JP7161067B2 - 透明積層体、画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、透明積層体、及び、画像表示装置に関する。

ＩＴＯ（インジウムドープ酸化錫）などからなる透明導電層は、各種用途に用いられている。例えば、静電容量式のタッチパネルに使用する透明電極層、及び、電磁波シールド層などに用いられている。
特許文献１では、所定の屈折率の透明樹脂層と、透明導電層として機能する透明電極パターンとを有する透明積層体が開示されている。

特開２０１４－１０８１４号公報

一方で、透明導電層を含む透明積層体には、反射率の低減が求められている。例えば、透明積層体をタッチセンサーに適用した際に、反射率が高いと、外部の光源及び風景がディスプレイ面に映り込みやすくなる。
本発明者らは特許文献１に記載の透明積層体の反射率について検討したところ、昨今求められるレベルを満たしておらず、さらなる改良が必要であることを知見した。
また、透明積層体に含まれる透明導電層に関しては、各種用途への応用の点（特に、タッチセンサーへの応用の点）から、導電性に優れることが望まれている。

本発明は、反射率が低く、透明導電層の導電性に優れる、透明積層体を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記透明積層体を含む画像表示装置を提供することも課題とする。

本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１） 第１透明樹脂層と、透明導電層と、第２透明樹脂層とをこの順に有する透明積層体であって、
第１透明樹脂層と透明導電層との間、又は、透明導電層と第２透明樹脂層との間の少なくとも一方において、第１透明樹脂層の屈折率及び第２透明樹脂層の屈折率よりも高い屈折率を示す第３透明樹脂層を有し、
透明導電層の厚みＴが、式（１）の関係を満たす、透明積層体。
式（１） ｛（ｎ×５５０／４）－５０｝ｎｍ≦Ｔ≦｛（ｎ×５５０／４）＋５０｝ｎｍ
ｎは、１以上の整数を表す。
（２） 第３透明樹脂層の屈折率が１．６０以上である、（１）に記載の透明積層体。
（３） 第３透明樹脂層の厚みが２００ｎｍ以下である、（１）又は（２）に記載の透明積層体。
（４） 式（１）において、ｎが１である、（１）～（３）のいずれかに記載の透明積層体。
（５） 透明導電層の厚みが１００～１６０ｎｍである、（１）～（４）のいずれかに記載の透明積層体。
（６） 第１透明樹脂層と透明導電層との間、及び、透明導電層と第２透明樹脂層との間の両方に、第３透明樹脂層を有する、（１）～（５）のいずれかに記載の透明積層体。
（７） 透明導電層と第３透明樹脂層との間に、第３透明樹脂層の屈折率よりも低い屈折率を示す第４透明樹脂層を更に有する、（１）～（６）のいずれかに記載の透明積層体。
（８） 第３透明樹脂層が、金属酸化物粒子を含む、（１）～（７）のいずれかに記載の透明積層体。
（９） タッチセンサーとして用いられる、（１）～（８）のいずれかに記載の透明積層体。
（１０） 画像表示素子と、（９）に記載の透明積層体とを有する、画像表示装置。

本発明によれば、反射率が低く、透明導電層の導電性に優れる、透明積層体を提供できる。
また、本発明によれば、上記透明積層体を含む画像表示装置を提供できる。

透明積層体の第１実施態様の断面図である。 透明積層体の第２実施態様の断面図である。 透明積層体の第３実施態様の断面図である。 透明積層体の第４実施態様の断面図である。 透明積層体の第５実施態様の一部断面図である。 透明積層体中の第１電極パターン及び第２電極パターンを説明するための透明積層体の平面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。

本明細書において、「透明」とは、波長４００～７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味し、９０％以上であることが好ましい。従って、例えば、「透明樹脂層」とは、波長４００～７００ｎｍの可視光の平均透過率が８０％以上である樹脂層を指す。
また、可視光の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計Ｕ－３３１０を用いて測定できる。

本明細書において、特に断わりの無い限り、ポリマーの各構造単位の含有比率はモル比である。
また、本明細書において、屈折率は、特に断りがない限り、波長５５０ｎｍでエリプソメーターによって測定される値である。

本明細書において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を包含する概念である。

本発明の透明積層体の特徴点としては、後述する第３透明樹脂層を用いるとともに、透明導電層の厚みを所定の厚みに調整している点が挙げられる。本発明者らは、上記構成を採用することにより、透明積層体の反射率を低減できるとともに、透明積層体に含まれる透明導電層の導電性が優れることを知見している。

＜＜第１実施態様＞＞
図１は、透明積層体の第１実施態様の断面図である。
透明積層体１０Ａは、第１透明樹脂層１２と、透明導電層１４と、第３透明樹脂層１６と、第２透明樹脂層１８とをこの順に有する。第３透明樹脂層１６は、透明導電層１４と第２透明樹脂層１８との間に配置されている。
以下では、透明積層体１０Ａを構成する各部材について詳述する。

＜第１透明樹脂層＞
第１透明樹脂層は、透明導電層の一方の表面側に配置される層である。
第１透明樹脂層の屈折率は後述する第３透明樹脂層との関係を満たしていれば特に制限されないが、積層体の反射率がより低減する点、及び、透明導電層の導電性がより優れる点の少なくとも一方の効果が得られる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、１．６０未満が好ましく、１．４０以上１．６０未満がより好ましく、１．４５～１．５５が更に好ましい。

第１透明樹脂層の厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．５μｍ以上が好ましく、０．５～５０μｍがより好ましく、０．５～２０μｍが更に好ましく、１～１０μｍが特に好ましい。
第１透明樹脂層の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて測定される平均厚みである。具体的には、ウルトラミクロトームを用いて透明積層体の切片を形成し、第１透明樹脂層の任意の５点の厚みを測定して、それらを算術平均して、平均厚みとする。

第１透明樹脂層に含まれる成分は特に制限されず、通常、樹脂が含まれる。
また、第１透明樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び、重合開始剤を含む組成物の硬化物であることが好ましい。
なお、後述するように、第１透明樹脂層は、第１透明転写層中の硬化成分（例えば、重合性モノマー）が硬化反応してなる硬化層であることが好ましい。
第１透明樹脂層を形成する成分の詳細については、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び、重合開始剤を含め、後述する第１透明転写層の説明を通じて明らかにする。

＜透明導電層＞
透明導電層は、上述した第１透明樹脂層の少なくとも一方の表面側に配置される層である。
透明導電層の厚みＴ（ｎｍ）が、式（１）の関係を満たす。ｎは、１以上の整数を表す。
式（１） ｛（ｎ×５５０／４）－５０｝ｎｍ≦Ｔ≦｛（ｎ×５５０／４）＋５０｝ｎｍ
例えば、ｎが１である場合、透明導電層の厚みＴは、式（１－１）の関係を満たす。
式（１－１） ８７．５ｎｍ≦Ｔ≦１８７．５ｎｍ
また、ｎが２である場合、透明導電層の厚みＴは、式（１－２）の関係を満たす。
式（１－２） ２２５ｎｍ≦Ｔ≦３２５ｎｍ
ｎは、１以上の整数を表す。上限は特に制限されないが、５以下の整数の場合が多い。
なかでも、本発明の効果がより優れる点、及び、透明導電層がパターン状である場合に、パターン状の透明導電層が視認しづらい点で、ｎが１であることが好ましい。
なかでも、本発明の効果がより優れる点、及び、透明導電層がパターン状である場合に、パターン状の透明導電層が視認しづらい点で、透明導電層の厚みＴは１００～１６０ｎｍが好ましい。
上記透明導電層の厚みＴは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；Transmission Electron Microscope）を用いて測定される平均厚みである。具体的には、ウルトラミクロトームを用いて透明積層体の切片を形成し、透明導電層の任意の５点の厚みを測定して、それらを算術平均して、平均厚みとする。

透明導電層の屈折率は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１．７０以上が好ましく、１．７０～２．３０がより好ましく、１．８０～２．１０が更に好ましい。

透明導電層を構成する材料は、透明導電層を形成し得る材料であればよく、公知の材料を用いることができる。例えば、酸化インジウム・スズ（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）、酸化亜鉛・アルミニウム（ＡＺＯ）、及び、酸化インジウム・亜鉛（Indium Zinc Oxide：ＩＺＯ）などの金属酸化物が挙げられる。

なお、図１において透明導電層は第１透明樹脂層の全面に配置されているが、この態様に限定されず、パターン状に配置されていてもよい。

＜第３透明樹脂層＞
第３透明樹脂層は、第１透明樹脂層の屈折率及び後述する第２透明樹脂層の屈折率よりも高い屈折率を示す層である。
第３透明樹脂層の屈折率は、第１透明樹脂層の屈折率よりも高く、かつ、第２透明樹脂層の屈折率よりも高ければ特に制限されず、１．５５以上の場合が多く、透明導電層がパターン状である場合に、パターン状の透明導電層が視認しづらい点で、１．６０以上が好ましく、１．６５以上がより好ましく、１．６８以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、１．９０以下が好ましく、１．８５がより好ましく、１．８０以下が更に好ましい。

第３透明樹脂層の屈折率と第１透明樹脂層の屈折率との差は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．０１以上が好ましく、０．１０以上がより好ましく、０．１５以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、０．５０以下の場合が多い。
第３透明樹脂層の屈折率と第２透明樹脂層の屈折率との差は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．０１以上が好ましく、０．１０以上がより好ましく、０．１５以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、０．５０以下の場合が多い。

第３透明樹脂層の厚みは特に制限されず、３００ｎｍ以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点、及び、透明導電層がパターン状である場合に、パターン状の透明導電層が視認しづらい点で、２００ｎｍ以下が好ましく、２０～２００ｎｍがより好ましく、４０～２００ｎｍが更に好ましく、５０～１００ｎｍが特に好ましい。
第３透明樹脂層の厚みは、透過型電子顕微鏡を用いて測定される平均厚みであり、上記の透明導電層の厚みの測定方法と同様の手順に従って測定できる。

第３透明樹脂層に含まれる成分は特に制限されず、通常、樹脂が含まれる。
第３透明樹脂層は、本発明の効果がより優れる点で、金属酸化物粒子を含むことが好ましい。
また、第３透明樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、金属酸化物粒子、及び、重合開始剤を含む組成物の硬化物であることが好ましい。
なお、後述するように、第３透明樹脂層は、第３透明転写層中の硬化成分（例えば、重合性モノマー）が硬化反応してなる硬化層であることが好ましい。
第３透明樹脂層を形成する成分の詳細については、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、金属酸化物粒子、及び、重合開始剤を含め、後述する第３透明転写層の説明を通じて明らかにする。

＜第２透明樹脂層＞
第２透明樹脂層は、第３透明樹脂層の透明導電層側とは反対側に配置される層である。
第２透明樹脂層の屈折率は上述した第３透明樹脂層との関係を満たしていれば特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１．６０未満が好ましく、１．４０以上１．６０未満がより好ましく、１．４５～１．５５が更に好ましい。

第２透明樹脂層の厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．５μｍ以上が好ましく、０．５～５０μｍがより好ましく、０．５～２０μｍが更に好ましく、１～１０μｍが特に好ましい。
第２透明樹脂層の厚みは、走査型電子顕微鏡を用いて測定される平均厚みであり、上記の第１透明樹脂層の厚みの測定方法と同様の手順に従って測定できる。

第２透明樹脂層に含まれる成分は特に制限されず、通常、樹脂が含まれる。
また、第２透明樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び、重合開始剤を含む組成物の硬化物であることが好ましい。
なお、後述するように、第２透明樹脂層は、第２透明転写層中の硬化成分（例えば、重合性モノマー）が硬化反応してなる硬化層であることが好ましい。
第２透明樹脂層を形成する成分の詳細については、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び、重合開始剤を含め、後述する第２透明転写層の説明を通じて明らかにする。

図１に示す、透明積層体１０Ａは、上述した第１透明樹脂層１２、透明導電層１４、第３透明樹脂層１６、及び、第２透明樹脂層１８以外の他の部材を含んでいてもよい。

＜透明積層体の製造方法＞
図１に示す、透明積層体１０Ａの製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。
例えば、各透明樹脂層を形成し得る透明転写層を有する転写フィルムを用いる方法が挙げられる。より具体的には、以下の工程１～工程４を有する透明積層体の製造方法が挙げられる。
工程１：転写後に第１透明樹脂層となる第１透明転写層を仮支持体上に有する第１転写フィルムを用いて、基材上に第１透明転写層を転写して、第１透明樹脂層を形成する工程
工程２：第１透明樹脂層上に透明導電層を形成する工程
工程３：転写後に第３透明樹脂層となる第３透明転写層を仮支持体上に有する第３転写フィルムを用いて、透明導電層上に第３透明転写層を転写して、第３透明樹脂層を形成する工程工程４：転写後に第２透明樹脂層となる第２透明転写層を仮支持体上に有する第２転写フィルムを用いて、第３透明転写層上に第２透明転写層を転写して、第２透明樹脂層を形成する工程
なお、上記工程では各透明樹脂層をそれぞれ転写しているが、例えば、工程３及び工程４の代わりに、仮支持体上に第２透明転写層と第３透明転写層とをこの順で有する転写フィルムを用いる転写処理を実施することにより、一度の処理で、第３透明転写層及び第２透明転写層を透明導電層上に転写できる。
以下、それぞれの転写フィルムの部材について詳述する。

（仮支持体）
仮支持体の材質は、必要な強度と柔軟性を有する限り、特に制限されない。成形性及びコストの点から、樹脂フィルムが好ましい。
仮支持体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。

（第１透明転写層）
第１透明転写層は、転写後に第１透明樹脂層となり得る層である。
第１透明転写層は、例えば、少なくとも重合性モノマー及び樹脂を含む層でもよく、エネルギーの付与により硬化する層であってもよい。第１透明転写層は、更に、重合開始剤、又は、加熱により酸と反応可能な化合物を含んでいてもよい。
第１透明転写層は、光硬化性であっても、熱硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。

第１透明転写層の厚みは特に制限されず、上述した第１透明樹脂層の厚みとなるように調整される。

第１透明転写層は、樹脂を含むことが好ましい。樹脂は、バインダーとして機能することができる。樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、線状有機高分子重合体であって、分子中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基を有する重合体の中から適宜選択できる。アルカリ可溶性を促進する基、即ち、酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、及び、スルホン酸基が挙げられ、カルボキシル基が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、現像性の点から、酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂が好ましい。上記酸価は、６０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、６０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。
本明細書において、樹脂の酸価は、ＪＩＳ Ｋ００７０（１９９２）に規定される滴定方法で測定される値である。
アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、５，０００以上が好ましく、１０，０００以上がより好ましい。アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量の上限値は、特に制限はなく、１００，０００としてよい。
また、架橋成分と反応して熱架橋し、強固な膜を形成し易い点から、アルカリ可溶性樹脂はカルボキシル基を有する樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び透明性の点から、（メタ）アクリル樹脂が好ましい。（メタ）アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも一種に由来する構成単位を有する樹脂である。
アルカリ可溶性樹脂の含有量は特に制限されないが、第１透明転写層全質量に対して、１～８０質量％が好ましく、５～６０質量％がより好ましい。
樹脂は１種単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。

第１透明転写層は、重合性モノマーを含むことが好ましい。
重合性モノマーとしては、エチレン性不飽和基を有する重合性モノマーが好ましく、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物がより好ましい。重合性モノマーは、光重合性基として少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有していることが好ましく、エチレン性不飽和基に加えてエポキシ基などのカチオン重合性基を有していてもよい。重合性モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましい。
重合性モノマーとしては、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する多官能重合性モノマーが好ましい。多官能重合性モノマーとしては、２つのエチレン性不飽和基を有する化合物、又は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する化合物が好ましく、２つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物、又は、少なくとも３つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物がより好ましい。
また、重合性モノマーの少なくとも１種がカルボキシル基を含むことが、上記の樹脂におけるカルボキシル基と、重合性モノマーのカルボキシル基と、がカルボン酸無水物を形成して、湿熱耐性を高められる点から好ましい。
重合性モノマーの分子量は、２００～３０００が好ましく、２５０～２６００がより好ましく、２８０～２２００が更に好ましい。
重合性モノマーの含有量は特に制限されないが、第１透明転写層全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、２～４０質量％がより好ましい。
多官能重合性モノマーを用いる場合、第１透明転写層に含まれる全ての重合性モノマー全質量に対する多官能重合性モノマーの含有量は、１０～９０質量％が好ましく、２０～８５質量％がより好ましい。
重合性モノマーは１種単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。
重合性モノマーは、２つのエチレン性不飽和基を有する化合物、及び、３つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を含むことが好ましい。

第１透明転写層は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、アルキルフェノン系光重合開始剤、及び、チオキサンテン系光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。
第１透明転写層が重合開始剤を含む場合の、第１透明転写層全質量に対する重合開始剤の含有量は、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０５～５質量％がより好ましい。
重合開始剤は１種単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。
光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤及びアルキルフェノン系光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤は、アルキルフェノン系光重合開始剤及びチオキサンテン系光重合開始剤を含むことも好ましい。

第１透明転写層は、上述した成分以外の他の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、増感剤、重合禁止剤、加熱により酸と反応可能な化合物、界面活性剤、及び、粒子が挙げられる。

第１透明転写層は、上述した各種成分を溶媒に溶解させた溶液を仮支持体上に塗布して、乾燥させることにより、形成できる。

（第２透明転写層）
第２透明転写層を構成する成分としては、上述した第１透明転写層を構成する成分（樹脂、重合性モノマー、重合開始剤など）と同じであるため、説明を省略する。

（第３透明転写層）
第３透明転写層は、上述した第１透明転写層を構成する成分（樹脂、重合性モノマー、重合開始剤など）を含んでいてもよい。
また、第３透明転写層は、金属酸化物粒子を含むことが好ましい。第３透明転写層が金属酸化物粒子を含むことで、屈折率及び光透過性を調節できる。
金属酸化物粒子の種類は特に制限されず、公知の金属酸化物粒子を用いることができる。第３透明転写層は、透明性の点、及び、第３透明樹脂層の屈折率の範囲に屈折率を制御しやすい点から、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ_２粒子）、Ｎｂ_２Ｏ_５粒子、酸化チタン粒子（ＴｉＯ_２粒子）、及び、二酸化珪素粒子（ＳｉＯ_２粒子）のうちの少なくとも一つを含むことが好ましい。なかでも、第３透明樹脂層の屈折率を１．６０以上に調整しやすい点で、酸化ジルコニウム粒子又は酸化チタン粒子がより好ましく、酸化ジルコニウム粒子が更に好ましい。
金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、ヘイズ等の光学性能の点から、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。
金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡による観測で任意の１００個の粒子の直径を測定し、１００個の直径の算術平均により求められる値である。金属酸化物粒子が真円状でない場合は、長径を直径とする。
金属酸化物粒子の市販品としては、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ０４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７５）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７６）、酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｍ、日産化学工業（株）製）、及び、酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｋ、日産化学工業（株）製）が挙げられる。 第３透明転写層中における金属酸化物粒子の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、第３透明転写層全質量に対して、１～９５質量％が好ましく、２０～９０質量％がより好ましい。
金属酸化物粒子は１種単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。

第３透明転写層は、上述した成分以外に、金属酸化抑制剤を含んでいてもよい。金属酸化抑制剤としては、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物が好ましい。
また、金属酸化抑制剤に含まれる窒素原子を含む芳香環としては、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、及び、それらと他の芳香環との縮合環よりなる群から選ばれる少なくとも一つの環であることが好ましい。

上述した第１透明転写層～第３透明転写層に重合性モノマーが含まれる場合、各透明転写層に対して、光照射処理を施して、第１透明樹脂層～第３透明樹脂層を製造できる。
なお、必要に応じて、光照射の際には、パターン状に光照射を実施してもよい。また、パターン状に光照射を実施した際には、必要に応じて、現像処理（例えば、アルカリ現像処理）を実施してもよい。
また、後述する第５実施態様で述べるスルーホールを形成する際には、第１透明転写層に対して所望のスルーホールを形成するためのマスクを介して光照射してパターニングすることで形成できる。

