JP7365461B2 - 感光性組成物 - Google Patents

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Description

本発明は、感光性組成物、特にインクジェットプリンター用インクに適する感光性組成物に関する。
画像表示装置等の表示装置に含まれる波長変換膜等の硬化膜を形成するための硬化性樹脂組成物として、半導体量子ドット等の半導体粒子を含有するものが知られている（特許文献１）。また、半導体量子ドットを含むインク組成物を用い、インクジェット法により波長変換膜等を製造する方法が検討されている（特許文献２、３）。
特開２０１６－７１３６２号公報 国際公開第２０１８／１２３８２１号 国際公開第２０１８／１２３１０３号
半導体量子ドット等の半導体粒子は熱に弱く、半導体粒子を含む感光性組成物から形成される波長変換膜等の硬化膜の耐熱性の向上が求められる場合がある。さらに、感光性組成物は、より良好な塗工性が求められることもある。
本発明の目的は、半導体粒子を含む感光性組成物であって、耐熱性及び／または塗工性が良好な感光性組成物を提供することにある。
本発明は、以下に示す通りである。
［１］ 半導体粒子（Ａ）、光重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、及び安定化剤（Ｅ）を含む感光性組成物であって、
前記安定化剤（Ｅ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、８質量％以上である、感光性組成物。
［２］ 半導体粒子（Ａ）、光重合性化合物（Ｃ）、及び光重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記光重合性化合物（Ｃ）が、分子量１８０以下である（メタ）アクリレート化合物（Ｃ１）を含む、感光性組成物。
［３］ 半導体粒子（Ａ）、光重合性化合物（Ｃ）、及び光重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記光重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル基と（メタ）アクリロイル基を同一分子内に有する化合物（Ｃ２）を含む、感光性組成物。
［４］ 前記光重合性化合物（Ｃ）が、分子量１８０以下である（メタ）アクリレート化合物（Ｃ１）を含む、［１］～［３］のいずれかに記載の感光性組成物。
［５］ 前記光重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル基と（メタ）アクリロイル基を同一分子内に有する化合物（Ｃ２）を含む、［１］～［４］のいずれかに記載の感光性組成物。
［６］ 前記感光性組成物が、更に安定化剤（Ｅ）を含み、
前記安定化剤（Ｅ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、８質量％以上である、［１］～［５］のいずれかに記載の感光性組成物。
［７］ 前記化合物（Ｃ１）の２５℃における粘度が、１．２ｃＰ以下である、［１］～［６］のいずれかに記載の感光性組成物。
［８］ 前記化合物（Ｃ１）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、５質量％以上、５０質量％以下である、［１］～［７］のいずれかに記載の感光性組成物。
［９］ 前記化合物（Ｃ２）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、５質量％以上、５０質量％以下である、［１］～［８］のいずれかに記載の感光性組成物。
［１０］ 前記安定化剤（Ｅ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、１６質量％以上である、［１］～［９］のいずれかに記載の感光性組成物。
［１１］ 前記半導体粒子（Ａ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、１６質量％以上、４５質量％以下である、［１］～［１０］のいずれかに記載の感光性組成物。
［１２］ 前記光重合性化合物（Ｃ）が、カルボキシル基と、カルボキシル基以外の３つ以上の官能基とを同一分子内に有する化合物（Ｃ３）を含む、［１］～［１１］のいずれかに記載の感光性組成物。
［１３］ 前記化合物（Ｃ３）の含有量が、前記半導体粒子（Ａ）１００質量部に対して、２５質量部以上、１００質量部以下である、［１２］に記載の感光性組成物。
［１４］ 前記感光性組成物の４０℃における粘度が２０ｃＰ以下である、［１］～［１３］のいずれかに記載の感光性組成物。
［１５］ 前記光重合開始剤（Ｄ）の含有量が、前記光重合性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、８質量部以上、５０質量部以下である、［１］～［１４］のいずれかに記載の感光性組成物。
［１６］ 前記感光性組成物が、更に、体積基準のメディアン径が０．１５μｍ以上の光散乱剤（Ｂ）を含む、［１］～［１５］のいずれかに記載の感光性組成物。
［１７］ 前記感光性組成物が、更に溶剤（Ｆ）を含み、
前記溶剤（Ｆ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、３．５質量％以下である、［１］～［１６］のいずれかに記載の感光性組成物。
［１８］ インクジェットプリンター用インクである、［１］～［１７］のいずれかに記載の感光性組成物。
［１９］ 温度４０℃以上で、インクジェットプリンターの吐出ヘッドから吐出する、［１８］に記載の感光性組成物の使用。
［２０］ ［１］～［１８］のいずれかに記載の感光性組成物から形成される硬化膜。
［２１］ 垂直寸法が９μｍ以上および／または水平寸法が１０μｍ以上９００μｍ以下である、［２０］に記載の硬化膜。
本発明によれば、耐熱性及び／または塗工性が良好な感光性組成物を提供することができる。
図１は、表示部材の一例を表す模式断面図である。 図２は、外部量子収率の測定に使用する第１の光学系を示す装置概念図である。 図３は、外部量子収率の測定に使用する第２の光学系を示す装置概念図である。
＜感光性組成物＞
本発明に係る感光性組成物は、半導体粒子（Ａ）、光重合性化合物（Ｃ）、及び光重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、下記（ａ）～（ｃ）のいずれか１つ以上を満たす。
（ａ）更に安定化剤（Ｅ）を含み、前記安定化剤（Ｅ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、８質量％以上である
（ｂ）前記光重合性化合物（Ｃ）が、分子量１８０以下である（メタ）アクリレート化合物（Ｃ１）を含む
（ｃ）前記光重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル基と（メタ）アクリロイル基を同一分子内に有する化合物（Ｃ２）を含む
本発明の感光性組成物は、上記（ａ）～（ｃ）のいずれか１つを満たしていればよいが、上記（ａ）～（ｃ）のいずれか２つを満たしていてもよく、上記（ａ）～（ｃ）の全てを満たしていてもよい。
なお、本明細書において感光性組成物に含まれる、又は含まれ得る各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で、又は、複数種を組み合わせて使用することができる。
＜半導体粒子（Ａ）＞
半導体粒子（Ａ）は、好ましくは発光性（蛍光発光性）の半導体粒子である。発光性の半導体粒子を含む感光性組成物から形成される波長変換膜等の硬化膜は、所望の波長域の蛍光発光を示す色再現性に優れたものであり得る。
半導体粒子（Ａ）は、６０５～６６５ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、赤色発光性の半導体粒子であってよく、５００～５６０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、緑色発光性の半導体粒子であってよく、４２０～４８０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、青色発光性の半導体粒子であってもよい。また、半導体粒子（Ａ）が吸収する光は、例えば、４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満の範囲の波長の光（青色光）、又は２００ｎｍ～４００ｎｍの範囲の波長の光（紫外光）であってよい。なお、半導体粒子（Ａ）の発光ピーク波長は、例えば、紫外可視分光光度計を用いて測定される発光スペクトルにおいて確認することできる。
また、半導体粒子（Ａ）の発光スペクトルの半値全幅は、６０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５５ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下、特に好ましくは４５ｎｍ以下である。これにより、より色純度の高い光を得ることができる。また、半導体粒子（Ａ）の発光スペクトルの半値全幅の下限は特に限定されないが、５ｎｍ以上であってもよく、１５ｎｍ以上であってもよい。
発光性の半導体粒子は、半導体結晶からなる粒子、好ましくは半導体結晶からなるナノ粒子である。発光性の半導体粒子の好ましい例としては、半導体量子ドット及びペロブスカイト型結晶構造を有する化合物（以下、「ペロブスカイト化合物」という）が挙げられ、より好ましくは半導体量子ドットである。
前記半導体量子ドットの平均粒径は、例えば０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ以上１５ｎｍ以下（例えば２ｎｍ以上１５ｎｍ以下）である。半導体量子ドットの平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて求めることができる。
半導体量子ドットは、例えば、周期表第２族元素、第１１族元素、第１２族元素、第１３族元素、第１４族元素、第１５族元素及び第１６族元素からなる群より選択される１種又は２種以上の元素を含む半導体材料から構成することができる。
半導体量子ドットを構成し得る半導体材料の具体例は、ＳｎＳ２、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ等の第１４族元素と第１６族元素との化合物；ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、ＩｎＧａＮ、ＩｎＧａＰ等の第１３族元素と第１５族元素との化合物；Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｇａ２Ｓｅ３、Ｇａ２Ｔｅ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｓｅ３、Ｉｎ２Ｔｅ３等の第１３族元素と第１６族元素との化合物；ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＯ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＨｇＯ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＺｎＳＴｅ、ＺｎＳｅＳ、ＺｎＳｅＴｅ、ＣｄＳＴｅ、ＣｄＳｅＴｅ、ＨｇＳＴｅ、ＨｇＳｅＳ、ＨｇＳｅＴｅ等の第１２族元素と第１６族元素との化合物；Ａｓ２Ｏ３、Ａｓ２Ｓ３、Ａｓ２Ｓｅ３、Ａｓ２Ｔｅ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｓｂ２Ｓｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｓｅ３、Ｂｉ２Ｔｅ３等の第１５族元素と第１６族元素との化合物；ＭｇＳ、ＭｇＳｅ、ＭｇＴｅ、ＣａＳ、ＣａＳｅ、ＣａＴｅ、ＳｒＳ、ＳｒＳｅ、ＳｒＴｅ、ＢａＳ、ＢａＳｅ、ＢａＴｅ等の第２族元素と第１６族元素との化合物；Ｓｉ、Ｇｅ等の第１４族元素、第１５族元素又は第１６族元素の単体；を含む。
