WO2017018188A1 - イメージセンサ、及び、電子機器 - Google Patents

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WO2017018188A1
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高橋 知宏
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ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/50Control of the SSIS exposure
    • H04N25/53Control of the integration time
    • H04N25/533Control of the integration time by using differing integration times for different sensor regions
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/70Circuitry for compensating brightness variation in the scene
    • H04N23/73Circuitry for compensating brightness variation in the scene by influencing the exposure time
    • HELECTRICITY
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    • H04N25/50Control of the SSIS exposure
    • H04N25/53Control of the integration time
    • HELECTRICITY
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    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
    • HELECTRICITY
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    • H04N25/772Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising A/D, V/T, V/F, I/T or I/F converters
    • HELECTRICITY
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    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/79Arrangements of circuitry being divided between different or multiple substrates, chips or circuit boards, e.g. stacked image sensors

Definitions

  • the present technology relates to an image sensor and an electronic device, and more particularly, to an image sensor and an electronic device that can perform shooting with different exposure times for each pixel block including a plurality of pixels, for example. .
  • the present technology has been made in view of such a situation, and enables photographing with different exposure times for each pixel block including a plurality of pixels.
  • An image sensor or an electronic apparatus includes: a pixel array unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in an array; and a plurality of pixel blocks each including two or more pixels in the pixel array unit.
  • a plurality of selection units having the same number as the plurality of pixel blocks, which selects supply of an exposure control signal for controlling an exposure time of the pixels to the pixel block, and the plurality of selection units are arranged in an array.
  • the exposure time of the pixel is set for each of a plurality of pixel blocks including two or more pixels of a pixel array unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in an array.
  • a plurality of selection units having the same number as the plurality of pixel blocks, which select supply of exposure control signals to be controlled to the pixel blocks, are arranged in an array.
  • Another image sensor or electronic device may include a pixel array unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in an array and a plurality of pixel blocks each including two or more pixels in the pixel array unit.
  • a plurality of exposure control signals to be supplied to the pixel block are selected from among a plurality of exposure control signals corresponding to the plurality of exposure times, which control the exposure time of the pixels;
  • the plurality of selection units are image sensors arranged in an array or an electronic device including such an image sensor.
  • the pixel exposure is performed for each of a plurality of pixel blocks including two or more pixels of a pixel array unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in an array.
  • a plurality of selection units that select an exposure control signal to be supplied to the pixel block from a plurality of exposure control signals corresponding to a plurality of exposure times for controlling time, They are arranged in an array.
  • the image sensor may be an independent device or an internal block constituting one device.
  • FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a pixel 12.
  • FIG. 6 is a circuit diagram illustrating another configuration example of the pixel 12.
  • FIG. It is a figure explaining the outline
  • FIG. 3 is a diagram illustrating a first detailed configuration example of a circuit board 20.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating a second detailed configuration example of the circuit board 20. It is a figure which shows the usage example which uses an image sensor. It is a block diagram which shows the structural example of one Embodiment of the digital camera which is one of the electronic devices to which an image sensor is applied.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of an embodiment of an image sensor to which the present technology is applied.
  • the image sensor is a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor, for example, and has a two-layer structure.
  • CMOS Complementary Metal Oxide Semiconductor
  • the image sensor is configured by laminating a pixel array substrate 10 that is a semiconductor substrate and a circuit substrate 20 that is a semiconductor substrate different from the pixel array substrate 10.
  • pixel array substrate pixel array unit 10
  • a plurality of pixels 12 that perform photoelectric conversion and output pixel signals are arranged in an array, for example.
  • a pixel signal obtained as a result of photoelectric conversion at each pixel 12 of the pixel array substrate 10 is output to the circuit substrate 20.
  • the plurality of pixels 12 constituting the pixel array substrate 10 are divided into pixel blocks 11 including two or more pixels 12. That is, the pixel array substrate 10 is divided into M ⁇ N pixel blocks 11 in the horizontal and vertical directions (M and N are 1 or an integer of 2 or more).
  • the pixel block 11 can be composed of a plurality of pixels 12 with horizontal ⁇ vertical 2 ⁇ 2 pixels or more.
  • the same number of signal processing units 21 as the pixel blocks 11, that is, M ⁇ N signal processing units 21 are arranged in an array.
  • the signal processing unit 21 is an ADC 22 that performs AD conversion of a pixel signal as an electrical signal output from the pixel 12 of the pixel block 11 of the pixel array substrate 10, and signal processing that performs various signal processing such as black level correction and development.
  • a circuit (not shown).
  • the signal processing unit 21 supplies a selection circuit 50 or 70 (not shown in FIG. 1), which will be described later, which supplies various signals for driving the pixels 12 to the pixels 12 of the pixel block 11 of the pixel array substrate 10.
  • a selection circuit 50 or 70 not shown in FIG. 1
  • one signal processing unit 21 has the same size as one pixel block 11 and is disposed at a position facing one pixel block 11.
  • the signal processing unit 21 is in charge of the signal processing of the pixel signal output from the pixel 12 constituting the pixel block 11 located at the position facing the signal processing unit 21.
  • a set of pixels 12 in which one signal processing unit 21 is in charge of signal processing constitutes one pixel block 11. Further, when the signal processing unit 21 refers to the pixel block 11 as a set of pixels 12 in charge of signal processing and the like as the pixel block 11 corresponding to the signal processing unit 21, the signal processing unit 21 in the circuit board 20 is described. Can be said to be arranged at positions facing the corresponding pixel block 11.
  • the signal processing unit 21 is connected to the pixel block 11 corresponding to the signal processing unit 21 (at a position facing the signal processing unit 21) by a signal line 23.
  • the pixel signal output from the pixel 12 of the pixel block 11 is supplied to the signal processing unit 21 corresponding to the pixel block 11 via the signal line 23.
  • the ADC 22 included in the signal processing unit 21 is in charge of AD conversion of the pixel signal supplied from the pixel 12 of the corresponding pixel block 11 via the signal line 23.
  • AD conversion architecture is called an area ADC (AD Conversion) architecture.
  • AD conversion of pixel signals can be performed in parallel by a number equal to the number M ⁇ N of the signal processing units 21. The same applies to signal processing other than AD conversion.
  • the signal processing unit 21 can be configured to include a memory that stores pixel data obtained by AD conversion in the ADC 22.
  • the memory constituting the signal processing unit 21 is provided on another substrate different from the circuit substrate 20, and the image sensor has a three-layer structure in which the pixel array substrate 10, the circuit substrate 20, and another substrate are stacked. It can also be configured.
  • the pixel array substrate 10 and the circuit substrate 20 are stacked.
  • the image sensor includes a signal processing unit 21 on the circuit substrate 20 on the pixel array substrate 10 and one layer. Can be structured into a structure.
  • the area ADC architecture is adopted as the AD conversion architecture.
  • the AD conversion architecture for example, a column parallel ADC that simultaneously performs AD conversion of pixel signals of one line of pixels.
  • An architecture or the like can be adopted.
  • the method of providing the signal processing unit 21 (whether it is stacked with the pixel array substrate 10 or the like) and the AD conversion architecture are not particularly limited.
  • the exposure time is set for each pixel block 11 as described later. You can shoot with different
  • FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a configuration example of the pixel 12.
  • the pixel 12 includes a PD (Photo Diode) 31 and four NMOS (negative Channel MOS) FETs (Field Effect Transistors) 32, 33, 34, and 35.
  • PD Photo Diode
  • NMOS negative Channel MOS
  • FETs Field Effect Transistors
  • the drain of the FET 32, the source of the FET 33, and the gate of the FET 34 are connected, and an FD (Floating) Diffusion) (capacitance) 36 for converting charges into voltage is formed at the connection point.
  • FD Floating
  • Diffusion capacitor
  • PD 31 is an example of a photoelectric conversion element that performs photoelectric conversion, and performs photoelectric conversion by receiving incident light and charging a charge corresponding to the incident light.
  • the anode of the PD 31 is connected to the ground (grounded), and the cathode of the PD 31 is connected to the source of the FET 32.
  • the FET 32 is an FET for transferring the charge charged in the PD 31 from the PD 31 to the FD 36, and is also referred to as a transfer Tr 32 hereinafter.
  • the source of the transfer Tr 32 is connected to the cathode of the PD 31, and the drain of the transfer Tr 32 is connected to the FD 36.
  • One transfer pulse TRG of a control signal for driving (controlling) the pixel 12 is supplied to the gate of the transfer Tr 32.
  • control signals for driving the pixels 12 include a transfer pulse TRG, a reset pulse RST and a selection pulse SEL, which will be described later.
  • the FET 33 is an FET for resetting the electric charge (voltage (potential)) charged in the FD 36, and is also referred to as a reset Tr 33 hereinafter.
  • the drain of reset Tr33 is connected to power supply Vdd.
  • the reset pulse RST is supplied to the gate of the reset Tr33.
  • the FET 34 is an FET for amplifying (buffering) the voltage of the FD 36, and hereinafter also referred to as an amplifying Tr 34.
  • the gate of the amplifying Tr 34 is connected to the FD 36, and the drain of the amplifying Tr 34 is connected to the power source Vdd. Further, the source of the amplification Tr 34 is connected to the drain of the FET 35.
  • the FET 35 is an FET for selecting an output of a pixel signal (electric signal) to the signal line 23, and is hereinafter also referred to as a selection Tr 35.
  • the source of the selected Tr 35 is connected to the signal line 23.
  • the selection pulse SEL is supplied to the gate of the selection Tr35.
  • the source of the amplification Tr 34 is connected to a current source (not shown) via the selection Tr 35 and the signal line 23. Therefore, the amplification Tr 34 forms SF (Source follower), and the voltage of the FD 36 is output onto the signal line 23 as a pixel signal via SF.
  • SF Source follower
  • the FD 36 is a region that converts charges into voltage, such as a capacitor, formed at the connection point of the drain of the transfer Tr 32, the source of the FET 33, and the gate of the FET 34.
  • the pixel 12 can be configured without the selection Tr 35.
  • a first selection Tr and a second selection Tr which are two selection Trs can be provided.
  • the source of the first selected Tr and the drain of the second selected Tr are connected.
  • the drain of the first selection Tr is connected to the source of the amplification Tr 34, and the source of the second selection Tr is connected to the signal line 23.
  • the first selection pulse SEL_X is supplied to the gate of the first selection Tr
  • the second selection pulse SEL_Y is supplied to the second selection Tr.
  • the pixel 12 that outputs the pixel signal onto the signal line 23 can be selected from the pixel block 11 by using the first selection pulse SEL_X and the second selection pulse SEL_Y.
  • a configuration of a shared pixel in which the reset Tr33 to FD36 are shared by a plurality of sets of the PD 31 and the transfer Tr 32 can be adopted.
  • the configuration of the pixel 12 it is possible to adopt a configuration having a memory function for storing the charge obtained by the PD 31 and capable of operating a global shutter.
  • the selection Tr 35 is provided on the source side of the amplification Tr 34, but the selection Tr 35 can be provided on the drain side of the amplification Tr 34.
  • the transfer pulse TRG and the reset pulse RST are temporarily set to the H (High) level (from the L (Low) level).
  • the transfer pulse TRG and the reset pulse RST become H level, the transfer Tr32 and the reset Tr33 are turned on. As a result, the charges charged in the PD 31 and the FD 36 are swept out to the power source Vdd, and the PD 31 and the FD 36 are reset.
  • the PD 31 receives light incident thereon and performs photoelectric conversion to generate charges according to the amount of incident light received.
  • the transfer pulse TRG becomes L level after the PD 31 is reset, the PD 31 starts to charge the charges generated by the photoelectric conversion.
  • the selection pulse SEL is at the H level and the selection Tr 35 is in the ON state.
  • the transfer pulse TRG is temporarily set to the H level, and the transfer Tr 32 is temporarily turned on.
  • the exposure time of the PD 31 (pixel 12) Become.
  • the transfer Tr 32 When the transfer Tr 32 is turned on, the charge charged in the PD 31 is transferred to the FD 36 via the transfer Tr 32 and charged.
  • the reset pulse RST is temporarily set to the H level, and the reset Tr 33 is temporarily turned on.
  • the FD 36 When the reset Tr 33 is turned on, the FD 36 is connected to the power source Vdd via the reset Tr 33, and the charge in the FD 36 is swept out to the power source Vdd via the reset Tr 33, and the FD 36 is reset. .
  • the transfer pulse TRG is temporarily set to the H level, and the transfer Tr 32 is temporarily turned on.
  • the transfer Tr 32 When the transfer Tr 32 is turned on, the charge charged in the PD 31 is transferred to the FD 36 after reset via the transfer Tr 32 and charged.
  • the voltage (potential) corresponding to the electric charge charged in the FD 36 is output on the signal line 23 as a pixel signal via the amplification Tr 34 and the selection Tr 35.
  • the reset level which is a pixel signal immediately after the reset of the FD 36 is AD-converted.
  • the ADC 22 performs correlated double sampling (CDS (Correlated Double Sampling)) in which a difference between the AD conversion result at the reset level and the AD conversion result at the signal level is obtained as a pixel value.
  • CDS Correlated Double Sampling
  • CDS can be performed after AD conversion of the reset level and the signal level, or can be performed during AD conversion of the reset level and the signal level.
  • FIG. 3 is a circuit diagram showing another configuration example of the pixel 12.
  • the pixel 12 includes a PD 31, FETs 32 to 35, an FD 36, and an NMOS FET 37.
  • the pixel 12 of FIG. 3 is common to the case of FIG. 2 in that it has PD 31 to FD 36.
  • the pixel 12 of FIG. 3 is different from the case of FIG. 2 in that a FET 37 is newly provided.
  • the FET 37 is an FET for discharging the charge charged in the PD 31, and is also referred to as a discharge Tr 37 hereinafter.
  • the source of the discharge Tr 37 is connected to the cathode of the PD 31, and the drain of the discharge Tr 37 is connected to the power source Vdd.
  • the discharge pulse OFG is supplied to the gate of the discharge Tr 37.
  • the PD 31 can be reset by setting the discharge pulse OFG to the H level and turning on the discharge Tr 37.
  • the discharge Tr 37 by turning on the discharge Tr 37, the charge charged in the PD 31 is swept out to the power source Vdd via the discharge Tr 37, and the PD 31 is reset.
  • the PD 31 can be reset by turning on the transfer Tr 32 and the reset Tr 33 or by turning on the discharge Tr 37.
  • the PD 31 can be reset while the charge charged in the FD 36 is being read.
  • the transfer pulse TRG temporarily becomes H level until the exposure time of the pixel 12.
  • the transfer pulse TRG is an exposure control signal for controlling the exposure time. Further, the transfer pulse TRG and reset pulse RST required for resetting the PD 31 and the discharge pulse OFG can be said to be exposure control signals for controlling the exposure time, similarly to the transfer pulse TRG.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining the outline of exposure time control in the image sensor of FIG.
  • the pixel array substrate 10 can be photographed by changing the exposure time for each pixel block 11.
  • the subject reflected in the pixel block 11 can be photographed with an exposure time corresponding to the brightness of the subject reflected in the pixel block 11.
  • the exposure time is shortened, and for the pixel block 11 in which a dark subject appears, the exposure time is lengthened and the pixel block 11 in which a subject that is neither bright nor dark is shown. Can shoot a subject with a medium exposure time.
  • shooting is performed while changing the exposure time.
  • HDR High Dynamic Range Imaging
  • compression sensing Compressive Sensing
  • the exposure control signal is 1 Consider only one type of signal (focus on only one type of signal).
  • circuit board 20 ⁇ Detailed configuration example of circuit board 20>
  • FIG. 5 is a diagram showing a first detailed configuration example of the circuit board 20 of FIG.
  • the circuit board 20 has the same number of M ⁇ N signal processing units 21 as the pixel block 11, and the M ⁇ N signal processing units 21 are arranged in an array. ing.
  • FIG. 5 only 2 ⁇ 2 pixel blocks 11 are illustrated for the pixel array substrate 10 and 2 ⁇ 2 pixels are also illustrated for the circuit substrate 20 in order to avoid complication of the drawing. 2 ⁇ 2 signal processing units 21 corresponding to the block 11 are illustrated.
  • the circuit board 20 includes a control unit 40, the same number of horizontal control lines 41 as the number N in the vertical (vertical) direction of the signal processing unit 21,
  • the number of vertical control lines 42 is the same as the number M in the horizontal (lateral) direction of the signal processing unit 21.
  • the circuit board 20 has the same number of exposure control lines 43 as the number N in the vertical direction of the signal processing unit 21, and thus the same number as the horizontal control lines 41.
  • the control unit 40 controls the operation of the signal processing unit 21 (a selection circuit 50 described later) by flowing (supplying) control signals to the horizontal control line 41 and the vertical control line 42, respectively.
  • control unit 40 supplies the exposure control signal SHTPULSE to the pixels 12 of the pixel array substrate 10 by flowing the exposure control signal SHTPULSE through the exposure control line 43.
  • the horizontal control line 41 is wired to each row of the M ⁇ N signal processing units 21. Accordingly, the horizontal control lines 41 are wired in the same number as the number of rows (the number in the vertical direction) N of the signal processing unit 21.
  • the vertical control line 42 is wired in each column of the M ⁇ N signal processing units 21. Therefore, as many vertical control lines 42 as the number of columns (the number in the horizontal direction) M of the signal processing unit 21 are wired.
  • control signal flowing through the horizontal control line 41 is also referred to as a horizontal control signal
  • the exposure control line 43 is wired to each row of the M ⁇ N signal processing units 21 along the horizontal control line 41, for example. Therefore, the same number of exposure control lines 43 as the number of rows (the number in the vertical direction) N of the signal processing unit 21 are wired.
  • a certain exposure control signal SHTPULSE flows through the N exposure control lines 43 simultaneously.
  • the signal processing unit 21 includes a selection circuit 50.
  • the circuit board 20 has the same number of M ⁇ N signal processing units 21 as the pixel blocks 11 arranged in an array.
  • the M ⁇ N selection circuits 50 are arranged in an array.
  • the selection circuit 50 includes an arithmetic circuit 51 and a buffer 52.
  • the signal processing unit 21 includes other signal processing circuits such as the ADC 22 (FIG. 1) in addition to the selection circuit 50, but is not illustrated in FIG.
  • the m + 1th signal processing unit 21 and the selection circuit 50 from the left and the (n + 1) th from the top are respectively represented by the signal processing unit 21 [m, n] and the selection circuit 50 [m, n]. Also described.
  • the calculation circuit 51 of the selection circuit 50 [m, n] includes a horizontal control signal SHTY [n] flowing through the (n + 1) th horizontal control line 41 from the top, and an m + 1th vertical control line 42 from the left.
  • a flowing vertical control signal SHTX [m] is supplied.
  • an exposure control signal SHTPULSE flowing through the (n + 1) th exposure control line 43 from the top is supplied to the arithmetic circuit 51 of the selection circuit 50 [m, n].
  • the arithmetic circuit 51 of the selection circuit 50 [m, n] receives the exposure control signal SHTPULSE flowing through the (n + 1) th exposure control line 43 in accordance with the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m].
  • the signal processing unit 21 [m, n] selects supply (presence / absence) to the corresponding pixel block 11 (hereinafter also referred to as pixel block 11 [m, n]).
  • the arithmetic circuit 51 of the selection circuit 50 [m, n] has an exposure control signal SHTPULSE in accordance with the result of a predetermined logical operation that receives the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m]. To supply the pixel block 11 [m, n].
  • the selection circuit 50 [m, n] outputs the exposure control signal SHTPULSE to the buffer 52 in order to supply the exposure control signal SHTPULSE supplied from the exposure control line 43 to the pixel block 11 [m, n]. .
  • the selection circuit 50 [ m, n] when the operation result of a predetermined logical operation that receives the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m] is the L level of the H and L levels, the selection circuit 50 [ m, n] does not output the exposure control signal SHTPULSE supplied from the exposure control line 43 to the pixel block 11 [m, n] so that the exposure control signal SHTPULSE is not output to the buffer 52. For example, Output L level.
  • the logical product or logical sum of the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m] is adopted. can do.
  • the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m] as inputs, the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m]
  • the exposure control signal SHTPULSE is supplied to the pixel block 11 [m, n] only when both are at the H level, and the exposure control signal SHTPULSE is not supplied to the pixel block 11 [m, n] at other times.
  • the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m] As inputs, the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m]
  • the exposure control signal SHTPULSE is not supplied to the pixel block 11 [m, n] only when both are at the L level. In other cases, the exposure control signal SHTPULSE is supplied to the pixel block 11 [m, n]. Supplied.
  • the buffer 52 buffers and outputs the output of the selection circuit 41.
  • the output terminal of the buffer 52 is connected to, for example, a via 24 provided in each signal processing unit 21 on the circuit board 20.
  • a via 13 is provided at a position facing the via 24 of the corresponding signal processing unit 21.
  • the vias 13 of the pixel block 11 and the corresponding vias 24 of the signal processing unit 21 are electrically connected by, for example, a Cu junction or the like. Therefore, the output of the buffer 52 is connected via the vias 24 and 13. It is supplied to the pixel block 11.
