JP2020040029A - 描画装置および描画方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】描画装置の装置面積を小さくする技術を提供する。【解決手段】実施形態に係る描画装置は、描画部と、メンテナンス部とを備える。描画部は、搬送方向に沿って移動するワークに機能液を吐出してワークに描画を行う。メンテナンス部は、搬送方向に沿って描画部の下方に移動した状態で描画部のヘッドをメンテナンスする。【選択図】図２Ｂ

Description

本開示は、描画装置および描画方法に関する。
特許文献１には、搬送される基板にインクジェット方式で塗布液の液滴を塗布することが開示されている。
特開２０１８−４９８０５号公報
本開示は、描画装置の装置面積を小さくする技術を提供する。
本開示の一態様による描画装置は、描画部と、メンテナンス部とを備える。描画部は、搬送方向に沿って移動するワークに機能液を吐出してワークに描画を行う。メンテナンス部は、搬送方向に沿って描画部の下方に移動した状態で描画部のヘッドをメンテナンスする。
本開示によれば、描画装置の装置面積を小さくすることができる。
図１は、実施形態に係る描画システムの概略構成を示すブロック図である。 図２Ａは、実施形態に係る描画ユニットの概略構成を示す平面図である。 図２Ｂは、実施形態に係る描画ユニットの概略構成を示す右側面図である。 図３は、実施形態に係るキャリッジの概略構成を示す平面図である。 図４は、実施形態に係る吸引部の概略構成を示す平面図である。 図５は、実施形態に係る描画装置において、受け渡しエリアに基板が搬送された状態を示す概略図である。 図６は、実施形態に係る描画装置において、描画部の下方にロール紙を配置した状態を示す概略図である。 図７は、実施形態に係る描画装置において、撮像装置の下方にロール紙を配置した状態を示す概略図である。 図８は、実施形態に係る描画装置において、描画部の下方に第２メンテナンス部が配置された状態を示す概略図である。 図９は、実施形態に係る第２メンテナンス部のメンテナンス作業における吸引部、およびワイピング部の動きを説明する図である。 図１０は、実施形態に係る第２メンテナンス部のメンテナンス作業処理を示すフローチャートである。 図１１は、変形例に係る第２メンテナンス部の構成を示す平面図である。
以下、添付図面を参照して、本願の開示する描画装置および描画方法の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態により開示される描画装置および描画方法が限定されるものではない。
以下参照する各図面では、説明を分かりやすくするために、互いに直交するＸ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする直交座標系を示す。
また、ここでは、Ｙ軸正方向を前方とし、Ｙ軸負方向を後方とする前後方向を規定し、Ｘ軸負方向を右方とし、Ｘ軸正方向を左方とする左右方向を規定する。また、Ｚ軸正方向を上方とし、Ｚ軸負方向を下方とする上下方向を規定する。Ｙ軸方向、すなわち前後方向は、基板Ｓが搬送される搬送方向に一致する。
＜全体構成＞
実施形態に係る描画システム１について図１を参照し説明する。図１は、実施形態に係る描画システム１の概略構成を示すブロック図である。
実施形態に係る描画システム１は、例えば、フラットパネルディスプレイを製造するラインに組み込まれる。描画システム１は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色からなるカラーフィルタの着色層を形成する３つの描画装置２を備える。
描画装置２は、描画ユニット３と、制御装置４とを備える。描画ユニット３は、基板Ｓ（図２参照）に対して機能液である液滴（以下、「インク」と称する）を吐出し、基板Ｓに描画を行う。描画ユニット３の詳細については、後述する。なお、描画装置２は、一定の温度条件で基板Ｓに対してインクを吐出し、描画を行うように、温度管理された部屋や、チャンバー内に設けられる。
描画装置２には、例えば、ロボットアームなどの搬送装置５によって基板Ｓが搬入される。また、描画が終了した基板Ｓは、搬送装置５によって描画装置２から搬出される。搬送装置５は、描画ユニット３よりも前方に配置される。
制御装置４は、例えば、コンピュータであり、制御部（不図示）と記憶部（不図示）とを備える。記憶部は、例えば、ＲＡＭ（Random Access Memory）、フラッシュメモリ（Flash Memory）などの半導体メモリ素子、または、ハードディスク、光ディスクなどの記憶装置によって実現される。
制御部は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ、入出力ポート等を含むマイクロコンピュータや各種回路を含む。マイクロコンピュータのＣＰＵは、ＲＯＭに記憶されているプログラムを読み出して実行することにより、描画装置２や、搬送装置５の制御を実現する。