半導体量子ドットは、単一の半導体材料からなる単層構造であってもよいし、単一の半導体材料からなる核粒子（コア層）の表面が、これとは異なる１種又は２種以上の半導体材料からなる被覆層（シェル層）によって被覆されたコアシェル構造であってもよい。後者の場合、シェル層を構成する半導体材料としては通常、コア層を構成する半導体材料よりもバンドギャップエネルギーが大きいものを用いる。半導体量子ドットは、シェル層を２種以上有していてもよい。半導体量子ドットの形状は特に限定されず、例えば、球状又は略球状、棒状、円盤状等であり得る。
前記ペロブスカイト化合物は、Ａ、Ｂ及びＸを成分とする、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物である。
Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分を表し、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種のイオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
前記ペロブスカイト化合物の平均粒径は、良好に結晶構造を維持させる観点から、３ｎｍ以上であることが好ましく、４ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、感光性組成物においてペロブスカイト化合物の沈殿を抑制する観点から、ペロブスカイト化合物の平均粒径は、５μｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。ペロブスカイト化合物の平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて求めることができる。
Ａ、Ｂ及びＸを成分とするペロブスカイト化合物としては、特に限定されず、３次元構造、２次元構造、疑似２次元構造のいずれの構造を有する化合物であってもよい。
３次元構造の場合には、ペロブスカイト化合物は、ＡＢＸ（３＋δ）で表される。
２次元構造の場合には、ペロブスカイト化合物は、Ａ２ＢＸ（４＋δ）で表される。
ここで、δは、Ｂの電荷バランスに応じて適宜変更が可能な数であり、－０．７以上０．７以下である。
ペロブスカイト化合物であって、ＡＢＸ（３＋δ）で表される、３次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の具体例としては、
ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＣｌ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＩ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＰｂＢｒ３、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＰｂＣｌ３、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＰｂＩ３、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＣａａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＳｒａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＬａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＢａａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＤｙａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、
ＣｓＰｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、
（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、
ＣｓＰｂＢｒ３、ＣｓＰｂＣｌ３、ＣｓＰｂＩ３、ＣｓＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜３）、ＣｓＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０≦δ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、
ＣｓＰｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、
（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）等が好ましいものとして挙げられる。
ペロブスカイト化合物であって、Ａ２ＢＸ（４＋δ）で表される、２次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の好ましい具体例としては、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＢｒ４、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＣｌ４、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＩ４、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２ＰｂＢｒ４、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２ＰｂＣｌ４、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２ＰｂＩ４、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、
（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＢｒ４、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２ＰｂＢｒ４、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜４）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、
（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）等が挙げられる。
半導体粒子（Ａ）は、半導体粒子に配位する有機配位子を含む配位子含有半導体粒子であってもよい。半導体粒子に配位する有機配位子は、例えば、半導体粒子に対する配位能を示す極性基を有する有機化合物であることができる。配位子含有半導体粒子に含まれる有機配位子は、配位子含有半導体粒子の合成上の制約から、又は、安定化のために添加した有機配位子であってもよい。例えば、特表２０１５－５２９６９８号公報において、配位子含有半導体粒子は、粒子サイズ制御の観点から有機配位子としてヘキサン酸を含み、また、合成後の安定化のために有機配位子をＤＤＳＡ（ドデセニルコハク酸）に置換している。
有機配位子は、例えば半導体粒子の表面に配位することができる。
半導体粒子に配位する有機配位子は、１種の配位子であってもよいし２種以上の配位子であってもよい。有機配位子が極性基を有する有機化合物である場合、有機配位子は通常、その極性基を介して半導体粒子に配位する。有機配位子が配位していることは、有機配位子に好適な分散媒に半導体粒子が均一分散することから確認される。
極性基は、例えば、チオール基（－ＳＨ）、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）及びアミノ基（－ＮＨ２）からなる群より選択される少なくとも１種の基であることが好ましい。該群より選択される極性基は、半導体粒子への配位性を高めるうえで有利となり得る。高い配位性は、硬化膜の色ムラの改善及び／又は感光性組成物のパターニング性の改善に貢献し得る。中でも、発光特性により優れる硬化膜（波長変換膜等）を得る観点から、極性基は、チオール基及びカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の基であることがより好ましい。有機配位子は、１個又は２個以上の極性基を有し得る。
半導体粒子に配位する有機配位子の分子量は特に制限されないが、例えば、５０以上５００以下であり、好ましくは８０以上４００以下である。有機配位子の分子量が該範囲内であると、優れた再現性で配位子含有半導体粒子を調製することができる。
有機配位子は、例えば、下記式：
Ｙ－Ｚ
で表される有機化合物であることができる。式中、Ｙは上記の極性基であり、Ｚはヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ、ハロゲン原子等）を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。該炭化水素基は、炭素－炭素二重結合等の不飽和結合を１個又は２個以上有していてもよい。該炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状構造を有していてもよい。該炭化水素基の炭素数は、例えば１以上４０以下であり、１以上３０以下であってもよい。該炭化水素基に含まれるメチレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－等で置換されていてもよい。該炭化水素基は、配位子含有半導体粒子の調製の簡便さから、通常、ヘテロ原子を含まない場合が多い。
Ｙ－Ｚで表される有機配位子は、好ましくは炭素数が５以上１２以下である飽和脂肪酸又は炭素数が５以上１２以下である不飽和脂肪酸である。
基Ｚは、極性基を含んでいてもよい。該極性基の具体例については極性基Ｙに係る上記記述が引用される。基Ｚは、配位子含有半導体粒子の調製の簡便さから、通常、極性基を含まない場合が多い。
極性基Ｙとしてカルボキシル基を有する有機配位子の具体例として、ギ酸、酢酸、プロピオン酸のほか、飽和又は不飽和脂肪酸を挙げることができる。飽和又は不飽和脂肪酸の具体例は、ブチル酸、ペンタン酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸等の飽和脂肪酸；ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、イコセン酸、エルカ酸、ネルボン酸等の一価不飽和脂肪酸；リノール酸、α－リノレン酸、γ－リノレン酸、ステアドリン酸、ジホモ－γ－リノレン酸、アラキドン酸、エイコサテトラエン酸、ドコサジエン酸、アドレン酸（ドコサテトラエン酸）等の多価不飽和脂肪酸を含む。
極性基Ｙとしてチオール基又はアミノ基を有する有機配位子の具体例は、上で例示した極性基Ｙとしてカルボキシル基を有する有機配位子のカルボキシル基がチオール基又はアミノ基に置き換わった有機配位子を含む。
半導体粒子（Ａ）の含有量は、感光性組成物の総量に対して、１０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは１６質量％以上、更に好ましくは１７質量％以上、より更に好ましくは１８質量％以上、特に好ましくは２０質量％以上、最も好ましくは２５質量％以上であり、また４５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以下、更に好ましくは３５質量％以下である。半導体粒子（Ａ）の含有量が上記の範囲内にあると、硬化膜（波長変換膜等）において十分な光変換効率が得られる。
＜光散乱剤（Ｂ）＞
本発明の感光性組成物は、光散乱剤（Ｂ）を含むことが好ましい。光散乱剤（Ｂ）を含むことにより、感光性組成物から形成される波長変換膜に照射された光源からの光の散乱性が向上する。光散乱剤（Ｂ）としては、金属又は金属酸化物の粒子、ガラス粒子等を挙げることができる。金属酸化物としては、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯ等を挙げることができる。
光散乱剤（Ｂ）の体積基準のメディアン径は、例えば０．０３μｍ以上、好ましくは０．１０μｍ以上、より好ましくは０．１５μｍ以上、更に好ましくは０．２０μｍ以上であり、例えば２０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以下である。
