JP7347713B2 - 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ - Google Patents
熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ Download PDFInfo
- Publication number
- JP7347713B2 JP7347713B2 JP2023509187A JP2023509187A JP7347713B2 JP 7347713 B2 JP7347713 B2 JP 7347713B2 JP 2023509187 A JP2023509187 A JP 2023509187A JP 2023509187 A JP2023509187 A JP 2023509187A JP 7347713 B2 JP7347713 B2 JP 7347713B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- thermosetting resin
- group
- curing agent
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 174
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 title claims description 159
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 66
- -1 ester compound Chemical class 0.000 claims description 143
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 142
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 142
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 132
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 79
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 69
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 63
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 63
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 63
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 48
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 45
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 45
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 33
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 31
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 30
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 29
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 29
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 29
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 26
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 24
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 22
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 claims description 21
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 14
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 9
- DJOYTAUERRJRAT-UHFFFAOYSA-N 2-(n-methyl-4-nitroanilino)acetonitrile Chemical compound N#CCN(C)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 DJOYTAUERRJRAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 7
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 6
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- FFQALBCXGPYQGT-UHFFFAOYSA-N 2,4-difluoro-5-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound NC1=CC(C(F)(F)F)=C(F)C=C1F FFQALBCXGPYQGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- IJBYNGRZBZDSDK-UHFFFAOYSA-N barium magnesium Chemical compound [Mg].[Ba] IJBYNGRZBZDSDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910021523 barium zirconate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- DQBAOWPVHRWLJC-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(oxo)zirconium Chemical compound [Ba+2].[O-][Zr]([O-])=O DQBAOWPVHRWLJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910002115 bismuth titanate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 claims description 5
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 claims description 4
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 claims description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 4
- 239000004845 glycidylamine epoxy resin Substances 0.000 claims description 4
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 claims description 4
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 2
- 101150091203 Acot1 gene Proteins 0.000 claims 1
- 102100025854 Acyl-coenzyme A thioesterase 1 Human genes 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 38
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 29
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 21
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 21
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 20
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 20
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 19
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 18
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 12
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 9
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N para-benzoquinone Natural products O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 2-(3-hydroxyphenyl)phenol Chemical group OC1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 6
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Natural products O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 5
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-diol Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(O)=CC2=C1 JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical group CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 4
- 125000005199 aryl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 4
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 4
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 3
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 3
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 1-phenylimidazole Chemical compound C1=NC=CN1C1=CC=CC=C1 SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SFRDXVJWXWOTEW-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)CO SFRDXVJWXWOTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSKNLOOGBYYDHV-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;naphthalen-1-ol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O.C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 GSKNLOOGBYYDHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDBOAKPEXMMQFO-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carbonochloridoylphenyl)benzoyl chloride Chemical compound C1=CC(C(=O)Cl)=CC=C1C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 QDBOAKPEXMMQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001417527 Pempheridae Species 0.000 description 2
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2,2'-diol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1O IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 2
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 2
- PFURGBBHAOXLIO-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diol Chemical compound OC1CCCCC1O PFURGBBHAOXLIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YOTZYFSGUCFUKA-UHFFFAOYSA-N dimethylphosphine Chemical compound CPC YOTZYFSGUCFUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- JLHMVTORNNQCRM-UHFFFAOYSA-N ethylphosphine Chemical compound CCP JLHMVTORNNQCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 2
