JP7208280B2 - 回路基板 - Google Patents

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Description

本発明は、回路基板とそれに用いられる放熱シートに関し、可撓性があり巻き取り可能な回路基板に関するものである。
従来のフレキシブル回路基板は薄膜フリップチップパッケージ(COF)に普遍的に運用されており、パッケージ構造の放熱効果を向上させるために、通常は放熱材を貼り付けてパッケージ構造のチップ及び薄膜基板を被覆させている。
薄膜フリップチップパッケージ構造として、例えば、特許文献1に記載されたものが知られている。薄膜フリップチップパッケージ構造は同じ構造の第一放熱部材及び第二放熱部材を薄膜基板の第一表面及び第二表面にそれぞれ貼り付けている。第一放熱部材は基材と、第一接着層と、熱伝導層と、第一金属層と、第二接着層と、第二金属層と、を備え、第一接着層及び第二接着層の端部は基材、熱伝導層、第一金属層、及び第二金属層の端部に揃えている。
薄膜フリップチップパッケージ構造を圧搾した場合、第一接着層及び第二接着層が圧力により基材、熱伝導層、第一金属層、及び第二金属層の端部に溢れ出すか突出し、薄膜基板の第一表面または第二表面を汚染した。また、薄膜フリップチップパッケージ構造を巻き取った場合にも基材、熱伝導層、第一金属層、第二金属層の端部の第一接着層及び第二接着層に溢れ出すか突出し、薄膜フリップチップパッケージ構造が互いに粘着し、薄膜フリップチップパッケージ構造の品質及び歩留まりに影響を及ぼした。
台湾登録実用新案第M602725号公報
本発明は、上述に鑑みてなされたものであり、その目的は、接着層が放熱シートの放熱層に溢れ出すか突出する事象を回避する回路基板を提供することにある。
本発明の回路基板は、表面及び回路層を有している基板と、放熱層及び接着層を有し、前記接着層により前記基板に貼り付けられ、前記接着層は前記放熱層と前記基板との間に位置し、前記放熱層は前記基板の前記表面に投影し、前記表面に第一投影領域を形成し、前記第一投影領域は第一投影面積を有し、前記接着層は前記基板の前記表面に投影し、前記表面に第二投影領域を形成し、前記第二投影領域は第二投影面積を有している前記放熱シートと、を備え、前記第二投影領域は前記第一投影領域中に位置し、前記第二投影面積は前記第一投影面積未満であり、前記放熱シートは絶縁層を備え、前記放熱層は前記絶縁層と前記接着層との間に位置し、前記絶縁層は接合面を有し、前記放熱層は第二表面を有し、前記絶縁層は前記接合面が前記放熱層の前記第二表面に向けられ、前記放熱層と一体に接合し、前記放熱層の前記第二表面には粗化することで表面粗化層を形成し、前記絶縁層の接合部は前記表面粗化層に潜入し、前記表面粗化層及び前記接合部が混合強化層を構成している。
本発明の回路基板の放熱シートは、第一表面を有している放熱層と、貼り付け面を有し、前記貼り付け面により前記放熱層の前記第一表面に貼り付けられ、回路層を有している基板に放熱シートを貼り付けるために用い、前記第一表面は面積を有し、前記貼り付け面は貼り付け面積を有している接着層と、を備える前記放熱シートであって、前記接着層の前記貼り付け面積は前記第一表面の前記面積未満であり、絶縁層を備え、前記放熱層は前記絶縁層と前記接着層との間に位置し、前記絶縁層は接合面を有し、前記放熱層は第二表面を有し、前記絶縁層は前記接合面が前記放熱層の前記第二表面に向けられ、前記放熱層と一体に接合し、前記放熱層の前記第二表面には粗化することで表面粗化層を形成し、前記絶縁層の接合部は前記表面粗化層に潜入し、前記表面粗化層及び前記接合部が混合強化層を構成している。
本発明は接着層が投影される第二投影領域が、放熱層が投影される第一投影領域中に位置し、第二投影面積は第一投影面積未満であるか、接着層の貼り付け面の貼り付け面積が放熱層の第一表面の面積未満であることにより、接着層が放熱層に溢れ出すか突出して基板を汚染する事象を回避し、複数の回路基板を巻き取る際にこれら回路基板が互いに粘着する事象も回避している。
本発明の第一実施形態に係る回路基板を示す外観斜視図である。 本発明の第一実施形態に係る回路基板を示す平面図である。 本発明の第一実施形態に係る回路基板を示す断面図である。 本発明の第一実施形態に係る放熱シートを示す底面図である。 本発明の第二実施形態に係る回路基板を示す断面図である。 本発明の第三実施形態に係る回路基板を示す断面図である。 本発明の第四実施形態に係る回路基板を示す断面図である。
以下、本発明による実施形態を図面に基づいて説明する。なお、複数の実施形態において実質的に同一の構成部位には同一の符号を付し、説明を省略する。