光散乱剤（Ｂ）の含有量は、感光性組成物の総量に対して、通常０．００１質量％以上５０質量％以下であり、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．１質量％以上、更に好ましくは１質量％以上であり、また、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは１５質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
＜光重合性化合物（Ｃ）＞
光重合性化合物（Ｃ）としては、光の照射によって、ラジカル重合反応により硬化する光ラジカル重合性化合物、並びに光の照射によって、カチオン重合反応により硬化する光カチオン重合性化合物等が挙げられる。光重合性化合物（Ｃ）としては、光ラジカル重合性化合物であることが好ましい。光重合性化合物（Ｃ）の重量平均分子量は、３０００以下であることが好ましい。
光ラジカル重合性化合物としては、重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物等が挙げられ、中でも（メタ）アクリレート化合物が好ましい。（メタ）アクリレート化合物としては、分子内に１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマー、分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する２官能（メタ）アクリレートモノマー及び分子内に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、こはく酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］フタルイミド、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］テトラヒドロフタルイミド、２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトンモノアクリレート等が挙げられる。
２官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、１，３－ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、３－メチル－１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコ－ルヒドロキシピバリン酸エステルジ（メタ）アクリレ－ト、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得られるトリオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、トリス（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートコハク酸モノエステル、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートコハク酸モノエステル等が挙げられる。
光カチオン重合性化合物としては、分子内に少なくとも１個のオキセタン環（４員環エーテル）を有する化合物（以下、単に「オキセタン化合物」と称することがある。）、分子内に少なくとも１個のオキシラン環（３員環エーテル）を有する化合物（以下、単に「エポキシ化合物」と称することがある。）、及びビニルエーテル化合物等を挙げることができる。
オキセタン化合物としては、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、１，４－ビス〔（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル〕ベンゼン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、ジ〔（３－エチル－３－オキセタニル）メチル〕エーテル、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、フェノールノボラックオキセタンなどが挙げられる。これらのオキセタン化合物は、市販品を容易に入手することが可能であり、市販品としては、いずれも東亞合成（株）から販売されている商品名で、“アロンオキセタン（登録商標） ＯＸＴ－１０１”、“アロンオキセタン（登録商標） ＯＸＴ－１２１”、“アロンオキセタン（登録商標） ＯＸＴ－２１１”、“アロンオキセタン（登録商標） ＯＸＴ－２２１”、“アロンオキセタン（登録商標） ＯＸＴ－２１２”などが挙げられる。
エポキシ化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテル、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物などが挙げられる。
芳香族エポキシ化合物としては、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェールＦのジグリシジルエーテル及びビスフェノールＳのジグリシジルエーテルのようなビスフェノール型エポキシ樹脂；フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂及びヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ樹脂のようなノボラック型のエポキシ樹脂；テトラヒドロキシフェニルメタンのグリシジルエーテル、テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテル及びエポキシ化ポリビニルフェノールのような多官能型のエポキシ樹脂などが挙げられる。
脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテルとしては、芳香族ポリオールを触媒の存在下、加圧下で芳香環に選択的に水素化反応を行うことにより得られる核水添ポリヒドロキシ化合物を、グリシジルエーテル化したものが挙げられる。芳香族ポリオールとしては、ビスフェノールＡ、ビスフェールＦ、ビスフェノールＳのようなビスフェノール型化合物；フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラック樹脂のようなノボラック型樹脂；テトラヒドロキシジフェニルメタン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ポリビニルフェノールのような多官能型の化合物などが挙げられる。これら芳香族ポリオールの芳香環に水素化反応を行って得られる脂環式ポリオールに、エピクロロヒドリンを反応させることにより、グリシジルエーテルとすることができる。このような脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテルのなかでも好ましいものとして、水素化されたビスフェノールＡのジグリシジルエーテルが挙げられる。
脂肪族エポキシ化合物としては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。具体的には、１，４－ブタンジオールのジグリシジルエーテル；１，６－ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル；グリセリンのトリグリシジルエーテル；トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル；ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル；プロピレングリコールのジグリシジルエーテル；ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル；エチレングリコール、プロピレングリコール若しくはグリセリンのような脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。
脂環式エポキシ化合物は、脂環式環の炭素原子とともにオキシラン環を形成している構造を分子内に少なくとも１個有する化合物であり、“セロキサイド”シリーズ及び“サイクロマー”（全て、株式会社ダイセル製）、“サイラキュア ＵＶＲ”シリーズ（ダウケミカル社製）等が使用できる。
ビニルエーテル化合物としては、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、トリエチレングリコールビニルモノエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等が挙げられる。
光重合性化合物（Ｃ）は、分子量１８０以下である（メタ）アクリレート化合物（Ｃ１）（以下、単に「化合物（Ｃ１）」という場合がある）を含むことが好ましい。化合物（Ｃ１）は、分子量が１８０以下であり、かつ（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物であれば特に限定されない。感光性組成物が化合物（Ｃ１）を含むことにより、組成物の粘度を低減でき、塗工性がより向上する。
化合物（Ｃ１）としては、分子内に１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する分子量が１８０以下の単官能（メタ）アクリレートモノマー、及び分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する分子量が１８０以下の２官能（メタ）アクリレートモノマー等が挙げられるが、粘度低減の観点から、分子量が１８０以下の単官能（メタ）アクリレートモノマーであることが好ましい。
分子量が１８０以下の単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとして説明した化合物の中で、分子量が１８０以下の化合物等が挙げられる。分子量が１８０以下の単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、分子量が１８０以下である(メタ)アクリル酸アルキルエステル、分子量が１８０以下である(メタ)アクリル酸アリールエステル、及び分子量が１８０以下である(メタ)アクリル酸アラルキルエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記(メタ)アクリル酸アリールエステルとしては、フェニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記(メタ)アクリル酸アラルキルエステルとしては、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル中のアルキル基が有する水素原子、前記(メタ)アクリル酸アリールエステル中のアリール基が有する水素原子、及び前記(メタ)アクリル酸アラルキルエステル中のアラルキル基が有する水素原子は、化合物の分子量が１８０を超えない限り、ヒドロキシ基、アミノ基、アルコキシ基（好ましくはＣ１－４アルコキシ基）等の置換基に置換されていてもよいが、置換されていないことが好ましい。
化合物（Ｃ１）としては、分子量が１８０以下である（メタ）アクリル酸アルキルエステルであることが好ましく、より好ましくは（メタ）アクリル酸Ｃ１－４アルキルエステル、特に好ましくはエチル（メタ）アクリレートである。
また、化合物（Ｃ１）の分子量は、１６０以下であることが好ましく、より好ましくは１５０以下、更に好ましくは１４０以下であり、また例えば８６以上である。
化合物（Ｃ１）は、２５℃における粘度が２．５ｃＰ以下であることが好ましく、より好ましくは２．０ｃＰ以下、更に好ましくは１．２ｃＰ以下、特に好ましくは１．０ｃＰ以下、最も好ましくは０．８ｃＰ以下であり、また例えば０．１ｃＰ以上である。
光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ１）を含む場合、その含有量は、光重合性化合物（Ｃ）の総量に対して、５質量％以上であることが好ましく、より好ましくは１５質量％以上、更に好ましくは２５質量％以上、特に好ましくは３０質量％以上であり、また、７５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５５質量％以下、特に好ましくは５０質量％以下である。