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSWALKINGSNVAR-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ol;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 VSWALKINGSNVAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N phenylphosphine Chemical compound PC1=CC=CC=C1 RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N (3ar,4s,7r,7as)-3a-methyl-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methano-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C([C@H]1C=C2)[C@H]2[C@H]2[C@]1(C)C(=O)OC2=O LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N (S)-(-)-1,1'-Bi-2-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(C3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 1-O-galloyl-3,6-(R)-HHDP-beta-D-glucose Natural products OC1C(O2)COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC1C(O)C2OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJJCQDRGABAVBB-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-2-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(C(=O)O)=CC=C21 SJJCQDRGABAVBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWJVVYLURLZFDN-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(octacosanoyloxy)propyl octacosanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CWJVVYLURLZFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 2-allylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC=C QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMGNVWZXRKJNS-UHFFFAOYSA-N 2-benzylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1 CDMGNVWZXRKJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 2-bromophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Br VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006290 2-hydroxybenzyl group Chemical group [H]OC1=C(C([H])=C([H])C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 2-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1O CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUQYBSRMWWRFQH-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1O WUQYBSRMWWRFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-2-naphthoate Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(C(=O)O)=CC2=C1 ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFERIGCCDYCZLN-UHFFFAOYSA-N 3a,4,7,7a-tetrahydro-1h-indene Chemical compound C1C=CCC2CC=CC21 UFERIGCCDYCZLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylcyclohexene Chemical compound C=CC1CCC=CC1 BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 5-ethenylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(C=C)CC1C=C2 INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001263 FEMA 3042 Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical class ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N Penta-digallate-beta-D-glucose Natural products OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZIXVIWRPMFITIT-UHFFFAOYSA-N cadmium lead Chemical compound [Cd].[Pb] ZIXVIWRPMFITIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- IPPWILKGXFOXHO-UHFFFAOYSA-N chloranilic acid Chemical compound OC1=C(Cl)C(=O)C(O)=C(Cl)C1=O IPPWILKGXFOXHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical group [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-QWKBTXIPSA-N gallotannic acid Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-QWKBTXIPSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 229940083094 guanine derivative acting on arteriolar smooth muscle Drugs 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical group 0.000 description 1
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 1
- 235000001510 limonene Nutrition 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diol Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(O)=CC=C21 MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC2=CC(O)=CC=C21 DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPGZHDSZVBJNFS-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl 2-(4,4-dimethylpentan-2-yl)-5,7,7-trimethyloctanoate Chemical compound CC(CCC(C(C)CC(C)(C)C)C(=O)OCC1CO1)CC(C)(C)C BPGZHDSZVBJNFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000002151 riboflavin Substances 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- SUBJHSREKVAVAR-UHFFFAOYSA-N sodium;methanol;methanolate Chemical compound [Na+].OC.[O-]C SUBJHSREKVAVAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005649 substituted arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005717 substituted cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229940033123 tannic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000015523 tannic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920002258 tannic acid Polymers 0.000 description 1
- DGQOCLATAPFASR-UHFFFAOYSA-N tetrahydroxy-1,4-benzoquinone Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C(O)=C(O)C1=O DGQOCLATAPFASR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical class SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- IFXORIIYQORRMJ-UHFFFAOYSA-N tribenzylphosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CP(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 IFXORIIYQORRMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEUUKUNSVFYAA-UHFFFAOYSA-N trinaphthalen-1-ylphosphane Chemical compound C1=CC=C2C(P(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 DMEUUKUNSVFYAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/62—Alcohols or phenols
- C08G59/621—Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
- C08K3/013—Fillers, pigments or reinforcing additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/10—Metal compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/24—Acids; Salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/10—Esters; Ether-esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L61/00—Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L61/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C08L61/06—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L65/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L67/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
- C08L67/03—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds the dicarboxylic acids and dihydroxy compounds having the carboxyl- and the hydroxy groups directly linked to aromatic rings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P3/00—Waveguides; Transmission lines of the waveguide type
- H01P3/16—Dielectric waveguides, i.e. without a longitudinal conductor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
- H01Q13/00—Waveguide horns or mouths; Slot antennas; Leaky-waveguide antennas; Equivalent structures causing radiation along the transmission path of a guided wave