  • a distribution line 14 is provided for distributing the output of the buffer 52 supplied to the via 13 to each pixel 12 constituting the pixel block 11.
  • a horizontal wiring in which the distribution wiring 14 extends in the horizontal direction (horizontal direction) is adopted as the wiring of the distribution wiring 14.
  • a vertical wiring in which the distribution wiring 14 extends in the vertical direction (vertical direction) can be adopted.
  • the distribution line 14 can be wired in a grid pattern, for example.
  • the distribution line 14 is provided with a transfer Tr 32, a reset Tr 33, or a discharge Tr 37 (FIG. 2, FIG. 3) connected to the gate.
  • the selection circuit 50 of the signal processing unit 21 selects to supply the exposure control signal SHTPULSE
  • the exposure control signal SHTPULSE is sent to all the pixels 12 of the pixel block 11 corresponding to the signal processing unit 21. Is supplied.
  • the signal processing unit 21 receives the signal.
  • the exposure control signal SHTPULSE is not supplied to all the pixels 12 of the corresponding pixel block 11 (L level is supplied).
  • the supply of the exposure control signal SHTPULSE to the M ⁇ N pixel blocks 11 can be individually controlled.
  • an exposure control signal SHTPULSE corresponding to a certain exposure time is supplied to one or a plurality of pixel blocks 11, and other one or a plurality of pixel blocks 11 are supplied with another exposure time.
  • a corresponding exposure control signal SHTPULSE can be supplied.
  • the exposure time can be controlled to an arbitrary time by the exposure control signal SHTPULSE.
  • a predetermined logical operation using the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m] as inputs an exclusive logical sum or any other logical operation is adopted in addition to a logical product or logical sum. Can do. Further, a combination of two or more logical operations can be adopted as the predetermined logical operation that receives the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m].
  • FIG. 6 is a diagram showing a second detailed configuration example of the circuit board 20 of FIG.
  • the circuit board 20 has the same number of M ⁇ N signal processing units 21 as the pixel block 11, and the M ⁇ N signal processing units 21 are arranged in an array. ing.
  • FIG. 6 as in FIG. 5, only 2 ⁇ 2 pixel blocks 11 are illustrated for the pixel array substrate 10 in order to avoid the complexity of the drawing, and the circuit substrate 20 is also illustrated. 2 ⁇ 2 signal processing units 21 corresponding to 2 ⁇ 2 pixel blocks 11 are illustrated.
  • the circuit board 20 includes M ⁇ N signal processing units 21 arranged in an array, a control unit 60, the same number of horizontal control lines 41 as the number N in the vertical direction of the signal processing unit 21, and a signal processing unit.
  • the number of vertical control lines 42 is equal to the number M in the horizontal direction 21.
  • the circuit board 20 has K exposure control lines 61 1 to 61 K that are integers of 2 or more in each row of the signal processing unit 21.
  • K 2 is adopted, therefore, the circuit board 20, each row of the signal processing unit 21, with two exposure control lines 61 1 and 61 2.
  • K is not limited to 2, and a value other than 2, that is, an integer of 3 or more can be adopted.
  • control unit 60 causes the signal processing unit 21 (the selection circuit 70 described later) to operate by causing control signals to flow through the horizontal control line 41 and the vertical control line 42. Control.
  • the exposure control line 61 k is wired to each row of the M ⁇ N signal processing units 21 along the horizontal control line 41, for example. Therefore, the same number of exposure control lines 61 k as the number of rows (the number in the vertical direction) N of the signal processing unit 21 are wired.
  • the exposure time is controlled to be different between one exposure control signal SHTPULSE # k-1 and another exposure control signal SHTPULSE # k'-1.
  • the exposure control signal SHTPULSE0 controls the exposure time to a short time
  • the exposure control signal SHTPULSE1 controls the exposure time to a long time.
  • the signal processing unit 21 includes a selection circuit 70.
  • the circuit board 20 has the same number of M ⁇ N signal processing units 21 as the pixel block 11 arranged in an array.
  • the M ⁇ N selection circuits 70 are arranged in an array.
  • the selection circuit 70 includes a latch circuit 71, a selector 72, and a buffer 73.
  • the signal processing unit 21 includes other signal processing circuits such as the ADC 22 (FIG. 1) in addition to the selection circuit 70, but is not illustrated in FIG.
  • selection circuit 70 that is m + 1 from the left and n + 1 from the top is also referred to as selection circuit 70 [m, n].
  • the latch circuit 71 of the selection circuit 70 [m, n] has a horizontal control signal SHTY [n] flowing through the (n + 1) th horizontal control line 41 from the top, and an m + 1th vertical control line 42 from the left.
  • a flowing vertical control signal SHTX [m] is supplied.
  • the latch circuit 71 of the selection circuit 70 [m, n] is a storage unit that stores exposure time information representing an exposure time in response to the horizontal control signal SHTY [n] and the vertical control signal SHTX [m].
  • exposure time information is adopted as the horizontal control signal SHTY [n]
  • a control signal that instructs writing of information to the latch circuit 71 is adopted as the vertical control signal SHTX [m]. it can.
  • latch circuit 71 stores (latches) exposure time information as horizontal control signals SHTY [0] to SHTY [N-1].
  • the exposure time information stored in the latch circuit 71 is supplied to the selector 72.
  • the exposure time information for example, the exposure time set by the control of the exposure control signal SHTPULSE # k-1, and thus information representing the exposure control signal SHTPULSE # k-1 can be adopted.
  • the exposure time information representing the exposure control signal SHTPULSE # k-1 includes information on the minimum number of bits that can represent K values, that is, for example, the number of bits D that is the smallest integer of log 2 K or more. Information can be employed. In this case, the latch circuit 71 needs to have at least a storage capacity capable of storing information of the number of bits D.
  • the selector 72 of the selection circuit 70 [m, n] in accordance with the exposure time information from the latch circuit 71, n + 1 -th exposure control line 61 1 to 61 K to no exposure control signal SHTPULSE0 respectively flowing SHTPULSE # K- 1 is a signal selection unit that selects an exposure control signal SHTPULSE supplied to the corresponding pixel block 11 [m, n] from among the signal processing unit 21 [m, n].
  • the selector 72 of the selection circuit 70 [m, n] is to no exposure control signal SHTPULSE0 through respective (n + 1) th exposure control line 61 1 to 61 K of SHTPULSE # K-1, from the latch circuit 71
  • the exposure control signal represented by the exposure time information is selected as the exposure control signal SHTPULSE supplied to the corresponding pixel block 11 [m, n] by the signal processing unit 21 [m, n] and supplied to the buffer 73.
  • Buffer 73 buffers and outputs the output of selector 72.
  • the output terminal of the buffer 73 is connected to, for example, the via 24 provided in each signal processing unit 21 on the circuit board 20.
  • a via 13 is provided at a position facing the via 24 of the corresponding signal processing unit 21.
  • the vias 13 of the pixel block 11 and the corresponding vias 24 of the signal processing unit 21 are electrically connected by, for example, a Cu junction or the like. Therefore, the output of the buffer 73 is connected via the vias 24 and 13. It is supplied to the pixel block 11.
  • a distribution line 14 for distributing the output of the buffer 73 supplied to the via 13 to each pixel 12 constituting the pixel block 11 is wired.
  • the distribution line 14 is provided with a transfer Tr 32, a reset Tr 33, or a discharge Tr 37 (FIG. 2, FIG. 3) connected to the gate.
  • the exposure control signal SHTPULSE that the selector 72 selects from the exposure control signals SHTPULSE0 to SHTPULSE # K-1 according to the exposure time information stored in the latch circuit 71 is , And supplied to all the pixels 12 of the pixel block 11 corresponding to the signal processing unit 21.
  • the exposure time information representing the exposure control signal SHTPULSE supplied to the M ⁇ N pixel blocks 11 can be individually stored in the latch circuit 71.
  • the selector 72 supplies the exposure control signal SHTPULSE supplied to the M ⁇ N pixel blocks 11 in accordance with the exposure time information stored in the latch circuit 71 in the selector 72.
  • the exposure control signals SHTPULSE0 to SHTPULSE # K-1 can be individually selected.
  • an exposure control signal SHTPULSE0 corresponding to a certain exposure time is supplied to one or a plurality of pixel blocks 11, and other one or a plurality of pixel blocks 11 are supplied with another exposure time.
  • a corresponding exposure control signal SHTPULSE1 can be supplied.
  • the exposure time for the M ⁇ N pixel blocks 11 can be controlled simultaneously.
  • the exposure time can be controlled for each pixel block 11 while suppressing the number of control lines through which a control signal for controlling the exposure time flows.
  • the exposure time information stored in the latch circuit 71 can be rewritten in units of frames, for example.
  • K exposure control signals SHTPULSE0 to SHTPULSE # K-1 are selected by the selector 72, and the pixel block 11 is selected from the K exposure control signals SHTPULSE0 to SHTPULSE # K-1.
  • the exposure control signal SHTPULSE to be supplied can be selected, but the number of selection targets K, and hence the number of selectable exposure times, depends on the capacity of the latch circuit 71 and the exposure wired to one line of the signal processing unit 21. There is a trade-off relationship with the number K of the control lines 61 1 and 61 K.
  • FIG. 7 is a diagram showing a usage example in which the image sensor of FIG. 1 is used.
  • the image sensor described above can be used in various electronic devices that sense light such as visible light, infrared light, ultraviolet light, and X-rays as follows.
  • Electronic devices that capture images for viewing such as digital cameras and mobile devices with camera functions
  • Electronic devices used for traffic such as in-vehicle sensors that take pictures of the back, surroundings, inside the car, surveillance cameras that monitor traveling vehicles and roads, and ranging sensors that measure distances between vehicles, etc.
  • Electronic devices used in home appliances such as TVs, refrigerators, and air conditioners to capture gestures and perform device operations in accordance with the gestures
  • Endoscopes, electron microscopes, and infrared light reception Electronic devices used for medical and healthcare such as angiography devices
  • Electronic devices used for security such as surveillance cameras for crime prevention and cameras for personal authentication
  • Photographs the skin Photographing skin measuring instrument and scalp Electronic devices used for beauty such as a microscope to perform
  • Electronic devices used for sports such as action cameras and wearable cameras for sports applications, etc.
  • FIG. 8 is a block diagram showing a configuration example of an embodiment of a digital camera which is one of electronic devices to which the image sensor of FIG. 1 is applied.
  • Digital cameras can capture both still images and moving images.
  • the digital camera includes an optical system 101, an image sensor 102, a DSP (Digital Signal Processor) 103, a frame memory 104, a recording device 105, a display device 106, a power supply system 107, an operation system 108, and a bus line 109.
  • the DSP 103 or the operation system 108 is connected to each other via a bus line 109.
