JP7151001B2 - セラミックス材 - Google Patents
セラミックス材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7151001B2 JP7151001B2 JP2021556306A JP2021556306A JP7151001B2 JP 7151001 B2 JP7151001 B2 JP 7151001B2 JP 2021556306 A JP2021556306 A JP 2021556306A JP 2021556306 A JP2021556306 A JP 2021556306A JP 7151001 B2 JP7151001 B2 JP 7151001B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating layer
- base material
- ceramic material
- ceramic
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/87—Ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/56—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides
- C04B35/565—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5025—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/91—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics involving the removal of part of the materials of the treated articles, e.g. etching
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
- F27D3/12—Travelling or movable supports or containers for the charge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/94—Products characterised by their shape
- C04B2235/945—Products containing grooves, cuts, recesses or protusions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
図1を参照し、セラミックス材10について説明する。セラミックス材10は、平板状であり、SiC製の基材2と、基材2の表面2Sに設けられているZrO2製の被覆層8を備えている。基材2の表面2Sには凸部4が設けられており、凸部4は被覆層8に向けて突出している。なお、凸部4は、被覆層8の表面(基材2側と反対側の面)には露出していない。基材2の表面2Sには、X方向に伸びる複数の凸部4がストライプ状に設けられている。なお、凸部4は、基材2の表面に開口を有するマスク層を形成し、開口部分の基材2をエッチングした残部である。そのため、凸部4と基材2の材料は同一である(SiCである)。
図2を参照し、セラミックス材10aについて説明する。セラミックス材10aはセラミックス材10の変形例であり、セラミックス材10と共通する特徴については、セラミックス材10に付した参照番号と同じ参照番号を付すことにより説明を省略することがある。
図3を参照し、セラミックス材10の凸部4、及び、セラミックス材10aの凹部40の特徴を説明する。図3は、基材2及び基材2aを平面視した図である。基材2(2a)の表面2Sには、X方向に沿って伸びる複数の凸部4(凹部40)が設けられている。すなわち、凸部4(凹部40)は、基材2(2a)の表面2Sにストライプ状に形成されている。凸部4(凹部40)の幅4W(40W)は、100μmである。また、隣り合う凸部4(凹部40)間の間隔4L(40L)は、400μmである。なお、間隔4L(40L)は、特定の凸部4(凹部40)の幅方向中心の任意位置3から、隣の凸部4(凹部40)幅方向中心までの距離が最短となる位置5までの距離である。また、上記したように、凸部4,4間、凹部40,40間には亀裂12が設けられている。隣り合う亀裂12間の間隔は、300~500μmになるように調整されている。
セラミックス材10は凸部4が被覆層8に食い込み、また、セラミックス材10aは被覆層8が凹部40に食い込むことにより、基材2(2a)と被覆層8の間に強固なアンカー効果が得られる。そのため、被覆層8が基材2から剥離し難く、セラミックス材10(10a)の耐久性が向上する。
図4を参照し、セラミックス材10bについて説明する。セラミックス材10bは、セラミックス材10及びセラミックス材10aの変形例であり、基材32(32a)の表面32Sの形状がセラミックス材10,10aと異なる。セラミックス材10bの他の特徴(被覆層の特徴)は、セラミックス材10,10aと同様のため、以下では説明を省略する。なお、図4は、基材32の表面32Sに形成された凸部4が格子状の連続部42を形成している形態と、基材32aの表面32Sに形成された凹部40が格子状の連続部42を形成している形態をまとめて示したものであり、第1実施例及び第2実施例(セラミックス材10,10a)における図3に相当する。
図5を参照し、セラミックス材10cについて説明する。セラミックス材10cは、セラミックス材10,10a及び10bの変形例であり、基材52(52a)の表面52Sの形状がセラミックス材10,10a及び10bと異なる。セラミックス材10cについて、セラミックス材10,10a及び10bと共通する特徴(被覆層の特徴)は、説明を省略する。図5は、基材52の表面52Sに、互いに独立した複数の凸部4が形成されている形態と、基材52aの表面52Sに、互いに独立した複数の凹部40が形成されている形態をまとめて示したものであり、第1実施例及び第2実施例における図3、第3実施例における図4に相当する。
図6を参照し、セラミックス材10dについて説明する。セラミックス材10dは、セラミックス材10cの変形例であり、基材62(62a)の表面62Sに設けられている凸部4(凹部40)の形状が、基材52(52a)の表面52Sに設けられている凸部4(凹部40)の形状と異なる。図6は、基材62の表面62Sに、互いに独立した複数の凸部4が形成されている形態と、基材62aの表面62Sに、互いに独立した複数の凹部40が形成されている形態をまとめて示したものである。
4:凸部
8:被覆層
10,10a:セラミックス材
40:凹部
Claims (13)
- セラミックス製の基材と、前記基材の表面に設けられているセラミックス製の被覆層と、を有するセラミックス材であって、
前記基材の表面に、前記被覆層に向けて突出している複数の凸部が設けられており、
隣り合う凸部間の間隔が、100μm以上2000μm以下であり、
前記凸部の幅が10μm以上200μm以下であり、
前記被覆層は、厚み方向に伸びる複数の亀裂を有し、
前記亀裂は、被覆層の裏面から表面に向けて厚み方向の中間部分まで伸びているセラミックス材。 - 前記基材と前記凸部との熱膨張率差が10%以下である請求項1に記載のセラミックス材。
- 前記基材と前記凸部とが、同質の材料である請求項1または2に記載のセラミックス材。
- 前記凸部の突出高さが1μm以上200μm以下である請求項1から3のいずれか一項に記載のセラミックス材。
- 前記凸部の突出高さが10μm以上200μm以下である請求項1から3のいずれか一項に記載のセラミックス材。
- セラミックス製の基材と、前記基材の表面に設けられているセラミックス製の被覆層と、を有するセラミックス材であって、
前記基材の表面に、複数の凹部が設けられており、
隣り合う凹部間の間隔が、100μm以上2000μm以下であり、
前記被覆層は、厚み方向に伸びる複数の亀裂を有し、
前記亀裂は、被覆層の裏面から表面に向けて厚み方向の中間部分まで伸びているセラミックス材。 - 前記基材の表面に、第1方向に沿って伸びる複数の第1凸部と、第1方向に交差する第2方向に沿って伸びる複数の第2凸部と、によって形成されている格子状の連続部が設けられており、
前記複数の凹部が、前記連続部によって区画された凹部である請求項6に記載のセラミックス材。 - 前記基材と前記連続部との熱膨張率差が10%以下である請求項7に記載のセラミックス材。
- 前記基材と前記連続部が同質の材料である請求項7に記載のセラミックス材。
- 隣り合う亀裂間の間隔が、10μm以上2000μm以下である請求項1から9のいずれか一項に記載のセラミックス材。
- 前記基材がSiC質である請求項1から10のいずれか一項に記載のセラミックス材。
- 前記被覆層が、Al、Si、Zr、YまたはMgの酸化物の単体もしくは、混合物から構成されている請求項1から11のいずれか一項に記載のセラミックス材。
- 請求項1から12のいずれか一項に記載のセラミックス材によって構成されている焼成用セッター。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020144920 | 2020-08-28 | ||
JP2020144920 | 2020-08-28 | ||
PCT/JP2021/014380 WO2022044414A1 (ja) | 2020-08-28 | 2021-04-02 | セラミックス材 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2022044414A1 JPWO2022044414A1 (ja) | 2022-03-03 |
JPWO2022044414A5 JPWO2022044414A5 (ja) | 2022-08-09 |
JP7151001B2 true JP7151001B2 (ja) | 2022-10-11 |
Family
ID=80354910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021556306A Active JP7151001B2 (ja) | 2020-08-28 | 2021-04-02 | セラミックス材 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7151001B2 (ja) |
KR (1) | KR102644725B1 (ja) |
CN (1) | CN115917234A (ja) |
TW (1) | TWI784472B (ja) |
WO (1) | WO2022044414A1 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007176734A (ja) | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kyocera Corp | 表面被覆セラミック焼結体 |
JP2008121073A (ja) | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Asahi Glass Co Ltd | 金属被膜付き電鋳煉瓦及びその製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06144966A (ja) * | 1992-11-02 | 1994-05-24 | Ngk Insulators Ltd | Si−SiC質耐火物 |
JPH06159950A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-07 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 電子部品の焼成用治具 |
JPH09286678A (ja) * | 1996-04-19 | 1997-11-04 | Tosoh Corp | ジルコニア被覆耐火物 |
JPH10267562A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-09 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 焼成用道具材 |
JP4298236B2 (ja) * | 2002-08-09 | 2009-07-15 | 日本碍子株式会社 | セラミックス電子部品焼成用セッターの製造方法 |
JP5465216B2 (ja) * | 2010-08-11 | 2014-04-09 | 日本碍子株式会社 | 焼成用セッター |
KR102227122B1 (ko) * | 2016-10-06 | 2021-03-12 | 미쓰이금속광업주식회사 | 세라믹스 격자체 |
-
2021
- 2021-04-02 KR KR1020217033117A patent/KR102644725B1/ko active IP Right Grant
- 2021-04-02 CN CN202180003521.0A patent/CN115917234A/zh active Pending
- 2021-04-02 WO PCT/JP2021/014380 patent/WO2022044414A1/ja active Application Filing
- 2021-04-02 JP JP2021556306A patent/JP7151001B2/ja active Active
- 2021-04-08 TW TW110112697A patent/TWI784472B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007176734A (ja) | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kyocera Corp | 表面被覆セラミック焼結体 |
JP2008121073A (ja) | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Asahi Glass Co Ltd | 金属被膜付き電鋳煉瓦及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2022044414A1 (ja) | 2022-03-03 |
JPWO2022044414A1 (ja) | 2022-03-03 |
KR20220027808A (ko) | 2022-03-08 |
TW202208309A (zh) | 2022-03-01 |
KR102644725B1 (ko) | 2024-03-06 |
CN115917234A (zh) | 2023-04-04 |
TWI784472B (zh) | 2022-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2009131217A1 (ja) | 放熱基体およびこれを用いた電子装置 | |
JP2011071180A5 (ja) | ||
JP7151001B2 (ja) | セラミックス材 | |
TW201801237A (zh) | 具有改善粒子效能的晶圓接觸表面突出輪廓 | |
WO2022049980A1 (ja) | 焼成用セッター | |
JP2010030280A (ja) | セラミック基体、放熱基体および電子装置 | |
JP6220099B2 (ja) | 多孔質セラミック構造体 | |
CN110030044B (zh) | 用于燃气涡轮构件的热保护系统及方法 | |
TWI720323B (zh) | 基板保持構件 | |
JP7332588B2 (ja) | セラミックス銅回路基板およびその製造方法 | |
JP4358777B2 (ja) | ジルコニアセッター及びセラミック基板の製造方法 | |
JP4545896B2 (ja) | ヒータユニット及びその製造方法 | |
TW202128599A (zh) | 燒成用鋪板 | |
JPWO2022044414A5 (ja) | ||
JP2019158201A (ja) | 焼成治具 | |
JP2006344776A (ja) | チップ抵抗器とその製造方法 | |
JP2005022966A (ja) | 窒化アルミニウム接合体及びその製造方法 | |
US20190152862A1 (en) | Porous ceramic particle and porous ceramic structure | |
JP2017213836A (ja) | 多孔質セラミック構造体及びその製造方法 | |
JP7133916B2 (ja) | 放熱部材、放熱構造及び電子機器 | |
JP6711742B2 (ja) | 基材構造及び基材製造方法 | |
WO2015174288A1 (ja) | 焼成用治具 | |
JP2018039221A (ja) | 複合構造体 | |
CN107848898B (zh) | 多孔质陶瓷粒子 | |
JP2017214265A (ja) | 多孔質セラミック構造体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210916 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210916 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20210916 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220617 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220928 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7151001 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |