JP7257760B2 - 描画装置および描画方法 - Google Patents
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Description
実施形態に係る描画システム1について図1を参照し説明する。図1は、実施形態に係る描画システム1の概略構成を示すブロック図である。
次に、実施形態に係る描画ユニット3について図2A、および図2Bを参照し説明する。図2Aは、実施形態に係る描画ユニット3の概略構成を示す平面図である。図2Bは、実施形態に係る描画ユニット3の概略構成を示す右側面図である。
描画装置2は、図5に示すように、受け渡しエリアAによって搬送装置5から基板Sが受け渡されると、搬送部10によって基板Sを前後方向に往復させ、描画部11によってインクを基板Sに向けて吐出し、基板Sに描画を行う。図5は、実施形態に係る描画装置2において、受け渡しエリアAに基板Sが搬送された状態を示す概略図である。描画装置2は、描画が終了すると、搬送部10によって基板Sを受け渡しエリアAに搬送する。
比較例に係る描画装置は、例えば、第2メンテナンス部を基板の搬送方向に対して直交する左右方向に配置し、第2メンテナンス部、またはキャリッジを左右方向に移動させてメンテナンス作業が行われる。すなわち、比較例に係る描画装置は、左右方向への移動スペースが必要となり、全体的な装置面積が大きくなる。
変形例に係る描画装置2は、図11に示すように、第2メンテナンス部50として、複数の吸引部51と、複数のワイピング部52とを備えてもよい。図11は、変形例に係る第2メンテナンス部50の構成を示す平面図である。
2 描画装置
3 描画ユニット
11 描画部
13 第2メンテナンス部(メンテナンス部)
22 キャリッジ
23 ヘッド
40 吸引部
41 ワイピング部
44 ロール部
45 ワイピングシート
50 第2メンテナンス部(メンテナンス部)
51 吸引部
52 ワイピング部
Claims (4)
- 搬送方向に沿って移動するワークに機能液を吐出して前記ワークに描画を行う描画部と、
前記搬送方向に沿って前記描画部の下方に移動した状態で前記描画部のヘッドをメンテナンスするメンテナンス部と
を備え、
前記描画部は、
複数のヘッドをそれぞれ有し、前記搬送方向に直交する水平方向に沿って配置される複数のキャリッジ
を備え、
前記メンテナンス部は、
複数の前記キャリッジに対応して複数の前記キャリッジの配置方向に沿って配置され、前記ヘッドから前記機能液を吸引する複数の吸引部と、
前記吸引部によって前記機能液が吸引された前記ヘッドを払拭するワイピング部と
を備え、
前記吸引部は、
前記配置方向において前記ワイピング部から近い順に吸引を行った後に、前記キャリッジの下方から離間するように移動し、
前記ワイピング部は、
前記配置方向に沿って移動可能であり、前記吸引部によって前記機能液が吸引された順に前記キャリッジの前記ヘッドを払拭する、描画装置。 - 前記描画部は、
上下方向に移動可能であり、
前記メンテナンス部は、
上方に移動した前記描画部の下方に移動する
請求項1に記載の描画装置。 - 前記メンテナンス部は、
上下方向に移動可能であり、上方の待機位置から下方に移動した後に、前記描画部の下方に移動する
請求項1または2に記載の描画装置。 - 搬送方向に沿って移動するワークに描画部から機能液を吐出して前記ワークに描画を行う工程と、
前記搬送方向に沿って前記描画部の下方に移動し、前記描画部のヘッドをメンテナンスする工程と
を有し、
前記メンテナンスでは、
複数のキャリッジに対応して、複数の前記キャリッジの配置方向に沿って配置される複数の吸引部によって、前記ヘッドから前記機能液が吸引され、
前記吸引部によって前記機能液が吸引された前記ヘッドが、ワイピング部によって払拭され、
前記吸引部は、
前記配置方向において前記ワイピング部から近い順に吸引を行った後に、前記キャリッジの下方から離間するように移動し、
前記ワイピング部は、
前記配置方向に沿って移動可能であり、前記吸引部によって前記機能液が吸引された順に前記キャリッジの前記ヘッドを払拭する、描画方法。
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Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004014393A (ja) | 2002-06-10 | 2004-01-15 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法及び蛍光面形成装置 |
JP2007307915A (ja) | 2004-02-13 | 2007-11-29 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置 |
US20080024532A1 (en) | 2006-07-26 | 2008-01-31 | Si-Kyoung Kim | Methods and apparatus for inkjet printing system maintenance |
JP2008155113A (ja) | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2009274068A (ja) | 2009-07-07 | 2009-11-26 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置 |
JP2010164776A (ja) | 2009-01-15 | 2010-07-29 | Toshiba Corp | 液滴噴射装置及び物品の製造方法 |
JP2010198028A (ja) | 2010-04-02 | 2010-09-09 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置 |
JP2011075789A (ja) | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | インクジェット塗布装置およびインクジェット塗布装置におけるインクジェットヘッドの洗浄方法。 |
JP2015188877A (ja) | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | インクジェット式塗布ヘッドの清掃装置及び塗布液塗布装置 |
JP2016077966A (ja) | 2014-10-16 | 2016-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
US20160288508A1 (en) | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Liquid Ejection Apparatus |
US20180065293A1 (en) | 2015-03-12 | 2018-03-08 | Lg Electronics Inc. | Printing apparatus for building three-dimensional object |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4347187B2 (ja) * | 2004-02-13 | 2009-10-21 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
JP2006076067A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 |
JP4258544B2 (ja) * | 2006-10-16 | 2009-04-30 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法 |
JP4967741B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2012-07-04 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法 |
JP2009006212A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置 |
JP2009136773A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Seiko Epson Corp | パターン形成装置 |
AU2009202638A1 (en) * | 2009-06-29 | 2011-01-20 | Kim McLeod | System for storing and dispensing delineation devices |
JP2011177643A (ja) * | 2010-03-01 | 2011-09-15 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置 |
JP5621276B2 (ja) * | 2010-03-01 | 2014-11-12 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出装置 |
JP2018049805A (ja) | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置、塗布方法、および有機elディスプレイ |
-
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Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004014393A (ja) | 2002-06-10 | 2004-01-15 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法及び蛍光面形成装置 |
JP2007307915A (ja) | 2004-02-13 | 2007-11-29 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置 |
US20080024532A1 (en) | 2006-07-26 | 2008-01-31 | Si-Kyoung Kim | Methods and apparatus for inkjet printing system maintenance |
JP2008155113A (ja) | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2010164776A (ja) | 2009-01-15 | 2010-07-29 | Toshiba Corp | 液滴噴射装置及び物品の製造方法 |
JP2009274068A (ja) | 2009-07-07 | 2009-11-26 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置 |
JP2011075789A (ja) | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | インクジェット塗布装置およびインクジェット塗布装置におけるインクジェットヘッドの洗浄方法。 |
JP2010198028A (ja) | 2010-04-02 | 2010-09-09 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置 |
JP2015188877A (ja) | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | インクジェット式塗布ヘッドの清掃装置及び塗布液塗布装置 |
JP2016077966A (ja) | 2014-10-16 | 2016-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
US20180065293A1 (en) | 2015-03-12 | 2018-03-08 | Lg Electronics Inc. | Printing apparatus for building three-dimensional object |
US20160288508A1 (en) | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Liquid Ejection Apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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