  • the optical system 101 collects external light on the image sensor 102.
  • the image sensor 102 is configured in the same manner as the image sensor of FIG. 1, receives light from the optical system 101, performs photoelectric conversion, and outputs image data as an electrical signal.
  • the DSP 103 performs necessary signal processing on the image data output from the image sensor 102.
  • the frame memory 104 temporarily holds the image data subjected to signal processing by the DSP 103 in units of frames.
  • the recording device 105 records moving image or still image data captured by the image sensor 102 on a recording medium such as a semiconductor memory or a hard disk.
  • the display device 106 includes a panel type display device such as a liquid crystal panel or an organic EL (Electro Luminescence) panel, and displays an image (moving image or still image) corresponding to the image data stored in the frame memory 104.
  • a panel type display device such as a liquid crystal panel or an organic EL (Electro Luminescence) panel, and displays an image (moving image or still image) corresponding to the image data stored in the frame memory 104.
  • the power supply system 107 supplies necessary power to the image sensor 102 or the display device 106 and the operation system 108.
  • the operation system 108 outputs operation commands for various functions of the digital camera in accordance with user operations.
  • this technique can take the following structures.
  • a pixel array unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in an array; For each of a plurality of pixel blocks composed of two or more pixels of the pixel array unit, the same number as the plurality of pixel blocks that selects supply of the exposure control signal for controlling the exposure time of the pixels to the pixel block And a plurality of selection units, The plurality of selection units are image sensors arranged in an array.
  • ⁇ 3> The same number of horizontal control lines as the number in the vertical direction of the plurality of selection units arranged in the array, The number of vertical control lines equal to the number of the plurality of selection units arranged in the array in the horizontal direction, The selection unit supplies the exposure control signal to the pixel block according to a horizontal control signal supplied via the horizontal control line and a vertical control signal supplied via the vertical control line.
  • ⁇ 4> The plurality of selection units are arranged on a circuit board different from the pixel array unit, The image sensor according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the pixel array unit and the circuit board are stacked.
  • ⁇ 5> The image according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, further including a plurality of AD conversion units having the same number as the plurality of pixel blocks, which performs AD (Analog to Digital) conversion of an electrical signal obtained by photoelectric conversion of the pixels.
  • ⁇ 6> The plurality of selection units and the plurality of AD conversion units are arranged on a circuit board different from the pixel array unit, The image sensor according to ⁇ 5>, wherein the pixel array unit and the circuit board are stacked.
  • ⁇ 7> The image sensor according to ⁇ 6>, wherein in the circuit board, the selection unit and the AD conversion unit are arranged at positions facing the corresponding pixel block.
  • An optical system that collects the light;
  • An image sensor that receives light and captures an image
  • the image sensor is A pixel array unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in an array; For each of a plurality of pixel blocks composed of two or more pixels of the pixel array unit, the same number as the plurality of pixel blocks that selects supply of the exposure control signal for controlling the exposure time of the pixels to the pixel block
  • the plurality of selection units are electronic devices arranged in an array.
  • a pixel array unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in an array; Exposure that is supplied to the pixel block from a plurality of exposure control signals corresponding to a plurality of exposure times, which controls the exposure time of the pixels for each of a plurality of pixel blocks composed of two or more pixels of the pixel array unit.
  • a plurality of selection units having the same number as the plurality of pixel blocks for selecting a control signal, The plurality of selection units are image sensors arranged in an array.
  • the selection unit includes: A storage unit for storing exposure time information representing the exposure time;
  • the plurality of selection units are arranged on a circuit board different from the pixel array unit, The image sensor according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 11>, wherein the pixel array unit and the circuit board are stacked.
  • the image according to ⁇ 9> or ⁇ 10> further comprising: a plurality of AD conversion units having the same number as the plurality of pixel blocks, which performs AD (Analog to Digital) conversion of an electrical signal obtained by photoelectric conversion of the pixels.
  • the plurality of selection units and the plurality of AD conversion units are arranged on a circuit board different from the pixel array unit, The image sensor according to ⁇ 13>, wherein the pixel array unit and the circuit board are stacked.
  • ⁇ 15> The image sensor according to ⁇ 14>, wherein in the circuit board, the selection unit and the AD conversion unit are arranged at positions facing the corresponding pixel block.
  • An optical system that collects the light;
  • An image sensor that receives light and captures an image
  • the image sensor is A pixel array unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in an array; Exposure that is supplied to the pixel block from a plurality of exposure control signals corresponding to a plurality of exposure times, which controls the exposure time of the pixels for each of a plurality of pixel blocks composed of two or more pixels of the pixel array unit.
  • a plurality of selection units having the same number as the plurality of pixel blocks for selecting a control signal, The plurality of selection units are electronic devices arranged in an array.