(第一実施形態)
本発明の第一実施形態について図1から図4に基づいて説明する。
図1から図3に示すように、本発明に係る回路基板100はチップの接合に用い(図示省略)、パッケージ構造(例えば、薄膜フリップチップパッケージ、COF)を構成している。回路基板100は基板110及び放熱シート120を備え、基板110は表面111及び回路層を有している(図示省略)。回路層は表面111または他の表面の設置に限られず、回路層はチップの接合に用いている。
図1、図3及び図4に示すように、放熱シート120は放熱層122及び接着層123を備え、放熱シート120は接着層123により基板110に貼り付けている。放熱層122の材質は金属及びグラファイト等の熱伝導及び放熱材料から選択し、接着層123は放熱層122と基板110との間に位置し、接着層123の厚さは1μm以上である。接着層123の材質は感圧接着剤及び熱硬化性樹脂等の粘着材料から選択している。放熱シート120は絶縁層121を備え、放熱層122は絶縁層121と接着層123との間に位置し、絶縁層121の材質はポリイミド(PI)等の絶縁材料から選択している。
図1、図3及び図4に示すように、接着層123は貼り付け面123aを有し、接着層123は貼り付け面123aにより放熱層122の第一表面122aに貼り付けている。第一表面122aは面積を有し、貼り付け面123aは貼り付け面積を有し、貼り付け面積は面積未満である。本実施形態では、貼り付け面123aは貼り付け端部123bを有し、貼り付け端部123bと同側の放熱層122の第一端部122cとの間には第一距離D1を有している。第一距離D1は20μm以上である。
図2に示すように、絶縁層121は放熱層122に接合している。
本実施形態では、絶縁層121は接合面121aを有し、放熱層122は第二表面122bを有し、絶縁層121は接合面121aが放熱層122の第二表面122bに向けられ、放熱層122と一体に接合している。放熱層122の第二表面122bには粗化することにより(黒化、機械粗化、エッチング等)表面粗化層122dを形成し、絶縁層121の接合部121bは表面粗化層122dに潜入し、表面粗化層122d及び接合部121bが混合強化層Mを構成している。表面粗化層122dは放熱層122及び絶縁層121の接合面積を増加するために用い、混合強化層Mは絶縁層121及び放熱層122の接合強度を強化するために用い、絶縁層121が放熱層122から脱離する事象を回避している。
図1、図2及び図3に示すように、放熱シート120は接着層123により基板110に貼り付け、放熱層122は基板110の表面111に投影し、表面111には第一投影領域A1を形成している。第一投影領域A1は第一投影面積を有し、第一投影領域A1の第一投影端部A11は放熱層122の第一端部122cが投影されることで形成されている。
接着層123は表面111に投影し、表面111には第二投影領域A2を形成し、第二投影領域A2は第一投影領域A1中に位置している。第二投影領域A2は第二投影面積を有し、第二投影領域A2の第二投影端部A21は接着層123の第二端部123cが投影されることにより形成されている。第二投影面積は第一投影面積未満であり、同側の第一投影端部A11と第二投影端部A21との間には第二距離D2を有している。第二距離D2は20μm以上である。
第一投影端部A11、第二投影端部A21、及び放熱層122の第一端部122cにより空間Rを定義し、第二投影領域A2が第一投影領域A1中に位置し、第二投影領域A2の第二投影面積は第一投影領域A1の第一投影面積未満であり、第一距離D1及び第二距離D2により圧搾された接着層123を収容することにより、接着層123が放熱層122に溢れ出すか突出して基板110を汚染する事象を回避し、複数の回路基板100を巻き取る際にこれら回路基板100が互いに粘着する事象も回避している。
(第二実施形態)
図5に示すように、第二実施形態では、放熱層122は少なくとも1つの第一貫通孔122eを有し、第一貫通孔122eは接着層123に連通している。放熱シート120が圧迫されて接着層123を圧搾する場合、第一貫通孔122eは圧搾された接着層123を収容するために用い、接着層123が放熱層122に溢れ出すか突出して基板110を汚染する事象を回避し、複数の回路基板100を巻き取る際にこれら回路基板100が互いに粘着する事象も回避し、第一貫通孔122eが放熱層122の放熱効果を高めている。
この第二実施形態の他の基本的構成は、第一実施形態と同様である。
(第三実施形態)
