CN116670587A - 具有改良图案轮廓及焦深(dof)的正型光致抗蚀剂组合物 - Google Patents

具有改良图案轮廓及焦深(dof)的正型光致抗蚀剂组合物 Download PDF

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CN116670587A
CN116670587A CN202280009208.2A CN202280009208A CN116670587A CN 116670587 A CN116670587 A CN 116670587A CN 202280009208 A CN202280009208 A CN 202280009208A CN 116670587 A CN116670587 A CN 116670587A
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陈宏扬
司堃
陈春伟
李钟�
吴恒鹏
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Abstract

所公开的主题涉及包括以下组分的抗蚀剂组合物：组分a)具有结构(I)及(II)的两种酚醛清漆聚合物的共混物；组分b)重氮萘醌磺酸盐(DNQ‑PAC)组分，其为具有结构(III)的通式或具有通式(III‑1)的单一材料或材料混合物；组分c)包含多酚化合物的溶解增强剂组分，该多酚化合物为选自由低聚分馏酚醛清漆、具有通式结构(VI)的化合物及具有通式结构(VII)的化合物组成的组的单一化合物或至少两种化合物的混合物，其中Rde1、Rde2、Rde3、Rde4及Rde5各个地选自C‑1至C‑4烷基；组分d)表面活性剂；及组分e)有机旋转浇铸溶剂；及任选的组分f)杂环硫醇。

Description

具有改良图案轮廓及焦深(DOF)的正型光致抗蚀剂组合物
技术领域
所公开的主题涉及用于制备集成电路(IC)、发光二极管(LED)器件及显示器件的正型辐射敏感碱水溶液可溶性光致抗蚀剂组合物。
背景技术
光致抗蚀剂组合物用于制备小型化电子组件的光刻工艺中，诸如用于制造计算机芯片、集成电路、发光二极管(LED)器件及显示器中。一般而言，在这些工艺中，首先将光致抗蚀剂组合物的膜涂覆于基板材料，诸如用于制备集成电路的硅晶圆。经涂布基板随后经烘烤以蒸发光致抗蚀剂组合物中的溶剂且使涂层固定于基板上。随后使基板的经烘烤涂布表面经受成像曝光于成像辐射。
此辐射曝光引起经涂布表面的曝光区域中的化学转化。可见光、紫外(UV)光、电子束及X射线辐射能量为现今光刻工艺中常用的成像辐射类型。在此成像曝光之后，经涂布基板用显影剂溶液处理以溶解及移除基板的经涂布表面的辐射曝光区或未曝光区。
存在两种类型的光致抗蚀剂组合物，负型及正型。在正型光致抗蚀剂组合物成像曝光于辐射时，曝光于辐射的抗蚀剂组合物的区域变得更可溶于显影剂溶液(例如碱增溶基团的释放或溶解抑制剂的光分解)，同时光致抗蚀剂涂层的未曝光区域保持相对不可溶于此溶液。因此，用显影剂处理经曝光正型抗蚀剂使得移除光致抗蚀剂涂层的曝光区且在涂层中产生正像，由此未覆盖沉积光致抗蚀剂组合物的底层基板表面的所需部分。
可通过碱水溶液显影的正型敏感光致抗蚀剂组合物的用途已知。这些组合物中的大部分为基于酚醛树脂或(甲基)丙烯酸酯树脂的化学增幅光致抗蚀剂或基于酚醛清漆/重氮萘醌(DNQ)的非化学增幅光致抗蚀剂。在酚醛清漆/DNQ光致抗蚀剂中，正型图像经由在所曝光的抗蚀剂区中引起酚醛清漆树脂在碱水溶液中的较快溶解的重氮萘醌化合物(PAC)的光分解形成，这些类型的光致抗蚀剂在更长UV波长下采用，诸如i线(365nm)，且为多年来在制造集成电路(IC)中的主力光致抗蚀剂(workhorse photoresist)。
通过在高量制造中引入晶圆级封装(WLP)来改进半导体装配工艺。铜(Cu)-再分布层(RDL)小型化为用于小、薄及轻芯片制造的关键工艺之一。细间距再分布层(RDL)为用于半导体的高密度晶圆级扇出(HDWLFO)封装的市场趋势。要在拓朴基板上实现该技术，需要开发具有高分辨率及透射率的光致抗蚀剂。化学增幅(CA)类型光致抗蚀剂指示在各种厚度下的稳定的敏感度及高分辨率，这是因为其在i线(365nm)曝光时的高透明度。然而，高价及不良环境稳定性限制了其在用于外包半导体装配及测试(OSAT)公司的RDL制造中的应用。相较于CA型光致抗蚀剂，基于DNQ的光致抗蚀剂具有更便宜的价格、更好的环境稳定性及无曝光后烘烤(PEB)等优势，其有益于OSAT公司。然而，当解析细间距特征时，由于重氮萘醌(DNQ)光敏化合物(PAC)对i线(365nm)曝光的漂白，基于DNQ的光致抗蚀剂显示出明显的顶部损耗(圆角)及基脚(footing)。对于通过电镀进行的Cu-RDL制造，由于由顶部损耗/基脚光致抗蚀剂轮廓产生不稳定的铜线轮廓(宽顶部/窄底部)，因此不允许光致抗蚀剂顶部损耗。
对于改良光致抗蚀剂图案的轮廓的方法，工艺修改为常用策略，诸如以高于其玻璃化转变温度(Tg)的温度硬烘烤光致抗蚀剂线(在显影之后)以热回流光致抗蚀剂结构来实现所需轮廓。然而，此方法由于额外工艺步骤而降低了晶圆产出量。
发明概述
为了满足在不需要硬烘烤轮廓的情况下在半导体封装中改善轮廓的要求，且为了解决晶圆产出量下降的问题，针对高分辨率及垂直图案轮廓，开发了基于酚醛清漆/DNQ的新颖光致抗蚀剂配制剂。这些基于酚醛清漆/DNQ的新颖光致抗蚀剂配制剂包含两种酚醛清漆树脂、一种DNQ PAC及一种速度增强剂(溶解增强剂)，其出乎意料地展示高分辨率及5.0μm膜厚度下降至0.9μm线/空间的垂直轮廓。新颖基于酚醛清漆/DNQ的光致抗蚀剂配制剂在无任何其他工艺修改的情况下出乎意料地也具有显著较少的顶部损耗，且也具有极大改良的焦深(DOF)。这些新颖基于酚醛清漆/DNQ的光致抗蚀剂配制剂产生具有较少顶部损耗的垂直轮廓，具有高分辨率及快速感光速度(photospeed)，而无需曝光后烘烤(PEB)或曝光后硬烘烤，且展示比常规基于酚醛清漆/DNQ的光致抗蚀剂配制剂更大的工艺窗口(更宽DOF)。这些新颖基于酚醛清漆/DNQ的光致抗蚀剂配制剂为环境稳定的，具有良好储存寿命，采用低成本组分且也具有易于制备的配制剂。
在一个方面中，这些新颖组合物为如下基本上由组分a)、b)、c)、d)及e)或组分a)、b)、c)、d)、e)及f)组成的组合物：
组分a)为具有结构(I)及(II)的两种酚醛清漆聚合物的共混物；其中R1至R9独立地选自C-1至C-4烷基，且x、y及z表示以结构(I)的聚合物中重复单元的总摩尔数计的摩尔％；k、l及m表示以结构(II)的聚合物中重复单元的总摩尔数计的摩尔％，且进一步其中x在约10至约20摩尔％范围内，y在约50至约60摩尔％范围内，z在约30至约40摩尔％范围内，k在约10至约20摩尔％范围内，l在约40至约50摩尔％范围内，m在约30至约40摩尔％范围内，且进一步其中对于结构(I)，x、y及z的总和为100摩尔％，且在结构(II)中，k、l及m的总和为100摩尔％；其中所述结构(I)及(II)的酚醛清漆聚合物的固体重量％各自独立地在约25重量％至约60重量％固体量的范围内。
组分b)为重氮萘醌磺酸盐(DNQ-PAC)组分，其为具有结构(III)的通式或具有通式(III-1)的单一材料或材料混合物；其中D1c、D2c、D3c、D4c及D5c各个地选自H或具有结构(IV)或(V)的部分，且进一步其中在结构(III)中，D1c、D2c、D3c或D4c中的至少一者为具有结构(IV)或(V)的部分且在结构(III-1)中，D1c、D2c、D3c、D4c、D5c中的至少一者为具有结构(IV)或(V)的部分；其中该DNQ-PAC在优选约10重量％至约15重量％总固体量的范围内。
组分c)为包含多酚化合物的溶解增强剂组分，该多酚化合物为选自由低聚分馏(fractionated)酚醛清漆、具有通式结构(VI)的化合物及具有通式结构(VII)的化合物组成的组的单一化合物或至少两种化合物的混合物，其中Rde1、Rde2、Rde3、Rde4及Rde5各个地选自C-1至C-4烷基；
组分d)为表面活性剂且在约0重量％至约0.2重量％固体量的范围内。
组分e)为有机旋转浇铸溶剂。
组分f)为杂环硫醇。
此外，其中使用由组分a)、b)、c)及d)或a)、b)、c)、d)及f)的总重量计算得到的重量％固体量，所述重量％固体量经组合总计为100重量％固体量，组分a)、b)、c)及d)或组分a)、b)、c)、d)及f)的重量％固体量范围如下：
表面活性组分a)为其中所述结构(I)及(II)的酚醛清漆聚合物的重量％固体量各自独立地在约23重量％至约70重量％范围内之一，
表面活性组分b)在约9重量％至约15重量％范围内，
表面活性组分c)在约4重量％至约15重量％范围内，且
表面活性组分d)在约0重量％至约0.2重量％范围内；且进一步表面活性此组合物不含六甲基三聚氰胺交联剂及光致产酸剂。
所公开的主题还涉及将抗蚀剂组合物涂布于基板上作为光刻工艺的部分的方法。
附图说明
所附图包括在内以提供对所公开的主题的进一步理解且并入及构成本说明书的一部分，其说明所公开的主题的实施例且与本说明书一起用以解释所公开的主题的原理。
图1为实施例2及比较实施例1的焦深(DOF)曲线。
图2为在5μm膜厚度(FT)下的实施例2的焦深(DOF)的SEM研究。
图3为实施例2在5μm FT下的线性。
具体实施方式