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Abstract

本技術は、複数の画素からなる画素ブロックごとに、異なる露光時間での撮影を行うことができるようにするイメージセンサ、及び、電子機器に関する。 光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、画素の露光時間を制御する露光制御信号の、画素ブロックへの供給を選択する、複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部が、アレイ状に配列されている。本技術は、画像を撮影するイメージセンサ等に適用することができる。

Description

イメージセンサ、及び、電子機器
 本技術は、イメージセンサ、及び、電子機器に関し、特に、例えば、複数の画素からなる画素ブロックごとに、異なる露光時間での撮影を行うこと等ができるようにするイメージセンサ、及び、電子機器に関する。
 例えば、1(水平)ラインの画素単位で、長時間の露光と、短時間の露光とを行って、高ダイナミックレンジの画像を撮影するイメージセンサが提案されている(例えば、特許文献1を参照)。
特開2001-069408号公報
 近年、複数の画素からなる画素ブロックごとに、異なる露光時間での撮影を行う技術の提案が要請されている。
 本技術は、このような状況に鑑みてなされたものであり、複数の画素からなる画素ブロックごとに、異なる露光時間での撮影を行うことができるようにするものである。
 本技術のイメージセンサ、又は、電子機器は、光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する露光制御信号の、前記画素ブロックへの供給を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部とを備え、前記複数の選択部は、アレイ状に配列されているイメージセンサ、又は、そのようなイメージセンサを備える電子機器である。
 本技術のイメージセンサ、及び、電子機器においては、光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する露光制御信号の、前記画素ブロックへの供給を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部が、アレイ状に配列されている。
 本技術の他のイメージセンサ、又は、電子機器は、光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する、複数の露光時間に対応する複数の露光制御信号の中から、前記画素ブロックに供給する露光制御信号を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部とを備え、前記複数の選択部は、アレイ状に配列されているイメージセンサ、又は、そのようなイメージセンサを備える電子機器である。
 本技術の他のイメージセンサ、及び、電子機器においては、光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する、複数の露光時間に対応する複数の露光制御信号の中から、前記画素ブロックに供給する露光制御信号を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部が、アレイ状に配列されている。
 なお、イメージセンサは、独立した装置であっても良いし、1つの装置を構成している内部ブロックであっても良い。
 本技術によれば、複数の画素からなる画素ブロックごとに、異なる露光時間での撮影を行うことができる。
 なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
本技術を適用したイメージセンサの一実施の形態の構成例を示す斜視図である。 画素12の構成例を示す回路図である。 画素12の他の構成例を示す回路図である。 イメージセンサでの露光時間の制御の概要を説明する図である。 回路基板20の第1の詳細構成例を示す図である。 回路基板20の第2の詳細構成例を示す図である。 イメージセンサを使用する使用例を示す図である。 イメージセンサを適用した電子機器の1つであるディジタルカメラの一実施の形態の構成例を示すブロック図である。
 <本技術を適用したイメージセンサの一実施の形態>
 図1は、本技術を適用したイメージセンサの一実施の形態の構成例を示す斜視図である。
 図1において、イメージセンサは、例えば、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサであり、2層構造になっている。
 すなわち、イメージセンサは、半導体基板である画素アレイ基板10と、画素アレイ基板10とは別の半導体基板である回路基板20とが積層されて構成される。
 画素アレイ基板(画素アレイ部)10には、光電変換を行い、画素信号を出力する複数の画素12が、例えば、アレイ状に配列されている。画素アレイ基板10の各画素12での光電変換の結果得られる画素信号は、回路基板20に出力される。
 なお、画素アレイ基板10を構成する複数の画素12は、2以上の画素12からなる画素ブロック11に区分されている。すなわち、画素アレイ基板10は、横×縦がM×N個の画素ブロック11に区分されている(M,Nは、1又は2以上の整数)。例えば、画素ブロック11は、横×縦が2×2画素以上の複数の画素12で構成することができる。
 回路基板20には、画素ブロック11と同一の数、すなわち、横×縦がM×N個の信号処理部21がアレイ状に配列されている。
 信号処理部21は、画素アレイ基板10の画素ブロック11の画素12が出力する電気信号としての画素信号のAD変換を行うADC22や、黒レベルの補正、現像等の各種の信号処理を行う信号処理回路(図示せず)を有する。さらに、信号処理部21は、画素12を駆動する各種の信号を、画素アレイ基板10の画素ブロック11の画素12に供給する、後述する選択回路50又は70(図1では、図示せず)を有する。
 ここで、回路基板20において、1個の信号処理部21は、1個の画素ブロック11と同程度のサイズになっており、1個の画素ブロック11に対向する位置に配置される。
 信号処理部21は、その信号処理部21と対向する位置にある画素ブロック11を構成する画素12が出力する画素信号の信号処理を担当する。
 したがって、1個の信号処理部21が信号処理を担当する画素12の集合が、1個の画素ブロック11を構成する、ということができる。また、信号処理部21が、信号処理等を担当する画素12の集合としての画素ブロック11を、その信号処理部21に対応する画素ブロック11ということとすると、回路基板20において、信号処理部21は、対応する画素ブロック11に対向する位置に配列されている、ということができる。
 信号処理部21は、その信号処理部21に対応する(信号処理部21と対向する位置にある)画素ブロック11と、信号線23によって接続されている。
 画素ブロック11の画素12が出力する画素信号は、信号線23を介して、その画素ブロック11に対応する信号処理部21に供給される。信号処理部21が有するADC22は、対応する画素ブロック11の画素12から、信号線23を介して供給される画素信号のAD変換を担当する。
 このようなAD変換のアーキテクチャは、エリアADC(AD Conversion)アーキテクチャと呼ばれる。エリアADCアーキテクチャによれば、信号処理部21の数M×Nに等しい数だけ並列に、画素信号のAD変換を行うことができる。AD変換以外の信号処理についても、同様である。
 なお、信号処理部21は、ADC22でのAD変換によって得られる画素データを記憶するメモリを含めて構成することができる。この場合、信号処理部21を構成するメモリは、回路基板20とは異なる他の基板に設け、イメージセンサは、画素アレイ基板10、回路基板20、及び、他の基板を積層した3層構造に構成することもできる。
 また、図1のイメージセンサでは、画素アレイ基板10と回路基板20とが積層されているが、イメージセンサは、回路基板20上の信号処理部21を、画素アレイ基板10上に設け、1層構造に構成することができる。
 また、図1では、AD変換のアーキテクチャとして、エリアADCアーキテクチャを採用することとしたが、AD変換のアーキテクチャとしては、その他、例えば、1ラインの画素の画素信号のAD変換を同時に行う列並列ADCアーキテクチャ等を採用することができる。
 以上のように、イメージセンサにおいて、信号処理部21の設け方(画素アレイ基板10と積層するかどうか等)や、AD変換のアーキテクチャは、特に限定されるものではない。
 すなわち、図1のイメージセンサでは、後述するように、画素アレイ基板10の画素ブロック11ごとに、露光時間を変えて撮影を行うことができるが、画素ブロック11ごとに露光時間を変えて撮影を行うことと、イメージセンサでの信号処理部21の設け方(画素アレイ基板10と積層するかどうか等)や、イメージセンサで採用するAD変換のアーキテクチャとは、独立した事項である。
 したがって、例えば、AD変換のアーキテクチャとして、エリアADCアーキテクチャを採用する場合であっても、また、列並列ADCアーキテクチャを採用する場合であっても、後述するように、画素ブロック11ごとに、露光時間を変えて撮影を行うことができる。
 <画素12の構成例>
 図2は、画素12の構成例を示す回路図である。
 図2において、画素12は、PD(Photo Diode)31、並びに、4個のNMOS(negative channel MOS)のFET(Field Effect Transistor)32,33,34、及び、35を有する。
 また、画素12において、FET32のドレイン、FET33のソース、及び、FET34のゲートは接続されており、その接続点には、電荷を電圧に変換するためのFD(Floating Diffusion)(容量)36が形成されている。
 PD31は、光電変換を行う光電変換素子の一例であり、入射光を受光して、その入射光に対応する電荷をチャージすることにより、光電変換を行う。
 PD31のアノードはグランド(ground)に接続され(接地され)、PD31のカソードは、FET32のソースに接続されている。
 FET32は、PD31にチャージされた電荷を、PD31からFD36に転送するためのFETであり、以下、転送Tr32ともいう。
 上述したように、転送Tr32のソースは、PD31のカソードに接続され、転送Tr32のドレインは、FD36に接続されている。
 転送Tr32のゲートには、画素12を駆動(制御)する制御信号の1つの転送パルスTRGが供給される。
 ここで、画素12を駆動する制御信号には、転送パルスTRGの他、後述するリセットパルスRST、及び、選択パルスSELがある。
 FET33は、FD36にチャージされた電荷(電圧(電位))をリセットするためのFETであり、以下、リセットTr33ともいう。
 リセットTr33のドレインは、電源Vddに接続されている。
 リセットTr33のゲートには、リセットパルスRSTが供給される。
 FET34は、FD36の電圧を増幅(バッファ)するためのFETであり、以下、増幅Tr34ともいう。
 増幅Tr34のゲートは、FD36に接続され、増幅Tr34のドレインは、電源Vddに接続されている。また、増幅Tr34のソースは、FET35のドレインに接続されている。
 FET35は、信号線23への画素信号(電気信号)の出力を選択するためのFETであり、以下、選択Tr35ともいう。
 選択Tr35のソースは、信号線23に接続されている。
 選択Tr35のゲートには、選択パルスSELが供給される。
 ここで、増幅Tr34のソースは、選択Tr35、及び、信号線23を介して、図示せぬ電流源に接続されている。したがって、増幅Tr34は、SF(Source Follower)を構成しており、FD36の電圧は、SFを介して、画素信号として、信号線23上に出力される。
 FD36は、転送Tr32のドレイン、FET33のソース、及び、FET34のゲートの接続点に形成された、コンデンサの如く電荷を電圧に変換する領域である。
 なお、画素12は、選択Tr35なしで構成することができる。
 さらに、画素12では、選択Tr35に代えて、2個の選択Trである第1の選択Tr及び第2の選択Trを設けることができる。この場合、第1の選択Trのソースと第2の選択Trのドレインとが接続される。さらに、第1の選択Trのドレインが増幅Tr34のソースに接続されるとともに、第2の選択Trのソースが信号線23に接続される。そして、第1の選択Trのゲートには、第1の選択パルスSEL_Xが供給され、第2の選択Trには、第2の選択パルスSEL_Yが供給される。この場合、第1の選択パルスSEL_X、及び、第2の選択パルスSEL_Yによって、画素ブロック11の中から、画素信号を信号線23上に出力する画素12を選択することができる。
 また、画素12の構成としては、リセットTr33ないしFD36を、PD31及び転送Tr32の複数セットで共有する共有画素の構成を採用することができる。
 さらに、画素12の構成としては、PD31で得られた電荷を記憶するメモリ機能を有し、グローバルシャッタの動作が可能な構成を採用することができる。
 また、図2では、選択Tr35が、増幅Tr34のソース側に設けられているが、選択Tr35は、増幅Tr34のドレイン側に設けることができる。
 以上のように構成される画素12では、転送パルスTRG、及び、リセットパルスRSTが、一時的に、(L(Low)レベルから)H(High)レベルにされる。転送パルスTRG、及び、リセットパルスRSTがHレベルになることにより、転送Tr32及びリセットTr33がオンになる。その結果、PD31及びFD36にチャージされた電荷が、電源Vddに掃き出され、PD31及びFD36がリセットされる。
 PD31は、そこに入射する光を受光し、光電変換を行うことにより、受光した入射光の光量に応じた電荷を発生する。
 PD31は、そのPD31のリセット後、転送パルスTRGがLレベルになると、光電変換により発生した電荷のチャージを開始する。なお、ここでは、説明を簡単にするために、選択パルスSELはHレベルになっており、選択Tr35はオン状態であることとする。