- H01Q13/08—Radiating ends of two-conductor microwave transmission lines, e.g. of coaxial lines, of microstrip lines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2227—Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2237—Oxides; Hydroxides of metals of titanium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Waveguide Aerials (AREA)
Description
上記の特許文献1に記載の樹脂組成物において、部材の成形時におけるボイド抑制や充填性、部材の形状保持性や靱性の点で改善の余地があることが判明した。これを第一の課題とする。
また、特許文献2~5に記載の誘電体基板は、高誘電率および低誘電正接に課題があり、特に高周波帯域において当該課題は顕著であった。これを第二の課題とする。
すなわち、第一の発明は、以下に示すことができる。
(A)エポキシ樹脂、
(B)硬化剤、および
(C)高誘電率フィラーを含む、熱硬化性樹脂組成物であって、
前記高誘電率フィラー(C)が、当該熱硬化性樹脂組成物の固形分100質量%中、50質量%以上のチタン酸カルシウム粒子、または60質量%以上のチタン酸ストロンチウム粒子を含み、
前記エポキシ樹脂(A)が、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂および/またはビフェニル型エポキシ樹脂を含み、
前記硬化剤(B)が、活性エステル化合物(B1)および/またはフェノール系硬化剤(B2)を含み、
前記活性エステル化合物(B1)が、ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル化合物、ナフタレン構造を含む活性エステル化合物、フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル化合物、フェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル化合物から選択される少なくとも1種を含み、
前記フェノール系硬化剤(B2)が、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂および/またはフェノールノボラック樹脂を含み、
下記の手順1に従って測定される、260℃における曲げ弾性率が、50N/mm2以上190N/mm2以下であり、
下記の手順2に従って測定される矩形圧が、0.2MPa以上8.8MPa以下である、
熱硬化性樹脂組成物が提供される。
(手順1)
当該熱硬化性樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度130℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間300秒の条件で金型に注入成形し、幅10mm、厚み4mm、長さ80mmの成形品を得る。
得られた成形品を175℃、4時間の条件で後硬化させ、試験片を作製する。
試験片の260℃における曲げ弾性率(N/mm2)を、JIS K 6911に準拠して測定する。
(手順2)
低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入速度177mm3/秒の条件にて、幅13mm、厚さ1mm、長さ175mmの矩形状の流路に当該熱硬化性樹脂組成物を注入した。このとき、流路の上流先端から25mmの位置に埋設した圧力センサーにて圧力の経時変化を測定し、当該熱硬化性樹脂組成物の流動時における最低圧力(MPa)を測定し、これを矩形圧する。
上記の熱硬化性樹脂組成物の硬化物を備える、高周波デバイスが提供される。
すなわち、第二の発明は、以下に示すことができる。
(A)エポキシ樹脂と、
(B)硬化剤と、
(C)高誘電率充填剤と、
を含む、熱硬化性樹脂組成物であって、
前記エポキシ樹脂(A)が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、およびナフトールアラルキル型エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも1種を含み、
前記硬化剤(B)が、活性エステル系硬化剤(B1)および/またはフェノール系硬化剤(B2)を含み、
前記高誘電率充填剤(C)が、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、ジルコン酸マグネシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ジルコニウム、チタン酸亜鉛、ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸カルシウム、チタン酸ジルコン酸鉛、ニオブ酸マグネシウム酸バリウム、およびジルコン酸カルシウムから選択される少なくとも1種を含む、熱硬化性樹脂組成物が提供される。
前記熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる誘電体基板が提供される。
前記誘電体基板と,
前記誘電体基板の一方の面に設けられた放射導体板と、
前記誘電体基板の他方の面に設けられた地導体板と、
を備える、マイクロストリップアンテナが提供される。
誘電体基板と,
前記誘電体基板の一方の面に設けられた放射導体板と、
前記誘電体基板の他方の面に設けられた地導体板と、
前記放射導体板に対向配置された高誘電体と、
を備える、マイクロストリップアンテナであって、
前記高誘電体が、前記誘電体基板により構成されている、マイクロストリップアンテナが提供される。
また、第二の発明によれば、高誘電率および低誘電正接に優れた誘電体基板が得られる熱硬化性樹脂組成物および当該樹脂組成物からなる誘電体基板、および当該誘電体基板を備えるマイクロストリップアンテナを提供することができる。
尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。また、例えば「1~10」は特に断りがなければ「1以上」から「10以下」を表す。
第1の実施形態の熱硬化性樹脂組成物の概要を説明する。
エポキシ樹脂(A)が、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂および/またはビフェニル型エポキシ樹脂を含み、硬化剤(B)が、活性エステル化合物(B1)および/またはフェノール系硬化剤(B2)を含み、活性エステル化合物が、ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル化合物、ナフタレン構造を含む活性エステル化合物、フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル化合物、フェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル化合物から選択される少なくとも1種を含み、フェノール系硬化剤が、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂および/またはフェノールノボラック樹脂を含むものである。
このような熱硬化性樹脂組成物は、下記の手順1に従って測定される、260℃における曲げ弾性率が、50N/mm2以上190N/mm2以下であり、下記の手順2に従って測定される、矩形圧が、0.2MPa以上8.8MPa以下となるように構成される。
しかしながら、高誘電率フィラーの種類やその含有量によっては、熱硬化性樹脂組成物における成形性が低下する恐れがある。このような成形不良に対応すべく、本発明者が熱硬化性樹脂組成物における流動特性について検討を行った。
本発明者の知見によれば、矩形圧という指標は、高誘電率フィラーが高充填された熱硬化性樹脂組成物における流動特性を安定的に評価することができる。このため、高下式粘度を上記上限以下とすることにより、成形性に優れた熱硬化性樹脂組成物を実現できる。
本発明者の知見によれば、260℃における曲げ弾性率という指標は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物について、熱時における変形しにくさを安定的に評価することができる。
このため、260℃曲げ弾性率を上記下限値以上とすることにより、部材において、熱劣化による誘電特性の低下が抑制されることも期待できる。
260℃における曲げ弾性率の上限は、190N/mm2以下、好ましくは180N/mm2以下、より好ましくは150N/mm2以下である。これにより、部材の靱性を向上できる。
矩形圧の上限は、8.8MPa以下、好ましくは8.7MPa以下、より好ましくは8.6MPa以下である。これにより、部材の成形時における充填性を向上できる。
25℃における曲げ弾性率の上限は、例えば、28000N/mm2以下、好ましくは27000N/mm2以下、より好ましくは26000N/mm2以下である。これにより、室温時における部材の靱性を向上できる。
25℃における曲げ強度の上限は、例えば、200N/mm2以下、好ましくは180N/mm2以下、より好ましくは150N/mm2以下である。これにより、室温時における部材の靱性を向上できる。
260℃における曲げ強度の上限は、例えば、10N/mm2以下、好ましくは7N/mm2以下、より好ましくは5N/mm2以下である。これにより、高温環境下における部材の靱性を向上できる。
吸水率の上限は、例えば、0.8%以下、好ましくは0.7以下、より好ましくは0.6%以下である。これにより、部材の低吸水性を実現できる。
熱伝導率の上限は、とくに限定されないが、5.0W/mK以下、好ましくは4.0W/mK以下としてもよい。
銅に対するダイシェア強度の上限は、とくに限定されないが、50N/mm2以下、40N/mm2以下、30N/mm2以下としてもよい。
ガラス転移温度の上限は、とくに限定されないが、200℃以下、190℃以下でもよい。
CTE1の上限は、例えば、30ppm/℃以下、好ましくは28ppm/℃以下、より好ましくは25ppm以下である。これにより、Tg以下における部材の寸法変化を抑制できる。
CTE2の上限は、例えば、100ppm/℃以下、好ましくは90ppm/℃以下、より好ましくは80ppm/℃以下である。これにより、熱時における部材の寸法変化を抑制できる。
熱硬化性樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度130℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間300秒の条件で金型に注入成形し、幅10mm、厚み4mm、長さ80mmの成形品を得る。
得られた成形品を175℃、4時間の条件で後硬化させ、試験片を作製する。
JIS K 6911に準拠して、ヘッドスピード5mm/minで、室温(25℃)および260℃のそれぞれにおいて、試験片の曲げ弾性率(N/mm2)および曲げ強度(N/mm2)を、測定する。
低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入速度177mm3/秒の条件にて、幅13mm、厚さ1mm、長さ175mmの矩形状の流路に熱硬化性樹脂組成物を注入した。このとき、流路の上流先端から25mmの位置に埋設した圧力センサーにて圧力の経時変化を測定し、熱硬化性樹脂組成物の流動時における最低圧力(MPa)を測定し、これを矩形圧する。
低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力10MPa、硬化時間180秒の条件で、当該熱硬化性樹脂組成物を成形して、銅製リードフレーム上に10mm2の試験片を1水準当たり4個成形する。
続いて、自動ダイシェア測定装置を用いて、室温にて試験片と銅製リードフレームとのダイシェア強度を測定する。4個の試験片のダイシェア強度を採用する。
[熱硬化性樹脂]
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂(A)を含む。
上記ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂として、ビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニレン骨格を有するナフトールアラルキル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
他の熱硬化性樹脂として、シアネート樹脂、およびマレイミド樹脂から選択される一種または二種以上を含んでもよい。
熱硬化性樹脂組成物は、高誘電率フィラー(高誘電率充填剤)(C)を含む。
高誘電率フィラー(C)は、チタン酸カルシウム粒子および/またはチタン酸ストロンチウム粒子を含む。これにより、高周波帯域における誘電正接を一層低減できる。
他の高誘電率フィラーとしては、チタン酸マグネシウム、ジルコン酸マグネシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ジルコニウム、チタン酸亜鉛、ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸カルシウム、チタン酸ジルコン酸鉛、ニオブ酸マグネシウム酸バリウム、またはジルコン酸カルシウム等を挙げられる。これらから選択される1種または2種以上を用いることができる。
チタン酸ストロンチウム粒子の下限は、熱硬化性樹脂組成物100質量%中、60質量%以上、好ましくは65質量%以上、より好ましくは70質量%以上である。これにより、高周波帯域における誘電正接を一層低減できる。
チタン酸カルシウム粒子および/またはチタン酸ストロンチウム粒子の上限は、熱硬化性樹脂組成物100質量%中、例えば、90質量%以下、好ましくは85質量%以下、より好ましくは80質量%以下である。これにより、成形品の製造安定性を向上できる。
硬化剤は、活性エステル化合物(B1)および/またはフェノール系硬化剤(B2)を含む。好ましくは、硬化剤は、活性エステル化合物(B1)およびフェノール系硬化剤(B2)を含む。
活性エステル化合物(活性エステル硬化剤)(B1)は、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂の硬化剤として機能する。
活性エステル化合物(B1)は、ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル化合物、ナフタレン構造を含む活性エステル化合物、フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル化合物、フェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル化合物からなる群から選ばれる一または二以上を含む。
この中でも、ナフタレン構造を含む活性エステル化合物、ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル化合物がより好ましい。「ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造」とは、フェニレン-ジシクロペンチレン-フェニレンからなる2価の構造単位を表す。
Aは、脂肪族環状炭化水素基を介して連結された置換または非置換のアリーレン基であり、
Ar'は、置換または非置換のアリール基であり、
Bは、下記一般式(B)で表される構造であり、
kは、繰り返し単位の平均値であり、0.25~3.5の範囲である。
Arは、置換または非置換のアリーレン基である。置換されたアリーレン基の置換基は炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、フェニル基、アラルキル基等が挙げられる。
Yは、単結合、置換または非置換の炭素原子数1~6の直鎖のアルキレン基、または置換または非置換の炭素原子数3~6の環式のアルキレン基、置換または非置換の2価の芳香族炭化水素基、エーテル結合、カルボニル基、カルボニルオキシ基、スルフィド基、あるいはスルホン基である。前記基の置換基としては、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、フェニル基、アラルキル基等が挙げられる。
Yとして好ましくは、単結合、メチレン基、-CH(CH3)2-、エーテル結合、置換されていてもよいシクロアルキレン基、置換されていてもよい9,9-フルオレニレン基等が挙げられる。
nは0~4の整数であり、好ましくは0または1である。
Bは、具体的には、下記一般式(B1)または下記一般式(B2)で表される構造である。
R1はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、フェニル基、アラルキル基の何れかであり、
nは0~4の整数であり、pは1~4の整数である。
中でも、低誘電正接の観点から、式(B-2)、式(B-3)または式(B-5)で表される構造を有する活性エステル化合物が好ましく、さらに式(B-2)のnが0である構造、式(B-3)のXがエーテル結合である構造、または式(B-5)において二つのカルボニルオキシ基が4,4'-位にある構造を有する活性エステル化合物がより好ましい。また各式中のR1はすべて水素原子であることが好ましい。
R3はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のアルコキシ基、フェニル基、アラルキル基の何れかであり、
lは0または1であり、mは1以上の整数である。
特定の活性エステル化合物(B1)を上記範囲で含むことにより、得られる硬化物はより優れた誘電特性を有することができ、低誘電正接にさらに優れる。
上記効果の観点から、活性エステル化合物(B1)は、上述の高誘電率フィラー(C)100質量部に対して、好ましくは1質量部以上30質量部以下、より好ましくは2質量部以上20質量部以下、さらに好ましくは3質量部以上15質量部以下となるように含むことができる。
フェノール系硬化剤(B2)は、エポキシ樹脂(A)などの熱硬化性樹脂の硬化剤として機能する。
フェノール系硬化剤(B2)は、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂および/またはフェノールノボラック樹脂を含む。
ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂としては、例えば、ビフェニレン骨格を含むフェノールアラルキル樹脂、ビフェニレン骨格を含むナフトールアラルキル樹脂等が挙げられる。
他の硬化剤としては、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂およびフェノールノボラック樹脂以外のフェノール樹脂系硬化剤、アミン化合物系硬化剤、アミド化合物系硬化剤、酸無水物系硬化剤などが用いられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。この中でも、フェノール樹脂系硬化剤を用いてもよい。
アミド化合物系硬化剤は、例えば、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂が挙げられる。
酸無水物系硬化剤は、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸が挙げられる。
熱硬化性樹脂組成物は、硬化触媒を含んでもよい。
硬化触媒は、硬化促進剤などと呼ばれる場合もある。硬化触媒は、熱硬化性樹脂の硬化反応を早めるものである限り特に限定されず、公知の硬化触媒を用いることができる。
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、さらに、吸湿性低減、線膨張係数低減、熱伝導性向上および強度向上のために、高誘電率フィラー(C)以外に無機充填材を含むことができる。
シリカの含有量は、熱硬化性樹脂組成物の固形分100質量%中、例えば、25質量%以下、好ましくは20質量%以下、より好ましくは15質量%以下でもよい。
アルミニウム系基材の含有量は、熱硬化性樹脂組成物の固形分100質量%中、例えば、40質量%以下、好ましくは38質量%以下、より好ましくは35質量%以下でもよい。
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、上記成分に加え、必要に応じて、シランカップリング剤、離型剤、密着助剤、着色剤、分散剤、低応力化剤等の種々の成分を含むことができる。
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、上述の各成分を均一に混合することにより製造できる。製造方法としては、所定の含有量の原材料をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、ニーダ、押出機等によって溶融混練した後、冷却、粉砕する方法を挙げることができる。得られた熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、成形条件に合うような寸法および質量でタブレット化してもよい。
以下、高周波デバイスの一例を説明する。
図1に示すように、マイクロストリップアンテナ10は、上述の熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる誘電体基板12と、誘電体基板12の一方の面に設けられた放射導体板(放射素子)14と、誘電体基板12の他方の面に設けられた地導体板16と、を備える。
共平面給電は、放射導体板14と同一面上に配置されたマイクロストリップ線路(不図示)で放射導体板14に給電することができる。
図2(a)に示すように、マイクロストリップアンテナ20は、誘電体基板22と、誘電体基板22の一方の面に設けられた放射導体板14と、誘電体基板22の他方の面に設けられた地導体板16と、放射導体板14に対向配置された高誘電体基板(高誘電体)24と、を備える。誘電体基板22および放射導体板14と、高誘電体基板24とは、スペーサー26を介して所定距離離間するように構成することができる。
誘電体基板22としては、テフロン基板等の低誘電率の基板から構成される。
高誘電体基板24は、上述の樹脂組成物を硬化してなる誘電体基板により構成されている。
誘電体基板22と高誘電体基板24との空隙部は空間であってもよく、誘電体材料が充填されていてもよい。
また、図2(b)のマイクロストリップアンテナ20'に示されるように、放射導体板14の上面に高誘電体基板24を当接させた構造とすることもできる。
本実施形態において、誘電体導波路は、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる誘電体と、当該誘電体の表面を覆う導体膜と、を備える。誘電体導波路は、電磁波を誘電体(誘電体媒質)中に閉じこめて伝送させるものである。
前記導体膜は、銅等の金属や、酸化物高温超伝導体等から構成することができる。
本実施形態において、多層アンテナは、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる誘電体シートを備える。
具体的には、多層アンテナは、コンデンサ、インダクタなどの多数の素子からなる回路を、誘電体シートに印刷して積層するモジュール化したものである。
第2の実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹脂(A)と、硬化剤(B)と、高誘電率充填剤(C)と、を含む。
以下、各成分について説明する
エポキシ樹脂(A)としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂実施例等を挙げることができ、これらから選択される少なくとも1種を含む。
本実施形態において、エポキシ樹脂(A)は、本発明の効果の観点から、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ましく、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂がより好ましい。
エポキシ樹脂(A)は、その他のエポキシ樹脂として、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂等を組み合わせて含むことができる。
本実施形態において、硬化剤(B)は、活性エステル系硬化剤(B1)および/またはフェノール系硬化剤(B2)を含む。
(活性エステル系硬化剤(B1))
活性エステル系硬化剤(活性エステル化合物)(B1)としては、1分子中に1個以上の活性エステル基を有する化合物を用いることができる。中でも、活性エステル系硬化剤(B1)としては、フェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N-ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の、反応活性の高いエステル基を1分子中に2個以上有する化合物が好ましい。
本実施形態においては、前述の特定のエポキシ樹脂(A)と、硬化剤(B)として活性エステル系硬化剤(B1)とを組み合わせて含むことにより、高誘電率および低誘電正接に優れた誘電体基板を得ることができる。
特定の活性エステル系硬化剤(B1)を上記範囲で含むことにより、得られる硬化物はより優れた誘電特性を有することができ、低誘電正接にさらに優れる。
上記効果の観点から、活性エステル系硬化剤(B1)は、後述の高誘電率充填剤(C)100質量部に対して、好ましくは1質量部以上30質量部以下、より好ましくは2質量部以上20質量部以下、さらに好ましくは3質量部以上15質量部以下となるように含むことができる。
フェノール系硬化剤(B2)としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール-フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール-クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価フェノール化合物)、ビフェニル変性ナフトール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価ナフトール化合物)、アミノトリアジン変性フェノール樹脂(メラミンやベンゾグアナミンなどでフェノール核が連結された多価フェノール化合物)等の多価フェノール化合物が挙げられる。
活性エステル系硬化剤(B1)およびフェノール系硬化剤(B2)を上記の比で含むことにより、得られる硬化物はより優れた誘電特性を有することができ、低誘電正接にさらに優れる。
硬化剤(B)を上記範囲で含むことにより、得られる硬化物はより優れた誘電特性を有することができ、低誘電正接にさらに優れる。
本実施形態において、高誘電率充填剤(高誘電率フィラー)(C)としては、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、ジルコン酸マグネシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ジルコニウム、チタン酸亜鉛、ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸カルシウム、チタン酸ジルコン酸鉛、ニオブ酸マグネシウム酸バリウム、ジルコン酸カルシウム等を挙げることができ、これらから選択される少なくとも1種を含むことができる。
本発明の効果の観点から、高誘電率充填剤(C)としては、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、およびチタン酸マグネシウムから選択される少なくとも1種であることが好ましく、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウムがさらに好ましい。
高誘電率充填剤(C)の添加量が上記範囲であると、得られる硬化物の高誘電率および低誘電正接により優れるとともに、成形品の製造にも優れる。
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、さらに硬化触媒を含むことができる。
硬化触媒は、硬化促進剤などと呼ばれる場合もある。硬化触媒は、熱硬化性樹脂の硬化反応を早めるものである限り特に限定されず、公知の硬化触媒を用いることができる。
テトラ置換ホスホニウム化合物としては、例えば下記一般式(6)で表される化合物等が挙げられる。
Pはリン原子を表す。
R4、R5、R6およびR7は、それぞれ独立に、芳香族基またはアルキル基を表す。
Aはヒドロキシル基、カルボキシル基、チオール基から選ばれる官能基のいずれかを芳香環に少なくとも1つ有する芳香族有機酸のアニオンを表す。
x、yは1~3、zは0~3であり、かつx=yである。
まず、テトラ置換ホスホニウムハライドと芳香族有機酸と塩基を有機溶剤に混ぜ均一に混合し、その溶液系内に芳香族有機酸アニオンを発生させる。次いで水を加えると、一般式(6)で表される化合物を沈殿させることができる。一般式(6)で表される化合物において、リン原子に結合するR4、R5、R6およびR7がフェニル基であり、かつAHはヒドロキシル基を芳香環に有する化合物、すなわちフェノール類であり、かつAは該フェノール類のアニオンであるのが好ましい。上記フェノール類としては、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコールなどの単環式フェノール類、ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、アントラキノールなどの縮合多環式フェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールSなどのビスフェノール類、フェニルフェノール、ビフェノールなどの多環式フェノール類などが例示される。
Pはリン原子を表す。
R8は炭素数1~3のアルキル基、R9はヒドロキシル基を表す。
fは0~5であり、gは0~3である。
まず、第三ホスフィンであるトリ芳香族置換ホスフィンとジアゾニウム塩とを接触させ、トリ芳香族置換ホスフィンとジアゾニウム塩が有するジアゾニウム基とを置換させる工程を経て得られる。
Pはリン原子を表す。
R10、R11およびR12は、炭素数1~12のアルキル基または炭素数6~12のアリール基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Pはリン原子を表し、Siは珪素原子を表す。
R20は、基Y2およびY3と結合する有機基である。
R21は、基Y4およびY5と結合する有機基である。
R20、およびR21は互いに同一であっても異なっていてもよく、Y2、Y3、Y4およびY5は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Z1は芳香環または複素環を有する有機基、あるいは脂肪族基である。
ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物の製造方法は、例えば以下である。
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、さらに、吸湿性低減、線膨張係数低減、熱伝導性向上および強度向上のために、高誘電率充填剤(C)以外に無機充填剤を含むことができる。
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、上記成分に加え、必要に応じて、シランカップリング剤、離型剤、着色剤、分散剤、低応力化剤等の種々の成分を含むことができる。
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、下記エポキシ樹脂(A)と、下記硬化剤(B)と、下記高誘電率充填剤(C)と、を組み合わせて含むことができる。
(エポキシ樹脂(A))
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、およびナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、からなる群より選択される少なくとも1種を含む。
好ましくは、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも1種を含む。
さらに好ましくは、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも1種を含む。
活性エステル系硬化剤(B1)および/またはフェノール系硬化剤(B2)を含む。
好ましくは活性エステル系硬化剤(B1)を含む。
(活性エステル系硬化剤(B1))
ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル系硬化剤、ナフタレン構造を含む活性エステル系硬化剤、フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル系硬化剤、およびフェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル系硬化剤から選択される少なくとも1種を含む。
好ましくは、ナフタレン構造を含む活性エステル系硬化剤、およびジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル系硬化剤から選択される少なくとも1種を含む。
さらに好ましくは、前記一般式(1)で表される構造を備える活性エステル系硬化剤である。
チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、ジルコン酸マグネシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ジルコニウム、チタン酸亜鉛、ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸カルシウム、チタン酸ジルコン酸鉛、ニオブ酸マグネシウム酸バリウム、およびジルコン酸カルシウムから選択される少なくとも1種を含む。
好ましくは、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、およびチタン酸マグネシウムから選択される少なくとも1種を含む。
さらに好ましくは、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウムから選択される少なくとも1種を含む。
なお、上述のエポキシ樹脂(A)と、活性エステル系硬化剤および/またはフェノール系硬化剤を含む硬化剤(B)と、高誘電率充填剤(C)とは、各々の例示を任意に組み合わせることができる。
エポキシ樹脂(A)を、当該組成物100質量%中に、好ましくは5質量%以上20質量%以下、より好ましくは10質量%以上15質量%以下の量で含むことができ、
硬化剤(B)を、当該組成物100質量%中に、好ましくは0.2質量%以上15質量%以下、より好ましくは0.5質量%以上10質量%以下、さらに好ましくは1.0質量%以上7質量%以下の量で含むことができ、
高誘電率充填剤(C)を、当該組成物100質量%中に、好ましくは40質量%以上、より好ましくは50質量%以上、さらに好ましくは60質量%以上含むことができ。上限値は80質量%である。
矩形圧は、溶融粘度のパラメータであり、数値が小さい方が、溶融粘度が低い。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、矩形圧が上記範囲であることにより、成形時における金型充填性に優れる。
低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入速度177mm3/秒の条件にて、幅13mm、厚さ1mm、長さ175mmの矩形状の流路に熱硬化性樹脂組成物を注入し、流路の上流先端から25mmの位置に埋設した圧力センサーにて圧力の経時変化を測定し、前記熱硬化性樹脂組成物の流動時における最低圧力を算出して、この最低圧力を矩形圧とする。
空洞共振器法による25GHzでの誘電率が10以上、好ましくは12以上、より好ましくは13以上、特に好ましくは14以上とすることができる。
空洞共振器法による25GHzでの誘電正接(tanδ)が0.04以下、好ましくは0.03以下、より好ましくは0.02以下、特に好ましくは0.015以下とすることができる。
本実施形態のマイクロストリップアンテナは、第一の発明の実施形態と同様に図1、図2(a)(b)に示す構造を備えるため、説明を省略する。
本実施形態において、誘電体導波路は、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる誘電体と、当該誘電体の表面を覆う導体膜と、を備える。誘電体導波路は、電磁波を誘電体(誘電体媒質)中に閉じこめて伝送させるものである。
前記導体膜は、銅等の金属や、酸化物高温超伝導体等から構成することができる。
本実施形態において、電磁波吸収体は、支持体、抵抗皮膜、誘電体層、及び反射層が積層した構造を備える。当該電磁波吸収体は、高い電波吸収性能を備えるλ/4型電波吸収体として用いることができる。
支持体としては樹脂基材等が挙げられる。支持体により、抵抗皮膜を保護することができ、電波吸収体としての耐久性を高めることができる。
抵抗皮膜としては、酸化インジウムスズ、モリブデン含有抵抗皮膜等が挙げられる。
誘電体層は本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる。その厚みは、10μm以上2000μm以下程度である。
反射層は電波の反射層として機能し得るものであり、例えば金属膜が挙げられる。
第1の発明(出願時請求項1~14、23~25)および第1の実施形態に係る実施例を、実施例Aに示す。
第2の発明(出願時請求項15~22、23~25)および第2の実施形態に係る実施例を、実施例Bに示す。
(実施例A1~A19、比較例A1~A4)
<熱硬化性樹脂組成物の調製>
以下の原料を表1に示す含有量で、常温でミキサーを用いて混合した後、70~100℃でロール混錬した。次いで、得られた混錬物を冷却した後、これを粉砕して粉粒状の熱硬化性樹脂組成物を得た。ついで、高圧で打錠成形することにより、タブレット状の熱硬化性樹脂組成物を得た。
・無機充填材1:溶融球状シリカ(平均粒子径:31μm)
・無機充填材2:溶融球状シリカ(平均粒子径:0.6μm)
・無機充填材3:アルミナ(平均粒子径:0.6μm)
・無機充填材4:アルミナ(平均粒子径:30μm)
・高誘電率フィラー1:チタン酸カルシウム(平均粒子径:2.0μm)
・高誘電率フィラー2:チタン酸カルシウム(平均粒子径:2.7μm)
・高誘電率フィラー3:チタン酸カルシウム(平均粒子径:1.2μm)
・高誘電率フィラー4:チタン酸ストロンチウム(平均粒子径:1.6μm)
・高誘電率フィラー5:チタン酸マグネシウム(平均粒子径:0.8μm)
無機充填材および高誘電率フィラーの粒子径分布は、レーザー回折散乱法を用いて測定した。
なお、レーザー回折散乱法で測定される高誘電率フィラー1の体積頻度粒度分布において、累積値が10%となる粒子径をD10、累積値が50%となる粒子径をD50、および累積値が90%となる粒子径をD90としたとき、D10が0.7μm、D50が2.0μm、D90が7.5μm、(D90-D10)/D50が3.4であった。
・エポキシ樹脂1:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(NC3000L、日本化薬社製)
・エポキシ樹脂2:ビフェニル型エポキシ樹脂(YY-4000K、三菱ケミカル社製)
・エポキシ樹脂3:2-(4,4-ジメチルペンタン-2-イル)-5,7,7-トリメチルオクタン酸2,3-エポキシプロピル(日産化学社製、FOLDI E101)
・エポキシ樹脂4:ビスフェノールフルオレンエポキシ樹脂(TBIS-GG、田岡化学工業社製)
・エポキシ樹脂5:ビスフェノールフルオレンエポキシ樹脂(TBIS-RXG、田岡化学工業社製)
・エポキシ樹脂6:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP-7200L、DIC社製)
・エポキシ樹脂7:分岐アルキル鎖状エポキシ樹脂(YL9057、三菱ケミカル)
・エポキシ樹脂8:フルオレン型エポキシ樹脂(オグソールPG-100、大阪ガスケミカル社製)
・エポキシ樹脂9:ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂(ESN-475V、新日鉄住金化学社製)
・活性エステル化合物1:下記調製方法で調製した活性エステル化合物
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、ビフェニル-4,4'-ジカルボン酸ジクロライド279.1g(酸クロリド基のモル数:2.0モル)とトルエン1338gとを仕込み、系内を減圧窒素置換して溶解させた。次いで、α-ナフトール96.5g(0.67モル)、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂を219.5g(フェノール性水酸基のモル数:1.33モル)を仕込み、系内を減圧窒素置換して溶解させた。その後、窒素ガスパージを施しながら、系内を60℃以下に制御して、20%水酸化ナトリウム水溶液400gを3時間かけて滴下した。次いでこの条件下で1.0時間撹拌を続けた。反応終了後、静置分液し、水層を取り除いた。更に反応物が溶解しているトルエン相に水を投入して約15分間撹拌混合し、静置分液して水層を取り除いた。水層のpHが7になるまでこの操作を繰り返した。その後、デカンタ脱水で水分を除去し不揮発分65%のトルエン溶液状態にある活性エステル樹脂を得た。得られた活性エステル樹脂の構造を確認したところ、上述の式(1-1)においてR1及びR3が水素原子、Zがナフチル基、lが0の構造を有していた。さらに、繰り返し単位の平均値kは、反応等量比から算出したところ0.5~1.0の範囲であった。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、1,3-ベンゼンジカルボン酸ジクロリド203.0g(酸クロリド基のモル数:2.0モル)とトルエン1338gとを仕込み、系内を減圧窒素置換して溶解させた。次いで、α-ナフトール96.5g(0.67モル)、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂を219.5g(フェノール性水酸基のモル数:1.33モル)を仕込み、系内を減圧窒素置換して溶解させた。その後、窒素ガスパージを施しながら、系内を60℃以下に制御して、20%水酸化ナトリウム水溶液400gを3時間かけて滴下した。次いでこの条件下で1.0時間撹拌を続けた。反応終了後、静置分液し、水層を取り除いた。更に反応物が溶解しているトルエン相に水を投入して約15分間撹拌混合し、静置分液して水層を取り除いた。水層のpHが7になるまでこの操作を繰り返した。その後、デカンタ脱水で水分を除去し不揮発分65%のトルエン溶液状態にある活性エステル樹脂を得た。得られた活性エステル樹脂の構造を確認したところ、上述の式(1-3)においてR1及びR3が水素原子、Zがナフチル基、lが0の構造を有していた。活性エステル樹脂の繰り返し単位の平均値kは、反応等量比から算出したところ0.5~1.0の範囲であった。得られた活性エステル樹脂は具体的に以下の化学式で表される構造を有していた。下記式中、繰り返し単位の平均値kは0.5~1.0であった。
・フェノール系硬化剤1:分岐アルキル鎖状フェノールノボラック樹脂(ST-007-02、明和化成社製)
・硬化触媒1:テトラフェニルフォスフォニウム-4,4'-スルフォニルジフェノラート
・シランカップリング剤1:フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン(CF4083、東レ・ダウコーニング社製)
・シランカップリング剤2:3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン(サイラエース、JNC社製)
・着色剤1:黒色酸化チタン(赤穂化成社製)
・離型剤1:グリセリントリモンタン酸エステル(リコルブWE-4、クラリアントジャパン社製)
・低応力化剤1:カルボキシル基末端ブタジエンアクリルゴム(CTBN1008SP、宇部興産社製)
得られた熱硬化性樹脂組成物を、Si基板に塗布し、120℃で4分間プリベークを行い、塗布膜厚12μmの樹脂膜を形成した。
これを、窒素雰囲気下、オーブンを用いて200℃で90分加熱し、フッ酸処理(2質量%フッ酸水溶液に浸漬)した。フッ酸から基板を取り出した後に、硬化膜をSi基板から剥離して、これを試験片とした。
測定装置は、ネットワークアナライザHP8510C、シンセサイズドスイーパHP83651AおよびテストセットHP8517B(全てアジレント・テクノロジー社製)を用いた。これら装置と、円筒空洞共振器(内径φ42mm、高さ30mm)とを、セットアップした。
上記共振器内に試験片を挿入した状態と、未挿入状態とで、共振周波数、3dB帯域幅、透過電力比などを、周波数18GHzで測定した。そして、これら測定結果をソフトウェアで解析的に計算することで、誘電率(Dk)および誘電正接(Df)の誘電特性を求めた。なお、測定モードはTE011モードとした。
