JP6991704B2 - 固体撮像素子およびその制御方法、並びに電子機器 - Google Patents

固体撮像素子およびその制御方法、並びに電子機器 Download PDF

Info

Publication number
JP6991704B2
JP6991704B2 JP2016209290A JP2016209290A JP6991704B2 JP 6991704 B2 JP6991704 B2 JP 6991704B2 JP 2016209290 A JP2016209290 A JP 2016209290A JP 2016209290 A JP2016209290 A JP 2016209290A JP 6991704 B2 JP6991704 B2 JP 6991704B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixel
transistor
signal
differential amplifier
reset
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016209290A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018074268A (ja
Inventor
弘博 朱
守 佐藤
昭彦 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Semiconductor Solutions Corp
Original Assignee
Sony Semiconductor Solutions Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2016209290A priority Critical patent/JP6991704B2/ja
Application filed by Sony Semiconductor Solutions Corp filed Critical Sony Semiconductor Solutions Corp
Priority to CN202111516677.7A priority patent/CN114390223A/zh
Priority to EP17794436.0A priority patent/EP3533220B1/en
Priority to CN201780065000.1A priority patent/CN109845243B/zh
Priority to US16/340,925 priority patent/US10887538B2/en
Priority to PCT/JP2017/037475 priority patent/WO2018079330A1/en
Publication of JP2018074268A publication Critical patent/JP2018074268A/ja
Priority to US17/116,459 priority patent/US11228726B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6991704B2 publication Critical patent/JP6991704B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/60Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/71Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
    • H04N25/75Circuitry for providing, modifying or processing image signals from the pixel array
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components

Description

本技術は、固体撮像素子およびその制御方法、並びに電子機器に関し、特に、差動増幅器の動作範囲を最適動作範囲に調整することができるようにした固体撮像素子およびその制御方法、並びに電子機器に関する。
固体撮像素子は、例えば、光電変換素子としてのPD(フォトダイオード)と、転送トランジスタ、リセットトランジスタ、増幅トランジスタ、および選択トランジスタの4つの画素トランジスタ、並びに、FD(フローティングディフュージョン)を各画素に配置した構成を有する。各画素では、PDで光電変換された信号電荷がFDに転送され、増幅トランジスタによって電圧情報に変換され、増幅されて、AD変換部に出力される。AD変換部は、入力されたアナログの画素信号の電圧と、時間方向に一定の傾きを持ったスロープ形状の参照信号の電圧とを比較し、比較結果の出力が反転するまでの時間をカウントすることでAD変換を実現する。
従来、増幅トランジスタを用いた画素信号の増幅にはソースフォロア回路が広く用いられてきたが、増幅率の大きい差動増幅器も提案されている(例えば、特許文献1,2参照)。増幅率を大きくすることで、後段のAD変換部などで発生する入力換算ノイズを小さくする効果がある。
例えば、ソースフォロア回路を用いた場合、画素の変換効率が100uV/e-(PDで1e-の電子が入力されたときの増幅トランジスタ出力振幅が100uV)、増幅トランジスタ出力部のノイズが100uVrms(1e-rms)、AD変換部のノイズが100uVrms(1e-rms)であるとする。このときのトータルノイズは、二乗平方和で表され、√(100uVrms2+100uVrms2)=141uVrmsとなるので、入力換算ノイズは、1.41e-rmsである。
一方、差動増幅器を用いた場合、画素の変換効率が500uV/e-、増幅トランジスタ出力部のノイズが500uVrms(1e-rms)、AD変換部のノイズが100uVrms(0.2e-rms)であるとする。このときのトータルノイズは、二乗平方和で√(500uVrms2+100uVrms2)=510uVrmsとなるので、入力換算ノイズは、1.02e-rmsである。
従って、画素の変換効率が高いほど、AD変換部の入力換算ノイズが小さくなり、ノイズ低減効果がある。
特開2008-271280号公報 特開2003-259218号公報
PDの入射光量により、差動増幅器の出力信号が変わり、信号側の増幅トランジスタのG-D間(ゲート-ドレイン間)の寄生容量CgdやPMOSの小信号出力抵抗roなどのパラメータが変化する。差動増幅器のゲインは、上記の増幅トランジスタG-D間寄生容量Cgdや小信号出力抵抗roに依存するため、結局、PDの入射光量によって変動する。また、変動の大きさも、差動増幅器の動作範囲内で変化する。差動増幅器の動作範囲には、ゲインが大きく、且つ、ゲインの変動が小さい最適な動作範囲が存在し、差動増幅器の動作範囲は、リセット直後の動作点により決定される。
しかしながら、差動増幅器のリセット直後の動作点を調整することは難しく、差動増幅器が最適動作範囲から外れる場合がある。結果として、画素の変換効率が低下して、リニアリティが悪化してしまう。
本技術は、このような状況に鑑みてなされたものであり、差動増幅器の動作範囲を最適動作範囲に調整することができるようにするものである。
本技術の第1の側面の固体撮像素子は、画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部と、前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部とを備え、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間または前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間のいずれか一方の期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる電流発生回路と、前記第1及び第2の単位画素に接続された電流源とを有する。
本技術の第2の側面の固体撮像素子の制御方法は、画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部と、前記第1及び第2の単位画素に接続された電流源と、電流発生回路とを含み、前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部とを備える固体撮像素子の、前記差動増幅器構成部の前記電流発生回路が、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間または前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間のいずれか一方の期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる。
本技術の第3の側面の電子機器は、画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部と、前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部とを備え、前記差動増幅器構成部は、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間または前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間のいずれか一方の期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる電流発生回路と、前記第1及び第2の単位画素に接続された電流源とを有する固体撮像素子を備える。
本技術の第1乃至第3の側面においては、画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が画素アレイ部に配置され、前記第1及び第2の単位画素に接続された電流源と、電流発生回路とを含み、前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器が構成される差動増幅器構成部では、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間または前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間のいずれか一方の期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分が発生される。
固体撮像素子及び電子機器は、独立した装置であっても良いし、他の装置に組み込まれるモジュールであっても良い。
本技術の第1乃至第3の側面によれば、差動増幅器の動作範囲を最適動作範囲に調整することができる。
なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
本技術を適用した第1実施の形態に係る固体撮像素子の概略構成を示す図である。 カラム信号処理部の構成例を示す図である。 差動増幅器構成部の第1構成例と単位画素及びダミー画素の詳細構成を示す図である。 第1構成例における1H期間の動作を説明するタイミングチャートである。 差動増幅器構成部の第2構成例を示す図である。 第2構成例における1H期間の動作を説明するタイミングチャートである。 差動増幅器構成部の第3構成例を示す図である。 第3構成例における1H期間の動作を説明するタイミングチャートである。 差動増幅器構成部の第4構成例を示す図である。 第4構成例における1H期間の動作を説明するタイミングチャートである。 差動増幅器構成部の第5構成例を示す図である。 第5構成例における1H期間の動作を説明するタイミングチャートである。 差動増幅器構成部の第6構成例を示す図である。 第6構成例における1H期間の動作を説明するタイミングチャートである。 差動増幅器構成部の第7構成例を示す図である。 差動増幅器構成部の第8構成例を示す図である。 差動増幅器構成部の第9構成例を示す図である。 差動増幅器構成部の第10構成例を示す図である。 差動増幅器構成部の第11構成例を示す図である。 差動増幅器構成部の第12構成例を示す図である。 差動増幅器構成部の第13構成例を示す図である。 差動増幅器構成部の第14構成例を示す図である。 差動増幅器構成部の第15構成例を示す図である。 本技術を適用した第2実施の形態に係る固体撮像素子の概略構成を示す図である。 信号切替部の詳細構成を示す図である。 本技術を適用した電子機器としての撮像装置の構成例を示すブロック図である。 イメージセンサの使用例を説明する図である。
以下、本技術を実施するための形態(以下、実施の形態という)について説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1実施の形態に係る固体撮像素子の概略構成
2.カラム信号処理部の構成例
3.差動増幅器構成部の第1構成例
4.差動増幅器構成部の第2構成例
5.差動増幅器構成部の第3構成例
6.差動増幅器構成部の第4構成例
7.差動増幅器構成部の第5構成例
8.差動増幅器構成部の第6構成例
9.差動増幅器構成部の第7構成例
10.差動増幅器構成部の第8構成例
11.差動増幅器構成部の第9構成例
12.差動増幅器構成部の第10構成例
13.差動増幅器構成部の第11構成例
14.差動増幅器構成部の第12構成例
15.差動増幅器構成部の第13構成例
16.差動増幅器構成部の第14構成例
17.差動増幅器構成部の第15構成例
18.第2実施の形態に係る固体撮像素子の概略構成
19.信号切替部の構成例
20.まとめ
21.電子機器への適用例
<1.第1実施の形態に係る固体撮像素子の概略構成>
図1は、本技術を適用した第1実施の形態に係る固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)の概略構成を示す図である。
図1の固体撮像素子1は、例えば半導体としてシリコン(Si)を用いた半導体基板上に形成された、画素アレイ部11、差動増幅器構成部12、垂直走査回路13、カラム信号処理部14、水平走査回路15などから構成される。
画素アレイ部11には、単位画素10Sとダミー画素10Dが形成されている。具体的には、画素アレイ部11の有効画素領域内に単位画素10Sがアレイ状に配置され、有効画素領域外には少なくとも画素1列につき1個のダミー画素10Dが配置されている。単位画素10Sは、固体撮像素子1の出力となる受光量に対応する画素信号を出力する画素であり、ダミー画素10Dは、単位画素10Sの一種であるが、入射光が光電変換素子に入射されないように金属膜などで遮光されたOPB(Optical Black)領域に形成された、黒レベルの基準値を検出するための画素である。
単位画素10Sには、選択信号線21を介して選択制御信号SEL_S、リセット信号線22を介してリセット制御信号RST_S、転送信号線23を介して転送制御信号TRG_Sが、それぞれ、垂直走査回路13から供給される。
ダミー画素10Dには、選択信号線31を介して選択制御信号SEL_D、リセット信号線32を介してリセット制御信号RST_D、転送信号線33を介して転送制御信号TRG_Dが、それぞれ、垂直走査回路13から供給される。
単位画素10Sは、列信号線41、列リセット線42、および列Vcom線43を介して、差動増幅器構成部12と接続されている。ダミー画素10Dは、列信号線51、列リセット線52、および列Vcom線43を介して、差動増幅器構成部12と接続されている。
差動増幅器構成部12は、単位画素10Sの増幅トランジスタ104及び選択トランジスタ105(図3)並びにダミー画素10Dの増幅トランジスタ114及び選択トランジスタ115(図3)とともに差動増幅器を構成し、単位画素10Sの出力である画素信号を増幅して、カラム信号処理部14に出力する。単位画素10Sは、差動増幅器構成部12の差動対を構成する信号側の画素であり、ダミー画素10Dは、差動対を構成する参照側の画素である。差動増幅器によって増幅された画素信号は、列信号線41を介してカラム信号処理部14へ出力される。
垂直走査回路13は、シフトレジスタやアドレスデコーダなどによって構成され、画素アレイ部11の各単位画素10Sに対しては、選択制御信号SEL_S、リセット制御信号RST_S、および、転送制御信号TRG_Sを供給し、ダミー画素10Dに対しては、選択制御信号SEL_D、リセット制御信号RST_D、および、転送制御信号TRG_Dを供給して、行単位等で各単位画素10Sを駆動する。
例えば、垂直走査回路13は、画素アレイ部11の各単位画素10Sを電子シャッタ行と読み出し行それぞれについて行単位で垂直方向(上下方向)に走査しつつ、電子シャッタ行に対してはその行の単位画素10Sの信号掃き捨てを行うための電子シャッタ動作を行うとともに、読み出し行に対してはその行の単位画素10Sの信号読み出しを行うための読み出し動作を行う。
ここでは、図示を省略するが、垂直走査回路13は、単位画素10Sを行単位で順に選択しつつ、読み出し行の各単位画素10Sの信号を読み出す読み出し動作を行うための読み出し走査系と、当該読み出し走査系による読み出し走査よりもシャッタ速度に対応した時間分だけ前に同じ行(電子シャッタ行)に対して電子シャッタ動作を行うための電子シャッタ走査系とを有する構成となっている。
そして、電子シャッタ走査系によるシャッタ走査によって光電変換部の不要な信号電荷がリセットされたタイミングから、読み出し走査系による読み出し走査によって単位画素10Sの信号が読み出されるタイミングまでの期間が、単位画素10Sにおける信号電荷の一単位の蓄積期間(露光期間)となる。すなわち、電子シャッタ動作とは、光電変換部に蓄積された信号電荷のリセット(掃き捨て)を行い、そのリセット後から新たに信号電荷の蓄積を開始する動作である。
垂直走査回路13によって選択走査された画素行の各単位画素10Sから出力される画素信号は、画素列ごとに列信号線41の各々を通してカラム信号処理部14に入力される。
カラム信号処理部14は、画素アレイ部11の例えば画素列ごとに、垂直走査回路13による垂直走査によって選択された読み出し行の各単位画素10Sから出力される画素信号に対して所定の信号処理を行うとともに、信号処理後の画素信号を一時的に保持する。
例えば、カラム信号処理部14は、垂直走査によって選択された読み出し行の各単位画素10Sから出力される画素信号に対して、リセットノイズや増幅トランジスタの閾値ばらつき等の画素固有の固定パターンノイズを除去するCDS(Correlated Double Sampling;相関2重サンプリング)処理とAD変換処理を実行する。
水平走査回路15は、シフトレジスタやアドレスデコーダなどによって構成され、信号処理後の画素信号を保持するカラム信号処理部14に対し、画素アレイ部11の画素列毎に順に水平走査する。水平走査回路15の水平走査によって、カラム信号処理部14で保持されている読み出し行の各単位画素10SのAD変換後の画素信号が、出力部16から装置外へ出力される。
以上のように構成される固体撮像素子1は、CDS処理とAD変換処理を画素列ごとに行うカラムAD方式と呼ばれるCMOSイメージセンサである。
<2.カラム信号処理部の構成例>
図2は、カラム信号処理部14の構成例を示す図である。
カラム信号処理部14は、容量素子61及び62、比較器63、カウンタ64、データ保持部65、並びに、参照信号生成回路66を有する。そのうち、容量素子61及び62、比較器63、並びに、カウンタ64は、画素列単位に設けられている。
単位画素10Sから出力された画素信号は、差動増幅器構成部12を含む差動増幅器によって増幅され、列信号線41を介して容量素子61に入力される。一方、容量素子62には、参照信号生成回路66から、時間が経過するにつれてレベル(電圧)が傾斜状に変化するスロープ形状の参照信号が入力される。容量素子61および62は、アナログ的な素子バラつきをキャンセルするアナログCDS(AUTO ZERO)のための容量素子である。
比較器63は、容量素子61を介して入力される画素信号(の電圧)と、容量素子62を介して入力される参照信号(の電圧)とを比較して得られる差信号をカウンタ64に出力する。例えば、参照信号が画素信号より小である場合にはHi(High)の差信号がカウンタ64に供給され、参照信号が画素信号より大である場合にはLo(Low)の差信号がカウンタ64に供給される。
カウンタ64は、P相(Preset Phase)比較期間中、Hiの差信号が供給されている間だけカウントすることにより、カウント値Pを算出する。また、カウンタ64は、D相(Data Phase)比較期間中、Hiの差信号が供給されている間だけカウントすることにより、カウント値Dを算出する。そして、カウンタ64は、D相比較期間のカウント値DからP相比較期間のカウント値Pを引いた差分値(D-P)を、CDS処理およびAD変換処理後の画素データとして、データ保持部65に供給する。
データ保持部65は、各画素列のカウンタ64から供給されたAD変換処理後の画素データを保持し、水平走査回路15の制御に従って所定のタイミングで出力部16へ順次出力する。
<3.差動増幅器構成部の第1構成例>
図3は、差動増幅器構成部12の第1構成例を示す図である。
また、図3では、同じ画素列に配置された単位画素10S及びダミー画素10Dの詳細構成例も併せて示している。
単位画素10Sは、PD(フォトダイオード)101、転送トランジスタ102、リセットトランジスタ103、増幅トランジスタ104、選択トランジスタ105、及び、FD(フローティングディフュージョン)106を有する。
PD101は、入射光に応じた信号電荷を得る光電変換素子である。転送トランジスタ102は、転送制御信号TRG_Sに基づいて、PD101に蓄積された信号電荷をFD106に転送する。リセットトランジスタ103は、リセット制御信号RST_Sに基づいて、FD106の信号電荷をリセットする。増幅トランジスタ104は、FD106の信号電荷を電圧信号に変換し、増幅して出力する。選択トランジスタ105は、選択制御信号SEL_Sに基づいて、画素アレイ部11内でアレイ状に並んだ単位画素10Sのうち、自画素が選択画素か否かを制御する。FD106は、転送トランジスタ102によってPD101から転送された信号電荷を保持する電荷蓄積部である。
ダミー画素10Dは、PD111、転送トランジスタ112、リセットトランジスタ113、増幅トランジスタ114、選択トランジスタ115、及び、FD116を有する。
ダミー画素10Dは、単位画素10Sと同じ構成を有しているが、PD111には入射光が入射されないように金属膜等で遮光されている点が単位画素10Sと異なる。転送トランジスタ112は転送制御信号TRG_Dによって制御され、リセットトランジスタ113はリセット制御信号RST_Dによって制御され、選択トランジスタ115は選択制御信号SEL_Dによって制御される。
なお、単位画素10SのFD106と、ダミー画素10DのFD116に接続された容量は、フローティングディフュージョンの寄生容量を示しており、容量素子部品としては存在しない。
差動増幅器構成部12は、NMOSテール電流源150、カレントミラー回路を構成するPMOS負荷151および152、並びに、リセット専用定電流回路153で構成される。
NMOSテール電流源150は、列Vcom線43を介して、増幅トランジスタ104と114のソースと接続されている。NMOSテール電流源150のゲートにはバイアス電圧Vbnが印加され、増幅トランジスタ104と114に定電流を流す。
カレントミラー回路を構成する一方のPMOS負荷151のドレインは、ダミー画素10Dの選択トランジスタ115のドレインと、列信号線51を介して接続されている。カレントミラー回路を構成する他方のPMOS負荷152のドレインは、単位画素10Sの選択トランジスタ105のドレインと、列信号線41を介して接続されている。PMOS負荷151と152のソースは、定電圧源Vddに接続されている。
カレントミラー回路を構成するPMOS負荷151および152は、ダミー画素10D側の列信号線51と、単位画素10S側の列信号線41に等しい電流を流す。
ダミー画素10Dの列信号線51には、リセット専用定電流回路153も接続されている。リセット専用定電流回路153は、定電圧源VbrlとPMOS負荷151のドレインとの間に接続され、所定の電流値IrstL(IrstL1,IrstL2)の電流を流す回路である。具体的には、リセット専用定電流回路153は、後述するように、リセット期間中には第1の電流値IrstL1を出力し、読み出し期間中には第1の電流値IrstL1よりも低い第2の電流値IrstL2を出力することで、リセット期間と読み出し期間とで異なる電流が差動対の参照側に流れるようにする。また、これにより、リセット期間中、差動対の参照側と信号側のそれぞれに異なる電流が流れる。
ダミー画素10Dのリセットトランジスタ113のドレインは列リセット線52に接続され、その列リセット線52にはリセット電圧Vrstが供給されている。
一方、単位画素10Sのリセットトランジスタ103のドレインは列リセット線42に接続され、その列リセット線42は列信号線41と接続されている。
差動増幅器構成部12は、ダミー画素10Dの増幅トランジスタ114及び選択トランジスタ115と、単位画素10Sの増幅トランジスタ104及び選択トランジスタ105を合わせて、差動増幅器を構成している。
図4を参照して、第1構成例の差動増幅器構成部12と単位画素10S及びダミー画素10Dの動作について説明する。
図4は、画素アレイ部11の単位画素10Sとダミー画素10D、第1構成例の差動増幅器構成部12、および、カラム信号処理部14の1H期間のタイミングチャートを示している。単位画素10Sとダミー画素10Dは同じ画素列の画素である。
初めに、時刻t1において、画素信号の読み出しが選択された単位画素10Sと同列のダミー画素10Dに供給される選択制御信号SEL_Sと選択制御信号SEL_DがHi(High)に設定され、単位画素10Sの選択トランジスタ105とダミー画素10Dの選択トランジスタ115がオンされる。選択制御信号SEL_Sと選択制御信号SEL_Dは、1H期間が終了する時刻t11までHiであり、これにより、単位画素10Sとダミー画素10Dが選択された状態となる。
次の時刻t2から、リセット期間が開始され、リセット制御信号RST_S及びRST_DがHi(High)に設定される。これにより、単位画素10Sのリセットトランジスタ103と、ダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンする。また、リセット専用定電流回路153は、出力する電流値IrstLを、それまでの第2の電流値IrstL2よりも大きい第1の電流値(リセット電流値)IrstL1(>IrstL2)に変更する。
この状態において、差動増幅器はボルテージフォロワの動作をし、ダミー画素10DのFD116の電位がリセット電圧Vrstとなり、単位画素10Sの列信号線41の電位VSL_SおよびFD106の電位もリセット電圧Vrstに追従する。
次の時刻t3において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがLo(Low)に変更され、リセットトランジスタ103と113がオフする。リセットトランジスタ103と113がオフしたとき、スイッチフィードスルーにより、FD106および116の電位が少し低下するが、差動増幅器の同相キャンセル効果により、列信号線41の電位VSL_Sの電圧変動を小さく抑えることができる。これが、例えばシングルエンドのソース接地アンプである場合には、リセット時のフィードスルーによるFD電圧降下が画素のアンプゲインで増幅されて、出力端が動作レンジを超えてしまうことがある。
時刻t3よりも所定時間経過後の時刻t4において、リセット専用定電流回路153から出力される電流値IrstLが、第1の電流値IrstL1から、それよりも低い第2の電流値IrstL2(<IrstL1)に戻される。
リセットトランジスタ103と113がオフする時刻t3から、リセット専用定電流回路153が第1の電流値IrstL1を出力する時刻t4までの期間に応じて、時刻t4以降、図4に示されるように列信号線41の電位VSL_Sが上昇する。上昇後の列信号線41の電位VSL_Sが、差動増幅器の動作範囲を決定する動作点(動作開始電位)となる。
図4では、リセット専用定電流回路153を設けずに、動作点を調整しない場合の電位VSL_Sが破線で示されている。差動増幅器の最適な動作範囲は、差動増幅器固有の動作点よりも高い側に存在し、時刻t3から時刻t4までの期間、リセット専用定電流回路153が、差動増幅器の参照側の列信号線51に、信号側の列信号線41よりも大きい電流を流すことにより、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器の最適な動作範囲に上昇させる。
例えば、時刻t3から時刻t4までの期間で差動増幅器が均衡状態である場合、NMOSテール電流源150が出力する電流値が20uAであり、リセット専用定電流回路153が出力する第1の電流値IrstL1が6uAであるとき、PMOS負荷151および152にはそれぞれ約7uAの電流が流れるので、ダミー画素10Dの増幅トランジスタ114には約13uAの電流が流れ、単位画素10Sの増幅トランジスタ104には約7uAの電流が流れる。したがって、リセット専用定電流回路153は、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる。
一方、後述する読み出し期間において差動増幅器が均衡状態である場合、NMOSテール電流源150が出力する電流値が20uAのままで、リセット専用定電流回路153が出力する第2の電流値IrstL2が0であるとき、PMOS負荷151および152にはそれぞれ約10uAの電流が流れるので、増幅トランジスタ114および104にはそれぞれ約10uAの電流が流れる。
リセット専用定電流回路153が、差動増幅器の参照側の列信号線51に、信号側の列信号線41よりも大きい電流を流す時間となる時刻t3から時刻t4までの期間は、設計時の差動増幅器の最適な動作範囲に基づいて予め決定される。
具体的には、リセット専用定電流回路153を用いたときのリセット期間中の参照側と信号側の電流の大きさが設計できる。また、参照側のダミー画素10Dの増幅トランジスタ114のゲート電圧と、信号側の単位画素10Sの増幅トランジスタ104のゲート電圧の差も設計できる。リセットトランジスタ103と113がオフした後は、増幅トランジスタ114と104のゲートがフローティング状態となり、読み出し期間となる。そこで、読み出し期間における参照側と信号側の電流の変動量を設計することで、差動増幅器の出力電圧、即ち、列信号線41の電位VSL_Sを、最適動作範囲内に調整することができる。
列信号線41の電位VSL_Sが、差動増幅器の最適な動作範囲の動作点(動作開始電位)に調整された後、時刻t5から時刻t6までのP相比較期間において、単位画素10Sの画素信号の電圧と、参照信号生成回路66から供給される参照信号の電圧とが比較され、カウント値Pが算出される。
時刻t7から時刻t8の期間、単位画素10Sの転送トランジスタ102にHiの転送制御信号TRG_Sが供給され、転送トランジスタ102がオンされ、PD101に蓄積された信号電荷がFD106に転送される。このとき、ダミー画素10Dの転送トランジスタ112に供給される転送制御信号TRG_DはLoのままである。
単位画素10Sの転送トランジスタ102がオフされた時刻t8以降、画素信号の読み出し期間となり、カウンタ64は、P相比較期間で算出されたカウント値Pをビット反転したカウント値-Pをカウントの初期値に設定する。
時刻t9からt10までのD相比較期間において、単位画素10Sの画素信号の電圧と、参照信号生成回路66から供給される参照信号の電圧とが比較され、D相比較期間のカウント値DからP相比較期間のカウント値Pを引いた差分値(D-P)が算出される。
最後に、時刻t11において、選択制御信号SEL_Sと選択制御信号SEL_DがLoに変更されることにより、単位画素10Sの選択トランジスタ105とダミー画素10Dの選択トランジスタ115がオフされ、1H期間が終了する。
以上のように、図3の第1構成例の差動増幅器構成部12によれば、リセット期間中に、リセット専用定電流回路153が第1の電流値IrstL1を出力して、参照側の列信号線51に、信号側の列信号線41よりも大きな電流を出力する。また、読み出し期間中には、リセット専用定電流回路153は、第1の電流値IrstL1よりも低い第2の電流値IrstL2を出力する。このように、リセット専用定電流回路153が、リセット期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させ、リセット期間と読み出し期間とで、増幅トランジスタ114および104に流れる電流を変えることにより、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
図3の第1構成例の差動増幅器構成部12は、差動増幅器の最適な動作点が差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある場合に、差動増幅器の動作点を調整する構成例である。
次に、差動増幅器の最適な動作点が差動増幅器固有の動作点よりも下側(低電位側)にある場合に、差動増幅器の動作点を調整する構成例について説明する。
<4.差動増幅器構成部の第2構成例>
図5は、差動増幅器構成部12の第2構成例を示す図である。
図5においても、同じ画素列に配置された単位画素10S及びダミー画素10Dの詳細構成も併せて示している。なお、図5では、図3に示した第1構成例と共通する部分については同一の符号を付してあり、その部分の説明については適宜省略する。後述する第3構成例以降の説明においても同様とする。
図5の第2構成例の差動増幅器構成部12は、リセット専用定電流回路153の配置が図3に示した第1構成例と異なる。すなわち、図3の第1構成例の差動増幅器構成部12は、リセット専用定電流回路153が定電圧源VbrlとPMOS負荷151のドレインとの間に接続され、参照側の列信号線51に所定の電流値IrstLの電流を流す構成であったのに対して、第2構成例の差動増幅器構成部12は、リセット専用定電流回路153が定電圧源VbrrとPMOS負荷152のドレインとの間に接続され、信号側の列信号線41に、所定の電流値IrstR(IrstR1,IrstR2)の電流を流す構成である。図5のその他の構成は、単位画素10S及びダミー画素10Dの構成を含め、図3の第1構成例と同様である。
図6は、画素アレイ部11の単位画素10Sとダミー画素10D、第2構成例の差動増幅器構成部12、および、カラム信号処理部14の1H期間のタイミングチャートを示している。
図6のタイミングチャートは、第1構成例の図4のタイミングチャートに対応し、図6の時刻t31乃至t41は、それぞれ、図4の時刻t1乃至t11と対応する。図6においても、図4で説明した第1構成例のタイミングチャートと異なる部分に注目して説明する。
リセット期間が開始される時刻t32において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがHiに設定され、単位画素10Sのリセットトランジスタ103と、ダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンする。同時に、リセット専用定電流回路153は、出力する電流値IrstRを、それまでの第2の電流値IrstR2よりも大きい第1の電流値(リセット電流値)IrstR1(>IrstR2)に変更する。
次の時刻t33において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがLoに変更され、リセットトランジスタ103と113がオフする。
時刻t33よりも所定時間経過後の時刻t34において、リセット専用定電流回路153から出力される電流値IrstRが、第1の電流値IrstR1から、それよりも低い第2の電流値IrstR2(<IrstR1)に戻される。
このように、リセット期間中に、リセット専用定電流回路153が第1の電流値IrstR1を出力して、信号側の列信号線41に、参照側の列信号線51よりも大きな電流を出力することにより、図6に示されるように、差動増幅器固有の動作点(動作開始電位)を、差動増幅器固有の動作点よりも低い電位に調整することができる。
その他の時刻(時刻t31、時刻t35ないし時刻t41)の動作は、図4を参照して説明した第1構成例と同様である。