 PD31での電荷のチャージが開始されてから、所定の露光時間が経過すると、転送パルスTRGが、一時的に、Hレベルにされ、転送Tr32が、一時的に、オン状態になる。
 ここで、PD31がリセットされた後(さらに、転送パルスTRGがLレベルになった後)から、転送パルスTRGが、一時的に、Hレベルになるまでが、PD31(画素12)の露光時間となる。
 転送Tr32がオン状態になると、PD31にチャージされた電荷は、転送Tr32を介して、FD36に転送されてチャージされる。
 ここで、転送パルスTRGが一時的にHレベルにされる前に、リセットパルスRSTが、一時的に、Hレベルにされ、リセットTr33が、一時的に、オン状態にされる。
 リセットTr33がオン状態になることにより、FD36は、リセットTr33を介して、電源Vddに接続され、FD36にある電荷は、リセットTr33を介して、電源Vddに掃き出され、FD36は、リセットされる。
 FD36のリセット後、上述のように、転送パルスTRGが、一時的に、Hレベルにされ、転送Tr32が、一時的に、オン状態にされる。
 転送Tr32がオン状態になることにより、PD31にチャージされた電荷は、転送Tr32を介して、リセット後のFD36に転送されてチャージされる。
 FD36にチャージされた電荷に対応する電圧(電位)は、増幅Tr34及び選択Tr35を介して、画素信号として、信号線23上に出力される。
 ADC22(図1)では、FD36のリセットが行われた直後の画素信号であるリセットレベルがAD変換される。
 さらに、ADC22では、転送Tr32が一時的にオン状態になった後の画素信号(PD31でチャージされ、FD36に転送された電荷に対応する電圧)である信号レベル(リセットレベルと、画素値となるレベルとを含む)がAD変換される。
 また、ADC22では、リセットレベルのAD変換結果と、信号レベルのAD変換結果との差分を、画素値として求める相関二重サンプリング(CDS(Correlated Double Sampling))が行われる。
 なお、CDSは、リセットレベルと信号レベルのAD変換後に行うこともできるし、リセットレベル及び信号レベルのAD変換中に行うこともできる。
 図3は、画素12の他の構成例を示す回路図である。
 なお、図中、図2の場合と対応する部分については、同一の符号を付してあり、以下では、その説明は、適宜省略する。
 図3において、画素12は、PD31、FET32ないし35、FD36、及び、NMOSのFET37を有する。
 したがって、図3の画素12は、PD31ないしFD36を有する点で、図2の場合と共通する。
 但し、図3の画素12は、FET37が新たに設けられている点で、図2の場合と相違する。
 FET37は、PD31にチャージされた電荷を排出するためのFETであり、以下、排出Tr37ともいう。
 排出Tr37のソースは、PD31のカソードに接続され、排出Tr37のドレインは、電源Vddに接続されている。
 排出Tr37のゲートには、排出パルスOFGが供給される。
 ここで、図3の画素12については、上述したように、転送パルスTRG、リセットパルスRST、及び、選択パルスSELに、排出パルスOFGを加えた4種の信号が、画素12を駆動する制御信号となる。
 図2の画素12では、PD31をリセットするのに、転送パルスTRG、及び、リセットパルスRSTをHレベルにして、転送Tr32及びリセットTr33をオンにする必要がある。
 これに対して、図3の画素12では、排出パルスOFGをHレベルにして、排出Tr37をオンにすることにより、PD31をリセットすることができる。
 すなわち、排出Tr37をオンにすることにより、PD31にチャージされた電荷は、排出Tr37を介して、電源Vddに掃き出され、PD31がリセットされる。
 なお、図3の画素12では、転送Tr32及びリセットTr33をオンにすることによっても、排出Tr37をオンにすることによっても、PD31をリセットすることができる。
 但し、FD36にチャージされた電荷の読み出しが行われている間、すなわち、FD36にチャージされた電荷に対応する電圧が、増幅Tr34及び選択Tr35を介して、画素信号として、信号線23上に出力されている間に、転送Tr32及びリセットTr33をオンにすると、電荷の読み出しが行われているFD36がリセットされる。この場合、FD36からの電荷の読み出しが阻害される。
 したがって、FD36にチャージされた電荷の読み出しが行われている間は、転送Tr32及びリセットTr33をオンにすることはできない。
 一方、排出Tr37をオンにしても、FD36はリセットされない。
 以上から、排出Tr37によれば、FD36にチャージされた電荷の読み出しが行われている間に、PD31をリセットすることができる。
 ここで、図2で説明したように、画素12において、PD31がリセットされた後から、転送パルスTRGが、一時的に、Hレベルになるまでが、画素12の露光時間となる。
 したがって、転送パルスTRGは、露光時間を制御する露光制御信号であるということができる。さらに、PD31のリセットに必要な転送パルスTRG及びリセットパルスRSTのセットや、排出パルスOFGも、転送パルスTRGと同様に、露光時間を制御する露光制御信号であるということができる。
 <イメージセンサでの露光時間の制御>
 図4は、図1のイメージセンサでの露光時間の制御の概要を説明する図である。
 イメージセンサでは、画素アレイ基板10において、画素ブロック11ごとに、露光時間を変えて撮影することができる。
 これにより、画素ブロック11に映る被写体に明るさに応じた露光時間で、その画素ブロック11に映る被写体を撮影することができる。
 すなわち、例えば、明るい被写体が映る画素ブロック11については、露光時間を短くし、暗い被写体が映る画素ブロック11については、露光時間を長くし、明るくもなく、暗くもない被写体が映る画素ブロック11については、露光時間を中程度にして、被写体を撮影することができる。
 以上のように、画素ブロック11ごとに、露光時間を変えて撮影を行うことで、例えば、イメージセンサで撮影された画像を用いて行われるHDR(High Dynamic Range imaging)や、圧縮センシング(Compressive Sensing)の特性を向上させることができる。
 ところで、画素ブロック11ごとに、異なる露光時間での撮影を行う方法としては、各画素ブロック11に、露光制御信号を独立に流す制御線を配線する方法がある。
 ここで、上述のように、露光制御信号としては、転送パルスTRG、リセットパルスRST、排出パルスOFGの3種類の信号があるが、以下では、説明を簡単にするため、露光制御信号として、1種類の信号だけを考える(1種類の信号だけに注目する)こととする。
 各画素ブロック11に、露光制御信号を独立に流す制御線を配線する場合、画素ブロック11の横×縦が、例えば、図1で説明したように、M×N個であるとすると、制御線も、M×N本だけ、画素アレイ基板10に平行な面内に、独立に配線する必要がある。例えば、画素ブロック11の数が、256×256個であるとすると、65536=256×256本の制御線を、独立に配線する必要がある。
 このような多数の制御線を、小型化が進んでいるイメージセンサに配線することは困難であり、そのような配線を行おうとすれば、イメージセンサが、制御線の配線に起因して、大型化するおそれがある。
 そこで、本技術では、露光時間を制御する制御信号を流す制御線の配線数を抑制しつつ、露光時間を、画素ブロック11ごとに制御することを可能にする。
 <回路基板20の詳細構成例>
 図5は、図1の回路基板20の第1の詳細構成例を示す図である。
 図1で説明したように、回路基板20は、画素ブロック11と同一の数のM×N個の信号処理部21を有し、そのM×N個の信号処理部21がアレイ状に配列されている。
 なお、図5では、図が煩雑になるのを避けるため、画素アレイ基板10については、2×2個の画素ブロック11だけを図示してあり、回路基板20についても、2×2個の画素ブロック11に対応する2×2個の信号処理部21を図示してある。
 回路基板20は、アレイ状に配列されたM×N個の信号処理部21の他、制御部40、信号処理部21の垂直(縦)方向の数Nと同一の数の水平制御線41、信号処理部21の水平(横)方向の数Mと同一の数の垂直制御線42を有する。
 さらに、回路基板20は、信号処理部21の垂直方向の数Nと同一の数、したがって、水平制御線41と同一の数の露光制御線43を有する。
 制御部40は、水平制御線41及び垂直制御線42のそれぞれに、制御信号を流す(供給する)ことで、信号処理部21(の後述する選択回路50)の動作を制御する。
 さらに、制御部40は、露光制御線43に、露光制御信号SHTPULSEを流すことで、画素アレイ基板10の画素12に、露光制御信号SHTPULSEを供給する。
 水平制御線41は、M×N個の信号処理部21の各行に配線されている。したがって、水平制御線41は、信号処理部21の行数(垂直方向の数)Nと同一の本数だけ配線されている。
 垂直制御線42は、M×N個の信号処理部21の各列に配線されている。したがって、垂直制御線42は、信号処理部21の列数(水平方向の数)Mと同一の本数だけ配線されている。
 ここで、水平制御線41を流れる制御信号を、水平制御信号ともいい、上からn+1本目の水平制御線41に流れる水平制御信号を、水平制御信号SHTY[n]とも記載する(n=0,1,...,N-1)。
 また、垂直制御線42に流れる制御信号を、垂直制御信号ともいい、左からm+1本目の垂直制御線42に流れる垂直制御信号を、垂直制御信号SHTX[m]とも記載する(m=0,1,...,M-1)。
 露光制御線43は、例えば、水平制御線41に沿って、M×N個の信号処理部21の各行に配線されている。したがって、露光制御線43は、信号処理部21の行数(垂直方向の数)Nと同一の本数だけ配線されている。
 なお、N本の露光制御線43には、同時に、ある露光制御信号SHTPULSEが流れる。
 図5において、信号処理部21は、選択回路50を有する。
 回路基板20には、図1で説明したように、画素ブロック11と同一の数のM×N個の信号処理部21がアレイ状に配列されているので、選択回路50も、M×N個だけ設けられており、そのM×N個の選択回路50は、アレイ状に配列されている。
 選択回路50は、演算回路51、及び、バッファ52を有する。
 ここで、信号処理部21は、選択回路50の他、ADC22(図1)等の他の信号処理回路も有するが、図5では、図示を省略してある。
 また、以下では、左からm+1番目で、上からn+1番目の信号処理部21及び選択回路50を、それぞれ、信号処理部21[m,n]及び選択回路50[m,n]とも記載する。
 選択回路50[m,n]の演算回路51には、上からn+1本目の水平制御線41を流れる水平制御信号SHTY[n]、及び、左からm+1本目の垂直制御線42に流れる垂直制御信号SHTX[m]が供給される。
 さらに、選択回路50[m,n]の演算回路51には、上からn+1本目の露光制御線43を流れる露光制御信号SHTPULSEが供給される。
 選択回路50[m,n]の演算回路51は、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]に応じて、n+1本目の露光制御線43を流れる露光制御信号SHTPULSEの、信号処理部21[m,n]が対応する画素ブロック11(以下、画素ブロック11[m,n]とも記載する)への供給(の有無)を選択する。
 すなわち、選択回路50[m,n]の演算回路51は、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]を入力とする所定の論理演算の演算結果に応じて、露光制御信号SHTPULSEの、画素ブロック11[m,n]への供給を選択する。
 例えば、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]を入力とする所定の論理演算の演算結果が、H(High)及びL(Low)レベルのうちの、Hレベルである場合、選択回路50[m,n]は、露光制御線43から供給される露光制御信号SHTPULSEを、画素ブロック11[m,n]に供給するために、その露光制御信号SHTPULSEを、バッファ52に出力する。
 また、例えば、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]を入力とする所定の論理演算の演算結果が、H及びLレベルのうちの、Lレベルである場合、選択回路50[m,n]は、露光制御線43から供給される露光制御信号SHTPULSEを、画素ブロック11[m,n]に供給させないために、その露光制御信号SHTPULSEを、バッファ52に出力せず、例えば、Lレベルを出力する。
 水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]を入力とする所定の論理演算としては、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]の論理積や論理和等を採用することができる。
 水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]を入力とする所定の論理演算として、論理積を採用する場合には、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]の両方がHレベルであるときのみ、露光制御信号SHTPULSEが、画素ブロック11[m,n]に供給され、他のときは、露光制御信号SHTPULSEは、画素ブロック11[m,n]に供給されない。
 また、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]を入力とする所定の論理演算として、論理和を採用する場合には、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]の両方がLレベルであるときのみ、露光制御信号SHTPULSEが、画素ブロック11[m,n]に供給されないが、他のときは、露光制御信号SHTPULSEは、画素ブロック11[m,n]に供給される。
 バッファ52は、選択回路41の出力をバッファして出力する。
 バッファ52の出力端子は、例えば、回路基板20上の各信号処理部21に設けられたビア24に接続されている。
 画素アレイ基板10上の各画素ブロック11においては、対応する信号処理部21のビア24に対向する位置に、ビア13が設けられている。