得られた熱硬化性樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)、線膨張係数(CTE1、CTE2)を、以下のように測定した。まず、低圧トランスファー成形機(コータキ精機(株)製「KTS-15」)を用いて金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒で、熱硬化性樹脂組成物を注入成形し、10mm×4mm×4mmの試験片を得た。次いで、得られた試験片を175℃、4時間で後硬化した後、熱機械分析装置(セイコー電子工業(株)製、TMA100)を用いて、測定温度範囲0℃~320℃、昇温速度5℃/分の条件下で測定を行った。この測定結果から、ガラス転移温度(Tg)、ガラス転移温度以下における線膨張係数(CTE1)、ガラス転移温度超過における線膨張係数(CTE2)を算出した。
得られた熱硬化性樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製「KTS-30」)を用いて、金型温度130℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間300秒の条件で金型に注入成形した。これにより、幅10mm、厚み4mm、長さ80mmの成形品を得た。次いで、得られた成形品を175℃、4時間の条件で後硬化させた。これにより、機械的強度の評価用の試験片を作製した。そして、試験片の室温(25℃)または260℃における曲げ強度(N/mm2)および曲げ弾性率(N/mm2)を、JIS K 6911に準拠して、ヘッドスピード5mm/minで、測定した。
低圧トランスファー成形機(NEC(株)製、40tマニュアルプレス)を用いて、金型温度175℃、注入速度177mm3/秒の条件にて、幅13mm、厚さ1mm、長さ175mmの矩形状の流路に熱硬化性樹脂組成物を注入した。このとき、流路の上流先端から25mmの位置に埋設した圧力センサーにて圧力の経時変化を測定し、熱硬化性樹脂組成物の流動時における最低圧力(MPa)を測定し、これを矩形圧とした。矩形圧は、溶融粘度のパラメータであり、数値が小さい方が、溶融粘度が低いことを示す。
低圧トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製、KTS-30)を用いて、金型温度175℃、注入圧力7.4MPa、硬化時間120秒の条件で、熱硬化性樹脂組成物を注入成形して直径50mm、厚さ3mmの試験片を作製し、175℃で4時間後硬化した。その後、得られた試験片を85℃、相対湿度85%の環境下で168時間加湿処理し、加湿処理前後の重量変化を測定し吸湿率を求めた。単位は%(質量%)。
50φ×50mmの成形品について、プローブ型熱伝導率測定機(昭和電工(株)・製)を用いて常温で測定した。単位はW/m℃。
低圧トランスファー成形機(山城精機社製、「AV-600-50-TF」)を用いて、金型温度175℃、注入圧力10MPa、硬化時間180秒の条件で、銅製リードフレーム上に10mm2の試験片を1水準当たり4個成形した。続いて、自動ダイシェア測定装置(ノードソン・アドバンスド・テクノロジー社製、DAGE4000型)を用いて、室温にて試験片と銅製リードフレームとのダイシェア強度を測定した。4個の試験片のダイシェア強度の平均値を表に示す。
低圧トランスファー成形機(コータキ精機(株)製「KTS-15」)を用いて金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒で、熱硬化性樹脂組成物を注入成形し、10mm×4mm×4mmの試験片を得た。次いで、得られた試験片を175℃、4時間で後硬化した後、熱機械分析装置(セイコー電子工業(株)製、TMA100)を用いて、測定温度範囲0℃~320℃、昇温速度5℃/分の条件下で、試験片の寸法変化率を測定した。
試験片の寸法変化率が0.6%以下のものを形状保持性が良好(○)、0.6%超えのものを不良(×)と評価した。
熱硬化性樹脂組成物について、ASTM D5045-91で規格されているKIc法に準拠して測定を行った。硬化性樹脂組成物を長さ50mm、幅B=5mm、厚みW=10mmの大きさで長さ方向中央部に厚み方向の深さ3.5mmのノッチを施し、175℃×4時間で硬化した。更に硬化物のノッチ先端部分に厚み方向の深さ0.1mmの傷を剃刀で施した。合計クラック長a=3.6mmである。その後、オリエンテック社製STB-1225S型テンシロンを用いて、測定温度25℃、速度10mm/分、支点間距離S=40mmで3点曲げ試験をおこない、下記式に基づき破壊靭性値(K1c(MPa・m1/2))を算出した。
KIC=((PQ×S)/(B×W3/2))×f(a/W)
f(a/W)=(3(a/W)1/2[1.99-(a/W)(1-a/W){2.15-3.9(a/W)+2.7(a/W)2])/(2{881+2(a/W)}{1-(a/W)}3/2)
破壊靭性値が1.8MPa・m1/2以上のものを靱性が良好(○)、1.8MPa・m1/2未満のものを不良(×)と評価した。
低圧トランスファー成形機(コータキ精機(株)製「KTS-15」)を用いて金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒で、熱硬化性樹脂組成物を注入成形し、10mm×4mm×4mmの試験片を得た。得られた試験片(成形品)の断面について、SEM観察によりボイドの有無を確認した。
5箇所のSEM画像にボイドが確認されたかった場合を○、5箇所中1箇所以上で確認された場合を×と評価した。
金型温度:175℃、注入速度:10.5mm/s、注入圧力:3.5MPa、硬化時間:120秒、タブレットサイズ:40mmΦ-40g(成型圧力8MPa)の条件にて、金型に形成された幅5mm、スリットギャップ(G)25μmの矩形状の流路に、熱硬化性樹脂を注入し、流路の上流先端からの充填長さを測定した。
充填長さが8mm以上の場合を充填性が良好(○)、8mm未満の場合を不良と評価した。
このような各実施例の熱硬化性樹脂組成物は、マイクロストリップアンテナ、誘電体導波路、および多層アンテナ等の高周波デバイスの一部を形成するために好適に用いることが可能である。
(実施例B1~B17、参考例B1)
以下の原料を表3に示す配合量で、常温でミキサーを用いて混合した後、70~100℃でロール混錬した。次いで、得られた混錬物を冷却した後、これを粉砕して粉粒状の樹脂組成物を得た。ついで、高圧で打錠成形することにより、タブレット状の樹脂組成物を得た。
・無機充填剤1:溶融球状シリカ(デンカ株式会社製)
・高誘電率充填剤1:チタン酸カルシウム(平均粒子径2.0μm)
・高誘電率充填剤2:チタン酸マグネシウム、(平均粒径0.8μm、表面処理あり、チタン工業社製)
・高誘電率充填剤3:チタン酸ストロンチウム(平均粒子径1.6μm)
・着色剤1:黒色酸化チタン(赤穂化成社製)
・カップリング剤1:フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン(CF4083、東レ・ダウコーニング社製)
・カップリング剤2:3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン(サイラエース、JNC社製)
・エポキシ樹脂1:ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(NC3000L、日本化薬社製)
・エポキシ樹脂2:ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂(ESN-475V、新日鉄住金化学社製)
・エポキシ樹脂3:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(YL6810、三菱化学社製)
・エポキシ樹脂4:ビスフェノールF型エポキシ樹脂(jER806H、三菱ケミカル社製)
・エポキシ樹脂5:フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(ミレックスE-XLC-4L(エポキシ等量238g/eq, 軟化点62℃)、三井化学社製)
・エポキシ樹脂6:ナフタレン型エポキシ樹脂(EPICLON HP-4770、DIC社製)
・エポキシ樹脂7:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(EPICLON HP-7200L、DIC社製)
・エポキシ樹脂8:グリシジルアミン型エポキシ樹脂(jER603、三菱ケミカル社製)
・硬化剤1:下記調製方法で調製した活性エステル系硬化剤
(活性エステル系硬化剤の調製方法)
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、ビフェニル-4,4’-ジカルボン酸ジクロライド279.1g(酸クロリド基のモル数:2.0モル)とトルエン1338gとを仕込み、系内を減圧窒素置換して溶解させた。次いで、α-ナフトール96.5g(0.67モル)、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂を219.5g(フェノール性水酸基のモル数:1.33モル)を仕込み、系内を減圧窒素置換して溶解させた。その後、窒素ガスパージを施しながら、系内を60℃以下に制御して、20%水酸化ナトリウム水溶液400gを3時間かけて滴下した。次いでこの条件下で1.0時間撹拌を続けた。反応終了後、静置分液し、水層を取り除いた。更に反応物が溶解しているトルエン相に水を投入して約15分間撹拌混合し、静置分液して水層を取り除いた。水層のpHが7になるまでこの操作を繰り返した。その後、デカンタ脱水で水分を除去し不揮発分65%のトルエン溶液状態にある活性エステル樹脂を得た。得られた活性エステル樹脂の構造を確認したところ、上述の式(1-1)においてR1及びR3が水素原子、Zがナフチル基、lが0の構造を有していた。さらに、繰り返し単位の平均値kは、反応等量比から算出したところ0.5~1.0の範囲であった。
(活性エステル系硬化剤の調製方法)
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、1,3-ベンゼンジカルボン酸ジクロリド203.0g(酸クロリド基のモル数:2.0モル)とトルエン1338gとを仕込み、系内を減圧窒素置換して溶解させた。次いで、α-ナフトール96.5g(0.67モル)、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂を219.5g(フェノール性水酸基のモル数:1.33モル)を仕込み、系内を減圧窒素置換して溶解させた。その後、窒素ガスパージを施しながら、系内を60℃以下に制御して、20%水酸化ナトリウム水溶液400gを3時間かけて滴下した。次いでこの条件下で1.0時間撹拌を続けた。反応終了後、静置分液し、水層を取り除いた。更に反応物が溶解しているトルエン相に水を投入して約15分間撹拌混合し、静置分液して水層を取り除いた。水層のpHが7になるまでこの操作を繰り返した。その後、デカンタ脱水で水分を除去し不揮発分65%のトルエン溶液状態にある活性エステル樹脂を得た。得られた活性エステル樹脂の構造を確認したところ、上述の式(1-3)においてR1及びR3が水素原子、Zがナフチル基、lが0の構造を有していた。活性エステル樹脂の繰り返し単位の平均値kは、反応等量比から算出したところ0.5~1.0の範囲であった。得られた活性エステル樹脂は具体的に以下の化学式で表される構造を有していた。下記式中、繰り返し単位の平均値kは0.5~1.0であった。
・硬化触媒1:テトラフェニルフォスフォニウム-4,4’-スルフォニルジフェノラート
・シリコーン1:ジメチルシロキサン-ジグリシジンエーテル共重合体(M69B、住友ベークライト社製)
・低応力剤1:カルボキシル基末端ブタジエンアクリルゴム(CTBN1008SP、宇部興産社製)
まず、樹脂組成物を用いて、試験片を得た。
具体的には、実施例および比較例で調製した樹脂組成物を、Si基板に塗布し、120℃で4分間プリベークを行い、塗布膜厚12μmの樹脂膜を形成した。
これを、窒素雰囲気下、オーブンを用いて200℃で90分加熱し、フッ酸処理(2質量%フッ酸水溶液に浸漬)した。フッ酸から基板を取り出した後に、硬化膜をSi基板から剥離して、これを試験片とした。
測定装置は、ネットワークアナライザHP8510C、シンセサイズドスイーパHP83651AおよびテストセットHP8517B(全てアジレント・テクノロジー社製)を用いた。これら装置と、円筒空洞共振器(内径φ42mm、高さ30mm)とを、セットアップした。
上記共振器内に試験片を挿入した状態と、未挿入状態とで、共振周波数、3dB帯域幅、透過電力比などを、周波数25GHzで測定した。そして、これら測定結果をソフトウェアで解析的に計算することで、誘電率(Dk)および誘電正接(Df)の誘電特性を求めた。なお、測定モードはTE011モードとした。
低圧トランスファー成形機(コータキ精機(株)製「KTS-15」)を用いて、EMMI-1-66に準じたスパイラルフロー測定用の金型に金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で、実施例および比較例で得られた樹脂組成物を注入し、流動長を測定した。
175℃に加熱した熱板上で実施例および比較例の樹脂組成物をそれぞれ溶融後、へらで練りながら硬化するまでの時間(単位:秒)を測定した。
各実施例および比較例について、得られた樹脂組成物について、成形(ASM:as Mold)を行った後の成形収縮率(ASM後)を測定し、当該成形後、本硬化させて誘電体基板を作製することを想定した加熱条件(PMC:Post Mold Cure)で成形収縮率(PMC後)を評価した。
まず、低圧トランスファー成形機(コータキ精機(株)製「KTS-15」)を用いて金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で作製した試験片に対して、JIS K 6911に準じて成形収縮率(ASM後)を得た。
さらに、得られた試験片を175℃で4時間加熱処理し、JIS K 6911に準じて成形収縮率(PMC後)を測定した。
各実施例および比較例について、得られた樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)、線膨張係数(CTE1、CTE2)を、以下のように測定した。まず、低圧トランスファー成形機(コータキ精機(株)製「KTS-15」)を用いて金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒で封止用樹脂組成物を注入成形し、10mm×4mm×4mmの試験片を得た。次いで、得られた試験片を175℃、4時間で後硬化した後、熱機械分析装置(セイコー電子工業(株)製、TMA100)を用いて、測定温度範囲0℃~320℃、昇温速度5℃/分の条件下で測定を行った。この測定結果から、ガラス転移温度(Tg)、ガラス転移温度以下における線膨張係数(CTE1)、ガラス転移温度超過における線膨張係数(CTE2)を算出した。
