JP7015418B2 - 含フッ素エラストマー組成物、およびシール材 - Google Patents
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Description
本例の含フッ素エラストマー組成物は、含フッ素エラストマーと、フィラーと、を含む。
シール材は、パッキン、ガスケット、Oリングなどである。シール材は、上記の含フッ素エラストマー組成物を所定の形状に成形してなる。なお、シール材を所望の形状に成形する際に、含フッ素エラストマー組成物に、架橋用添加剤が、更に、配合される場合がある。
含フッ素エラストマー組成物は、含フッ素エラストマー、フィラーおよび添加剤を混錬した混錬物を加硫して得られる。
以下に、本発明を適用した実施例1、2の含フッ素エラストマー組成物を説明する。また、比較例1から4の含フッ素エラストマー組成物を説明する。
実施例1の含フッ素エラストマー組成物は、含フッ素エラストマーとして、パーフルオロエラストマーを用いる。フィラーは、珪素粒子、および酸化膜を備える珪素粒子である。フィラーの粒径は、10nm以上、100nm以下である。本例では、フィラーの平均粒径は、40~50nmである。フィラーは、パーフルオロエラストマー100重量部に対して、10重量部である。
実施例2の含フッ素エラストマー組成物は、含フッ素エラストマーとして、フッ化ビニリデン系ゴムを用いる。フィラーは、珪素粒子、および酸化膜を備える珪素粒子である。フィラーおよび添加剤は、実施例1と同様である。すなわち、フィラーの粒径は、10nm以上、100nm以下である。本例では、フィラーの平均粒径は、40~50nmである。フィラーは、フッ化ビニリデン系ゴム100重量部に対して、10重量部である。添加剤は、架橋剤であり、過酸化物架橋剤および共架橋剤を用いる。架橋剤は、フッ化ビニリデン系ゴム100重量部に対して、4.4重量部である。詳細には、過酸化物架橋剤は、パーフルオロエラストマー100重量部に対して、1.4重量部である。共架橋剤は、パーフルオロエラストマー100重量部に対して、3重量部である。一時加硫の温度は、160°Cであり、加硫時間は10分である。二次加硫の温度は、200°Cであり、加硫温度は4時間である。
比較例1の含フッ素エラストマー組成物は、含フッ素エラストマーとしてパーフルオロエラストマーを用い、フィラーとしてシリカ粒子を用いる。比較例2の含フッ素エラストマー組成物は、含フッ素エラストマーとしてフッ化ビニリデン系ゴムを用い、フィラーとしてシリカ粒子を用いる。比較例1、2において、フィラーとして用いるシリカ粒子の平均粒径は5μm程度である。実施例1と比較例1とは、フィラーが相違するが、他の配合および加硫条件は同一である。実施例2と比較例2とは、フィラーが相違するが、他の配合および加硫条件は同一である。
比較例3の含フッ素エラストマー組成物は、含フッ素エラストマーとしてパーフルオロエラストマーを用い、フィラーを添加してないものである。比較例4の含フッ素エラストマー組成物は、含フッ素エラストマーとしてフッ化ビニリデン系ゴムを用い、フィラーを添加していないものである。実施例1と比較例3とは、フィラーが配合されているか、否かを除き、他の配合および加硫条件は同一である。実施例2と比較例4とは、フィラーが配合されているか、否かを除き、他の配合および加硫条件は同一である。
次に、実施例1の含フッ素エラストマー組成物の耐プラズマ性を説明する。耐プラズマ性は、サンプルを用いたプラズマ照射試験によって評価する。また、耐プラズマ性として、プラズマ照射環境下におけるサンプルの重量減少を抑制できること、およびプラズマ照射によるパーティクルの発生を抑制できること、を評価する。
次に、本発明を適用した実施例3~5の含フッ素エラストマー組成物を説明する。実施例3~5の含フッ素エラストマー組成物は、実施例1と同様に、含フッ素エラストマーとして、パーフルオロエラストマーを用いる。フィラーは、珪素粒子、および酸化膜を備える珪素粒子である。フィラーの粒径は、10nm以上、100nm以下である。フィラーの平均粒径は、40~50nmである。実施例3~5は、フィラーの配合割合のみが実施例1と相違する。実施例3では、フィラーは、パーフルオロエラストマー100重量部に対して、1重量部である。実施例4では、フィラーは、パーフルオロエラストマー100重量部に対して、5重量部である。実施例5では、フィラーは、パーフルオロエラストマー100重量部に対して、20重量部である。
次に、本発明を適用した実施例6~8の含フッ素エラストマー組成物を説明する。実施例6~8の含フッ素エラストマー組成物は、実施例2と同様に、含フッ素エラストマーとして、フッ素ゴムを用いる。フッ素ゴムは、フッ化ビニリデン系ゴムである。フィラーは、珪素粒子、および酸化膜を備える珪素粒子である。フィラーの粒径は、10nm以上、100nm以下である。フィラーの平均粒径は、40~50nmである。実施例6~8は、フィラーの配合割合のみが実施例2と相違する。実施例6では、フィラーは、フッ化ビニリデン系ゴム100重量部に対して、1部である。実施例7では、フィラーは、フッ化ビニリデン系ゴム100重量部に対して、5重量部である。実施例8では、フィラーは、フッ化ビニリデン系ゴム100重量部に対して、20重量部である。
ここで、実施例1~8の含フッ素エラストマー組成物が、プラズマ照射環境下において重量減少を抑制でき、かつ、フィラーの発生をゼロ、或いは限りなくゼロに近づけることができる理由は、以下のように考えられる。
ここで、含フッ素エラストマー組成物に配合するフィラーは、粒径が10nm以上かつ100nm以下の珪素粒子としてもよい。すなわち、フィラーとして、酸化膜を備える珪素粒子を含んでいなくてもよい。
Claims (11)
- 含フッ素エラストマーと、
粒径が10nm以上かつ100nm以下のフィラーと、を含み、
前記フィラーは、珪素粒子、および酸化膜を備える珪素粒子であることを特徴とする含フッ素エラストマー組成物。 - 前記含フッ素エラストマーは、パーフルオロエラストマーであることを特徴とする請求項1に記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 前記パーフルオロエラストマー100重量部に対して、1重量部以上かつ20重量部以下の前記フィラーを含むことを特徴とする請求項2に記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 前記パーフルオロエラストマー100重量部に対して、5重量部以上かつ20重量部以下の前記フィラーを含むことを特徴とする請求項2に記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 前記パーフルオロエラストマー100重量部に対して、10重量部以上かつ20重量部以下の前記フィラーを含むことを特徴とする請求項2に記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 前記含フッ素エラストマーは、フッ素ゴムであることを特徴とする請求項1に記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 前記フッ素ゴム100重量部に対して、1重量部以上かつ20重量部以下の前記フィラーを含むことを特徴とする請求項6に記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 前記フッ素ゴム100重量部に対して、10重量部以上かつ20重量部以下の前記フィラーを含むことを特徴とする請求項6に記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 前記含フッ素エラストマー100重量部に対して、10重量部以上かつ20重量部以下の前記フィラーを含むことを特徴とする請求項1に記載の含フッ素エラストマー組成物。
- 請求項1に記載の含フッ素エラストマー組成物を含むシール材。
- 含フッ素エラストマーと、
粒径が10nm以上かつ100nm以下のフィラーと、を含み、
前記フィラーは、珪素粒子であることを特徴とする含フッ素エラストマー組成物。
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