JP6870778B1 - 成形用樹脂組成物及び電子部品装置 - Google Patents
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Abstract
Description
<1>
エポキシ樹脂と、
硬化剤と、
チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子からなる群より選択される少なくとも一種を含有する無機充填材であって、前記チタン酸カルシウム粒子及び前記チタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率が前記無機充填材全体に対し30体積%以上60体積%未満である無機充填材と、
を含む成形用樹脂組成物。
<2>
前記硬化剤は、活性エステル化合物を含む、<1>に記載の成形用樹脂組成物。
<3>
前記無機充填材は、シリカ粒子及びアルミナ粒子からなる群より選択される少なくとも一種をさらに含有する、<1>又は<2>に記載の成形用樹脂組成物。
<4>
前記無機充填材は、アルミナ粒子を含有する、<3>に記載の成形用樹脂組成物。
<5>
前記無機充填材全体における10GHzでの比誘電率が80以下である、<1>〜<4>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
<6>
前記無機充填材全体の含有率は、成形用樹脂組成物全体に対し40体積%〜85体積%である、<1>〜<5>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
<7>
高周波デバイスに用いられる、<1>〜<6>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
<8>
アンテナ・イン・パッケージに用いられる、<1>〜<7>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
<9>
支持部材と、
前記支持部材上に配置された電子部品と、
前記電子部品を封止している<1>〜<8>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物の硬化物と、
を備える電子部品装置。
<10>
前記電子部品がアンテナを含む<9>に記載の電子部品装置。
本開示において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本発明の一実施形態に係る成形用樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子からなる群より選択される少なくとも一種(以下「特定充填材」ともいう)を含有する無機充填材であって、前記チタン酸カルシウム粒子及び前記チタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率が前記無機充填材全体に対し30体積%以上60体積%未満である無機充填材と、を含む。
これに対して、本実施形態では、特定充填材の合計含有率が無機充填材全体に対し30体積%以上60体積%未満である。そのため、特定充填材の合計含有率が上記範囲より多い場合に比べて、成形用樹脂組成物の流動性が得られ、成形性が良好になると考えられる。
以上の理由により、本実施形態の成形用樹脂組成物では、良好な成形性を有し、成形後の硬化物における高い誘電率と低い誘電正接とを両立できると推測される。
エポキシ樹脂は、分子中にエポキシ基を有するものであればその種類は特に制限されない。
エポキシ樹脂のエポキシ当量は、JIS K 7236:2009に準じた方法で測定される値とする。
エポキシ樹脂の融点又は軟化点は、示差走査熱量測定(DSC)又はJIS K 7234:1986に準じた方法(環球法)で測定される値とする。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、硬化剤を含む。硬化剤の種類は特に制限されない。
エポキシ樹脂とフェノール硬化剤又はアミン硬化剤との反応においては、2級水酸基が発生する。これに対して、エポキシ樹脂と活性エステル化合物との反応においては、2級水酸基のかわりにエステル基が生じる。エステル基は、2級水酸基に比べて極性が低い故、硬化剤として活性エステル化合物を含有する成形用樹脂組成物は、硬化剤として2級水酸基を発生させる硬化剤のみを含有する成形用樹脂組成物に比べて、硬化物の誘電正接を低く抑えることができる。
また、硬化物中の極性基は硬化物の吸水性を高めるところ、硬化剤として活性エステル化合物を用いることによって硬化物の極性基濃度を抑えることができ、硬化物の吸水性を抑制することができる。そして、硬化物の吸水性を抑制すること、つまりは極性分子であるH2Oの含有量を抑制することにより、硬化物の誘電正接をさらに低く抑えることができる。
活性エステル化合物のエステル当量は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
エポキシ樹脂と活性エステル化合物との当量比(エステル基/エポキシ基)は、活性エステル化合物の未反応分を少なく抑える観点からは、1.1以下が好ましく、1.05以下がより好ましく、1.03以下がさらに好ましい。
その他の硬化剤の官能基当量(フェノール硬化剤の場合は水酸基当量)は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
硬化剤の融点又は軟化点は、エポキシ樹脂の融点又は軟化点と同様にして測定される値とする。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、必要に応じて硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤の種類は特に制限されず、エポキシ樹脂又は硬化剤の種類、成形用樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。