なお、プログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されており、記憶媒体から制御装置４の記憶部にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。
＜描画ユニットの構成＞
次に、実施形態に係る描画ユニット３について図２Ａ、および図２Ｂを参照し説明する。図２Ａは、実施形態に係る描画ユニット３の概略構成を示す平面図である。図２Ｂは、実施形態に係る描画ユニット３の概略構成を示す右側面図である。
描画ユニット３は、搬送部１０と、描画部１１と、第１メンテナンス部１２と、第２メンテナンス部１３とを備える。
搬送部１０は、例えば、前後方向に延設されるレール（不図示）に沿って移動する。搬送部１０は、基板Ｓを保持する保持機構（不図示）や、搬送装置５との間で基板Ｓの受け渡しを行う際に基板Ｓをリフトピンによって下方から支持して持ち上げるリフト機構（不図示）などを備える。
搬送部１０は、搬送装置５（図１参照）側、すなわち前方に設けられた受け渡しエリアＡで基板Ｓを受け取り、基板Ｓを保持する。搬送部１０は、基板Ｓを保持した状態で受け渡しエリアＡから前後方向に沿って往復する。そして、搬送部１０は、描画が終了した基板Ｓを受け渡しエリアＡにおいて搬送装置５に受け渡す。なお、図２Ａ、および図２Ｂでは、受け渡しエリアＡにおける搬送部１０、および基板Ｓが一点鎖線で示されている。
描画部１１は、搬送方向に沿って移動する基板Ｓ（ワークの一例）にインク（機能液の一例）を吐出して基板Ｓに描画を行う。すなわち、描画部１１は、搬送部１０によって前後方向に沿って往復する基板Ｓに対してインクを吐出し、基板Ｓに描画を行う。
描画部１１は、前後方向における位置が固定される。また、描画部１１は、上下方向に移動可能である。具体的には、描画部１１は、上下方向に沿って形成された支持部材２０に取り付けられた支持枠２１に支持され、駆動機構(不図示)によって上下方向に沿って移動する。描画部１１は、基板Ｓに描画を行う描画位置と、描画位置よりも上方のメンテナンス位置との間を移動する。
描画部１１は、複数のキャリッジ２２を備える。キャリッジ２２は、左右方向に並んで設けられる。ここでは、一例として、３つのキャリッジ２２を備える描画部１１を用いて説明するが、キャリッジ２２の数は、これに限られることはない。
キャリッジ２２は、図３に示すように、複数のヘッド２３を備える。すなわち、描画部１１は、複数のヘッド２３をそれぞれ有し、左右方向（搬送方向に直交する水平方向の一例）に沿って配置される複数のキャリッジ２２を備える。図３は、実施形態に係るキャリッジ２２の概略構成を示す平面図である。
ヘッド２３は、下方に向けてインクを吐出する。ヘッド２３は、左右方向に沿って２列設けられる。また、ヘッド２３は、前後方向に沿って６列設けられる。なお、前後方向に隣接するヘッド２３は、左右方向における位置をずらして設けられる。例えば、前後方向に隣接するヘッド２３は、後方から前方となるにつれて右方（Ｘ軸負方向）に位置するように設けられる。
ヘッド２３は、左右方向において１列であってもよく、また、３列以上の複数列設けられてもよい。
図２Ａ、および図２Ｂに戻り、第１メンテナンス部１２は、搬送部１０よりも後方に設けられる。第１メンテナンス部１２は、例えば、前後方向に延設されるレール（不図示）に沿って移動する。第１メンテナンス部１２は、メンテナンス作業を行わない場合には、後端の待機位置にあり、メンテナンス作業を行う場合には、待機位置から前方に移動する。
第１メンテナンス部１２は、ロール紙３０と、重量計測部３１とを備える。第１メンテナンス部１２は、描画部１１によって基板Ｓに描画が行われた後に、描画部１１の下方にロール紙３０が位置するように待機位置から移動する。また、第１メンテナンス部１２は、描画部１１からインクが吐出されたロール紙３０が、描画部１１よりも前方に配置された撮像装置３２の下方に位置するように移動する。撮像装置３２は、ロール紙３０に吐出されたインクの吐出状態を撮影する。
なお、撮像装置３２は、上下方向に移動可能である。具体的には、撮像装置３２は、支持部材２０に取り付けられた支持アーム３３に支持され、駆動機構（不図示）によって上下方向に沿って移動する。
重量計測部３１は、予め設定された第１所定タイミング、例えば、１週間に１回のタイミングでヘッド２３から吐出されるインクの重量計測を行う。なお、インクの重量計測は、作業者の操作に基づいて行うこともできる。
第２メンテナンス部１３は、搬送部１０よりも後方に設けられる。第２メンテナンス部１３は、例えば、前後方向に延設されるレール（不図示）に沿って移動する。第２メンテナンス部１３は、メンテナンス作業を行わない場合には、後端の待機位置にあり、メンテナンス作業を行う場合には、待機位置から前方のメンテナンス位置に移動する。