应理解，前文一般描述及以下详细描述均为说明性及解释性的，且并不限制如所要求保护的主题。在本申请中，除非另外特定陈述，否则单数的使用包括多个，措辞“一(a)”或“一种(an)””意指“至少一个/种”，及“或”的使用意指“及/或”。此外，术语“包括(including)”以及其他形式(诸如“包括(includes)”及“包含(included)”)的使用不具限制性。此外，除非另外特定陈述，否则诸如“要素”或“组分”的术语涵盖包含一个单位的要素或组分以及包含多于一个单位的要素或组分。如本文所用，除非另外指示，否则连接词“及”意欲为包括性的且连接词“或”并不意欲为排他性的。举例而言，短语“或，替代地”意欲为排他性的。如本文所用，术语“及/或”是指前文要素的任何组合，包括使用单一要素。
本文所用的章节标题出于组织目的而不应被理解为限制所描述的主题。在本申请中所引用的所有文献或文献的部分(包括(但不限于)专利、专利申请、文章、书籍及论文)在此出于任何目的明确地以全文引用的方式并入本文中。在并入参考文献中的一或多者及类似材料以与在本申请中术语的定义矛盾的方式定义术语的情况下，以本申请为准。
在提及发明性聚合物中的任一者时术语“连接点”是指与另一聚合物链的分支点及/或与另一聚合物链的交联点，其中分支及/或交联的程度为使得所得分支及/或交联聚合物仍具有足够低的分子量以便避免在该聚合物将变得不可溶于诸如旋转浇铸溶剂的溶剂中时达至胶凝点。
除非另外指示，否则“烷基”是指可为直链、支链(例如甲基、乙基、丙基、异丙基、叔丁基等)、环状(例如环己基、环丙基、环戊基等)或多环状(例如降冰片基、金刚烷基等)的烃基。这些烷基部分可如下文所述地经取代或未经取代。术语烷基是指具有C-1至C-20碳的此类部分。应理解，出于结构原因，直链烷基以C-1开始，而支链烷基及环状烷基以C-3开始且多环状烷基以C-5开始。此外，进一步应理解，除非另外指示，否则衍生自下文所述的诸如烷基氧基及卤烷基氧基的烷基的部分具有相同碳数范围。若将烷基长度指定为不同于上文所述，则上文所述的烷基定义相对于其涵盖如上文所述的所有类型的烷基部分仍成立，且关于给定类型的烷基的最小碳数的结构考虑仍适用。
烷基氧基(Alkyloxy)(还称为烷氧基(Alkoxy))是指一种烷基，其经由氧基(-O-)部分附接(例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、1,2-异丙氧基、环戊氧基、环己氧基等)。这些烷基氧基部分可如下文所述地经取代或未经取代。
卤基(halo)或卤基团(hal ide)是指由一个键连接至有机部分的卤素，F、Cl、Br、I。
卤烷基是指诸如上文所定义的直链、环状或支链饱和烷基，其中若存在多于一个卤基部分，则氢中的至少一者已由选自由F、Cl、Br、I或其混合物组成的组的卤基团替代。氟烷基为这些部分的特定子组。
氟烷基是指如上文所定义的氢已由氟部分或完全替代的直链、环状或支链饱和烷基(例如三氟甲基，全氟乙基、2,2,2-三氟乙基、全氟异丙基、全氟环己基等)。这些氟烷基部分若未全氟化，则可如下文所述经取代或未经取代。
氟烷基氧基是指如上文所定义的经由氧基(-O-)附接的氟烷基，其可完全氟化(还称为全氟化)或替代地部分氟化部分(例如三氟甲氧基、全氟乙氧基、2,2,2-三氟乙氧基、全氟环己氧基等)。这些氟烷基部分若未全氟化，则可如下文所述经取代或未经取代。
本文中，当参考具有开始于C-1的可能范围碳原子的烷基、烷氧基、氟烷基、氟烷基氧基(诸如例如“C-1至C-20烷基”或“C-1至C-20氟烷基”)作为非限制性实例时，此范围涵盖开始于C-1的直链烷基、烷基氧基、氟烷基及氟烷基氧基，但仅表示以C-3起始的支链烷基、支链烷基氧基、环烷基、环烷基氧基、支链氟烷基及环状氟烷基。
术语“亚烷基”是指可为直链、支链或环状的具有两个或更多个附接点的烃基(例如具有两个附接点：亚甲基、亚乙基、1,2-亚异丙基、1,4-亚环己基等；具有三个附接点：1,1,1-经取代甲烷、1,1,2-经取代乙烷、1,2,4-经取代环己烷等)。本文中同样，当指示可能范围的碳(诸如C-1至C-20)作为非限制性实例时，此范围涵盖以C-1开始的直链亚烷基，但仅指示以C-3开始的支链亚烷基或亚环烷基。这些亚烷基部分可如下文所述地经取代或未经取代。
如本文所使用的术语固体组分是指不为溶剂组分e)的组分，即在一个实施方案中为组分a)、b)、c)及d)，且在另一实施方案中包括任选的杂环组分f)、组分a)、b)、c)、d)及f)。
术语“单”亚烷基氧基亚烷基及“低聚”亚烷基氧基亚烷基涵盖简单亚烷基氧基亚烷基部分以及低聚材料，该简单亚烷基氧基亚烷基部分为诸如亚乙基氧基亚乙基(-CH2-CH2-O-CH2-CH2-)、亚丙基氧基亚丙基(-CH2-CH2-CH2-O-CH2-CH2-CH2-)等，该低聚材料为诸如三(亚乙基氧基亚乙基)(-CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2-)、三(亚丙基氧基亚丙基)(-CH2-CH2-CH2-O-CH2-CH2-CH2-O-CH2-CH2-CH2-)等。
术语“芳基”或“芳族基团”是指此类含有6至24个碳原子的基团，包括苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、蒽基、联苯、双苯基、三苯基等。这些芳基可进一步经任何适当取代基(例如上文所提及的烷基、烷氧基、酰基或芳基)取代。
术语“酚醛清漆”若在本文中在无任何其他结构改性剂的情况下使用，则是指可溶于含水碱的酚醛清漆树脂，诸如四甲基铵氢氧化物等。
术语“亚芳基”是指具有两个或更多个附接点(例如2-5个)的芳族烃部分，此部分可为单个苯部分(例如两个附接点：1,4-亚苯基、1,3-亚苯基及1,2-亚苯基；三个附接点：1,2,4-经取代苯、1,3,5-经取代苯等)；具有两个附接点的多环芳族部分，此类衍生自萘、蒽、芘等；或具有两个附接点的链中的多个苯环(例如亚联苯基)。在芳族部分为稠合芳族环的那些情况下，这些可称作稠合环亚芳基，且更具体地称为例如亚萘基、亚蒽基、亚芘基等。稠合环亚芳基可如下文所述经取代或未经取代，另外，这些稠合环亚芳基也可含有烃取代基，该烃取代基在形成额外脂族或不饱和环的稠合环上具有两个附接位点，通过将具有5至10个碳原子的环附接至稠合环形成。
除非另外描述，否则术语“PAG”是指可在诸如200-300nm、i线、h线、g线及/或宽带照射的深UV或UV照射下产生酸(也称为光酸)的光致产酸剂。酸可为磺酸、HCl、HBr、HAsF6等。其包括以下作为非限制性实例：如本领域中已知可以光化学方式生成c强酸的鎓盐及其他光敏性化合物，诸如烷基磺酸、芳基磺酸、HAsF6、HSbF6、HBF4、HPF6、CF3SO3H、HC(SO2CF3)2、HC(SO2CF3)3、HN(SO2CF3)2、HB(C6H5)4、HB(C6F5)4、双三氟甲基苯基)硼酸、对甲苯磺酸、HB(CF3)4三卤甲基及可能生成诸如HBr或HCl的卤化氢的三卤甲基杂环化合物的光敏性衍生物。
术语“芳烃”涵盖包含1个环或稠合在一起的2至8个基于碳的芳环的芳族烃部分。
术语“杂芳烃”是指分别含有1或多个三价或二价杂原子的芳烃，以此方式以便保留其芳族性。此类杂原子的实例为N、O、P及S。作为非限制性实例，此类杂芳烃可含有1至3个此类杂原子。
除非另外指示，否则在文本中，术语“经取代”在参考芳基、烷基、烷基氧基、氟烷基、氟烷基氧基、稠合芳族环、芳烃、杂芳烃时是指还含有一个或多个取代基的这些部分之一，该一个或多个取代基选自由以下组成的组：未经取代的烷基、经取代的烷基、未经取代的芳基、烷基氧基芳基(烷基-O-芳基-)、二烷基氧基芳基((烷基-O-)2-芳基)、卤芳基、烷基氧基、烷芳基、卤烷基、卤基团、羟基、氰基、硝基、乙酰基、烷基羰基、甲酰基、乙烯基(CH2＝CH-)、苯基乙烯基(Ph-CH＝CH-)、芳基乙烯基(芳基-CH＝CH-)及包含亚乙烯基亚芳基部分的取代基(例如Ar(-CH＝CH-Ar-)z，其中z为1-3)。经取代的芳基及经取代的芳基乙烯基取代基的特定非限制性实例为如下，其中表示附接点：
及/>
术语经取代的芳基及经取代的乙烯基是指其中取代基选自本文所述的取代基中的任一者的这些部分。类似地，术语“未经取代”是指其中除氢之外不存在取代基的这些相同部分。
在其方面之一中，本发明涉及一种组合物，其基本上由组分a)、b)、c)、d)及e)组成或基本上由组分a)、b)、c)、d)、e)及f)组成，其中：
组分a)为具有结构(I)及(II)的两种酚醛清漆聚合物的共混物；其中R1至R9独立地选自C-1至C-4烷基，且x、y及z表示以结构(I)的聚合物中重复单元的总摩尔数计的摩尔％；k、l及m表示以结构(II)的聚合物中重复单元的总摩尔数计的摩尔％，且进一步其中x在约10至约20摩尔％范围内，y在约50至约60摩尔％范围内，z在约30至约40摩尔％范围内，k在约10至约20摩尔％范围内，l在约40至约50摩尔％范围内，m在约30至约40摩尔％范围内，且进一步其中对于结构(I)，x、y及z的总和为100摩尔％，且在结构(II)中，k、l及m的总和为100摩尔％。且进一步其中所述结构(I)及(II)的酚醛清漆聚合物的重量％固体量以固体组分a)、b)、c)及d)的总重量计，各自独立地在约23重量％至约70重量％、优选约25重量％至约60重量％固体量的范围内，其中这些组分的单独重量％固体量值的总和为100％。
组分b)为重氮萘醌磺酸盐(DNQ-PAC)组分，其为具有结构(III)的通式或具有通式(III-1)的单一材料或材料混合物；其中D1c、D2c、D3c、D4c及D5c各个地选自H或具有结构(IV)或(V)的部分，且进一步其中在结构(III)中，D1c、D2c、D3c或D4c中的至少一者为具有结构(IV)或(V)的部分且在结构(III-1)中，D1c、D2c、D3c、D4c、D5c中的至少一者为具有结构(IV)或(V)的部分。进一步其中此组分在约9重量％至约15重量％，优选约10重量％至约15重量％固体量的范围内，
