組成物。
  3. ポリマー成分、光酸発生剤成分（ＰＡＧ）、光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分、塩基成分、溶剤成分、任意選択に及びヘテロ環状チオール成分を含むレジスト組成物であって、
    前記ポリマー成分は、フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位と、酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位とを含むノボラック誘導体であり、但し、
    ・前記酸解裂性アセタール部分は、次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分、
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する、二官能性アセタール含有部分；及び
    ・・これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物；
    からなる群から選択され、及び更に
    ・前記ＰＡＣ成分は次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含む前記アセタール；
    ・・フリーのＰＡＣ成分；及び
    ・・これらの二種のＰＡＣ成分の混合物；
    からなる群から選択され、及び
    前記塩基成分が、大気圧下に１００℃を超える沸点及び少なくとも１のｐＫ a を有するアミン化合物または複数種のアミン化合物の混合物から選択される、
    前記レジスト組成物。
  4. 前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）を有する繰り返し単位を含み、但し、Ｒａ及びＲｃは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ及びＲｄは独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり、そしてｎａ及びｎｃは独立して０～３であり、ｎｂ及びｎｄは独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、及びｎｄとｎｃとの合計はそれぞれ３を超えず；Ｒｅ及びＲｆは独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、及び
    前記ＰＡＣ成分が、フリーのＰＡＣを含む、
    請求項１～３のいずれか一つに記載の組成物。
    Figure 0007369146000151
  5. 構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、６０モル％～９８モル％で存在し、及び構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位が最大で４０モル％までで存在する、請求項４に記載の組成物。
  6. ポリマー成分、光酸発生剤成分（ＰＡＧ）、光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分、塩基成分、溶剤成分、任意選択に及びヘテロ環状チオール成分を含むレジスト組成物であって、
    前記ポリマー成分は、フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位と、酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位とを含むノボラック誘導体であり、但し、
    ・前記酸解裂性アセタール部分は、次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分、
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する、二官能性アセタール含有部分；及び
    ・・これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物；
    からなる群から選択され、及び更に
    ・前記ＰＡＣ成分は次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含む前記アセタール；
    ・・フリーのＰＡＣ成分；及び
    ・・これらの二種のＰＡＣ成分の混合物；
    からなる群から選択され、及び
    前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含み、ここで、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、
    Figure 0007369146000152
     によって示される位置を介して互いに結合されて、二官能性アセタール含有部分を形成し、この二官能性アセタール含有部分は、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含み、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成し、及び更に、
    Ｒａ、Ｒｇ及びＲｋが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ及びＲｌが独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり、及びｎａ、ｎｇ及びｎｋが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ及びｎｌが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｇとｎｈとの合計及びｎｋとｎｌとの合計がそれぞれ３を超えず、及び更に；
    Ｒｉ及びＲｍが独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、及び更に；
    Ｘａが、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）x'－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び更に；
    前記ＰＡＣ成分が、フリーのＰＡＣ成分を含む、
    前記レジスト組成物。
    Figure 0007369146000153
  7. 構造（Ｉ）を有する前記繰り返し単位が、６０モル％～９８モル％で存在し、及び構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分が、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位の合計のモル％がポリマー成分の全繰り返し単位の２５モル％を超えないものである、請求項６に記載の組成物。
  8. ポリマー成分、光酸発生剤成分（ＰＡＧ）、光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分、塩基成分、溶剤成分、任意選択に及びヘテロ環状チオール成分を含むレジスト組成物であって、
    前記ポリマー成分は、フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位と、酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位とを含むノボラック誘導体であり、但し、
    ・前記酸解裂性アセタール部分は、次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分、
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する、二官能性アセタール含有部分；及び
    ・・これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物；
    からなる群から選択され、及び更に
    ・前記ＰＡＣ成分は次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含む前記アセタール；
    ・・フリーのＰＡＣ成分；及び
    ・・これらの二種のＰＡＣ成分の混合物；
    からなる群から選択され、及び
    前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含むものであり、但し、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位は、
    Figure 0007369146000154
     によって示される位置を介して互いに結合して、二官能性アセタール含有部分を形成し、この二官能性アセタール含有部分は、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含み及び前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成し、及び更に、Ｒａ、Ｒｇ及びＲｎが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ及びＲｏが独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり、及びｎａ、ｎｇ及びｎｎが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ及びｎｏが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｇとｎｈとの合計及びｎｎとｎｏとの合計がそれぞれ３を超えず；
    Ｒｉ及びＲｍ２が独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され；Ｘｂが－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり；
    Ｘｃが、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）x'－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び更に；
    前記ＰＡＣ成分が、フリーのＰＡＣ成分を含む、
    前記レジスト組成物。
    Figure 0007369146000155
  9. 構造（Ｉ）を有する前記繰り返し単位が、７０モル％～９８モル％で存在し、及び構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分が、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）の繰り返し単位の合計のモル％がポリマー成分の全繰り返し単位の２５モル％を超えないものである、請求項８に記載の組成物。
  10. ポリマー成分、光酸発生剤成分（ＰＡＧ）、光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分、塩基成分、溶剤成分、任意選択に及びヘテロ環状チオール成分を含むレジスト組成物であって、
    前記ポリマー成分は、フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位と、酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位とを含むノボラック誘導体であり、但し、
    ・前記酸解裂性アセタール部分は、次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分、
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する、二官能性アセタール含有部分；及び
    ・・これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物；
    からなる群から選択され、及び更に
    ・前記ＰＡＣ成分は次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含む前記アセタール；
    ・・フリーのＰＡＣ成分；及び
    ・・これらの二種のＰＡＣ成分の混合物；
    からなる群から選択され、及び
    前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むものであり、但し、
    Ｒａ、Ｒｃ及びＲｐが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｄ及びＲｑが独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり、及びｎａ、ｎｃ及びｎｐが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｄ及びｎｑが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｃとｎｄとの合計及びｎｐとｎｑとの合計がそれぞれ３を超えず；
    Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｒが独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、ＰＡＣｂが、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のもの：
    ・直接原子価結合、
    ・アルキレン部分、
    ・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
    ・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
    ・・－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－、
    ・・－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－、及び
    ・・－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）x－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－（ここで、ｘは２～６である）；
    （但し、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
    からなる群から選択される、
    前記レジスト組成物。
    Figure 0007369146000156
  11. 構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が６０モル％～９８モル％で存在し；構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位が最大で４０モル％までで存在し；及び構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位及び構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位が、前記ポリマー成分中の繰り返し単位の４５モル％を超えない、請求項１０に記載の組成物。
  12. ポリマー成分、光酸発生剤成分（ＰＡＧ）、光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分、塩基成分、溶剤成分、任意選択に及びヘテロ環状チオール成分を含むレジスト組成物であって、
    前記ポリマー成分は、フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位と、酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位とを含むノボラック誘導体であり、但し、
    ・前記酸解裂性アセタール部分は、次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分、
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する、二官能性アセタール含有部分；及び
    ・・これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物；
    からなる群から選択され、及び更に
    ・前記ＰＡＣ成分は次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含む前記アセタール；
    ・・フリーのＰＡＣ成分；及び
    ・・これらの二種のＰＡＣ成分の混合物；
    からなる群から選択され、及び
    前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むものであり、但し、
    構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位が、
    Figure 0007369146000157
     によって示される位置を介して互いに結合され、二官能性アセタール含有部分を形成して、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成し、及び更に；
    Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ、Ｒｌ及びＲｑが独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり、及びｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ、ｎｌ及びｎｑが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｈとｎｇとの合計、ｎｌとｎｋとの合計、及びｎｐとｎｑとの合計がそれぞれ３を超えず；
    Ｒｉ、Ｒｍ及びＲｒが独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、
    Ｘａが、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）x'－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び更に、－ＰＡＣｂが、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のもの：
    ・直接原子価結合、
    ・アルキレン部分、
    ・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
    ・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
    ・・－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－、
    ・・－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－、及び
    ・・－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）x－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－（ここで、ｘは２～６である）
    （但し、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
    からなる群から選択される、
    前記レジスト組成物。
    Figure 0007369146000158
  13. 構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、６０モル％～９８モル％で存在し、そして更に、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分は、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位の合計のモル％がポリマー成分の全繰り返し単位の２５モル％を超えないものであり、そして更に、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位が最大で２０モル％までで存在する、請求項１２に記載の組成物。
  14. ポリマー成分、光酸発生剤成分（ＰＡＧ）、光活性ジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）成分、塩基成分、溶剤成分、任意選択に及びヘテロ環状チオール成分を含むレジスト組成物であって、
    前記ポリマー成分は、フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位と、酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を含むノボラック繰り返し単位とを含むノボラック誘導体であり、但し、
    ・前記酸解裂性アセタール部分は、次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する単官能性アルキルアセタール部分、
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含むアセタール；
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む二つの繰り返し単位を連結及び保護し、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成する、二官能性アセタール含有部分；及び
    ・・これらの三種の酸解裂性アセタール部分の任意のものの混合物；
    からなる群から選択され、及び更に
    ・前記ＰＡＣ成分は次のもの：
    ・・ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を含む繰り返し単位を保護する、ＰＡＣ部分で官能化された部分を含む前記アセタール；
    ・・フリーのＰＡＣ成分；及び
    ・・これらの二種のＰＡＣ成分の混合物；
    からなる群から選択され、及び
    前記ポリマー成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含むものであり、但し、
    構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位が、
    Figure 0007369146000159
     によって示される位置を介して互いに結合され、二官能性アセタール含有部分を形成して、前記ポリマー成分中の二つの異なるポリマー鎖の間で前記ポリマー成分中に連結点を形成し、
    Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｎ及びＲｐが独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり；Ｒｂ、Ｒｈ、Ｒｏ及びＲｑは独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは、－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり、及びｎａ、ｎｇ、ｎｎ及びｎｐが独立して０～３であり；ｎｂ、ｎｈ、ｎｏ及びｎｑが独立して０または１であり、そしてｎａとｎｂとの合計、ｎｎとｎｏとの合計、ｎｈとｎｇとの合計、及びｎｐとｎｑとの合計がそれぞれ３を超えず；
    Ｒｉ、Ｒｍ２及びＲｒが独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、
    Ｘｂが－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり、
    Ｘｃが、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）x'－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び更に、ＰＡＣｂが、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のもの：
    ・直接原子価結合、
    ・アルキレン部分、
    ・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
    ・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
    ・・－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－、
    ・・－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－、及び
    ・・－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）x－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－（ここで、ｘは２～６である）
    （但し、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
    からなる群から選択される、
    前記レジスト組成物。
    Figure 0007369146000160
  15. 構造（Ｉ）を有する繰り返し単位が、６０モル％～９８モル％で存在し、そして更に、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む前記二官能性アセタール含有部分は、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）の繰り返し単位の合計のモル％がポリマー成分の全繰り返し単位の２５モル％を超えないものであり、そして更に、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位が最大で２０モル％までで存在する、請求項１４に記載の組成物。
  16. 請求項４～９のいずれか一つに記載の組成物であって、
    前記ポリマー成分が、構造（ＶＩ）の繰り返し単位を更に含むものであり、但し、ＲｐがＣ１～Ｃ４アルキルであり、Ｒｑが－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり、そしてｎｐが０～３であり、ｎｑが０または１であり、そしてｎｐとｎｑとの合計が３を超えず、ＰＡＣｂが、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のもの：
    ・直接原子価結合、
    ・アルキレン部分、
    ・アルキレンオキシ部分、但し、そのアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部はＰＡＣｂ部分に結合する、及び
    ・次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
    ・・－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－、
    ・・－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－、及び
    ・・－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）x－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ3）－Ｏ－（ここで、ｘは２～６である）；
    （但し、前記各々のアセタール含有部分において、この部分のアルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分は、ＰＡＣｂ部分に結合する）
    からなる群から選択される、前記組成物。
    Figure 0007369146000161
  17. 構造（ＶＩ）の繰り返し単位が、前記ポリマー中の繰り返し単位の最大で２０モル％までで存在する、請求項４～９または１６のいずれか一つに記載の組成物。
  18. 前記ポリマー成分が、構造（ＩＩ）の繰り返し単位を更に含むものであり、但し
    ＲｃがＣ１～Ｃ４アルキルであり、Ｒｄが－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ3）2－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ2－であり、そしてｎｃが０～３であり；ｎｄが０または１であり、そしてｎｃとｎｄとの合計が３を超えず；
    Ｒｅ及びＲｆが、独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択される、請求項６～９、または１２～１５のいずれか一つに記載の組成物。
    Figure 0007369146000162
  19. 構造（ＩＩ）の繰り返し単位が、最大で４０モル％までで存在する、請求項６～９または１２～１５または１８のいずれか一つに記載の組成物。
  20. Ｘａがアルキレン部分である、請求項６、７、１２または１３のいずれか一つに記載の組成物。
  21. Ｘａがアルキレンオキシアルキレン部分である、請求項６、７、１２または１３のいずれか一つに記載の組成物。
  22. 前記ヘテロ環状チオール成分が存在し、そしてこれは、ヘテロ環状化合物中のヘテロ原子として窒素、硫黄またはこれらの二つの原子の組み合わせを含む不飽和ヘテロ環状化合物のモノもしくはジ－チオール誘導体から選択される、請求項１または６～２１のいずれか一つに記載の組成物。
  23. 前記塩基成分が、大気圧下に１００℃を超える沸点及び少なくとも１のｐＫaを有するアミン化合物または複数種のアミン化合物の混合物から選択される、請求項１または６～２２のいずれか一つに記載の組成物。
  24. 請求項１～２３のいずれか一つに記載の組成物を基材上にコーティングする方法。
  25. レジストの画像形成方法であって、次のステップ；
    ｉ）請求項１～２３のいずれか一つに記載の組成物を基材上にコーティングしてレジスト膜を形成するステップ；
    ｉｉ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；
    ｉｉｉ）前記選択露光された膜を現像して、前記基材上にポジに画像形成されたレジスト膜を形成するステップ；
    を含む前記方法。
  26. レジストの画像形成方法であって、次のステップ；
    ｉａ）請求項１～２３のいずれか一つに記載の組成物を基材上にコーティングしてレジスト膜を形成するステップ；
    ｉｉａ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；
    ｉｉｉａ）前記選択露光されたレジスト膜をベークして、選択露光及びベークされたレジスト膜を形成するステップ；
    ｉｖａ）前記選択露光及びベークされたレジスト膜を現像して、ポジに画像形成されたレジスト膜を前記基材上に形成するステップ；
    を含む前記方法。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW202336531A (zh) 2021-11-17 2023-09-16 德商馬克專利公司 藉濕式化學蝕刻以改善金屬結構製造的組合物和方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001337456A (ja) 2000-05-25 2001-12-07 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型ホトレジスト組成物
JP2005308977A (ja) 2004-04-20 2005-11-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物
JP2017009999A (ja) 2015-03-31 2017-01-12 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5942367A (en) * 1996-04-24 1999-08-24 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Chemically amplified positive resist composition, pattern forming method, and method for preparing polymer having a crosslinking group
JP3638068B2 (ja) * 1996-12-20 2005-04-13 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
US5858605A (en) * 1997-03-08 1999-01-12 Shipley Company, L.L.C. Acid labile photoactive composition
JP3738420B2 (ja) * 2001-11-16 2006-01-25 東京応化工業株式会社 ポジ型ホトレジスト組成物および傾斜インプランテーションプロセス用薄膜レジストパターンの形成方法
KR20070019666A (ko) * 2003-10-31 2007-02-15 에이제토 엘렉토로닉 마티리알즈 가부시키가이샤 후막 및 초후막 대응 화학 증폭형 감광성 수지 조성물
JP4440600B2 (ja) * 2003-10-31 2010-03-24 Ａｚエレクトロニックマテリアルズ株式会社 厚膜および超厚膜対応化学増幅型感光性樹脂組成物
JP2010139561A (ja) * 2008-12-09 2010-06-24 Sumitomo Chemical Co Ltd ポジ型感光性組成物、並びにそれから形成される色フィルタアレイ、固体撮像素子及びカメラシステム
JP5387181B2 (ja) * 2009-07-08 2014-01-15 信越化学工業株式会社 スルホニウム塩、レジスト材料及びパターン形成方法
US8841062B2 (en) * 2012-12-04 2014-09-23 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Positive working photosensitive material
JP6059983B2 (ja) * 2012-12-28 2017-01-11 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに、電子デバイスの製造方法
CN105190439B (zh) * 2013-03-14 2019-05-17 Dic株式会社 改性酚醛清漆型酚醛树脂、抗蚀材料、涂膜和抗蚀永久膜
WO2015041143A1 (ja) * 2013-09-18 2015-03-26 Dic株式会社 変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂、変性ヒドロキシナフタレンノボラック樹脂の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及び塗膜
JP6267951B2 (ja) * 2013-12-18 2018-01-24 富士フイルム株式会社 感光性転写材料、パターン形成方法およびエッチング方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001337456A (ja) 2000-05-25 2001-12-07 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型ホトレジスト組成物
JP2005308977A (ja) 2004-04-20 2005-11-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物
JP2017009999A (ja) 2015-03-31 2017-01-12 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

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