JP7287599B2 - 光学積層体およびこれを含むフレキシブルディスプレイ装置 - Google Patents

光学積層体およびこれを含むフレキシブルディスプレイ装置 Download PDF

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Description

関連出願との相互参照
本出願は、2019年9月25日付の韓国特許出願第10-2019-0118347号および2020年8月3日付の韓国特許出願第10-2020-0096970号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。
本発明は、フレキシブルディスプレイ装置用光学積層体およびこれを含むフレキシブルディスプレイ装置に関する。
最近、スマートフォン、タブレットPCのようなモバイル機器の発展に伴ってディスプレイ用基材の薄膜化およびスリム化が要求されている。このようなモバイル機器のディスプレイ用ウィンドウまたは前面板には機械的特性に優れた素材としてガラスまたは強化ガラスが一般に用いられている。しかし、ガラスおよび強化ガラスは自重が重くてモバイル機器の高重量化をもたらし、また、外部衝撃によって破損が生じやすい問題があり、柔軟性が低くてフレキシブルまたはフォルダブルディスプレイ機器に適用するには限界があった。
このようなガラスを代替するための素材としてプラスチック樹脂が研究されている。プラスチック樹脂は、軽量でありながらも壊れる恐れが少なく、柔軟性を有し、モバイル機器の軽量化および柔軟化により好適である。代表的に、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアクリレート(PAR)、ポリカーボネート(PC)、ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)などが使用されているが、これらのプラスチック樹脂を用いた基板の場合、硬度および耐スクラッチ性がガラス素材に比べて不十分である問題がある。これによって、プラスチック樹脂基板に樹脂組成物をコーティングしてハードコート層を形成することによって、高硬度および耐摩耗性を補完しようとする方法が試みられている。
一例として、フォルダブル用ディスプレイ基材に対するハードコート用として主にUV硬化可能な硬化性樹脂が使用されている。しかし、従来の硬化性樹脂は、硬化時の収縮率が高く、その結果、カール(curl)がひどく発生するため、薄いコーティングで行われなければならず、これによって耐衝撃性が低いという限界があった。
本発明は、高硬度および耐スクラッチ性が向上して強化ガラスカバーウィンドウを代替できながらも、タフネス(Toughness)が向上して耐衝撃性に優れ、かつ、繰り返しの曲げや折り畳み動作によってもフィルムの損傷がほとんどなくて、ベンダブル、フレキシブル、ローラブル、またはフォルダブルモバイル機器、またはディスプレイ機器などに容易に適用可能なフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体を提供する。
また、本発明は、前記光学積層体を含むフレキシブルディスプレイ装置を提供する。
本明細書では、支持基材層;および前記支持基材層の少なくとも一面に位置し、厚さが10μm~250μmであるハードコート層;を含み、前記ハードコート層は、エポキシ基含有官能基を含む繰り返し単位を70モル%以上含むポリシロキサン;およびポリカプロラクトンポリオールを含む弾性重合体を含み、前記ポリシロキサンは、数平均分子量が3,000超過10,000未満であり、分子量分布(PDI;Polydispersity Index)が1.0以上5.0未満であるフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体を提供する。
また、本明細書では、前記フレキシブルディスプレイ装置用光学積層体を含むフレキシブルディスプレイ装置を提供する。
以下、発明の具体的な実施形態による光学積層体およびこれを含むフレキシブルディスプレイ装置に関してより詳細に説明する。
本明細書において、「フレキシブル(flexible)」とは、直径が5mmの円筒形マンドレル(mandrel)に巻いた時、長さ3mm以上のクラック(crack)が発生しない程度の柔軟性を有する状態を意味し、よって、前記光学積層体は、ベンダブル(bendable)、フレキシブル(flexible)、ローラブル(rollable)、またはフォルダブル(foldable)ディスプレイのカバーフィルムなどに適用可能である。
また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートまたはメタクリレートをすべて含む意味である。
また、本明細書において、硬化は、光硬化または熱硬化をすべて含む意味である。
また、本明細書において、重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)は、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)法によって測定したポリスチレン換算の分子量(単位:Da(Dalton))を意味する。前記GPC法によって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量を測定する過程では、通常知られた分析装置と示差屈折検出器(Refractive Index Detector)などの検出器および分析用カラムを用いることができ、通常適用される温度条件、溶媒、flow rateを適用することができる。前記測定条件の具体例として、30℃の温度、クロロホルム溶媒(Chloroform)および1mL/minのflow rateが挙げられる。
さらに、本明細書において、「置換もしくは非置換の」という用語は、重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;イミド基;アミノ基;ホスフィンオキシド基;アルコキシ基;アリールオキシ基;アルキルチオキシ基;アリールチオキシ基;アルキルスルホキシ基;アリールスルホキシ基;シリル基;ホウ素基;アルキル基;シクロアルキル基;アルケニル基;アリール基;アルアルキル基;アルアルケニル基;アルキルアリール基;アルキルアミン基;アラルキルアミン基;ヘテロアリールアミン基;アリールアミン基;アリールホスフィン基;またはN、OおよびS原子のうちの1個以上を含むヘテロ環基からなる群より選択された1個以上の置換基で置換もしくは非置換であるか、前記例示された置換基のうちの2以上の置換基が連結された置換もしくは非置換であることを意味する。例えば、「2以上の置換基が連結された置換基」は、ビフェニル基であってもよい。つまり、ビフェニル基は、アリール基であってもよく、2個のフェニル基が連結された置換基と解釈されてもよい。
発明の一実施形態によれば、支持基材層;および前記支持基材層の少なくとも一面に位置し、厚さが10μm~250μmであるハードコート層;を含み、前記ハードコート層は、エポキシ基含有官能基を含む繰り返し単位を70モル%以上含むポリシロキサン;およびポリカプロラクトンポリオールを含む弾性重合体を含み、前記ポリシロキサンは、数平均分子量が3,000超過10,000未満であり、分子量分布(PDI;polydispersity Index)が1.0以上5.0未満である、フレキシブルディスプレイ装置用光学積層体が提供できる。
本発明者らは、フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウに適用可能な光学積層体に関する研究を行い、2層以上の多層構造を有する光学積層体のハードコート層が、数平均分子量が3,000超過10,000未満であり、分子量分布(PDI;polydispersity Index)が1.0以上5.0未満であるポリシロキサンと、ポリカプロラクトンポリオールを含む弾性重合体を含む場合、高い硬度を示しながらも、タフネス(Toughness)を向上させて優れた強度と耐衝撃性を示し得るという点を確認し、また、繰り返しの曲げや折り畳み動作によってもフィルムの損傷がほとんどなくて、ベンダブル、フレキシブル、ローラブル、またはフォルダブルモバイル機器、またはディスプレイ機器などのカバーウィンドウに容易に適用可能であるという点を確認して、発明を完成した。