组分c)为包含多酚化合物的溶解增强剂组分，该多酚化合物为选自由低聚分馏酚醛清漆、具有通式结构(VI)的化合物及具有通式结构(VII)的化合物组成的组的单一化合物或至少两种化合物的混合物，其中Rde1、Rde2、Rde3、Rde4及Rde5各个地选自C-1至C-4烷基；且进一步其中此组分在约4重量％至约15重量％固体量的范围内。
组分d)为表面活性剂，其在约0重量％至约0.2重量％固体量的范围内。
组分e)为有机旋转浇铸溶剂。
组分f)为杂环硫醇。
此外，此基本上由组分a)、b)、c)、d)及e)或组分a)、b)、c)、d)、e)及f)组成的组合物为不含六甲基三聚氰胺型交联剂材料及光致产酸剂的组合物。
在一个实施方案中，该组合物为基本上由组分a)、b)、c)、d)及e)组成的组合物。
在一个实施方案中，该组合物为基本上由组分a)、b)、c)、d)、e)及f)组成的组合物。
在一个实施方案中，该组合物为由组分a)、b)、c)、d)及e)组成的组合物。
在一个实施方案中，该组合物为由a)、b)、c)、d)、e)及f)的组分组成的组合物。
在本发明组合物的一个实施方案中，组分a)为R1至R9为甲基的组分。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，对于结构(I)的聚合物，x在约15至约20摩尔％范围内，y在约50至约55摩尔％范围内，且z在约30至约35摩尔％范围内。
在本文关于结构(I)的聚合物所述的本发明组合物的另一个实施方案中，其摩尔％x在约10至约25摩尔％范围内的结构(Ia)的重复单元由具有结构(Iax1)、(Iax2)、(Iax3)、(Iax4)、(Iax5)及(Iax6)的异构重复单元的混合物构成，所述异构重复单元分别具有以结构(Ia)的重复单元的总量计x1、x2、x3、x4、x5及x6的摩尔％值，其中；
x1，结构(Iax1)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，x2，结构(Iax2)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
x3，结构(Iax3)的重复单元的摩尔％值在约20至约25摩尔％范围内，
x4，结构(Iax4)的重复单元的摩尔％值在约20至约25摩尔％范围内，
x5，结构(Iax5)的重复单元的摩尔％值在约20至约25摩尔％范围内，
x6，结构(Iax6)的重复单元的摩尔％值在约20至约25摩尔％范围内，其中以该结构(I)的酚醛清漆聚合物计x1、x2、x3、x4、x5、x6的总和相加为约10摩尔％至约25摩尔％，且以该结构(I)的酚醛清漆聚合物计x1、x2、x3、x4、x5、x6、y及z的总和等于100摩尔％。
在本文关于结构(II)的聚合物所述的本发明组合物的另一个实施方案中，其摩尔％k在约10摩尔％至约20摩尔％范围内的结构(IIa)的重复单元由具有结构(IIax1)、(IIax2)、(IIax3)、(IIax4)、(IIax5)及(IIax6)的异构重复单元的混合物构成，所述异构重复单元分别具有k1、k2、k3、k4、k5及k6的摩尔％值，其中这些摩尔％值的总和在约10摩尔％至约20摩尔％范围内，其中；
k1，结构(IIak1)的重复单元的摩尔％值在约10至约20摩尔％范围内，
k2，结构(IIak2)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
k3，结构(IIak3)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
k4，结构(IIak4)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
k5，结构(IIak5)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
k6，结构(IIak6)的重复单元的摩尔％值，在0至约5摩尔％范围内，且进一步其中k1、k2、k3、k4、k5、k6、l及m的总和等于100摩尔％；
在所描述的本发明组合物的另一个实施方案中，该结构(II)的聚合物具有更特定的结构(II-1)，其中k1在约10至约20摩尔％范围内，l在约40至约50摩尔％范围内，m在约30至约40摩尔％范围内，且进一步其中对于结构(II-1)，k1、l及m的总和为100摩尔％。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，其为其中对于结构(II)的聚合物，k在约15至约20摩尔％范围内，l在约40至约50摩尔％范围内，且m在约35至约40摩尔％范围内的组合物。
在本发明的另一实施方案中，组分a)为其中结构(I)的所述酚醛清漆聚合物的重量％固体量在约23重量％至约55重量％总固体量范围内，且结构(II)的酚醛清漆聚合物的重量％固体量在约25重量％至约56重量％总固体量范围内，且其中这些两种聚合物组分的组合重量％固体量的重量％总固体量在约75重量％至约85重量％范围内的组分。在另一方面中，其独立地在约35重量％至约50重量％固体量的范围内。在此实施方案的又一方面中，该结构(I)的酚醛清漆聚合物在约23.5重量％至约52重量％总固体量的范围内，且该结构(II)的酚醛清漆聚合物在约28重量％至约55.5重量％总固体量的范围内。
在本文所述的本发明组合物的另一个实施方案中，其为其中对于组分b)，该DNQPAC为其中D1c、D2c、D3c及D4c各个地选自H或具有结构(IV)的部分，且进一步其中D1c、D2c、D3c或D4c中的至少一者为具有结构(IV)的部分的组合物。
在本文所述的本发明组合物的另一个实施方案中，组分b)，该DNQPAC为其中D1c、D2c、D3c及D4c各个地选自H或具有结构(V)的部分，且进一步其中D1c、D2c、D3c或D4c中的至少一者为具有结构(V)的部分的组分。
在本文所描述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂在约5重量％至约15重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6重量％至约14重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约13重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约12重量％范围内。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂为低聚分馏酚醛清漆。在此实施方案的一个方面中，该速度增强剂在约5重量％至约14重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约5重量％至约13重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.0重量％至约12重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约11重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约10重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约10重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约9重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约8重量％范围内。在此实施方案的一个方面中，其为约7重量％。
在本文所描述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂为结构(VI)的化合物、结构(VII)的化合物或这些的混合物。在此实施方案的一个方面中，在该结构(VI)的化合物中，Rde1、Rde2及Rde3全部选自相同的C-1至C-4烷基。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂具有结构(VI)。在此实施方案的一个方面中，该速度增强剂在约5重量％至约14重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约5重量％至约13重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.0重量％至约12重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约11重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约10重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约10重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约9重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约8重量％范围内。在此实施方案的一个方面中，其为约7重量％。