硬化促進剤は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、特に好適な硬化促進剤としては、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィンとキノン化合物との付加物、トリブチルホスフィンとキノン化合物との付加物、トリ−p−トリルホスフィンとキノン化合物との付加物等が挙げられる。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、特定充填材(すなわち、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子からなる群より選択される少なくとも一種)を含有する無機充填材を含む。そして、特定充填材の合計含有率が、無機充填材全体に対し30体積%以上60体積%未満である。つまり、無機充填材は、特定充填材と、特定充填材以外のその他の充填材と、を含有する。
特定充填材は、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子のいずれか一方のみを含有してもよく、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の両方を含有してもよい。
特定充填材は、その中でも、チタン酸カルシウム粒子を含有することが好ましい。
なお、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子は、表面処理されたものであってもよい。
成形用樹脂組成物の硬化物の薄片試料を走査型電子顕微鏡(SEM)にて撮像する。SEM画像において任意の面積Sを特定し、面積Sに含まれる無機充填材の総面積Aを求める。次に、SEM−EDX(エネルギー分散型X線分光器)を用い、無機充填材の元素を特定することで、無機充填材の総面積Aの中に含まれる特定充填材の総面積Bを求める。特定充填材の総面積Bを無機充填材の総面積Aで除算した値を百分率(%)に換算し、この値を無機充填材全体に対するチタン酸カルシウム粒子の含有率(体積%)とする。
面積Sは、無機充填材の大きさに対して十分大きい面積とする。例えば、無機充填材が100個以上含まれる大きさとする。面積Sは、複数個の切断面の合計でもよい。
特定充填材の体積平均粒径は、以下のようにして測定することができる。成形用樹脂組成物をるつぼに入れ、800℃で4時間放置し、灰化させる。得られた灰分をSEMで観察し、形状ごと分離し観察画像から粒度分布を求め、その粒度分布から体積平均粒径(D50)として特定充填材の体積平均粒径を求めることができる。
なお、特定充填材は、体積平均粒径の異なる2種以上の充填材の混合物であってもよい。
その他の充填材の種類は、特に制限されない。その他の充填材の材質としては、具体的には、溶融シリカ、結晶シリカ、ガラス、アルミナ、炭酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア、タルク、クレー、マイカ等の無機材料が挙げられる。
その他の充填材として、難燃効果を有する無機充填材を用いてもよい。難燃効果を有する無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛などが挙げられる。
その他の充填材は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
その他の充填材がシリカ粒子及びアルミナ粒子からなる群より選択される少なくとも一種を含有する場合、シリカ粒子及びアルミナ粒子の合計含有率は、無機充填材全体に対し、40体積%〜70体積%であることが好ましく、45体積%〜65体積%であることがより好ましく、50体積%〜60体積%であることがさらに好ましい。
その他の充填材がアルミナ粒子を含有する場合、アルミナ粒子の含有率は、無機充填材全体に対し、40体積%〜70体積%であることが好ましく、45体積%〜65体積%であることがより好ましく、50体積%〜60体積%であることがさらに好ましい。
その他の無機充填材の平均粒径は、成形用樹脂組成物をるつぼに入れて800℃で4時間放置し灰化させる。得られた灰分をSEMで観察し、形状ごと分離し観察画像から粒度分布を求め、その粒度分布から体積平均粒径(D50)としてその他の充填材の体積平均粒径を求めることができる。
なお、その他の充填材は、体積平均粒径の異なる2種以上の充填材の混合物であってもよい。
その他の充填材の形状は、成形用樹脂組成物の流動性向上の観点から、球形であることが好ましい。
成形用樹脂組成物に含まれる無機充填材全体の含有率は、成形用樹脂組成物の硬化物の流動性および強度を制御する観点から、成形用樹脂組成物全体の40体積%〜90体積%であることが好ましく、40体積%〜85体積%であることがより好ましく、45体積%〜85体積%であることがさらに好ましく、50体積%〜82体積%であることが特に好ましく、55体積%〜80体積%であることが極めて好ましい。
成形用樹脂組成物の硬化物の薄片試料を走査型電子顕微鏡(SEM)にて撮像する。SEM画像において任意の面積Sを特定し、面積Sに含まれる無機充填材の総面積Aを求める。無機充填材の総面積Aを面積Sで除算した値を百分率(%)に換算し、この値を成形用樹脂組成物に占める無機充填材の含有率(体積%)とする。
面積Sは、無機充填材の大きさに対して十分大きい面積とする。例えば、無機充填材が100個以上含まれる大きさとする。面積Sは、複数個の切断面の合計でもよい。
無機充填材は、成形用樹脂組成物の硬化時の重力方向において存在割合に偏りが生じることがある。その場合、SEMにて撮像する際、硬化物の重力方向全体を撮像し、硬化物の重力方向全体が含まれる面積Sを特定する。
特定充填材の合計含有率を無機充填材全体に対して30体積%以上60体積%未満とし、かつ、無機充填材全体における誘電率を80以下とする方法としては、例えば、特定充填材として未焼成の特定充填材を用いる方法が挙げられる。ここで、未焼成の特定充填材とは、合成された後に1000℃以上の温度にさらされていない特定充填材をいう。