第２メンテナンス部１３は、待機位置では、第１メンテナンス部１２の上方に位置する。すなわち、第１メンテナンス部１２、および第２メンテナンス部１３が各待機位置にある場合には、第１メンテナンス部１２、および第２メンテナンス部１３は、上下方向に積層された状態となる。これにより、描画装置２は、前後方向の長さを短くすることができる。
第２メンテナンス部１３（メンテナンス部の一例）は、搬送方向に沿って描画部１１の下方に移動した状態で描画部１１のヘッド２３をメンテナンスする。第２メンテナンス部１３は、予め設定された第２所定タイミング、例えば、１日に数回、メンテナンス作業として定期フラッシング処理、吸引処理、およびワイピング処理を行う。
定期フラッシング処理は、ヘッド２３内に残ったインクを吐出させる処理である。吸引処理は、ヘッド２３内に残ったインクを吸引し、インクを強制的に排出させる処理である。ワイピング処理は、インクが吸引されたヘッド２３を払拭する処理である。
なお、定期フラッシング処理、吸引処理、およびワイピング処理は、ヘッド２３の交換時などにも行われる。また、定期フラッシング処理、吸引処理、およびワイピング処理は、作業者の操作に基づいて行うこともできる。
第２メンテナンス部１３は、複数の吸引部４０と、ワイピング部４１とを備える。
吸引部４０は、キャリッジ２２に対応して設けられ、キャリッジ２２の配置方向である左右方向に並んで設けられる。例えば、図２Ａに示すように、キャリッジ２２が３つ設けられた場合には、吸引部４０は、３つ設けられる。
吸引部４０は、支持台４３に対して前後方向に沿って移動可能である。吸引部４０は、例えば、前後方向に延設されるレール（不図示）に沿って移動する。
吸引部４０は、図４に示すように、複数のキャップ４２を備える。図４は、実施形態に係る吸引部４０の概略構成を示す平面図である。
キャップ４２は、ヘッド２３に対応して設けられ、上下方向でヘッド２３に対峙可能となるように設けられる。例えば、キャップ４２は、左右方向に沿って２列、および前後方向に沿って６列設けられる。また、前後方向に隣接するキャップ４２は、左右方向における位置がずらして設けられる。
キャップ４２は、昇降機構（不図示）によって上下方向に移動し、ヘッド２３に密着可能である。キャップ４２は、ヘッド２３から吐出されるインクを受ける。具体的には、キャップ４２は、定期フラッシング処理時には、ヘッド２３に密着せずにヘッド２３から吐出されるインクを受ける。また、キャップ４２は、吸引処理時には、ヘッド２３に密着し、ヘッド２３から吸引されるインクを受ける。
なお、吸引処理時には、ヘッド２３に密着したキャップ４２内が吸引機構（不図示）によって負圧とされることで、ヘッド２３内に残ったインクが吸引される。また、キャップ４２は、定期フラッシング処理時に、ヘッド２３と密着してインクを受けてもよい。
複数の吸引部４０は、複数のキャリッジ２２に対応して左右方向（複数のキャリッジの配置方向の一例）に沿って配置され、ヘッド２３からインク（機能液の一例）を吸引する。
ワイピング部４１は、吸引部４０によってインク（機能液の一例）が吸引されたヘッド２３を払拭する。ワイピング部４１は、吸引部４０よりも右方に配置される。ワイピング部４１は、支持台４３に対して左右方向に沿って移動可能である。ワイピング部４１は、例えば、左右方向に延設されるレール（不図示）に沿って移動する。すなわち、ワイピング部４１は、左右方向（配置方向の一例）に沿って移動可能であり、吸引部４０によってインク（機能液の一例）が吸引されたヘッド２３を払拭する。
ワイピング部４１は、複数のロール部４４と、ワイピングシート４５とを備える。ロール部４４は、例えば、スポンジゴムであり、左右方向の両端に配置され、駆動機構（不図示）によって回転する。ワイピングシート４５は、ロール部４４に掛け渡され、ロール部４４の回転に伴って回転し、インクを拭き取る払拭面が新しくなる。
ワイピング部４１は、払拭面が右方から左方に向けて移動するように、ロール部４４を回転させる。ワイピング部４１は、ワイピングシート４５によってヘッド２３の先端に付着したインクを拭き取り、ヘッド２３を払拭する。
＜描画処理＞
描画装置２は、図５に示すように、受け渡しエリアＡによって搬送装置５から基板Ｓが受け渡されると、搬送部１０によって基板Ｓを前後方向に往復させ、描画部１１によってインクを基板Ｓに向けて吐出し、基板Ｓに描画を行う。図５は、実施形態に係る描画装置２において、受け渡しエリアＡに基板Ｓが搬送された状態を示す概略図である。描画装置２は、描画が終了すると、搬送部１０によって基板Ｓを受け渡しエリアＡに搬送する。
また、描画装置２は、図６に示すように、第１メンテナンス部１２を待機位置から前方に移動させて、描画部１１の下方にロール紙３０に配置し、描画部１１からロール紙３０にインクを吐出する。図６は、実施形態に係る描画装置２において、描画部１１の下方にロール紙３０を配置した状態を示す概略図である。また、描画装置２は、第２メンテナンス部１３において吸引部４０を前方に移動させる。
そして、描画装置２は、図７に示すように、第１メンテナンス部１２を前方に移動させて、撮像装置３２の下方にロール紙３０を配置し、インクの吐出状態を撮像装置３２によって撮影する。図７は、実施形態に係る描画装置２において、撮像装置３２の下方にロール紙３０を配置した状態を示す概略図である。