＜＜第２実施態様＞＞
図２は、透明積層体の第２実施態様の断面図である。
透明積層体１０Ｂは、第１透明樹脂層１２と、第３透明樹脂層１６と、透明導電層１４と、第２透明樹脂層１８とをこの順に有する。第３透明樹脂層１６は、第１透明樹脂層１２と透明導電層１４との間に配置されている。
透明積層体の第２実施態様は、上述した透明積層体の第１実施態様と比較して、透明導電層１４と第３透明樹脂層１６との位置が異なる以外は、同様の構成を有しており、同一の部材には同一の符号を付して説明を省略する。

＜＜第３実施態様＞＞
図３は、透明積層体の第３実施態様の断面図である。
透明積層体１０Ｃは、第１透明樹脂層１２と、第３透明樹脂層１６Ａと、透明導電層１４と、第３透明樹脂層１６Ｂと、第２透明樹脂層１８とをこの順に有する。透明積層体１０Ｃにおいては、第１透明樹脂層１２と透明導電層１４との間、及び、透明導電層１４と第２透明樹脂層１８との間の両方において、第３透明樹脂層（１６Ａ及び１６Ｂ）が配置されている。透明積層体１０Ｃにおいては、反射率がより低減されている。
透明積層体の第３実施態様は、上述した透明積層体の第１実施態様と比較して、２つの第３透明樹脂層（１６Ａ及び１６Ｂ）を有する点以外は、同様の構成を有しており、同一の部材には同一の符号を付して説明を省略する。
第３透明樹脂層１６Ａ及び第３透明樹脂層１６Ｂは、透明積層体の第１実施態様で説明した第３透明樹脂層１６と同じ構成の部材である。

＜＜第４実施態様＞＞
図４は、透明積層体の第４実施態様の断面図である。
透明積層体１０Ｄは、第１透明樹脂層１２と、透明導電層１４と、第４透明樹脂層２０と、第３透明樹脂層１６と、第２透明樹脂層１８とをこの順に有する。
透明積層体の第４実施態様は、上述した透明積層体の第１実施態様と比較して、第４透明樹脂層２０を有する点以外は、同様の構成を有しており、同一の部材には同一の符号を付して説明を省略する。

第４透明樹脂層は、第３透明樹脂層の屈折率よりも低い屈折率を示す透明樹脂層である。
第４透明樹脂層の屈折率は後述する第３透明樹脂層との関係を満たしていれば特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１．６０未満が好ましく、１．４０以上１．６０未満がより好ましく、１．４５～１．５５が更に好ましい。

第４透明樹脂層の厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、５～２００ｎｍが好ましく、１０～１００ｎｍがより好ましい。
第４透明樹脂層の厚みは、透過型電子顕微鏡を用いて測定される平均厚みであり、上記の透明導電層の厚みの測定方法と同様の手順に従って測定できる。

第４透明樹脂層に含まれる成分は特に制限されず、通常、樹脂が含まれる。
また、第４透明樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び重合開始剤を含む組成物の硬化物であることが好ましい。
なお、第４透明樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び重合開始剤を含む第４透明転写層中の硬化成分が硬化反応してなる硬化層であることが好ましい。つまり、第４透明樹脂層は、第１透明樹脂層などと同様に、仮支持体と、仮支持体上に配置された第４透明樹脂層となり得る第４透明転写層とを有する転写フィルムを用いて形成できる。
第４透明転写層中に含まれる各種成分としては、上述した第１透明転写層に含まれる各種成分が挙げられる。

＜＜第５実施態様＞＞
図５は、透明積層体の第５実施態様の一部断面図である。
透明積層体１０Ｅは、透明基材２２と、透明層２４と、第１電極パターン２６と、第１透明樹脂層１２と、透明導電層１４Ａ及び第２島状電極部２８を含む第２電極パターン３０と、第３透明樹脂層１６と、第２透明樹脂層１８とを有する。
図６は、透明積層体１０Ｅの第１電極パターン２６及び第２電極パターン３０の構成を示す平面図であり、図５は、図６中のＡ－Ａ線断面図である。

透明積層体１０Ｅにおいては、図６に示すように、互いに交差する矢印Ｐの方向又は矢印Ｑの方向にそれぞれ延在する第１電極パターン２６と第２電極パターン３０とを有する。
図５及び６に示すように、第１電極パターン２６は、第１方向（矢印Ｐの方向）に配列された複数の第１島状電極部３２と、隣接する第１島状電極部３２を接続する配線部３４とから構成される。つまり、透明積層体１０Ｅにおいては、透明基材２２の上部に、一方向に長尺状の電極が形成されている。なお、図５及び６には、一本の第１電極パターン２６しか記載していないが、第１電極パターンは第１方向と直交する方向に沿って、所定の間隔をあけて、複数本配置されていてもよい。
また、図５及び６に示すように、第２電極パターン３０は、第１方向と直交する他の方向（矢印Ｑの方向）に配列された複数の第２島状電極部２８と、第１電極パターン２６を跨ぐように、隣接する第２島状電極部２８を橋掛けする透明導電層１４Ａとから構成される。つまり、透明積層体１０Ｅにおいては、透明基材２２の上部に、第１電極パターンと直交する方向に長尺状の電極が形成されている。なお、図５及び６には、一本の第２電極パターン３０しか記載していないが、第２電極パターンは第１方向に沿って、所定の間隔をあけて、複数本配置されていてもよい。
なお、図５に示すように、第１電極パターン２６及び第２電極パターン３０は、交差部分において、交差する電極の一方が他方を飛び越えるブリッジ構造を成しており、互いに導通しない構造になっている。
また、第２島状電極部２８には、第１透明樹脂層１２に設けられるスルーホール３６を介して、透明導電層１４Ａが接続されている。つまり、このスルーホール３６を通じ、透明導電層（ブリッジ配線電極）１４Ａをスルーホール３６内にて露出する第２島状電極部２８と接続し、配線部３４を跨ぐように、隣り合う第２島状電極部２８間に透明導電層１４Ａが橋掛けられていることで、第２島状電極部２８同士は電気的に接続された状態となっている。

上記のように、透明積層体１０Ｅは、透明基材２２の一方の表面側に、互いに交差する方向にそれぞれ延在する第１電極パターン２６及び第２電極パターン３０を有し、第１電極パターン２６は、第１方向に間隔をあけて配置された複数の第１島状電極部３２と、隣り合う第１島状電極部３２を電気的に接続する配線部３４と、を有し、第２電極パターン３０は、第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置された複数の第２島状電極部２８と、第１電極パターン２６を跨ぐように、隣り合う第２島状電極部２８を橋掛けして電気的に接続する透明導電層１４Ａと、を有し、透明導電層１４Ａの透明基材２２側には第１透明樹脂層１２が配置されており（透明導電層１４Ａと第１電極パターン２６との間には第１透明樹脂層１２が配置されており）、透明導電層１４Ａの透明基材２２側とは反対側には、第３透明樹脂層１６と、第２透明樹脂層１８とをこの順に有する。
上記のように、透明積層体１０Ｅは、第１透明樹脂層１２と、第２島状電極部２８を橋掛けするブリッジ配線電極として機能する透明導電層１４Ａと、第３透明樹脂層１６と、第２透明樹脂層１８とを有し、この４つの部材が配置される部分において、上述した第１実施態様などと同様に、反射率が低減しており、かつ、透明導電層１４Ａの導電性に優れる。
以下、透明積層体１０Ｅに含まれる各部材について詳述する。

＜透明基材２２＞
透明基材は、上述した各層を支持するための部材である。
透明基材としては、電気絶縁性の基板が好ましい。
電気絶縁性の基板としては、例えば、ガラス基板、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、及び、ポリ塩化ビニルフィルムが挙げられる。
シクロオレフィンポリマーフィルムは、光学等方性に優れているだけでなく、寸法安定性及び加工精度にも優れている点で好ましい。
なお、透明基材がガラス基板である場合、厚みは０．３～３ｍｍであってもよい。また、透明基材が樹脂フィルムである場合、厚みは２０μｍ～３ｍｍであってもよい。

＜透明層＞
透明層は、透明基材上に配置される層である。なお、透明層は、必要に応じて設けられる任意の層である。
透明層は、樹脂を含む透明樹脂層であってもよい。
透明層の屈折率は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１．６０以上が好ましく、１．６０～１．９０がより好ましく、１．６０～１．７０が更に好ましく、１．６０～１．６５が特に好ましい。
透明層の厚みは、２００ｎｍ以下が好ましく、４０～２００ｎｍがより好ましく、５０～１００ｎｍが更に好ましい。
透明層の厚みは、透過型電子顕微鏡を用いて測定される平均厚みであり、上記の透明導電層の厚みの測定方法と同様の手順に従って測定できる。

＜第１電極パターン＞
第１電極パターンは、透明層上の第１方向に間隔をあけて配置された複数の第１島状電極部と、隣り合う第１島状電極部を電気的に接続する配線部と、を有している。
第１島状電極部の屈折率及び配線部の屈折率は、いずれも１．７５～２．１０が好ましい。
第１島状電極部は、例えば、ＩＴＯ膜、ＩＺＯ膜、及び、ＳｉＯ_２膜等の透光性の金属酸化膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ、及び、Ａｕ等の金属膜；銅ニッケル合金等の複数の金属の合金膜から構成できる。
第１島状電極部の厚みは、１０～２００ｎｍが好ましい。
第１島状電極部の形状は特に制限されず、正方形、長方形、菱形、台形、及び、五角形以上の多角形等のいずれであってもよく、正方形、菱形、又は、六角形は細密充填構造を形成しやすい点で好ましい。
配線部は、隣り合う第１島状電極部を互いに電気的に接続することができる部材であれば制限はない。配線部は、第１島状電極部と同様の材料を適用することができ、厚みも同様である。

＜第２電極パターン＞
第２電極パターンは、透明層上に第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置された複数の第２島状電極部と、隣り合う第２島状電極部を橋掛けして電気的に接続する透明導電層１４Ａと、を有している。
第２島状電極部の屈折率及び配線部の屈折率は、いずれも１．７５～２．１０が好ましい。
第２島状電極部は、例えば、ＩＴＯ膜、ＩＺＯ膜、及び、ＳｉＯ_２膜等の透光性の金属酸化膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ、及び、Ａｕ等の金属膜；銅ニッケル合金等の複数の金属の合金膜から構成できる。
第２島状電極部の厚みは、１０～２００ｎｍが好ましい。
第２島状電極部の形状は特に制限されず、正方形、長方形、菱形、台形、及び、五角形以上の多角形等のいずれであってもよく、正方形、菱形、又は、六角形は細密充填構造を形成しやすい点で好ましい。

透明導電層１４Ａは、第１電極パターンを跨ぎながら、隣り合う第２島状電極部を橋掛けして電気的に接続する部材である。
透明導電層１４Ａの特性（厚み、屈折率、材料等）は、上述した第１実施態様で説明した透明導電層１４と同様であり、説明を省略する。つまり、透明導電層１４Ａの厚みＴは、上述した式（１）の関係を満たす。

なお、第５実施態様中の第３透明樹脂層１６及び第２透明樹脂層１８に関しては、上述した第１実施態様で説明した第３透明樹脂層１６及び第２透明樹脂層１８と同様であり、説明を省略する。

透明積層体の第５実施態様は、公知の方法で製造できる。例えば、第１透明樹脂層～第３透明樹脂層は、上述した転写フィルムを用いて形成できる。
また、第１電極パターン及び第２電極パターンは、これらの層を構成する導電層（例えば、ＩＴＯ層）を形成して、公知のエッチング処理を施して、所定のパターンを形成できる。

＜用途＞
本発明の透明積層体は、種々の用途に適用できる。例えば、タッチセンサー（好ましくは、静電容量式のタッチセンサー）、及び、電磁波シールドが挙げられる。特に、透明積層体の第５実施態様は、静電容量式のタッチセンサーとして好適に適用できる。
本発明は、上記透明積層体を含む画像表示装置にも関する。
上記画像表示装置は、液晶表示素子及び有機エレクトロルミネッセンス表示素子などの画像表示素子と、上述したタッチセンサーとして用いられる透明積層体とを含む。

以下、本発明の実施態様を実施例により更に具体的に説明する。但し、本発明の実施態様は、その主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
なお、ポリマー中の組成比は、特に断わりのない限り、モル比である。
また、特に断わりのない限り、屈折率は、２５℃において波長５５０ｎｍでエリプソメーターにて測定した値である。
具体的には、分光エリプソメーターＭ－２０００（ジェー・エー・ウーラム社製）を用いて、測定スポット３ｍｍφ、測定波長２５０～１０００ｎｍ、測定角度６０°、６５°及び７０°、積算回数１００回の条件にて測定した値を用いた。

以下に示す実施例において、樹脂の重量平均分子量は、下記の条件にてゲル透過クロマトグラフ（ＧＰＣ）により行った。検量線は、東ソー（株）製「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ－４０」、「Ｆ－２０」、「Ｆ－４」、「Ｆ－１」、「Ａ－５０００」、「Ａ－２５００」、「Ａ－１０００」、「ｎ－プロピルベンゼン」の８サンプルから作製した。
（条件）
ＧＰＣ：ＨＬＣ（登録商標）－８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）、Ｓｕｐｅｒ ＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＺ－Ｈ（東ソー株式会社、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を３本
溶離液：テトラヒドロフラン
試料濃度：０．４５質量％
流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
サンプル注入量：１０μｌ
測定温度：４０℃
検出器：示差屈折計（ＲＩ）

＜第１透明転写層形成用塗布液及び第２透明転写層形成用塗布液の調製＞
以下の表１に示す各成分の含有量（質量部）となるように、各成分を混合して、第１透明転写層形成用塗布液、及び、第２透明転写層形成用塗布液である塗布液Ａ－１～Ａ－２Ａ－６を調製した。
表１中の各成分の含有量は「質量部」を表す。

化合物Ｂ（以下構造式参照）：Ｍｗ＝１７０００、Ｍｎ＝８１００

化合物Ｃ（以下構造式参照）：Ｍｗ＝１７０００、Ｍｎ＝８１００

化合物Ｄ（以下構造式参照）：Ｍｗ＝１７０００、Ｍｎ＝８１００

化合物Ｅ（以下構造式参照）

化合物Ｆ（以下構造式参照）

＜第３透明転写層形成用塗布液及び第４透明転写層形成用塗布液の調製＞
以下の表２に示す各成分の含有量（質量部）となるように、各成分を混合して、第３透明転写層形成用塗布液及び第４透明転写層形成用塗布液である塗布液Ｂ－１～Ｂ－８を調製した。

化合物Ｃ（以下、構造式参照）

＜転写フィルムの作製＞
（転写フィルム１（後述する実施例１～９、１２、１４、２２、２３、３４～４１及び、比較例１～４で使用））
厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）である仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、第１透明転写層形成用塗布液として塗布液Ａ－１を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第１透明転写層の厚みが３．０μｍになる塗布量に調整した。
塗布後、８０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第１透明転写層を形成した。
次に、第１透明転写層の表面に、保護フィルムとして厚み１２μｍのポリプロピレンフィルム１２ＫＷ３７（東レ株式会社製）を圧着して、転写フィルム１を作製した。

（転写フィルム２（後述する実施例１０～１１で使用））
厚み２５μｍの離型層付きＰＥＴフィルムＦＲ－２（東レ株式会社製）の上に、スリット状ノズルを用いて、第１透明転写層形成用塗布液として塗布液Ａ－１を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第１透明転写層の厚みが３．０μｍになる塗布量に調整した。
塗布後、８０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第１透明転写層を形成した。
次に、第１透明転写層の上に、スリット状ノズルを用いて、第３透明転写層形成用塗布液として塗布液Ｂ－１を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第３透明転写層の厚みが７０ｎｍになる量に調整した。
その後、７０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第３透明転写層を形成した。
次に、第３透明転写層の表面に、厚み１６μｍのＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）を圧着して、転写フィルム２を作製した。
転写フィルム２においては、１６ＫＳ４０が仮支持体、離型層付きＰＥＴフィルムＦＲ－２が保護フィルムとなる。

（転写フィルム３（後述する実施例１～１１、及び、比較例１～４で使用））
厚み１６μｍのＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）である仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、第２透明転写層形成用塗布液として塗布液Ａ－２を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第２透明転写層の厚みが８．０μｍになる塗布量に調整した。
塗布後、８０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第２透明転写層を形成した。
次に、第２透明転写層の上に、スリット状ノズルを用いて、下記表５の組み合わせになるように、第３透明転写層形成用塗布液を塗布した。
この際、実施例１０及び比較例３においては、第２透明転写層の上に、第３透明転写層形成用塗布液を塗布しなかった。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第３透明転写層の厚みが表５に記載の厚みになる量に調整した。その後、７０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第３透明転写層を形成した。
次に、第３透明転写層の表面に、保護フィルムとして、厚み１６μｍのＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）を圧着して、転写フィルム３を作製した。
なお、第３透明転写層形成用塗布液を塗布しなかった実施例１０及び比較例３においては、第２透明転写層に、保護フィルムを直接圧着した。

（転写フィルム４（実施例１２で使用））
厚み１６μｍのＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）である仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、第２透明転写層形成用塗布液として塗布液Ａ－２を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第２透明転写層の厚みが８．０μｍになる塗布量に調整した。
塗布後、８０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第２透明転写層を形成した。
次に、第２透明樹脂層の上に、スリット状ノズルを用いて、第３透明転写層形成用塗布液として塗布液Ｂ－５を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第３透明転写層の厚みが表５に記載の厚みになる量に調整した。
その後、７０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第３透明転写層を形成した。
次に、第３透明樹脂層の上に、スリット状ノズルを用いて、第４透明転写層形成用塗布液として塗布液Ｂ－６を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第４透明転写層の厚みが表５に記載の厚みになる量に調整した。
その後、７０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第４透明樹脂層を形成した。
次に、第４透明樹脂層の表面に、保護フィルムとして、厚み１６μｍのＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）を圧着して、転写フィルム４を作製した。

（転写フィルム５（実施例１３、２４～３３で使用））
厚み２５μｍの離型層付きＰＥＴフィルムＦＲ－２（東レ株式会社製）の上に、スリット状ノズルを用いて、表５に記載の組み合わせになるように、第１透明転写層形成用塗布液を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第１透明転写層の厚みが表５に記載の厚みになる量に調整した。
その後、８０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第１透明転写層を形成した。
次に、第１透明転写層の上に、スリット状ノズルを用いて、第３透明転写層形成用塗布液として塗布液Ｂ－１を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第３透明転写層の厚みが６４ｎｍになる量に調整した。
その後、７０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第３透明転写層を形成した。
次に、第３透明転写層の表面に、厚み１６μｍのＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）を圧着して、転写フィルム５を作製した。
なお、転写フィルム５において、ＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０が仮支持体であり、離型層付きＰＥＴフィルムＦＲ－２が保護フィルムである。

（転写フィルム６（実施例１５～２１の第１透明層の形成に使用））
厚み１６μｍのＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）である仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、表５の組み合わせになるように第１透明転写層形成用塗布液を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第１透明転写層の厚みが表５に記載の厚みになる量に調整した。
その後、８０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第１透明転写層を形成した。
次に、第１透明転写層の表面に、保護フィルムとして厚み１２μｍのポリプロピレンフィルム１２ＫＷ３７（東レ株式会社製）を圧着して、転写フィルム６を作製した。

（転写フィルム７（実施例１３～４１、第２透明層及び第３透明層の形成に使用）
厚み１６μｍのＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）である仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、表５の組み合わせになるように第２透明転写層形成用塗布液を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第２透明転写層の厚みが表５に記載の厚みになる量に調整した。
その後、８０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第２透明転写層を形成した。
次に、第２透明転写層の上に、スリット状ノズルを用いて、表５の組み合わせになるように第３透明転写層形成用塗布液を塗布した。なお、塗布量は、乾燥後に得られる第３透明転写層の厚みが表５に記載の厚みになる量に調整した。
その後、７０℃の乾燥温度で塗布層を乾燥させて、第３透明転写層を形成した。
次に、第３透明転写層の表面に、保護フィルムとして、厚み１６μｍのＰＥＴフィルム１６ＫＳ４０（東レ株式会社製）を圧着して、転写フィルム７を作製した。
なお、転写フィルム７の作製での第３透明層とは、表５の第２透明層に隣接する列の第３透明層のことである。

＜透明層付き基材の作製＞
膜厚３８μｍ及び屈折率１．５３のシクロオレフィン樹脂フィルムを、高周波発振機を用いて下記の条件でコロナ放電処理を３秒間行って表面改質を施し、透明フィルム基板（透明基材）とした。
（条件）
出力電圧：１００％
出力：２５０Ｗ
電極：直径１．２ｍｍのワイヤー電極
電極長：２４０ｍｍ
ワーク電極間：１．５ｍｍ
次に、下記表３に示す塗布液－Ｃを、スリット状ノズルを用いて透明フィルム基板のコロナ放電処理面に塗布した。その後、得られた透明フィルム基板に紫外線を照射（積算光量：３００ｍＪ／ｃｍ^２）し、約１１０℃で乾燥することにより、屈折率１．６２及び厚み８０ｎｍの透明層を形成した。
以上のようにして、透明層付き基材を作製した。

＜電極パターン付き基材の作製＞
上記の透明層付き基材を真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ_２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：透明層付き基材の透明フィルム基板の温度１５０℃、アルゴン圧：０．１３Ｐａ、酸素圧：０．０１Ｐａ）により、透明層付き基材の透明層上にＩＴＯ層（厚み：４０ｎｍ、屈折率：１．８２）を形成した。
これにより、透明フィルム基板上に透明層と透明なＩＴＯ層が積層された基材を得た。ＩＴＯ層の表面抵抗は、８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。

次に、公知の化学エッチング法によりＩＴＯ層をエッチングしてパターニングした。これより、図５に示すような、透明層の上に第１電極パターン及び複数の第２島状電極部を有する電極パターン付き基材を作製した。
第１電極パターンは、複数の第１島状電極部と、隣接する第１島状電極部を導通させる配線部とから構成され、第１方向に延在していた。なお、第１電極パターンは、第１方向と直交する方向に所定の間隔をあけて、複数本配置されていた。
また、第２島状電極部は、図５及び６に示すように、第１方向と直交する第２方向に沿って、複数配置されていた。なお、第２島状電極部は、第１方向にも所定の間隔をあけて、複数個配置されていた。
島状電極部（第１島状電極部及び第２島状電極部）のサイズは２ｍｍ×２ｍｍ、配線部は、幅１００μｍ、長さ５００μｍで配置した。また、後述するブリッジ配線電極は、幅８０μｍ、長さ８００μｍで形成した。

＜実施例１＞
（第１透明樹脂層の形成）
転写フィルム１の保護フィルムを剥離し、転写フィルム１の第１透明転写層の面を電極パターン付き基材の電極パターン（第１電極パターン及び複数の第２島状電極部）の形成面に接触させて、下記条件でラミネートし、積層体Ｘを得た。
（条件）
透明フィルム基板の温度：４０℃
ゴムローラーの温度：１１０℃
線圧：３Ｎ／ｃｍ
搬送速度：２ｍ／分

次に、露光マスク（スルーホール形成用マスク）の表面と積層体Ｘ中の仮支持体の表面との間の距離を１２５μｍに設定し、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社）を用いて、積層体Ｘに対して、露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２にてパターン状にｉ線を露光した。
その後、積層体Ｘから仮支持体を剥離し、温度３２℃の炭酸ソーダ２質量％水溶液を用いて剥離面側を６０秒間現像処理し、超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射して残渣を除去し、エアを吹きかけて水分を除去した。その後、得られたフィルムを、温度１４５℃で３０分間のポストベーク処理をした。

以上のようにして、透明フィルム基板の上に、透明層と、電極パターン（第１電極パターン及び複数の第２島状電極部）と、第１透明樹脂層とが、この順に積層された積層体Ｙを作製した。なお、第１透明樹脂層には、スルーホールが形成されていた（図５及び６参照）。

（ブリッジ配線電極の形成）
次に、上記の＜電極パターン付き基材の作製＞と同様にして、積層体Ｙの第１透明樹脂層側の表面全面にＩＴＯ層を形成した。この際、表５の「透明導電層」欄の屈折率となるようにＳｎＯ_２含有率を調整したターゲットを使用し、ＩＴＯ層の厚みも表５の「透明導電層」欄の厚みになるように調整した。そして、公知の化学エッチング法により、隣り合う第２島状電極部間を接続するブリッジ配線電極（透明導電層に該当）を形成した。

（第２透明樹脂層の形成）
転写フィルム３の保護フィルムを剥離し、転写フィルム３の第３透明転写層の面を積層体Ｙのブリッジ配線電極形成面に接触させ、下記条件でラミネートし、積層体Ｚを作製した。
（条件）
透明フィルム基板の温度：４０℃
ゴムローラーの温度：１１０℃
線圧：３Ｎ／ｃｍ
搬送速度：２ｍ／分

その後、露光マスク（オーバーコートパターンの石英露光マスク）の表面と積層体Ｚの仮支持体の表面との間の距離を１２５μｍに設定し、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社）を用いて、積層体Ｚに対して、露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２にてパターン状にｉ線を露光した。

次に、得られた積層体Ｚから仮支持体を剥離した。仮支持体剥離後の剥離面を、温度３２℃の炭酸ソーダ２質量％水溶液にて６０秒間現像処理し、超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射して残渣を除去し、エアを吹きかけて水分を除去した。その後、得られた積層体を温度１４５℃で３０分間のポストベーク処理をし、タッチセンサーに対応する透明積層体を得た。
得られた透明積層体は、第１透明樹脂層と、ブリッジ配線電極（上述した透明導電層に該当）と、第３透明樹脂層と、第２透明樹脂層とを有する（図５及び６参照）。

（実施例２～１２、比較例１～４）
（第１透明樹脂層の形成）及び（第２透明樹脂層の形成）で用いる転写フィルムを以下の表４のようにし、（ブリッジ配線電極の形成）で作製するＩＴＯ層を表５の屈折率、厚みとなるようにＳｎＯ_２含有率を調整したターゲットを使用したこと以外は実施例１と同様に、透明積層体を作製した。

（実施例１３～４１）
（第１透明樹脂層の形成）及び（第２透明樹脂層の形成）で用いる転写フィルムを、表４のように変更したこと以外は実施例１と同様に、透明積層体を作製した。