実施例および比較例の樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製「KTS-30」)を用いて、金型温度130℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間300秒の条件で金型に注入成形した。これにより、幅10mm、厚み4mm、長さ80mmの成形品を得た。次いで、得られた成形品を175℃、4時間の条件で後硬化させた。これにより、機械的強度の評価用の試験片を作製した。そして、試験片の室温(25℃)または260℃における曲げ強度(N/mm2)および曲げ弾性率(N/mm2)を、JIS K 6911に準拠してヘッドスピード5mm/minで、測定した。
実施例および比較例の樹脂組成物の矩形圧を次のように測定した。まず、低圧トランスファー成形機(NEC(株)製、40tマニュアルプレス)を用いて、金型温度175℃、注入速度177mm3/秒の条件にて、幅13mm、厚さ1mm、長さ175mmの矩形状の流路に樹脂組成物を注入した。このとき、流路の上流先端から25mmの位置に埋設した圧力センサーにて圧力の経時変化を測定し、樹脂組成物の流動時における最低圧力(MPa)を測定し、これを矩形圧とした。矩形圧は、溶融粘度のパラメータであり、数値が小さい方が、溶融粘度が低いことを示す。
12 誘電体基板
14 放射導体板
16 地導体板
20、20' マイクロストリップアンテナ
22 誘電体基板
24 高誘電体基板
26 スペーサー
a 空隙部
Claims (23)
- (A)エポキシ樹脂、
(B)硬化剤、および
(C)高誘電率フィラーを含む、熱硬化性樹脂組成物であって、
前記高誘電率フィラー(C)が、当該熱硬化性樹脂組成物の固形分100質量%中、50質量%以上のチタン酸カルシウム粒子、または60質量%以上のチタン酸ストロンチウム粒子を含み、
前記エポキシ樹脂(A)が、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂および/またはビフェニル型エポキシ樹脂を含み、
前記硬化剤(B)が、下記一般式(1)で表される構造を備える活性エステル化合物(B1)、または前記活性エステル化合物(B1)とフェノール系硬化剤(B2)とを含み、
前記フェノール系硬化剤(B2)が、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂および/またはフェノールノボラック樹脂を含み、
下記の手順1に従って測定される、260℃における曲げ弾性率が、50N/mm2以上190N/mm2以下であり、
下記の手順2に従って測定される、矩形圧が、0.2MPa以上8.8MPa以下である、
熱硬化性樹脂組成物。
(手順1)
当該熱硬化性樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度130℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間300秒の条件で金型に注入成形し、幅10mm、厚み4mm、長さ80mmの成形品を得る。
得られた成形品を175℃、4時間の条件で後硬化させ、試験片を作製する。
試験片の260℃における曲げ弾性率(N/mm2)を、JIS K 6911に準拠して測定する。
(手順2)
低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入速度177mm3/秒の条件にて、幅13mm、厚さ1mm、長さ175mmの矩形状の流路に当該熱硬化性樹脂組成物を注入した。このとき、流路の上流先端から25mmの位置に埋設した圧力センサーにて圧力の経時変化を測定し、当該熱硬化性樹脂組成物の流動時における最低圧力(MPa)を測定し、これを矩形圧する。
Bは、下記一般式(B)で表される構造であり、
kは、繰り返し単位の平均値であり、0.25~3.5の範囲である。) - 前記硬化剤(B)が、前記活性エステル化合物(B1)および前記フェノール系硬化剤(B2)を含む、請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- レーザー回折散乱法で測定される前記高誘電率フィラー(C)の体積頻度粒度分布において、累積値が10%となる粒子径をD10、累積値が50%となる粒子径をD50、および累積値が90%となる粒子径をD90としたとき、
D10,D50およびD90が、0.25≦(D90-D10)/D50≦55を満たすように構成される、請求項1または2に記載の熱硬化性樹脂組成物。 - 前記高誘電率フィラー(C)が、前記熱硬化性樹脂組成物の固形分100質量%中、55質量%以上のチタン酸カルシウム粒子を含む、請求項請求項1~3のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 前記高誘電率フィラー(C)以外の無機充填材を含み、前記無機充填材が、シリカおよび/またはアルミナを含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 上記の手順1で得られた試験片を用いてJIS K 6911に準拠して測定される、25℃における曲げ弾性率が、9000N/mm2以上28000N/mm2以下である、請求項1~5のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 上記の手順1で得られた試験片を用いてJIS K 6911に準拠して測定される、25℃における曲げ強度が、40N/mm2以上200N/mm2以下である、請求項1~6のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 上記の手順1で得られた試験片を用いてJIS K 6911に準拠して測定される、260℃における曲げ強度が、0.1N/mm2以上10N/mm2以下である、請求項1~7のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 当該熱硬化性樹脂組成物の硬化物における吸水率が、0.01%以上0.8%以下である、請求項1~8のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 当該熱硬化性樹脂組成物の硬化物における熱伝導率が、1.0W/mK以上5.0W/mK以下である、請求項1~9のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 以下の手順で測定される、銅に対するダイシェア強度が、5N/mm2以上50N/mm2以下である、請求項1~10のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(手順)
低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力10MPa、硬化時間180秒の条件で、当該熱硬化性樹脂組成物を成形して、銅製リードフレーム上に10mm2の試験片を1水準当たり4個成形する。
続いて、自動ダイシェア測定装置を用いて、室温にて試験片と銅製リードフレームとのダイシェア強度を測定する。4個の試験片のダイシェア強度を採用する。 - 当該熱硬化性樹脂組成物の硬化物におけるガラス転移温度が、90℃以上200℃以下である、請求項1~11のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 当該熱硬化性樹脂組成物の硬化物における、ガラス転移温度以下の範囲の線膨張係数CTE1が5ppm以上30ppm以下、およびガラス転移温度超え320℃以下の範囲の線膨張係数CTE2が10ppm以上100ppm以下である、請求項1~12のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- マイクロストリップアンテナ、誘電体導波路、および多層アンテナからなる群から選ばれる高周波デバイスの一部を形成するために用いられる、請求項1~13のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 請求項1~14のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物の硬化物を備える、高周波デバイス。
- (A)エポキシ樹脂と、
(B)硬化剤と、
(C)高誘電率充填剤と、
を含む、熱硬化性樹脂組成物であって、
前記エポキシ樹脂(A)が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、およびナフトールアラルキル型エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも1種を含み、
前記硬化剤(B)が、下記一般式(1)で表される構造を備える活性エステル系硬化剤(B1)、または前記活性エステル系硬化剤(B1)とフェノール系硬化剤(B2)とを含み、
前記高誘電率充填剤(C)が、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、ジルコン酸マグネシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ジルコニウム、チタン酸亜鉛、ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸カルシウム、チタン酸ジルコン酸鉛、ニオブ酸マグネシウム酸バリウム、およびジルコン酸カルシウムから選択される少なくとも1種を含み、
高誘電率充填剤(C)が、当該熱硬化性樹脂組成物100質量%中に60質量%以上含まれる、熱硬化性樹脂組成物。
Bは、下記一般式(B)で表される構造であり、
kは、繰り返し単位の平均値であり、0.25~3.5の範囲である。) - 前記高誘電率充填剤(C)が、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、およびチタン酸マグネシウムから選択される少なくとも1種である、請求項16に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- マイクロストリップアンテナを形成する材料として用いられる、請求項16または17に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 誘電体導波路を形成する材料として用いられる、請求項16または17に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 電磁波吸収体を形成する材料として用いられる、請求項16または17に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 請求項1~14および請求項16~20のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる誘電体基板。
- 請求項21に記載の誘電体基板と,
前記誘電体基板の一方の面に設けられた放射導体板と、
前記誘電体基板の他方の面に設けられた地導体板と、
を備える、マイクロストリップアンテナ。 - 誘電体基板と,
前記誘電体基板の一方の面に設けられた放射導体板と、
前記誘電体基板の他方の面に設けられた地導体板と、
前記放射導体板に対向配置された高誘電体と、
を備える、マイクロストリップアンテナであって、
前記高誘電体が、請求項21に記載の誘電体基板により構成されている、マイクロストリップアンテナ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023135283A JP2023179419A (ja) | 2021-03-25 | 2023-08-23 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
Applications Claiming Priority (15)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021051748 | 2021-03-25 | ||
JP2021051748 | 2021-03-25 | ||
JP2021172197 | 2021-10-21 | ||
JP2021172197 | 2021-10-21 | ||
JP2021197720 | 2021-12-06 | ||
JP2021197679 | 2021-12-06 | ||
JP2021197679 | 2021-12-06 | ||
JP2021197667 | 2021-12-06 | ||
JP2021197731 | 2021-12-06 | ||
JP2021197731 | 2021-12-06 | ||
JP2021197667 | 2021-12-06 | ||
JP2021197669 | 2021-12-06 | ||
JP2021197669 | 2021-12-06 | ||
JP2021197720 | 2021-12-06 | ||
PCT/JP2022/013094 WO2022202792A1 (ja) | 2021-03-25 | 2022-03-22 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023135283A Division JP2023179419A (ja) | 2021-03-25 | 2023-08-23 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2022202792A1 JPWO2022202792A1 (ja) | 2022-09-29 |
JPWO2022202792A5 JPWO2022202792A5 (ja) | 2023-08-29 |
JP7347713B2 true JP7347713B2 (ja) | 2023-09-20 |
Family
ID=83395876
Family Applications (6)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023509187A Active JP7347713B2 (ja) | 2021-03-25 | 2022-03-22 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
JP2023509190A Active JP7351434B2 (ja) | 2021-03-25 | 2022-03-22 | 熱硬化性樹脂組成物、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
JP2023509181A Active JP7396534B2 (ja) | 2021-03-25 | 2022-03-22 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
JP2023135283A Pending JP2023179419A (ja) | 2021-03-25 | 2023-08-23 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
JP2023142704A Pending JP2023164926A (ja) | 2021-03-25 | 2023-09-04 | 熱硬化性樹脂組成物、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