図5の第2構成例の差動増幅器構成部12によれば、リセット期間中に、リセット専用定電流回路153が第1の電流値IrstR1を出力して、信号側の列信号線41に、参照側の列信号線51よりも大きな電流を出力する。また、読み出し期間中には、リセット専用定電流回路153は、第1の電流値IrstR1よりも低い第2の電流値IrstR2を出力する。このように、リセット専用定電流回路153が、リセット期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させ、リセット期間と読み出し期間とで、増幅トランジスタ114および104に流れる電流を変えることにより、図6に示されるように、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも下側(低電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
<5.差動増幅器構成部の第3構成例>
図7は、差動増幅器構成部12の第3構成例を示す図である。
図7の第3構成例の差動増幅器構成部12は、図3に示した第1構成例と、図5に示した第2構成例の両方の構成を有している。すなわち、第3構成例の差動増幅器構成部12は、定電圧源VbrlとPMOS負荷151のドレインとの間に接続され、参照側の列信号線51に所定の電流値IrstLの電流を流すリセット専用定電流回路153Lと、定電圧源VbrrとPMOS負荷152のドレインとの間に接続され、信号側の列信号線41に所定の電流値IrstRの電流を流すリセット専用定電流回路153Rの両方を備える。図7のその他の構成は、単位画素10S及びダミー画素10Dの構成を含め、第1構成例および第2構成例と同様である。
図8は、画素アレイ部11の単位画素10Sとダミー画素10D、第3構成例の差動増幅器構成部12、および、カラム信号処理部14の1H期間のタイミングチャートを示している。
図8のタイミングチャートは、第1構成例の図4のタイミングチャートに対応し、図8の時刻t51乃至t61は、それぞれ、図4の時刻t1乃至t11と対応する。図8においても、図4で説明した第1構成例のタイミングチャートと異なる部分に注目して説明する。
リセット期間が開始される時刻t52において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがHiに設定され、単位画素10Sのリセットトランジスタ103と、ダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンする。
また、時刻t52において、参照側のリセット専用定電流回路153Lは、出力する電流値IrstLを、それまでの第2の電流値IrstL4よりも大きい第1の電流値(リセット電流値)IrstL3(>IrstR4)に変更する。同時刻に、信号側のリセット専用定電流回路153Rは、出力する電流値IrstRを、それまでの第2の電流値IrstR5よりも小さい第1の電流値(リセット電流値)IrstR6(<IrstR5)に変更する。これにより、列信号線51を介してダミー画素10Dの増幅トランジスタ114に流れる電流が、列信号線41を介して単位画素10Sの増幅トランジスタ104に流れる電流よりも多くなる。
次の時刻t53において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがLoに変更され、リセットトランジスタ103と113がオフする。
時刻t53よりも所定時間経過後の時刻t54において、参照側のリセット専用定電流回路153Lは、出力する電流値IrstLを、それまでの第1の電流値(リセット電流値)IrstL3よりも小さい第2の電流値IrstL4(<IrstR3)に変更する。同時刻に、信号側のリセット専用定電流回路153Rは、出力する電流値IrstRを、それまでの第1の電流値(リセット電流値)IrstR6よりも大きい第2の電流値IrstR5(>IrstR6)に変更する。
その他の時刻(時刻t51、時刻t55ないし時刻t61)の動作は、図4を参照して説明した第1構成例と同様である。
時刻t52から時刻t54の期間中、列信号線51を介してダミー画素10Dの増幅トランジスタ114に流れる電流が、列信号線41を介して単位画素10Sの増幅トランジスタ104に流れる電流よりも多くなるように、参照側のリセット専用定電流回路153Lは、それまでよりも大きい第1の電流値IrstL3の電流を流し、信号側のリセット専用定電流回路153Rは、それまでよりも小さい第1の電流値IrstR6の電流を流す。これにより、図8に示されるように、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
なお、第3構成例によれば、参照側と信号側の両方にリセット専用定電流回路153を備えたことにより、差動増幅器固有の動作点よりも下側(低電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することも可能である。
具体的には、時刻t52から時刻t54の期間中、参照側のリセット専用定電流回路153Lが、出力する電流値IrstLを、小さい第2の電流値IrstL4(<IrstL3)に設定し、それ以外の期間では、大きい第1の電流値IrstL3に設定する。信号側のリセット専用定電流回路153Rは、出力する電流値IrstRを、大きい第1の電流値IrstR6(>IrstR5)に設定し、それ以外の期間では、小さい第2の電流値IrstR6に設定する。
これにより、列信号線41を介して単位画素10Sの増幅トランジスタ104に流れる電流が、列信号線51を介してダミー画素10Dの増幅トランジスタ114に流れる電流よりも多くなり、列信号線41の電位VSL_Sが、差動増幅器固有の動作点よりも下側(低電位側)に調整される。
<6.差動増幅器構成部の第4構成例>
図9は、差動増幅器構成部12の第4構成例を示す図である。
図9の第4構成例の差動増幅器構成部12では、図3に示したリセット専用定電流回路153が、定電流源171とスイッチ172に置き換えられている。定電流源171は、所定の電流を出力する。スイッチ172は、制御信号SWLに基づいて、定電流源171と列信号線51との接続をオンオフする。スイッチ172のオンオフ状態は、リセット期間と読み出し期間とで変化する。図9のその他の構成は、単位画素10S及びダミー画素10Dの構成を含め、第1構成例と同様である。
図10は、画素アレイ部11の単位画素10Sとダミー画素10D、第4構成例の差動増幅器構成部12、および、カラム信号処理部14の1H期間のタイミングチャートを示している。
図10のタイミングチャートは、第1構成例の図4のタイミングチャートに対応し、図10の時刻t71乃至t81は、それぞれ、図4の時刻t1乃至t11と対応する。図10においても、図4で説明した第1構成例のタイミングチャートと異なる部分に注目して説明する。
リセット期間が開始される時刻t72において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがHiに設定され、単位画素10Sのリセットトランジスタ103と、ダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンする。
また、時刻t72において、Hiの制御信号SWLがスイッチ172に供給され、スイッチ172が定電流源171と列信号線51とを接続する。これにより、定電流源171から所定の電流が参照側の列信号線51に流れる。
次の時刻t73において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがLoに変更され、リセットトランジスタ103と113がオフする。
時刻t73よりも所定時間経過後の時刻t74において、制御信号SWLがHiからLoに変更され、スイッチ172がオフし、定電流源171が列信号線51から切り離される。
その他の時刻(時刻t71、時刻t75ないし時刻t81)の動作は、図4を参照して説明した第1構成例と同様である。
時刻t72から時刻t74の期間中、定電流源171が列信号線51に接続されることにより、列信号線51を介してダミー画素10Dの増幅トランジスタ114に流れる電流が、列信号線41を介して単位画素10Sの増幅トランジスタ104に流れる電流よりも多くなる。これにより、図10に示されるように、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
<7.差動増幅器構成部の第5構成例>
図11は、差動増幅器構成部12の第5構成例を示す図である。
図11の第5構成例の差動増幅器構成部12では、図5に示したリセット専用定電流回路153が、定電流源171とスイッチ172に置き換えられている。換言すれば、第5構成例の差動増幅器構成部12では、図9に示した第4構成例の定電流源171とスイッチ172が、参照側でなく、信号側に設けられている。スイッチ172は、制御信号SWRに基づいて、定電流源171と列信号線41との接続をオンオフする。スイッチ172のオンオフ状態は、リセット期間と読み出し期間とで変化する。図11のその他の構成は、単位画素10S及びダミー画素10Dの構成を含め、図9の第4構成例と同様である。
図12は、画素アレイ部11の単位画素10Sとダミー画素10D、第5構成例の差動増幅器構成部12、および、カラム信号処理部14の1H期間のタイミングチャートを示している。
図12のタイミングチャートは、第2構成例の図6のタイミングチャートに対応し、時刻t91乃至t101は、それぞれ、図6の時刻t31乃至t41と対応する。図12においても、図6で説明した第2構成例のタイミングチャートと異なる部分に注目して説明する。
リセット期間が開始される時刻t92において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがHiに設定され、単位画素10Sのリセットトランジスタ103と、ダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンする。
また、時刻t92において、Hiの制御信号SWRがスイッチ172に供給され、スイッチ172が定電流源171と列信号線41とを接続する。これにより、定電流源171から所定の電流が信号側の列信号線41に流れる。
次の時刻t93において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがLoに変更され、リセットトランジスタ103と113がオフする。
時刻t93よりも所定時間経過後の時刻t94において、制御信号SWRがHiからLoに変更され、スイッチ172がオフし、定電流源171が列信号線41から切り離される。
その他の時刻(時刻t91、時刻t95ないし時刻t101)の動作は、図6を参照して説明した第2構成例と同様である。
時刻t92から時刻t94の期間中、定電流源171が列信号線41に接続されることにより、列信号線41を介して単位画素10Sの増幅トランジスタ104に流れる電流が、列信号線51を介してダミー画素10Dの増幅トランジスタ114に流れる電流よりも多くなる。これにより、図12に示されるように、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも下側(低電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
<8.差動増幅器構成部の第6構成例>
図13は、差動増幅器構成部12の第6構成例を示す図である。
図13の第6構成例の差動増幅器構成部12は、図9に示した第4構成例と、図11に示した第5構成例の両方の構成を有している。すなわち、第6構成例の差動増幅器構成部12は、定電圧源VbrlとPMOS負荷151のドレインとの間に接続された定電流源171Lおよびスイッチ172Lと、定電圧源VbrrとPMOS負荷152のドレインとの間に接続された定電流源171Rおよびスイッチ172Rの両方を備える。スイッチ172Lは、制御信号SWLに基づいて、定電流源171Lと列信号線51との接続をオンオフする。スイッチ172Rは、制御信号SWRに基づいて、定電流源171Rと列信号線41との接続をオンオフする。スイッチ172Lおよび172Rのオンオフ状態は、リセット期間と読み出し期間とで変化する。図13のその他の構成は、単位画素10S及びダミー画素10Dの構成を含め、第4構成例および第5構成例と同様である。
図14は、画素アレイ部11の単位画素10Sとダミー画素10D、第6構成例の差動増幅器構成部12、および、カラム信号処理部14の1H期間のタイミングチャートを示している。
図14のタイミングチャートは、第3構成例の図8のタイミングチャートに対応し、時刻t111乃至t121は、それぞれ、図8の時刻t51乃至t61と対応する。図14においても、図8で説明した第3構成例のタイミングチャートと異なる部分に注目して説明する。
リセット期間が開始される時刻t112において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがHiに設定され、単位画素10Sのリセットトランジスタ103と、ダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンする。
また、時刻t112において、Hiの制御信号SWLがスイッチ172Lに供給され、スイッチ172Lが定電流源171Lと列信号線51とを接続する。これにより、定電流源171Lから所定の電流が参照側の列信号線51に流れる。
同じ時刻t112において、Loの制御信号SWRがスイッチ172Rに供給され、スイッチ172Rが定電流源171Rを列信号線41から切り離す。これにより、信号側の列信号線41には、それまで定電流源171Rから流れていた電流が流れなくなる。
次の時刻t113において、リセット制御信号RST_S及びRST_DがLoに変更され、リセットトランジスタ103と113がオフする。
時刻t113よりも所定時間経過後の時刻t114において、制御信号SWLがHiからLoに変更され、スイッチ172Lがオフし、定電流源171Lが列信号線51から切り離される。これにより、参照側の列信号線51には、定電流源171Lからの電流が流れなくなる。また、時刻t114において、制御信号SWRがLoからHiに変更され、スイッチ172Rがオンし、定電流源171Rが列信号線41に接続される。これにより、定電流源171Rから所定の電流が信号側の列信号線41に流れる。
その他の時刻(時刻t111、時刻t115ないし時刻t121)の動作は、図4を参照して説明した第1構成例と同様である。
時刻t112から時刻t114の期間中、定電流源171Lが列信号線51に接続されるとともに、定電流源171Rが列信号線41から切り離されることにより、列信号線51を介してダミー画素10Dの増幅トランジスタ114に流れる電流が、列信号線41を介して単位画素10Sの増幅トランジスタ104に流れる電流よりも多くなる。これにより、図14に示されるように、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
なお、第6構成例によれば、参照側と信号側の両方に定電流源171とスイッチ172を備えたことにより、差動増幅器固有の動作点よりも下側(低電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することも可能である。
具体的には、差動増幅器構成部12は、時刻t112から時刻t114の期間中、制御信号SWLをLo、制御信号SWRをHiとして、定電流源171Lを列信号線51から切り離すとともに、定電流源171Rを列信号線41に接続する。これにより、列信号線41を介して単位画素10Sの増幅トランジスタ104に流れる電流が、列信号線51を介してダミー画素10Dの増幅トランジスタ114に流れる電流よりも多くなる。これにより、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも下側(低電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
<9.差動増幅器構成部の第7構成例>
図15は、差動増幅器構成部12の第7構成例を示す図である。
図15の第7構成例の差動増幅器構成部12では、図3に示した第1構成例のリセット専用定電流回路153に代えて、リセット専用PMOSトランジスタ191が設けられている。リセット専用PMOSトランジスタ191のソースは定電圧源Vddに接続され、リセット専用PMOSトランジスタ191のドレインは列信号線51およびPMOS負荷151のドレインに接続されている。リセット専用PMOSトランジスタ191のゲートには、Hiの制御信号Vbphか、または、Loの制御信号Vbplが供給される。