描画装置２は、第２所定タイミングになった場合には、描画後の基板Ｓを受け渡しエリアＡに搬送し、インクの吐出状態を撮影した後に、第２メンテナンス部１３による定期フラッシング処理、吸引処理、およびワイピング処理を実行する。
描画装置２は、図８に示すように、描画部１１、および撮像装置３２を上方に移動させる。そして、描画装置２は、第２メンテナンス部１３を待機位置からメンテナンス位置に移動させて、描画部１１のキャリッジ２２の下方に第２メンテナンス部１３の吸引部４０を配置する。すなわち、第２メンテナンス部１３（メンテナンス部の一例）は、上方に移動した描画部１１の下方に移動する。図８は、実施形態に係る描画装置２において、描画部１１の下方に第２メンテナンス部１３が配置された状態を示す概略図である。
具体的には、描画装置２は、キャリッジ２２のヘッド２３（図３参照）と、吸引部４０のキャップ４２（図４参照）とが対峙するように、第２メンテナンス部１３を移動させる。
ここで、第２メンテナンス部１３のメンテナンス作業について図９を参照し説明する。図９は、実施形態に係る第２メンテナンス部１３のメンテナンス作業における吸引部４０、およびワイピング部４１の動きを説明する図である。図９では、キャリッジ２２が、二点鎖線で示されている。また、図９では、吸引処理が行われているキャリッジ２２にハッチングを施している。
また、ここでは、３つのキャリッジ２２を区別するために、３つのキャリッジ２２を右方側から順に、キャリッジ２２Ａ、キャリッジ２２Ｂ、およびキャリッジ２２Ｃと称する。また、同様に、３つの吸引部４０を区別するために、３つの吸引部４０を右方側から順に、吸引部４０Ａ、吸引部４０Ｂ、および吸引部４０Ｃと称する。
描画装置２は、まず、キャリッジ２２Ａ〜２２Ｃの下方に吸引部４０Ａ〜４０Ｃをそれぞれ配置し、キャリッジ２２Ａ〜２２Ｃにおいて定期フラッシング処理を行い、キャリッジ２２Ａ〜２２Ｃの各ヘッド２３（図３参照）からインクを吐出する。ヘッド２３から吐出されたインクは、吸引部４０Ａ〜４０Ｃのキャップ４２（図４参照）を介して回収される。回収されたインクは、廃液管（不図示）を通じて廃液される。
描画装置２は、ワイピング部４１に最も近い右方端の吸引部４０Ａによってキャリッジ２２Ａに吸引処理を行う。なお、描画装置２は、キャリッジ２２Ｂ、およびキャリッジ２２Ｃでは、定期フラッシング処理を継続する。
描画装置２は、キャリッジ２２Ａにおける吸引処理が終了すると、吸引部４０Ａを退避位置に移動させる。具体的には、描画装置２は、吸引部４０Ａを後方に移動させる。
また、描画装置２は、ワイピング部４１を左方に移動させ、ワイピング部４１をキャリッジ２２Ａの下方に配置し、キャリッジ２２Ａにワイピング処理を行う。ワイピング部４１は、キャリッジ２２Ａのヘッド２３の先端に付着したインクをワイピングシート４５によって拭き取り、キャリッジ２２Ａのヘッド２３を払拭する。
例えば、ワイピング部４１は、左方に移動した後にロール部４４によってワイピングシート４５を移動させることで、ヘッド２３の先端に付着したインクを拭き取る。なお、ワイピング部４１は、左方に移動しながら、ロール部４４によってワイピングシート４５を移動させて、ヘッド２３の先端に付着したインクを拭き取ってもよい。
また、描画装置２は、ワイピング部４１によってキャリッジ２２Ａにワイピング処理を行いつつ、吸引部４０Ｂにおいてキャリッジ２２Ｂの吸引処理を行う。例えば、描画装置２は、キャリッジ２２Ａのヘッド２３の払拭を行うと同時に、キャリッジ２２Ｂのヘッド２３の吸引を行う。なお、描画装置２は、キャリッジ２２Ｃでは、定期フラッシング処理を継続する。
描画装置２は、キャリッジ２２Ｂにおける吸引処理が終了すると、吸引部４０Ｂを退避位置に移動させる。
また、描画装置２は、ワイピング部４１を左方に移動させ、ワイピング部４１をキャリッジ２２Ｂの下方に配置し、キャリッジ２２Ｂにワイピング処理を行う。ワイピング部４１は、キャリッジ２２Ｂのヘッド２３の先端に付着したインクをワイピングシート４５によって拭き取り、キャリッジ２２Ｂのヘッド２３を払拭する。なお、拭き取り方法は、キャリッジ２２Ａにおける拭き取り方法と同じである。
また、描画装置２は、ワイピング部４１によってキャリッジ２２Ｂにワイピング処理を行いつつ、吸引部４０Ｃにおいてキャリッジ２２Ｃの吸引処理を行う。例えば、描画装置２は、キャリッジ２２Ｂのヘッド２３の払拭を行うと同時に、キャリッジ２２Ｃのヘッド２３の吸引を行う。
さらに、描画装置２は、吸引部４０Ａを前方に移動させ、吸引部４０Ａをキャリッジ２２Ａの下方に配置し、キャリッジ２２Ａにおいて定期フラッシング処理を行う。描画装置２は、吸引処理が終了したキャリッジ２２Ａにおいて定期フラッシング処理を行うことで、キャリッジ２２Ａにおけるインクの吐出状態を維持する。
描画装置２は、キャリッジ２２Ｃにおける吸引処理が終了すると、吸引部４０Ｃを退避位置に移動させる。
また、描画装置２は、ワイピング部４１を左方に移動させ、ワイピング部４１をキャリッジ２２Ｃの下方に配置し、キャリッジ２２Ｃにワイピング処理を行う。ワイピング部４１は、キャリッジ２２Ｃのヘッド２３の先端に付着したインクをワイピングシート４５によって拭き取り、キャリッジ２２Ｃのヘッド２３を払拭する。なお、拭き取り方法は、キャリッジ２２Ａにおける拭き取り方法と同じである。
また、描画装置２は、吸引部４０Ｂを前方に移動させて、吸引部４０Ｂをキャリッジ２２Ｂの下方に配置する。描画装置２は、キャリッジ２２Ａ、およびキャリッジ２２Ｂにおいて定期フラッシング処理を行う。
描画装置２は、キャリッジ２２Ｃのワイピング処理が終了すると、ワイピング部４１を左方に移動させる。また、描画装置２は、吸引部４０Ｃを前方に移動させ、吸引部４０Ｃをキャリッジ２２Ｃの下方に配置する。描画装置２は、キャリッジ２２Ａ〜２２Ｃにおいて定期フラッシング処理を行う。
このように、吸引部４０Ａ〜４０Ｃは、左右方向（配置方向の一例）においてワイピング部４１から近い順に吸引を行った後に、キャリッジ２２Ａ〜２２Ｃの下方から離間するように移動する。そして、ワイピング部４１は、吸引が行われた順にキャリッジ２２Ａ〜２２Ｃのヘッド２３を払拭する。
これにより、描画装置２は、キャリッジ２２Ａ〜２２Ｃにおいて、吸引からワイピング部４１による拭き取りまでの時間を均一にすることができる。そのため、描画装置２は、キャリッジ２２Ａ〜２２Ｃにおけるヘッド２３の払拭状態に均一にすることができ、キャリッジ２２Ａ〜２２Ｃのヘッド２３から吐出されるインクの吐出状態を均一にすることができ、描画精度を向上させることができる。
また、描画装置２は、吸引処理が行われていないキャリッジ２２Ａ〜２３Ｃでは定期フラッシング処理を行うことで、キャリッジ２２Ａ〜２３Ｃのヘッド２３の状態を維持することができる。
なお、第２メンテナンス部１３では、例えば、メンテナンス作業が終了し、第２メンテナンス部１３が待機位置に移動した後に、吸引部４０Ａ〜４０Ｃが後方に移動し、ワイピング部４１が右方に移動する。
次に、実施形態に係る第２メンテナンス部１３のメンテナンス作業について図１０のフローチャートを参照し説明する。図１０は、実施形態に係る第２メンテナンス部１３のメンテナンス作業処理を示すフローチャートである。
描画装置２は、第２メンテナンス部１３を待機位置からメンテナンス位置に移動させる（Ｓ１０）。
描画装置２は、第２メンテナンス部１３によってメンテナンス作業を行う（Ｓ１１）。描画装置２は、キャリッジ２２に対し、定期フラッシング処理、吸引処理、およびワイピング処理を行う。描画装置２は、左右方向においてワイピング部４１から近い順にキャリッジ２２に吸引処理、およびワイピング処理を行う。
描画装置２は、吸引処理中、またはワイピング処理中ではないキャリッジ２２に定期フラッシング処理を行う。
描画装置２は、全てのキャリッジ２２においてメンテナンス作業が終了するまで（Ｓ１２：Ｎｏ）、メンテナンス作業を継続する（Ｓ１１）。
描画装置２は、全てのキャリッジ２２においてメンテナンス作業が終了すると（Ｓ１２：Ｙｅｓ）、第２メンテナンス部１３をメンテナンス位置から待機位置に移動させ（Ｓ１３）、今回の処理を終了する。
＜効果＞
比較例に係る描画装置は、例えば、第２メンテナンス部を基板の搬送方向に対して直交する左右方向に配置し、第２メンテナンス部、またはキャリッジを左右方向に移動させてメンテナンス作業が行われる。すなわち、比較例に係る描画装置は、左右方向への移動スペースが必要となり、全体的な装置面積が大きくなる。
描画装置２は、搬送方向に沿って移動する基板Ｓ（ワークの一例）にインク（機能液の一例）を吐出して基板Ｓに描画を行う描画部１１と、搬送方向に沿って描画部１１の下方に移動した状態で描画部１１のヘッド２３をメンテナンスする第２メンテナンス部１３（メンテナンス部の一例）とを備える。
換言すると、描画装置２は、描画方向として、搬送方向に沿って移動する基板Ｓ（ワークの一例）に描画部１１からインク（機能液の一例）を吐出して基板Ｓに描画を行う工程と、搬送方向に沿って描画部１１の下方に移動し、描画部１１のヘッド２３をメンテナンスする工程とを有する。
これにより、描画装置２は、装置面積を小さくすることができる。描画装置２は、第２メンテナンス部１３を搬送方向である前後方向に沿って移動させることで、左右方向における装置面積を小さくし、全体的な装置面積を小さくすることができる。
また、描画部１１は、複数のヘッド２３をそれぞれ有し、左右方向（搬送方向に直交する水平方向の一例）に沿って配置される複数のキャリッジ２２を備える。また、第２メンテナンス部１３（メンテナンス部の一例）は、複数のキャリッジ２２に対応して左右方向（複数のキャリッジ２２の配置方向の一例）に沿って配置され、ヘッド２３からインク（機能液の一例）を吸引する複数の吸引部４０と、吸引部４０によってインクが吸引されたヘッド２３を払拭するワイピング部４１とを備える。
