JP7338897B2 - 改質固体電解質膜を製造する方法 - Google Patents
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Description
本発明は、リチウム電池材料の技術分野に関し、特に改質固体電解質膜及びその製造方法並びにリチウム電池に関する。
前記固体電解質層は、NASICON型固体電解質材料によって構成され、粒子径は1μm未満であり、具体的には、Li1+xAxB2-x(PO4)3であり、式中、xは0~0.6であり、AはAl、Y、Ga、Cr、In、Fe、Se又はLaのうちの1種又は複数であり、BはTi、Ge、Ta、Zr、Sn、Fe、V又はハフニウム元素Hfのうちの1種又は複数であり、
前記固体電解質膜を化成した後、そのX線光電子分光は685eV~690eVにおいて1つのピークを有する。
分散剤、バインダー及び溶媒を所望の割合で予備撹拌槽に添加し、完全に溶解して第1の混合物を得ることと、
所望の割合で固体電解質粉末を前記第1の混合物に徐々に添加して撹拌分散を行い、撹拌速度は10~50rpmであり、分散速度は1000~5000rpmであり、均一に撹拌した後に篩いをかけてコーティングスラリーを得ることであって、前記固体電解質粉体はNASICON型固体電解質材料であり、粒子径は1μm未満であり、具体的には、Li1+xAxB2-x(PO4)3であり、式中、xは0~0.6であり、AはAl、Y、Ga、Cr、In、Fe、Se又はLaのうちの1種又は複数であり、BはTi、Ge、Ta、Zr、Sn、Fe、V又はハフニウム元素Hfのうちの1種又は複数であることと、
前記コーティングスラリーを1m/min~100m/minの速度でベースフィルムの片面又は両面に塗布し、20℃~100℃で乾燥した後、改質固体電解質膜を得ることであって、前記ベースフィルムは、ポリオレフィン微多孔膜、織布フィルム、不織布フィルム、複合フィルム、ラミネートフィルム、アルミナセラミックセパレータ、セラミックファイバーフィルム、PVDF-HFP複合多孔質重合体セパレータ、PVDF及びその共重合体多孔質セパレータ、複合型ナノファイバーフィルム、PEO-リチウム塩複合リチウムイオン導電性フィルム又はPMMA複合セパレータのいずれかを含むことと、を含む。
溶媒が水である場合、バインダーは、スチレン-ブタジエンラテックス、スチレン-アクリルラテックス、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリメタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル、ヒドロキシエチルセルロース、メチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリアクリルアミドの1種又は複数の混合物であり、分散剤は、ポリアクリル酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ポリアクリル酸、臭化セチルトリメチルアンモニウム、ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸カリウム、オクチルフェノールポリオキシエチレン又はスルホン酸フッ素分散剤のうちの1種又は複数であり、
溶媒がN-メチルピロリドン又はN,N-ジメチルホルムアミド、アセトン又はアセトニトリルのうちの少なくとも1種である場合、バインダーは、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン-ヘキサフルオロプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリルのうちの1種又は複数であり、分散剤は、ステアリン酸モノグリセリド、トリステアリン酸グリセリド、オレアミド、エチレンビスステアリン酸アミドのうちの1種又は複数である。
溶媒は、水、N-メチルピロリドン又はN,N-ジメチルホルムアミド、アセトン及びアセトニトリルのうちの少なくとも1種であり、
溶媒が水である場合、バインダーは、スチレン-ブタジエンラテックス、スチレン-アクリルラテックス、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリメタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル、ヒドロキシエチルセルロース、メチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリアクリルアミドの1種又は複数の混合物であり、分散剤は、ポリアクリル酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ポリアクリル酸、臭化セチルトリメチルアンモニウム、ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸カリウム、オクチルフェノールポリオキシエチレン又はスルホン酸フッ素分散剤のうちの1種又は複数であり、
溶媒がN-メチルピロリドン又はN,N-ジメチルホルムアミド、アセトン又はアセトニトリルのうちの少なくとも1種である場合、バインダーは、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン-ヘキサフルオロプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリルのうちの1種又は複数であり、分散剤は、ステアリン酸モノグリセリド、トリステアリン酸グリセリド、オレアミド、エチレンビスステアリン酸アミドのうちの1種又は複数である。
固体電解質粉体はNASICON型固体電解質材料であり、粒子径は1μm未満であり、形状は球状又は不規則多辺形である。固体電解質粉体として、好ましくは、Li1+xAxB2-x(PO4)3であり、式中、xが0~0.6であり、AがAl、Y、Ga、Cr、In、Fe、Se又はLaのうちの1種又は複数であり、BがTi、Ge、Ta、Zr、Sn、Fe、V又はハフニウム元素Hfのうちの1種又は複数であり、
好ましい実施形態では、固体電解質材料の粒子径が500nm未満であり、形状が球形又は不規則多辺形であり、Li1+xAxB2-x(PO4)3におけるxが0.2~0.6である。さらに好ましい実施形態では、固体電解質材料の粒子径が200nm未満であり、Li1+xAxB2-x(PO4)3におけるxが0.3~0.5である。
ベースフィルムは、ポリオレフィン微多孔膜、織布フィルム、不織布フィルム、複合フィルム、ラミネートフィルム、アルミナセラミックセパレータ、セラミックファイバーフィルム、PVDF-HFP複合多孔質重合体セパレータ、PVDF及びその共重合体多孔質セパレータ、複合型ナノファイバーフィルム、PEO-リチウム塩複合リチウムイオン導電性フィルム又はPMMA複合セパレータのいずれかを含む。
本実施例は、ベースフィルムと、ベースフィルムの片側に塗布されたコーティングスラリーからなる固体電解質層とを含む改質固体電解質膜を提供する。ベースフィルムはポリプロピレン多孔質フィルムであり、厚さは10μmであり、片面塗布方式で厚さ3μmに塗布し、固体電解質層を形成するためのコーティングスラリーは、質量比で、組成物20%、脱イオン水80%である。そのうち、組成物は、質量比で、ナノ固体電解質として粒子径D50が200nmであるリン酸チタンアルミニウムリチウムLi1.5Al0.5Ti1.5(PO4)3粉体97%、バインダーとしてカルボキシメチルセルロースナトリウム1%、スチレン-ブタジエンラテックス1%、分散剤としてポリアクリル酸ナトリウム1%、オクチルフェノールポリオキシエチレン1%によって製造される。
(1)バインダーとしてカルボキシメチルセルロースナトリウム、バインダーとしてスチレン-ブタジエンラテックス、分散剤としてポリアクリル酸ナトリウム、オクチルフェノールポリオキシエチレン及び脱イオン水を、前記割合で予備撹拌槽に添加し、完全に溶解して混合物Iを得るステップ、
(2)ナノスケール固体電解質としてリン酸チタンアルミニウムリチウム粉体を混合物Iに徐々に添加し、撹拌分散を行い、撹拌回転数は50rpmであり、分散回転数は3000rpmであり、混合物IIを得るステップ、
(3)前記混合物IIを400メッシュの篩いで濾過してコーティングスラリーを得るステップ、
(4)前記コーディングスラリーをベースフィルムの片面に塗布し、塗布速度が5m/minであり、50℃で乾燥し、乾燥した後に改質固体電解質膜を得るステップを含む。
本実施例は、ベースフィルムと、ベースフィルムの片面に塗布されたスラリーからなる固体電解質層とを含む改質固体電解質膜を提供する。ベースフィルムはポリプロピレン多孔質フィルムであり、厚さは12μmであり、片面塗布方式で厚さ4μmに塗布し、固体電解質層を形成するためのコーティングスラリーは、質量比で、組成物20%、N-メチルピロリドン80%である。そのうち、組成物は、質量比で、ナノ固体電解質として粒子径D50が200nmであるリン酸チタンアルミニウムリチウムLi1.5Al0.5Ti1.5(PO4)3粉体96%、バインダーとしてポリフッ化ビニリデン2%、分散剤としてステアリン酸グリセリル2%によって製造される。
本実施例は、ベースフィルムと、ベースフィルムの片側に塗布された塗布スラリーからなる固体電解質層とを含む改質固体電解質膜を提供する。ベースフィルムはポリプロピレン多孔質フィルムであり、厚さは7μmであり、片面塗布方式で厚さ2μmに塗布し、固体電解質層を形成するためのコーティングスラリーは、質量比で、組成物20%、脱イオン水80%である。そのうち、組成物は、質量比で、ナノ固体電解質として粒子径D50が200nmであるリン酸チタンアルミニウムリチウムLi1.2Al0.2Ti1.8(PO4)3粉体97%、バインダーとしてカルボキシメチルセルロースナトリウム1%、スチレン-ブタジエンラテックス1%、分散剤としてポリエチレングリコール0.3%、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.7%によって製造される。
本比較例では、片面にアルミナをコーティングしたポリプロピレン多孔質フィルムを用い、ベースフィルムの厚さは10μmであり、アルミナコート層は3μmである。
[付記1]
ベースフィルムと固体電解質層とを含む改質固体電解質膜であって、前記固体電解質層は、前記ベースフィルム上に塗布された、又は前記ベースフィルム上に塗布され、ベースフィルムに浸透したコーティングスラリーによって構成され、前記ベースフィルム上に塗布されたコーティング層と前記ベースフィルムとの厚さの比は、10:1~1:10であり、前記コーティング層の厚さは1μm~10μmであり、緻密度は50%~100%であり、
前記固体電解質層は、NASICON型固体電解質材料によって構成され、粒子径は1μm未満であり、具体的には、Li1+xAxB2-x(PO4)3であり、式中、xは0~0.6であり、AはAl、Y、Ga、Cr、In、Fe、Se又はLaのうちの1種又は複数であり、BはTi、Ge、Ta、Zr、Sn、Fe、V又はハフニウム元素Hfのうちの1種又は複数であり、
前記固体電解質膜が化成した後、そのX線光電子分光は685eV~690eVにおいて1つのピークを有することを特徴とする改質固体電解質膜。
前記ベースフィルムは、ポリオレフィン微多孔膜、織布フィルム、不織布フィルム、複合フィルム、ラミネートフィルム、アルミナセラミックセパレータ、セラミックファイバーフィルム、ポリフッ化ビニリデン-ヘキサフルオロプロピレンPVDF-HFP複合多孔質重合体セパレータ、PVDF及びその共重合体多孔質セパレータ、複合型ナノファイバーフィルム、ポリエチレンオキシドPEO-リチウム塩複合リチウムイオン導電性フィルム又はポリメチルメタクリレートPMMA複合セパレータのいずれかを含むことを特徴とする付記1に記載の改質固体電解質膜。
前記コーティング層とベースフィルムの厚さの比は、10:1~1:5であり、前記コーティング層の緻密度は、60%~99%であることを特徴とする付記1に記載の改質固体電解質膜。
前記コーティング層とベースフィルムとの厚さの比は、5:1~1:5であり、前記コーティング層の緻密度は、65%~98%であることを特徴とする付記1に記載の改質固体電解質膜。
前記固体電解質材料の粒子径は500nm未満であり、形状は球形又は不規則多辺形であり、前記xは0.2~0.6であることを特徴とする付記1に記載の改質固体電解質膜。
前記固体電解質材料の粒子径は200nm未満であり、前記xは0.3~0.5であることを特徴とする付記5に記載の改質固体電解質膜。
分散剤、バインダー及び溶媒を所望の割合で予備撹拌槽に添加し、完全に溶解して第1の混合物を得ることと、
所望の割合で固体電解質粉末を前記第1の混合物に徐々に添加して撹拌分散を行い、撹拌速度は10~50rpmであり、分散速度は1000~5000rpmであり、均一に撹拌した後に篩いをかけてコーティングスラリーを得ることであって、前記固体電解質粉体はNASICON型固体電解質材料であり、粒子径は1μm未満であり、具体的には、Li1+xAxB2-x(PO4)3であり、式中、xは0~0.6であり、AはAl、Y、Ga、Cr、In、Fe、Se又はLaのうちの1種又は複数であり、BはTi、Ge、Ta、Zr、Sn、Fe、V又はハフニウム元素Hfのうちの1種又は複数であることと、
前記コーティングスラリーを1m/min~100m/minの速度でベースフィルムの片面又は両面に塗布し、20℃~100℃で乾燥した後、改質固体電解質膜を得ることであって、前記ベースフィルムは、ポリオレフィン微多孔膜、織布フィルム、不織布フィルム、複合フィルム、ラミネートフィルム、アルミナセラミックセパレータ、セラミックファイバーフィルム、PVDF-HFP複合多孔質重合体セパレータ、PVDF及びその共重合体多孔質セパレータ、複合型ナノファイバーフィルム、PEO-リチウム塩複合リチウムイオン導電性フィルム又はPMMA複合セパレータのいずれかを含むことと、
を含むことを特徴とする付記1~6のいずれか1つに記載の改質固体電解質膜を製造する方法。
前記溶媒は、水、N-メチルピロリドン又はN,N-ジメチルホルムアミド、アセトン及びアセトニトリルのうちの少なくとも1種であり、
溶媒が水である場合、バインダーは、スチレン-ブタジエンラテックス、スチレン-アクリルラテックス、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリメタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル、ヒドロキシエチルセルロース、メチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリアクリルアミドの1種又は複数の混合物であり、分散剤は、ポリアクリル酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ポリアクリル酸、臭化セチルトリメチルアンモニウム、ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸カリウム、オクチルフェノールポリオキシエチレン又はスルホン酸フッ素分散剤のうちの1種又は複数であり、
溶媒がN-メチルピロリドン又はN,N-ジメチルホルムアミド、アセトン又はアセトニトリルのうちの少なくとも1種である場合、バインダーは、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン-ヘキサフルオロプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリルのうちの1種又は複数であり、分散剤は、ステアリン酸モノグリセリド、トリステアリン酸グリセリド、オレアミド、エチレンビスステアリン酸アミドのうちの1種又は複数であることを特徴とする付記7に記載の改質固体電解質膜を製造する方法。
付記1~6のいずれか1つに記載の改質固体電解質膜を含むリチウム電池。
Claims (5)
- ベースフィルムと固体電解質層とを含む改質固体電解質膜であって、前記固体電解質層は、前記ベースフィルム上に塗布された、又は前記ベースフィルム上に塗布され、ベースフィルムに浸透したコーティングスラリーによって構成され、前記ベースフィルム上に塗布されたコーティング層と前記ベースフィルムとの厚さの比は、10:1~1:10であり、前記コーティング層の厚さは1μm~10μmであり、
前記固体電解質層は、NASICON型固体電解質材料によって構成され、具体的には、Li1+xAxB2-x(PO4)3であり、式中、xは0~0.6であり、AはAl、Y、Ga、Cr、In、Fe、Se又はLaのうちの1種又は複数であり、BはTi、Ge、Ta、Zr、Sn、Fe、V又はハフニウム元素Hfのうちの1種又は複数である改質固体電解質膜を製造する方法であって、
分散剤、バインダー及び溶媒を所望の割合で予備撹拌槽に添加し、完全に溶解して第1の混合物を得ることと、
所望の割合で固体電解質粉末を前記第1の混合物に徐々に添加して撹拌分散を行い、撹拌速度は10~50rpmであり、分散速度は1000~5000rpmであり、均一に撹拌した後に篩いをかけてコーティングスラリーを得ることであって、前記固体電解質粉体はNASICON型固体電解質材料であり、具体的には、Li 1+x A x B 2-x (PO 4 ) 3 であり、式中、xは0~0.6であり、AはAl、Y、Ga、Cr、In、Fe、Se又はLaのうちの1種又は複数であり、BはTi、Ge、Ta、Zr、Sn、Fe、V又はハフニウム元素Hfのうちの1種又は複数であることと、
前記コーティングスラリーを1m/min~100m/minの速度でベースフィルムの片面又は両面に塗布し、20℃~100℃で乾燥した後、改質固体電解質膜を得ることであって、前記ベースフィルムは、ポリオレフィン微多孔膜、織布フィルム、不織布フィルム、複合フィルム、ラミネートフィルム、アルミナセラミックセパレータ、セラミックファイバーフィルム、PVDF-HFP複合多孔質重合体セパレータ、PVDF及びその共重合体多孔質セパレータ、複合型ナノファイバーフィルム、PEO-リチウム塩複合リチウムイオン導電性フィルム又はPMMA複合セパレータのいずれかを含むことと、
を含み、
前記溶媒は、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトン及びアセトニトリルのうちの少なくとも1種であり、
バインダーは、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン-ヘキサフルオロプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリルのうちの1種又は複数であり、分散剤は、ステアリン酸モノグリセリド、トリステアリン酸グリセリド、オレアミド、エチレンビスステアリン酸アミドのうちの1種又は複数であることを特徴とする改質固体電解質膜を製造する方法。 - 前記コーティング層とベースフィルムの厚さの比は、10:1~1:5であることを特徴とする請求項1に記載の改質固体電解質膜を製造する方法。
- 前記コーティング層とベースフィルムとの厚さの比は、5:1~1:5であることを特徴とする請求項1に記載の改質固体電解質膜を製造する方法。
- 前記固体電解質材料の形状は球形又は不規則多辺形であり、前記xは0.2~0.6であることを特徴とする請求項1に記載の改質固体電解質膜を製造する方法。
- 前記xは0.3~0.5であることを特徴とする請求項4に記載の改質固体電解質膜を製造する方法。
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