そのため、特定充填材として焼成された特定充填材を用いつつ無機充填材全体における誘電率を80以下に調整する場合、無機充填材全体に対する特定充填材の合計含有率を低くする。そして、焼成された特定充填材を低い含有率で含有し全体における誘電率が80以下である無機充填材を用いた成形用樹脂組成物においては、高い誘電率を有する硬化物が得られるものの、硬化物における誘電率のムラが生じやすくなる。これに対して、未焼成の特定充填材を30体積%以上60体積%未満の含有率で含有し全体における誘電率が80以下である無機充填材を用いた成形用樹脂組成物においては、高い誘電率を有し、かつ、誘電率の均一性が高い硬化物が得られる。
具体的には、測定対象の無機充填材と特定の硬化性樹脂とを含み、無機充填材の含有率が異なる測定用樹脂組成物3種以上と、前記特定の硬化性樹脂を含み無機充填材を含まない測定用樹脂組成物と、を準備する。測定対象の無機充填材と特定の硬化性樹脂とを含む測定用樹脂組成物としては、例えば、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂と、フェノールアラルキル型フェノール樹脂であるフェノール硬化剤と、有機ホスフィンを含有する硬化促進剤と、測定対象の無機充填材と、を含む測定用樹脂組成物が挙げられる。また、無機充填材の含有量が異なる3種以上の測定用樹脂組成物としては、例えば、測定用樹脂組成物全体に対する無機充填材の含有率が10体積%、20体積%、及び30体積%の測定用樹脂組成物が挙げられる。
準備した各測定用樹脂組成物を、圧縮成形により、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形し、それぞれ測定用硬化物を得る。得られた各測定用硬化物における10GHzでの比誘電率を測定し、無機充填材の含有率を横軸、比誘電率の測定値を縦軸としてプロットしたグラフを作成する。得られたグラフから、最小二乗法により直線近似を行い、無機充填材の含有率が100体積%のときの比誘電率を外挿により求め、「無機充填材全体における誘電率」とする。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、上述の成分に加えて、以下に例示するカップリング剤、イオン交換体、離型剤、難燃剤、着色剤、応力緩和剤等の各種添加剤を含んでもよい。本実施形態における成形用樹脂組成物は、以下に例示する添加剤以外にも必要に応じて当技術分野で周知の各種添加剤を含んでもよい。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、カップリング剤を含んでもよい。樹脂成分と無機充填材との接着性を高める観点からは、成形用樹脂組成物はカップリング剤を含むことが好ましい。カップリング剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、ジシラザン等のシラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート系化合物、アルミニウム/ジルコニウム系化合物などの公知のカップリング剤が挙げられる。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、イオン交換体を含んでもよい。成形用樹脂組成物は、封止される電子部品を備える電子部品装置の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、イオン交換体を含むことが好ましい。イオン交換体は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハイドロタルサイト化合物、並びにマグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、及びビスマスからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の含水酸化物等が挙げられる。イオン交換体は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、下記一般式(A)で表されるハイドロタルサイトが好ましい。
(0<X≦0.5、mは正の数)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、成形時における金型との良好な離型性を得る観点から、離型剤を含んでもよい。離型剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、難燃剤を含んでもよい。難燃剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む有機又は無機の化合物、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、カーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を挙げることができる。着色剤の含有量は、目的等に応じて適宜選択できる。着色剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、応力緩和剤を含んでもよい。応力緩和剤を含むことにより、パッケージの反り変形及びパッケージクラックの発生をより低減させることができる。応力緩和剤としては、一般に使用されている公知の応力緩和剤(可とう剤)が挙げられる。具体的には、シリコーン系、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エラストマー、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子、メタクリル酸メチル−スチレン−ブタジエン共重合体(MBS)、メタクリル酸メチル−シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸ブチル共重合体等のコア−シェル構造を有するゴム粒子などが挙げられる。応力緩和剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