なお、実施例１～４１、及び、比較例１～４で使用された転写フィルムの組み合わせを表４に示す。

＜評価＞
上記のようにして作製した透明積層体に対して、以下の測定及び評価を行った。評価結果を表５に示す。
（１）反射率
上記の実施例及び比較例で各々作製した透明積層体について、分光光度計Ｖ－５７０（日本分光株式会社製）を用い、ブリッジ配線電極が形成されている部分（すなわち、実施例１においては、第１透明樹脂層／ブリッジ配線電極／第３透明樹脂層／第２透明樹脂層をこの順で有する部分）の各透明積層体のＤ６５光源に対する反射率を計測した。
なお、本測定を実施するために、透明積層体を形成する際に、ブリッジ配線電極のサイズが５ｃｍ×５ｃｍとなる部分を有する透明積層体を形成して、上記サイズのブリッジ配線電極が形成されている部分において、上記反射率を測定した。

（２）ブリッジ配線電極のシート抵抗
上記の実施例及び比較例で透明積層体を作製する際、ブリッジ配線電極を形成した後の、剥き出しになっているブリッジ配線電極に対し、抵抗率計ロレスタＧＸ ＭＣＰ－Ｔ７００（三菱ケミカルアナリテック社製）を用いて、四探針プローブを押し当ててシート抵抗を測定した。
なお、本測定を実施するために、透明積層体を形成する際に、ブリッジ配線電極のサイズが５ｃｍ×５ｃｍとなる部分を有する透明積層体を形成して、上記部分にてシート抵抗を測定した。
測定結果については、以下の基準で評価し、表５に記載した。
Ａ：シート抵抗 ３０Ω未満。タッチセンサーの駆動上問題なし。
Ｂ：シート抵抗 ３０Ω以上。タッチセンサー感度が得られず駆動上問題が生じる場合がある。

（３）電極パターンの隠蔽性
上記の実施例及び比較例で各々作製した、透明積層体について、透明フィルム基板の表面に、透明接着テープ（商品名：ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ、スリーエムジャパン株式会社製）を用いて黒色のＰＥＴ材を貼り付け、透明フィルム基板の表面全体を遮光した。
次に、透明積層体を暗室内に置き、透明積層体の第２透明樹脂層側（黒色のＰＥＴ材が貼り付けられた側と反対側）から蛍光灯の光をあて、第２透明樹脂層側に反射する反射光を、第２透明樹脂層の法線方向に対して鋭角方向となる斜め方向から目視で観察した。この際、観察されるブリッジ配線電極のパターンの見え方を下記の評価基準に従って評価した。
（評価基準）
Ａ：透明積層体から１０ｃｍ離れた位置から凝視してもブリッジ配線電極は視認されず、透明積層体から３０ｃｍ離れた位置から目視した際にもブリッジ配線電極は視認されない。
Ｂ：透明積層体から１０ｃｍ離れた位置から凝視すると、ブリッジ配線電極が僅かに視認でき、透明積層体から３０ｃｍ離れた位置から目視した際にはブリッジ配線電極は視認されない。
Ｃ：透明積層体から１０ｃｍ離れた位置から凝視するとブリッジ配線電極が僅かに視認され、透明積層体から３０ｃｍ離れた位置から目視した際もブリッジ配線電極が僅かに視認される。
Ｄ：透明積層体から１０ｃｍ離れた位置から凝視するとブリッジ配線電極をはっきり視認することができ、透明積層体から３０ｃｍ離れた位置から目視した場合にもブリッジ配線電極が僅かに視認できる。
Ｅ：透明積層体から１０ｃｍ離れた位置から凝視するとブリッジ配線電極がはっきり視認され、透明積層体から３０ｃｍ離れた位置から目視した際にもブリッジ配線電極がはっきり視認できる。

上記表５に示すように、本発明の透明積層体であれば、所望の効果が得られることが確認された。
なかでも、実施例１～６の比較より、第３透明樹脂層の屈折率が１．６０以上である場合、電極パターンの隠蔽性がより優れることが確認された。
実施例１と７との比較より、第３透明樹脂層の厚みが、２００ｎｍ以下である場合、反射率がより低く、電極パターンの隠蔽性がより優れることが確認された。
実施例１と８との比較より、式（１）において、ｎが１である場合、反射率がより低く、電極パターンの隠蔽性がより優れることが確認された。
実施例１と８～９の比較より、透明導電層の厚みが１００～１６０ｎｍである場合、反射率がより低く、電極パターンの隠蔽性がより優れることが確認された。
実施例１と１１との比較より、透明積層体が、第１透明樹脂層と透明導電層との間、及び、透明導電層と第２透明樹脂層との間の両方に、第３透明樹脂層を有する場合、反射率がより低くなることが確認された。
実施例１と１２との比較より、透明積層体が、透明導電層と第３透明樹脂層との間に、第３透明樹脂層の屈折率よりも低い屈折率を示す第４透明樹脂層を更に有する場合、反射率がより低くなることが確認された。

１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ 透明積層体
１２ 第１透明樹脂層
１４，１４Ａ 透明導電層
１６，１６Ａ，１６Ｂ 第３透明樹脂層
１８ 第２透明樹脂層
２０ 第４透明樹脂層
２２ 透明基材
２４ 透明層
２６ 第１電極パターン
２８ 第２島状電極部
３０ 第２電極パターン
３２ 第１島状電極部
３４ 配線部
３６ スルーホール

Claims (10)

1. 第１透明樹脂層と、透明導電層と、第２透明樹脂層とをこの順に有する透明積層体であって、
   前記第１透明樹脂層と前記透明導電層との間、又は、前記透明導電層と前記第２透明樹脂層との間の少なくとも一方において、前記第１透明樹脂層の屈折率及び前記第２透明樹脂層の屈折率よりも高い屈折率を示す第３透明樹脂層を有し、
   前記透明導電層の厚みＴが、式（１）の関係を満たす、透明積層体。
   式（１） ｛（ｎ×５５０／４）－５０｝ｎｍ≦Ｔ≦｛（ｎ×５５０／４）＋５０｝ｎｍ
   ｎは、１以上の整数を表す。
2. 前記第３透明樹脂層の屈折率が１．６０以上である、請求項１に記載の透明積層体。
3. 前記第３透明樹脂層の厚みが２００ｎｍ以下である、請求項１又は２に記載の透明積層体。
4. 前記式（１）において、ｎが１である、請求項１～３のいずれか１項に記載の透明積層体。
5. 前記透明導電層の厚みが１００～１６０ｎｍである、請求項１～４のいずれか１項に記載の透明積層体。
6. 前記第１透明樹脂層と前記透明導電層との間、及び、前記透明導電層と前記第２透明樹脂層との間の両方に、前記第３透明樹脂層を有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の透明積層体。
7. 前記透明導電層と前記第３透明樹脂層との間に、前記第３透明樹脂層の屈折率よりも低い屈折率を示す第４透明樹脂層を更に有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の透明積層体。
8. 前記第３透明樹脂層が、金属酸化物粒子を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の透明積層体。
9. タッチセンサーとして用いられる、請求項１～８のいずれか１項に記載の透明積層体。
10. 画像表示素子と、請求項９に記載の透明積層体とを有する、画像表示装置。

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