これにより、描画装置２は、第２メンテナンス部１３を前後方向に移動させて、第２メンテナンス部１３によってキャリッジ２２における吸引処理などを行うことができる。そのため、描画装置２は、左右方向における装置面積を小さくし、全体的な装置面積を小さくすることができる。
また、ワイピング部４１は、左右方向（配置方向の一例）に沿って移動可能であり、吸引部４０によってインク（機能液の一例）が吸引されたヘッド２３を払拭する。
これにより、描画装置２は、１つのワイピング部４１で複数のキャリッジ２２のヘッド２３を払拭することができる。また、描画装置２は、で複数のキャリッジ２２のヘッド２３を払拭することで、コストを削減することができる。
また、吸引部４０は、左右方向（配置方向の一例）においてワイピング部４１から近い順に吸引を行った後に、キャリッジ２２の下方から離間するように移動する。ワイピング部４１は、吸引が行われた順にキャリッジ２２のヘッド２３を払拭する。
これにより、描画装置２は、キャリッジ２２のヘッド２３において吸引からワイピング部４１におけるインクの拭き取りまでの時間を均一にすることができる。そのため、描画装置２は、キャリッジ２２におけるヘッド２３の払拭状態を均一にすることができ、キャリッジ２２のヘッド２３から吐出されるインクの吐出状態を均一にすることができる。従って、描画装置２は、基板Ｓに対してインクを均一に吐出することができ、描画精度を向上させることができる。
また、描画部１１は、上下方向に移動可能である。第２メンテナンス部１３（メンテナンス部の一例）は、上方に移動した描画部１１の下方に移動する。
これにより、描画装置２は、第１メンテナンス部１２と第２メンテナンス部１３とを待機位置において上下方向に積層する場合に、第２メンテナンス部１３を前後方向に移動させることで、第２メンテナンス部１３によるメンテナンス作業を行うことができる。そのため、描画装置２は、描画装置２は、前後方向の長さを短くすることができる。
＜変形例＞
変形例に係る描画装置２は、図１１に示すように、第２メンテナンス部５０として、複数の吸引部５１と、複数のワイピング部５２とを備えてもよい。図１１は、変形例に係る第２メンテナンス部５０の構成を示す平面図である。
ワイピング部５２は、吸引部５１に対応して設けられ、左右方向に沿って配置される。吸引部５１は、キャリッジ２２（図２Ａなど参照）に対応して設けられる。すなわち、変形例に係る描画装置２の第２メンテナンス部５０（メンテナンス部の一例）は、複数のキャリッジ２２に対応して左右方向（配置方向の一例）に沿って配置される複数のワイピング部５２を備える。
変形例に係る描画装置２は、吸引部５１によって吸引処理を行った後に、第２メンテナンス部５０を前方に移動させて、キャリッジ２２の下方にワイピング部５２を配置する。そして、変形例に係る描画装置２は、複数のキャリッジ２２のヘッド２３（図３参照）の払拭を同時に行う。
これにより、変形例に係る描画装置２は、複数のキャリッジ２２に対して同時に吸引処理、およびワイピング処理を行うことができ、メンテナンス作業時間を短くすることができる。
また、変形例に係る描画装置２は、ワイピング部４１に対して複数のワイピングシート４５を備えてもよい。例えば、変形例に係る描画装置２は、２つのワイピングシート４５を左右方向に並べて配置し、キャリッジ２２において左右方向に並べて配置されたヘッド２３を、各ワイピングシート４５によって払拭してもよい。
また、変形例に係る描画装置２は、第２メンテナンス部１３を上下方向に移動可能であってもよい。変形例に係る描画装置２は、第２メンテナンス部１３によってメンテナンス作業を行う場合に、第２メンテナンス部１３を待機位置から前方の移動させた後に、下方に移動させる。そして、変形例に係る描画装置２は、第２メンテナンス部１３を下方に移動させた後に、前方に移動させて、キャリッジ２２の下方に第２メンテナンス部１３を配置する。すなわち、変形例に係る描画装置２は、上下方向に移動可能であり、上方の待機位置から下方に移動した後に、描画部１１の下方に移動する。
これにより、変形例に係る描画装置２は、描画部１１を上下方向に移動させずに、第２メンテナンス部１３によってメンテナンスを行うことができる。すなわち、変形例に係る描画装置２は、描画部１１を移動させる機構を設けずに、描画部１１を支持部材２０（図２Ａ参照）に固定して基板Ｓに描画を行うことができる。そのため、変形例に係る描画装置２は、描画部１１の位置がずれることを抑制し、描画精度を向上させることができる。
なお、今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
１ 描画システム
２ 描画装置
３ 描画ユニット
１１ 描画部
１３ 第２メンテナンス部（メンテナンス部）
２２ キャリッジ
２３ ヘッド
４０ 吸引部
４１ ワイピング部
４４ ロール部
４５ ワイピングシート
５０ 第２メンテナンス部（メンテナンス部）
５１ 吸引部
５２ ワイピング部

Claims (8)