また、光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ１）を含む場合、その含有量は、感光性組成物の総量に対して、５質量％以上であることが好ましく、より好ましくは８質量％以上、更に好ましくは１０質量％以上、特に好ましくは１３質量％以上、最も好ましくは１７質量％以上であり、また、５０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以下、更に好ましくは３０質量％以下である。
光重合性化合物（Ｃ）は、ビニルエーテル基と（メタ）アクリロイル基（好ましくは、（メタ）アクリロイルオキシ基）を同一分子内に有する化合物（Ｃ２）（以下、単に「化合物（Ｃ２）」という場合がある）を含むことが好ましい。感光性組成物が化合物（Ｃ２）を含むことにより、半導体粒子の凝集を抑制でき、半導体粒子の分散性が向上し、その結果感光性組成物から得られる硬化膜の光変換効率がより向上する。また、感光性組成物が化合物（Ｃ２）を含むことにより、感光性組成物の粘度を低減でき、塗工性がより向上する。
化合物（Ｃ２）が有するビニルエーテル基の数は、１以上４以下であることが好ましく、より好ましくは１以上２以下、特に好ましくは１である。
化合物（Ｃ２）が有する（メタ）アクリロイル基の数は、１以上４以下であることが好ましく、より好ましくは１以上２以下、特に好ましくは１である。
化合物（Ｃ２）としては、（メタ）アクリル酸２－ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３－ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２－ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１－ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１－メチル－２－ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸４－ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸３－ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸２－ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１－メチル－３－ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２－メチル－３－ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１－メチル－２－ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１，１－ジメチル－２－ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸６－ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４－ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（４－ビニロキシメチルシクロヘキシル）メチル、（メタ）アクリル酸（３－ビニロキシメチルシクロヘキシル）メチル、（メタ）アクリル酸（２－ビニロキシメチルシクロヘキシル）メチル、（メタ）アクリル酸（４－ビニロキシメチルフェニル）メチル、（メタ）アクリル酸（３－ビニロキシメチルフェニル）メチル、（メタ）アクリル酸２－ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシエトキシ）エトキシ｝エチル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）エトキシ｝エチル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）イソプロポキシ｝エチル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシエトキシ）エトキシ｝プロピル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシエトキシ）イソプロポキシ｝プロピル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）エトキシ｝プロピル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）イソプロポキシ｝プロピル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシエトキシ）エトキシ｝イソプロピル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシエトキシ）イソプロポキシ｝イソプロピル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）エトキシ｝イソプロピル、（メタ）アクリル酸２－｛２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）イソプロポキシ｝イソプロピル、（メタ）アクリル酸２－［２－｛２－（２－ビニロキシエトキシ）エトキシ｝エトキシ］エチル、（メタ）アクリル酸２－［２－｛２－（２－ビニロキシイソプロポキシ）エトキシ｝エトキシ］エチル、（メタ）アクリル酸２－（２－［２－｛２－（２－ビニロキシエトキシ）エトキシ｝エトキシ］エトキシ）エチル等が挙げられる。
化合物（Ｃ２）としては、（メタ）アクリル酸ビニロキシＣ１－６アルキル又は（メタ）アクリル酸（ビニロキシＣ１－４アルコキシ）Ｃ１－４アルキルが好ましく、（メタ）アクリル酸（ビニロキシＣ１－４アルコキシ）Ｃ１－４アルキルがより好ましく、（メタ）アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチルが特に好ましい。
光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ２）を含む場合、その含有量は、光重合性化合物（Ｃ）の総量に対して、５質量％以上であることが好ましく、より好ましくは１０質量％以上、更に好ましくは２０質量％以上であり、また、８５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは７５質量％以下、更に好ましくは６０質量％以下、特に好ましくは５０質量％以下、最も好ましくは４０質量％以下である。
また、光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ２）を含む場合、その含有量は、感光性組成物の総量に対して、３質量％以上であることが好ましく、より好ましくは５質量％以上、更に好ましくは８質量％以上であり、また、５０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３５質量％以下、更に好ましくは２５質量％以下である。
光重合性化合物（Ｃ）は、カルボキシル基と、カルボキシル基以外の３つ以上の官能基とを同一分子内に有する化合物（Ｃ３）（以下、単に「化合物（Ｃ３）」という場合がある）を含むことが好ましい。感光性組成物が化合物（Ｃ３）を含むことにより、半導体粒子の凝集を抑制でき、半導体粒子の分散性が向上し、その結果感光性組成物から得られる硬化膜の光変換効率がより向上する。また、感光性組成物が化合物（Ｃ３）を含むことにより、感光性組成物の硬化性が向上する。さらに、感光性組成物が化合物（Ｃ３）を含むことにより、感光性組成物の耐熱性がより向上し、特に、感光性組成物が化合物（Ｃ３）及び感光性組成物の総量に対して８質量％以上の安定化剤（Ｅ）を含むことにより、感光性組成物の耐熱性がよりさらに向上する。
官能基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタン基等が挙げられ、中でも（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。化合物（Ｃ３）１分子が有する官能基の数は、３～５であることが好ましく、３がより好ましい。化合物（Ｃ３）１分子が有するカルボキシ基の数は、１であることが好ましい。
化合物（Ｃ３）としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート又はジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の３つ以上の官能基（特に（メタ）アクリロイルオキシ基）及びヒドロキシ基とを有する化合物と、ジカルボン酸とをエステル化して得られた化合物が挙げられる。具体的に、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとコハク酸とをモノエステル化した化合物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとコハク酸とをモノエステル化した化合物、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとマレイン酸とをモノエステル化した化合物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとマレイン酸とをモノエステル化した化合物等が挙げられる。中でも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとコハク酸とをモノエステル化した化合物が好ましい。
光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ３）を含む場合、その含有量は、光重合性化合物（Ｃ）の総量に対して、５質量％以上であることが好ましく、より好ましくは１０質量％以上、更に好ましくは２０質量％以上であり、また、７０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下、特に好ましくは４０質量％以下である。
また、光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ３）を含む場合、その含有量は、半導体粒子（Ａ）１００質量部に対して、２０質量部以上であることが好ましく、より好ましくは２５質量部以上、更に好ましくは３０質量部以上、特に好ましくは４０質量部以上であり、また、１１０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは１００質量部以下、更に好ましくは８５質量部以下、特に好ましくは７０質量部以下である。
光重合性化合物（Ｃ）は、化合物（Ｃ１）、化合物（Ｃ２）、及び化合物（Ｃ３）から選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、少なくとも化合物（Ｃ３）を含むことがより好ましく、化合物（Ｃ３）及び化合物（Ｃ２）の組み合わせ、又は化合物（Ｃ３）及び化合物（Ｃ１）の組み合わせを含むことが更に好ましく、化合物（Ｃ１）、化合物（Ｃ２）、及び化合物（Ｃ３）を全て含むことが特に好ましい。
光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ１）及び化合物（Ｃ３）を含む場合、化合物（Ｃ３）１質量部に対する化合物（Ｃ１）の含有量は、０．５質量部以上であることが好ましく、より好ましくは０．８質量部以上、さらに好ましくは１．０質量部以上であり、また、５質量部以下であることが好ましく、より好ましくは４質量部以下、さらに好ましくは３質量部以下である。
光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ２）及び化合物（Ｃ３）を含む場合、化合物（Ｃ３）１質量部に対する化合物（Ｃ２）の含有量は、０．３質量部以上であることが好ましく、より好ましくは０．５質量部以上、さらに好ましくは０．８質量部以上であり、また、５質量部以下であることが好ましく、より好ましくは３質量部以下、さらに好ましくは１．５質量部以下である。
光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ１）、化合物（Ｃ２）及び化合物（Ｃ３）を含む場合、化合物（Ｃ３）１質量部に対する化合物（Ｃ１）及び化合物（Ｃ２）の合計量は、０．５質量部以上であることが好ましく、より好ましくは１．０質量部以上、さらに好ましくは１．５質量部以上であり、また、５質量部以下であることが好ましく、より好ましくは４質量部以下、さらに好ましくは３質量部以下である。
化合物（Ｃ１）、化合物（Ｃ２）、及び化合物（Ｃ３）の合計量は、光重合性化合物（Ｃ）の全量に対して、３０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは５０質量％以上、更に好ましくは７０質量％以上、特に好ましくは９０質量％以上であり、１００質量％であってもよい。
特に、光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ１）及び化合物（Ｃ３）を含む場合、化合物（Ｃ１）及び化合物（Ｃ３）の合計量は、光重合性化合物（Ｃ）の全量に対して、３０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上、更に好ましくは６０質量％以上、特に好ましくは７０質量％以上であり、１００質量％であってもよい。
また、光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ２）及び化合物（Ｃ３）を含む場合、化合物（Ｃ２）及び化合物（Ｃ３）の合計量は、光重合性化合物（Ｃ）の全量に対して、３０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上、更に好ましくは５０質量％以上、特に好ましくは６０質量％以上であり、また１００質量％であってもよく、好ましくは９０質量％以下、より好ましくは８０質量％以下である。
光重合性化合物（Ｃ）の含有量は、感光性組成物の総量に対して、１０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上、特に好ましくは４０質量％以上であり、８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは７０質量％以下、更に好ましくは６５質量％以下、特に好ましくは６０質量％以下である。
＜光重合開始剤（Ｄ）＞
光重合開始剤（Ｄ）は、光の作用により活性ラジカル、酸等を発生し、重合を開始し得る化合物であれば特に限定されることなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤（Ｄ）としては、Ｏ－アシルオキシム化合物等のオキシム系化合物、アルキルフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物等が挙げられる。
Ｏ－アシルオキシム化合物は、下記式（ｄ）で表される構造を有する化合物である。以下、＊は結合手を表す。
Figure 0007365461000001
このようなＯ－アシルオキシム化合物としては、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）ブタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタン－１－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－｛２－メチル－４－（３，３－ジメチル－２，４－ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタン－１－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－３－シクロペンチルプロパン－１－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミン、Ｎ－アセチルオキシ－１－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）フェニルスルファニルフェニル］プロパン－１－オン－２－イミン、Ｎ－アセチルオキシ－１－［４－（１－メチル－２－メトキシエトキシ）－２－メチルフェニル］－１－（９－エチル－６－ニトロ－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）メタン－１－イミン等が挙げられる。イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同ＯＸＥ０３（以上、ＢＡＳＦ社製）、Ｎ－１９１９、ＮＣＩ－９３０、ＮＣＩ－８３１（以上、ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いてもよい。これらのＯ－アシルオキシム化合物は、リソグラフィ性能を向上させ得る点で有利である。
アルキルフェノン化合物は、下記式（ｄ４）で表される部分構造又は下記式（ｄ５）で表される部分構造を有する化合物である。これらの部分構造中、ベンゼン環は置換基を有していてもよい。
Figure 0007365461000002
式（ｄ４）で表される構造を有する化合物としては、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベンジルブタン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］ブタン－１－オン等が挙げられる。ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標）３６９、同９０７、同３７９（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）等の市販品を用いてもよい。
式（ｄ５）で表される構造を有する化合物としては、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－（４－イソプロペニルフェニル）プロパン－１－オンのオリゴマー、α，α－ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。
感度の点で、アルキルフェノン化合物としては、式（ｄ４）で表される構造を有する化合物が好ましい。
ビイミダゾール化合物としては、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（２，３－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６－７５３７２号公報、特開平６－７５３７３号公報等参照。）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８－３８４０３号公報、特開昭６２－１７４２０４号公報等参照。）、４，４’，５，５’－位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７－１０９１３号公報等参照）等が挙げられる。中でも、下記式で表される化合物又はこれらの混合物が好ましい。
Figure 0007365461000003
トリアジン化合物としては、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－ピペロニル－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
さらに光重合開始剤（Ｄ）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；９，１０－フェナンスレンキノン、２－エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物；１０－ブチル－２－クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、アミン化合物、アルコキシアントラセン化合物、チオキサントン化合物及びカルボン酸化合物等の重合開始助剤と組み合わせて用いることが好ましい。
光重合開始剤（Ｄ）としては、アルキルフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、Ｏ－アシルオキシム化合物及びビイミダゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含む光重合開始剤が好ましく、感度の観点からアルキルフェノン化合物を含む光重合開始剤がより好ましい。
光重合開始剤（Ｄ）の含有量は、感光性組成物の総量に対して、３質量％以上であることが好ましく、より好ましくは４質量％以上であり、また、４０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３０質量％以下であり、２０質量％以下であってもよく、１５質量％以下であってもよい。
光重合開始剤（Ｄ）の含有量は、光重合性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、３質量部以上であることが好ましく、より好ましくは８質量部以上であり、また、７０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは５５質量部以下、更に好ましくは３０質量部以下であり、２０質量部以下であってもよい。光重合開始剤（Ｄ）の含有量が上記範囲内にあると、高感度化して露光時間が短縮される傾向があるため、波長変換膜等の硬化膜の生産性が向上する傾向にある。
また、光重合開始剤（Ｄ）の含有量を、光重合性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、４０質量部以下とすることが好ましく、３０質量部以下とすることがより好ましく、２５質量部以下とすることが更に好ましい。光重合開始剤（Ｄ）の含有量が上記範囲内にあると、粘度がより低減された感光性組成物を提供することができる。
さらに、光重合開始剤（Ｄ）の含有量を、光重合性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、例えば１５質量部以上、４０質量部以下、より好ましくは１５質量部以上、３０質量部以下、更に好ましくは１５質量部以上、２５質量部以下とすることも好ましい。光重合開始剤（Ｄ）の含有量が上記範囲内にあると、耐熱性により優れた硬化膜を提供し得る感光性組成物を提供することができる。
＜安定化剤（Ｅ）＞
本発明の感光性組成物は、更に安定化剤（Ｅ）を含んでいてもよい。安定化剤（Ｅ）としては、熱や光などの作用により発生する炭素ラジカル、発生した炭素ラジカルの酸化により生成するパーオキシラジカル、パーオキシラジカルから生成されるハイドロパーオキサイド等の劣化因子を不活性化させる機能を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、酸化防止剤、光安定剤等が挙げられる。
酸化防止剤としては、工業的に一般に使用される酸化防止剤であれば特に限定はなく、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及び硫黄系酸化防止剤等を用いることができる。