 画素ブロック11のビア13と、対応する信号処理部21のビア24とは、例えば、Cu接合等によって電気的に接続されており、したがって、バッファ52の出力は、ビア24及び13を介して、画素ブロック11に供給される。
 画素ブロック11では、ビア13に供給されるバッファ52の出力を、その画素ブロック11を構成する各画素12に分配する分配線14が配線されている。
 ここで、図5の画素ブロック11では、分配線14の配線として、分配線14が横方向(水平方向)に延びる横配線が採用されているが、分配線14の配線としては、横配線の他、例えば、分配線14が縦方向(垂直方向)に延びる縦配線を採用することができる。また、分配線14は、その他、例えば、格子状に配線することができる。
 画素ブロック11の各画素12において、分配線14は、露光制御信号SHTPULSEとしての転送パルスTRG、リセットパルスRST、又は、排出パルスOFGが与えられる転送Tr32、リセットTr33、又は、排出Tr37(図2、図3)のゲートに接続されている。
 したがって、信号処理部21の選択回路50において、露光制御信号SHTPULSEを供給することが選択された場合には、その信号処理部21に対応する画素ブロック11のすべての画素12に、露光制御信号SHTPULSEが供給される。
 一方、信号処理部21の選択回路50において、露光制御信号SHTPULSEを供給することが選択されなかった場合(露光制御信号SHTPULSEを供給しないことが選択された場合)には、その信号処理部21に対応する画素ブロック11のすべての画素12に対して、露光制御信号SHTPULSEは供給されない(Lレベルが供給される)。
 以上のように構成される図5の回路基板20によれば、N本の水平制御線41に流す水平制御信号SHTY[n]と、M本の垂直制御線42に流す垂直制御信号SHTX[m]とによって、M×N個の画素ブロック11への露光制御信号SHTPULSEの供給を、個別に制御することができる。
 したがって、例えば、ある1個又は複数個の画素ブロック11には、ある露光時間に対応する露光制御信号SHTPULSEを供給し、他の1個又は複数個の画素ブロック11には、他の露光時間に対応する露光制御信号SHTPULSEを供給することができる。
 その結果、画素ブロック11ごとに、異なる露光時間での撮影を行うことができる。さらに、露光時間は、露光制御信号SHTPULSEによって、任意の時間に制御することができる。
 ここで、図4で説明したように、各画素ブロック11に、露光制御信号を独立に流す制御線を配線する場合、例えば、画素ブロック11の数が、256×256個であるとすると、65536(=256×256)本の制御線を、画素アレイ基板10に平行な面内に、独立に配線する必要がある。
 これに対して、図5の回路基板20では、256本の水平制御線41、256本の垂直制御線42、及び、256本の露光制御線43の、合計で768本の配線で済む。
 したがって、露光時間を制御する制御信号を流す制御線の配線数を抑制しつつ、露光時間を、画素ブロック11ごとに制御することができる。
 なお、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]を入力とする所定の論理演算としては、論理積や論理和の他、排他的論理和その他の任意の論理演算を採用することができる。また、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]を入力とする所定の論理演算としては、2以上の論理演算の組み合わせを採用することができる。
 図6は、図1の回路基板20の第2の詳細構成例を示す図である。
 なお、図中、図5の場合と対応する部分については、同一の符号を付してあり、以下では、その説明は、適宜省略する。
 図1で説明したように、回路基板20は、画素ブロック11と同一の数のM×N個の信号処理部21を有し、そのM×N個の信号処理部21がアレイ状に配列されている。
 なお、図6では、図5と同様に、図が煩雑になるのを避けるため、画素アレイ基板10については、2×2個の画素ブロック11だけを図示してあり、回路基板20についても、2×2個の画素ブロック11に対応する2×2個の信号処理部21を図示してある。
 回路基板20は、アレイ状に配列されたM×N個の信号処理部21の他、制御部60、信号処理部21の垂直方向の数Nと同一の数の水平制御線41、信号処理部21の水平方向の数Mと同一の数の垂直制御線42を有する。
 さらに、回路基板20は、信号処理部21の各行に、2以上の整数であるK本の露光制御線61ないし61を有する。
 図6では、Kとして、2が採用されており、したがって、回路基板20は、信号処理部21の各行に、2本の露光制御線61及び61を有する。なお、Kは、2に限定されるものではなく、2以外の値、すなわち、3以上の整数を採用することができる。
 制御部60は、図5の制御部40と同様に、水平制御線41及び垂直制御線42のそれぞれに、制御信号を流すことで、信号処理部21(の後述する選択回路70)の動作を制御する。
 さらに、制御部60は、露光制御線61(k=1,2)に、露光制御信号SHTPULSE#k-1を流すことで、画素アレイ基板10の画素12に、露光制御信号SHTPULSE#k-1を供給する。
 露光制御線61は、例えば、水平制御線41に沿って、M×N個の信号処理部21の各行に配線されている。したがって、露光制御線61は、信号処理部21の行数(垂直方向の数)Nと同一の本数だけ配線されている。
 なお、N本の露光制御線61には、同時に、ある露光制御信号SHTPULSE#k-1が流れる。
 また、ある露光制御信号SHTPULSE#k-1と、他の露光制御信号SHTPULSE#k'-1とでは、露光時間が異なる時間に制御される。例えば、露光制御信号SHTPULSE0によれば、露光時間が短い時間に制御され、露光制御信号SHTPULSE1によれば、露光時間が長い時間に制御される。
 図6において、信号処理部21は、選択回路70を有する。
 回路基板20には、図1で説明したように、画素ブロック11と同一の数のM×N個の信号処理部21がアレイ状に配列されているので、選択回路70も、M×N個だけ設けられており、そのM×N個の選択回路70は、アレイ状に配列されている。
 選択回路70は、ラッチ回路71、セレクタ72、及び、バッファ73を有する。
 ここで、信号処理部21は、選択回路70の他、ADC22(図1)等の他の信号処理回路も有するが、図6では、図示を省略してある。
 また、以下では、左からm+1番目で、上からn+1番目の選択回路70を、選択回路70[m,n]とも記載する。
 選択回路70[m,n]のラッチ回路71には、上からn+1本目の水平制御線41を流れる水平制御信号SHTY[n]、及び、左からm+1本目の垂直制御線42に流れる垂直制御信号SHTX[m]が供給される。
 選択回路70[m,n]のラッチ回路71は、水平制御信号SHTY[n]及び垂直制御信号SHTX[m]に応じて、露光時間を表す露光時間情報を記憶する記憶部である。
 ここで、例えば、水平制御信号SHTY[n]としては、露光時間情報を採用し、垂直制御信号SHTX[m]としては、ラッチ回路71への情報の書き込みを指示する制御信号を採用することができる。
 この場合、例えば、垂直制御信号SHTX[m]を、一時的にHレベルにすることで、左からm+1番目の1列の選択回路70[m,0]ないし選択回路70[m,N-1]のラッチ回路71には、水平制御信号SHTY[0]ないしSHTY[N-1]としての露光時間情報が、それぞれ記憶(ラッチ)される。
 ラッチ回路71に記憶された露光時間情報は、セレクタ72に供給される。
 ここで、露光時間情報としては、例えば、露光制御信号SHTPULSE#k-1の制御によって設定される露光時間、ひいては、露光制御信号SHTPULSE#k-1を表す情報を採用することができる。
 露光制御信号SHTPULSE#k-1を表す露光時間情報としては、K個の値を表すことができる最小のビット数の情報、すなわち、例えば、log2K以上の最小の整数だけのビット数Dの情報を採用することができる。この場合、ラッチ回路71は、少なくとも、ビット数Dの情報を記憶することができる記憶容量を有する必要がある。
 選択回路70[m,n]のセレクタ72には、上からn+1本目の露光制御線61及び61をそれぞれ流れる露光制御信号SHTPULSE0ないしSHTPULSE#K-1が供給される。
 選択回路70[m,n]のセレクタ72は、ラッチ回路71からの露光時間情報に応じて、n+1本目の露光制御線61ないし61をそれぞれ流れる露光制御信号SHTPULSE0ないしSHTPULSE#K-1の中から、信号処理部21[m,n]が対応する画素ブロック11[m,n]に供給する露光制御信号SHTPULSEを選択する信号選択部である。
 すなわち、選択回路70[m,n]のセレクタ72は、n+1本目の露光制御線61ないし61をそれぞれ流れる露光制御信号SHTPULSE0ないしSHTPULSE#K-1のうちの、ラッチ回路71からの露光時間情報が表す露光制御信号を、信号処理部21[m,n]が対応する画素ブロック11[m,n]に供給する露光制御信号SHTPULSEとして選択し、バッファ73に供給する。
 バッファ73は、セレクタ72の出力をバッファして出力する。
 バッファ73の出力端子は、例えば、回路基板20上の各信号処理部21に設けられたビア24に接続されている。
 画素アレイ基板10上の各画素ブロック11においては、対応する信号処理部21のビア24に対向する位置に、ビア13が設けられている。
 画素ブロック11のビア13と、対応する信号処理部21のビア24とは、例えば、Cu接合等によって電気的に接続されており、したがって、バッファ73の出力は、ビア24及び13を介して、画素ブロック11に供給される。
 画素ブロック11では、ビア13に供給されるバッファ73の出力を、その画素ブロック11を構成する各画素12に分配する分配線14が配線されている。
 画素ブロック11の各画素12において、分配線14は、露光制御信号SHTPULSEとしての転送パルスTRG、リセットパルスRST、又は、排出パルスOFGが与えられる転送Tr32、リセットTr33、又は、排出Tr37(図2、図3)のゲートに接続されている。
 したがって、信号処理部21の選択回路70において、セレクタ72が、露光制御信号SHTPULSE0ないしSHTPULSE#K-1の中から、ラッチ回路71に記憶された露光時間情報に応じて選択する露光制御信号SHTPULSEは、その信号処理部21に対応する画素ブロック11のすべての画素12に供給される。
 以上のように構成される図6の回路基板20によれば、N本の水平制御線41に流す水平制御信号SHTY[n]と、M本の垂直制御線42に流す垂直制御信号SHTX[m]とによって、M×N個の画素ブロック11に供給する露光制御信号SHTPULSEを表す露光時間情報を、個別に、ラッチ回路71に記憶させることができる。
 さらに、図6の回路基板20によれば、セレクタ72において、ラッチ回路71に記憶された露光時間情報に応じて、M×N個の画素ブロック11に供給する露光制御信号SHTPULSEを、K個の露光制御信号SHTPULSE0ないしSHTPULSE#K-1の中から、個別に選択することができる。
 したがって、例えば、ある1個又は複数個の画素ブロック11には、ある露光時間に対応する露光制御信号SHTPULSE0を供給し、他の1個又は複数個の画素ブロック11には、他の露光時間に対応する露光制御信号SHTPULSE1を供給することができる。
 その結果、画素ブロック11ごとに、異なる露光時間での撮影を行うことができる。さらに、ラッチ回路71に、露光時間情報を記憶させた後は、M×N個の画素ブロック11について、露光時間を、同時に制御することができる。
 ここで、図4で説明したように、M×N個の各画素ブロック11に、露光制御信号を独立に流す制御線を配線する場合には、制御線を、M×N本だけ、画素アレイ基板10に平行な面内に、独立に配線する必要がある。
 これに対して、図6の回路基板20では、N本の水平制御線41、M本の垂直制御線42、及び、K×N本の露光制御線43の、合計でM+N+K×N本の配線が必要となる。
 したがって、Kを制限することにより、露光時間を制御する制御信号を流す制御線の配線数を抑制しつつ、露光時間を、画素ブロック11ごとに制御することができる。
 なお、ラッチ回路71に記憶させる露光時間情報は、例えば、フレーム単位で書き換えることができる。
 また、図6では、K個の露光制御信号SHTPULSE0ないしSHTPULSE#K-1を、セレクタ72での選択対象として、そのK個の露光制御信号SHTPULSE0ないしSHTPULSE#K-1の中から、画素ブロック11に供給する露光制御信号SHTPULSEを選択することができるが、選択対象の数K、ひいては、選択可能な露光時間の数は、ラッチ回路71の容量や、信号処理部21の1行に配線する露光制御線61及び61の数Kとトレードオフの関係にある。
 <撮像素子の使用例>
 図7は、図1のイメージセンサを使用する使用例を示す図である。
 上述したイメージセンサは、例えば、以下のように、可視光や、赤外光、紫外光、X線等の光をセンシングする様々な電子機器に使用することができる。
 ・ディジタルカメラや、カメラ機能付きの携帯機器等の、鑑賞の用に供される画像を撮影する電子機器
 ・自動停止等の安全運転や、運転者の状態の認識等のために、自動車の前方や後方、周囲、車内等を撮影する車載用センサ、走行車両や道路を監視する監視カメラ、車両間等の測距を行う測距センサ等の、交通の用に供される電子機器
 ・ユーザのジェスチャを撮影して、そのジェスチャに従った機器操作を行うために、TVや、冷蔵庫、エアーコンディショナ等の家電に供される電子機器
 ・内視鏡や、電子顕微鏡、赤外光の受光による血管撮影を行う装置等の、医療やヘルスケアの用に供される電子機器
 ・防犯用途の監視カメラや、人物認証用途のカメラ等の、セキュリティの用に供される電子機器
 ・肌を撮影する肌測定器や、頭皮を撮影するマイクロスコープ等の、美容の用に供される電子機器
 ・スポーツ用途等向けのアクションカメラやウェアラブルカメラ等の、スポーツの用に供される電子機器
 ・畑や作物の状態を監視するためのカメラ等の、農業の用に供される電子機器
 <イメージセンサを適用したディジタルカメラ>
 図8は、図1のイメージセンサを適用した電子機器の1つであるディジタルカメラの一実施の形態の構成例を示すブロック図である。
 ディジタルカメラでは、静止画、及び、動画のいずれも撮像することができる。
 図8において、ディジタルカメラは、光学系101、イメージセンサ102、DSP(Digital Signal Processor)103、フレームメモリ104、記録装置105、表示装置106、電源系107、操作系108、及び、バスライン109を有する。ディジタルカメラにおいて、DSP103ないし操作系108は、バスライン109を介して相互に接続されている。
 光学系101は、外部からの光を、イメージセンサ102上に集光する。
 イメージセンサ102は、図1のイメージセンサと同様に構成され、光学系101からの光を受光して光電変換し、電気信号としての画像データを出力する。
 DSP103は、イメージセンサ102が出力する画像データに必要な信号処理を施す。
 フレームメモリ104は、DSP103により信号処理が施された画像データを、フレーム単位で一時的に保持する。
 記録装置105は、イメージセンサ102で撮像された動画又は静止画の画像データを、半導体メモリやハードディスク等の記録媒体に記録する。
 表示装置106は、例えば、液晶パネルや有機EL(Electro Luminescence)パネル等のパネル型表示装置等からなり、フレームメモリ104に記憶された画像データに対応する画像(動画又は静止画)を表示する。
 電源系107は、イメージセンサ102ないし表示装置106、及び、操作系108に、必要な電源を供給する。
 操作系108は、ユーザによる操作に従い、ディジタルカメラが有する各種の機能についての操作指令を出力する。
 ここで、本技術の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本技術の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。
 また、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、他の効果があってもよい。
 なお、本技術は、以下のような構成をとることができる。
 <1>
 光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、
 前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する露光制御信号の、前記画素ブロックへの供給を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部と
 を備え、
 前記複数の選択部は、アレイ状に配列されている
 イメージセンサ。
 <2>
 前記選択部が、前記露光制御信号の、前記画素ブロックへの供給を選択することにより、前記露光時間が、前記画素ブロックごとに制御される
 <1>に記載のイメージセンサ。
 <3>
 前記アレイ状に配列された前記複数の選択部の垂直方向の数と同一の数の水平制御線と、
 前記アレイ状に配列された前記複数の選択部の水平方向の数と同一の数の垂直制御線と
 をさらに備え、
 前記選択部は、前記水平制御線を介して供給される水平制御信号と、前記垂直制御線を介して供給される垂直制御信号とに応じて、前記露光制御信号を、前記画素ブロックに供給する
 <1>又は<2>に記載のイメージセンサ。
 <4>
 前記複数の選択部は、前記画素アレイ部とは別の回路基板に配列され、
 前記画素アレイ部と、前記回路基板とは、積層されている
 <1>ないし<3>のいずれかに記載のイメージセンサ。
 <5>
 前記画素の光電変換により得られる電気信号のAD(Analog to Digital)変換を行う、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数のAD変換部をさらに備える
 <1>又は<2>に記載のイメージセンサ。
 <6>
 前記複数の選択部、及び、前記複数のAD変換部は、前記画素アレイ部とは別の回路基板に配列され、
 前記画素アレイ部と、前記回路基板とは、積層されている
 <5>に記載のイメージセンサ。
 <7>
 前記回路基板において、前記選択部及び前記AD変換部は、対応する前記画素ブロックに対向する位置に配列されている
 <6>に記載のイメージセンサ。
 <8>
 光を集光する光学系と、
 光を受光し、画像を撮像するイメージセンサと
 を備え、
 前記イメージセンサは、
  光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、
  前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する露光制御信号の、前記画素ブロックへの供給を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部と
  を備え、
  前記複数の選択部は、アレイ状に配列されている
 電子機器。
 <9>
 光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、
 前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する、複数の露光時間に対応する複数の露光制御信号の中から、前記画素ブロックに供給する露光制御信号を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部と
 を備え、
 前記複数の選択部は、アレイ状に配列されている
 イメージセンサ。
 <10>
 前記選択部が、前記画素ブロックに供給する前記露光制御信号を選択することにより、前記露光時間が、前記画素ブロックごとに制御される
 <9>に記載のイメージセンサ。
 <11>
 前記選択部は、
  前記露光時間を表す露光時間情報を記憶する記憶部と、
  前記記憶部に記憶された前記露光時間情報に応じて、前記画素ブロックに供給する前記露光制御信号を選択する信号選択部と
 を有する
 <9>又は<10>に記載のイメージセンサ。
 <12>
 前記複数の選択部は、前記画素アレイ部とは別の回路基板に配列され、
 前記画素アレイ部と、前記回路基板とは、積層されている
 <9>ないし<11>のいずれかに記載のイメージセンサ。
 <13>
 前記画素の光電変換により得られる電気信号のAD(Analog to Digital)変換を行う、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数のAD変換部をさらに備える
 <9>又は<10>に記載のイメージセンサ。
 <14>
 前記複数の選択部、及び、前記複数のAD変換部は、前記画素アレイ部とは別の回路基板に配列され、
 前記画素アレイ部と、前記回路基板とは、積層されている
 <13>に記載のイメージセンサ。
 <15>
 前記回路基板において、前記選択部及び前記AD変換部は、対応する前記画素ブロックに対向する位置に配列されている
 <14>に記載のイメージセンサ。
 <16>
 光を集光する光学系と、
 光を受光し、画像を撮像するイメージセンサと
 を備え、
 前記イメージセンサは、
  光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、
  前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する、複数の露光時間に対応する複数の露光制御信号の中から、前記画素ブロックに供給する露光制御信号を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部と
  を備え、
  前記複数の選択部は、アレイ状に配列されている
 電子機器。
 10 画素アレイ基板, 11 画素ブロック, 12 画素, 13 ビア, 20 回路基板, 21 信号処理部, 22 ADC, 23 信号線, 24 ビア, 31 PD, 32ないし35 FET, 36 FD, 37 FET, 40 制御部, 41 水平制御線, 42 垂直制御線, 43 露光制御線, 50 選択回路, 51 演算回路, 52 バッファ, 60 制御部, 61,61 露光制御線, 70 選択回路, 71 ラッチ回路, 72 セレクタ, 73 バッファ, 101 光学系, 102 イメージセンサ, 103 DSP, 104 フレームメモリ, 105 記録装置, 106 表示装置, 107 電源系, 108 操作系, 109 バスライン

Claims (16)

  1.  光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、
     前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する露光制御信号の、前記画素ブロックへの供給を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部と
     を備え、
     前記複数の選択部は、アレイ状に配列されている
     イメージセンサ。
  2.  前記選択部が、前記露光制御信号の、前記画素ブロックへの供給を選択することにより、前記露光時間が、前記画素ブロックごとに制御される
     請求項1に記載のイメージセンサ。
  3.  前記アレイ状に配列された前記複数の選択部の垂直方向の数と同一の数の水平制御線と、
     前記アレイ状に配列された前記複数の選択部の水平方向の数と同一の数の垂直制御線と
     をさらに備え、
     前記選択部は、前記水平制御線を介して供給される水平制御信号と、前記垂直制御線を介して供給される垂直制御信号とに応じて、前記露光制御信号を、前記画素ブロックに供給する
     請求項1に記載のイメージセンサ。
  4.  前記複数の選択部は、前記画素アレイ部とは別の回路基板に配列され、
     前記画素アレイ部と、前記回路基板とは、積層されている
     請求項1に記載のイメージセンサ。
  5.  前記画素の光電変換により得られる電気信号のAD(Analog to Digital)変換を行う、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数のAD変換部をさらに備える
     請求項1に記載のイメージセンサ。
  6.  前記複数の選択部、及び、前記複数のAD変換部は、前記画素アレイ部とは別の回路基板に配列され、
     前記画素アレイ部と、前記回路基板とは、積層されている
     請求項5に記載のイメージセンサ。
  7.  前記回路基板において、前記選択部及び前記AD変換部は、対応する前記画素ブロックに対向する位置に配列されている
     請求項6に記載のイメージセンサ。
  8.  光を集光する光学系と、
     光を受光し、画像を撮像するイメージセンサと
     を備え、
     前記イメージセンサは、
      光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、
      前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する露光制御信号の、前記画素ブロックへの供給を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部と
      を備え、
      前記複数の選択部は、アレイ状に配列されている
     電子機器。
  9.  光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、
     前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する、複数の露光時間に対応する複数の露光制御信号の中から、前記画素ブロックに供給する露光制御信号を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部と
     を備え、
     前記複数の選択部は、アレイ状に配列されている
     イメージセンサ。
  10.  前記選択部が、前記画素ブロックに供給する前記露光制御信号を選択することにより、前記露光時間が、前記画素ブロックごとに制御される
     請求項9に記載のイメージセンサ。
  11.  前記選択部は、
      前記露光時間を表す露光時間情報を記憶する記憶部と、
      前記記憶部に記憶された前記露光時間情報に応じて、前記画素ブロックに供給する前記露光制御信号を選択する信号選択部と
     を有する
     請求項9に記載のイメージセンサ。
  12.  前記複数の選択部は、前記画素アレイ部とは別の回路基板に配列され、
     前記画素アレイ部と、前記回路基板とは、積層されている
     請求項9に記載のイメージセンサ。
  13.  前記画素の光電変換により得られる電気信号のAD(Analog to Digital)変換を行う、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数のAD変換部をさらに備える
     請求項9に記載のイメージセンサ。
  14.  前記複数の選択部、及び、前記複数のAD変換部は、前記画素アレイ部とは別の回路基板に配列され、
     前記画素アレイ部と、前記回路基板とは、積層されている
     請求項13に記載のイメージセンサ。
  15.  前記回路基板において、前記選択部及び前記AD変換部は、対応する前記画素ブロックに対向する位置に配列されている
     請求項14に記載のイメージセンサ。
  16.  光を集光する光学系と、
     光を受光し、画像を撮像するイメージセンサと
     を備え、
     前記イメージセンサは、
      光電変換を行う複数の画素がアレイ状に配列された画素アレイ部と、
      前記画素アレイ部の2以上の画素からなる複数の画素ブロックそれぞれについて、前記画素の露光時間を制御する、複数の露光時間に対応する複数の露光制御信号の中から、前記画素ブロックに供給する露光制御信号を選択する、前記複数の画素ブロックと同一の数の複数の選択部と
      を備え、
      前記複数の選択部は、アレイ状に配列されている
     電子機器。
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