JP2023192059A Pending JP2024014929A (ja) | 2021-03-25 | 2023-11-10 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
Family Applications After (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023509190A Active JP7351434B2 (ja) | 2021-03-25 | 2022-03-22 | 熱硬化性樹脂組成物、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
JP2023509181A Active JP7396534B2 (ja) | 2021-03-25 | 2022-03-22 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
JP2023135283A Pending JP2023179419A (ja) | 2021-03-25 | 2023-08-23 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
JP2023142704A Pending JP2023164926A (ja) | 2021-03-25 | 2023-09-04 | 熱硬化性樹脂組成物、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
JP2023192059A Pending JP2024014929A (ja) | 2021-03-25 | 2023-11-10 | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (6) | JP7347713B2 (ja) |
KR (3) | KR20230160342A (ja) |
TW (3) | TW202248274A (ja) |
WO (3) | WO2022202781A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023145327A1 (ja) * | 2022-01-26 | 2023-08-03 | 株式会社レゾナック | 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、樹脂フィルム、積層板、プリント配線板、アンテナ装置、アンテナモジュール及び通信装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004124066A (ja) | 2002-08-07 | 2004-04-22 | Toray Ind Inc | 高誘電体組成物 |
JP2005038821A (ja) | 2003-04-04 | 2005-02-10 | Toray Ind Inc | ペースト組成物およびこれを用いた誘電体組成物 |
CN103351578A (zh) | 2013-07-19 | 2013-10-16 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种用于形成天线用的介质基板的介质层的树脂组合物及其用途 |
JP2015036410A (ja) | 2013-08-15 | 2015-02-23 | 信越化学工業株式会社 | 高誘電率エポキシ樹脂組成物および半導体装置 |
JP6870778B1 (ja) | 2020-12-11 | 2021-05-12 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 成形用樹脂組成物及び電子部品装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07241853A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-09-19 | Kinugawa Rubber Ind Co Ltd | 誘電加熱成形型 |
JP2004315653A (ja) | 2003-04-16 | 2004-11-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂組成物とその利用 |
JP2008106106A (ja) | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Hitachi Chem Co Ltd | 高誘電率樹脂組成物,プリプレグ及びプリント配線板用積層板 |
TWI506077B (zh) | 2013-12-31 | 2015-11-01 | Taiwan Union Technology Corp | 樹脂組合物及其應用 |
JP2018041998A (ja) | 2015-01-28 | 2018-03-15 | 日本化薬株式会社 | アンテナ、およびアンテナを有する電子装置 |
JP7067576B2 (ja) | 2020-02-21 | 2022-05-16 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
-
2022
- 2022-03-22 WO PCT/JP2022/013057 patent/WO2022202781A1/ja active Application Filing
- 2022-03-22 WO PCT/JP2022/013094 patent/WO2022202792A1/ja active Application Filing
- 2022-03-22 WO PCT/JP2022/013123 patent/WO2022202804A1/ja active Application Filing
- 2022-03-22 KR KR1020237036072A patent/KR20230160342A/ko unknown
- 2022-03-22 JP JP2023509187A patent/JP7347713B2/ja active Active
- 2022-03-22 KR KR1020237036073A patent/KR20230160869A/ko unknown
- 2022-03-22 JP JP2023509190A patent/JP7351434B2/ja active Active
- 2022-03-22 KR KR1020237036074A patent/KR20230161473A/ko unknown
- 2022-03-22 JP JP2023509181A patent/JP7396534B2/ja active Active
- 2022-03-25 TW TW111111407A patent/TW202248274A/zh unknown
- 2022-03-25 TW TW111111406A patent/TW202248273A/zh unknown
- 2022-03-25 TW TW111111405A patent/TW202248340A/zh unknown
-
2023
- 2023-08-23 JP JP2023135283A patent/JP2023179419A/ja active Pending
- 2023-09-04 JP JP2023142704A patent/JP2023164926A/ja active Pending
- 2023-11-10 JP JP2023192059A patent/JP2024014929A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004124066A (ja) | 2002-08-07 | 2004-04-22 | Toray Ind Inc | 高誘電体組成物 |
JP2005038821A (ja) | 2003-04-04 | 2005-02-10 | Toray Ind Inc | ペースト組成物およびこれを用いた誘電体組成物 |
CN103351578A (zh) | 2013-07-19 | 2013-10-16 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种用于形成天线用的介质基板的介质层的树脂组合物及其用途 |
JP2015036410A (ja) | 2013-08-15 | 2015-02-23 | 信越化学工業株式会社 | 高誘電率エポキシ樹脂組成物および半導体装置 |
JP6870778B1 (ja) | 2020-12-11 | 2021-05-12 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 成形用樹脂組成物及び電子部品装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2022202804A1 (ja) | 2022-09-29 |
WO2022202781A1 (ja) | 2022-09-29 |
KR20230160342A (ko) | 2023-11-23 |
JPWO2022202804A1 (ja) | 2022-09-29 |
JP2023164926A (ja) | 2023-11-14 |
TW202248273A (zh) | 2022-12-16 |
TW202248340A (zh) | 2022-12-16 |
JPWO2022202781A1 (ja) | 2022-09-29 |
JP7396534B2 (ja) | 2023-12-12 |
JPWO2022202792A1 (ja) | 2022-09-29 |
KR20230160869A (ko) | 2023-11-24 |
JP7351434B2 (ja) | 2023-09-27 |
WO2022202792A1 (ja) | 2022-09-29 |
JP2023179419A (ja) | 2023-12-19 |
KR20230161473A (ko) | 2023-11-27 |
JP2024014929A (ja) | 2024-02-01 |
TW202248274A (zh) | 2022-12-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5330013B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物および硬化物 | |
WO2011074517A1 (ja) | エポキシ樹脂、その製造方法、それを用いたエポキシ樹脂組成物および硬化物 | |
KR102387998B1 (ko) | 변성 다가 하이드록시 수지, 에폭시 수지, 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물 | |
JP2023179419A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物、高周波デバイス、誘電体基板、およびマイクロストリップアンテナ | |
JP2024026589A (ja) | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP7388160B2 (ja) | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
KR100376776B1 (ko) | 시클로펜틸렌 화합물 및 그 중간체, 에폭시수지 조성물, 성형재료 및 수지씰링형 전자장치 | |
JP5079721B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物および成形物 | |
JP3806222B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
CN116583548A (zh) | 成形用树脂组合物及电子零件装置 | |
KR20220000829A (ko) | 다가 하이드록시 수지, 그 제조 방법, 및 그것을 포함하는 에폭시 수지 조성물, 그리고 에폭시 수지 경화물 | |
JP2024008617A (ja) | 成形用樹脂組成物、誘電体基板およびマイクロストリップアンテナ | |
CN117083345A (zh) | 热固性树脂组合物、高频设备、电介质基板和微带天线 | |
JP2024021200A (ja) | Lds用熱硬化性樹脂組成物およびその用途 | |
JP2024021201A (ja) | Lds用熱硬化性樹脂組成物およびその用途 | |
JP4667753B2 (ja) | エポキシ樹脂の製造方法、エポキシ樹脂組成物及び硬化物 | |
WO2024111461A1 (ja) | 成形用樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP7505661B2 (ja) | 成形用樹脂組成物及び電子部品装置 | |
WO2023238951A1 (ja) | 成形用樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP2008231071A (ja) | 新規多価ヒドロキシ化合物並びにエポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP2023168050A (ja) | 樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP2024015914A (ja) | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP2024055668A (ja) | 成形用樹脂組成物及び電子部品装置 | |
CN116848169A (zh) | 环氧树脂、所述环氧树脂的制造方法、使用所述环氧树脂的环氧树脂组合物及硬化物 | |
JP2022011184A (ja) | 封止用樹脂組成物及び電子部品装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230614 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230614 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20230614 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230808 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230821 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7347713 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |