JP7128907B2 - ハードコート層形成用組成物、眼鏡レンズ - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 55
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 41
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 32
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 28
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 108
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 56
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 56
- 239000010408 film Substances 0.000 description 37
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 9
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101100258315 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) crc-1 gene Proteins 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- UAKWLVYMKBWHMX-UHFFFAOYSA-N SU4312 Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=C1C2=CC=CC=C2NC1=O UAKWLVYMKBWHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- YOQPKXIRWPWFIE-UHFFFAOYSA-N ctk4c8335 Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(=O)=O YOQPKXIRWPWFIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
本発明は、ハードコート層形成用組成物、および、眼鏡レンズに関する。
ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物を含む硬化性樹脂組成物は、ハードコート剤として有用である（例えば、特許文献１）。
本開示は、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレートと、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンと、金属酸化物粒子と、を含む、ハードコート層形成用組成物に関する。
以下、本実施形態のハードコート層形成用組成物について詳述する。
ハードコート層形成用組成物としては、隣接する層（例えば、プライマー層、反射防止膜）との密着性に優れ、かつ、硬度に優れるハードコート層を形成することが可能なハードコート層形成用組成物が望まれる。本実施形態のハードコート層形成用組成物では、上記特性が得られる。また、上記組成物より得られるハードコート層は、その上に反射防止膜を配置した際の耐擦傷性にも優れる。
なお、本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
ハードコート層形成用組成物としては、隣接する層（例えば、プライマー層、反射防止膜）との密着性に優れ、かつ、硬度に優れるハードコート層を形成することが可能なハードコート層形成用組成物が望まれる。本実施形態のハードコート層形成用組成物では、上記特性が得られる。また、上記組成物より得られるハードコート層は、その上に反射防止膜を配置した際の耐擦傷性にも優れる。
なお、本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
以下、ハードコート層形成用組成物に含まれる各成分について詳述する。
＜リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレート＞
ハードコート層形成用組成物は、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基（以後、単に「特定基」とも称する）を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレート（以後、単に「特定（メタ）アクリレート」とも称する）を含む。
なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
特定基としては、リン酸基が好ましい。
特定（メタ）アクリレート中における特定基の数は１以上であればよく、２以上であってもよい。上限としては、例えば、５以下とすることができる。
特定（メタ）アクリレートは、単官能であっても、多官能であってもよい。なお、多官能とは、特定（メタ）アクリレートが２以上の特定基を有することを意味する。
リン酸基は、以下式で表される基である。＊は、結合位置を表す。
ハードコート層形成用組成物は、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基（以後、単に「特定基」とも称する）を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレート（以後、単に「特定（メタ）アクリレート」とも称する）を含む。
なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
特定基としては、リン酸基が好ましい。
特定（メタ）アクリレート中における特定基の数は１以上であればよく、２以上であってもよい。上限としては、例えば、５以下とすることができる。
特定（メタ）アクリレートは、単官能であっても、多官能であってもよい。なお、多官能とは、特定（メタ）アクリレートが２以上の特定基を有することを意味する。
リン酸基は、以下式で表される基である。＊は、結合位置を表す。
スルホン酸基は、以下式で表される基である。
特定（メタ）アクリレートとしては、式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
式（Ａ） ＣＨ2＝ＣＲa－ＣＯＯ－Ｌa－Ｘ
Ｒaは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌaは、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基（例えば、－Ｏ－アルキレン基－）が好ましい。
Ｘは、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を表す。
式（Ａ） ＣＨ2＝ＣＲa－ＣＯＯ－Ｌa－Ｘ
Ｒaは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌaは、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基（例えば、－Ｏ－アルキレン基－）が好ましい。
Ｘは、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を表す。
＜ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン＞
ハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンを含む。
ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、および、ビニル基が挙げられる。
なお、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基またはメタアクリロイル基を意味する。
ハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンを含む。
ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、および、ビニル基が挙げられる。
なお、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基またはメタアクリロイル基を意味する。
なお、一般的に、シルセスキオキサン化合物とは、アルコキシシラン、クロロシラン、および、シラノールなどの３官能性シラン化合物を加水分解することで得られる式（Ｂ）で表される基本骨格を有するシラン化合物である。シルセスキオキサン化合物の構造としては、ランダム構造と呼ばれる不規則の形態のほかに、ラダー構造、かご型（完全縮合ケージ型）構造、および、不完全かご型構造（かご型構造の部分開裂構造体であって、かご型構造からケイ素原子のうちの一部が欠けた構造やかご型構造の一部のケイ素－酸素結合が切断された構造のもの）が知られている。
以下式（Ｂ）中、Ｒbは有機基を表す。
式（Ｂ） Ｒb－ＳｉＯ3/2
以下式（Ｂ）中、Ｒbは有機基を表す。
式（Ｂ） Ｒb－ＳｉＯ3/2
ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物の構造は特に制限されないが、上記ランダム構造、ラダー構造、かご型構造、および、不完全かご型構造のいずれであってもよく、また、複数種の構造の混合物であってもよい。
シルセスキオキサン化合物に含まれるラジカル重合性基当量は特に制限されないが、ハードコート層の硬度がより優れる点で、３０～５００ｇ／ｅｑ.が好ましく、３０～１５０ｇ／ｅｑ．がより好ましい。
ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物は、公知の方法にて合成してもよいし、市販品を用いてもよい。
＜金属酸化物粒子＞
ハードコート層形成用組成物は、金属酸化物粒子を含む。
金属酸化物粒子の種類は特に制限されず、公知の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物粒子としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、および、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物の粒子が挙げられる。なかでも、取り扱い性の点で、金属酸化物粒子を、Ｓｉを含む酸化物の粒子（酸化ケイ素粒子）、Ｓｎを含む酸化物の粒子（酸化スズ粒子）、Ｚｒを含む酸化物の粒子（酸化ジルコニウム粒子）、または、Ｔｉを含む酸化物の粒子（酸化チタン粒子）が好ましい。
なお、金属酸化物粒子には、上記に例示した１種の金属（金属原子）のみが含まれていてもよいし、２種以上の金属（金属原子）が含まれていてもよい。
また、Ｓｉ（ケイ素）は半金属に分類される場合があるが、本明細書ではＳｉを金属に含めるものとする。
ハードコート層形成用組成物は、金属酸化物粒子を含む。
金属酸化物粒子の種類は特に制限されず、公知の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物粒子としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、および、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物の粒子が挙げられる。なかでも、取り扱い性の点で、金属酸化物粒子を、Ｓｉを含む酸化物の粒子（酸化ケイ素粒子）、Ｓｎを含む酸化物の粒子（酸化スズ粒子）、Ｚｒを含む酸化物の粒子（酸化ジルコニウム粒子）、または、Ｔｉを含む酸化物の粒子（酸化チタン粒子）が好ましい。
なお、金属酸化物粒子には、上記に例示した１種の金属（金属原子）のみが含まれていてもよいし、２種以上の金属（金属原子）が含まれていてもよい。
また、Ｓｉ（ケイ素）は半金属に分類される場合があるが、本明細書ではＳｉを金属に含めるものとする。
金属酸化物粒子の平均粒径は特に制限されないが、例えば、１～２００ｎｍが好ましく、５～３０ｎｍがより好ましい。上記範囲内であれば、ハードコート層形成用組成物中での金属酸化物粒子の分散安定性がより優れるとともに、硬化物の白色化をより抑制できる。
なお、上記平均粒径は、透過型顕微鏡にて１００個以上の金属酸化物粒子の直径を測定して、それらを算術平均して求める。なお、金属酸化物粒子が真円状でない場合、長径を直径とする。
なお、上記平均粒径は、透過型顕微鏡にて１００個以上の金属酸化物粒子の直径を測定して、それらを算術平均して求める。なお、金属酸化物粒子が真円状でない場合、長径を直径とする。
金属酸化物粒子の表面には、必要に応じて、各種官能基が導入されていてもよい。
＜その他成分＞
ハードコート層形成用組成物は、上述した成分（特定（メタ）アクリレート、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物、金属酸化物粒子）以外の成分を含んでいてもよい。
ハードコート層形成用組成物は、上述した成分（特定（メタ）アクリレート、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物、金属酸化物粒子）以外の成分を含んでいてもよい。
（多官能アクリレート）
ハードコート層形成用組成物は、ハードコート層の隣接する層に対する密着性がより優れる、ハードコート層自体の硬さがより優れる、および、ハードコート層のクラックがより抑制される、の少なくとも１つの効果が得られる点（以後、単に「所定の効果がより優れる点」とも称する。）で、特定（メタ）アクリレートおよびラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンのいずれとも異なる多官能（メタ）アクリレートを含んでいてもよい。
多官能（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を複数有する化合物である。（メタ）アクリロイル基の数は特に制限されないが、２～６個が好ましく、２～３個がより好ましい。
ハードコート層形成用組成物は、ハードコート層の隣接する層に対する密着性がより優れる、ハードコート層自体の硬さがより優れる、および、ハードコート層のクラックがより抑制される、の少なくとも１つの効果が得られる点（以後、単に「所定の効果がより優れる点」とも称する。）で、特定（メタ）アクリレートおよびラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンのいずれとも異なる多官能（メタ）アクリレートを含んでいてもよい。
多官能（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を複数有する化合物である。（メタ）アクリロイル基の数は特に制限されないが、２～６個が好ましく、２～３個がより好ましい。
多官能（メタ）アクリレートとしては、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｃ） ＣＨ2＝ＣＲc1－ＣＯ－Ｌc1－ＣＯ－ＣＲc2＝ＣＨ2
Ｒc1およびＲc2は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌc1は、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。
なかでも、酸素原子を含むアルキレン基が好ましく、－Ｏ－（Ｌc2－Ｏ）m－で表される基が好ましい。なお、Ｌc2は、アルキレン基（好ましくは、炭素数１～３）を表す。ｍは、１以上の整数を表し、１～１０の整数が好ましく、２～５の整数がより好ましい。
式（Ｃ） ＣＨ2＝ＣＲc1－ＣＯ－Ｌc1－ＣＯ－ＣＲc2＝ＣＨ2
Ｒc1およびＲc2は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌc1は、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。
なかでも、酸素原子を含むアルキレン基が好ましく、－Ｏ－（Ｌc2－Ｏ）m－で表される基が好ましい。なお、Ｌc2は、アルキレン基（好ましくは、炭素数１～３）を表す。ｍは、１以上の整数を表し、１～１０の整数が好ましく、２～５の整数がより好ましい。
（式（１）で表される加水分解性ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種）
ハードコート層形成用組成物は、所定の効果がより優れる点で、式（１）で表される加水分解性ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種（以後、単に「加水分解性ケイ素化合物類」とも称する）を含んでいてもよい。なお、加水分解性ケイ素化合物とは、ケイ素原子に加水分解性基が結合した化合物を意図する。
式（１） Ｘ－Ｌ－Ｓｉ（Ｒ1）n（Ｒ2）3-n
Ｘは、エポキシ基を表す。
エポキシ基とは、以下の式で表される基である。Ｒ3は、水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、および、プロピル基）を表す。＊は、結合位置を表す。
ハードコート層形成用組成物は、所定の効果がより優れる点で、式（１）で表される加水分解性ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種（以後、単に「加水分解性ケイ素化合物類」とも称する）を含んでいてもよい。なお、加水分解性ケイ素化合物とは、ケイ素原子に加水分解性基が結合した化合物を意図する。
式（１） Ｘ－Ｌ－Ｓｉ（Ｒ1）n（Ｒ2）3-n
Ｘは、エポキシ基を表す。
エポキシ基とは、以下の式で表される基である。Ｒ3は、水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、および、プロピル基）を表す。＊は、結合位置を表す。
Ｌは、ヘテロ原子を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。
Ｒ1は、加水分解性基を表す。加水分解性基は、Ｓｉ（ケイ素原子）に直結し、加水分解反応および／または縮合反応を進行し得る基である。加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、および、イソシアネート基が挙げられる。
Ｒ2は、アルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましい。
ｎは、１～３の整数を表す。ｎは、３が好ましい。
加水分解性ケイ素化合物の加水分解物とは、加水分解性ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解物は、加水分解性基のすべてが加水分解されているもの（完全加水分解物）であっても、加水分解性基の一部が加水分解されているもの（部分加水分解物）であってもよい。つまり、上記加水分解物は、完全加水分解物、部分加水分解物、または、これらの混合物であってもよい。
また、加水分解性ケイ素化合物の加水分解縮合物とは、加水分解性ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべての加水分解性基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部の加水分解性基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、または、これらの混合物であってもよい。
また、加水分解性ケイ素化合物の加水分解縮合物とは、加水分解性ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべての加水分解性基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部の加水分解性基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、または、これらの混合物であってもよい。
（ラジカル重合開始剤）
ハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合開始剤を含んでいてもよい。ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤および熱ラジカル重合開始剤が挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、１８４、０７、６５１、１７００、１８００、８１９、３６９、２６１、ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、日本シイベルヘグナー社製エザキュアーＫＩＰ１５０、ＴＺＴ、日本化薬株式会社製カヤキュアＢＭＳ、および、カヤキュアＤＭＢＩが挙げられる。
ハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合開始剤を含んでいてもよい。ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤および熱ラジカル重合開始剤が挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、１８４、０７、６５１、１７００、１８００、８１９、３６９、２６１、ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、日本シイベルヘグナー社製エザキュアーＫＩＰ１５０、ＴＺＴ、日本化薬株式会社製カヤキュアＢＭＳ、および、カヤキュアＤＭＢＩが挙げられる。
（溶媒）
ハードコート層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、水であっても、有機溶媒であってもよい。
有機溶媒の種類は特に制限されず、例えば、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、および、スルホキシド系溶媒が挙げられる。
ハードコート層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、水であっても、有機溶媒であってもよい。
有機溶媒の種類は特に制限されず、例えば、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、および、スルホキシド系溶媒が挙げられる。
ハードコート層形成用組成物は、必要に応じて、紫外線吸収剤、老化防止剤、塗膜調整剤、光安定剤、酸化防止剤、着色防止剤、染料、充填剤、および、内部離型剤などの種々の添加剤を含んでいてもよい。
＜ハードコート層形成用組成物＞
ハードコート層形成用組成物は、上述した各種成分を含む。
ハードコート層形成用組成物の製造方法は特に制限されず、例えば、上述した成分を一括で混合してもよいし、分割して段階的に各成分を混合してもよい。
また、上述した加水分解性ケイ素化合物を用いる場合、例えば、加水分解性ケイ素化合物の加水分解反応および縮合反応を進行させて、加水分解物および／または加水分解縮合物を製造した後、加水分解物および／または加水分解縮合物と他の成分とを混合する方法が挙げられる。
ハードコート層形成用組成物は、上述した各種成分を含む。
ハードコート層形成用組成物の製造方法は特に制限されず、例えば、上述した成分を一括で混合してもよいし、分割して段階的に各成分を混合してもよい。
また、上述した加水分解性ケイ素化合物を用いる場合、例えば、加水分解性ケイ素化合物の加水分解反応および縮合反応を進行させて、加水分解物および／または加水分解縮合物を製造した後、加水分解物および／または加水分解縮合物と他の成分とを混合する方法が挙げられる。
ハードコート層形成用組成物中における特定（メタ）アクリレートの含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分（ハードコート層構成成分）に対して、５～３０質量％が好ましく、５～２０質量％がより好ましい。
なお、全固形分（ハードコート層構成成分）とは、硬化処理によりハードコート層を構成する成分であり、上述した、特定（メタ）アクリレート、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物、金属酸化物粒子、多官能（メタ）アクリレート、加水分解性ケイ素化合物類、および、ラジカル重合開始剤などが該当し、溶媒は固形分に含まれない。また、成分が液状であっても、ハードコート層を構成する成分であれば、固形分として計算する。
なお、全固形分（ハードコート層構成成分）とは、硬化処理によりハードコート層を構成する成分であり、上述した、特定（メタ）アクリレート、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物、金属酸化物粒子、多官能（メタ）アクリレート、加水分解性ケイ素化合物類、および、ラジカル重合開始剤などが該当し、溶媒は固形分に含まれない。また、成分が液状であっても、ハードコート層を構成する成分であれば、固形分として計算する。
ハードコート層形成用組成物中におけるラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物の含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、１０～６０質量％が好ましく、２０～５５質量％がより好ましい。
ハードコート層形成用組成物中における金属酸化物粒子の含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、１０～７０質量％が好ましく、２５～５５質量％がより好ましい。
ハードコート層形成用組成物に多官能（メタ）アクリレートが含まれる場合、多官能（メタ）アクリレートの含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、１～３０質量％が好ましく、３～１６質量％がより好ましい。
ハードコート層形成用組成物に加水分解性ケイ素化合物類が含まれる場合、加水分解性ケイ素化合物類の含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５～３０質量％が好ましく、１～１０質量％がより好ましい。
なお、本明細書においては、加水分解性ケイ素化合物類の含有量を算出する際には、便宜上、その化合物の加水分解前の質量を基準に算出する。
なお、本明細書においては、加水分解性ケイ素化合物類の含有量を算出する際には、便宜上、その化合物の加水分解前の質量を基準に算出する。
ハードコート層形成用組成物にラジカル重合開始剤が含まれる場合、ラジカル重合開始剤の含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．０５～５質量％が好ましく、０．１～３質量％がより好ましい。
金属酸化物粒子の含有量に対する、特定（メタ）アクリレートの含有量の質量比（特定（メタ）アクリレートの含有量／金属酸化物粒子の含有量）は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、０．１５～０．８０が好ましく、０．２０～０．８０がより好ましい。
金属酸化物粒子の含有量に対する、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量の質量比（ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量／金属酸化物粒子の含有量）は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、０．６０～５．０が好ましく、０．６０～１．００がより好ましい。
ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量に対する、特定（メタ）アクリレートの含有量の質量比（特定（メタ）アクリレートの含有量／ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量）は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、０．１０～０．７０が好ましい。
金属酸化物粒子の含有量に対する、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量の質量比（ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量／金属酸化物粒子の含有量）は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、０．６０～５．０が好ましく、０．６０～１．００がより好ましい。
ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量に対する、特定（メタ）アクリレートの含有量の質量比（特定（メタ）アクリレートの含有量／ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量）は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、０．１０～０．７０が好ましい。
上記ハードコート層形成用組成物は、基材上にハードコート層を形成するための組成物として好適に用いられる。基材としては、眼鏡レンズ基材が好ましい。また、基材としては、プラスチック基材が好ましい。
プラスチック基材としては、例えば、プラスチック眼鏡レンズ基材、および、プラスチックフィルムが挙げられる。
後段では、一例として、プレスチック眼鏡レンズ基材上に上記ハードコート層形成用組成物を適用した態様について詳述する。なお、後段ではプラスチック眼鏡レンズ基材を用いた場合について述べるが、この態様に限定されず、基材（特に、眼鏡レンズ基材）であればよい。
プラスチック基材としては、例えば、プラスチック眼鏡レンズ基材、および、プラスチックフィルムが挙げられる。
後段では、一例として、プレスチック眼鏡レンズ基材上に上記ハードコート層形成用組成物を適用した態様について詳述する。なお、後段ではプラスチック眼鏡レンズ基材を用いた場合について述べるが、この態様に限定されず、基材（特に、眼鏡レンズ基材）であればよい。
＜眼鏡レンズ＞
図１は、眼鏡レンズの一実施形態の断面図である。
図１に示す眼鏡レンズ１０は、プラスチック眼鏡レンズ基材１２と、プラスチック眼鏡レンズ基材１２の両面上に配置されたハードコート層１４とを含む。ハードコート層１４は、上述したハードコート層形成用組成物を用いて作製（形成）された層である。
なお、図１においては、ハードコート層１４はプラスチック眼鏡レンズ基材１２に直接接触するように配置されているが、この形態には制限されず、プラスチック眼鏡レンズ基材１２とハードコート層１４との間に他の層（例えば、プライマー層）が配置されていてもよい。つまり、ハードコート層１４は、プラスチック眼鏡レンズ基材１２上に直接配置されていてもよいし、他の層を介して間接的にプラスチック眼鏡レンズ基材１２上に配置されていてもよい。
また、図１においては、プラスチック眼鏡レンズ基材１２の両面にハードコート層１４が配置されているが、プラスチック眼鏡レンズ基材１２の片面のみにハードコート層１４が配置されていてもよい。
以下、眼鏡レンズ１０に含まれる各部材について詳述する。
図１は、眼鏡レンズの一実施形態の断面図である。
図１に示す眼鏡レンズ１０は、プラスチック眼鏡レンズ基材１２と、プラスチック眼鏡レンズ基材１２の両面上に配置されたハードコート層１４とを含む。ハードコート層１４は、上述したハードコート層形成用組成物を用いて作製（形成）された層である。
なお、図１においては、ハードコート層１４はプラスチック眼鏡レンズ基材１２に直接接触するように配置されているが、この形態には制限されず、プラスチック眼鏡レンズ基材１２とハードコート層１４との間に他の層（例えば、プライマー層）が配置されていてもよい。つまり、ハードコート層１４は、プラスチック眼鏡レンズ基材１２上に直接配置されていてもよいし、他の層を介して間接的にプラスチック眼鏡レンズ基材１２上に配置されていてもよい。
また、図１においては、プラスチック眼鏡レンズ基材１２の両面にハードコート層１４が配置されているが、プラスチック眼鏡レンズ基材１２の片面のみにハードコート層１４が配置されていてもよい。
以下、眼鏡レンズ１０に含まれる各部材について詳述する。
（プラスチック眼鏡レンズ基材）
プラスチック眼鏡レンズ基材の種類は特に制限されないが、例えば、凸面および凹面共に光学的に仕上げ、所望の度数にあわせて成形されるフィニッシュレンズが挙げられる。
プラスチック眼鏡レンズ基材を構成するプラスチック（いわゆる、樹脂）の種類は特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、チオウレタン系樹脂、アリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエ－テルサルホン系樹脂、ポリ４－メチルペンテン－１系樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート系樹脂（ＣＲ－３９）、および、ポリ塩化ビニル系樹脂が挙げられる。
プラスチック眼鏡レンズ基材の種類は特に制限されないが、例えば、凸面および凹面共に光学的に仕上げ、所望の度数にあわせて成形されるフィニッシュレンズが挙げられる。
プラスチック眼鏡レンズ基材を構成するプラスチック（いわゆる、樹脂）の種類は特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、チオウレタン系樹脂、アリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエ－テルサルホン系樹脂、ポリ４－メチルペンテン－１系樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート系樹脂（ＣＲ－３９）、および、ポリ塩化ビニル系樹脂が挙げられる。
プラスチック眼鏡レンズ基材の厚さは特に制限されないが、取り扱い性の点から、１～３０ｍｍ程度の場合が多い。
プラスチック眼鏡レンズ基材の屈折率は特に制限されない。
また、プラスチック眼鏡レンズ基材は透光性を有していれば透明でなくてもよく、着色されていてもよい。
プラスチック眼鏡レンズ基材の屈折率は特に制限されない。
また、プラスチック眼鏡レンズ基材は透光性を有していれば透明でなくてもよく、着色されていてもよい。
（ハードコート層）
ハードコート層は、プラスチック眼鏡レンズ基材上に配置される層であり、プラスチック眼鏡レンズ基材に耐擦傷性を付与する層である。
ハードコート層は、上述したハードコート層形成用組成物より形成される層である。
ハードコート層は、プラスチック眼鏡レンズ基材上に配置される層であり、プラスチック眼鏡レンズ基材に耐擦傷性を付与する層である。
ハードコート層は、上述したハードコート層形成用組成物より形成される層である。
ハードコート層の形成方法としては、上述したハードコート層形成用組成物をプラスチック眼鏡レンズ基材上に塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して光照射処理などの硬化処理を実施する方法が挙げられる。
なお、塗膜を形成した後、必要に応じて、塗膜から溶媒を除去するために、加熱処理などの乾燥処理を実施してもよい。
なお、塗膜を形成した後、必要に応じて、塗膜から溶媒を除去するために、加熱処理などの乾燥処理を実施してもよい。
ハードコート層形成用組成物をプラスチック眼鏡レンズ基材上に塗布する方法は特に制限されず、公知の方法（例えば、ディッピングコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、インクジェットコーティング法、および、フローコーティング法）が挙げられる。例えば、ディッピングコーティング法を用いる場合、ハードコート層形成用組成物にプラスチック眼鏡レンズ基材を浸漬し、その後、プラスチック眼鏡レンズ基材を引き上げて乾燥することにより、プラスチック眼鏡レンズ基材上に所定の膜厚の塗膜を形成できる。
プラスチック眼鏡レンズ基材上に形成される塗膜の膜厚は特に制限されず、所定のハードコート層の膜厚となるような膜厚が適宜選択される。
プラスチック眼鏡レンズ基材上に形成される塗膜の膜厚は特に制限されず、所定のハードコート層の膜厚となるような膜厚が適宜選択される。
光照射処理の条件は特に制限されず、使用されるラジカル重合開始剤の種類によって適した条件が選択される。
光照射の際の光の種類は特に制限されないが、例えば、紫外線および可視光線が挙げられる。光源としては、例えば、高圧水銀灯が挙げられる。
光照射の際の積算光量は特に制限されないが、生産性および塗膜の硬化性の点で、１００～３０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、１００～１５００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。
光照射の際の光の種類は特に制限されないが、例えば、紫外線および可視光線が挙げられる。光源としては、例えば、高圧水銀灯が挙げられる。
光照射の際の積算光量は特に制限されないが、生産性および塗膜の硬化性の点で、１００～３０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、１００～１５００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。
ハードコート層の膜厚は特に制限されないが、１μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上がさらに好ましい。なお、膜厚の上限は、例えば、３０μｍ以下とすることができる。
上記膜厚は平均膜厚であり、その測定方法としては、ハードコート層の任意の５点の膜厚を測定し、それらを算術平均して求める。
上記膜厚は平均膜厚であり、その測定方法としては、ハードコート層の任意の５点の膜厚を測定し、それらを算術平均して求める。
プライマー層は、基材とハードコート層との間に配置される層であり、ハードコート層の基材に対する密着性を向上させる層である。
プライマー層を構成する材料は特に制限されず、公知の材料を使用でき、例えば、主に樹脂が使用される。使用される樹脂の種類は特に制限されず、例えば、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビスマレイミド系樹脂、および、ポリオレフィン系樹脂が挙げられる。
プライマー層を構成する材料は特に制限されず、公知の材料を使用でき、例えば、主に樹脂が使用される。使用される樹脂の種類は特に制限されず、例えば、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビスマレイミド系樹脂、および、ポリオレフィン系樹脂が挙げられる。
プライマー層の形成方法は特に制限されず、公知の方法を採用でき、例えば、所定の樹脂を含むプライマー層形成用組成物を基材上に塗布して、必要に応じて硬化処理を施して、プライマー層を形成する方法が挙げられる。
プライマー層の厚さは特に制限されないが、０．３～２μｍの範囲内にて選択されることが好ましい。
プライマー層の厚さは特に制限されないが、０．３～２μｍの範囲内にて選択されることが好ましい。
なお、プラスチック眼鏡レンズは図１の形態に制限されず、プラスチック眼鏡レンズは、ハードコート層上に配置される反射防止膜をさらに含んでいてもよい。
反射防止膜は、入射した光の反射を防止する機能を有する層である。具体的には、４００～７００ｎｍの可視領域全域にわたって、低い反射特性（広帯域低反射特性）を有することができる。
反射防止膜は、入射した光の反射を防止する機能を有する層である。具体的には、４００～７００ｎｍの可視領域全域にわたって、低い反射特性（広帯域低反射特性）を有することができる。
反射防止膜の構造は特に制限されず、単層構造であっても、多層構造であってもよい。
反射防止膜としては、無機反射防止膜が好ましい。無機反射防止膜とは、無機化合物で構成される反射防止膜である。
多層構造の場合、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層した構造が好ましい。なお、高屈折率層を構成する材料としては、例えば、チタン、ジルコン、アルミニウム、ニオブ、タンタル、または、ランタンの酸化物が挙げられる。また、低屈折率層を構成する材料としては、例えば、シリカの酸化物が挙げられる。
反射防止膜の製造方法は特に制限されないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、および、ＣＶＤ法などの乾式法が挙げられる。
反射防止膜としては、無機反射防止膜が好ましい。無機反射防止膜とは、無機化合物で構成される反射防止膜である。
多層構造の場合、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層した構造が好ましい。なお、高屈折率層を構成する材料としては、例えば、チタン、ジルコン、アルミニウム、ニオブ、タンタル、または、ランタンの酸化物が挙げられる。また、低屈折率層を構成する材料としては、例えば、シリカの酸化物が挙げられる。
反射防止膜の製造方法は特に制限されないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、および、ＣＶＤ法などの乾式法が挙げられる。
以下、ハードコート層形成用組成物に関して実施例および比較例によりさらに詳しく説明するが、これらの実施例によって何ら制限されるものではない。
＜実施例１＞
特定（メタ）アクリレートとしてアシッドホスホオキシエチルメタクリレート（ホスマーＭ、ユニケミカル社製）（１０質量部）と、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンとしてメタクリル系シルセスキオキサン（ＡＣ－ＳＱ ＴＡ－１００、東亞合成社製）（４０質量部）と、金属酸化物粒子として二酸化珪素ナノ粒子含有ナノテックスラリー（ＣＩＫナノテック社製：二酸化珪素４０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル６０質量％）（１２５質量部）と、ラジカル重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７（３重量部）を混合して、ハードコート層形成用組成物１を得た。
特定（メタ）アクリレートとしてアシッドホスホオキシエチルメタクリレート（ホスマーＭ、ユニケミカル社製）（１０質量部）と、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンとしてメタクリル系シルセスキオキサン（ＡＣ－ＳＱ ＴＡ－１００、東亞合成社製）（４０質量部）と、金属酸化物粒子として二酸化珪素ナノ粒子含有ナノテックスラリー（ＣＩＫナノテック社製：二酸化珪素４０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル６０質量％）（１２５質量部）と、ラジカル重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７（３重量部）を混合して、ハードコート層形成用組成物１を得た。
水系ウレタンディスパージョン（エバファール ＨＡ１７０、日華化学社製、固形分濃度３７質量％）（２００質量部）に、純水（２８９質量部）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（１０．６質量部）、界面活性剤としてＬ７７（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製）（０．２重量部）とＬ７６０４（ダウ・ケミカル製）（０．２質量部）を加えて撹拌し、固形分濃度１４．８質量％のプライマー溶液を作製した。
プラスチック眼鏡レンズ基材として、屈折率１．６０のレンズ（（株）ニコン・エシロール製：ニコンライト３ＡＳ生地 Ｓ－３．００Ｄ）を用いた。
上記プラスチック眼鏡レンズ基材をプライマー溶液に浸漬して、その後、プラスチック眼鏡レンズ基材を引き上げて、９０℃で２０分間焼成し、プライマー層を形成した。
次に、プライマー層上に、ハードコート層形成用組成物１（１．５ｍＬ）を垂らした後、スピンコートにより、ハードコート層形成用組成物１が塗布されたプラスチック眼鏡レンズ基材を１０００ｒｐｍで１０秒間回転させた。次に、得られたプラスチック眼鏡レンズ基材を９０℃で１０分間加熱した後、光源として高圧水銀灯（１００ｍＷ／ｃｍ2）を用いて、塗膜に対してＵＶ照射（積算光量：１．６Ｊ／ｃｍ2）し、ハードコート層を形成した。
なお、プラスチック眼鏡レンズ基材の他方の表面に対しても上記と同様の処理を施し、プラスチック眼鏡レンズ基材の両面にハードコート層を配置したハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材を得た。
プラスチック眼鏡レンズ基材として、屈折率１．６０のレンズ（（株）ニコン・エシロール製：ニコンライト３ＡＳ生地 Ｓ－３．００Ｄ）を用いた。
上記プラスチック眼鏡レンズ基材をプライマー溶液に浸漬して、その後、プラスチック眼鏡レンズ基材を引き上げて、９０℃で２０分間焼成し、プライマー層を形成した。
次に、プライマー層上に、ハードコート層形成用組成物１（１．５ｍＬ）を垂らした後、スピンコートにより、ハードコート層形成用組成物１が塗布されたプラスチック眼鏡レンズ基材を１０００ｒｐｍで１０秒間回転させた。次に、得られたプラスチック眼鏡レンズ基材を９０℃で１０分間加熱した後、光源として高圧水銀灯（１００ｍＷ／ｃｍ2）を用いて、塗膜に対してＵＶ照射（積算光量：１．６Ｊ／ｃｍ2）し、ハードコート層を形成した。
なお、プラスチック眼鏡レンズ基材の他方の表面に対しても上記と同様の処理を施し、プラスチック眼鏡レンズ基材の両面にハードコート層を配置したハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材を得た。
得られたハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材を真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０℃に加熱し、圧力が１．０×１０-3Ｐａになるまで排気した。次に、加速電圧５００Ｖおよび加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを一方のハードコート層に対して６０秒間施した後、クリーニングしたハードコート層上に、順次、第１層ＳｉＯ2（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０９０λ、第２層ＺｒＯ2（屈折率２．００）を光学的膜厚０．０３８λ、第３層ＳｉＯ2（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．３９３λ、第４層ＺｒＯ2（屈折率２．００）を光学的膜厚０．１０４λ、第５層ＳｉＯ2（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０６９λ、第６層ＺｒＯ2（屈折率２．００）を光学的膜厚０．２８９λ、および、第７層ＳｉＯ2（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．２６３λで積層し、反射防止膜を形成した。なお、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
また、他方のハードコート層に対しても上記と同様の処理を施し、ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材の両面に反射防止膜を形成し、反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材（眼鏡レンズに該当）を得た。
また、他方のハードコート層に対しても上記と同様の処理を施し、ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材の両面に反射防止膜を形成し、反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材（眼鏡レンズに該当）を得た。
＜実施例２～８、比較例１＞
後述する表１に示すように、使用する成分の含有量（質量部）を変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材および反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材（眼鏡レンズに該当）を得た。
なお、表１中の「ＺｒＯ2粒子」としては、酸化ジルコニウムナノ粒子ゾル（関東電化工業社製、酸化ジルコニウム４０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル６０質量％）を用いた。
また、表１中の「加水分解性ケイ素化合物類」としては、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ４０３、信越シリコーン社製）を用いた。
また、表１中の「多官能（メタ）アクリレート」としては、テトラエチレングリコールジアクリレートを用いた。
また、表１中の「ラジカル重合開始剤」としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７（ＢＡＳＦ社製）を用いた。
後述する表１に示すように、使用する成分の含有量（質量部）を変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材および反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材（眼鏡レンズに該当）を得た。
なお、表１中の「ＺｒＯ2粒子」としては、酸化ジルコニウムナノ粒子ゾル（関東電化工業社製、酸化ジルコニウム４０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル６０質量％）を用いた。
また、表１中の「加水分解性ケイ素化合物類」としては、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ４０３、信越シリコーン社製）を用いた。
また、表１中の「多官能（メタ）アクリレート」としては、テトラエチレングリコールジアクリレートを用いた。
また、表１中の「ラジカル重合開始剤」としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７（ＢＡＳＦ社製）を用いた。
＜評価＞
上記実施例および比較例にて得られたハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材および反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材を用いて、以下の評価を実施した。なお、結果は、後述する表１にまとめて示す。
上記実施例および比較例にて得られたハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材および反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材を用いて、以下の評価を実施した。なお、結果は、後述する表１にまとめて示す。
（密着性（１））
ＪＩＳ－Ｋ５６００に準じて、クロスカットテープ試験によってハードコート層の密着性を評価した。
すなわち、ナイフを用い、ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材のハードコート層表面に１ｍｍ間隔にプラスチック眼鏡レンズ基材まで達する切れ目を入れ、マス目を２５個形成した。次に、切れ目を入れたハードコート層上へスコッチテープ（３Ｍ社製）を強く押しつけた。その後、ハードコート層表面から６０°方向へすばやくスコッチテープを荷重４ｋｇにて引っ張り、剥離させた後、プラスチック眼鏡レンズ基材上に残っているマス目の数を数えた。
ＪＩＳ－Ｋ５６００に準じて、クロスカットテープ試験によってハードコート層の密着性を評価した。
すなわち、ナイフを用い、ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材のハードコート層表面に１ｍｍ間隔にプラスチック眼鏡レンズ基材まで達する切れ目を入れ、マス目を２５個形成した。次に、切れ目を入れたハードコート層上へスコッチテープ（３Ｍ社製）を強く押しつけた。その後、ハードコート層表面から６０°方向へすばやくスコッチテープを荷重４ｋｇにて引っ張り、剥離させた後、プラスチック眼鏡レンズ基材上に残っているマス目の数を数えた。
（密着性（２））
ＪＩＳ－Ｋ５６００に準じて、クロスカットテープ試験によってハードコート層の密着性を評価した。
すなわち、ナイフを用い、反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材の反射防止膜表面に１ｍｍ間隔にプラスチック眼鏡レンズ基材まで達する切れ目を入れ、マス目を１００個形成した。次に、切れ目を入れた反射防止膜上へスコッチテープ（３Ｍ社製）を強く押しつけた。その後、反射防止膜表面から６０°方向へすばやくスコッチテープを荷重４ｋｇにて引っ張り、剥離させた後、プラスチック眼鏡レンズ基材上に残っているマス目の数を数えた。
ＪＩＳ－Ｋ５６００に準じて、クロスカットテープ試験によってハードコート層の密着性を評価した。
すなわち、ナイフを用い、反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材の反射防止膜表面に１ｍｍ間隔にプラスチック眼鏡レンズ基材まで達する切れ目を入れ、マス目を１００個形成した。次に、切れ目を入れた反射防止膜上へスコッチテープ（３Ｍ社製）を強く押しつけた。その後、反射防止膜表面から６０°方向へすばやくスコッチテープを荷重４ｋｇにて引っ張り、剥離させた後、プラスチック眼鏡レンズ基材上に残っているマス目の数を数えた。
（耐擦傷性）
ボンスター＃００００スチールウール（日本スチールウール（株）製）で２ｋｇの荷重をかけ、反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材中のハードコート層表面を５０往復摩擦し、ハードコート層表面（１ｃｍ×３ｃｍ）において傷ついた程度を目視で次の段階に分けて評価した。
〇： 優れている（傷は観測されない）
△： 良好（３０本未満の浅い傷が観察されるが実用上問題ない）
×： 不良（３０本を超える傷が観察され、実用上問題がある）
ボンスター＃００００スチールウール（日本スチールウール（株）製）で２ｋｇの荷重をかけ、反射防止膜付きプラスチック眼鏡レンズ基材中のハードコート層表面を５０往復摩擦し、ハードコート層表面（１ｃｍ×３ｃｍ）において傷ついた程度を目視で次の段階に分けて評価した。
〇： 優れている（傷は観測されない）
△： 良好（３０本未満の浅い傷が観察されるが実用上問題ない）
×： 不良（３０本を超える傷が観察され、実用上問題がある）
（硬度）
ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材を用いて、ハードコート層の硬度を鉛筆にて計測した。ハードコート層に対し斜めから鉛筆を食い込ませ、傷が付いた硬度の手前の硬度を、その膜の硬度とする。例えば、８Ｈで傷がつかないが、９Ｈで傷がついた場合、そのハードコート層の硬度は８Ｈとする。
ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材を用いて、ハードコート層の硬度を鉛筆にて計測した。ハードコート層に対し斜めから鉛筆を食い込ませ、傷が付いた硬度の手前の硬度を、その膜の硬度とする。例えば、８Ｈで傷がつかないが、９Ｈで傷がついた場合、そのハードコート層の硬度は８Ｈとする。
（クラック）
各実施例および比較例において、ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材をそれぞれ３枚ずつ作製して、目視にてハードコート層にクラックが発生しているかどうかを確認して、３枚中、クラックがないハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材の数を評価した（表１中、「Ｘ／３」は、クラックがないハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材の数をＸとして表す。）。
各実施例および比較例において、ハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材をそれぞれ３枚ずつ作製して、目視にてハードコート層にクラックが発生しているかどうかを確認して、３枚中、クラックがないハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材の数を評価した（表１中、「Ｘ／３」は、クラックがないハードコート層付きプラスチック眼鏡レンズ基材の数をＸとして表す。）。
表１中、ハードコート層形成用組成物に含まれる各成分の含有量（質量部）を表す。
表１中の「膜厚（μｍ）」は、ハードコート層の膜厚を表す。
表１中、「Ａ／Ｂ」は、（Ｂ）ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量に対する、（Ａ）特定（メタ）アクリレートの含有量の質量比を表す。
表１中、「Ａ／Ｃ」は、（Ｃ）金属酸化物粒子の含有量に対する、（Ａ）特定（メタ）アクリレートの含有量の質量比を表す。
表１中、「Ｂ／Ｃ」は、（Ｃ）金属酸化物粒子の含有量に対する、（Ｂ）ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量の質量比を表す。
表１中の「膜厚（μｍ）」は、ハードコート層の膜厚を表す。
表１中、「Ａ／Ｂ」は、（Ｂ）ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量に対する、（Ａ）特定（メタ）アクリレートの含有量の質量比を表す。
表１中、「Ａ／Ｃ」は、（Ｃ）金属酸化物粒子の含有量に対する、（Ａ）特定（メタ）アクリレートの含有量の質量比を表す。
表１中、「Ｂ／Ｃ」は、（Ｃ）金属酸化物粒子の含有量に対する、（Ｂ）ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量の質量比を表す。
表１に示すように、所定の成分を含むハードコート層形成用組成物を用いることにより、プライマー層および反射防止膜との密着性に優れ、かつ高い硬度を有する所望の効果が得られることが確認された。
なかでも、実施例１～２と実施例３～４との比較より、金属酸化物粒子の含有量に対する、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量の質量比が、０．６０～１．００の場合、クラックがより生じにくいことが確認された。
また、実施例１と５および６との比較より、ハードコート層形成用組成物が多官能（メタ）アクリレート、および／または、加水分解性ケイ素化合物類を含む場合、クラックがより生じにくいことが確認された。
また、実施例３と実施例７との比較より、金属酸化物粒子としてＳｉＯ2粒子を用いた場合、硬度がより優れることが確認された。
また、実施例１と実施例８との比較より、特定（メタ）アクリレートがリン酸基を有する場合、硬度がより優れることが確認された。
なかでも、実施例１～２と実施例３～４との比較より、金属酸化物粒子の含有量に対する、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンの含有量の質量比が、０．６０～１．００の場合、クラックがより生じにくいことが確認された。
また、実施例１と５および６との比較より、ハードコート層形成用組成物が多官能（メタ）アクリレート、および／または、加水分解性ケイ素化合物類を含む場合、クラックがより生じにくいことが確認された。
また、実施例３と実施例７との比較より、金属酸化物粒子としてＳｉＯ2粒子を用いた場合、硬度がより優れることが確認された。
また、実施例１と実施例８との比較より、特定（メタ）アクリレートがリン酸基を有する場合、硬度がより優れることが確認された。
１０ 眼鏡レンズ
１２ プラスチック眼鏡レンズ基材
１４ ハードコート層
１２ プラスチック眼鏡レンズ基材
１４ ハードコート層
Claims (10)
- リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレートと、
ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンと、
金属酸化物粒子と、を含む、ハードコート層形成用組成物。 - さらに、前記（メタ）アクリレートおよび前記シルセスキオキサンのいずれとも異なる多官能（メタ）アクリレートを含む、請求項１に記載のハードコート層形成用組成物。
- さらに、式（１）で表される加水分解性ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項１または２に記載のハードコート層形成用組成物。
式（１） Ｘ－Ｌ－Ｓｉ（Ｒ1）n（Ｒ2）3-n
Ｘは、エポキシ基を表す。Ｌは、ヘテロ原子を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。Ｒ1は、加水分解性基を表す。Ｒ2は、アルキル基を表す。ｎは、１～３の整数を表す。 - 前記金属酸化物粒子の含有量に対する、前記（メタ）アクリレートの含有量の質量比が、０．２０～０．８０である、請求項１～３のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記金属酸化物粒子の含有量に対する、前記シルセスキオキサンの含有量の質量比が、０．６０～５．０である、請求項１～４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 基材上にハードコート層を形成するためのハードコート層形成用組成物であって、
前記基材が、眼鏡レンズ基材である、請求項１～５のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。 - 眼鏡レンズ基材と、
前記眼鏡レンズ基材上に配置される、請求項１～６のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を用いて形成されるハードコート層と、を含む、眼鏡レンズ。 - 前記ハードコート層の膜厚が１０μｍ以上である、請求項７に記載の眼鏡レンズ。
- 前記基材と前記ハードコート層との間に配置されるプライマー層を含む、請求項７または８に記載の眼鏡レンズ。
- 前記ハードコート層上に配置される反射防止膜を含む、請求項７～９のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018247236 | 2018-12-28 | ||
| JP2018247236 | 2018-12-28 | ||
| PCT/JP2019/048730 WO2020137588A1 (ja) | 2018-12-28 | 2019-12-12 | ハードコート層形成用組成物、眼鏡レンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2020137588A1 JPWO2020137588A1 (ja) | 2021-11-11 |
| JP7128907B2 true JP7128907B2 (ja) | 2022-08-31 |
Family
ID=71127652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020563066A Active JP7128907B2 (ja) | 2018-12-28 | 2019-12-12 | ハードコート層形成用組成物、眼鏡レンズ |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210317336A1 (ja) |
| EP (1) | EP3904462A4 (ja) |
| JP (1) | JP7128907B2 (ja) |
| KR (1) | KR102596091B1 (ja) |
| CN (1) | CN113227263A (ja) |
| CA (1) | CA3125081A1 (ja) |
| WO (1) | WO2020137588A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023019888A (ja) * | 2021-07-30 | 2023-02-09 | デクセリアルズ株式会社 | 積層体、屋外用積層体、及びハードコート層形成材料 |
| US20230124713A1 (en) * | 2021-10-18 | 2023-04-20 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Uv-curing resin compositions for hard coat applications |
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| JP2004004612A (ja) | 2002-03-28 | 2004-01-08 | Chisso Corp | 液晶表示パネル用シール材料 |
| JP2004099752A (ja) | 2002-09-10 | 2004-04-02 | Toray Ind Inc | ハードコートフィルム |
| JP2007009079A (ja) | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Nagase Chemtex Corp | 光学用コーティング組成物 |
| JP2017179083A (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 三菱ケミカル株式会社 | 硬化性組成物、硬化物及び積層体 |
| JP2018059062A (ja) | 2016-09-30 | 2018-04-12 | 東友ファインケム株式会社Ｄｏｎｇｗｏｏ Ｆｉｎｅ−Ｃｈｅｍ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | ハードコーティング組成物及びこれを用いたハードコーティングフィルム |
| WO2018124204A1 (ja) | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 株式会社ニコン・エシロール | ハードコート層形成用組成物、眼鏡レンズ |
| WO2018189945A1 (ja) | 2017-04-12 | 2018-10-18 | 株式会社ダイセル | 硬化性組成物、硬化物及びハードコートフィルム |
| JP2018189800A (ja) | 2017-05-02 | 2018-11-29 | 株式会社ダイセル | 曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム、ハードコートフィルム付き透明基板及びディスプレイ装置 |
| JP2018193485A (ja) | 2017-05-18 | 2018-12-06 | ナトコ株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物及びその製造方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN102863893B (zh) * | 2012-09-10 | 2015-04-29 | 湖南松井新材料有限公司 | 紫外光固化涂料 |
| JP6439277B2 (ja) | 2014-05-28 | 2018-12-19 | 三菱ケミカル株式会社 | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、光学部材及びコーティング物 |
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-
2019
- 2019-12-12 EP EP19905132.7A patent/EP3904462A4/en active Pending
- 2019-12-12 WO PCT/JP2019/048730 patent/WO2020137588A1/ja unknown
- 2019-12-12 CA CA3125081A patent/CA3125081A1/en active Pending
- 2019-12-12 JP JP2020563066A patent/JP7128907B2/ja active Active
- 2019-12-12 CN CN201980086501.7A patent/CN113227263A/zh active Pending
- 2019-12-12 KR KR1020217019231A patent/KR102596091B1/ko active IP Right Grant
-
2021
- 2021-06-25 US US17/358,338 patent/US20210317336A1/en active Pending
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| WO2018124204A1 (ja) | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 株式会社ニコン・エシロール | ハードコート層形成用組成物、眼鏡レンズ |
| WO2018189945A1 (ja) | 2017-04-12 | 2018-10-18 | 株式会社ダイセル | 硬化性組成物、硬化物及びハードコートフィルム |
| JP2018189800A (ja) | 2017-05-02 | 2018-11-29 | 株式会社ダイセル | 曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム、ハードコートフィルム付き透明基板及びディスプレイ装置 |
| JP2018193485A (ja) | 2017-05-18 | 2018-12-06 | ナトコ株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA3125081A1 (en) | 2020-07-02 |
| KR102596091B1 (ko) | 2023-10-30 |
| EP3904462A1 (en) | 2021-11-03 |
| WO2020137588A1 (ja) | 2020-07-02 |
| CN113227263A (zh) | 2021-08-06 |
| US20210317336A1 (en) | 2021-10-14 |
| JPWO2020137588A1 (ja) | 2021-11-11 |
| EP3904462A4 (en) | 2022-10-05 |
| KR20210095171A (ko) | 2021-07-30 |
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