  1. 搬送方向に沿って移動するワークに機能液を吐出して前記ワークに描画を行う描画部と、
    前記搬送方向に沿って前記描画部の下方に移動した状態で前記描画部のヘッドをメンテナンスするメンテナンス部と
    を備える描画装置。
  2. 前記描画部は、
    複数のヘッドをそれぞれ有し、前記搬送方向に直交する水平方向に沿って配置される複数のキャリッジ
    を備え、
    前記メンテナンス部は、
    複数の前記キャリッジに対応して複数の前記キャリッジの配置方向に沿って配置され、前記ヘッドから前記機能液を吸引する複数の吸引部と、
    前記吸引部によって前記機能液が吸引された前記ヘッドを払拭するワイピング部と
    を備える請求項１に記載の描画装置。
  3. 前記ワイピング部は、
    前記配置方向に沿って移動可能であり、前記吸引部によって前記機能液が吸引された前記ヘッドを払拭する
    請求項２に記載の描画装置。
  4. 前記吸引部は、
    前記配置方向において前記ワイピング部から近い順に吸引を行った後に、前記キャリッジの下方から離間するように移動し、
    前記ワイピング部は、
    吸引が行われた順に前記キャリッジの前記ヘッドを払拭する
    請求項３に記載の描画装置。
  5. 前記メンテナンス部は、
    前記複数のキャリッジに対応して前記配置方向に沿って配置される複数のワイピング部
    を備える
    請求項２に記載の描画装置。
  6. 前記描画部は、
    上下方向に移動可能であり、
    前記メンテナンス部は、
    上方に移動した前記描画部の下方に移動する
    請求項１〜５のいずれか一つに記載の描画装置。
  7. 前記メンテナンス部は、
    上下方向に移動可能であり、上方の待機位置から下方に移動した後に、前記描画部の下方に移動する
    請求項１〜５のいずれか一つに記載の描画装置。
  8. 搬送方向に沿って移動するワークに描画部から機能液を吐出して前記ワークに描画を行う工程と、
    前記搬送方向に沿って前記描画部の下方に移動し、前記描画部のヘッドをメンテナンスする工程と
    を有する描画方法。
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Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004014393A (ja) * 2002-06-10 2004-01-15 Dainippon Printing Co Ltd プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法及び蛍光面形成装置
JP2007307915A (ja) * 2004-02-13 2007-11-29 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置
US20080024532A1 (en) * 2006-07-26 2008-01-31 Si-Kyoung Kim Methods and apparatus for inkjet printing system maintenance
JP2008155113A (ja) * 2006-12-22 2008-07-10 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、及びデバイスの製造方法
JP2009274068A (ja) * 2009-07-07 2009-11-26 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置
JP2010164776A (ja) * 2009-01-15 2010-07-29 Toshiba Corp 液滴噴射装置及び物品の製造方法
JP2010198028A (ja) * 2010-04-02 2010-09-09 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置
JP2011075789A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd インクジェット塗布装置およびインクジェット塗布装置におけるインクジェットヘッドの洗浄方法。
JP2015188877A (ja) * 2014-03-28 2015-11-02 芝浦メカトロニクス株式会社 インクジェット式塗布ヘッドの清掃装置及び塗布液塗布装置
JP2016077966A (ja) * 2014-10-16 2016-05-16 東京エレクトロン株式会社 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
US20160288508A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Liquid Ejection Apparatus