応力緩和剤の中でも、シリコーン系応力緩和剤が好ましい。シリコーン系応力緩和剤としては、エポキシ基を有するもの、アミノ基を有するもの、これらをポリエーテル変性したもの等が挙げられ、エポキシ基を有するシリコーン化合物、ポリエーテル系シリコーン化合物等のシリコーン化合物がより好ましい。
成形用樹脂組成物の調製方法は、特に制限されない。一般的な手法としては、所定の配合量の成分をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。より具体的には、例えば、上述した成分の所定量を攪拌及び混合し、予め70℃〜140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダー等で混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。
本実施形態における成形用樹脂組成物を、圧縮成形により、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形することで得られる硬化物の10GHzでの比誘電率としては、例えば10〜20が挙げられる。前記硬化物の10GHzでの比誘電率は、アンテナ等の電子部品の小型化の観点から11〜18であることが好ましく、12〜17であることがより好ましい。
上記比誘電率の測定は、誘電率測定装置(例えば、アジレント・テクノロジー社、品名「ネットワークアナライザN5227A」)を用いて、温度25±3℃下で行う。
上記誘電正接の測定は、誘電率測定装置(例えば、アジレント・テクノロジー社、品名「ネットワークアナライザN5227A」)を用いて、温度25±3℃下で行う。
175℃におけるゲルタイムの測定は、以下のようにして行う。具体的には、成形用樹脂組成物の試料3gに対し、JSRトレーディング株式会社のキュラストメータを用いた測定を温度175℃で実施し、トルク曲線の立ち上がりまでの時間をゲルタイム(sec)として測定する。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、例えば、後述する電子部品装置、その中でも特に高周波デバイスの製造に適用することができる。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、高周波デバイスにおいて、支持部材上に配置されたアンテナを成形用樹脂組成物で封止したアンテナ・イン・パッケージ(AiP)用途に特に好適である。
本開示の一実施形態である電子部品装置は、支持部材と、前記支持部材上に配置された電子部品と、前記電子部品を封止している前述の成形用樹脂組成物の硬化物と、を備える。
電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ、有機基板等の支持部材に、電子部品(半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子、アンテナなど)を搭載して得られた電子部品領域を成形用樹脂組成物で封止したもの(例えば高周波デバイス)が挙げられる。
上記電子部品は、アンテナを含んでもよく、アンテナ及びアンテナ以外の素子を含んでもよい。上記アンテナは、アンテナの役割を果たすものであれば限定されるものではなく、アンテナ素子であってもよく、配線であってもよい。
本実施形態に係る電子部品装置の製造方法は、電子部品を支持部材上に配置する工程と、前記電子部品を前述の成形用樹脂組成物で封止する工程と、を含む。
上記各工程を実施する方法は特に制限されず、一般的な手法により行うことができる。また、電子部品装置の製造に使用する支持部材及び電子部品の種類は特に制限されず、電子部品装置の製造に一般的に用いられる支持部材及び電子部品を使用できる。
下記に示す成分を表1〜表3に示す配合割合(質量部)で混合し、実施例と比較例の成形用樹脂組成物を調製した。この成形用樹脂組成物は、常温常圧下において固体であった。
なお、表中、空欄はその成分を含まないことを意味する。
また、成形用樹脂組成物全体に対する無機充填材の含有率(表中の「全含有率(体積%)」)、成形用樹脂組成物全体に対する特定充填材の合計含有率(表中の「特定含率(体積%)」)、用いた無機充填材全体に対する特定充填材の合計含有率(表中の「特定割合(体積%)」)、無機充填材全体における10GHzでの比誘電率(表中の「全充填材誘電率」)も併せて表に示す。
・エポキシ樹脂2:ビフェニル型エポキシ樹脂、エポキシ当量192g/eq
(三菱ケミカル株式会社、品名「YX―4000」)
・エポキシ樹脂3:o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量200
g/eq(DIC株式会社製「N500P」)
・エポキシ樹脂4:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、エポキシ当量274g/eq(日本化薬株式会社、品名「NC−3000」)
・硬化剤2:フェノール硬化剤、フェノールアラルキル樹脂、水酸基当量205g/eq(明和化成株式会社、品名「MEH7851シリーズ」)
・無機充填材2:チタン酸カルシウム粒子、未焼成の特定充填材、体積平均粒径:0.2μm、形状:多面体
・無機充填材3:チタン酸ストロンチウム粒子、未焼成の特定充填材、体積平均粒径:5μm、形状:多面体
・無機充填材4:チタン酸バリウム粒子、未焼成の特定充填材、体積平均粒径:6.6μm、形状:球状
・無機充填材5:アルミナ粒子、その他の充填材、体積平均粒径:5.7μm、形状:球状
・無機充填材6:アルミナ粒子、その他の充填材、体積平均粒径:0.7μm、形状:球状
・無機充填材7:シリカ粒子、その他の充填材、体積平均粒径:31μm、形状:球状
・無機充填材8:シリカ粒子、その他の充填材、体積平均粒径:6.6μm、形状:球状
・無機充填材9:シリカ粒子、その他の充填材、体積平均粒径:0.5μm、形状:球状
・カップリング剤:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社、品名「KBM−573」)
・離型剤:モンタン酸エステルワックス(クラリアントジャパン株式会社、
品名「HW−E」)
・応力緩和剤:ポリエーテル系シリコーン化合物(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、品名「SIM768E」)
・着色剤:カーボンブラック(三菱ケミカル株式会社、品名「MA600」)
具体的には、まず、分散媒(水)に、無機充填材を0.01質量%〜0.1質量%の範囲で添加し、バス式の超音波洗浄機で5分間分散した。
得られた分散液5mlをセルに注入し、25℃で、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(株式会社堀場製作所、LA920)にて粒度分布を測定した。
得られた粒度分布における積算値50%(体積基準)での粒径を体積平均粒径とした。
(比誘電率及び誘電正接)
成形用樹脂組成物を真空ハンドプレス機に仕込み、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形し、後硬化を175℃で6時間行い、板状の硬化物(縦12.5mm、横25mm、厚さ0.2mm)を得た。この板状の硬化物を試験片として、誘電率測定装置(アジレント・テクノロジー社、品名「ネットワークアナライザN5227A」)を用いて、温度25±3℃下、10GHzでの比誘電率と誘電正接を測定した。結果を表(表中の「比誘電率」及び「誘電正接」)に示す。
EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、成形用樹脂組成物を金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で成形し、流動距離(cm)を求めた。結果を表(表中の「流動距離(cm)」)に示す。
成形用樹脂組成物3gに対し、JSRトレーディング株式会社のキュラストメータを用いた測定を温度175℃で実施し、トルク曲線の立ち上がりまでの時間をゲルタイム(秒)とした。結果を表(表中の「ゲルタイム(秒)」)に示す。
以下のようにして、成形性の評価をした。
具体的には、成形用樹脂組成物を、アピックヤマダプレス(G−Lineプレス)を用いて180℃、6.9MPa、90sの条件で厚さ0.5mmの成形物を作製した。得られた成形物について目視でフローマークを確認した。評価基準は以下のとおりである。結果を表に示す。
A:目視で確認できるフローマークなし
B:エアベントから成形物の1/3未満の領域でわずかな濃淡が確認できるフローマークが発生
C:エアベントから成形物の1/3未満の領域にフローマークが発生
D:エアベントから成形物の1/3以上の領域にまでフローマークが発生
Claims (11)
- エポキシ樹脂と、
硬化剤と、
チタン酸カルシウム粒子を含有する無機充填材であって、前記チタン酸カルシウム粒子の含有率が前記無機充填材全体に対し30体積%以上60体積%未満であり、かつ前記チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率が前記無機充填材全体に対し30体積%以上60体積%未満である無機充填材と、
を含み、
前記無機充填材は、シリカ粒子及びアルミナ粒子からなる群より選択される少なくとも一種をさらに含有し、高周波デバイスにおける電子部品の封止に用いられる成形用樹脂組成物。 - エポキシ樹脂と、
活性エステル化合物を含む硬化剤と、
チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子からなる群より選択される少なくとも一種を含有する無機充填材であって、前記チタン酸カルシウム粒子及び前記チタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率が前記無機充填材全体に対し30体積%以上60体積%未満である無機充填材と、
を含む成形用樹脂組成物。 - 高周波デバイスに用いられる、請求項2に記載の成形用樹脂組成物。
- 前記硬化剤は、活性エステル化合物を含む、請求項1に記載の成形用樹脂組成物。
- 前記無機充填材は、シリカ粒子及びアルミナ粒子からなる群より選択される少なくとも一種をさらに含有する、請求項2又は請求項3に記載の成形用樹脂組成物。
- 前記無機充填材は、アルミナ粒子を含有する、請求項1又は請求項5に記載の成形用樹脂組成物。
- 前記無機充填材全体における10GHzでの比誘電率が80以下である、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の成形用樹脂組成物。
- 前記無機充填材全体の含有率は、成形用樹脂組成物全体に対し40体積%〜85体積%である、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の成形用樹脂組成物。
- アンテナ・イン・パッケージに用いられる、請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の成形用樹脂組成物。
- 支持部材と、
前記支持部材上に配置された電子部品と、
前記電子部品を封止している請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の成形用樹脂組成物の硬化物と、
を備える電子部品装置。 - 前記電子部品がアンテナを含む請求項10に記載の電子部品装置。
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