具体的には、前記ポリシロキサンは、製造に際して、反応温度、触媒の量、溶媒の種類などを利用した反応速度の調節により数平均分子量、分子量分布(PDI)、重量平均分子量などが調節できるが、前記ポリシロキサンは、数平均分子量(Mn)が3,000超過10,000未満、3,000超過8,000未満、3,000超過5,000未満、3,100~4,700、または3,200~4,500であってもよい。前記数平均分子量が3,000以下であれば、硬化密度が部分的に増加して、硬化物のハードコート層が硬すぎてつぶれやすいことがあり、10,000以上であれば、分子の流動性の低下に伴って硬化効率が低くなり、ハードコート層の硬度を低下させることがある。さらに、未硬化の部分が残留してハードコート層の光学特性が低下することがある。
また、前記ポリシロキサンは、分子量分布(PDI)が1.0以上5.0未満、1.5~4.5、または2.0~4.0であってもよい。前記ポリシロキサンは、分子量分布が5.0以上であれば、重合時、高分子分子量の制御が難しく、樹脂の流れ性が良くなくて他の添加剤との混用性が低下することがある。
さらに、上述したポリシロキサンは、3,000~250,000g/mol、4,000~230,000g/mol、または5,000~200,000g/molの重量平均分子量を有するものであってもよい。前記範囲の重量平均分子量を有することで、より優れた硬度特性を示すことができる。もし、重量平均分子量が3,000g/mol未満であれば、高硬度が実現されずにむしろ延性が発現する恐れがあり、250,000g/molを超えると、高硬度を示すが、フィルム加工性が低下する恐れがある。一方、前記ポリシロキサンの重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算値である。
前記一実施形態による光学積層体は、下記式1で計算された衝撃吸収率が-4%以下、-5%以下、-6%以下、または-7%以下であってもよい。前記光学積層体の衝撃吸収率が-4%を超えると、タフネス(Toughness)、つまり、靭性が低下して光学積層体の強度および耐衝撃性が劣位になりうる。
[式1]
衝撃吸収率=(A-A/A)×100
上記式1中、Aは、衝撃力測定センサ上に重量22gのボール(ball)を100mmの高さから落下させた時の、前記衝撃力測定センサで測定された衝撃力(N)であり、Aは、衝撃力測定センサ上に前記光学積層体を位置させ、前記光学積層体のハードコート層に対して重量22gのボールを100mmの高さから落下させた時の、前記衝撃力測定センサで測定された衝撃力(N)である。
具体的には、Aは対照群であって、衝撃力測定センサに光学積層体を位置させず、衝撃力測定センサ自体の上に重量22gのボール(ball)を100mmの高さから落下させた時の、前記衝撃力測定センサで測定された衝撃力(N)を意味する。
一方、Aは、衝撃力測定センサ上に前記光学積層体を位置させ、例えば、前記衝撃力測定センサと光学積層体の支持基材層とが接するように位置させた後、光学積層体のハードコート層に対して重量22gのボールを100mmの高さから落下させた時の、前記光学積層体の下部の衝撃力測定センサで測定された衝撃力(N)を意味する。
ただし、上述した光学積層体が支持基材層の両面にハードコート層が形成されて、ハードコート層が第1および第2ハードコート層に区分される場合、衝撃力測定センサ上に前記第1ハードコート層が接するように光学積層体を位置させ、前記第2ハードコート層に対して重量22gのボールを100mmの高さから落下させて、上述した方法のように衝撃力(N)を測定できる。
また、光学積層体は、ハードコート層の表面に対する荷重750gの条件での鉛筆硬度は、5H以上、6H以上、または7H以上であってもよい。
さらに、前記光学積層体は、前記光学積層体の中間に5mmの間隔をおいて前記ハードコート層が対向するように90°の角度にハードコート層の内側に畳んだり広げたりを25℃で1秒あたり1回の速度で10万回繰り返した時、クラックが発生しない程度の曲げ耐久性を示す。
図1は、動的曲げ特性を評価する方法を概略的に示す図である。
図1を参照すれば、光学積層体を底と水平になるように置いた後、光学積層体の中間部分に畳まれる部位の間隔が5mmとなるようにし、光学積層フィルムの両側を底面に対して90度に畳んだり広げたりを25℃で1秒あたり1回の速度で10万回繰り返す方式で曲げに対する耐久性を測定できる。この時、畳まれる部位の間隔を一定に維持するために、例えば、前記光学積層体を直径(R)5mmの棒に当たるように置いて光学積層フィルムの残りの部分を固定し、棒を中心として光学積層体の両側を畳んだり広げたりを繰り返す方法を取ることができる。また、前記畳まれる部分は光学積層体の内部でさえあれば特に限定されず、測定の便宜上、畳まれる部分を除いた光学積層体の残りの両側が対称となるように光学積層フィルムの中央部分を畳ませることができる。
このような動的曲げ特性評価において、前記光学積層体は、10万回の曲げを実施した後にも1cm以上、または3mm以上のクラックが発生せず、実質的にクラックが発生しない。特に、前記光学積層体の支持基材層を内側に畳んだり、ハードコート層を内側に畳むことができ、いずれの層を内側に畳んでもクラックが発生しない。したがって、繰り返し畳んだり、巻いたり、曲げたりするなどの実際の使用状態においてもクラックが発生する恐れが極めて低くて、フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ用に好適に適用することができる。
前記一実施形態による光学積層体に含まれるハードコート層は、エポキシ基含有官能基を含む繰り返し単位を70モル%以上含むポリシロキサンを含む。
前記エポキシ基含有官能基は、エポキシ基を含む官能基であれば特に限定はないが、例えば、下記の化学式1で表される官能基および脂環式エポキシ官能基からなる群より選択される。
[化学式1]
Figure 0007287599000001
前記化学式1において、
は、置換もしくは非置換の炭素数1~6のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルケニレン基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルキニレン基、-R-CH=CH-COO-R-、-R-OCO-CH=CH-R-、-ROR-、-RCOOR-、または-ROCOR-であり、
~Rは、それぞれ独立して、単一結合;または置換もしくは非置換の炭素数1~6のアルキレン基である。
前記化学式1で表される官能基は、エポキシ基を含むことで、光学積層体の高硬度および耐スクラッチ性の物性を向上させるだけでなく、繰り返しの曲げや折り畳み動作によってもフィルムの損傷がほとんどなくて、ベンダブル、フレキシブル、ローラブル、またはフォルダブルモバイル機器、またはディスプレイ機器などに容易に適用可能である。
例えば、前記化学式1で表されるエポキシ基含有官能基は、Rは、メチレン、エチレン、プロピレン、アリレン、-R-CH=CH-COO-R-、-R-OCO-CH=CH-R-、-ROR-、-RCOOR-、または-ROCOR-であってもよい。
例えば、前記化学式1において、R~Rは、単一結合、メチレン、エチレン、プロピレンまたはブチレンであってもよい。
例えば、Rは、メチレン、エチレン、または-ROR-であってもよいし、この時、RおよびRは、直接結合、メチレンまたはプロピレンであってもよい。
例えば、前記化学式1で表される官能基はこれに限定するものではないが、グリシドキシ基、グリシドキシエチル基、グリシドキシプロピル基またはグリシドキシブチル基であってもよい。
また、前記脂環式エポキシ基はこれに限定するものではないが、例えば、エポキシシクロヘキシルまたはエポキシシクロペンチルであってもよい。
さらに、前記ポリシロキサンは、下記の化学式2で表される。
[化学式2]
(RSiO3/2(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(SiO4/2(O1/2
前記化学式2において、
~Rは、それぞれ独立して、水素、エポキシ基含有官能基、アミノ基、メルカプト基、エーテル基、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基、(メタ)アクリレート、スルホン基、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルケニル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルキニル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルコキシ基、置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリール基、置換もしくは非置換の炭素数7~20のアリールアルキル基、または置換もしくは非置換の炭素数7~20のアルキルアリール基でかつ、R~Rのうちの少なくとも1つは、前記エポキシ基含有官能基であってもよい。
この時、R~Rのうちの少なくとも1つは、前記エポキシ基含有官能基を含み、前記エポキシ基含有官能基を含む繰り返し単位は、前記化学式2で表されるポリシロキサンの全体繰り返し単位の総モル比含有量に対して、70モル%以上、70~100モル%、または80~100モル%含むことができる。前記エポキシ基含有官能基を含む繰り返し単位の含有量が70モル%未満の場合、硬化密度の低下でハードコートフィルムが十分な表面硬度を示しにくい問題点がある。
また、前記化学式2において、Rは、水素原子または炭素数1~20のアルキル基であってもよい。
0<a≦1、0≦b≦1、0≦c≦1、0≦d≦1、0≦e≦1、0≦f≦1であってもよい。
前記ポリシロキサンに含まれている(RSiO3/2)構成単位および(RSiO3/2)構成単位はT3単位体であり、T3単位体は、3個のシロキサン結合が形成された構成単位を意味するものである。このようなT3単位体が含まれているポリシロキサンは、硬化密度を高めてハードコート層の表面硬度特性を向上させることができる。
前記T3単位体である(RSiO3/2)構成単位および(RSiO3/2)構成単位のモル比はそれぞれaおよびbであり、前記化学式2のポリシロキサンの総100モル%に対して、T3単位体のモル比は70~100モル%、80~99.9モル%、85~99モル%、90~98モル%であってもよい(つまり、0.7≦a+b≦1、0.8≦a+b≦0.999、0.85≦a+b≦0.99、または0.9≦a+b≦0.98であってもよい)。さらに、前記aおよびbの比率は、1:0~1、1:0.01~0.9、1:0.05~0.7、または1:1~0.5であってもよいし、前記aおよびbの比率が1:0の場合、aのモル比が0.7≦a≦1、0.8≦a≦0.999、0.85≦a≦0.99、または0.9≦a≦0.98であってもよい。
また、前記ポリシロキサンに含まれている(RSiO2/2)構成単位はT2単位体であり、T2単位体は、2個のシロキサン結合が形成された構成単位を意味するものである。前記(RSiO2/2)構成単位のモル比はcであり、前記化学式2のポリシロキサンの総モル比含有量に対して、T2単位体のモル比は0≦c≦1、0.01≦c<0.3、または0.05≦c≦0.2であってもよい。
さらに、前記ポリシロキサンに含まれている(RSiO1/2)構成単位はT1単位体であり、T1単位体は、1個のシロキサン結合が形成された構成単位を意味するものである。前記(RSiO1/2)構成単位のモル比はdであり、前記化学式2のポリシロキサンの総モル比含有量に対して、T1単位体のモル比は0≦d≦1、0.01≦d<0.3、または0.05≦d≦0.2であってもよい。
また、前記(RSiO2/2)構成単位および(RSiO1/2)構成単位のモル比の合計(c+d)は、0≦c+d<0.3、0.01≦c+d≦0.29、0.05≦c+d≦0.25、または0.07≦c+d≦0.23であってもよい。
具体的には、Rは、エポキシ基含有官能基であり、R~Rは、水素、アミノ基、メルカプト基、エーテル基、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基、(メタ)アクリレート、スルホン基、メチル基、エチル基、プロピル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、t-ブトキシ基、フェニル基、ナフタレン基などであってもよい。
前記ポリシロキサンには(SiO4/2)構成単位が含まれ、これは4個のシロキサン結合が形成された構成単位である。また、前記(SiO4/2)構成単位のモル比はeであり、eは、0≦e≦1、0.01≦e<0.3、または0.05≦e≦0.2であってもよい。
また、前記ポリシロキサンには(O1/2)構成単位が含まれ、これを含むポリシロキサンは、優れた硬度特性を維持しながらも、柔軟性を向上させることができる。さらに、前記(O1/2)構成単位のモル比はfであり、fは、0≦f≦1、0.01≦f<0.3、または0.05≦f≦0.2であってもよい。
前記Rは、水素原子または炭素数1~20のアルキル基であってもよく、より具体的には、水素原子、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基などであってもよい。
上述した構成単位を含むポリシロキサンは、各構成単位のシロキサン単量体、具体的には、1種のアルコキシシラン単独、または1種のアルコキシシランと異種のアルコキシシランとの間の加水分解および縮合反応によって製造できるが、この時、前記アルコキシシランの含有量比の制御により各構成単位のモル比を制御することができる。一方、前記ポリシロキサンを構成する各構成単位のモル比は、H-NMRまたは29Si-NMRスペクトルの測定によって求められる。
一方、前記ポリシロキサンは、エポキシ基含有官能基の当量が2.5~6.3mmol/gまたは3.0~6mmol/gであってもよい。前記エポキシ基含有官能基の当量が少なすぎる場合、硬化物のハードコート層の強度が低下し、多すぎる場合、反応速度の調節が難しく、部分的に高硬化してつぶれやすい問題点が発生する。このような官能基の当量は、ポリシロキサンの分子量を官能基の数で割った値で、H-NMRまたは化学的滴定法で分析できる。
前記一実施形態による光学積層体に含まれるハードコート層は、ポリカプロラクトンポリオールを含む弾性重合体を含む。前記弾性重合体は、ハードコート層のタフネス(toughness)によるストレス(stress)抵抗特性を付与して、硬化時の収縮を最小化して曲げ特性を改善し、また、耐衝撃性および硬度特性を向上させることができ、同時に屈曲性などの柔軟性を改善させることができる。
前記ハードコート層に含まれる弾性重合体の含有量は、具体的には、前記エポキシ基含有官能基を含む繰り返し単位を70モル%以上含むポリシロキサン100重量部に対して、前記弾性重合体5~80重量部、10~80重量部、20~70重量部、または25~60重量部含むことができる。前記弾性重合体の含有量が多すぎると、膜密度が大きく低下する恐れがあり、弾性重合体の含有量が少なすぎると、弾性重合体を含むことによる改善効果が十分に得られず、曲げ特性および屈曲性が低下する恐れがある。
前記弾性重合体は、ポリカプロラクトンポリオールを含み、これはゴムなど通常の弾性重合体と比較して紫外線照射によって架橋重合可能であり、他の物性の低下なく高硬度と柔軟性を実現することができる。特に、前記ポリカプロラクトンポリオールは、繰り返し単位中にエステル基とエーテル基が同時に含まれて繰り返されることによって、前記ポリシロキサンとの組み合わせ使用時、柔軟性と硬度、耐衝撃性の面でより優れた効果を示すことができる。
前記ポリカプロラクトンポリオールは、数平均分子量(Mn)が300~10,000Da、または1,000~5,000Daであってもよい。前記数平均分子量の条件を満たす場合、ハードコート層内の他の成分との相溶性が増加し、硬化物の表面硬度が向上して、硬化物の耐熱性および耐摩耗性がさらに向上できる。
また、前記弾性重合体は、前記ポリカプロラクトンポリオール以外にも、例えば、炭素数1~20のアルカンジオール、ポリオレフィンポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールおよびポリカーボネートポリオールからなる群より選択された1つ以上を含むことができる。
前記一実施形態による光学積層体に含まれるハードコート層は、前記ポリシロキサンと架橋可能な官能基を1以上含む反応性モノマーをさらに含むことができる。前記反応性モノマーは、上述したポリシロキサンと架橋可能な官能基を1以上含むことによって、前記ポリシロキサンの粘度を低くして加工性を容易にし、コーティング接着力を向上させることができる。
前記反応性モノマーは、前記ポリシロキサンと架橋可能な官能基として、例えば、脂環族エポキシ基、グリシジル基およびオキセタニル基からなる群より選択される1つ以上を含むことができる。
また、前記ポリシロキサンと架橋可能な官能基を1以上含む反応性モノマーは、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、4-ビニルシクロヘキセンジオキシド、シクロヘキセンビニルモノオキシド、(3,4-エポキシシクロヘキシル)メチル3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)-1,3-ジオキソラン、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、p-ブチルフェノールグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、クレシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、リモネンジオキシド、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、3-メチルオキセタン、2-メチルオキセタン、3-オキセタノール、2-メチレンオキセタン、3-メチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3,3-オキセタンジメタンチオール、2-エチルヘキシルオキセタン、4-(3-メチルオキセタン-3-イル)ベンゾニトリル、N-(2,2-ジメチルプロピル)-3-メチル-3-オキセタンメタンアミン、N-(1,2-ジメチルブチル)-3-メチル-3-オキセタンメタンアミン、キシレンビスオキセタン、3-エチル-3[{(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ}メチル]オキセタン、(3-エチルオキセタン-3-イル)メチルメタクリレート、および4-[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]ブタン-1-オールからなる群より選択された1つ以上を含むことができる。
前記ハードコート層に含まれるポリシロキサンおよび反応性モノマーの重量比は、99:1~80:20、97:3~85:5、または95:5~90:10であってもよい。前記ポリシロキサンが反応性モノマーに比べて過度に多く含まれる場合、反応性モノマーを含むことによる改善効果がわずかになり、前記ポリシロキサンが弾性重合体に比べて過度に少なく含まれる場合、過剰の反応性モノマーによって前記ポリシロキサンの粘度が過度に低くなって加工性がむしろ低下することがある。
また、前記ハードコート層は、表面硬度の改善のためにアクリレート系化合物をさらに含むことができる。
前記アクリレート系化合物としては、2-エチルヘキシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、イソデシルアクリレート、2-フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、トリデシルメタクリレート、ノニルフェノールエトキシレートモノアクリレート、β-カルボキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、4-ブチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレート、エトキシル化モノアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリフェニルグリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、1,3-ブチレングリコールジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコール、ジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシル化トリアクリレート、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、アルコキシル化テトラアクリレートなどが挙げられ、好ましくは、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、またはペンタエリスリトールテトラアクリレートなどのような多官能性アクリレート系化合物が挙げられ、これらのいずれか1つまたは2以上の混合物が使用できる。
その他にも、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ウレタンアクリレート、またはエポキシアクリレートなどのようなアクリレート系オリゴマーが挙げられ、これらのいずれか1つまたは2以上の混合物が使用できる。前記アクリレート系化合物の中でも、上述したポリシロキサンとの組み合わせ使用時の表面硬度改善効果の顕著さを考慮する時、ウレタンアクリレートオリゴマーがより好ましく使用できる。
前記ウレタンアクリレートオリゴマーは、官能基数が6~9個であってもよい。官能基が6個未満であれば、硬度改善効果がわずかになり、9個超過であれば、硬度には優れているが、粘度が上昇しうる。また、前記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、当該分野で用いられるものを制限なく使用可能であるが、好ましくは、分子内に1個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内にヒドロキシ基を1個以上有する(メタ)アクリレート化合物とを反応させて製造されたものが使用できる。
前記アクリレート系化合物がさらに含まれる場合、前記ポリシロキサン100重量部に対して、0.1~20重量部、1~15重量部、または5~10重量部含まれる。前記アクリレート系化合物の含有量が0.1重量部未満であれば、アクリレート系化合物を含むことによる改善効果がわずかになり、20重量部を超える場合、過剰のアクリレート系化合物によって表面硬度改善効果がむしろ阻害されうる。
前記成分と共に、ハードコート層は、独立して酸化防止剤、界面活性剤、黄変防止剤、無機充填剤、滑剤、コーティング助剤、防汚剤など通常用いられる添加剤を1種以上追加的に含むことができる。