在本文所描述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂为具有结构(VI)的不同化合物的混合物。在此实施方案的一个方面中，该速度增强剂在约5重量％至约14重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约5重量％至约13重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.0重量％至约12重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约11重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约10重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约10重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约9重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约8重量％范围内。在此实施方案的一个方面中，其为约7重量％。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂具有结构(VII)。在此实施方案的一个方面中，该速度增强剂在约5重量％至约15重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6重量％至约14重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约7重量％至约13重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约8重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约8重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约9重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约10重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约11重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其为约12重量％。
在本文所描述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂为具有结构(VII)的不同化合物的混合物。在此实施方案的另一方面中，其在约6重量％至约14重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约7重量％至约13重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约8重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约8重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约9重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约10重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约11重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其为约12重量％。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂为结构(VI)及(VII)的速度增强剂的混合物。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂选自具有结构(VIa)或结构(VIIa)的速度增强剂或为结构(VIa)及(VIIa)的速度增强剂的混合物。在此实施方案的另一方面中，其具有结构(VIa)。在此实施方案的另一方面中，该速度增强剂具有结构(VIIa)。在此实施方案的另一方面中，该速度增强剂为结构(VIa)及(VIIa)的混合物。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂具有结构(VIa)且其在约5重量％至约14重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约5重量％至约13重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.0重量％至约12重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约11重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约10重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约10重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约9重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约6.5重量％至约8重量％范围内。在此实施方案的一个方面中，其为约7重量％。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，组分c)，该速度增强剂具有结构(VIIa)且其在约6重量％至约14重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约7重量％至约13重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约8重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约8重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约9重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约10重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其在约11重量％至约12.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，其为约12重量％。
4,4'-((2-羟基苯基)亚甲基)双(2,6-二甲基苯酚)(VIa)
4,4'-(1-(4-(2-(4-羟基苯基)丙-2-基)苯基)乙烷-1,1-二基)二酚(VIIa)
组分d)表面活性剂
在本文针对该表面活性剂，组分d)所述的本发明组合物的另一实施方案中，关于该表面活性剂不存在特定限制，且其实例包括：聚环氧乙烷烷基醚，诸如聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯十八基醚、聚氧乙烯十六基醚及聚氧乙烯油精醚；聚氧乙烯烷芳基醚，诸如聚氧乙烯辛基苯酚醚及聚氧乙烯壬基苯酚醚；聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物；脱水山梨糖醇脂肪酸酯，诸如脱水山梨糖醇单月桂酸酯、脱水山梨糖醇单棕榈酸酯及脱水山梨糖醇单硬脂酸酯；聚氧乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸酯的非离子表面活性剂，诸如聚氧乙烯脱水山梨糖醇单月桂酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇单棕榈酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇单硬脂酸酯、聚乙烯脱水山梨糖醇三油酸酯及聚氧乙烯脱水山梨糖醇三硬酯酸酯；氟化表面活性剂，诸如F-Top EF301、EF303及EF352(由Jemco有限公司制造)、Megafac F171、F172、F173、R08、R30、R90及R94(由Dainippon Ink&Chemicals有限公司制造)、Florad FC-430、FC-431、FC-4430及FC-4432(由Sumi tomo 3M有限公司制造)、Asahi Guard AG710、Surflon S-381、S-382、S-386、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106、Surfinol E1004、KH-10、KH-20、KH-30及KH-40(由Asahi Glass有限公司制造)；有机硅氧烷聚合物，诸如KP-341、X-70-092及X-70-093(由Shin-Etsu Chemical有限公司制造)；及丙烯酸或甲基丙烯酸聚合物，诸如Polyflow第75号及第95号(由Kyoeisha Chemical Co.Ltd.制造)。
在本文所述的本发明组合物的另一实施方案中，组分a)、b)、c)及d)或a)、b)、c)、d)及f)在与溶剂组分e)组合时的总重量在溶剂中产生在约30％至约40％范围内的这些固体组分的wt％总量。