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、イルガノックス（登録商標）１０１０（Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０：ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ＢＡＳＦ（株）製）、同１０７６（Ｉｒｇａｎｏｘ １０７６：オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ＢＡＳＦ（株）製）、同１３３０（Ｉｒｇａｎｏｘ １３３０：３，３’，３’’，５，５’，５’’－ヘキサ－ｔ－ブチル－ａ，ａ’，ａ’’－（メシチレン－２，４，６－トリイル）トリ－ｐ－クレゾール、ＢＡＳＦ（株）製）、同３１１４（Ｉｒｇａｎｏｘ ３１１４：１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、ＢＡＳＦ（株）製）、同３７９０（Ｉｒｇａｎｏｘ ３７９０：１，３，５－トリス（（４－ｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－キシリル）メチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、ＢＡＳＦ（株）製）、同１０３５（Ｉｒｇａｎｏｘ １０３５：チオジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ＢＡＳＦ（株）製）、同１１３５（Ｉｒｇａｎｏｘ １１３５：ベンゼンプロパン酸，３，５－ビス（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ，Ｃ７－Ｃ９側鎖アルキルエステル、ＢＡＳＦ（株）製）、同１５２０Ｌ（Ｉｒｇａｎｏｘ １５２０Ｌ：４，６－ビス（オクチルチオメチル）－ｏ－クレゾール、ＢＡＳＦ（株）製）、同３１２５（Ｉｒｇａｎｏｘ ３１２５、ＢＡＳＦ（株）製）、同５６５（Ｉｒｇａｎｏｘ ５６５：２，４－ビス（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ３’，５’－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、ＢＡＳＦ（株）製）、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ－８０（アデカスタブ ＡＯ－８０：３，９－ビス（２－（３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ）－１，１－ジメチルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン、（株）ＡＤＥＫＡ製）、スミライザー（登録商標）ＢＨＴ、同ＧＡ－８０、同ＧＳ（以上、住友化学（株）製）、サイアノックス（登録商標）１７９０（Ｃｙａｎｏｘ １７９０、（株）サイテック製）及びビタミンＥ（エーザイ（株）製）等が挙げられる。
フェノール系酸化防止剤としては、フェノール性ヒドロキシ基の少なくとも一方のオルト位に嵩高い有機基が結合したヒンダードフェノール構造を有する酸化防止剤が好ましい。前記嵩高い有機基としては、２級又は３級アルキル基が好ましく、具体的には、イソプロピル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｓ－アミル基、ｔ－アミル基等が挙げられる。中でも、３級アルキル基が好ましく、ｔ－ブチル基又はｔ－アミル基が特に好ましい。
リン系酸化防止剤としては、例えば、イルガフォス（登録商標）１６８（Ｉｒｇａｆｏｓ １６８：トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）フォスファイト、ＢＡＳＦ（株）製）、同１２（Ｉｒｇａｆｏｓ １２：トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフィン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、ＢＡＳＦ（株）製）、同３８（Ｉｒｇａｆｏｓ ３８：ビス（２，４－ビス（１，１－ジメチルエチル）－６－メチルフェニル）エチルエステル亜りん酸、ＢＡＳＦ（株）製）、アデカスタブ（登録商標）３２９Ｋ、同ＰＥＰ３６、同ＰＥＰ－８（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、Ｓａｎｄｓｔａｂ Ｐ－ＥＰＱ（クラリアント社製）、Ｗｅｓｔｏｎ（登録商標）６１８、同６１９Ｇ（以上、ＧＥ社製）、Ｕｌｔｒａｎｏｘ６２６（ＧＥ社製）及びスミライザー（登録商標）ＧＰ（６－［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピン）（住友化学（株）製）等が挙げられる。
リン系酸化防止剤としては、下記式（ｅ１）で表される基を有する酸化防止剤が好ましい。
Figure 0007365461000004
［式（ｅ１）中、Ｒｅ１～Ｒｅ５はそれぞれ独立して水素原子又はアルキル基を表し、＊は結合手を表す。］
Ｒｅ１は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、又はｔ－ブチル基である。
Ｒｅ２及びＲｅ４は、メチル基又は水素原子であることが好ましく、より好ましくは水素原子である。
Ｒｅ５及びＲｅ３は、それぞれ独立して、アルキル基であることが好ましく、より好ましくは２級又は３級アルキル基であり、さらに好ましくはｔ－ブチル基又はｔ－アミル基である。
括弧で括られる２つの単位は、Ｒｅ１同士で結合して環を形成してもよい。Ｒｅ１同士で結合するとは、Ｒｅ１から水素原子を除いた基同士が結合する態様を指し、例えば２つのＲｅ１がどちらも水素原子である場合には、一方のベンゼン環におけるＲｅ１が結合する炭素原子と、もう一方のベンゼン環におけるＲｅ１が結合する炭素原子同士が直接結合する態様を指す。
硫黄系酸化防止剤としては、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル又はジステアリール等のジアルキルチオジプロピオネート化合物及びテトラキス［メチレン（３－ドデシルチオ）プロピオネート］メタン等のポリオールのβ－アルキルメルカプトプロピオン酸エステル化合物等が挙げられる。
光安定剤としては、工業的に一般に使用される光安定剤であれば特に限定はなく、例えばヒンダードアミン系光安定剤等を用いることができる。ヒンダードアミン系光安定剤としては、アデカスタブ（登録商標）ＬＡ－５２、同ＬＡ－５７、同ＬＡ－６３Ｐ、同ＬＡ－６８、同ＬＡ－７２、同ＬＡ－７７Ｙ、同ＬＡ－７７Ｇ、同ＬＡ－８１、同ＬＡ－８２、同ＬＡ－８７、同ＬＡ－４０２ＡＦ、同ＬＡ－４０ＭＰ、同ＬＡ－４０Ｓｉ（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）９４４ＦＤＬ、同２０２０ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ６２２ＳＦ（以上、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
安定化剤（Ｅ）としては、酸化防止剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤またはリン系酸化防止剤がより好ましく、上記ヒンダードフェノール構造及び式（ｅ１）で表される基の少なくとも一方を有する酸化防止剤であることがより好ましく、上記ヒンダードフェノール構造及び式（ｅ１）で表される基の両方を有する酸化防止剤であることがさらに好ましく、スミライザー（登録商標）ＧＰが特に好ましい。
安定化剤（Ｅ）の含有量は、感光性組成物の総量に対して、例えば１質量％以上であり、２質量％以上であってもよく、また、例えば６０質量％以下であってもよく、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４０質量％以下、更に好ましくは３０質量％以下である。
耐熱性を向上させる観点からは、安定化剤（Ｅ）の含有量は、感光性組成物の総量に対して、８質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９質量％以上、更に好ましくは１２質量％以上、特に好ましくは１６質量％以上である。また、粘度低減の観点からは、安定化剤（Ｅ）の含有量は、感光性組成物の総量に対して、例えば６０質量％以下であってもよく、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４０質量％以下、更に好ましくは３０質量％以下、よりさらに好ましくは２０％以下、特に好ましくは１８質量％以下である。
＜溶剤（Ｆ）＞
本発明の感光性組成物は、溶剤（Ｆ）を含んでいてもよいが、溶剤（Ｆ）を含む場合、その含有量は少ない方が好ましい。感光性組成物が溶剤（Ｆ）を含む場合、その含有量は、感光性組成物の総量に対して、１０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは３．５質量％以下、特に好ましくは３．２質量％以下であり、また、０質量％であってもよく、０．５質量％以上であってもよく、１質量％以上であってもよい。溶剤（Ｆ）の含有量を少なくすることにより、硬化膜を形成する際の膜厚のコントロールが容易になり、また製造コストや溶剤による地球環境や作業環境への負荷を低減することができる。
溶剤（Ｆ）としては、エステル溶剤（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－を含む溶剤）、エステル溶剤以外のエーテル溶剤（－Ｏ－を含む溶剤）、エーテルエステル溶剤（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－と－Ｏ－とを含む溶剤）、エステル溶剤以外のケトン溶剤（－Ｃ（＝Ｏ）－を含む溶剤）、アルコール溶剤、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤及びジメチルスルホキシド等が挙げられる。
エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２－ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル及びγ－ブチロラクトン等が挙げられる。
エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４－ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール及びメチルアニソール等が挙げられる。
エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート及びジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が挙げられる。
ケトン溶剤としては、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、アセトン、２－ブタノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、４－メチル－２－ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びイソホロン等が挙げられる。
アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール及びグリセリン等が挙げられる。
芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン及びメシチレン等が挙げられる。
アミド溶剤としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド及びＮ－メチルピロリドン等が挙げられる。
溶剤（Ｆ）としては、エステル溶剤、エーテルエステル溶剤、アルコール溶剤、又はアミド溶剤が好ましく、エーテルエステル溶剤がより好ましい。
＜レベリング剤（Ｇ）＞
本発明の感光性組成物は、更にレベリング剤（Ｇ）を含んでいてもよい。レベリング剤（Ｇ）としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、側鎖に重合性基を有していてもよい。
シリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２及びＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。
フッ素系界面活性剤としては、分子内にフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、フロラード（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ５５４、同Ｒ３０、同ＲＳ－７１８－Ｋ（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）及びＥ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）等が挙げられる。
フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７及び同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