図4のフローチャートを引用して、図15の第7構成例における動作を説明すると、時刻t2から時刻t4の期間において、単位画素10Sのリセットトランジスタ103とダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンすると同時に、リセット専用PMOSトランジスタ191のゲートには、Loの制御信号Vbplが供給され、リセット専用PMOSトランジスタ191がオンして、所定の電流がリセット専用PMOSトランジスタ191から参照側の列信号線51に流れる。それ以外の期間では、リセット専用PMOSトランジスタ191のゲートには、Hiの制御信号Vbphが供給され、リセット専用PMOSトランジスタ191はオフとなるので、リセット専用PMOSトランジスタ191から参照側の列信号線51へは電流が流れない。
これにより、図4に示したように、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
<10.差動増幅器構成部の第8構成例>
図16は、差動増幅器構成部12の第8構成例を示す図である。
図16の第8構成例の差動増幅器構成部12では、図3に示した第1構成例のリセット専用定電流回路153に代えて、直列接続されたスイッチ201と抵抗202が設けられている。スイッチ201の抵抗202側と異なる他端は、定電圧源Vbrlに接続されている。抵抗202のスイッチ201側と異なる他端は、列信号線51およびPMOS負荷151のドレインに接続されている。スイッチ201は、制御信号SWLに基づいて、定電圧源Vbrlと抵抗202との接続をオンオフする。
図4のフローチャートを引用して、図16の第8構成例における動作を説明すると、時刻t2から時刻t4の期間において、単位画素10Sのリセットトランジスタ103とダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンすると同時に、スイッチ201には、Hiの制御信号SWLが供給され、スイッチ201がオンして、所定の電流が抵抗202から参照側の列信号線51に流れる。それ以外の期間では、スイッチ201には、Loの制御信号SWLが供給され、スイッチ201はオフとなるので、抵抗202から参照側の列信号線51へは電流が流れない。
これにより、図4に示したように、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
<11.差動増幅器構成部の第9構成例>
図17は、差動増幅器構成部12の第9構成例を示す図である。
図17の第9構成例の差動増幅器構成部12では、図3に示した第1構成例のリセット専用定電流回路153に代えて、リセット専用PMOSトランジスタ221とスイッチ222が設けられている。
リセット専用PMOSトランジスタ221のソースは定電圧源Vbrlに接続され、リセット専用PMOSトランジスタ221のドレインは、スイッチ222を介して列信号線51およびPMOS負荷151のドレインに接続されている。リセット専用PMOSトランジスタ221のゲートには、リセット専用PMOSトランジスタ221をオンさせるバイアス電圧Vbpが常時供給されている。スイッチ222は、制御信号SWLに基づいて、リセット専用PMOSトランジスタ221のドレインと、列信号線51およびPMOS負荷151のドレインとの接続をオンオフする。
図4のフローチャートを引用して、図17の第9構成例における動作を説明すると、時刻t2から時刻t4の期間において、単位画素10Sのリセットトランジスタ103とダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンすると同時に、スイッチ222には、Hiの制御信号SWLが供給され、スイッチ222がオンして、所定の電流がリセット専用PMOSトランジスタ221から参照側の列信号線51に流れる。それ以外の期間では、スイッチ222には、Loの制御信号SWLが供給され、スイッチ222はオフとなるので、リセット専用PMOSトランジスタ221から参照側の列信号線51へは電流が流れない。
これにより、図4に示したように、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
<12.差動増幅器構成部の第10構成例>
図18は、差動増幅器構成部12の第10構成例を示す図である。
図18の第10構成例の差動増幅器構成部12では、図17に示した第9構成例のリセット専用PMOSトランジスタ221のゲートが、列信号線51並びにPMOS負荷151のドレインおよびゲートとPMOS負荷152のゲートに接続されている。この場合、第9構成例と比較して、リセット専用PMOSトランジスタ221のゲートに印加するバイアス電圧Vbpが不要となる利点がある。
第10構成例の動作は、第9構成例と同様であるので、説明を省略する。
第10構成例においても、第9構成例と同様に、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
<13.差動増幅器構成部の第11構成例>
図19は、差動増幅器構成部12の第11構成例を示す図である。
図19の第11構成例の差動増幅器構成部12では、図3に示した第1構成例のリセット専用定電流回路153が省略され、その代わりに、信号側に、リセット専用NMOSトランジスタ241とスイッチ242が設けられている。
リセット専用NMOSトランジスタ241のドレインは、PMOS負荷152のドレインおよび列信号線41に接続され、リセット専用NMOSトランジスタ241のソースは、スイッチ242を介して低電位Vbrg(例えば、GND)に接続されている。リセット専用NMOSトランジスタ241のゲートには、リセット専用NMOSトランジスタ241をオンさせるバイアス電圧Vbnが常時供給されている。スイッチ242は、制御信号SWRに基づいて、リセット専用NMOSトランジスタ241のソースと低電位Vbrgとの接続をオンオフする。
図4のフローチャートを引用して、図19の第11構成例における動作を説明すると、時刻t2から時刻t4の期間において、単位画素10Sのリセットトランジスタ103とダミー画素10Dのリセットトランジスタ113がオンすると同時に、スイッチ242には、Hiの制御信号SWRが供給され、スイッチ242がオンして、所定の電流が、PMOS負荷152のドレインからリセット専用NMOSトランジスタ241を介して低電位Vbrgに流れる。それ以外の期間では、スイッチ242には、Loの制御信号SWRが供給され、スイッチ242はオフとなるので、リセット専用NMOSトランジスタ241のドレイン-ソース間の電流が流れない。
図15乃至図18に示した第7乃至第10構成例の差動増幅器構成部12は、リセット期間中に、参照側の増幅トランジスタ114に供給される電流を信号側の増幅トランジスタ104よりも増やすことによって、差動増幅器の動作点を、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)に調整した。
これに対して、図19の第11構成例の差動増幅器構成部12は、リセット期間中に、PMOS負荷152に流れる電流の一部をリセット専用NMOSトランジスタ241に引き込み、信号側の増幅トランジスタ104に供給される電流を、参照側の増幅トランジスタ114よりも減らすことによって、差動増幅器の動作点を、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)に調整する。
<14.差動増幅器構成部の第12構成例>
図20は、差動増幅器構成部12の第12構成例を示す図である。
図20の第12構成例の差動増幅器構成部12は、図18に示した第10構成例に、PMOSトランジスタ261および262をカスコード接続で追加した構成を有している。
具体的には、PMOSトランジスタ261のソースが、PMOS負荷151のドレインおよびゲート、リセット専用PMOSトランジスタ221のゲート、スイッチ222のリセット専用PMOSトランジスタ221側と異なる他端と接続されている。PMOSトランジスタ261のドレインが、列信号線51を介して、選択トランジスタ115のドレインと接続されている。
PMOSトランジスタ262のソースが、PMOS負荷152のドレインと接続されている。PMOSトランジスタ262のドレインが、列信号線41および列リセット線42を介して、選択トランジスタ105およびリセットトランジスタ103のドレインと接続されている。
PMOSトランジスタ261および262のゲートには、バイアス電圧Vbp2が印加されている。
<15.差動増幅器構成部の第13構成例>
図21は、差動増幅器構成部12の第13構成例を示す図である。
図21の第13構成例の差動増幅器構成部12は、図20の第12構成例と比較して、スイッチ222のリセット専用PMOSトランジスタ221側と異なる他端の接続先が異なる。
図20の第12構成例では、スイッチ222のリセット専用PMOSトランジスタ221側と異なる他端は、PMOSトランジスタ261のソース側と接続されていたが、図21の第13構成例では、PMOSトランジスタ261のドレイン側と接続されている。その他の構成は、第12構成例と同様である。
<16.差動増幅器構成部の第14構成例>
図22は、差動増幅器構成部12の第14構成例を示す図である。
図22の第14構成例の差動増幅器構成部12は、図18に示した第10構成例に、NMOSトランジスタ271および272をカスコード接続で追加した構成を有している。
具体的には、NMOSトランジスタ271のドレインが、PMOS負荷151のドレインおよびゲート、リセット専用PMOSトランジスタ221のゲート、スイッチ222のリセット専用PMOSトランジスタ221側と異なる他端と接続されている。NMOSトランジスタ271のソースが、列信号線51を介して、選択トランジスタ115のドレインと接続されている。
NMOSトランジスタ272のドレインが、PMOS負荷152のドレインと接続されている。NMOSトランジスタ272のドレインが、列信号線41および列リセット線42を介して、選択トランジスタ105およびリセットトランジスタ103のドレインと接続されている。
NMOSトランジスタ271および272のゲートには、バイアス電圧Vbn2が印加されている。
<17.差動増幅器構成部の第15構成例>
図23は、差動増幅器構成部12の第15構成例を示す図である。
図23の第15構成例の差動増幅器構成部12は、図22の第14構成例と比較して、スイッチ222のリセット専用PMOSトランジスタ221側と異なる他端の接続先が異なる。
図22の第14構成例では、スイッチ222のリセット専用PMOSトランジスタ221側と異なる他端は、NMOSトランジスタ271のドレイン側と接続されていたが、図23の第15構成例では、NMOSトランジスタ271のソース側と接続されている。その他の構成は、第13構成例と同様である。
図20乃至図23に示したカスコード構造を有する第12構成例乃至第15構成例の差動増幅器構成部12においても、図18に示した第10構成例と同様に、列信号線41の電位VSL_Sを、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)にある、差動増幅器の最適な動作点(動作範囲)に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
上述した図15の第7構成例から図23の第15構成例の差動増幅器構成部12は、いずれも、リセット期間中に、参照側の増幅トランジスタ114に供給される電流を、信号側の増幅トランジスタ104に供給される電流よりも増やすことによって、差動増幅器の動作点(動作範囲)を、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)に調整する構成である。
しかしながら、図15の第7構成例から図23の第15構成例(図19の第11構成例を除く)については、電流差分を発生させるリセット専用回路を、例えば上述した図5の第2構成例のように信号側に設け、図19の第11構成例については、電流差分を発生させるリセット専用回路を参照側に設けることによって、リセット期間中に、信号側の増幅トランジスタ104に供給される電流を、参照側の増幅トランジスタ114に供給される電流よりも増やすことによって、差動増幅器の動作点(動作範囲)を、差動増幅器固有の動作点よりも下側(低電位側)に調整する構成も可能である。
また、例えば図7の第3構成例のように、図15の第7構成例から図23の第15構成例のリセット専用回路を、参照側と信号側の両方に設けることによって、差動増幅器の動作点(動作範囲)を、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)および下側(低電位側)の両方に調整可能な構成も勿論可能である。
<18.第2実施の形態に係る固体撮像素子の概略構成>
図24は、本技術を適用した第2実施の形態に係る固体撮像素子の概略構成を示す図である。
図24では、図1に示した第1実施の形態と共通する部分については同一の符号を付してあり、その部分の説明は適宜省略する。
上述した第1実施の形態では、画素アレイ部11の有効画素領域内の単位画素10Sと有効画素領域外のダミー画素10Dとで、差動増幅器の差動対が構成された。
第2実施の形態では、画素アレイ部11の有効画素領域内の単位画素10Sの、奇数行に配置された単位画素10S(以下、奇数行画素10S_Oと称する。)と、偶数行に配置された単位画素10S(以下、偶数行画素10S_Eと称する。)とで、差動増幅器の差動対が構成される。
画素アレイ部11には、奇数行画素10S_Oと偶数行画素10S_Eが垂直方向に交互に配置されている。図24において、奇数行画素10S_Oと接続されている列信号線41および列リセット線42は、列信号線41_Oおよび列リセット線42_Oで表され、偶数行画素10S_Eと接続されている列信号線41および列リセット線42は、列信号線41_Eおよび列リセット線42_Eで表されている。
なお、図24では、有効画素領域外に配置されているダミー画素10Dの図示は省略されている。
第2実施の形態の固体撮像素子1には、信号切替部301が新たに追加されている。信号切替部301は、差動増幅器構成部12の差動対の信号側の画素が奇数行画素10S_Oである場合と偶数行画素10S_Eである場合とで、画素信号の出力先を切り替える。奇数行画素10S_Oが差動対の信号側の画素である場合には、偶数行画素10S_Eが差動対の参照側の画素となる。一方、偶数行画素10S_Eが差動対の信号側の画素である場合には、奇数行画素10S_Oが差動対の参照側の画素となる。差動対を構成する奇数行画素10S_Oと偶数行画素10S_Eは、必ずしも隣り合う画素行の単位画素10Sである必要はないが、差動対を構成する画素どうしの距離が短い方が素子バラツキの相関が高くなるため、隣り合う画素行の奇数行画素10S_Oと偶数行画素10S_Eとで差動対を構成すると、特性バラツキを小さくすることができる。
<19.信号切替部の構成例>
図25は、信号切替部301の詳細構成を、差動増幅器構成部12、奇数行画素10S_O、および偶数行画素10S_Eの詳細とともに示す図である。
図25において、差動増幅器構成部12としては、図3に示した第1構成例の差動増幅器構成部12が採用されている。奇数行画素10S_Oと偶数行画素10S_Eは、いずれも、図3に示した単位画素10Sと同じ構成である。
信号切替部301は、A端子とB端子とを切り替えるスイッチ311乃至314を有する。スイッチ311は、偶数行画素10S_Eの列信号線41_Eを差動増幅器構成部12の信号側かまたは参照側のどちらに接続するかを切り替える。スイッチ312は、奇数行画素10S_Oの列信号線41_Oを差動増幅器構成部12の信号側かまたは参照側のどちらに接続するかを切り替える。スイッチ313は、偶数行画素10S_Eのリセットトランジスタ103の接続先を、リセット電圧VrstかまたはPMOS負荷152のドレインのいずれかに切り替える。スイッチ314は、奇数行画素10S_Oのリセットトランジスタ103の接続先を、リセット電圧VrstかまたはPMOS負荷152のドレインのいずれかに切り替える。
図25の例は、スイッチ311乃至314がいずれもA端子を選択した状態を示している。この場合、奇数行画素10S_Oが、差動対の信号側となり、図3における単位画素10Sと同じ動作をし、偶数行画素10S_Eが、差動対の参照側となり、図3におけるダミー画素10Dと同じ動作をする。
参照側となる偶数行画素10S_Eのリセット制御信号RST_S、転送制御信号TRG_S、および選択制御信号SEL_Sは、図4のリセット制御信号RST_D、転送制御信号TRG_D、選択制御信号SEL_Dと同じ制御となり、信号側の奇数行画素10S_Oのリセット制御信号RST_S、転送制御信号TRG_S、および選択制御信号SEL_Sは、図4のリセット制御信号RST_S、転送制御信号TRG_S、および選択制御信号SEL_Sと同じ制御となる。
反対に、スイッチ311乃至314がいずれもB端子を選択した場合には、偶数行画素10S_Eが、差動対の信号側となり、図3における単位画素10Sと同じ動作をし、奇数行画素10S_Oが、差動対の参照側となり、図3におけるダミー画素10Dと同じ動作をする。
信号切替部301は、スイッチ311乃至314のA端子とB端子を、例えば、行単位に切り替える。
以上の第2実施の形態の固体撮像素子1においても、差動増幅器固有の動作点を、差動増幅器固有の動作点よりも上側(高電位側)に調整することができ、最適な動作範囲に調整することができる。その結果、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。
なお、上述した第2実施の形態では、差動増幅器構成部12の構成として、図3に示した第1構成例の差動増幅器構成部12を採用した例で説明したが、第2構成例乃至第15構成例や、不図示のその他の構成を採用できることは言うまでもない。
<20.まとめ>
本技術を適用した固体撮像素子1は、第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部11と、第1及び第2の単位画素の増幅トランジスタおよび選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部12とを備える。第1実施の形態の固体撮像素子1では、第1の単位画素は単位画素10Sであり、第2の単位画素はダミー画素10Dである。第2実施の形態の固体撮像素子1では、第1の単位画素は奇数行画素10S_Oであり、第2の単位画素は偶数行画素10S_Eである。
差動増幅器構成部12は、FDの信号電荷をリセットするリセット期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させるリセット専用回路を有する。リセット専用回路は、第1乃至第3構成例ではリセット専用定電流回路153(153L,153R)であり、第4乃至第6構成例では定電流源171とスイッチ172であり、第7構成例ではリセット専用PMOSトランジスタ191であり、第8構成例ではスイッチ201と抵抗202であり、第9および第10構成例ではリセット専用PMOSトランジスタ221とスイッチ222であり、第11構成例ではリセット専用NMOSトランジスタ241とスイッチ242である。これらのリセット専用回路は、差動増幅器構成部12の差動対の信号側または参照側のPMOSトランジスタ(151,152)のドレインノード若しくはNMOSトランジスタ(271,272)のソースノードと、任意電圧(Vbrl,Vbrr,Vdd,Vbrg,Vdd)のノードとの間に配置されている。
このリセット専用回路が、リセット期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させ、読み出し期間では、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流が同じになるように制御することで、差動増幅器の動作点を最適な動作点に調整することができる。
なお、このリセット専用回路の制御は逆にしてもよい。すなわち、リセット専用回路が、リセット期間中は、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流を同じにして、読み出し期間では、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させるように制御した場合でも、差動増幅器の動作点を最適な動作点に調整することができる。例えば、差動対の信号側と参照側のトランジスタサイズ(例えば、Wサイズ)を異なるサイズとして、リセット専用回路がオン(リセット期間中)のとき差動対の信号側と参照側のそれぞれに同じ電流が流れるようにして、オフのとき差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させることができる。
従って、固体撮像素子1は、上述したリセット専用回路のように、リセット期間または読み出し期間に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる電流発生回路を備えることにより、差動増幅器の動作点を最適な動作点に調整することができる。
<21.電子機器への適用例>
本技術は、固体撮像素子への適用に限られるものではない。即ち、本技術は、デジタルスチルカメラやビデオカメラ等の撮像装置や、撮像機能を有する携帯端末装置や、画像読取部に固体撮像素子を用いる複写機など、画像取込部(光電変換部)に固体撮像素子を用いる電子機器全般に対して適用可能である。固体撮像素子は、ワンチップとして形成された形態であってもよいし、撮像部と信号処理部または光学系とがまとめてパッケージングされた撮像機能を有するモジュール状の形態であってもよい。
図26は、本技術を適用した電子機器としての、撮像装置の構成例を示すブロック図である。
図26の撮像装置400は、レンズ群などからなる光学部401、図1または図24の固体撮像素子1の構成が採用される固体撮像素子(撮像デバイス)402、およびカメラ信号処理回路であるDSP(Digital Signal Processor)回路403を備える。また、撮像装置400は、フレームメモリ404、表示部405、記録部406、操作部407、および電源部408も備える。DSP回路403、フレームメモリ404、表示部405、記録部406、操作部407および電源部408は、バスライン409を介して相互に接続されている。
光学部401は、被写体からの入射光(像光)を取り込んで固体撮像素子402の撮像面上に結像する。固体撮像素子402は、光学部401によって撮像面上に結像された入射光の光量を画素単位で電気信号に変換して画素信号として出力する。この固体撮像素子402として、図1または図24の固体撮像素子1、即ち、差動増幅器の動作点(動作範囲)を、差動増幅器固有の動作点から最適な動作点に調整することができる固体撮像素子を用いることができる。
表示部405は、例えば、LCD(Liquid Crystal Display)や有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイ等の薄型ディスプレイで構成され、固体撮像素子402で撮像された動画または静止画を表示する。記録部406は、固体撮像素子402で撮像された動画または静止画を、ハードディスクや半導体メモリ等の記録媒体に記録する。
操作部407は、ユーザによる操作の下に、撮像装置400が持つ様々な機能について操作指令を発する。電源部408は、DSP回路403、フレームメモリ404、表示部405、記録部406および操作部407の動作電源となる各種の電源を、これら供給対象に対して適宜供給する。
上述したように、固体撮像素子402として、上述した各実施の形態を適用した固体撮像素子1を用いることで、増幅トランジスタ104の変換効率を向上させ、リニアリティを改善することができる。従って、ビデオカメラやデジタルスチルカメラ、さらには携帯電話機等のモバイル機器向けカメラモジュールなどの撮像装置400においても、撮像画像の高画質化を図ることができる。
<イメージセンサの使用例>
図27は、上述の固体撮像素子1としてのイメージセンサの使用例を示す図である。
上述の固体撮像素子1の構成を有するイメージセンサは、例えば、以下のように、可視光や、赤外光、紫外光、X線等の光をセンシングする様々なケースに使用することができる。
・ディジタルカメラや、カメラ機能付きの携帯機器等の、鑑賞の用に供される画像を撮影する装置
・自動停止等の安全運転や、運転者の状態の認識等のために、自動車の前方や後方、周囲、車内等を撮影する車載用センサ、走行車両や道路を監視する監視カメラ、車両間等の測距を行う測距センサ等の、交通の用に供される装置
・ユーザのジェスチャを撮影して、そのジェスチャに従った機器操作を行うために、TVや、冷蔵庫、エアーコンディショナ等の家電に供される装置
・内視鏡や、赤外光の受光による血管撮影を行う装置等の、医療やヘルスケアの用に供される装置
・防犯用途の監視カメラや、人物認証用途のカメラ等の、セキュリティの用に供される装置
・肌を撮影する肌測定器や、頭皮を撮影するマイクロスコープ等の、美容の用に供される装置
・スポーツ用途等向けのアクションカメラやウェアラブルカメラ等の、スポーツの用に供される装置
・畑や作物の状態を監視するためのカメラ等の、農業の用に供される装置
また、本技術は、可視光の入射光量の分布を検知して画像として撮像する固体撮像素子への適用に限らず、赤外線やX線、あるいは粒子等の入射量の分布を画像として撮像する固体撮像素子や、広義の意味として、圧力や静電容量など、他の物理量の分布を検知して画像として撮像する指紋検出センサ等の固体撮像素子(物理量分布検知装置)全般に対して適用可能である。
また、本技術は、固体撮像素子に限らず、他の半導体集積回路を有する半導体装置全般に対して適用可能である。
本技術の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本技術の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。
例えば、画素アレイ部11の画素構成として、転送トランジスタとFDとの間に、PDで生成された電荷を一時的に保持する電荷保持部をさらに有し、全画素で同時に露光を行うグローバルシャッタ動作可能な画素構成を採用することもできる。また、隣接する複数画素でFDを共有するFD共有型の画素構成なども採用可能である。
例えば、上述した各回路構成において、トランジスタの極性(NMOSトランジスタとPMOSトランジスタ)を入れ替えた回路構成でも実現可能である。その場合、トランジスタに入力される制御信号は、HiとLoが反対の信号となる。
上述した各実施の形態では、参照信号が時間経過に応じてレベル(電圧)が単調増加するスロープ信号であるとして説明したが、参照信号は、時間経過に応じてレベル(電圧)が単調減少するスロープ信号とすることもできる。
例えば、上述した複数の実施の形態の全てまたは一部を組み合わせた形態を採用することができる。
なお、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、本明細書に記載されたもの以外の効果があってもよい。
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
(1)
画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部と、
前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部と
を備え、
前記差動増幅器構成部は、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる電流発生回路を有する
固体撮像素子。
(2)
前記電流発生回路は、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間中に、前記差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる
前記(1)に記載の固体撮像素子。
(3)
前記電流発生回路は、前記差動対の信号側または参照側に所定の電流を出力する
前記(1)または(2)に記載の固体撮像素子。
(4)
前記電流発生回路は、前記差動対の信号側または参照側から所定の電流を引き込む
前記(1)乃至(3)のいずれかに記載の固体撮像素子。
(5)
前記電流発生回路には、前記リセット期間と、前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間とで異なる電流が流れる
前記(1)乃至(4)のいずれかに記載の固体撮像素子。
(6)
前記電流発生回路は、スイッチを有し、スイッチのオンオフ状態が、前記リセット期間と、前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間とで変化する
前記(1)乃至(5)のいずれかに記載の固体撮像素子。
(7)
前記電流発生回路は、抵抗を有する
前記(6)に記載の固体撮像素子。
(8)
前記電流発生回路は、一定のバイアス電圧がゲートに印加されるトランジスタを有する
前記(6)に記載の固体撮像素子。
(9)
前記電流発生回路は、トランジスタを有し、そのトランジスタのゲートは、前記差動対の信号側または参照側のPMOSトランジスタのドレインと接続されている
前記(6)に記載の固体撮像素子。
(10)
前記電流発生回路は、トランジスタを有し、そのゲートに印加される電圧が、前記リセット期間と、前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間とで変化する
前記(1)乃至(5)のいずれかに記載の固体撮像素子。
(11)
前記差動増幅器はカスコード構造を有する
前記(1)乃至(10)のいずれかに記載の固体撮像素子。
(12)
前記第1の単位画素は、有効画素領域内に配置された画素であり、
前記第2の単位画素は、有効画素領域外に配置された画素である
前記(1)乃至(11)のいずれかに記載の固体撮像素子。
(13)
前記第1の単位画素は、有効画素領域内の奇数行に配置された画素であり、
前記第2の単位画素は、有効画素領域内の偶数行に配置された画素である
前記(1)乃至(11)のいずれかに記載の固体撮像素子。
(14)
前記第1の単位画素と前記第2の単位画素の画素信号の出力先を、前記差動対の信号側または参照側に切り替える信号切替部をさらに有する
前記(13)に記載の固体撮像素子。
(15)
前記差動増幅器構成部は、前記電流発生回路を前記差動対の信号側と参照側の両方に有する
前記(1)乃至(14)のいずれかに記載の固体撮像素子。
(16)
前記電流発生回路は、前記差動増幅器構成部の差動対の信号側または参照側のPMOSトランジスタのドレインノード若しくはNMOSトランジスタのソースノードと、任意電圧のノードとの間に配置されている
前記(1)乃至(15)のいずれかに記載の固体撮像素子。
(17)
画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部と、前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部とを備える固体撮像素子の、
前記差動増幅器構成部の電流発生回路が、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる
固体撮像素子の制御方法。
(18)
画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部と、
前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部と
を備え、
前記差動増幅器構成部は、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる電流発生回路を有する
固体撮像素子
を備える電子機器。
1 固体撮像素子, 10D ダミー画素, 10S 単位画素, 10S_E 偶数行画素, 10S_O 奇数行画素, 11 画素アレイ部, 12 差動増幅器構成部, 101 PD, 102 転送トランジスタ, 103 リセットトランジスタ, 104 増幅トランジスタ, 105 選択トランジスタ, 106 FD, 111 PD, 112 転送トランジスタ, 113 リセットトランジスタ, 114 増幅トランジスタ, 115 選択トランジスタ, 116 FD, 151,152 PMOS負荷, 153(153L, 153R) リセット専用定電流回路, 171(171L,171R) 定電流源, 172(172L,172R) スイッチ, 191 リセット専用PMOSトランジスタ, 201 スイッチ, 202 抵抗, 221 リセット専用PMOSトランジスタ, 222 スイッチ, 241 リセット専用NMOSトランジスタ, 242 スイッチ, 261,262 PMOSトランジスタ, 271,272 NMOSトランジスタ, 301 信号切替部, 311乃至314 スイッチ, 400 撮像装置, 402 固体撮像素子

Claims (18)

  1. 画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部と、
    前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部と
    を備え、
    前記差動増幅器構成部は、
    前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間または前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間のいずれか一方の期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる電流発生回路と、
    前記第1及び第2の単位画素に接続された電流源と
    を有する
    固体撮像素子。
  2. 前記電流発生回路は、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間中に、前記差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  3. 前記電流発生回路は、前記差動対の信号側または参照側に所定の電流を出力する
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  4. 前記電流発生回路は、前記差動対の信号側または参照側から所定の電流を引き込む
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  5. 前記電流発生回路には、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間と、前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間とで異なる電流が流れる
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  6. 前記電流発生回路は、スイッチを有し、前記スイッチのオンオフ状態が、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間と、前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間とで変化する
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  7. 前記電流発生回路は、抵抗を有する
    請求項6に記載の固体撮像素子。
  8. 前記電流発生回路は、一定のバイアス電圧がゲートに印加されるトランジスタを有する
    請求項6に記載の固体撮像素子。
  9. 前記電流発生回路は、ソースが定電圧源に接続され、ゲートが前記差動対の信号側または参照側のPMOSトランジスタのドレインと接続されているトランジスタを有し、前記スイッチのオンオフ状態に応じて、前記トランジスタから前記差動対の信号側または参照側に所定の電流を出力する
    請求項6に記載の固体撮像素子。
  10. 前記電流発生回路は、トランジスタを有し、そのゲートに印加される電圧が、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間と、前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間とで変化する
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  11. 前記差動増幅器はカスコード構造を有する
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  12. 前記第1の単位画素は、有効画素領域内に配置された画素であり、
    前記第2の単位画素は、有効画素領域外に配置された画素である
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  13. 前記第1の単位画素は、有効画素領域内の奇数行に配置された画素であり、
    前記第2の単位画素は、有効画素領域内の偶数行に配置された画素である
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  14. 前記第1の単位画素と前記第2の単位画素の画素信号の出力先を、前記差動対の信号側または参照側に切り替える信号切替部をさらに有する
    請求項13に記載の固体撮像素子。
  15. 前記差動増幅器構成部は、前記電流発生回路を前記差動対の信号側と参照側の両方に有する
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  16. 前記電流発生回路は、前記差動増幅器構成部の差動対の信号側または参照側のPMOSトランジスタのドレインノード若しくはNMOSトランジスタのソースノードと、任意電圧のノードとの間に配置されている
    請求項1に記載の固体撮像素子。
  17. 画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部と、前記第1及び第2の単位画素に接続された電流源と、電流発生回路とを含み、前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部とを備える固体撮像素子の、
    前記差動増幅器構成部の前記電流発生回路が、前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間または前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間のいずれか一方の期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる
    固体撮像素子の制御方法。
  18. 画素に入射された光を光電変換する光電変換素子と、前記光電変換素子で光電変換された信号電荷をFDに転送する転送トランジスタと、前記FDの信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、前記FDで保持された信号電荷を電圧信号に変換して出力する増幅トランジスタと、前記画素の選択を制御する選択トランジスタとをそれぞれ含む第1及び第2の単位画素が配置された画素アレイ部と、
    前記第1及び第2の単位画素の前記増幅トランジスタおよび前記選択トランジスタとともに差動増幅器を構成する差動増幅器構成部と
    を備え、
    前記差動増幅器構成部は、
    前記FDの信号電荷をリセットするリセット期間または前記FDで電圧に変換された信号を読み出す読み出し期間のいずれか一方の期間中に、差動対の信号側と参照側のそれぞれに流れる電流に差分を発生させる電流発生回路と、
    前記第1及び第2の単位画素に接続された電流源と
    を有する
    固体撮像素子
    を備える電子機器。
JP2016209290A 2016-10-26 2016-10-26 固体撮像素子およびその制御方法、並びに電子機器 Active JP6991704B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016209290A JP6991704B2 (ja) 2016-10-26 2016-10-26 固体撮像素子およびその制御方法、並びに電子機器
EP17794436.0A EP3533220B1 (en) 2016-10-26 2017-10-17 Solid-state imaging device, control method thereof, and electronic apparatus
CN201780065000.1A CN109845243B (zh) 2016-10-26 2017-10-17 成像器件
US16/340,925 US10887538B2 (en) 2016-10-26 2017-10-17 Solid-state imaging device, control method thereof, and electronic apparatus
CN202111516677.7A CN114390223A (zh) 2016-10-26 2017-10-17 光检测器件和成像器件
PCT/JP2017/037475 WO2018079330A1 (en) 2016-10-26 2017-10-17 Solid-state imaging device, control method thereof, and electronic apparatus
US17/116,459 US11228726B2 (en) 2016-10-26 2020-12-09 Solid-state imaging device, control method thereof, and electronic apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016209290A JP6991704B2 (ja) 2016-10-26 2016-10-26 固体撮像素子およびその制御方法、並びに電子機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018074268A JP2018074268A (ja) 2018-05-10
JP6991704B2 true JP6991704B2 (ja) 2022-01-12

Family

ID=60262972

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016209290A Active JP6991704B2 (ja) 2016-10-26 2016-10-26 固体撮像素子およびその制御方法、並びに電子機器

Country Status (5)

Country Link
US (2) US10887538B2 (ja)
EP (1) EP3533220B1 (ja)
JP (1) JP6991704B2 (ja)
CN (2) CN114390223A (ja)
WO (1) WO2018079330A1 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11553148B2 (en) * 2018-04-04 2023-01-10 Sony Semiconductor Solutions Corporation Solid-state imaging device
JP2021182657A (ja) * 2018-08-24 2021-11-25 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像装置及び電子機器
JP2020031402A (ja) * 2018-08-24 2020-02-27 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像装置及び電子機器
JP2022002350A (ja) * 2018-09-19 2022-01-06 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像装置及び電子機器
JP7329963B2 (ja) * 2019-05-17 2023-08-21 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像装置及び電子機器
CN110210421B (zh) 2019-06-05 2021-08-06 京东方科技集团股份有限公司 一种成像背板及其驱动方法、指纹识别面板
JP7255419B2 (ja) * 2019-08-21 2023-04-11 富士通株式会社 半導体集積回路、赤外線センサ、及び赤外線撮像装置
CN110809883B (zh) * 2019-09-25 2021-12-21 深圳市汇顶科技股份有限公司 电子装置、图像传感器及其像素阵列和操作方法
JPWO2021166913A1 (ja) * 2020-02-20 2021-08-26
TWI773328B (zh) * 2020-05-21 2022-08-01 聯詠科技股份有限公司 光學指紋感測裝置以及光學指紋感測方法
TW202231054A (zh) * 2021-01-14 2022-08-01 日商索尼半導體解決方案公司 攝像裝置及電子機器
JP2022135738A (ja) * 2021-03-05 2022-09-15 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 撮像装置、その駆動方法、および電子機器
KR20230162442A (ko) * 2022-05-20 2023-11-28 에스케이하이닉스 주식회사 이미지 센서 및 그 동작 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10006525A1 (de) 2000-02-15 2001-10-04 Micronas Munich Gmbh Belichtungssensorzelle
US20120049047A1 (en) 2010-09-01 2012-03-01 Himax Imaging, Inc. Sensing Devices

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6344877B1 (en) * 1997-06-12 2002-02-05 International Business Machines Corporation Image sensor with dummy pixel or dummy pixel array
USRE38499E1 (en) * 1997-07-21 2004-04-20 Foveon, Inc. Two-stage amplifier for active pixel sensor cell array for reducing fixed pattern noise in the array output
US5917547A (en) * 1997-07-21 1999-06-29 Foveonics, Inc. Two-stage amplifier for active pixel sensor cell array for reducing fixed pattern noise in the array output
EP1301028A1 (en) * 2001-10-05 2003-04-09 STMicroelectronics Limited Improvements in or relating to CMOS Image sensors
JP4252247B2 (ja) 2002-02-28 2009-04-08 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 感度を上げることができるcmosイメージセンサ
US7375748B2 (en) * 2002-08-29 2008-05-20 Micron Technology, Inc. Differential readout from pixels in CMOS sensor
JP4935486B2 (ja) * 2007-04-23 2012-05-23 ソニー株式会社 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、固体撮像装置の信号処理方法および撮像装置
KR101445661B1 (ko) * 2008-01-24 2014-11-03 삼성전자주식회사 피모스 트랜지스터를 사용하는 씨모스 이미지 센서
JP5521745B2 (ja) * 2010-04-28 2014-06-18 ソニー株式会社 固体撮像素子およびその駆動方法、並びにカメラシステム
JP2011239068A (ja) * 2010-05-07 2011-11-24 Toshiba Corp 固体撮像装置
JP2013045878A (ja) * 2011-08-24 2013-03-04 Sony Corp 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法、電子機器
JP5880478B2 (ja) * 2013-03-29 2016-03-09 ソニー株式会社 コンパレータ、固体撮像素子、電子機器、および、駆動方法
WO2015111398A1 (ja) * 2014-01-21 2015-07-30 パナソニックIpマネジメント株式会社 固体撮像装置
JP2016201649A (ja) * 2015-04-09 2016-12-01 キヤノン株式会社 撮像装置、撮像システム、および撮像装置の駆動方法
CN113382188A (zh) * 2016-04-15 2021-09-10 索尼公司 光检测装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10006525A1 (de) 2000-02-15 2001-10-04 Micronas Munich Gmbh Belichtungssensorzelle
US20120049047A1 (en) 2010-09-01 2012-03-01 Himax Imaging, Inc. Sensing Devices

Also Published As

Publication number Publication date
US11228726B2 (en) 2022-01-18
CN109845243A (zh) 2019-06-04
EP3533220A1 (en) 2019-09-04
EP3533220B1 (en) 2022-08-24
JP2018074268A (ja) 2018-05-10
US20190289240A1 (en) 2019-09-19
US20210092317A1 (en) 2021-03-25
CN109845243B (zh) 2021-12-14
US10887538B2 (en) 2021-01-05
WO2018079330A1 (en) 2018-05-03
CN114390223A (zh) 2022-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6991704B2 (ja) 固体撮像素子およびその制御方法、並びに電子機器
JP6809462B2 (ja) 固体撮像装置およびその制御方法、並びに電子機器
WO2016147885A1 (ja) 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、及び、電子機器
JP6754157B2 (ja) 撮像装置
JP6838675B2 (ja) 固体撮像装置および電子機器
WO2017018188A1 (ja) イメージセンサ、及び、電子機器
JP6694605B2 (ja) 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、及び、電子機器
JP6760080B2 (ja) 固体撮像装置および電子機器
JP7386799B2 (ja) 固体撮像素子及び電子機器
US10531028B2 (en) Solid-state imaging device, method of driving solid-state imaging device, and electronic device
US11153518B2 (en) Solid-state imaging element and imaging apparatus
WO2016158484A1 (ja) 固体撮像装置および電子機器
JP6789925B2 (ja) 固体撮像素子、撮像装置、並びに電子機器
JP2017175345A (ja) 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、及び、電子機器
JP6821590B2 (ja) 撮像素子、撮像方法、および電子機器
JP6954268B2 (ja) 固体撮像装置、信号処理方法、および電子機器
JP6740230B2 (ja) 固体撮像装置および電子機器
JPWO2017014070A1 (ja) 撮像素子、及び、電子機器
WO2023085138A1 (ja) 固体撮像装置およびその駆動方法、並びに電子機器
JP2018061116A (ja) 撮像装置、撮像装置の制御方法、プログラム、および、記憶媒体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190926

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210518

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210706

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211109

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211208

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6991704

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150