在上述组合物的另一实施方案中，组分e)有机旋转浇铸溶剂包含以下中的一或多者：乙酸丁酯、乙酸戊酯、乙酸环己酯、乙酸3-甲氧基丁酯、甲基乙基酮、甲基戊基酮、环己酮、环戊酮、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸甲酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、二丙酮醇、叔戊酸甲酯、叔戊酸乙酯、丙二醇单甲醚(PGME)、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚丙酸酯、丙二醇单乙醚丙酸酯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、γ-丁内酯、丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、环丁砜、丙二醇二甲醚、二丙二醇二甲醚、乙二醇二甲醚或二乙二醇二甲醚及γ丁内酯。在此实施方案的一个方面中，溶剂组分包含丙二醇单甲醚(PGME)。在此实施方案的另一方面中，溶剂组分包含丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)。
组分f)杂环硫醇
在上述本发明组合物的一个实施方案中，其进一步包含至少一种任选的杂环硫醇组分。在此实施方案的一个方面中，该杂环硫醇组分为至少一种包含选自通用结构(H1)、(H2)或(H3)的环结构的杂环硫醇化合物，或其互变异构体；且该环结构为具有4至8个原子的单环结构或具有5至20个原子的多环结构；且其中单环结构或多环结构包含芳族、非芳族或杂芳族环。在该结构(H1)中，Xt选自由N(Rt 3)、C(Rt1)(Rt2)、O、S、Se及Te组成的组。在该结构(H2)中，Y选自由C(Rt3)及N组成的组。在该结构(H3)中，Z选自由C(Rt3)及N组成的组。在这些结构中，Rt1、Rt2及Rt3独立地选自由以下各者组成的组：H、具有1至8个碳原子的经取代的烷基、具有1至8个碳原子的未经取代的烷基、具有2至8个碳原子的经取代的烯基、具有2至8个碳原子的未经取代的烯基、具有2至8个碳原子的经取代的炔基、具有2至8个碳原子的未经取代的炔基、具有6至20个碳原子的经取代的芳族基、具有3至20个碳原子的经取代的杂芳族基、具有6至20个碳原子的未经取代的芳族基及具有3至20个碳原子的未经取代的杂芳族基。在一个实施方案中，该杂环硫醇化合物以约0.5重量％至约1.5重量％总固体量存在。
在其中该本发明组合物包含至少一个选自上述一般结构(H1)、(H2)或(H3)或其互变异构体的杂环硫醇的另一实施方案中，这些杂环硫醇可选自但不限于经取代或未经取代的三唑硫醇、经取代或未经取代的咪唑硫醇、经取代或未经取代的三嗪硫醇、经取代或未经取代的巯基嘧啶、经取代或未经取代的噻二唑-硫醇、经取代或未经取代的吲唑硫醇、其互变异构体或其组合。取代基可包括但不限于饱和或不饱和烃基、经取代或未经取代的芳环、脂族、芳族或杂芳族醇、胺、酰胺、酰亚胺羧酸、酯、醚、卤基团等。这样的取代基可与杂环硫醇配合使用以改良溶解度、修改与基板的相互作用、促进曝光于光或充当抗光晕染料。
在其中该本发明组合物包含至少一个选自上述一般结构(H1)、(H2)或(H3)或其互变异构体的杂环硫醇的另一实施方案中，此类杂环硫醇可选自但不限于以下呈未经取代或经取代形式的化合物(H4)至(H23)：
/>
/>
在其中该本发明组合物包含至少一种具有通用结构(H1)、(H2)或(H3)的杂环硫醇或其互变异构体的实施方案的另一方面中，此类杂环硫醇可选自硫尿嘧啶衍生物，诸如2-硫代尿嘧啶。这些包括但不限于：5-甲基-2-硫尿嘧啶、5,6-二甲基-2-硫尿嘧啶、6-乙基-5-甲基-2-硫尿嘧啶、6-甲基-5-正丙基-2-硫尿嘧啶、5-乙基-2-硫尿嘧啶、5-正丙基-2-硫尿嘧啶、5-正丁基-2-硫尿嘧啶、5-正己基-2-硫尿嘧啶、5-正丁基-6-乙基-2-硫尿嘧啶、5-羟基-2-硫尿嘧啶、5,6-二羟基-2-硫尿嘧啶、5-羟基-6-正丙基-2-硫尿嘧啶、5-甲氧基-2-硫尿嘧啶、5-正丁氧基-2-硫尿嘧啶、5-甲氧基-6-正丙基-2-硫尿嘧啶、5-溴-2-硫尿嘧啶、5-氯-2-硫尿嘧啶、5-氟-2-硫尿嘧啶、5-氨基-2-硫尿嘧啶、5-氨基-6-甲基-2-硫尿嘧啶、5-氨基-6-苯基-2-硫尿嘧啶、5,6-二氨基-2-硫尿嘧啶、5-烯丙基-2-硫尿嘧啶、5-烯丙基-3-乙基-2-硫尿嘧啶、5-烯丙基-6-苯基-2-硫尿嘧啶、5-苯甲基-2-硫尿嘧啶、5-苯甲基-6-甲基-2-硫尿嘧啶、5-乙酰氨基-2-硫尿嘧啶、6-甲基-5-硝基-2-硫尿嘧啶、6-氨基-2-硫尿嘧啶、6-氨基-5-甲基-2-硫尿嘧啶、6-氨基-5-正丙基-2-硫尿嘧啶、6-溴-2-硫尿嘧啶、6-氯-2-硫尿嘧啶、6-氟-2-硫尿嘧啶、6-溴-5-甲基-2-硫尿嘧啶、6-羟基-2-硫尿嘧啶、6-乙酰氨基-2-硫尿嘧啶、6-正辛基-2-硫尿嘧啶、6-十二烷基-2-硫尿嘧啶、6-四-十二烷基-2-硫尿嘧啶、6-十六基-2-硫尿嘧啶、6-(2-羟乙基)-2-硫尿嘧啶、6-(3-异丙辛基)-5-甲基-2-硫尿嘧啶、6-(间硝苯基)-2-硫尿嘧啶、6-(间硝苯基)-5-正丙基-2-硫尿嘧啶、6-α-萘基-2-硫尿嘧啶、6-α-萘基-5-叔丁基-2-硫尿嘧啶、6-(对氯苯基)-2-硫尿嘧啶、6-(对氯苯基)-2-乙基-2-硫尿嘧啶、5-乙基-6-二十基-2-硫尿嘧啶、6-乙酰氨基-5-乙基-2-硫尿嘧啶、6-二十基-5-烯丙基-2-硫尿嘧啶、5-氨基-6-苯基-2-硫尿嘧啶、5-氨基-6-(对氯苯基)-2-硫尿嘧啶、5-甲氧基-6-苯基-2-硫尿嘧啶、5-乙基-6-(3,3-二甲基辛基)-2-硫尿嘧啶、6-(2-溴乙基)-2-硫尿嘧啶、1-苯基-1H-四唑-5-硫醇、4-(5-巯基-1H-四唑-1-基)苯酚、其互变异构体及其组合。
在其中该本发明组合物包含至少一个选自上述一般结构(H1)、(H2)或(H3)或其互变异构体的杂环硫醇的另一实施方案中，此类杂环硫醇可选自由以下组成的组：未经取代的三唑硫醇、经取代的三唑硫醇、未经取代的咪唑硫醇、经取代的咪唑硫醇、经取代的三嗪硫醇、未经取代的三嗪硫醇、经取代的巯基嘧啶、未经取代的巯基嘧啶、经取代的噻二唑-硫醇、未经取代的噻二唑-硫醇、经取代的吲唑硫醇、未经取代的吲唑硫醇、其互变异构体及其组合。
在其中该本发明组合物包含组分g)，该杂环硫醇的另一实施方案中，此为至少一种选自上述通用结构(H1)、(H2)或(H3)的杂环硫醇或其互变异构体，此类杂环硫醇可选自由以下组成的组：1,3,5-三嗪-2,4,6-三硫醇、2-巯基-6-甲基嘧啶-4-醇、3-巯基-6-甲基-1,2,4-三嗪-5-醇、2-巯基嘧啶-4,6-二醇、1H-1,2,4-三唑-3-硫醇、1H-1,2,4-三唑-5-硫醇、1H-咪唑-2-硫醇、1H-咪唑-5-硫醇、1H-咪唑-4-硫醇、2-氮杂双环[3.2.1]辛-2-烯-3-硫醇、2-氮杂双环[2.2.1]庚-2-烯-3-硫醇、1H-苯并[d]咪唑-2-硫醇、2-巯基-6-甲基嘧啶-4-醇、2-巯基嘧啶-4-醇、1-甲基-1H-咪唑-2-硫醇、1,3,4-噻二唑-2,5-二硫醇、1H-吲唑-3-硫醇、1-苯基-1H-四唑-5-硫醇、4-(5-巯基-1H-四唑-1-基)苯酚、其互变异构体及其组合。
在此组合物的另一方面中，其中其包含至少一种如本文所述的选自以上通用结构(H1)、(H2)或(H3)的杂环硫醇，该杂环硫醇以总固体量的约0.001重量％至约1.5重量％范围内的负载存在。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇在总固体量的约0.010重量％至约1.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇在总固体量的约0.1重量％至约1.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇在总固体量的约0.2重量％至约1.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇在总固体量的约0.3重量％至约1.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.4重量％至约1.5重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇在总固体量的约0.6重量％至约1.4重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇在总固体量的约0.7重量％至约1.3重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，该杂环硫醇化合物在总固体量的约0.8重量％至约1.2重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，该杂环硫醇化合物在总固体量的约0.9重量％至约1.1重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，该杂环硫醇化合物为总固体量的约1重量％。
在此组合物的另一方面中，其中其包含至少一种如本文所描述的选自以上通用结构(H1)、(H2)或(H3)的杂环硫醇，如本文所描述的此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.01重量％至约0.49重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.04重量％至约0.49重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.08重量％至约0.49重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.09重量％至约0.49重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.10重量％至约0.49重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.15重量％至约0.49重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.20重量％至约0.49重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.25重量％至约0.48重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.47重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.47重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.49重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.45重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.45重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.45重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.44重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.43重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.42重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.41重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物在总固体量的约0.30重量％至约0.40重量％范围内。在此实施方案的另一方面中，此杂环硫醇化合物为总固体量的约0.35重量％。
组分e)有机旋转浇铸溶剂
本文中所公开的光敏性组合物可溶解于有机溶剂中。适合的有机溶剂的实例包括但不限于：乙酸丁酯、乙酸戊酯、乙酸环己酯、乙酸3-甲氧基丁酯、甲基乙基酮、甲基戊基酮、环己酮、环戊酮、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸甲酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、二丙酮醇、叔戊酸甲酯、叔戊酸乙酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚丙酸酯、丙二醇单乙醚丙酸酯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、γ-丁内酯、丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、四亚甲基砜、丙二醇二甲醚、二丙二醇二甲醚、乙二醇二甲醚或二乙二醇二甲醚、γ丁内酯。这些溶剂可单独使用或以两种或更多种的混合物形式使用。
其他任选的组分
在上述本发明组合物的一个实施方案中，其进一步包含至少一种任选的表面流平剂，所述表面流平剂可包括表面活性剂。在此实施方案中，关于表面活性剂不存在特定限制，且其实例包括：聚氧乙烯烷基醚，诸如聚氧乙烯十二基醚、聚氧乙烯十八基醚、聚氧乙烯十六基醚及聚氧乙烯油精醚；聚氧乙烯烷基芳基醚，诸如聚氧乙烯辛基苯酚醚及聚氧乙烯壬基苯酚醚；聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物；脱水山梨糖醇脂肪酸酯，诸如脱水山梨糖醇单月桂酸酯、脱水山梨糖醇单棕榈酸酯及脱水山梨糖醇单硬脂酸酯；聚氧乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸酯的非离子表面活性剂，诸如聚氧乙烯脱水山梨糖醇单月桂酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇单棕榈酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇单硬脂酸酯、聚乙烯脱水山梨糖醇三油酸酯及聚氧乙烯脱水山梨糖醇三硬脂酸酯；氟化表面活性剂，诸如F-Top EF301、EF303及EF352(由Jemco Inc.制造)、Megafac F171、F172、F173、R08、R30、R90及R94(由Dainippon Ink&Chemicals,Inc.制造)、Florad FC-430、FC-431、FC-4430及FC-4432(由Sumitomo 3M Ltd.制造)、Asahi Guard AG710、Surflon S-381、S-382、S-386、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106、Surfinol E1004、KH-10、KH-20、KH-30及KH-40(由Asahi Glass Co.,Ltd.制造)；有机硅氧烷聚合物，诸如KP-341、X-70-092及X-70-093(由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)；及丙烯酸或甲基丙烯酸类聚合物，诸如Polyflow 75号及95号(由KyoeishaChemical Co.Ltd.制造)。当表面活性剂存在于一个实施方案中时，其在总固体量的约0.01重量％至约0.3重量％范围内。
加工
本发明的另一方面为一种将本文中所描述的任一组合物涂布于基板上的方法。
本发明的另一方面为一种用于使抗蚀剂成像的方法，其包括以下步骤：i)在基板上涂布本文中所描述的任一组合物以形成抗蚀剂膜；ii)使用掩模将该抗蚀剂膜选择性曝光于UV光以形成经选择性曝光的抗蚀剂膜；iii)使该经选择性曝光的膜显影以在该基板上方形成正成像的抗蚀剂膜。
本发明的另一方面为一种用于使抗蚀剂成像的方法，其包括以下步骤：ia)在基板上涂布本文中所描述的任一组合物以形成抗蚀剂膜；iia)使用掩模将该抗蚀剂膜选择性曝光于UV光以形成经选择性曝光的抗蚀剂膜；iiia)烘烤该经选择性曝光的抗蚀剂膜以形成经烘烤经选择性曝光的抗蚀剂膜；iva)使该选择性曝光及烘烤的抗蚀剂膜显影以在该基板上方形成正成像的抗蚀剂膜。
本发明的另一方面为本文中所描述的组合物用于涂布基板或用于在基板上制备成像抗蚀剂膜的用途。
实施例
现将参照本公开的更特定实施方案及对这些实施方案提供支持的实验结果。下文给出实施例以更全面地说明所公开的主题且不应解释为以任何方式限制所公开的主题。
本领域技术人员将显而易见，可在不脱离所公开的主题的精神或范围的情况下在所公开的主题及本文所提供的特定实施例中进行各种修改及变化。因此，所公开的主题(包括由以下实施例提供的描述)意欲涵盖出现在任何权利要求及其等效者的范围内的所公开主题的修改及变化。
配制剂的涂布：
将所有配制剂在6或8"直径Si及Cu晶圆上测试。Si晶圆经再水合烘烤且用六甲基二硅氮烷(HMDS)蒸气底涂。Cu晶圆是涂布有5,000埃的二氧化硅、250埃的氮化钽及3,500埃的Cu(PVD沉积)的硅晶圆。
通过旋转涂布抗蚀剂样品且在110℃下在接触模式的标准晶圆轨道热板(wafertrack hot plate)上施加软烘烤120秒来制备抗蚀剂涂层。调节旋转速度以获得5至10微米厚抗蚀剂膜。所有膜厚度测量在Si晶圆上使用光学测量进行。
成像：
将晶圆在SUSSMA200 CC掩模对准器或ASML 250i线步进器上曝光。在不进行曝光后烘烤的情况下使抗蚀剂等待10-60min，且接着在23℃下在AZ 300MIF(氢氧化四甲基铵的0.26N水溶液＝TMAH)中覆液显影(puddle develop)120至360秒。使用Hitachi S4700或AMRAY 4200L电子显微镜检查所显影的抗蚀剂图像。
材料
SPN400 Slow为间甲酚/对甲酚/二甲酚/甲醛酚醛清漆聚合物，以Alnovol SPN400 44％PGMEA的名称出售，由Allnex USA Inc.供应。此酚醛清漆的平均分子量为MW＝18,282。酚醛清漆的溶解速率在0.26N TMAH水性显影剂中为MIPHOTO NOVOL T106S为间甲酚/对甲酚/三甲基苯酚/甲醛酚醛清漆聚合物，以MIPHOTO NOVOL T106S的名称出售，由Miwon Commercial Co.,Ltd供应。此酚醛清漆的平均分子量为MW＝8,136，PDI＝6.51。酚醛清漆的溶解速率在0.26N TMAH水性显影剂中为/>MIPHOTO PACBP524为由Miwon CommercialCo.,Ltd以此名称销售的DNQ PAC。其为具有通式(III)的材料的混合物，其中D1c、D2c、D3c及D4c各个地选自H或具有结构(IV)的部分，其中D1c、D2c、D3c或D4c中的至少一者为具有结构(IV)的部分。/>
BI26X-SA为双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷，一种由AsahiYukizai Co.,Ltd以此名称出售的溶解增强剂。
TPPA(4,4'-(1-(4-(2-(4-羟苯基)丙-2-基)苯基)乙烷-1,1-二基)二苯酚)由Merck KGaA(Darmstadt,Germany)的子公司Millipore Sigma USA出售。
APS-437(也称为KF-353A)为来自Shinetsu(Tokyo,Japan)的表面活性剂。
PGMEA(乙酸1-甲氧基-2-丙酯)，用于光致抗蚀剂配制剂实施例的溶剂获自Sigma-Aldrich，Merck KGaA(Darmstadt，Germany)的子公司。
AZ 300MIF显影剂获自EMD Performance Materials Corp，Merck KGaA(Darmstadt,Germany)的子公司(也称为2.38％氢氧化四甲铵(TMAH))。
除非以其他方式说明，否则所有其他化学物质是获自Millipore Sigma USA，Merck KGaA的子公司(Darmstadt,Germany)。
聚合物的分子量用凝胶渗透层析法(GPC)测量。
酚醛清漆/DNQ光致抗蚀剂组合物包含两种酚醛清漆树脂、一种DNQ光敏性化合物、一种溶解增强剂、一种表面活性剂及一种溶剂。用于光致抗蚀剂组合物中的两种酚醛清漆树脂由不同单体及组成比组成。将光致抗蚀剂在硅晶圆上旋转涂布，且在热板上软烘烤，且随后通过gh线或i线步进器曝光。随后使用300MIF显影剂使经曝光晶圆显影以移除经曝光区域。最后，晶圆是通过去离子水冲洗且接着旋转干燥以获得光致抗蚀剂图案。
比较实施例1(H476-SPN400 Slow、BP524、BI26X-SA、APS437、PGMEA)：
通过将酚醛清漆树脂SPN400 Slow的42.7％PGMEA溶液(64.54克)、4.69克MIPHOTOPAC BP524、2.76克溶解增强剂BI26X-SA、表面活性剂APS-437的10.0％PGMEA溶液(也称为KF-353A，0.42克)溶解于丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)28.02克中来制备酚醛清漆/DNQ光致抗蚀剂组合物。因此，制备固体含量为35.0重量％的正光致抗蚀剂组合物。将光致抗蚀剂组合物旋转涂布在硅晶圆基板上，在110℃下软烘烤120秒，获得具有5.0μm厚度的膜。接着，经由用于测量分辨率的图案掩模，通过ASMLi线步进器(NA＝0.48，σ＝0.55)曝光经涂布膜，接着为100℃/60秒的曝光后烘烤(PEB)，且接着用300MIF显影剂(2.38％TMAH，氢氧化四甲基铵水溶液)以3个坑显影60秒(3×60秒)。在360mJ/cm2下解析的1.0μmL/S(线/空间)展示0.551μm的顶部CD及1.151μm的底部CD。
原料的固体％-
酚醛清漆树脂PN400 Slow：78.6458％
MIPHOTO PAC BP524：13.3698％
速度增强剂BI26X-SA：7.8646％
表面活性剂APS437(KF353A)：0.1199％
固体含量：35.04％
比较实施例2(H457-T106S，BP524，BI26X-SA，APS437，PGMEA)：
通过混合酚醛清漆树脂MIPHOTO NOVOL T106S的30.0％PGMEA溶液(94.61克)、3.97克MIPHOTO PAC BP524、1.42克溶解增强剂BI26X-SA、表面活性剂APS-437的10.0％PGMEA溶液(也称为KF-353A，0.41克)制备酚醛清漆/DNQ光致抗蚀剂组合物。因此，制备固体含量为33.82重量％的正光致抗蚀剂组合物。以与比较实施例1中相同的方式评估此组合物。在100mJ/cm 2下解析的1.0μm L/S(线/空间)展示0.832μm的顶部CD及0.716μm的底部CD。
原料的固体％-
MIPHOTO NOVOL T106S：83.9329％
MIPHOTO PAC BP524：11.7506％
速度增强剂BI26X-SA：4.1967％
表面活性剂APS437(KF353A)：0.1199％
固体含量：33.8153％
实施例1(比较实施例1/比较实施例2＝66/34，固体含量比)。
通过混合比较实施例1(32.53克)及比较实施例2(17.37克)制备酚醛清漆/DNQ光致抗蚀剂组合物。因此，制备固体含量为34.50重量％的正光致抗蚀剂组合物。以与比较实施例1中相同的方式评估此组合物。在240mJ/cm 2下解析的1.0μm L/S(线/空间)展示0.725μm的顶部CD及1.180μm的底部CD。
原料的固体％-
酚醛清漆树脂SPN400 Slow：51.9063％
酚醛清漆树脂MIPHOTO NOVOL T106S：28.5371％
MIPHOTO PAC BP524：12.8191％
速度增强剂BI26X-SA：6.6176％
表面活性剂APS437(KF353A)：0.1198％
固体含量：34.50％
实施例2(比较实施例1/比较实施例2＝50/50，固体含量比)。
通过混合比较实施例1(24.55克)及比较实施例2(25.45克)制备酚醛清漆/DNQ光致抗蚀剂组合物。因此，制备固体含量为34.38重量％的正光致抗蚀剂组合物。以与比较实施例1中相同的方式评估此组合物。在200mJ/cm 2下解析的1.0μm L/S(线/空间)展示0.764μm的顶部CD及1.112μm的底部CD。
原料的固体％-
酚醛清漆树脂SPN400 Slow：39.323％
酚醛清漆树脂MIPHOTO NOVOL T106S：41.966％
MIPHOTO PAC BP524：12.56％
速度增强剂BI26X-SA：6.031％
表面活性剂APS437(KF353A)：0.119％
固体含量：34.38％
实施例3(比较实施例1/比较实施例2＝34/66，固体含量比)。
通过混合比较实施例1(16.60克)及比较实施例2(33.40克)制备酚醛清漆/DNQ光致抗蚀剂组合物。因此，制备固体含量为34.18重量％的正光致抗蚀剂组合物。以与比较实施例1中相同的方式评估此组合物。在140mJ/cm 2下解析的1.0μm L/S(线/空间)展示0.861μm的顶部CD及1.151μm的底部CD。
原料的固体％-
酚醛清漆树脂SPN400 Slow：26.7396％
酚醛清漆树脂MIPHOTO NOVOL T106S：55.3955％
MIPHOTO PAC BP524：12.3012％
速度增强剂BI26X-SA：5.4438％
表面活性剂APS437(KF353A)：0.1199％
固体含量：34.18％
实施例4
通过混合酚醛清漆树脂SPN400 Slow的42.7％PGMEA溶液(21.15克)、酚醛清漆树脂MIPHOTO NOVOL T106S(66.21克)的30.01％PGMEA溶液、3.71克MIPHOTO PAC BP524、4.47克溶解增强剂TPPA、0.375克附着力添加剂PMT、表面活性剂APS-437的10.0％PGMEA溶液(也称作KF-353A，0.446克)及3.636克PGMEA来制备酚醛清漆/DNQ光致抗蚀剂组合物。因此，制备固体含量为37.5重量％的正光致抗蚀剂组合物。
原料的固体％-
酚醛清漆树脂SPN400 Slow：24.088％
酚醛清漆树脂MIPHOTO NOVOL T106S：52.987％
MIPHOTO PAC BP524：9.899％
速度增强剂TPPA：11.907％
附着力添加剂PMT：1.00％
表面活性剂APS437(KF353A)：0.119％
固体含量：37.5％
图1比较在曲线图中并列的实施例2及比较实施例1的焦深(DOF)曲线，其突显了如本文中所描述的我们的新颖配制剂的出乎意外的改良。
图2展示出扫描电子显微照片(SEM)研究，其表明实施例2在以5μm膜厚度涂布且成像时的良好焦深(DOF)。
图3展示出扫描电子显微照片(SEM)研究，其表明实施例2在以5μm膜厚度涂布且成像时的良好线性。
图4展示表1，其给出实施例1、2及3相比于比较实施例1的蚀刻性能的概述，其再次突显了如本文中所描述的我们的新颖配制剂的出乎意外的改良。

Claims (33)

1.一种组合物，其基本上由组分a)、b)、c)、d)及e)组成或基本上由a)、b)、c)、d)、e)及f)组成
a)具有结构(I)及(I I)的两种酚醛清漆聚合物的共混物；其中R1至R9独立地选自C-1至C-4烷基，且x、y及z表示以该结构(I)的聚合物中重复单元的总摩尔数计的摩尔％；k、l及m表示以该结构(II)的聚合物中重复单元的总摩尔数计的摩尔％，且进一步其中x在约10至约20摩尔％范围内，y在约50至约60摩尔％范围内，z在约30至约40摩尔％范围内，k在约10至约20摩尔％范围内，l在约40至约50摩尔％范围内，m在约30至约40摩尔％范围内，且进一步其中对于结构(I)，x、y及z的总和为100摩尔％，且在结构(II)中，k、l及m的总和为100摩尔％；
b)重氮萘醌磺酸盐(DNQ-PAC)组分，其为具有结构(III)的通式或具有通式(III-1)的单一材料或材料混合物；其中D1c、D2c、D3c、D4c及D5c各个地选自H或具有结构(IV)或(V)的部分，且进一步其中在结构(III)中，D1c、D2c、D3c或D4c中的至少一者为具有结构(IV)或(V)的部分且在结构(III-1)中，D1c、D2c、D3c、D4c、D5c中的至少一者为具有结构(IV)或(V)的部分；
c)为包含多酚化合物的溶解增强剂组分，该多酚化合物为选自由低聚分馏酚醛清漆、具有通式结构(VI)的化合物及具有通式结构(VII)的化合物组成的组的单一化合物或至少两种化合物的混合物，其中Rde1、Rde2、Rde3、Rde4及Rde5各个地选自C-1至C-4烷基；
d)表面活性剂；
e)有机旋转浇铸溶剂；
其中使用由组分a)、b)、c)及d)的总重量计算得到的重量％固体量，所述重量％固体量经组合总计为100重量％固体量，组分a)、b)、c)及d)的重量％固体量范围如下：
组分a)为其中所述结构(I)及(II)的酚醛清漆聚合物的重量％固体量各自独立地在约23重量％至约70重量％范围内的组分，
组分b)在约9重量％至约15重量％范围内，
组分c)在约4重量％至约15重量％范围内，且
组分d)在约0重量％至约0.2重量％范围内；且进一步此组合物不含六甲基三聚氰胺交联剂及光致产酸剂，
f)任选的杂环硫醇组分，
2.根据权利要求1的组合物，其基本上由组分a)、b)、c)、d)及e)组成。
3.根据权利要求1的组合物，其基本上由组分a)、b)、c)、d)、e)及f)组成。
4.根据权利要求1或2的组合物，其由组分a)、b)、c)、d)及e)组成。
5.根据权利要求1或3的组合物，其由组分a)、b)、c)、d)、e)及f)组成。
6.根据权利要求1至5中任一项的组合物，其中R1至R9为甲基。
7.根据权利要求1至6中任一项的组合物，其中在该结构(I)的聚合物中，
x在约15至约20摩尔％范围内，
y在约50至约55摩尔％范围内，且
z在约30至约35摩尔％范围内。
8.根据权利要求1至7中任一项的组合物，其中在该结构(I)的聚合物中，其摩尔％x在约10至约25摩尔％范围内的结构(Ia)的重复单元包含具有结构(Iax1)、(Iax2)、(Iax3)、(Iax4)、(Iax5)及(Iax6)的异构重复单元的混合物，所述异构重复单元分别具有以结构(Ia)的重复单元的总量计x1、x2、x3、x4、x5及x6的摩尔％值，其中；
x1，结构(Iax1)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
x2，结构(Iax2)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
x3，结构(Iax3)的重复单元的摩尔％值在约20至约25摩尔％范围内，
x4，结构(Iax4)的重复单元的摩尔％值在约20至约25摩尔％范围内，
x5，结构(Iax5)的重复单元的摩尔％值在约20至约25摩尔％范围内，
x6，结构(Iax6)的重复单元的摩尔％值在约20至约25摩尔％范围内，且进一步其中以该结构(I)的酚醛清漆聚合物计x1、x2、x3、x4、x5、x6的总和相加为约10摩尔％至约25摩尔％，且以该结构(I)的酚醛清漆聚合物计x1、x2、x3、x4、x5、x6、y及z的总和等于100摩尔％；
9.根据权利要求1至8中任一项的组合物，其中在该结构(II)的聚合物中，其摩尔％k在约10摩尔％至约20摩尔％范围内的结构(IIa)的重复单元包含具有结构(IIax1)、(IIax2)、(IIax3)、(IIax4)、(IIax5)及(IIax6)的异构重复单元的混合物，所述异构重复单元分别具有k1、k2、k3、k4、k5及k6的摩尔％值，其中这些摩尔％值的总和在约10摩尔％至约20摩尔％范围内，其中；
k1，结构(IIak1)的重复单元的摩尔％值在约10至约20摩尔％范围内，
k2，结构(IIak2)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，k3，结构(IIak3)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
k4，结构(IIak4)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
k5，结构(IIak5)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，
k6，结构(IIak6)的重复单元的摩尔％值在0至约5摩尔％范围内，且进一步其中k1、k2、k3、k4、k5、k6以及l及m的总和等于100摩尔％；
10.根据权利要求1至9中任一项的组合物，其中所述结构(II)的聚合物具有更特定的结构(II-1)，其中k1在约10至约20摩尔％范围内，l在约40至约50摩尔％范围内，m在约30至约40摩尔％范围内，且进一步其中对于结构(I I-1)，k1、l及m的总和为100摩尔％；
11.根据权利要求1至10中任一项的组合物，其中在该结构(II)的聚合物中，
k在约15至约20摩尔％范围内，
l在约40至约50摩尔％范围内，且
m在约35至约40摩尔％范围内。
12.根据权利要求1至11中任一项的组合物，其中组分b)所述DNQPAC为其中D1c、D2c、D3c及D4c各个地选自H或具有结构(IV)的部分，且进一步其中D1c、D2c、D3c或D4c中的至少一者为具有结构(IV)的部分的组分。
13.根据权利要求1至12中任一项的组合物，其中组分b)所述DNQPAC为其中D1c、D2c、D3c及D4c各个地选自H或具有结构(V)的部分，且进一步其中D1c、D2c、D3c或D4c中的至少一者为具有结构(V)的部分的组分。
14.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂为低聚分馏酚醛清漆。
15.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂为结构(VI)的化合物、结构(VII)的化合物或这些的混合物。
16.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂具有结构(VI)。
17.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂具有结构(VI)且进一步其中Rde1、Rde2及Rde3均选自相同的C-1至C-4烷基。
18.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂具有结构(VII)。
19.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂为具有结构(VI)的不同化合物的混合物。
20.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂为具有结构(VII)的不同化合物的混合物。
21.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂为结构(VI)及(VII)的速度增强剂的混合物。
22.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂选自具有结构(VIa)或结构(VIIa)的组分或为结构(VIa)及(VIIa)的速度增强剂的混合物；
23.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂具有结构(VIa)。
24.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂具有结构(VIIa)。
25.根据权利要求1至13中任一项的组合物，其中组分c)所述速度增强剂为结构(VIa)及(VIIa)的速度增强剂的混合物。
26.根据权利要求1至25中任一项的组合物，其中当所述基本上由固体组分a)、b)、c)及d)组成的组合物与组分e)所述有机旋转浇铸溶剂组合时，在所述有机旋转浇铸溶剂中产生约30％至约40％范围内的固体重量％。
27.根据权利要求1至25中任一项的组合物，其中当所述基本上由固体组分a)、b)、c)、d)及f)组成的组合物与组分e)所述有机旋转溶剂组合时，在所述有机旋转浇铸溶剂中产生约30％至约40％范围内的固体重量％。
28.根据权利要求1至25中任一项的组合物，其中所述任选的组分f)为至少一种包含选自通用结构(H1)、(H2)或(H3)的环结构的杂环硫醇化合物，或其互变异构体；且所述环结构为具有4至8个原子的单环结构或具有5至20个原子的多环结构；且其中所述单环结构或所述多环结构包含芳族、非芳族或杂芳族环；在所述结构(H1)中，Xt选自由N(Rt 3)、C(Rt1)(Rt2)、O、S、Se及Te组成的组；在所述结构(H2)中，Y选自由C(Rt3)及N组成的组；在所述结构(H3)中，Z选自由C(Rt3)及N组成的组；在这些结构中，Rt1、Rt2及Rt3独立地选自由以下各者组成的组：H、具有1至8个碳原子的经取代的烷基、具有1至8个碳原子的未经取代的烷基、具有2至8个碳原子的经取代的烯基、具有2至8个碳原子的未经取代的烯基、具有2至8个碳原子的经取代的炔基、具有2至8个碳原子的未经取代的炔基、具有6至20个碳原子的经取代的芳族基、具有3至20个碳原子的经取代的杂芳族基、具有6至20个碳原子的未经取代的芳族基及具有3至20个碳原子的未经取代的杂芳族基，
29.根据权利要求28的组合物，其中所述杂环硫醇化合物以总固体量的约0.5重量％至约1.5重量％存在。
30.一种涂布基板的方法，其包括将根据权利要求1至29中任一项的组合物涂覆于所述基板上。
31.一种用于使抗蚀剂成像的方法，其包含以下步骤：
i)将根据权利要求1至29中任一项的组合物涂布于基板上以形成抗蚀剂膜；ii)使用掩模将所述抗蚀剂膜选择性曝光于UV光以形成经选择性曝光的抗蚀剂膜；iii)使所述经选择性曝光的膜显影以在所述基板上方形成正成像的抗蚀剂膜。
32.一种用于使抗蚀剂成像的方法，其包括以下步骤：
ia)将根据权利要求1至29中任一项的组合物涂布于基板上以形成抗蚀剂膜；
iia)使用掩模将所述抗蚀剂膜选择性曝光于UV光以形成经选择性曝光的抗蚀剂膜；
iiia)烘烤所述经选择性曝光的抗蚀剂膜以形成经烘烤经选择性曝光的抗蚀剂膜；
iva)使所述经选择性曝光及烘烤的抗蚀剂膜显影以在所述基板上方形成正成像的抗蚀剂膜。
33.一种根据权利要求1至29中任一项的组合物的用途，其用于涂布基板或用于在基板上制备成像抗蚀剂膜。
CN202280009208.2A 2021-01-07 2022-01-05 具有改良图案轮廓及焦深(dof)的正型光致抗蚀剂组合物 Pending CN116670587A (zh)

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