レベリング剤（Ｇ）の含有量は、感光性組成物の総量に対して、通常０．００１質量％以上０．５質量％以下であり、好ましくは０．００５質量％以上０．３質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以上０．２質量％以下である。
本発明の感光性組成物は、半導体粒子（Ａ）、光重合性化合物（Ｃ）、及び光重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、光重合性化合物（Ｃ）が化合物（Ｃ１）及び／又は化合物（Ｃ２）を含むか、感光性組成物の総量に対して８質量％以上の安定化剤（Ｅ）を含む。本発明の感光性組成物は、前記化合物（Ｃ１）、化合物（Ｃ２）、及び所定量以上の安定化剤（Ｅ）を全て含むことが好ましい。
感光性組成物が、化合物（Ｃ１）及び／又は化合物（Ｃ２）を含むことにより、感光性組成物を低粘度化できる。また、感光性組成物が化合物（Ｃ１）及び／又は化合物（Ｃ２）を含む場合耐熱性が低下しやすくなる場合があるが、所定量以上の安定化剤（Ｅ）を加えることで耐熱性の低下を抑制できる。
前記感光性組成物は、さらに化合物（Ｃ３）を含むことが好ましい。感光性組成物が化合物（Ｃ３）を含むことにより、半導体粒子の凝集を抑制でき、半導体粒子の分散性が向上し、その結果感光性組成物から得られる硬化膜の光変換効率がより向上する。なお感光性組成物が化合物（Ｃ３）を含む場合、感光性組成物が高粘度化し易くなる場合があるが、前記感光性組成物は、化合物（Ｃ１）及び／又は化合物（Ｃ２）を含んでいるためこの高粘度化は抑制される。また粘度低減のために化合物（Ｃ１）及び／又は化合物（Ｃ２）を含ませることにより耐熱性が低下しやすくなる場合があるが、上述した様に、所定量以上の安定化剤（Ｅ）を含有しているので耐熱性の低下を抑制できる。
さらに、前記感光性組成物における半導体粒子（Ａ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、１６質量％以上、４５質量％以下であることが好ましい。半導体粒子（Ａ）の含有量が上記の範囲内にあると、硬化膜において十分な光変換効率が得られる。
本発明の感光性組成物の４０℃における粘度は、２０ｃＰ以下であることが好ましく、より好ましくは１５ｃＰ以下、更に好ましくは１０ｃＰ以下である。下限は特に限定されないが、２ｃＰ以上であってもよく、３ｃＰ以上であってもよく、５ｃＰ以上であってもよい。感光性組成物の粘度を上記範囲とすることにより、塗工性が向上する。特に、感光性組成物の粘度を上記範囲とすることにより、インクジェットプリンターの吐出ヘッドから、感光性組成物を円滑に吐出させることができ、インクジェットプリンター用インクとして好適に使用できる。
インクジェットプリンター用インクとして用いる場合、本発明の感光性組成物を、温度４０℃以上で、インクジェットプリンターの吐出ヘッドから吐出することができる。本発明の感光性組成物の中には、耐熱性に優れているものもあり、感光性組成物の温度を４０℃以上の条件で吐出する場合であっても、得られる硬化膜の物性（特に光変換効率）は良好である。インクジェットプリンターの吐出ヘッドから吐出する際の感光性組成物の温度は、５０℃以上であってもよく、６０℃以上であってもよく、また、８０℃以下であってもよい。
本発明の感光性組成物は、その他の成分として、分散剤、可塑剤、充填剤等の添加剤を必要に応じて使用してもよい。
前記分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、ポリエステル系、ポリアミン系、アクリル系等の界面活性剤等が挙げられるが、これに限定されない。分散剤は、感光性組成物が光散乱剤（Ｂ）を含有している際に併用することが好ましい。感光性組成物が分散剤を含有することにより、感光性組成物における光散乱剤（Ｂ）の分散性が向上する。
感光性組成物が分散剤を含む場合、その含有量は、感光性組成物の総量に対して、１０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは３質量％以下、特に好ましくは１質量％以下であり、また、０質量％であってもよく、０．１質量％以上であってもよく、０．３質量％以上であってもよい。また、粘度低減の観点から、３質量％以下であることが好ましく、より好ましくは２質量％以下、特に好ましくは１質量％以下である。
また、添加剤の含有量は、感光性組成物の総量に対して、１０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは３質量％以下、特に好ましくは１質量％以下であり、また、０質量％であってもよい。
＜感光性組成物の製造方法＞
本発明の感光性組成物は、半導体粒子（Ａ）、光重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、及び必要に応じて使用される、光散乱剤（Ｂ）、安定化剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）、レベリング剤（Ｇ）、その他添加剤を混合することにより調製することができる。
各成分の混合順序は特に限定されないが、半導体粒子（Ａ）及び光重合性化合物（Ｃ）を混合して得られた分散液、並びに、光散乱剤（Ｂ）及び溶剤（Ｆ）を混合して得られた光散乱剤溶液を先に調製し、得られた分散液、光散乱剤溶液、及びその他成分を混合することが好ましい。
半導体粒子（Ａ）としての配位子含有半導体粒子は、例えば、有機配位子が配位している半導体粒子を用意又は調製し、次いで、上記半導体粒子に対する有機配位子の配位量を低減させる配位子低減処理を施したものであってもよい。配位子低減処理は、例えば、半導体粒子に配位している有機配位子を適切な溶剤に抽出させる処理であることができる。
＜硬化膜、パターニングされた硬化膜、波長変換膜及び表示装置＞
感光性組成物からなる膜（層）を硬化させることによって硬化膜を得ることができる。具体的には、基材上に感光性組成物を塗布して塗布膜を形成し、得られた塗布膜を露光することにより硬化膜を得ることができる。
基板としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミナケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートしたソーダライムガラス等のガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂板、シリコン、上記基板上にアルミニウム、銀、銀／銅／パラジウム合金薄膜等を形成したもの等を用いることができる。
感光性組成物の塗布には、例えばグラビア印刷法、オフセット印刷法、凸版印刷法、スクリーン印刷法、転写印刷法、静電印刷法、無版印刷法といった各種印刷方法や、グラビアコート法、ロールコート法、ナイフコート法、エアナイフコート法、バーコート法、ディップコート法、キスコート法、スプレーコート法、ダイコート法、コンマコート法、インクジェット法、スピンコート法、スリットコート法などの方法といった塗工方法やこれらを組合せた方法を適宜用いることができる。
露光に用いられる光源としては、２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長の光を発生する光源が好ましい。例えば、３５０ｎｍ未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出したりしてもよい。光源としては、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等が挙げられる。
また、フォトリソグラフ法、インクジェット法、印刷法等の方法によってパターニングすることにより、パターニングされた硬化膜を感光性組成物から形成することもできる。なお、フォトリソグラフ法では、高価な組成物材料のロスが生じてしまうため、材料のロスを減らす観点からは、インクジェット法を採用することが好ましい。
インクジェット法によりパターニングされた硬化膜を製造する方法としては、例えば、基材上にバンクを形成した後、基材上のバンクによって区画された領域に、感光性組成物をインクジェット法により選択的に付着させ、露光することにより感光性組成物を硬化させる方法が挙げられる。
基板としては、上記硬化膜の製造方法の説明において例示した基材を用いることができる。
バンクを形成させる方法としては、フォトリソグラフ法及びインクジェット法等が挙げられ、インクジェット法によりバンクを形成することが好ましい。
インクジェット法としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェット（登録商標）方式、或いは圧電素子を用いたピエゾジェット方式等が挙げられる。
露光に用いられる光源としては、上記硬化膜の製造方法の説明において例示した光源を用いることができる。
パターニングされていない硬化膜又はパターニングされた硬化膜は、ＬＥＤなどの発光部などから入射する光の波長とは異なる波長の光を出射する波長変換膜（波長変換フィルタ）として好適に用いることができる。特にパターニングされた硬化膜は、各パターンに対応するＬＥＤなどの発光素子の上方に位置づけられていることが好ましい。各発光素子を個別に波長変換することで、赤、緑、青などの発光スペクトルの形状を適切にでき、高い色再現性をもたせることができる。波長変換膜を有する表示部材は、液晶表示装置、有機ＥＬ装置等の表示装置に好適に用いることができる。
図１は、インクジェット法により形成された表示部材の一実施形態の模式断面図である。図１の表示部材１０は、基板１上に形成されたバンク２と、バンク２間に設置されたＬＥＤ等の発光素子３とを有し、バンク２間の発光素子３の上に本発明の感光性組成物をインクジェット法により付着させた後、硬化して得られた硬化膜４（波長変換膜）（以下、バンク２間のサイズにパターニングされた各硬化膜を「硬化膜ピクセル」と称する場合がある）を有する。各硬化膜ピクセル４上にはカラーフィルタ５やガスバリア層６などが位置づけられていてもよい。
硬化膜ピクセル４をインクジェット法により形成することにより、比較的大きなサイズでのパターニングが可能となり、デジタルサイネージ等の大型ディスプレイ等に好適に適用できる。
従って、インクジェット法を採用する際には、本発明の感光性組成物から形成される硬化膜ピクセル４の垂直寸法（Ｌ１）は、９μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１２μｍ以上、更に好ましくは１５μｍ以上であり、４０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以下であってもよい。なお、前記垂直寸法（Ｌ１）は、発光素子の水平寸法（Ｌ３）と同じ長さであってもよい。
また、インクジェット法を採用する際には、本発明の感光性組成物から形成される硬化膜ピクセル４の水平寸法（Ｌ２）は、１０μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以上、更に好ましくは５０μｍ以上、より更に好ましくは８０μｍ以上、特に好ましくは１００μｍ以上であり、９００μｍ以下であってもよく、８００μｍ以下であってもよく、７００μｍ以下であってもよい。
なお、上記硬化膜ピクセル４の垂直寸法（Ｌ１）とは、基板に対して垂直方向に切り出した断面での基材厚さ方向の寸法である。なお前記断面は、硬化膜ピクセル４の垂直寸法が最大となる場所で切り出される。図１は、硬化膜ピクセル４の垂直寸法が最大となる場所で、基材に対して垂直方向に切り出した断面を示している。
上記硬化膜ピクセル４の水平寸法（Ｌ２）とは、基材に対して水平となる方向での硬化膜ピクセル４の最大寸法であり、垂直方向から基材を見たときの寸法（平面視寸法）を指す。
発光素子の水平寸法（Ｌ３）とは、基材に対して水平となる方向での発光素子の最大寸法であり、垂直方向から基材を見たときの寸法（平面視寸法）を指す。
なお、硬化膜に上記安定化剤（Ｅ）が含まれていることは、該硬化膜を熱脱着ＧＣ／ＭＳで分析することによって確認することが可能である。安定化剤（Ｅ）の熱脱着条件及び検出条件は、後述の実施例に記載の条件を使用することができる。硬化膜の熱脱着ＧＣ／ＭＳを行った際に、安定化剤（Ｅ）が持つ特定の分子構造に起因したＭＳスペクトルが現れることをもって、硬化膜に安定化剤（Ｅ）が含まれていることを確認することができる。
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を意味する。
実験例及び比較例では、以下の材料を使用した。
・量子ドット分散液１：有機配位子を含み、ＩｎＰ／ＺｎＳｅＳの構造を有する量子ドットのトルエン分散液（発光スペクトルの最大ピーク波長５３０ｎｍ、半値全幅４２ｎｍ）
・量子ドット分散液２：有機配位子を含み、ＩｎＰ／ＺｎＳｅＳの構造を有する量子ドットのトルエン分散液（発光スペクトルの最大ピーク波長６３０ｎｍ、半値全幅４２ｎｍ）
・光重合性化合物（Ｃ３－１）：ペンタエリスリトールコハク酸モノエステル
・光重合性化合物（Ｃ－２）：ω－カルボキシ－ポリカプロラクトン（ｎ≒２）モノアクリレート（東亞合成株式会社製 アロニックス（登録商標）Ｍ－５３００）
・光重合性化合物（Ｃ－３）：グリセリントリアクリレート（東亞合成株式会社製 アロニックス（登録商標）ＭＴ－３５４７）
・光重合性化合物（Ｃ－４）：イソボニルアクリレート
・光重合性化合物（Ｃ２－５）：アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル（株式会社日本触媒製 ＶＥＥＡ（登録商標））
・光重合性化合物（Ｃ１－６）：エチルメタクリレート（共栄社化学株式会社製 ライトエステルＥ、２５℃における粘度 ０．７ｃＰ）
・光重合開始剤（Ｄ－１）：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製 ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標）９０７
・光重合開始剤（Ｄ－２）：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製 ＯＭＮＩＲＡＤ（登録商標）３６９
・安定化剤（Ｅ－１）：住友化学株式会社製 スミライザー（登録商標）ＧＰ
・溶剤（Ｆ－１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＥＡと称する）
・レベリング剤（Ｇ－１）：ＤＩＣ株式会社製 メガファック（登録商標）Ｆ－５５４
＜量子ドット１の調製＞
量子ドット分散液１から、減圧蒸留によりトルエンを除去することによって、量子ドット１の乾燥物を得た。
＜量子ドット２の調製＞
量子ドット分散液２から、減圧蒸留によりトルエンを除去することによって、量子ドット２の乾燥物を得た。
＜光散乱剤溶液の調製＞
酸化チタン粒子（体積基準のメディアン径０．２３μｍ）６０部に分散剤を１０部（固形分換算）、ＰＧＭＥＡを合計で３０部混合し、ビーズミルを用いて、酸化チタン粒子を十分に分散させた。
＜実験例１＞
上記量子ドット１に、表１に記載の光重合性化合物を投入し、超音波洗浄機、タッチミキサーで固形物が消失するまで撹拌することによって、量子ドットモノマー分散液を得た。得られた分散液に、表１に記載の配合となるように、光散乱剤溶液、光重合開始剤、安定化剤、レベリング剤を投入し、タッチミキサーで撹拌することによって量子ドットインクを得た。
＜実験例２～１４、比較例１～３＞
半導体粒子、光散乱剤、光重合性化合物、光重合開始剤、安定化剤、レベリング剤、及び溶剤の、種類及び量を表１に記載の配合に変更したこと以外は、実験例１と同様の方法により量子ドットインクを得た。
Figure 0007365461000005
＜評価試験＞
（１）硬化性試験
５ｃｍ角のガラス基板（イーグル２０００；コーニング社製）上に、量子ドットインクを、スピンコート法で塗布した後、露光機（ＴＭＥ－１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製）を用いて、大気雰囲気下、２００ｍＪ／ｃｍ２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射した。光照射後、硬化膜が得られた場合は○、光照射後も液状であった場合は×とした。結果を表１に示す。
（２）外部量子収率の測定
図２に記載の光学系１０ａを用いてIncident photon numberを評価した。光学系１０ａでは、４４５ｎｍに最大ピーク波長を有する青色発光ダイオードを並べた基板上に、光拡散板を設置し、これをバックライト１１ａとした。このバックライト１１ａの上に、硬化膜を塗工する前のガラス基板１２ａを乗せ、基板表面の垂直上方に、光ファイバーを備えた電子冷却裏面入射型高Ｓ／Ｎファイバマルチチャンネル分光器 ＱＥ６５Ｐｒｏ（オーシャンオプティクス株式会社製）を配置し、スペクトル測定した。基板１２ａの表面と分光器検出部１３ａの間の距離は５ｃｍに固定した。得られたスペクトルＩ（λ）について式１に従ってIncident photon numberを得た。
Figure 0007365461000006
次に図３に記載の光学系１０ｂを用いてEmittied photon numberを評価した。光学系１０ｂでは、４４５ｎｍに最大ピーク波長を有する青色発光ダイオードを並べた基板上に、光拡散板を設置し、これをバックライト１１ｂとした。このバックライト１１ｂの上に、上述の硬化性試験において作製した硬化膜１４を有する基板１２ｂを乗せ、基板表面の垂直上方に、光ファイバーを備えた電子冷却裏面入射型高Ｓ／Ｎファイバマルチチャンネル分光器 ＱＥ６５Ｐｒｏ（オーシャンオプティクス株式会社製）を配置し、スペクトル測定した。硬化膜１４の表面と分光器検出部１３ｂの間の距離は５ｃｍに固定した。得られたスペクトルＩ（λ）について式２に従ってEmitted photon numberを得た。
Figure 0007365461000007
上述のIncident photon numberおよびEmitted photon numberから、式３に従って外部量子収率を得た。外部量子収率が２０％未満を×、２０％以上２６％未満を△、２６％以上を〇とした。結果を表１に示す。
Figure 0007365461000008
（３）変換効率の測定
上述の硬化性試験において作製した硬化膜を有する基板を１ｃｍ角に切り出し、変換効率評価用サンプルを得た。変換効率評価用サンプルについて絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス製、商品名Ｃ９９２０－０２、励起光４５０ｎｍ、室温、大気下）を用いて変換効率を測定した。変換効率が４５％以上を〇、３５％以上４５％未満を△、３５％未満を×とした。結果を表１に示す。
（４）粘度の測定
BROOKFIELD社 デジタル粘度計（型式：DV2T）を用いて、４０℃における量子ドットインクの粘度を測定した。量子ドットインクの粘度が１４ｃＰ未満であれば◎、１４ｃＰ以上１６ｃＰ未満であれば〇、１６ｃＰ以上２０ｃＰ以下であれば△、２０ｃＰを超える場合は×とした。結果を表１に示す。
（５）耐熱性試験
上記硬化性試験において得られた硬化膜を、８０℃のオーブンにて３日間加熱した。耐熱性試験後の変換効率が、耐熱性試験前の変換効率の９５％以上であればＳ、８０％以上９５％未満であればＡ、５０％以上８０％未満であればＢ、５０％未満であればＣとした。結果を表１に示す。
（６）安定化剤の検出
熱脱着ＧＣ／ＭＳによって、上述の硬化性試験において作製した実験例１～１４の硬化膜を以下条件で分析した。
装置 ：Ａｇｉｌｅｎｔ社製７８９０Ｂ／５９７７Ａ（２号機）
カラム ：ＤＢ－５（０．２５ｍｍ×３０ｍ、膜厚：２５０ｍｍ)
キャリアガス ：Ｈｅ、１ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度 ：５０℃（５分）→１０℃／分→３２０℃（８分）
検出器 ：ＥＩ、ｍ／ｚ ２０－６００
注入口温度 ：２５０℃
ＡｕＸ温度 ：２５０℃
スプリット ：５０：１
試料量 ：３００～６００ｍｇ
熱脱着条件 ：１８０℃（３０分）
この時、スミライザー（登録商標）ＧＰを同上条件で測定したときに現れる形状と同様のスペクトル形状が、実験例１～１４の硬化膜で確認された。スミライザー（登録商標）ＧＰが持つ特定の分子構造に起因したＭＳスペクトルが現れることをもって、実験例１～１４の硬化膜からスミライザー（登録商標）ＧＰが、上記熱脱着条件で昇華したことを確認した。
１０…表示部材
１…基板
２…バンク
３…発光素子
４…硬化膜（波長変換膜）
５…カラーフィルタ
６…ガスバリア層
Ｌ１…垂直寸法
Ｌ２…水平寸法
Ｌ３…発光素子の水平寸法
１０ａ、１０ｂ…光学系
１１ａ、１１ｂ…バックライト
１２ａ、１２ｂ…基板
１３ａ、１３ｂ…分光器検出部
１４…硬化膜

Claims (18)

  1. 半導体粒子（Ａ）、光重合性化合物（Ｃ）、及び光重合開始剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
    前記半導体粒子（Ａ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、１０質量％以上であり、
    前記光重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル基と（メタ）アクリロイル基を同一分子内に有する化合物（Ｃ２）を含む、感光性組成物。
  2. 前記光重合性化合物（Ｃ）が、分子量１８０以下である（メタ）アクリレート化合物（Ｃ１）を含む、請求項１に記載の感光性組成物。
  3. 前記化合物（Ｃ１）の２５℃における粘度が、１．２ｃＰ以下である、請求項２に記載の感光性組成物。
  4. 前記化合物（Ｃ１）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、５質量％以上、５０質量％以下である、請求項２又は３に記載の感光性組成物。
  5. 前記化合物（Ｃ２）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、５質量％以上、５０質量％以下である、請求項１～４のいずれかに記載の感光性組成物。
  6. 前記感光性組成物が、更に安定化剤（Ｅ）を含み、
    前記安定化剤（Ｅ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、８質量％以上である、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
  7. 前記安定化剤（Ｅ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、１６質量％以上である、請求項６に記載の感光性組成物。
  8. 前記半導体粒子（Ａ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、１６質量％以上、４５質量％以下である、請求項１～７のいずれかに記載の感光性組成物。
  9. 前記光重合性化合物（Ｃ）が、カルボキシル基と、カルボキシル基以外の３つ以上の官能基とを同一分子内に有する化合物（Ｃ３）を含む、請求項１～８のいずれかに記載の感光性組成物。
  10. 前記化合物（Ｃ３）の含有量が、前記半導体粒子（Ａ）１００質量部に対して、２５質量部以上、１００質量部以下である、請求項９に記載の感光性組成物。
  11. 前記感光性組成物の４０℃における粘度が２０ｃＰ以下である、請求項１～１０のいずれかに記載の感光性組成物。
  12. 前記光重合開始剤（Ｄ）の含有量が、前記光重合性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、８質量部以上、５０質量部以下である、請求項１～１１のいずれかに記載の感光性組成物。
  13. 前記感光性組成物が、更に、体積基準のメディアン径が０．１５μｍ以上の光散乱剤（Ｂ）を含む、請求項１～１２のいずれかに記載の感光性組成物。
  14. 前記感光性組成物が、更に溶剤（Ｆ）を含み、
    前記溶剤（Ｆ）の含有量が、感光性組成物の総量に対して、３．５質量％以下である、請求項１～１３のいずれかに記載の感光性組成物。
  15. インクジェットプリンター用インクである、請求項１～１４のいずれかに記載の感光性組成物。
  16. 温度４０℃以上で、インクジェットプリンターの吐出ヘッドから吐出する、請求項１５に記載の感光性組成物の使用。
  17. 請求項１～１５のいずれかに記載の感光性組成物から形成される硬化膜。
  18. 垂直寸法が９μｍ以上および／または水平寸法が１０μｍ以上９００μｍ以下である、請求項１７に記載の硬化膜。
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