また、前記ハードコート層は、厚さが10~250μm、50~250μm、または60~200μmであってもよい。前記ハードコート層の厚さが厚いほど強度が増加するが、厚さが厚すぎる場合、フォールディング時に壊れやすく、厚さが薄すぎる場合、フォールディング性が確保されても強度が不良でありうる。さらに、前記支持基材層の両面にハードコート層が形成される場合、第1ハードコート層と第2ハードコート層は、厚さが同一でも異なっていてもよい。
一方、前記支持基材層は、透明性プラスチック樹脂を含むことができる。前記プラスチック樹脂の具体例としては、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂またはスルホン系樹脂などが挙げられ、これらのいずれか1つまたは2以上の混合物が使用できる。
より具体的には、前記支持基材層は、ポリエチレンテレフタレート(polyethyleneterephtalate、PET)、サイクリックオレフィン共重合体(cyclic olefin copolymer、COC)、ポリアクリレート(polyacrylate、PAC)、ポリカーボネート(polycarbonate、PC)、ポリエチレン(polyethylene、PE)、ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)、ポリエーテルエーテルケトン(polyetheretherketon、PEEK)、ポリエチレンナフタレート(polyethylenenaphthalate、PEN)、ポリエーテルイミド(polyetherimide、PEI)、ポリイミド(polyimide、PI)、ポリアミドイミド(polyamideimide、PAI)およびトリアセチルセルロース(triacetylcellulose、TAC)のうちの少なくとも1つを含むことができる。
一方、前記支持基材層は、単層であってもよく、または互いに同一または異なる物質からなる2層以上の多層構造であってもよい。一例として、前記支持基材層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)の多層構造体、ポリメチルメタクリレート(PMMA)/ポリカーボネート(PC)の共押出で形成した多層構造体、またはポリメチルメタクリレート(PMMA)とポリカーボネート(PC)の共重合体(copolymer)を含む単一層構造体であってもよい。
また、前記支持基材層は、必要に応じて、プラズマ表面処理されたものであってもよいし、その方法は特に限定されず、通常の方法により行われる。
さらに、前記支持基材層は、その厚さが過度に厚かったり薄ければ、表面硬度、耐衝撃性の低下またはフォールディング特性の問題があることから、その範囲を適切に設定することが好ましい。一例を挙げると、前記支持基材層は、30~500μm、より具体的には50~100μmの厚さを有することができる。
上述した構造および構成を有する光学積層体は、ハードコート層形成用樹脂組成物を支持基材層の一面に塗布した後に硬化してハードコート層を形成することができる。また、前記ハードコート層形成用樹脂組成物を前記支持基材層の一面に塗布した後、前記ハードコート層形成用樹脂組成物と類似するか同一のハードコート層形成用樹脂組成物を、前記支持基材層の他面に塗布し硬化してハードコート層を形成することができる。
上述した光学積層体の製造方法において、ハードコート層形成用樹脂組成物に含まれるポリシロキサン、弾性重合体、反応性モノマーなどの構成およびこれらの重量比は先に説明した通りである。
また、前記ハードコート層形成用樹脂組成物は、開始剤をさらに含むことができる。前記開始剤はこの分野にてよく知られた光重合または熱重合開始剤であってもよいし、その種類が大きく限定されない。例えば、光重合開始剤は、アリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート塩、アリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート塩、ジフェニルジヨードニウムヘキサフルオロホスフェート塩、ジフェニルジヨードニウムヘキサアンチモニウム塩、ジトリリオドニウムヘキサフルオロホスフェート塩および9-(4-ヒドロキシエトキシフェニル)シアンスレニウムヘキサフルオロホスフェート塩からなる群より選択された1種以上であってもよいが、これに限定されない。前記熱重合開始剤は、3-メチル-2-ブテニルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート塩、イッテルビウムトリフルオロメテンスルホネート塩、サマリウムトリフルオロメテンスルホネート塩、エルビウムトリフルオロメテンスルホネート塩、ジスプロシウムトリフルオロメテンスルホネート塩、ランタントリフルオロメテンスルホネート塩、テトラブチルホスホニウムメテンスルホネート塩、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド塩、ベンジルジメチルアミン、ジメチルアミノメチルフェノール、トリエタノールアミン、N-n-ブチルイミダゾールおよび2-エチル-4-メチルイミダゾールからなる群より選択された1種以上を含むことができるが、これに限定されない。
前記開始剤は、前記組成物の総含有量100重量%に対して、0.1~10重量%、0.5~5重量%または1~4重量%含むことができる。前記開始剤の含有量が0.1重量%未満であれば、表面硬化のみ起こったり、エポキシ硬化が十分に起こらずに硬度が低く、10重量%を超えると、速い硬化速度によってクラックと剥離を誘発することがある。
前記ハードコート層形成用樹脂組成物は、工程上問題がない場合、無溶剤(solvent-free)として使用可能であるが、選択的にコーティング時に組成物の粘度および流動性を調節し、組成物の塗布性を高めるために選択的に有機溶媒をさらに含むことができる。
前記有機溶媒がさらに含まれる場合、前記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールのようなアルコール系溶媒;2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、1-メトキシ-2-プロパノールのようなアルコキシアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン系溶媒;プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチルグリコールモノエチルエーテル、ジエチルグリコールモノプロピルエーテル、ジエチルグリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール-2-エチルヘキシルエーテルのようなエーテル系溶媒;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのアセテート系溶媒;またはベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族溶媒などを単独でまたは混合して使用することができる。
また、前記ハードコート層形成用樹脂組成物は、上述した成分のほか、酸化防止剤、界面活性剤、黄変防止剤、無機充填剤、滑剤、コーティング助剤、防汚剤などをさらに含むことができる。さらに、その含有量は、物性を低下させない範囲内で多様に調節可能なため、特に限定はないが、例えば、前記組成物の総含有量100重量%に対して、0.1~10重量%含むことができる。
一例として、前記酸化防止剤は、重合開始剤に起因する酸化反応を抑制するためのもので、フェノリック系、ホスフェート系、アミニック系、チオエステル系などからなる群より選択される1種以上の混合物を含むことができるが、これに限定されない。前記界面活性剤は、1~2官能性のフッ素系アクリレート、フッ素系界面活性剤またはシリコーン系界面活性剤であってもよい。この時、前記界面活性剤は、前記架橋共重合体内に分散または架橋されている形態で含まれる。また、前記黄変防止剤としては、ベンゾフェノン系化合物またはベンゾトリアゾール系化合物などが挙げられる。
前記ハードコート層形成用樹脂組成物の塗布工程は、ダイコーター、エアナイフ、リバースロール、スプレー、ブレード、キャスティング、グラビア、スピンコーティング、またはバーコーティングなどの公知の方法によって行われる。
また、それぞれの樹脂組成物を塗布した後には硬化のための工程が行われ、前記硬化は、通常の方法による熱硬化または光硬化で行われてもよい。前記熱硬化および光硬化のための熱処理または光照射条件は、開始剤の種類に応じて、波長領域および光量、または熱処理温度などの調節により適切に制御可能である。
発明の他の実施形態によれば、前記光学積層体を含むフレキシブルディスプレイ装置が提供できる。
前記フレキシブルディスプレイ装置は、カーブド(curved)、ベンダブル(bendable)、フレキシブル(flexible)、ローラブル(rollable)、またはフォルダブル(foldable)形態の移動通信端末、スマートフォン、タブレットPCのタッチパネル、ウェアラブル装置および各種ディスプレイをすべて含むことができる。多様な実施例によれば、ウェアラブル装置は、アクセサリー型(例:時計、指輪、腕輪、アンクレット、ネックレス、眼鏡、コンタクトレンズ、または頭部着用型装置(head-mounted-device(HMD))、織物または衣類一体型(例:電子衣服)、身体付着型(例:スキンパッド(skin pad)または入れ墨)、または生体移植型(例:implantable circuit)のうちの少なくとも1つを含むことができる。
一方、前記フレキシブルディスプレイ装置は、例えば、液晶ディスプレイ(LCD)装置、発光ダイオード(LED)ディスプレイ装置、有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイ装置、マイクロ電子機械システム(MEMS)ディスプレイ装置または巻取可能ディスプレイ装置(rollable display or foldable display)であってもよい。
例えば、前記有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイ装置は、前記フレキシブル有機発光ダイオードディスプレイ装置のカバーウィンドウが光や画面の出る方向の外角部に位置してもよいし、電子を提供する陰極(cathode)、電子輸送層(Eletron Transport Layer)、発光層(Emission Layer)、正孔輸送層(Hole Transport Layer)、正孔を提供する陽極(anode)が順次に形成されていてもよい。また、前記有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイは、正孔注入層(HIL、Hole Injection Layer)と電子注入層(EIL、Electron Injection Layer)をさらに含んでもよい。
前記有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイがフレキシブルディスプレイの役割および作動をするために、前記陰極および陽極の電極と、各構成成分を所定の弾性を有する材料で使用することができる。
前記フレキシブルディスプレイ装置の他の例として、巻取可能ディスプレイ装置(rollable display or foldable display)が挙げられる。
一方、前記巻取可能ディスプレイ装置は、適用分野および具体的な形態などに応じて多様な構造を有することができ、例えば、カバーウィンドウ、タッチパネル、偏光板、バリアフィルム、発光素子(OLED素子など)、透明基板などを含む構造であってもよい。
前記フレキシブルディスプレイ装置のさらに他の例として、互いに対向する一対の偏光板;前記一対の偏光板の間に順次に積層された薄膜トランジスタ、カラーフィルタおよび液晶セル;およびバックライトユニットを含む液晶ディスプレイ装置であってもよい。
前記ディスプレイ装置における前記光学積層フィルムは、ディスプレイパネルの観測者側またはバックライト側の最外角の表面に備えられる。
本発明によれば、高硬度および耐スクラッチ性に優れていながらも、タフネス(Toughness)が向上して耐衝撃性に優れたフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体およびこれを含むフレキシブルディスプレイ装置が提供できる。
また、前記光学積層体は、改善された曲げ特性を示しながらも、柔軟性、高硬度および耐スクラッチ性の物性に優れ、特に繰り返しの曲げや折り畳み動作によってもフィルムの損傷がほとんどなくて、ベンダブル(bendable)、フレキシブル(flexible)、ローラブル(rollable)、またはフォルダブル(foldable)モバイル機器、ディスプレイ機器、各種計器板の前面板、表示部などに有用に適用可能である。
動的曲げ特性を評価する方法を概略的に示す図である。
発明を下記の実施例においてより詳細に説明する。ただし、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の内容が下記の実施例によって限定されるものではない。
<製造例>
製造例1:ポリシロキサンAの製造
1000mLの3-neckフラスコに、シランモノマーの3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS、KBM-403TM、Shinetsu社)、水およびトルエンを入れて混合して撹拌した(GPTMS:水:トルエン=1mol:3mol:0.5mol)。
次に、結果の混合溶液に塩基性触媒(trimethylammonium hydroxide;TMAH)を前記シランモノマー100重量部に対して1重量部添加し、100℃で2時間反応させて、グリシドキシプロピル変性シリコーン(glycidoxypropyl modified silicone、以下、GP)100モル%を含む下記の組成のポリシロキサンAを製造した(数平均分子量:3,100g/mol、分子量分布(PDI):1.8、グリシドキシプロピル基の当量:6.0mmol/g)。
(RSiO3/2(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(SiO4/2(O1/2R8) (2)
(前記化学式2において、Rは、グリシドキシプロピル基(化学式1において、Rが-ROR-であり、Rがプロピレン基であり、Rがメチレン基である)であり、Rは、水素原子またはメチル基であり、a=0.93、b、c、d、e=0、f=0.07である)
製造例2:ポリシロキサンBの製造
1000mLの3-neckフラスコに、シランモノマーの2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(ECTMS、KBM-303TM、Shinetsu社)、水およびトルエンを入れて混合して撹拌した(ECTMS:水:トルエン=1mol:3mol:0.5mol)。
次に、結果の混合溶液に塩基性触媒(trimethylammonium hydroxide;TMAH)を前記シランモノマー100重量部に対して1重量部添加し、100℃で2時間反応させて、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル変性シリコーン(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl modified silicone、以下、EC)100モル%を含む下記の組成のポリシロキサンBを製造した(数平均分子量:3,300g/mol、分子量分布(PDI):1.8、エポキシシクロヘキシル基の当量:5.6mmol/g)。
(RSiO3/2(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(SiO4/2(O1/2(2)
(前記化学式2において、Rは、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル基であり、Rは、水素原子またはメチル基であり、a=0.95、b、c、d、e=0、f=0.05である)
製造例3:ポリシロキサンCの製造
1000mLの3-neckフラスコに、シランモノマーの3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS、KBM-403TM、Shinetsu社)、フェニルトリメトキシシラン(PTMS、Shin-Etsu社)、水およびトルエンを入れて混合して撹拌した(GPTMS:PTMS:水:トルエン=0.7mol:0.3mol:3mol:0.5mol)。
次に、結果の混合溶液に塩基性触媒(アンモニア)を前記シランモノマー100重量部に対して1重量部添加し、100℃で2時間反応させて、下記の組成のポリシロキサンCを製造した(数平均分子量:3,400g/mol、分子量分布(PDI):1.9、グリシドキシプロピル基の当量:4.5mmol/g)。
(RSiO3/2(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(SiO4/2(O1/2 (2)
(前記化学式2において、Rは、グリシドキシプロピル基(化学式1において、Rが-ROR-であり、Rがプロピレン基であり、Rがメチレン基である)であり、Rは、フェニル基であり、Rは、水素原子またはメチル基であり、a=0.7、b=0.3、c、d、e=0、f<0.01である。)
製造例4:ポリシロキサンDの製造
トルエンの比率を5molで用いたことを除けば、製造例2と同様の方法で2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル変性シリコーン(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl modified silicone)100モル%を含む下記の組成のポリシロキサンDを製造した(数平均分子量:1,400g/mol、分子量分布(PDI):1.4、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル基の当量:5.6mmol/g)。
製造例5:ポリシロキサンEの製造
シランモノマーの3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS、KBM-403TM、Shinetsu社)、フェニルトリメトキシシラン(PTMS、Shin-Etsu社)、水およびトルエンを入れて混合して撹拌した(GPTMS:PTMS:水:トルエン=0.5mol:0.5mol:3mol:0.5mol)ことを除けば、製造例3と同様の方法で下記の組成のポリシロキサンEを製造した。(数平均分子量:3,300g/mol、分子量分布(PDI):1.7、グリシドキシプロピル基の当量:3.4mmol/g)。
(RSiO3/2(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(SiO4/2(O1/2R (2)
(前記化学式2において、Rは、グリシドキシプロピル基(化学式1において、Rが-ROR-であり、Rがプロピレン基であり、Rがメチレン基である)であり、Rは、フェニル基であり、Rは、水素原子またはメチル基であり、a=0.5、b=0.45、c、d、e=0、f<0.01である。)
<実施例および比較例>
実施例1
前記製造例1で製造したポリシロキサンA75g、弾性重合体のポリカプロラクトントリオール(数平均分子量:300Da、製造会社:Merck)22g、光開始剤のIrgacrue250 3gおよび溶媒のメチルエチルケトン10gを混合してハードコート層形成用樹脂組成物を製造した。
15cm×20cm、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの一面に、前記ハードコート層形成用樹脂組成物を塗布し、ランプを用いて紫外線を照射(照射量:1,000mJ/cm)して光硬化して80μmの厚さのハードコート層を形成することによって、光学積層体を製造した。
実施例2
前記製造例1で製造したポリシロキサンAの代わりに前記製造例2で製造したポリシロキサンBを用いたことを除き、実施例1と同様の方法で光学積層体を製造した。
実施例3
前記製造例1で製造したポリシロキサンAの代わりに前記製造例3で製造したポリシロキサンCを用いたことを除き、実施例1と同様の方法で光学積層体を製造した。
比較例1
前記製造例1で製造したポリシロキサンAの代わりに前記製造例4で製造したポリシロキサンDを用いたことを除き、実施例1と同様の方法で光学積層体を製造した。
比較例2
前記製造例1で製造したポリシロキサンAの代わりにGp-D4を用い、ポリカプロラクトントリオールを用いないことを除き、実施例1と同様の方法で光学積層体を製造した。
この時、Gp-D4は「2,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラキス(プロピルグリシジルエーテル)シクロテトラシロキサン」であり、数平均分子量は664g/molである。
比較例3
前記製造例1で製造したポリシロキサンAの代わりに前記製造例5で製造したポリシロキサンEを用いたことを除き、実施例1と同様の方法で光学積層体を製造した。
比較例4
前記製造例1で製造したポリシロキサンAの代わりに前記製造例2で製造したポリシロキサンBを用い、前記弾性重合体のポリカプロラクトントリオールを用いないことを除き、実施例1と同様の方法で光学積層体を製造した。
<実験例>
実施例および比較例で製造した光学積層体に対して、次の方法で物性を測定し、その結果を下記表1に示した。
1.表面鉛筆硬度の測定
光学積層体のハードコート層の表面に対して、荷重750g、角度45°に鉛筆を固定させた後、鉛筆硬度別に20mmずつ計5回掻いて肉眼で掻かれるか否かを判断し、3回以上表面の損傷が生じない最大鉛筆硬度を測定した。
2.衝撃吸収率の測定
光学積層体上に重量22gのボール(ball)を100mmの高さから落下させた時の、光学積層体の衝撃吸収率を測定した。
具体的には、対照群として、衝撃力測定センサに光学積層体を位置させず、衝撃力測定センサ自体の上に重量22gのボール(ball)を100mmの高さから落下させた時の、前記衝撃力測定センサで衝撃力(N)を測定し、これを「A」と定義した。以後、衝撃力測定センサ上に前記光学積層体を位置させ、より具体的には、前記衝撃力測定センサと光学積層体の支持基材層のPETフィルムとが接するように位置させた後、光学積層体のハードコート層に対して重量22gのボール(ball)を100mmの高さから落下させた時の、前記衝撃力測定センサで衝撃力(N)を測定し、これを「A」と定義した。
以後、「A」および「A」を下記式1に代入して衝撃吸収率を計算した。
[式1]
衝撃吸収率=(A-A/A)×100
3.動的曲げ特性
図1は、本発明の一実施例による光学積層体に対して、動的曲げ特性を評価する方法を概略的に示す図である。
前記光学積層体を裁断し、エッジ(edge)部位の微細クラックを最小化するように、80×140mmの大きさにレーザ裁断した。測定装置上にレーザ裁断されたフィルムを載せ、ハードコート層を内側とし、畳まれる部位の間隔(内側の曲率直径)が5mmとなるようにして、常温でフィルムの両側を底面に対して90度に畳んだり広げたりを連続動作(フィルムの畳まれる速度は25℃で1秒あたり1回)で10万回繰り返し、下記の基準により動的曲げ特性を評価した。
良好:クラック発生せず
不良:クラック発生
4.破断伸び率
光学積層体を幅10mm、長さ150mmに切断した後、UTM(Universal Testing Machine、Instron社のサンプル)および下記の組成で長手方向に対する破断伸び率を測定した。
-サンプルの測定長さ100mm、
-測定速度10mm/min
Figure 0007287599000002
前記表1によれば、実施例の光学積層体は、表面硬度が6H以上と高く、10万回畳んだり広げたりを繰り返す連続動作でクラックが発生しないだけでなく、衝撃吸収率が-6.3%以下とタフネス(Toughness)が高くて耐衝撃性に優れているという点を確認した。
一方、比較例1~3の光学積層体は、衝撃吸収率が-3.7%以上とタフネス(Toughness)が低くて耐衝撃性が低く、比較例1、2および4は、10万回畳んだり広げたりを繰り返す連続動作でクラックが発生することを確認した。また、比較例2および3は、鉛筆硬度が2H以下と低いという点を確認した。

Claims (13)

  1. 支持基材層;および
    前記支持基材層の少なくとも一面に位置し、厚さが10μm~250μmであるハードコート層;
    を含み、
    前記ハードコート層は、エポキシ基含有官能基を含む繰り返し単位を70モル%以上含むポリシロキサン;およびポリカプロラクトンポリオールを含む弾性重合体を含み、
    前記ポリシロキサンは、数平均分子量が3,000超過10,000Da未満であり、分子量分布(PDI;polydispersity Index)が1.0以上5.0未満であり、
    前記エポキシ基含有官能基を含む繰り返し単位は、3個のシロキサン結合が形成されたT3単位体であり、
    前記ハードコート層は、前記エポキシ基含有官能基を含む繰り返し単位を70モル%以上含むポリシロキサン100重量部に対して、前記ポリカプロラクトンポリオールを含む弾性重合体を5~80重量部含む、
    フレキシブルディスプレイ装置用光学積層体。
  2. 前記フレキシブルディスプレイ装置用光学積層体は、下記式1で計算された衝撃吸収率が-4%以下である、
    請求項1に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体:
    [式1]
    衝撃吸収率=(-A /A)×100
    上記式1中、
    は、衝撃力測定センサ上に重量22gのボール(ball)を100mmの高さから落下させた時の、前記衝撃力測定センサで測定された衝撃力(N)であり、
    は、衝撃力測定センサ上に前記フレキシブルディスプレイ装置用光学積層体を位置させ、前記フレキシブルディスプレイ装置用光学積層体のハードコート層に対して重量22gのボールを100mmの高さから落下させた時の、前記衝撃力測定センサで測定された衝撃力(N)である。
  3. 前記エポキシ基含有官能基は、脂環式エポキシ基および下記の化学式1で表される官能基からなる群より選択されるいずれか1つである、
    請求項1又は2に載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体:
    [化学式1]
    Figure 0007287599000003
    前記化学式1において、
    は、置換もしくは非置換の炭素数1~6のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルケニレン基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルキニレン基、-R-CH=CH-COO-R-、-R-OCO-CH=CH-R-、-ROR-、-RCOOR-、または-ROCOR-であり、
    ~Rは、それぞれ独立して、単一結合;または置換もしくは非置換の炭素数1~6のアルキレン基である。
  4. 前記ポリシロキサンは、下記の化学式2で表される、
    請求項1からのいずれか1項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体:
    [化学式2]
    (RSiO3/2(RSiO3/2(RSiO2/2(RSiO1/2(SiO4/2(O1/2
    前記化学式2において、
    ~Rは、それぞれ独立して、水素、前記エポキシ基含有官能基、アミノ基、メルカプト基、エーテル基、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基、(メタ)アクリレート、スルホン基、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルケニル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルキニル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルコキシ基、置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリール基、置換もしくは非置換の炭素数7~20のアリールアルキル基、または置換もしくは非置換の炭素数7~20のアルキルアリール基でかつ、R~Rのうちの少なくとも1つは、前記エポキシ基含有官能基であり、
    は、水素原子または炭素数1~20のアルキル基であり、
    0<a≦1、0≦b≦1、0≦c≦1、0≦d≦1、0≦e≦1、0≦f≦1である。
  5. 前記ポリシロキサンは、重量平均分子量が3,000~250,000g/molである、
    請求項1からのいずれか1項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体。
  6. 前記ポリシロキサンに含まれている前記エポキシ基含有官能基の当量は、2.5~6.3mmol/gである、
    請求項1からのいずれか1項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体。
  7. 前記ポリカプロラクトンポリオールは、数平均分子量(Mn)が300~10,000Daである、
    請求項1からのいずれか1項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体。
  8. 前記ハードコート層は、前記ポリシロキサンと架橋可能な官能基を1以上含む反応性モノマーをさらに含む、
    請求項1からのいずれか1項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体。
  9. 前記ポリシロキサン;および前記ポリシロキサンと架橋可能な官能基を1以上含む反応性モノマーの重量比は、99:1~80:20である、
    請求項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体。
  10. 前記ハードコート層の表面に対する荷重750gの条件での鉛筆硬度は、5H以上である、請求項1からのいずれか1項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体。
  11. 前記フレキシブルディスプレイ装置用光学積層体の中間に5mmの間隔をおいて前記ハードコート層が対向するように90°の角度にハードコート層の内側に畳んだり広げたりを25℃で1秒あたり1回の速度で10万回繰り返した時、クラックが発生しない、
    請求項1から1のいずれか1項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体。
  12. 前記フレキシブルディスプレイ装置用光学積層体は、フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ用である、
    請求項1から1のいずれか1項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体。
  13. 請求項1から1のいずれか1項に記載のフレキシブルディスプレイ装置用光学積層体を含む、
    フレキシブルディスプレイ装置。
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