JP2010015006A - 光学物品の製造方法及び光学物品 - Google Patents
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Abstract
【課題】白濁が低減された外観を有し、耐擦傷性に優れる光学物品の製造方法、及びその製造方法で製造された光学物品の提供。
【解決手段】光学物品の製造方法は、プラスチック製の基材10と、基材10に形成されたハードコート層20とを備える光学物品の製造方法であって、基材10にハードコート液21を塗布する塗布工程と、塗布工程後に、基材10を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程と、吸湿工程後に、焼成によりハードコート層20を得る焼成工程と、を有することを特徴とする。
【選択図】図2
【解決手段】光学物品の製造方法は、プラスチック製の基材10と、基材10に形成されたハードコート層20とを備える光学物品の製造方法であって、基材10にハードコート液21を塗布する塗布工程と、塗布工程後に、基材10を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程と、吸湿工程後に、焼成によりハードコート層20を得る焼成工程と、を有することを特徴とする。
【選択図】図2
Description
本発明は、光学物品の製造方法及び光学物品に関する。
従来、眼鏡レンズ等の光学物品の基材には、ガラス製の基材と比較して軽量であり、且つ成形性に優れたプラスチック製の基材が使用されている。しかしながら、プラスチック製の基材は、ガラス製の基材と比較して表面が傷つきやすいことから、表面にハードコート層を形成することにより、耐擦傷性の向上が図られている。
この光学物品の耐擦傷性をさらに向上させる方法として、基材上へハードコート液を塗布する塗布工程後に、ハードコート液を予備硬化させ予備硬化ハードコート層を得る仮焼成工程と、仮焼成工程後に、予備硬化ハードコート層へ水分を添加し水分含有予備硬化ハードコート層を得る水分添加工程と、水分添加工程後に、水分含有予備硬化ハードコート層をさらに硬化させ硬化を完結させる本焼成工程と、を含むハードコート層形成工程を有する製造方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
この光学物品の耐擦傷性をさらに向上させる方法として、基材上へハードコート液を塗布する塗布工程後に、ハードコート液を予備硬化させ予備硬化ハードコート層を得る仮焼成工程と、仮焼成工程後に、予備硬化ハードコート層へ水分を添加し水分含有予備硬化ハードコート層を得る水分添加工程と、水分添加工程後に、水分含有予備硬化ハードコート層をさらに硬化させ硬化を完結させる本焼成工程と、を含むハードコート層形成工程を有する製造方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
上記製造方法は、ハードコート液を予備硬化させ予備硬化ハードコート層を得る仮焼成工程後に水分添加工程を設けている。このことから、上記製造方法は、仮焼成工程時における加熱により、基材上に塗布されたハードコート液中の溶剤成分が気化する。
したがって、上記製造方法では、ハードコート液中の溶剤成分が気化することにより、予備硬化ハードコート層中の未反応の硬化触媒が、互いに近接した状態で存在していると推測される。
これにより、上記製造方法は、仮焼成工程後の水分添加工程において、添加された水分と反応した硬化触媒が互いに凝集しやすくなることから、硬化触媒の凝集に起因する光の散乱による白濁が、ハードコート層に発生しやすいという問題がある。
したがって、上記製造方法では、ハードコート液中の溶剤成分が気化することにより、予備硬化ハードコート層中の未反応の硬化触媒が、互いに近接した状態で存在していると推測される。
これにより、上記製造方法は、仮焼成工程後の水分添加工程において、添加された水分と反応した硬化触媒が互いに凝集しやすくなることから、硬化触媒の凝集に起因する光の散乱による白濁が、ハードコート層に発生しやすいという問題がある。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例にかかる光学物品の製造方法は、プラスチック製の基材と、前記基材に形成されたハードコート層とを備える光学物品の製造方法であって、前記基材にハードコート液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程後に、前記基材を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程と、前記吸湿工程後に、焼成により前記ハードコート層を得る焼成工程とを有することを特徴とする。
これによれば、光学物品の製造方法は、基材にハードコート液を塗布する塗布工程と、塗布工程後に、基材を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程と、吸湿工程後に、焼成によりハードコート層を得る焼成工程とを有する。
これにより、光学物品の製造方法は、塗布工程後に、基材を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程を設けていることから、従来のような、水分添加工程(吸湿工程)の前に、ハードコート液中の溶剤成分が加熱により気化してしまうことがない。
これにより、光学物品の製造方法は、塗布工程後に、基材を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程を設けていることから、従来のような、水分添加工程(吸湿工程)の前に、ハードコート液中の溶剤成分が加熱により気化してしまうことがない。
このことから、光学物品の製造方法は、吸湿工程前のハードコート液中の未反応の硬化触媒が、従来と比較して互いに離れた状態で存在している。これにより、光学物品の製造方法は、吸湿工程で水分と反応した硬化触媒が互いに凝集し難くなることから、硬化触媒の凝集に起因する光の散乱によるハードコート層の白濁の発生を低減することができる。
また、光学物品の製造方法は、吸湿工程が所定の湿度で行われることから、湿度不足に起因するハードコート層の硬化不足を低減でき、湿度過多に起因する基材外周部からの染み上がりの発生を抑制できる。
[適用例2]上記適用例にかかる光学物品の製造方法は、前記吸湿工程の所定の湿度が絶対湿度6.0g/m3〜20.0g/m3の範囲であることが好ましい。
これによれば、光学物品の製造方法は、吸湿工程の所定の湿度が絶対湿度6.0g/m3〜20.0g/m3の範囲であることから、ハードコート液の硬化反応が湿度の過不足のない良好な状態で促進され、焼成工程を経て得られたハードコート層の硬化状態及び外観を、良好な範囲に保つことができる。
[適用例3]本適用例にかかる光学物品は、上記適用例に記載の光学物品の製造方法により製造されたことを特徴とする。
これによれば、光学物品は、上記適用例に記載の光学物品の製造方法により製造されることから、白濁及び染み上がりが少なく、且つ十分に硬化したハードコート層を得ることができる。
以下、光学物品の製造方法及び光学物品の実施形態について図面を参照して説明する。
(実施形態)
図1は、本実施形態の光学物品としての眼鏡用のプラスチックレンズの要部断面を模式的に示した模式断面図である。
図1に示すように、本実施形態のプラスチックレンズ1は、透明なプラスチック製の基材10、ハードコート層20、反射防止層30、防汚層40などから構成されている。
図1は、本実施形態の光学物品としての眼鏡用のプラスチックレンズの要部断面を模式的に示した模式断面図である。
図1に示すように、本実施形態のプラスチックレンズ1は、透明なプラスチック製の基材10、ハードコート層20、反射防止層30、防汚層40などから構成されている。
<基材10>
基材10は、プラスチック製であれば特に限定されないが、屈折率が1.6以上の透明な素材を使用することが好ましい。
例えば、イソシアネート基またはイソチオシアネート基を持つ化合物と、メルカプト基を持つ化合物とを反応させることによって製造されるポリチオウレタン系プラスチックや、エピスルフィド基を持つ化合物を含む原料モノマを重合硬化して製造されるエピスルフィド系プラスチックを、基材10の素材として使用することができる。
基材10は、プラスチック製であれば特に限定されないが、屈折率が1.6以上の透明な素材を使用することが好ましい。
例えば、イソシアネート基またはイソチオシアネート基を持つ化合物と、メルカプト基を持つ化合物とを反応させることによって製造されるポリチオウレタン系プラスチックや、エピスルフィド基を持つ化合物を含む原料モノマを重合硬化して製造されるエピスルフィド系プラスチックを、基材10の素材として使用することができる。
基材10の重合方法としては、一般的に基材10の製造に用いられている重合方法が、利用できる。
例えば、ビニル系モノマを用いる場合には、有機過酸化物等の熱重合開始剤を用いて、熱硬化を行い、基材10を製造することができる。また、ベンゾフェノン等の光重合開始剤を用いて、紫外線を照射することによってモノマを硬化させ、基材10を製造することもできる。
なお、上述したプラスチック製の基材10には、必要に応じて染色処理が施される。
例えば、ビニル系モノマを用いる場合には、有機過酸化物等の熱重合開始剤を用いて、熱硬化を行い、基材10を製造することができる。また、ベンゾフェノン等の光重合開始剤を用いて、紫外線を照射することによってモノマを硬化させ、基材10を製造することもできる。
なお、上述したプラスチック製の基材10には、必要に応じて染色処理が施される。
<ハードコート層20>
ハードコート層20は、基材10を保護し、プラスチックレンズ1の耐擦傷性を向上させるために形成される薄膜である。
ハードコート層20は、例えば、以下の(A)成分と、(B)成分とを有する。
(A)一般式:R1SiX1 3で示される有機珪素化合物。
式中、R1は重合可能な反応基を有する有機基であり、X1は、加水分解性基を示す。
(B)酸化チタンを含有する無機酸化物粒子。
ハードコート層20は、基材10を保護し、プラスチックレンズ1の耐擦傷性を向上させるために形成される薄膜である。
ハードコート層20は、例えば、以下の(A)成分と、(B)成分とを有する。
(A)一般式:R1SiX1 3で示される有機珪素化合物。
式中、R1は重合可能な反応基を有する有機基であり、X1は、加水分解性基を示す。
(B)酸化チタンを含有する無機酸化物粒子。
(A)成分は、ハードコート層20のバインダ剤としての役割を果たす。
(A)成分の化学式中、R1は、重合可能な反応基を有する有機基であり、炭素数は1〜6である。R1はビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、1−メチルビニル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基等の重合可能な反応基を有する。
また、X1は、加水分解可能な官能基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が例示できる。
(A)成分の化学式中、R1は、重合可能な反応基を有する有機基であり、炭素数は1〜6である。R1はビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、1−メチルビニル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基等の重合可能な反応基を有する。
また、X1は、加水分解可能な官能基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が例示できる。
(A)成分の有機珪素化合物としては、例えば、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ(β−メトキシ−エトキシ)シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン等が例示できる。
この(A)成分の有機珪素化合物は、単独または2種類以上を混合して用いてもよい。
この(A)成分の有機珪素化合物は、単独または2種類以上を混合して用いてもよい。
(B)成分の酸化チタンの平均粒径は、1nm〜200nmが好ましく、5nm〜30nmがより好ましい。また、(B)成分の無機酸化物粒子は、酸化チタンのみを含有するものであってもよく、酸化チタンと他の無機酸化物とを含有するものであってもよい。
例えば、酸化チタンと、Si、Al、Sn、Sb、Ta、Ce、La、Fe、Zn、W、Zr、In等の金属の酸化物を混合して使用してもよい。
さらに、(B)成分の無機酸化物粒子は、酸化チタンと他の無機酸化物との複合粒子であってもよい。
複合粒子を使用する場合には、例えば、Si、Al、Sn、Sb、Ta、Ce、La、Fe、Zn、W、Zr、In等の金属の酸化物と、酸化チタンとが複合したものを使用すればよい。
例えば、酸化チタンと、Si、Al、Sn、Sb、Ta、Ce、La、Fe、Zn、W、Zr、In等の金属の酸化物を混合して使用してもよい。
さらに、(B)成分の無機酸化物粒子は、酸化チタンと他の無機酸化物との複合粒子であってもよい。
複合粒子を使用する場合には、例えば、Si、Al、Sn、Sb、Ta、Ce、La、Fe、Zn、W、Zr、In等の金属の酸化物と、酸化チタンとが複合したものを使用すればよい。
(B)成分を(A)成分と混合して、ハードコート層20を形成するためのハードコート液を製造する際には、(B)成分が分散したゾルと、(A)成分とを混合することが好ましい。
(B)成分である酸化チタンを含有する無機酸化物粒子を分散媒、例えば、水、アルコールもしくはその他の有機溶媒に分散させる。無機酸化物粒子の分散安定性を高めるために、無機酸化物粒子の表面を有機珪素化合物、アミン系化合物で処理してもよい。
この際、使用される有機珪素化合物としては、単官能性シラン、二官能性シラン、三官能性シラン、四官能性シラン等が例示できる。
アミン系化合物としては、アンモニウム、エチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、n−プロピルアミン等のアルキルアミン、ベンジルアミン等のアラルキルアミン、ピペリジン等の脂環式アミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンが例示できる。
これらの有機珪素化合物、アミン系化合物の添加量は、無機酸化物粒子の重量に対して1%〜15%程度の範囲であることが好ましい。
(B)成分である酸化チタンを含有する無機酸化物粒子を分散媒、例えば、水、アルコールもしくはその他の有機溶媒に分散させる。無機酸化物粒子の分散安定性を高めるために、無機酸化物粒子の表面を有機珪素化合物、アミン系化合物で処理してもよい。
この際、使用される有機珪素化合物としては、単官能性シラン、二官能性シラン、三官能性シラン、四官能性シラン等が例示できる。
アミン系化合物としては、アンモニウム、エチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、n−プロピルアミン等のアルキルアミン、ベンジルアミン等のアラルキルアミン、ピペリジン等の脂環式アミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンが例示できる。
これらの有機珪素化合物、アミン系化合物の添加量は、無機酸化物粒子の重量に対して1%〜15%程度の範囲であることが好ましい。
(B)成分の配合量は、ハードコート層20の硬度や、屈折率等により決定されるものであるが、ハードコート液中の固形分の5重量%〜80重量%が好ましく、10重量%〜50重量%がより好ましい。
プラスチックレンズ1は、(B)成分の配合量が10重量%以上であれば、ハードコート層20の耐磨耗性が十分となり、(B)成分の配合量が50重量%以下であれば、ハードコート層20にクラックが生じ難くなる。
また、プラスチックレンズ1は、(B)成分の配合量が上記の範囲であれば、ハードコート層20の染色が良好に行える。
プラスチックレンズ1は、(B)成分の配合量が10重量%以上であれば、ハードコート層20の耐磨耗性が十分となり、(B)成分の配合量が50重量%以下であれば、ハードコート層20にクラックが生じ難くなる。
また、プラスチックレンズ1は、(B)成分の配合量が上記の範囲であれば、ハードコート層20の染色が良好に行える。
さらに、ハードコート層20は、(A)成分、(B)成分だけでなく、(C)成分として、多官能性エポキシ化合物を含有してもよい。
多官能性エポキシ化合物は、基材10に対するハードコート層20の密着性を向上させるとともに、ハードコート層20の耐水性を向上させることができる。
ハードコート層20上の後述する反射防止層30を有機系の薄膜で形成した場合には、反射防止層30の膜厚が非常に薄くなることが多く、特に、反射防止層30に内部空洞を有するシリカ系粒子を使用する場合には、水を通すために、ハードコート層20に耐水性が必要となる。
多官能性エポキシ化合物は、基材10に対するハードコート層20の密着性を向上させるとともに、ハードコート層20の耐水性を向上させることができる。
ハードコート層20上の後述する反射防止層30を有機系の薄膜で形成した場合には、反射防止層30の膜厚が非常に薄くなることが多く、特に、反射防止層30に内部空洞を有するシリカ系粒子を使用する場合には、水を通すために、ハードコート層20に耐水性が必要となる。
多官能性エポキシ化合物としては、例えば、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートのトリグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ化合物が好ましい。
さらに、プラスチックレンズ1は、ハードコート層20に硬化触媒を添加することが好ましい。硬化触媒としては、例えば、過塩素酸、過塩素酸アンモニウム、過塩素酸マグネシウム等の過塩素酸類、Cu(II)、Zn(II)、Co(II)、Ni(II)、Be(II)、Ce(III)、Ta(III)、Ti(III)、Mn(III)、La(III)、Cr(III)、V(III)、Co(III)、Fe(III)、Al(III)、Ce(IV)、Zr(IV)、V(IV)等を中心金属原子とするアセチルアセトネート、アミン、グリシン等のアミノ酸、ルイス酸、有機酸金属塩等が例示できる。
この中で好ましい硬化触媒としては、過塩素酸マグネシウム、Al(III),Fe(III)を中心金属原子とするアセチルアセトネートが例示できる。中でもFe(III)を中心金属原子とするアセチルアセトネートを使用することが、より好ましい。
硬化触媒の添加量は、ハードコート液の固形分濃度の0.01重量%〜5.0重量%の範囲内が好ましい。
この中で好ましい硬化触媒としては、過塩素酸マグネシウム、Al(III),Fe(III)を中心金属原子とするアセチルアセトネートが例示できる。中でもFe(III)を中心金属原子とするアセチルアセトネートを使用することが、より好ましい。
硬化触媒の添加量は、ハードコート液の固形分濃度の0.01重量%〜5.0重量%の範囲内が好ましい。
ハードコート層20の膜厚は、1.0μm〜30μmであることが好ましい。プラスチックレンズ1は、ハードコート層20の膜厚が1.0μm以上であれば、基材10を保護するというハードコート層20の基本的機能が十分発揮され、ハードコート層20の膜厚が30μm以下であれば、ハードコート層20の表面の平滑性が良好な状態に保たれる。
<反射防止層30>
反射防止層30は、ハードコート層20上に形成されている外光の反射を防ぐための薄膜である。反射防止層30には、上述した有機系の薄膜で形成されたものと、無機系の薄膜で形成されたものとがある。
例えば、有機系の薄膜で形成された反射防止層30(以下、有機系反射防止層30という)は、単層で構成されており、ハードコート層20よりも屈折率が0.10以上小さいことが好ましく、膜厚は50nm〜150nmが好ましい。
反射防止層30は、ハードコート層20上に形成されている外光の反射を防ぐための薄膜である。反射防止層30には、上述した有機系の薄膜で形成されたものと、無機系の薄膜で形成されたものとがある。
例えば、有機系の薄膜で形成された反射防止層30(以下、有機系反射防止層30という)は、単層で構成されており、ハードコート層20よりも屈折率が0.10以上小さいことが好ましく、膜厚は50nm〜150nmが好ましい。
有機系反射防止層30は、例えば、以下の(D)成分と、(E)成分とを有する。
(D)一般式:R2R3 nSiX2 3-nで示される有機珪素化合物。
式中、R2は、重合可能な反応基を有する有機基であり、R3は炭素数1〜6の炭化水素基であり、X2は加水分解基であり、nは0または1である。
(E)シリカ系粒子。
(D)一般式:R2R3 nSiX2 3-nで示される有機珪素化合物。
式中、R2は、重合可能な反応基を有する有機基であり、R3は炭素数1〜6の炭化水素基であり、X2は加水分解基であり、nは0または1である。
(E)シリカ系粒子。
(D)成分のR2の重合可能な反応基を有する有機基は、例えば、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基等の重合可能な反応基を有する。
(D)成分のR3の炭素数1〜6の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が例示できる。
さらに(D)成分のX2としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が例示できる。
(D)成分のR3の炭素数1〜6の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が例示できる。
さらに(D)成分のX2としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が例示できる。
(D)成分の有機珪素化合物としては、例えば、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ(β−メトキシ−エトキシ)シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン等が例示できる。なお、(D)成分の有機珪素化合物は、単独または2種類以上を混合して用いてもよい。
なお、(E)成分のシリカ系粒子は、内部空洞を有するものが好ましい。
なお、(E)成分のシリカ系粒子は、内部空洞を有するものが好ましい。
有機系反射防止層30には、上記(D)成分、(E)成分の他に、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂等の樹脂や、これらの樹脂の原料となるメタアクリレート類、アクリレート類、エポキシ類、ビニル類等の各種モノマを添加してもよい。
さらに、これらの成分以外に、必要に応じて、硬化触媒、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ヒンダートアミン、ヒンダートフェノール等の光安定剤、分散染料、油溶染料、蛍光染料、顔料等を添加し、耐光性、塗布性の向上を図ってもよい。
さらに、これらの成分以外に、必要に応じて、硬化触媒、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ヒンダートアミン、ヒンダートフェノール等の光安定剤、分散染料、油溶染料、蛍光染料、顔料等を添加し、耐光性、塗布性の向上を図ってもよい。
一方、無機系の薄膜で形成された反射防止層30(以下、無機系反射防止層30という)は、例えば、SiO2,SiO,ZrO2,TiO2,TiO,Ti2O3,Ti2O5,Al2O3,Ta2O5,CeO2,MgO,Y2O3,SnO2,MgF2,WO3等の無機物を主成分とする。
無機系反射防止層30は、これらの無機物を単独または2種類以上を混合して用いてもよい。例えば、無機系反射防止層30は、基材10側から大気に向かって順に、SiO2、ZrO2、SiO2、ZrO2、SiO2の5層を有する構成としてもよい。
無機系反射防止層30は、これらの無機物を単独または2種類以上を混合して用いてもよい。例えば、無機系反射防止層30は、基材10側から大気に向かって順に、SiO2、ZrO2、SiO2、ZrO2、SiO2の5層を有する構成としてもよい。
<防汚層40>
防汚層40は、反射防止層30上に形成され、プラスチックレンズ1に付着する水分、油分等を含んだ汚れを落としやすくする、撥水性、撥油性を備えた薄膜である。
防汚層40は、例えば、フッ素系の化合物であるフッ素シラン化合物を主成分とする。
防汚層40は、反射防止層30上に形成され、プラスチックレンズ1に付着する水分、油分等を含んだ汚れを落としやすくする、撥水性、撥油性を備えた薄膜である。
防汚層40は、例えば、フッ素系の化合物であるフッ素シラン化合物を主成分とする。
<プラスチックレンズ1の製造方法>
ここで、プラスチックレンズ1の製造方法について図面を参照して説明する。
図2は、プラスチックレンズ1の製造方法について主要工程を模式的に示した説明図である。なお、ここでは、本実施形態の主要工程であるハードコート液の塗布工程以降の工程を中心に説明する。
ここで、プラスチックレンズ1の製造方法について図面を参照して説明する。
図2は、プラスチックレンズ1の製造方法について主要工程を模式的に示した説明図である。なお、ここでは、本実施形態の主要工程であるハードコート液の塗布工程以降の工程を中心に説明する。
(調合工程)
塗布工程の前に、調合工程としてハードコート層20を形成するためのハードコート液21を調合する。
まず、(A)成分の有機珪素化合物を有機溶剤に溶かし、水や塩酸等を添加して加水分解させて、加水分解物を生成する。ついで、この加水分解物に(B)成分の無機酸化物粒子が分散したゾルを添加する。
さらに、硬化触媒、多官能性エポキシ化合物等を添加する。硬化触媒としては、Fe(III)を中心金属原子とするアセチルアセトネートが、ハードコート液21のポットライフを長くすることができる点で好ましい。
塗布工程の前に、調合工程としてハードコート層20を形成するためのハードコート液21を調合する。
まず、(A)成分の有機珪素化合物を有機溶剤に溶かし、水や塩酸等を添加して加水分解させて、加水分解物を生成する。ついで、この加水分解物に(B)成分の無機酸化物粒子が分散したゾルを添加する。
さらに、硬化触媒、多官能性エポキシ化合物等を添加する。硬化触媒としては、Fe(III)を中心金属原子とするアセチルアセトネートが、ハードコート液21のポットライフを長くすることができる点で好ましい。
(塗布工程)
ハードコート液21を基材10上に塗布する方法は、任意であるが、例えば、浸漬法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、フローコート法等を用いる。
例えば、浸漬法では、図2(a)に示すように、ハードコート液21が貯留され循環している浸漬槽50に、基材10を浸漬した後、所定の速度で引き上げて、基材10にハードコート液21を塗布する。
なお、基材10とハードコート層20との密着性を高めるために、ハードコート液21を塗布する前に、基材10にアルカリ処理、酸処理、界面活性剤処理、プラズマ処理等を行ってもよい。
ハードコート液21を基材10上に塗布する方法は、任意であるが、例えば、浸漬法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、フローコート法等を用いる。
例えば、浸漬法では、図2(a)に示すように、ハードコート液21が貯留され循環している浸漬槽50に、基材10を浸漬した後、所定の速度で引き上げて、基材10にハードコート液21を塗布する。
なお、基材10とハードコート層20との密着性を高めるために、ハードコート液21を塗布する前に、基材10にアルカリ処理、酸処理、界面活性剤処理、プラズマ処理等を行ってもよい。
(吸湿工程)
上記塗布工程後に、ハードコート液21が塗布された基材10を所定の湿度の大気中にさらす。なお、所定の湿度としては、絶対湿度6.0g/m3〜20.0g/m3の範囲であることが好ましい。
例えば、図2(b)に示すように、ハードコート液21が塗布された基材10を、内部の大気が絶対湿度6.0g/m3〜20.0g/m3の範囲になるように設定された恒温恒湿槽60内に投入し、所定の時間、例えば1時間程度放置する。
このとき、ハードコート液21中の有機溶剤は殆ど気化しないことから、水分と反応したアセチルアセトネート等の硬化触媒は、従来技術と異なり、ハードコート液21中に凝集することなく、互いに離れた状態で存在していると推測される。
上記塗布工程後に、ハードコート液21が塗布された基材10を所定の湿度の大気中にさらす。なお、所定の湿度としては、絶対湿度6.0g/m3〜20.0g/m3の範囲であることが好ましい。
例えば、図2(b)に示すように、ハードコート液21が塗布された基材10を、内部の大気が絶対湿度6.0g/m3〜20.0g/m3の範囲になるように設定された恒温恒湿槽60内に投入し、所定の時間、例えば1時間程度放置する。
このとき、ハードコート液21中の有機溶剤は殆ど気化しないことから、水分と反応したアセチルアセトネート等の硬化触媒は、従来技術と異なり、ハードコート液21中に凝集することなく、互いに離れた状態で存在していると推測される。
焼成工程は、基材10に塗布されたハードコート液21の仮焼成を行う仮焼成工程と、本焼成を行う本焼成工程とを有している。
(仮焼成工程)
上記吸湿工程後に、基材10に塗布されたハードコート液21の仮焼成を行う。この仮焼成の加熱手段は、ハードコート液21の種類によって選択されるが、熱風によるもの、赤外線によるものなどがある。
例えば、図2(c)に示すように、基材10を熱風炉70に投入し、所定の温度及び時間で加熱して仮焼成を行う。
仮焼成温度としては、60℃〜100℃が好ましい。また、加熱時間としては10分〜50分が好ましい。
プラスチックレンズ1は、仮焼成温度が60℃以上であればハードコート層20の予備硬化が十分であり、仮焼成温度が100℃以下であれば基材10の外観品質が良好な状態に保たれる。
なお、仮焼成後のハードコート層20の不具合品は、予備硬化状態のハードコート層(予備硬化ハードコート層)20を剥離することで、再度塗布工程に投入することができる。
上記吸湿工程後に、基材10に塗布されたハードコート液21の仮焼成を行う。この仮焼成の加熱手段は、ハードコート液21の種類によって選択されるが、熱風によるもの、赤外線によるものなどがある。
例えば、図2(c)に示すように、基材10を熱風炉70に投入し、所定の温度及び時間で加熱して仮焼成を行う。
仮焼成温度としては、60℃〜100℃が好ましい。また、加熱時間としては10分〜50分が好ましい。
プラスチックレンズ1は、仮焼成温度が60℃以上であればハードコート層20の予備硬化が十分であり、仮焼成温度が100℃以下であれば基材10の外観品質が良好な状態に保たれる。
なお、仮焼成後のハードコート層20の不具合品は、予備硬化状態のハードコート層(予備硬化ハードコート層)20を剥離することで、再度塗布工程に投入することができる。
(本焼成工程)
上記仮焼成工程後に、予備硬化状態のハードコート層20の本焼成を行う。この本焼成の加熱手段は、仮焼成と同様に、ハードコート液21の種類によって選択されるが、熱風によるもの、赤外線によるものなどがある。
例えば、図2(c)に示すように、仮焼成の済んだ基材10を熱風炉70に投入し、所定の温度及び時間で加熱して本焼成を行う。
本焼成温度としては、100℃〜140℃が好ましい。また、加熱時間としては60分〜120分が好ましい。
プラスチックレンズ1は、本焼成温度が100℃以上であればハードコート層20の硬化が十分で耐擦傷性及び密着性が良好となり、本焼成温度が140℃以下であれば基材10が黄変せず透明性が良好な状態に保たれる。
これにより、外観が良好で十分に硬化したハードコート層20が得られる。
上記仮焼成工程後に、予備硬化状態のハードコート層20の本焼成を行う。この本焼成の加熱手段は、仮焼成と同様に、ハードコート液21の種類によって選択されるが、熱風によるもの、赤外線によるものなどがある。
例えば、図2(c)に示すように、仮焼成の済んだ基材10を熱風炉70に投入し、所定の温度及び時間で加熱して本焼成を行う。
本焼成温度としては、100℃〜140℃が好ましい。また、加熱時間としては60分〜120分が好ましい。
プラスチックレンズ1は、本焼成温度が100℃以上であればハードコート層20の硬化が十分で耐擦傷性及び密着性が良好となり、本焼成温度が140℃以下であれば基材10が黄変せず透明性が良好な状態に保たれる。
これにより、外観が良好で十分に硬化したハードコート層20が得られる。
(反射防止層形成工程)
上記本焼成工程後に、ハードコート層20上に反射防止層30を形成する。
有機系反射防止層30の場合は、まず、(D)成分の有機珪素化合物を有機溶剤で希釈して、必要に応じて水、塩酸等を添加し、加水分解を行う。
ついで、この加水分解物に(E)成分であるシリカ系粒子が分散したゾルを添加する。また、必要に応じて、硬化触媒、界面活性剤、帯電防止剤等を添加してもよい。これにより、有機系反射防止層30のコーティング液を調合する。
ついで、このコーティング液をハードコート層20上に塗布する。塗布する方法は、任意であるが、例えば、浸漬法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、フローコート法等を用いる。
ついで、コーティング液を熱、紫外線等により硬化させることで有機系反射防止層30を形成する。なお、加熱によりコーティング液を硬化させる場合の加熱温度は、50℃〜200℃が好ましい。
上記本焼成工程後に、ハードコート層20上に反射防止層30を形成する。
有機系反射防止層30の場合は、まず、(D)成分の有機珪素化合物を有機溶剤で希釈して、必要に応じて水、塩酸等を添加し、加水分解を行う。
ついで、この加水分解物に(E)成分であるシリカ系粒子が分散したゾルを添加する。また、必要に応じて、硬化触媒、界面活性剤、帯電防止剤等を添加してもよい。これにより、有機系反射防止層30のコーティング液を調合する。
ついで、このコーティング液をハードコート層20上に塗布する。塗布する方法は、任意であるが、例えば、浸漬法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、フローコート法等を用いる。
ついで、コーティング液を熱、紫外線等により硬化させることで有機系反射防止層30を形成する。なお、加熱によりコーティング液を硬化させる場合の加熱温度は、50℃〜200℃が好ましい。
一方、無機系反射防止層30の場合は、上述した無機物を乾式法、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等を用いて、ハードコート層20上に無機系反射防止層30として形成する。なお、真空蒸着法においては、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いてもよい。
(防汚層形成工程)
上記反射防止層形成工程後に、反射防止層30上に防汚層40を形成する。
防汚層40は、例えば、フッ素シラン化合物を溶剤で希釈し、多孔質セラミックス等のペレットに含浸させ乾燥させたものを蒸着源として、真空蒸着法を用いて反射防止層30上に防汚層40として形成する。
上記反射防止層形成工程後に、反射防止層30上に防汚層40を形成する。
防汚層40は、例えば、フッ素シラン化合物を溶剤で希釈し、多孔質セラミックス等のペレットに含浸させ乾燥させたものを蒸着源として、真空蒸着法を用いて反射防止層30上に防汚層40として形成する。
上記各工程等を経て、図1に示したプラスチックレンズ1を得る。なお、プラスチックレンズ1の製造方法は、基材10とハードコート層20との間に、耐衝撃性の向上等を目的としたプライマ層を設けるプライマ層形成工程を付加してもよい。
上述したように、プラスチックレンズ1の製造方法は、基材10にハードコート液21を塗布する塗布工程と、塗布工程後に、基材10を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程と、吸湿工程後に、焼成によりハードコート層20を得る焼成工程(仮焼成工程+本焼成工程)とを有する。
これにより、プラスチックレンズ1の製造方法は、塗布工程後に、基材10を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程を設けていることから、従来のような、水分添加工程(吸湿工程)の前に、ハードコート液21中の溶剤成分が加熱により気化してしまうことがない。
これにより、プラスチックレンズ1の製造方法は、塗布工程後に、基材10を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程を設けていることから、従来のような、水分添加工程(吸湿工程)の前に、ハードコート液21中の溶剤成分が加熱により気化してしまうことがない。
このことから、プラスチックレンズ1の製造方法は、吸湿工程前のハードコート液21中における未反応のアセチルアセトネート等の硬化触媒が、従来と比較して互いに離れた状態で存在している。
これにより、プラスチックレンズ1の製造方法は、吸湿工程で水分と反応した硬化触媒が互いに凝集し難くなることから、硬化触媒の凝集に起因する光の散乱によるハードコート層20の白濁の発生を、低減することができる。
これにより、プラスチックレンズ1の製造方法は、吸湿工程で水分と反応した硬化触媒が互いに凝集し難くなることから、硬化触媒の凝集に起因する光の散乱によるハードコート層20の白濁の発生を、低減することができる。
また、プラスチックレンズ1の製造方法は、吸湿工程が所定の湿度で行われることから、湿度不足に起因するハードコート層20の硬化不足を低減でき、湿度過多に起因するハードコート層20の染み上がりの発生を抑制できる。
また、プラスチックレンズ1の製造方法は、吸湿工程の所定の湿度が絶対湿度6.0g/m3〜20.0g/m3の範囲であることから、ハードコート液21の硬化反応が湿度の過不足のない良好な状態で促進され、焼成工程を経て得られたハードコート層20の硬化状態及び外観を、良好な範囲に保つことができる。
また、プラスチックレンズ1は、上述した製造方法により製造されることから、白濁及び染み上がりが少なく、十分に硬化したハードコート層20を得ることができる。
ここで、実施例及び比較例により、本実施形態をさらに詳細に説明する。
なお、以下の各実施例及び各比較例の基材10には、屈折率1.67のプラスチックレンズ基材(セイコーエプソン(株)製、商品名「セイコースーパーソブリン(SSV)」)を使用した。
なお、以下の各実施例及び各比較例の基材10には、屈折率1.67のプラスチックレンズ基材(セイコーエプソン(株)製、商品名「セイコースーパーソブリン(SSV)」)を使用した。
[実施例1]
(調合工程)
以下のようにして、ハードコート層20を形成するためのハードコート液21を調合した。
まず、ブチルセロソルブ36.3gとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン79.5gとを混合した。
ついで、この混合液に、0.1規定塩酸水溶液36.4gを攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌後、一昼夜熟成させた。
ついで、この混合液に、メタノール分散二酸化チタン−二酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル(触媒化成工業(株)製、固形分濃度20重量%)343.7g、Al(III)アセチルアセトネート1.05g、Fe(III)アセチルアセトネート1.15g、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名「L−7001」)0.15g、フェノール系酸化防止剤(川口化学工業(株)製、商品名「アンテージクリスタル」)0.63gを添加し、4時間攪拌後、一昼夜熟成させた。
(調合工程)
以下のようにして、ハードコート層20を形成するためのハードコート液21を調合した。
まず、ブチルセロソルブ36.3gとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン79.5gとを混合した。
ついで、この混合液に、0.1規定塩酸水溶液36.4gを攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌後、一昼夜熟成させた。
ついで、この混合液に、メタノール分散二酸化チタン−二酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル(触媒化成工業(株)製、固形分濃度20重量%)343.7g、Al(III)アセチルアセトネート1.05g、Fe(III)アセチルアセトネート1.15g、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名「L−7001」)0.15g、フェノール系酸化防止剤(川口化学工業(株)製、商品名「アンテージクリスタル」)0.63gを添加し、4時間攪拌後、一昼夜熟成させた。
(塗布工程)
ついで、上記ハードコート液21を浸漬槽50に貯留し、浸漬法を用いて引き上げ速度45cm/分で、上記基材10に塗布した。
ついで、上記ハードコート液21を浸漬槽50に貯留し、浸漬法を用いて引き上げ速度45cm/分で、上記基材10に塗布した。
(吸湿工程)
ついで、上記ハードコート液21が塗布された基材10を、25℃60%RH(絶対湿度13.8g/m3)に設定された恒温恒湿槽60内に1時間放置した。
ついで、上記ハードコート液21が塗布された基材10を、25℃60%RH(絶対湿度13.8g/m3)に設定された恒温恒湿槽60内に1時間放置した。
(仮焼成工程)
ついで、上記吸湿工程後の基材10を熱風炉70に投入し、焼成温度80℃で30分加熱して仮焼成した。
ついで、上記吸湿工程後の基材10を熱風炉70に投入し、焼成温度80℃で30分加熱して仮焼成した。
(本焼成工程)
ついで、上記仮焼成工程後の基材10を熱風炉70に投入し、焼成温度140℃で90分加熱して本焼成した。
なお、このようにして形成されたハードコート層20は、膜厚2.0μm、屈折率1.67であった。
ついで、上記仮焼成工程後の基材10を熱風炉70に投入し、焼成温度140℃で90分加熱して本焼成した。
なお、このようにして形成されたハードコート層20は、膜厚2.0μm、屈折率1.67であった。
(反射防止層形成工程)
ついで、上記本焼成工程後の基材10に、反射防止層形成の前処理としてプラズマ処理(アルゴンプラズマ400W×60秒)を行った。
ついで、真空蒸着法を用いてハードコート層20側から大気に向かって順に、SiO2層とZrO2層を交互に積層させた5層からなる無機系反射防止層30をハードコート層20上に形成した。
なお、無機系反射防止層30は、ハードコート層20に接する第1層が0.083λの光学膜厚のSiO2層、第1層に接する第2層が0.17λの光学膜厚のZrO2層、第2層に接する第3層が0.075λの光学膜厚のSiO2層、第3層に接する第4層が0.195λの光学膜厚のZrO2層、第4層に接する第5層が0.025λの光学膜厚のSiO2層からなる。なお、λは設計波長を表し、実施例1では530nmに設定した。
ついで、上記本焼成工程後の基材10に、反射防止層形成の前処理としてプラズマ処理(アルゴンプラズマ400W×60秒)を行った。
ついで、真空蒸着法を用いてハードコート層20側から大気に向かって順に、SiO2層とZrO2層を交互に積層させた5層からなる無機系反射防止層30をハードコート層20上に形成した。
なお、無機系反射防止層30は、ハードコート層20に接する第1層が0.083λの光学膜厚のSiO2層、第1層に接する第2層が0.17λの光学膜厚のZrO2層、第2層に接する第3層が0.075λの光学膜厚のSiO2層、第3層に接する第4層が0.195λの光学膜厚のZrO2層、第4層に接する第5層が0.025λの光学膜厚のSiO2層からなる。なお、λは設計波長を表し、実施例1では530nmに設定した。
(防汚層形成工程)
ついで、上記反射防止層形成工程後の基材10の無機系反射防止層30上に、真空蒸着法を用いて以下のようにして防汚層40を形成した。
まず、分子量2500のフッ素シラン化合物A(信越化学工業(株)製、商品名「KY−130」)と、分子量497.5のフッ素シラン化合物B(信越化学工業(株)製、商品名「KP−801」)とを混合した。
ついで、この混合液をフッ素系溶剤(住友スリーエム(株)製、商品名「ノベックHFE−7200」)で希釈して固形分濃度3重量%の溶液を調合した。
ついで、この溶液を多孔質セラミックス製のペレットに1g含浸させ乾燥させた後、ペレットを蒸着源として真空チャンバ内にセットし、真空チャンバ内の圧力を1.0-2Pa〜4.0×10-2Paの範囲内に設定した。
ついで、真空チャンバ内に、上記反射防止層形成工程後の基材10を投入し、ペレットを400℃〜500℃に加熱することによってシラン化合物を蒸発させ、無機系反射防止層30の表面に付着させて防汚層40を形成した。
ついで、上記反射防止層形成工程後の基材10の無機系反射防止層30上に、真空蒸着法を用いて以下のようにして防汚層40を形成した。
まず、分子量2500のフッ素シラン化合物A(信越化学工業(株)製、商品名「KY−130」)と、分子量497.5のフッ素シラン化合物B(信越化学工業(株)製、商品名「KP−801」)とを混合した。
ついで、この混合液をフッ素系溶剤(住友スリーエム(株)製、商品名「ノベックHFE−7200」)で希釈して固形分濃度3重量%の溶液を調合した。
ついで、この溶液を多孔質セラミックス製のペレットに1g含浸させ乾燥させた後、ペレットを蒸着源として真空チャンバ内にセットし、真空チャンバ内の圧力を1.0-2Pa〜4.0×10-2Paの範囲内に設定した。
ついで、真空チャンバ内に、上記反射防止層形成工程後の基材10を投入し、ペレットを400℃〜500℃に加熱することによってシラン化合物を蒸発させ、無機系反射防止層30の表面に付着させて防汚層40を形成した。
[実施例2]
吸湿工程までは、実施例1と同様に行った後、反射防止層形成工程において有機系反射防止層30を以下のように形成した。
吸湿工程までは、実施例1と同様に行った後、反射防止層形成工程において有機系反射防止層30を以下のように形成した。
(反射防止層形成工程)
まず、プロピレングリコールモノメチルエーテル(以下、PGMEという)48.6gと、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン14.1gとを混合した。
ついで、この混合液に0.1規定塩酸水溶液4.0gを攪拌しながら滴下し、5時間攪拌した。
ついで、この混合液にイソプロパノール分散中空シリカゾル(平均粒径91nm、固形分濃度30重量%)33.3gを加えて十分に混合した。
ついで、この混合液に硬化触媒としてAl(C5H7O2)3を0.06g、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名「L7604」)を0.03g添加して攪拌、溶解することにより、固形分濃度20重量%のコーティング原液を調合した。
ついで、このコーティング原液を35.3gと、300ppm濃度のシリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名「L7604」)入りPGME溶液114.7gとを混合して十分に攪拌し、固形分濃度4.7重量%の塗布液を調合した。
ついで、この塗布液をスピンコート法を用いて、ハードコート層20が形成された基材10に塗布した。
ついで、上記塗布液が塗布された基材10を、125℃で90分アニールを行い、有機系反射防止層30をハードコート層20上に形成した。なお、このようにして形成された有機系反射防止層30の膜厚は、91nm、屈折率は、1.42であった。
まず、プロピレングリコールモノメチルエーテル(以下、PGMEという)48.6gと、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン14.1gとを混合した。
ついで、この混合液に0.1規定塩酸水溶液4.0gを攪拌しながら滴下し、5時間攪拌した。
ついで、この混合液にイソプロパノール分散中空シリカゾル(平均粒径91nm、固形分濃度30重量%)33.3gを加えて十分に混合した。
ついで、この混合液に硬化触媒としてAl(C5H7O2)3を0.06g、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名「L7604」)を0.03g添加して攪拌、溶解することにより、固形分濃度20重量%のコーティング原液を調合した。
ついで、このコーティング原液を35.3gと、300ppm濃度のシリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名「L7604」)入りPGME溶液114.7gとを混合して十分に攪拌し、固形分濃度4.7重量%の塗布液を調合した。
ついで、この塗布液をスピンコート法を用いて、ハードコート層20が形成された基材10に塗布した。
ついで、上記塗布液が塗布された基材10を、125℃で90分アニールを行い、有機系反射防止層30をハードコート層20上に形成した。なお、このようにして形成された有機系反射防止層30の膜厚は、91nm、屈折率は、1.42であった。
(防汚層形成工程)
防汚層形成工程は、真空蒸着終了後に90℃60%RHに設定した恒温恒湿槽60内に2時間放置した点以外は、実施例1と同じである。なお、この処置は、有機系反射防止層30と防汚層40との反応を促進するために行った。
なお、防汚層40の形成は上記真空蒸着法などの乾式だけでなく、浸漬法による湿式でも良い。湿式の場合は、固形分濃度0.3重量%の塗布液に基材10を浸漬して1分保持した後、15cm/分の速度で引き上げた後、90℃60%RHに設定した恒温恒湿槽60内に投入し、1.5時間放置する。
防汚層形成工程は、真空蒸着終了後に90℃60%RHに設定した恒温恒湿槽60内に2時間放置した点以外は、実施例1と同じである。なお、この処置は、有機系反射防止層30と防汚層40との反応を促進するために行った。
なお、防汚層40の形成は上記真空蒸着法などの乾式だけでなく、浸漬法による湿式でも良い。湿式の場合は、固形分濃度0.3重量%の塗布液に基材10を浸漬して1分保持した後、15cm/分の速度で引き上げた後、90℃60%RHに設定した恒温恒湿槽60内に投入し、1.5時間放置する。
[実施例3]
基材10とハードコート層20との間に図示しないプライマ層を形成した点以外は、実施例1と同じである。
(プライマ層形成工程)
まず、市販の水性ポリエステル(高松油脂(株)製、商品名「A−160P」固形分濃度25重量%)77g、メタノール220g、PGME31.5g、水91.8g、メタノール分散二酸化チタン−二酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル(触媒化成工業(株)製、固形分濃度20重量%)78.8g、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名「L−7604」)0.1gを混合し、2時間攪拌してプライマ塗布液を調合した。
ついで、このプライマ塗布液を浸漬法を用いて、引き上げ速度20cm/分で基材10に塗布した。
ついで、プライマ塗布液が塗布された基材10を、熱風炉70に投入し、80℃で20分加熱し、焼成した。なお、このようにして形成されたプライマ層は、膜厚0.5μm、屈折率1.67であった。
基材10とハードコート層20との間に図示しないプライマ層を形成した点以外は、実施例1と同じである。
(プライマ層形成工程)
まず、市販の水性ポリエステル(高松油脂(株)製、商品名「A−160P」固形分濃度25重量%)77g、メタノール220g、PGME31.5g、水91.8g、メタノール分散二酸化チタン−二酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル(触媒化成工業(株)製、固形分濃度20重量%)78.8g、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名「L−7604」)0.1gを混合し、2時間攪拌してプライマ塗布液を調合した。
ついで、このプライマ塗布液を浸漬法を用いて、引き上げ速度20cm/分で基材10に塗布した。
ついで、プライマ塗布液が塗布された基材10を、熱風炉70に投入し、80℃で20分加熱し、焼成した。なお、このようにして形成されたプライマ層は、膜厚0.5μm、屈折率1.67であった。
[実施例4]
吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定を、25℃25%RH(絶対湿度5.8g/m3)にした点以外は、実施例1と同じである。
吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定を、25℃25%RH(絶対湿度5.8g/m3)にした点以外は、実施例1と同じである。
[実施例5]
吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定を、25℃90%RH(絶対湿度20.7g/m3)にした点以外は、実施例1と同じである。
吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定を、25℃90%RH(絶対湿度20.7g/m3)にした点以外は、実施例1と同じである。
[比較例1]
従来技術と同様に仮焼成工程後に水分添加工程(吸湿工程)を行った点以外は、実施例1と同じである。なお、吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定は、40℃90%RH(絶対湿度45.9g/m3)である。
従来技術と同様に仮焼成工程後に水分添加工程(吸湿工程)を行った点以外は、実施例1と同じである。なお、吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定は、40℃90%RH(絶対湿度45.9g/m3)である。
[比較例2]
吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定を、25℃20%RH(絶対湿度4.6g/m3)にした点以外は、実施例1と同じである。
吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定を、25℃20%RH(絶対湿度4.6g/m3)にした点以外は、実施例1と同じである。
[比較例3]
吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定を、30℃80%RH(絶対湿度24.0g/m3)にした点以外は、実施例1と同じである。
吸湿工程における恒温恒湿槽60内の設定を、30℃80%RH(絶対湿度24.0g/m3)にした点以外は、実施例1と同じである。
[評価方法]
上記各実施例及び各比較例で得られたプラスチックレンズ1の各サンプルについて、以下の方法により、外観及び耐擦傷性を評価した。
上記各実施例及び各比較例で得られたプラスチックレンズ1の各サンプルについて、以下の方法により、外観及び耐擦傷性を評価した。
(外観評価)
プラスチックレンズ1の各サンプルの外観を白濁、外周からの染み上がりの2点について目視により観察し、以下のランクに分類して評価した。
<白濁>
○:白濁がない。
△:一部または全面に薄い白濁が発生。
×:全面に濃い白濁が発生。
<染み上がり>
○:染み上がりがほとんどない。
△:染み上がりがあるが、外周から5mm未満の範囲。
×:染み上がりがあり、外周から5mm以上の範囲。
プラスチックレンズ1の各サンプルの外観を白濁、外周からの染み上がりの2点について目視により観察し、以下のランクに分類して評価した。
<白濁>
○:白濁がない。
△:一部または全面に薄い白濁が発生。
×:全面に濃い白濁が発生。
<染み上がり>
○:染み上がりがほとんどない。
△:染み上がりがあるが、外周から5mm未満の範囲。
×:染み上がりがあり、外周から5mm以上の範囲。
(耐擦傷性評価)
プラスチックレンズ1の各サンプルに、ボンスター#0000スチールウール(日本スチールウール(株)製)を用いて9.8Nの荷重をかけ、各サンプルの表面を10往復摩擦し、傷の付いた程度を目視により観察し、以下のランクに分類して評価した。
A:摩擦した範囲に、ほとんど傷が認められない。
B:摩擦した範囲に、1〜5本傷が付いた。
C:摩擦した範囲に、6〜10本傷が付いた。
D:摩擦した範囲に、11本以上傷が付いた。
プラスチックレンズ1の各サンプルに、ボンスター#0000スチールウール(日本スチールウール(株)製)を用いて9.8Nの荷重をかけ、各サンプルの表面を10往復摩擦し、傷の付いた程度を目視により観察し、以下のランクに分類して評価した。
A:摩擦した範囲に、ほとんど傷が認められない。
B:摩擦した範囲に、1〜5本傷が付いた。
C:摩擦した範囲に、6〜10本傷が付いた。
D:摩擦した範囲に、11本以上傷が付いた。
[評価結果]
図3は、各実施例及び各比較例の評価結果を示した説明図である。
図3に示すように、本実施形態のプラスチックレンズ1の製造方法に基づいた実施例1〜5のサンプルは、外観評価の白濁、染み上がりともに○で問題のないレベルであり、耐擦傷性評価もAで問題のないレベルである。
これに対して、吸湿工程を仮焼成後に行う従来技術を用いた比較例1のサンプルは、外観評価の白濁が△で実用上問題となり得るレベルである。
また、本実施形態の湿度範囲外の湿度で吸湿工程が行われた比較例2、3のサンプルは、湿度が低い比較例2が耐擦傷性評価がBとなり、湿度が高い比較例3が外観評価の染み上がりが△、耐擦傷性評価がBとなっている。なお、比較例2、3の評価結果は、いずれも実用上問題となるレベルには至っていない。
図3は、各実施例及び各比較例の評価結果を示した説明図である。
図3に示すように、本実施形態のプラスチックレンズ1の製造方法に基づいた実施例1〜5のサンプルは、外観評価の白濁、染み上がりともに○で問題のないレベルであり、耐擦傷性評価もAで問題のないレベルである。
これに対して、吸湿工程を仮焼成後に行う従来技術を用いた比較例1のサンプルは、外観評価の白濁が△で実用上問題となり得るレベルである。
また、本実施形態の湿度範囲外の湿度で吸湿工程が行われた比較例2、3のサンプルは、湿度が低い比較例2が耐擦傷性評価がBとなり、湿度が高い比較例3が外観評価の染み上がりが△、耐擦傷性評価がBとなっている。なお、比較例2、3の評価結果は、いずれも実用上問題となるレベルには至っていない。
これらの評価結果から、本実施形態のプラスチックレンズ1の製造方法に基づいて、基材10にハードコート液21を塗布後、所定の湿度範囲で吸湿工程を行い、ついで、焼成工程を行うことによりハードコート層20を形成することで、外観(白濁、染み上がり)及び耐擦傷性に優れたプラスチックレンズ1を得られることが裏付けられた。
1…光学物品としての眼鏡用のプラスチックレンズ、10…基材、20…ハードコート層、21…ハードコート液、30…反射防止層(有機系反射防止層、無機系反射防止層)、40…防汚層、50…浸漬槽、60…恒温恒湿槽、70…熱風炉。
Claims (3)
- プラスチック製の基材と、前記基材に形成されたハードコート層とを備える光学物品の製造方法であって、
前記基材にハードコート液を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程後に、前記基材を所定の湿度の大気中にさらす吸湿工程と、
前記吸湿工程後に、焼成により前記ハードコート層を得る焼成工程とを有することを特徴とする光学物品の製造方法。 - 請求項1に記載の光学物品の製造方法において、前記吸湿工程の所定の湿度が絶対湿度6.0g/m3〜20.0g/m3の範囲内であることを特徴とする光学物品の製造方法。
- 請求項1または2に記載の光学物品の製造方法により製造されたことを特徴とする光学物品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008175354A JP2010015006A (ja) | 2008-07-04 | 2008-07-04 | 光学物品の製造方法及び光学物品 |
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JP2008175354A JP2010015006A (ja) | 2008-07-04 | 2008-07-04 | 光学物品の製造方法及び光学物品 |
Publications (1)
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---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010015006A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8740917B2 (en) | 2003-01-15 | 2014-06-03 | L'oreal Sa | Apparatus and method for acoustic/mechanical treatment of early stage acne |
JPWO2014034938A1 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-08-08 | イーエイチエス レンズ フィリピン インク | 高強度のハードコート層を備えた光学物品 |
-
2008
- 2008-07-04 JP JP2008175354A patent/JP2010015006A/ja not_active Withdrawn
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JPWO2014034938A1 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-08-08 | イーエイチエス レンズ フィリピン インク | 高強度のハードコート層を備えた光学物品 |
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