JP7193050B2 - 光学積層体 - Google Patents
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Description
30~100μmの厚さを有する支持基材層;
前記支持基材層の両面にそれぞれ位置し60~100μmの厚さを有するハードコーティング層;および
前記ハードコーティング層の少なくともいずれか一面に位置し10nm~5μmの厚さを有する指紋防止層を含み、
前記指紋防止層は、バインダー樹脂と、エポキシ基、(メタ)アクリルオキシ基、メルカプト基およびアミノ基からなる群より選択された少なくとも1種の有機官能基を有する有機シラン化合物との硬化物を含む、光学積層体を提供する。
また、本明細書では、前記光学積層体を含むディスプレイ装置を提供する。
本明細書で使用される単数形態は、文句がこれと明確に反対の意味を示さない限り複数形態も含む。
図1は、本発明の一実施形態による光学積層体を簡略に示したものである。
(R1SiO3/2)a(R2SiO3/2)b(OR)c
上記化学式1中、
R1は、下記化学式2で表されるグリシジル基;またはグリシドキシプロピル基であり、
[化学式2]
R'はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン基、炭素数1~4のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルコキシ基、アクリル基、メタクリル基、エーテル基、エステル基、アセチル基、ホルミル基、およびカルボキシル基からなる群より選択され、
R"は、炭素数1~4のアルキレン基であり、
R2は、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルケニル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルキニル基、置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリール基、置換もしくは非置換の炭素数7~20のアリールアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数7~20のアルキルアリール基、エポキシ基、および水素原子からなる群より選択され、
Rは、水素原子、または炭素数1~20のアルキル基であり、
0<a<1、0≦b<1かつ0<c<1である。
[化学式3]
前記偏光板は、前記光学積層体を偏光子保護フィルムやカバーウィンドウとして含むことができる。
下記方法によって製造したエポキシポリシロキサン1を使用した。
1000mL三つ口フラスコにシランモノマーとして3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KBM-403、Shinetsu社)、水およびトルエンを入れて攪拌した(KBM-403:水=1mol:0.2mol)。結果の混合溶液に塩基性触媒(TMAH)を前記シランモノマー100重量部に対して1重量部で添加し100℃で反応させてグリシドキシプロピル変性シリコン(glycidoxypropyl modified silicone、以下、GP)100モル%を含む下記組成のエポキシポリシロキサン1を製造した(Mw:2,700g/mol、Mn:2,100g/mol、エポキシ当量:5.9g/eq)
(R1SiO3/2)a(R2SiO3/2)b(OR)c
(Mw=2,000g/mol、Sigma Aldrich社製)
[化学式3]
製造例1と同様に混合後、パーフルオロ変性シラン1重量部、アミノエチル(アミノプロピル)トリメトキシシラン0.05重量部、トリフルオロトルエン5重量部を追加混合してコーティング液(H/C-2)を得た。
パーフルオロポリエチレン変性シラン(Mw:4,400)15重量%、アミノエチル(アミノプロピル)トリメトキシシラン0.7重量%、トリフルオロトルエン84.3重量%を使用して指紋防止層形成用組成物を製造した(以下、AF-1)。
パーフルオロポリエチレンポリメタクリレート(Mw:5,300)15重量%、アミノエチル(アミノプロピル)トリメトキシシラン0.7重量%およびトリフルオロトルエン84.3重量%を使用して、指紋防止層形成用組成物を製造した(以下、AF-2)。
アミノエチル(アミノプロピル)トリメトキシシランを除いて、製造例3と同様な方法で指紋防止層形成用組成物を製造した。即ち、パーフルオロポリエチレン変性シラン(1)15重量%およびトリフルオロトルエン85重量%を使用した(以下、AF-3)。
下記表1に記載された組成の樹脂組成物を使用して支持基材の上下面にハードコーティング層を形成後、前記上部面に製造例4および5の組成物を指紋防止層形成用組成物をコーティングして指紋防止層(AF層)が形成された光学積層体を製造した。
下記表1に記載された通り、製造例1および2で製造した樹脂組成物を、15cm×20cm、厚さ50μmのPET基材両面にそれぞれ塗布した後、UVランプを用いて紫外線を10秒間照射(照射量:200mJ/cm2)して光硬化することによって、基材の両面に上部および下部のハードコーティング層を形成した。また、前記上部コーティング層に製造例5の組成物(AF-3)をコーティングしてAF層を形成した。
下記表1に記載された通り、上部および下部コーティング層形成用樹脂組成物のみを使用することを除いては、前記実施例1と同様な方法で行ってハードコーティングフィルムを製造した。
実施例1~4で製造した光学積層体とおよび比較例1~3で製造した一般的なハードコーティングフィルムに対して、次の方法で物性を測定し、その結果を下記表2および3に示した。
鉛筆硬度測定器を用いて測定標準JIS K5400によって1.0kgの荷重で5回往復した後、キズがない硬度を確認した。
クロス-ハッチ方法で指紋防止層と上部コーティング層(AF-H/C1層)の間の付着性(接着力)を評価した。
5B:剥離した面がない場合
4B:剥離した面が総面積に対して5%以内である場合
3B:剥離した面が総面積に対して5~15%である場合
2B:剥離した面が総面積に対して15~35%である場合
1B:剥離した面が総面積に対して35~65%である場合
0B:ほとんど大部分が剥離した場合
コーティング後、接触角測定装備を用いてコーティングした面の接触角を測定した。接触角測定時、水滴一つの大きさは3μlとし、コーティングの均一性を確認するためにコーティングした試料一つ当り5ポイントの接触角を測定した後、平均を出した。
前記で製作した光学積層体の表面に指紋を付着させ、無塵布で表面を拭いて以下のような基準で評価した。
○:10回以内に完全に拭き取られる場合
×:拭き取られない場合
5)耐スクラッチ性
Claims (14)
- 30~100μmの厚さを有する支持基材層;
前記支持基材層の両面にそれぞれ位置し60~100μmの厚さを有するハードコーティング層;および
前記ハードコーティング層の少なくともいずれか一面に位置し10nm~5μmの厚さを有する指紋防止層を含み、
前記指紋防止層は、バインダー樹脂と、エポキシ基、(メタ)アクリルオキシ基、メルカプト基およびアミノ基からなる群より選択された少なくとも1種の有機官能基を有する有機シラン化合物との硬化物を含み、
前記ハードコーティング層は、下記化学式1のエポキシポリシロキサンを含む、光学積層体:
[化学式1]
(R1SiO3/2)a(R2SiO3/2)b(OR)c
上記化学式1中、
R1は、下記化学式2で表されるグリシジル基;またはグリシドキシプロピル基であり、
[化学式2]
R'はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン基、炭素数1~4のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルコキシ基、アクリル基、メタクリル基、エーテル基、エステル基、アセチル基、ホルミル基、およびカルボキシル基からなる群より選択され、
R"は、炭素数1~4のアルキレン基であり、
R2は、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルケニル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルキニル基、置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリール基、置換もしくは非置換の炭素数7~20のアリールアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数7~20のアルキルアリール基、エポキシ基、および水素原子からなる群より選択され、
Rは、水素原子、または炭素数1~20のアルキル基であり、
0<a<1、0≦b<1かつ0<c<1である。 - 前記有機シラン化合物は、前記バインダー樹脂および有機シラン化合物を含む組成物の総重量を基準にして0.1~5.0重量%を含む、請求項1に記載の光学積層体。
- 前記バインダー樹脂は、パーフルオロポリエーテル化合物およびフルオロ変性シリコン化合物からなる群より選択される1種以上である、請求項1または2に記載の光学積層体。
- 前記化学式1中、0.7≦a/(a+b)≦1であり、0≦b<0.5かつ0<c<0.5である、請求項1から3の何れか一項に記載の光学積層体。
- 前記化学式2中、前記R'がそれぞれ独立して水素原子であり、R"がメチレン基である、請求項1から4の何れか一項に記載の光学積層体。
- 前記化学式1中、前記R2は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数2~12のアルケニル基、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、アミノ基、アクリル基、メタクリル基、ハロゲン基、メルカプト基、エーテル基、エステル基、アセチル基、ホルミル基、カルボキシル基、ニトロ基、スルホニル基、ウレタン基、エポキシ基、オキセタン基およびフェニル基からなる群より選択される1種以上の置換基で置換された、請求項1から5の何れか一項に記載の光学積層体。
- 前記ハードコーティング層は、炭素数1~20のアルカンジオール、ポリオレフィンポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリエーテルポリオールおよびポリカーボネートポリオールからなる群より選択された1種以上を含む弾性重合体をさらに含む、請求項1から6の何れか一項に記載の光学積層体。
- 前記弾性重合体は、ポリカプロラクトンポリオールを含む、請求項7に記載の光学積層体。
- 前記ハードコーティング層は、前記化学式1のエポキシポリシロキサンと架橋可能な官能基を1以上含む反応性モノマー;をさらに含む、請求項1から8の何れか一項に記載の光学積層体。
- 前記反応性モノマーは、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、4-ビニルシクロヘキセンジオキシド、シクロヘキセンビニルモノオキシド、(3,4-エポキシシクロヘキシル)メチル3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)-1,3-ジオキソラン、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、p-ブチルフェノールグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、クレシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、リモネンジオキシド、ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、3-メチルオキセタン、2-メチルオキセタン、3-オキセタノール、2-メチレンオキセタン、3-メチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3,3-オキセタンジメタンチオール、2-エチルヘキシルオキセタン、4-(3-メチルオキセタン-3-イル)ベンゾニトリル、N-(2,2-ジメチルプロピル)-3-メチル-3-オキセタンメタンアミン、N-(1,2-ジメチルブチル)-3-メチル-3-オキセタンメタンアミン、キシレンビスオキセタン、3-エチル-3[{(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ}メチル]オキセタン、(3-エチルオキセタン-3-イル)メチルメタクリレート、および4-[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]ブタン-1-オルからなる群より選択されるいずれか一つまたは二つ以上の混合物を含む、請求項9に記載の光学積層体。
- 前記支持基材層は、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミド-イミド樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂およびスルホン系樹脂からなる群より選択された1種以上の樹脂を含む、請求項1から10の何れか一項に記載の光学積層体。
- ディスプレイ装置のカバーウィンドウとして使用される、請求項1から11の何れか一項に記載の光学積層体。
- 請求項1から12の何れか一項に記載の光学積層体を含む、偏光板。
- 請求項1から13の何れか一項に記載の光学積層体を含むディスプレイ装置。
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