図6に示すように、第三実施形態では、接着層123は少なくとも1つの第二貫通孔123dを有し、第二貫通孔123dは放熱層122及び基板110に連通している。放熱シート120が圧迫されて接着層123を圧搾する場合、第二貫通孔123dは圧搾された接着層123を収容するために用い、接着層123が放熱層122に溢れ出すか突出して基板110を汚染する事象を回避し、複数の回路基板100を巻き取る際にこれら回路基板100が互いに粘着する事象も回避している。本実施形態では、放熱層122は少なくとも1つの第一貫通孔122eを有し、接着層123は少なくとも1つの第二貫通孔123dを有し、第二貫通孔123dは第一貫通孔122e及び基板110に連通し、第一貫通孔122e及び第二貫通孔123dは圧搾された接着層123を収容するために用い、接着層123が放熱層122に溢れ出すか突出して基板110を汚染する事象を回避し、複数の回路基板100を巻き取る際にこれら回路基板100が互いに粘着する事象も回避している。
この第三実施形態の他の基本的構成は、第一実施形態と同様である。
(第四実施形態)
図7に示すように、第四実施形態では、放熱層122は少なくとも1つの第一貫通孔122eを有し、接着層123は少なくとも1つの第二貫通孔123dを有し、絶縁層121は少なくとも1つの第三貫通孔121cを有し、第二貫通孔123dは第一貫通孔122e及び第三貫通孔121cに連通している。第一貫通孔122e、第二貫通孔123d、及び第三貫通孔121cは圧搾された接着層123を収容するために用い、接着層123が放熱層122に溢れ出すか突出して基板110を汚染する事象を回避し、複数の回路基板100を巻き取る際にこれら回路基板100が互いに粘着する事象も回避している。
本発明は接着層123を表面111の第二投影領域A2に投影し、第二投影領域A2は表面111に投影している放熱層122の第一投影領域A1中に位置し、第二投影面積は第一投影面積未満であり、或いは、接着層123の貼り付け面123aの貼り付け面積は放熱層122の第一表面122aの面積未満であり、接着層123が放熱層122に溢れ出すか突出して基板110を汚染する事象を回避し、複数の回路基板100を巻き取る際にこれら回路基板100が互いに粘着する事象も回避している。
第四実施形態の他の基本的構成は、第一実施形態と同様である。
(その他の実施形態)
回路層は表面または他の表面に設置する。
回路基板は基板及び放熱シートを備え、基板は表面及び回路層を有している。
粗化は、黒化、機械粗化、エッチングに限られない。放熱層122の第二表面122bには粗化することにより表面粗化層122dを形成し、絶縁層121の接合部121bは表面粗化層122dに潜入し、表面粗化層122d及び接合部121bが混合強化層Mを構成している。
その実施形態の他の基本的構成は、第一実施形態と同様である。
以上、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態で実施可能である。
100 回路基板、
110 基板、
111 表面、
120 放熱シート、
121 絶縁層、
121a 接合面、
121b 接合部、
121c 第三貫通孔、
122 放熱層、
122a 第一表面、
122b 第二表面、
122c 第一端部、
122d 表面粗化層、
122e 第一貫通孔、
123 接着層、
123a 貼り付け面、
123b 貼り付け端部、
123c 第二端部、
123d 第二貫通孔、
A1 第一投影領域、
A11 第一投影端部、
A2 第二投影領域、
A21 第二投影端部、
D1 第一距離、
D2 第二距離、
M 混合強化層、
R 空間。

Claims (20)

  1. 表面及び回路層を有している基板と、
    放熱層及び接着層を有し、前記接着層により前記基板に貼り付けられ、前記接着層は前記放熱層と前記基板との間に位置し、前記放熱層は前記基板の前記表面に投影し、前記表面に第一投影領域を形成し、前記第一投影領域は第一投影面積を有し、前記接着層は前記基板の前記表面に投影し、前記表面に第二投影領域を形成し、前記第二投影領域は第二投影面積を有している前記放熱シートと、を備える回路基板であって、
    前記第二投影領域は前記第一投影領域中に位置し、前記第二投影面積は前記第一投影面積未満であり、
    前記放熱シートは絶縁層を備え、前記放熱層は前記絶縁層と前記接着層との間に位置し、前記絶縁層は接合面を有し、前記放熱層は第二表面を有し、前記絶縁層は前記接合面が前記放熱層の前記第二表面に向けられ、前記放熱層と一体に接合し、前記放熱層の前記第二表面には粗化することで表面粗化層を形成し、前記絶縁層の接合部は前記表面粗化層に潜入し、前記表面粗化層及び前記接合部が混合強化層を構成していることを特徴とする回路基板。