US20180065293A1 (en) * 2015-03-12 2018-03-08 Lg Electronics Inc. Printing apparatus for building three-dimensional object

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4347187B2 (ja) * 2004-02-13 2009-10-21 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP2006076067A (ja) * 2004-09-08 2006-03-23 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器
JP4258544B2 (ja) * 2006-10-16 2009-04-30 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法
AU2009202638A1 (en) * 2009-06-29 2011-01-20 Kim McLeod System for storing and dispensing delineation devices
JP5621276B2 (ja) * 2010-03-01 2014-11-12 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置
JP2011177643A (ja) * 2010-03-01 2011-09-15 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置
JP2018049805A (ja) 2016-09-23 2018-03-29 東京エレクトロン株式会社 塗布装置、塗布方法、および有機ｅｌディスプレイ

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004014393A (ja) * 2002-06-10 2004-01-15 Dainippon Printing Co Ltd プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法及び蛍光面形成装置
JP2007307915A (ja) * 2004-02-13 2007-11-29 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置
US20080024532A1 (en) * 2006-07-26 2008-01-31 Si-Kyoung Kim Methods and apparatus for inkjet printing system maintenance
JP2008155113A (ja) * 2006-12-22 2008-07-10 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、及びデバイスの製造方法
JP2010164776A (ja) * 2009-01-15 2010-07-29 Toshiba Corp 液滴噴射装置及び物品の製造方法
JP2009274068A (ja) * 2009-07-07 2009-11-26 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置
JP2011075789A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd インクジェット塗布装置およびインクジェット塗布装置におけるインクジェットヘッドの洗浄方法。
JP2010198028A (ja) * 2010-04-02 2010-09-09 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置
JP2015188877A (ja) * 2014-03-28 2015-11-02 芝浦メカトロニクス株式会社 インクジェット式塗布ヘッドの清掃装置及び塗布液塗布装置
JP2016077966A (ja) * 2014-10-16 2016-05-16 東京エレクトロン株式会社 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
US20180065293A1 (en) * 2015-03-12 2018-03-08 Lg Electronics Inc. Printing apparatus for building three-dimensional object
US20160288508A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Liquid Ejection Apparatus

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