  2. 前記接着層は貼り付け面を有し、前記接着層は前記貼り付け面により前記放熱層の第一表面に貼り付け、前記第一表面は面積を有し、前記貼り付け面は貼り付け面積を有し、前記貼り付け面積は前記面積未満であることを特徴とする請求項1に記載の回路基板。
  3. 前記貼り付け面は貼り付け端部を有し、前記貼り付け端部と同側の前記放熱層の第一端部との間には第一距離を有していることを特徴とする請求項2に記載の回路基板。
  4. 前記第一距離は20μm以上であることを特徴とする請求項3に記載の回路基板。
  5. 前記第一投影領域の第一投影端部は前記放熱層の第一端部が投影されることにより形成され、前記第二投影領域の第二投影端部は前記接着層の第二端部が投影されることにより形成され、同側の前記第一投影端部と前記第二投影端部との間には第二距離を有していることを特徴とする請求項1に記載の回路基板。
  6. 前記第二距離は20μm以上であることを特徴とする請求項5に記載の回路基板。
  7. 前記第一投影端部、前記第二投影端部、及び前記放熱層の前記第一端部により空間を定義していることを特徴とする請求項5に記載の回路基板。
  8. 前記接着層の厚さは1μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の回路基板。
  9. 前記放熱層は前記接着層に連通している少なくとも1つの第一貫通孔を有していることを特徴とする請求項1に記載の回路基板。
  10. 前記接着層は前記放熱層及び前記基板に連通している少なくとも1つの第二貫通孔を有していることを特徴とする請求項1に記載の回路基板。
  11. 前記放熱層は少なくとも1つの前記第一貫通孔を有し、前記接着層は少なくとも1つの前記第二貫通孔を有し、前記第二貫通孔は前記第一貫通孔及び前記基板に連通していることを特徴とする請求項1に記載の回路基板。
  12. 前記放熱層は少なくとも1つの前記第一貫通孔を有し、前記接着層は少なくとも1つの前記第二貫通孔を有し、前記絶縁層は少なくとも1つの第三貫通孔を有し、前記第二貫通孔は前記第一貫通孔及び前記第三貫通孔に連通していることを特徴とする請求項に記載の回路基板。
  13. 第一表面を有している放熱層と、
    貼り付け面を有し、前記貼り付け面により前記放熱層の前記第一表面に貼り付けられ、回路層を有している基板に放熱シートを貼り付けるために用い、前記第一表面は面積を有し、前記貼り付け面は貼り付け面積を有している接着層と、を備える前記放熱シートであって、
    前記接着層の前記貼り付け面積は前記第一表面の前記面積未満であり、
    絶縁層を備え、前記放熱層は前記絶縁層と前記接着層との間に位置し、前記絶縁層は接合面を有し、前記放熱層は第二表面を有し、前記絶縁層は前記接合面が前記放熱層の前記第二表面に向けられ、前記放熱層と一体に接合し、前記放熱層の前記第二表面には粗化することで表面粗化層を形成し、前記絶縁層の接合部は前記表面粗化層に潜入し、前記表面粗化層及び前記接合部が混合強化層を構成していることを特徴とする回路基板の放熱シート。
  14. 前記貼り付け面は貼り付け端部を有し、前記貼り付け端部と同側の前記放熱層の第一端部との間には第一距離を有していることを特徴とする請求項13に記載の回路基板の放熱シート。
  15. 前記第一距離は20μm以上であることを特徴とする請求項14に記載の回路基板の放熱シート。
  16. 前記接着層の厚さは1μm以上であることを特徴とする請求項13に記載の回路基板の放熱シート。
  17. 前記放熱層は前記接着層に連通している少なくとも1つの第一貫通孔を有していることを特徴とする請求項13に記載の回路基板の放熱シート。
  18. 前記接着層は前記放熱層及び前記基板に連通している少なくとも1つの第二貫通孔を有していることを特徴とする請求項13に記載の回路基板の放熱シート。
  19. 前記放熱層は少なくとも1つの第一貫通孔を有し、前記接着層は少なくとも1つの第二貫通孔を有し、前記第二貫通孔は前記第一貫通孔に連通していることを特徴とする請求項13に記載の回路基板の放熱シート。
  20. 前記放熱層は少なくとも1つの第一貫通孔を有し、前記接着層は少なくとも1つの第二貫通孔を有し、前記絶縁層は少なくとも1つの第三貫通孔を有し、前記第二貫通孔は前記第一貫通孔及び前記第三貫通孔に連通していることを特徴とする請求項13に記載の回路基板の放熱シート。
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