JP6981783B2 - コアシェル粒子、コアシェル粒子の焼成物、コアシェル粒子の製造方法、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法、磁気記録媒体、及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、コアシェル粒子、コアシェル粒子の焼成物、コアシェル粒子の製造方法、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法、磁気記録媒体、及び磁気記録媒体の製造方法に関する。

イプシロン型酸化鉄は、フェライト磁石の３倍の保磁力を有することから、優れた磁性材料として注目が集まっている。
イプシロン型酸化鉄を合成する方法としては、ＳｉＯ_２で形成されるマトリックスに含まれるＦｅＣｏ合金粉末を焼成することが知られている（例えば、特許文献１参照）。
また、硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物を含む原料ミセル、及びアンモニア水を含む中和剤ミセルを用いる逆ミセル法により、イプシロン型酸化鉄を合成する方法が知られている（例えば、特許文献２参照）。
また、平均粒径約６ｎｍの酸化水酸化鉄（ＩＩＩ）ナノ微粒子（β−ＦｅＯ（ＯＨ））のゾルから、単相のイプシロン型酸化鉄を合成する方法が知られている（例えば、特許文献３参照）。

特開２０１５−１５３９１８号公報 特許第５３４７１４６号公報 特開２０１４−２２４０２７号公報

イプシロン型酸化鉄を磁性材料として使用する場合、例えば、磁気記録密度及び磁気記録媒体におけるＳＮＲ（ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−ｎｏｉｓｅ ｒａｔｉｏ）などの観点から、イプシロン型酸化鉄粒子の一次粒径が小さいこと、及び一次粒径の変動係数が小さいこと（すなわち、一次粒径のバラツキが少ないこと）などの特性は、重要である。

しかしながら、従来のイプシロン型酸化鉄の合成法によると、不定個数のイプシロン型酸化鉄前駆体がマトリックス状に存在するシリカに包まれた状態で焼成されるため、焼成後のイプシロン型酸化鉄は凝集し、イプシロン型酸化鉄粒子の一次粒径及び粒径の変動係数は大きくなる傾向がある。
また、従来のイプシロン型酸化鉄粒子は、平均一次粒径が比較的小さい場合（例えば１５ｎｍ以下）でも、一次粒径の変動係数が十分に小さいとはいえない。

上記に鑑み、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を焼成により得ることができる、コアシェル粒子を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を焼成により得ることができる、コアシェル粒子の製造方法を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む、コアシェル粒子の焼成物を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、一次粒径の変動係数が小さいイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含み、良好なＳＮＲを示す、磁気記録媒体を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、一次粒径の変動係数が小さいイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含み、良好なＳＮＲを示す、磁気記録媒体の製造方法を提供することである

上記課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物、又は下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物を含有するコアと、コアを被覆する金属アルコキシドの重縮合物を含むシェルと、を含む、コアシェル粒子。
Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。
Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。
Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。
＜２＞ コアシェル粒子１個が、コアを１個含む、＜１＞に記載のコアシェル粒子。
＜３＞ 式（１−１）におけるＡ^１が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、＜１＞又は＜２＞に記載のコアシェル粒子。
＜４＞ 式（２−１）におけるＡ^２が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子。
＜５＞ 式（３−１）におけるＡ^３が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子。
＜６＞ Ｆｅ_２Ｏ_３及び式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物が、スピネル型構造を有する、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子。
＜７＞ 式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物が、β−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有する、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子。
＜８＞ 金属アルコキシドが、ケイ素を含む金属アルコキシドである、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子。
＜９＞ ケイ素に対する鉄の元素質量比が、１／２〜１／１５である、＜８＞に記載のコアシェル粒子。
＜１０＞ Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物、又は下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物を含有するコア成分を、界面活性剤を含む有機溶媒に乳化させる工程、及び乳化したコア成分を、金属アルコキシドの重縮合物を含むシェルで被覆する工程を含む、コアシェル粒子の製造方法。
Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。
Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。
Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。
＜１１＞ 界面活性剤が、非イオン性界面活性剤である、＜１０＞に記載のコアシェル粒子の製造方法。
＜１２＞ コア１個に対し、コアシェル粒子が１個形成される、＜１０＞又は＜１１＞に記載のコアシェル粒子の製造方法。
＜１３＞ 式（１−１）におけるＡ^１が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、＜１０＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子の製造方法。
＜１４＞ 式（２−１）におけるＡ^２が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、＜１０＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子の製造方法。
＜１５＞ 式（３−１）におけるＡ^３が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、＜１０＞〜＜１４＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子の製造方法。
＜１６＞ Ｆｅ_２Ｏ_３及び式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物が、スピネル型構造を有する、＜１０＞〜＜１５＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子の製造方法。
＜１７＞ 式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物が、β−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有する、＜１０＞〜＜１６＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子の製造方法。
＜１８＞ 金属アルコキシドが、ケイ素を含む金属アルコキシドである、＜１０＞〜＜１７＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子の製造方法。
＜１９＞ コアシェル粒子におけるケイ素に対する鉄の元素質量比が、１／２〜１／１５である、＜１８＞に記載のコアシェル粒子の製造方法。
＜２０＞ ＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子を形成する工程、コアシェル粒子を焼成する工程、及び、コアシェル粒子のシェルを除去する工程、を含む、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法。
＜２１＞ ＜１０＞〜＜１９＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子の製造方法に従って、コアシェル粒子を形成する工程、コアシェル粒子を焼成する工程、及び、コアシェル粒子のシェルを除去する工程、を含む、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法。
＜２２＞ 平均一次粒径が６．０ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満である、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子。
＜２３＞ ＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子の焼成物のコアである、＜２２＞に記載のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子。
＜２４＞ ＜２２＞又は＜２３＞に記載のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む、磁気記録媒体。
＜２５＞ ＜２２＞又は＜２３＞に記載のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む磁性層形成用組成物を調製する工程、非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を塗布する工程、及び、非磁性支持体上の磁性層形成用組成物を乾燥させて磁性層を形成する工程、を含む、磁気記録媒体の製造方法。
＜２６＞ ＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載のコアシェル粒子の焼成物。

本開示によれば、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を焼成により得ることができる、コアシェル粒子を提供することができる。
また、本開示によれば、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を焼成により得ることができる、コアシェル粒子の製造方法を提供することができる。
また、本開示によれば、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む、コアシェル粒子の焼成物を提供することができる。
また、本開示によれば、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を提供することができる。
また、本開示によれば、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法を提供することができる。
また、本開示によれば、一次粒径の変動係数が小さいイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含み、良好なＳＮＲを示す、磁気記録媒体を提供することができる。
また、本開示によれば、一次粒径の変動係数が小さいイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含み、良好なＳＮＲを示す、磁気記録媒体の製造方法を提供することができる。

実施例２のコアシェル粒子を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察した結果を示す。 比較例２の焼成前の粉末をＴＥＭで観察した結果を示す。

本開示において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

本開示において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本開示において、「工程」との用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本開示において「溶媒」とは、水、有機溶剤、及び水と有機溶剤との混合溶媒を包含する意味で用いられる。

＜コアシェル粒子＞
本開示のコアシェル粒子は、Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物、又は下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物を含有するコアと、コアを被覆する金属アルコキシドの重縮合物を含むシェルと、を含む。
Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。
Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。
Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。

イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の合成においては、焼成の際に、鉄を含むコアがシリカなどのシェルで被覆されていることが望ましい。しかし、特許文献１及び特許文献２に記載されている従来の合成法では、コアを被覆するシェルの態様は何ら制御されておらず、マトリックス状のシェル内に複数のコアが散在する状態で焼成されることなどにより、コアの凝集が発生していたため、生成されるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の粒径は制御できていなかった。また、特許文献３には、平均一次粒径が比較的小さい（例えば１５ｎｍ以下）イプシロン型酸化鉄が開示されているものの、一次粒径の変動係数が十分に小さいとはいえなかった。
これに対し、本開示のコアシェル粒子は、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の焼成前駆体であるコアが、金属アルコキシドの重縮合物を含むシェルで被覆されており、それぞれのコアシェル粒子は独立して存在する。ここで、コアシェル粒子が「独立して存在する」とは、コアシェル粒子同士が接着していないことをいい、換言すると、複数のコアシェル粒子間でシェルが共有されていないことをいう。好ましくは、独立して存在するコアシェル粒子は、１個のコアシェル粒子につき１個のコアを含む。本開示においては、コアシェル粒子が独立して存在することにより、焼成時におけるコア同士の凝集を防ぐことができ、一次粒径の変動係数が小さいイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を生成することができる。また、本開示のコアシェル粒子を焼成することにより得られるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、平均一次粒径が小さく、かつ、一次粒径の変動係数が小さいことから、磁気記録媒体とした場合に良好なＳＮＲを示すことができると考えられる。
本開示においてコアシェル粒子が独立して存在することができるのは、コアシェル粒子の製造方法において、コアをシェルで被覆する前に、界面活性剤を用いてコアを乳化させることで、コアの分散性が高められること、及び乳化により形成されるコアを含む逆ミセル内で金属アルコキシドの重縮合が進行することで、それぞれの逆ミセル内で個別的にコアを被覆するシェルが形成されること、に主に起因すると考えられる。

コアシェル粒子がコアシェル構造を有することは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いた観察により確認することができる。

好ましくは、コアシェル粒子１個は、コアを１個含む。コアシェル粒子１個がコアを１個含むことにより、焼成の際のコア同士の凝集が防止され、焼成後のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の一次粒径の変動係数を小さくする（すなわち、一次粒径のバラツキを小さくする）ことができる。

コアシェル粒子は、鉄を含有するコアを含むため、硬磁性粒子として使用することができる。硬磁性粒子として使用することができるコアシェル粒子は、本開示のコアシェル粒子の焼成後の焼成物であってもよい。コアシェル粒子が、焼成後の焼成物である場合、コアは、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子である。
また、コアシェル粒子は、シェルが金属アルコキシドの重縮合物を含むことから、表面修飾の自由度が高い。それゆえ、本開示のコアシェル粒子は、シェルに所望の表面修飾を施すことにより、ドラッグデリバリーシステム、ハイパーサーミア等の用途に好適に使用することができる。

コアシェル粒子の平均一次粒径は、好ましくは、５ｎｍ〜５０ｎｍであり、さらに好ましくは、５ｎｍ〜３０ｎｍであり、７ｎｍ〜２５ｎｍが最も好ましい。
コアシェル粒子の一次粒径は、ＴＥＭを用いて測定できる。ＴＥＭとしては、例えば株式会社日立ハイテクノロジーズ製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。
コアシェル粒子の一次粒径は、コアシェル粒子を含む粉末を、ＴＥＭを用いて撮影倍率５００００倍〜８００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして、コアシェル粒子の写真を得て、得られた写真から任意のコアシェル粒子を選び、デジタイザーでコアシェル粒子の輪郭をトレースし、トレースした領域と同じ面積の円の直径（円面積相当径）として算出される値として算出できる。円面積相当径の算出における画像解析には、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いることができる。なお、一次粒径とは、凝集のない独立したコアシェル粒子の粒径をいう。
また、複数（例えば５００個）のコアシェル粒子の一次粒径についての算術平均を「平均一次粒径」とする。

コアシェル粒子を焼成して得られるコアシェル粒子の焼成物の平均一次粒径は、好ましくは、５ｎｍ〜５０ｎｍであり、さらに好ましくは、５ｎｍ〜３０ｎｍであり、７ｎｍ〜２５ｎｍが最も好ましい。コアシェル粒子の焼成物の平均一次粒径は、上記コアシェル粒子の平均一次粒径と同じ手順により、測定できる。

（コア）
本開示のコアは、Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物、又は下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物を含有する。
Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。
Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。
Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。

−酸化鉄系化合物−
酸化鉄系化合物は、Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物である。

−−式（１−１）で表される化合物−−
Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。ａ１は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ａ１＜１．８が好ましく、０．１＜ａ１＜１．２であることがより好ましい。

酸化鉄系化合物において、式（１−１）におけるＡ^１は、好ましくは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である。Ｆｅ以外の金属元素を添加することにより、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を形成した際の磁気特性や粒子表面の物性（磁気記録媒体作製時、磁性層形成用組成物中の分散剤、各種結合剤などとの相互作用）等を好ましく制御することができる。

式（１−１）で表される化合物の例としては、下記の式（１−２）で表される化合物、下記の式（１−３）で表される化合物、下記の式（１−４）で表される化合物、下記の式（１−５）で表される化合物、及び下記の式（１−６）で表される化合物が挙げられる。

Ｚ^１ _ｚ１Ｆｅ_２−ｚ１Ｏ_３ （１−２）
式（１−２）中、Ｚ^１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群から選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｚ１は、０＜ｚ１＜２を満たす。ｚ１は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ１＜１．８が好ましく、０．１＜ｚ１＜１．２であることがより好ましい。

式（１−２）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.25Ｆｅ_1.75Ｏ_３、Ｇａ_0.5Ｆｅ_1.50Ｏ_３などが挙げられる。

Ｘ^１ _ｘ１Ｙ^１ _ｙ１Ｆｅ_{２−ｘ１−ｙ１}Ｏ_３ （１−３）
式（１−３）中、Ｘ^１は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ^１は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘ１は、０＜ｘ１＜１を満たし、ｙ１は、０＜ｙ１＜１を満たす。ｘ１は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ１＜０．５であることが好ましい。ｙ１は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ１＜０．５であることが好ましい。

式（１−３）で表される化合物の具体例としては、Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.9Ｏ_３、Ｃｏ_0.07Ｔｉ_0.07Ｆｅ_1.86Ｏ_３などが挙げられる。

Ｘ^１ _ｘ１Ｚ^１ _ｚ１Ｆｅ_{２−ｘ１−ｚ１}Ｏ_３ （１−４）
式（１−４）中、Ｘ^１は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｚ^１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ１は、０＜ｘ１＜１を満たし、ｚ１は、０＜ｚ１＜１を満たす。ｘ１は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ１＜０．５であることが好ましい。ｚ１は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ１＜１．０であることが好ましい。

式（１−４）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.25Ｃｏ_0.05Ｆｅ_1.7Ｏ_３、Ｇａ_0.3Ｃｏ_0.05Ｆｅ_1.65Ｏ_３などが挙げられる。

Ｙ^１ _ｙ１Ｚ^１ _ｚ１Ｆｅ_{２−ｙ１−ｚ１}Ｏ_３ （１−５）
式（１−５）中、Ｙ^１は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ^１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｙ１は、０＜ｙ１＜１を満たし、ｚ１は、０＜ｚ１＜１を満たす。ｙ１は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ１＜０．５であることが好ましい。ｚ１は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ１＜１．２であることが好ましい。

式（１−５）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.3Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.65Ｏ_３、Ｇａ_0.25Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.7Ｏ_３などが挙げられる。

Ｘ^１ _ｘ１Ｙ^１ _ｙ１Ｚ^１ _ｚ１Ｆｅ_{２−ｘ１−ｙ１−ｚ１}Ｏ_３ （１−６）
式（１−６）中、Ｘ^１は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ^１は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ^１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ１は、０＜ｘ１＜１を満たし、ｙ１は、０＜ｙ１＜１を満たし、ｚ１は、０＜ｚ１＜１を満たし、ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＜２である。各々、磁気特性とε相の安定形成の観点から、ｘ１は、０＜ｘ１＜１．５であることが好ましく、０＜ｘ１＜１．０がより好ましく、ｙ１は、０＜ｙ１＜０．５であることが好ましく、０＜ｙ１＜０．３がより好ましく、ｚ１は、０＜ｚ１＜０．５であることが好ましく、０＜ｚ１＜０．３がより好ましい。

式（１−６）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66Ｏ_３、Ｇａ_0.3Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.6Ｏ_３、Ｇａ_0.2Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.7Ｏ_３、Ｇａ_0.5Ｃｏ_0.01Ｔｉ_0.01Ｆｅ_1.48Ｏ_３などが挙げられる。

−−式（２−１）で表される化合物−−
Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。ａ２は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ａ２＜１．８が好ましく、０．１＜ａ２＜１．２であることがより好ましい。

酸化鉄系化合物において、式（２−１）におけるＡ^２は、好ましくは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である。Ｆｅ以外の金属元素を添加することにより、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を形成した際の磁気特性や粒子表面の物性（磁気記録媒体作製時、磁性層形成用組成物中の分散剤、各種結合剤などとの相互作用）等を好ましく制御することができる。

式（２−１）で表される化合物の例としては、下記の式（２−２）で表される化合物、下記の式（２−３）で表される化合物、下記の式（２−４）で表される化合物、下記の式（２−５）で表される化合物、及び下記の式（２−６）で表される化合物が挙げられる。

Ｚ^２ _ｚ２Ｆｅ_３−ｚ２Ｏ_４ （２−２）
式（２−２）中、Ｚ^２は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群から選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｚ２は、０＜ｚ２＜２を満たす。ｚ２は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ２＜１．８が好ましく、０．１＜ｚ２＜１．２であることがより好ましい。

式（２−２）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.25Ｆｅ_2.75Ｏ_４、Ｇａ_0.15Ｆｅ_2.85Ｏ_４、Ｇａ_0.5Ｆｅ_2.5Ｏ_４、Ｇａ_0.375Ｆｅ_2.625Ｏ_４などが挙げられる。

Ｘ^２ _ｘ２Ｙ^２ _ｙ２Ｆｅ_{３−ｘ２−ｙ２}Ｏ_４ （２−３）
式（２−３）中、Ｘ^２は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ^２は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘ２は、０＜ｘ２＜１を満たし、ｙ２は、０＜ｙ２＜１を満たす。ｘ２は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ２＜０．５であることが好ましい。ｙ２は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ２＜０．５であることが好ましい。

式（２−３）で表される化合物の具体例としては、Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_2.9Ｏ_４、Ｃｏ_0.1Ｔｉ_0.1Ｆｅ_2.8Ｏ_４、Ｃｏ_0.03Ｔｉ_0.03Ｆｅ_2.94Ｏ_４などが挙げられる。

Ｘ^２ _ｘ２Ｚ^２ _ｚ２Ｆｅ_{３−ｘ２−ｚ２}Ｏ_４ （２−４）
式（２−４）中、Ｘ^２は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｚ^２は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ２は、０＜ｘ２＜１を満たし、ｚ２は、０＜ｚ２＜１を満たす。ｘ２は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ２＜０．５であることが好ましい。ｚ２は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ２＜１．０であることが好ましい。

式（２−４）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.25Ｃｏ_0.05Ｆｅ_2.7Ｏ_４、Ｇａ_0.375Ｃｏ_0.05Ｆｅ_2.575Ｏ_４、Ｇａ_0.15Ｃｏ_0.05Ｆｅ_2.8Ｏ_４、Ｇａ_0.5Ｃｏ_0.05Ｆｅ_2.45Ｏ_４、などが挙げられる。

Ｙ^２ _ｙ２Ｚ^２ _ｚ２Ｆｅ_{３−ｙ２−ｚ２}Ｏ_４ （２−５）
式（２−５）中、Ｙ^２は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ^２は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｙ２は、０＜ｙ２＜１を満たし、ｚ２は、０＜ｚ２＜１を満たす。ｙ２は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ２＜０．５であることが好ましい。ｚ２は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ２＜１．２であることが好ましい。

式（２−５）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.25Ｔｉ_0.05Ｆｅ_2.7Ｏ_４、Ｇａ_0.375Ｔｉ_0.05Ｆｅ_2.575Ｏ_４、Ｇａ_0.15Ｔｉ_0.05Ｆｅ_2.8Ｏ_４、Ｇａ_0.5Ｔｉ_0.05Ｆｅ_2.45Ｏ_４、などが挙げられる。

Ｘ^２ _ｘ２Ｙ^２ _ｙ２Ｚ^２ _ｚ２Ｆｅ_{３−ｘ２−ｙ２−ｚ２}Ｏ_４ （２−６）
式（２−６）中、Ｘ^２は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ^２は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ^２は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ２は、０＜ｘ２＜１を満たし、ｙ２は、０＜ｙ２＜１を満たし、ｚ２は、０＜ｚ２＜１を満たし、ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＜２である。各々、磁気特性とε相の安定形成の観点から、ｘ２は、０＜ｘ２＜１．５であることが好ましく、０＜ｘ２＜１．０がより好ましく、ｙ２は、０＜ｙ２＜０．５であることが好ましく、０＜ｙ２＜０．３がより好ましく、ｚ２は、０＜ｚ２＜０．５であることが好ましく、０＜ｚ２＜０．３がより好ましい。

式（２−６）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_2.66Ｏ₄、Ｇａ_0.3Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_2.6Ｏ_4、Ｇａ_0.2Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_2.7Ｏ_4、Ｇａ_0.5Ｃｏ_0.01Ｔｉ_0.01Ｆｅ_2.48Ｏ_4, Ｇａ_0.375Ｃｏ_0.075Ｔｉ_0.075Ｆｅ_2.475Ｏ₄などが挙げられる。

酸化鉄系化合物が、Ｇａ及びＣｏを含む場合、Ｆｅ原子に対するＧａ原子の原子組成百分率は、５原子％〜５０原子％であることが好ましい。この範囲に制御することにより、所望の粒子サイズと磁気特性の調節が可能となる。
また、酸化鉄系化合物が、Ｇａ、Ｃｏ及びＴｉを含む場合、Ｆｅ原子に対するＧａ原子の原子組成百分率は、５原子％〜５０原子％、Ｃｏ原子及びＴｉ原子の原子組成百分率は０．５原子％〜１０原子％であることが好ましい。この範囲に制御することにより、所望の粒子サイズと磁気特性の調節が可能となる。

酸化鉄系化合物は、任意の構造を有してよく、好ましくはスピネル型構造を有する。なお、酸化鉄系化合物がスピネル型構造を有することは、Ｘ線回折（ＸＲＤ）パターンを解析することにより確認することができる。ＸＲＤ装置としては、Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ（ＰＡＮａｎａｌｙｔｉｃａｌ社製）を使用できる。

−オキシ水酸化鉄系化合物−
オキシ水酸化鉄系化合物は、下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物である。
Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。ａ３は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ａ３＜０．８が好ましく、０．０５＜ａ３＜０．６であることがより好ましい。

オキシ水酸化鉄系化合物において、式（３−１）におけるＡ^３は、好ましくは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である。Ｆｅ以外の金属元素を添加することにより、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を形成した際の磁気特性粒子表面の物性（磁気記録媒体作製時、磁性層形成用組成物中の分散剤、各種結合剤などとの相互作用）等を好ましく制御することができる。

式（３−１）で表される化合物の例としては、下記の式（３−２）で表される化合物、下記の式（３−３）で表される化合物、下記の式（３−４）で表される化合物、下記の式（３−５）で表される化合物、及び下記の式（３−６）で表される化合物が挙げられる。

Ｚ^３ _ｚ３Ｆｅ_１−ｚ３ＯＯＨ （３−２）
式（３−２）中、Ｚ^３は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｚ３は、０＜ｚ３＜１を満たす。ｚ３は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ３＜０．９が好ましく、０．０５＜ｚ３＜０．６であることがより好ましい。

式（３−２）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.12Ｆｅ_0.88ＯＯＨ、Ｇａ_0.25Ｆｅ_0.75ＯＯＨなどが挙げられる。

Ｘ^３ _ｘ３Ｙ^３ _ｙ３Ｆｅ_{１−ｘ３−ｙ３}ＯＯＨ （３−３）
式（３−３）中、Ｘ^３は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ^３は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘ３は、０＜ｘ３＜０．５を満たし、ｙ３は、０＜ｙ３＜０．５を満たす。ｘ３は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ３＜０．２５であることが好ましい。ｙ３は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ３＜０．２５であることが好ましい。

式（３−３）で表される化合物の具体例としては、Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_0.90ＯＯＨ、Ｃｏ_0.07Ｔｉ_0.07Ｆｅ_0.86ＯＯＨなどが挙げられる。

Ｘ^３ _ｘ３Ｚ^３ _ｚ３Ｆｅ_{１−ｘ３−ｚ３}ＯＯＨ （３−４）
式（３−４）中、Ｘ^３は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｚ^３は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ３は、０＜ｘ３＜０．５を満たし、ｚ３は、０＜ｚ３＜０．９を満たす。ｘ３は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ３＜０．２５であることが好ましい。ｚ３は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ３＜０．６であることが好ましい。

式（３−４）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.25Ｃｏ_0.05Ｆｅ_0.7ＯＯＨ、Ｇａ_0.3Ｃｏ_0.05Ｆｅ_０.65ＯＯＨなどが挙げられる。

Ｙ^３ _ｙ３Ｚ^３ _ｚ３Ｆｅ_{１−ｙ３−ｚ３}ＯＯＨ （３−５）
式（３−５）中、Ｙ^３は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ^３は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｙ３は、０＜ｙ３＜０．５を満たし、ｚ３は、０＜ｚ３＜０．９を満たす。ｙ３は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ３＜０．２５であることが好ましい。ｚ３は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ３＜０．６であることが好ましい。

式（３−５）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.3Ｔｉ_0.05Ｆｅ_０.65ＯＯＨ、Ｇａ_0.25Ｔｉ_0.05Ｆｅ_0.7ＯＯＨなどが挙げられる。

Ｘ^３ _ｘ３Ｙ^３ _ｙ３Ｚ^３ _ｚ３Ｆｅ_{１−ｘ３−ｙ３−ｚ３}ＯＯＨ （３−６）
式（３−６）中、Ｘ^３は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ^３は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ^３は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ３は、０＜ｘ３＜０．５を満たし、ｙ３は、０＜ｙ３＜０．５を満たし、ｚ３は、０＜ｚ３＜０．９を満たし、ｘ３＋ｙ３＋ｚ３＜１である。各々、磁気特性とε相の安定形成の観点から、ｘ３は、０＜ｘ３＜０．２５であることが好ましく、０＜ｘ３＜０．１５がより好ましく、ｙ３は、０＜ｙ３＜０．２５であることが好ましく、０＜ｙ３＜０．１５がより好ましく、ｚ３は、０＜ｚ３＜０．６であることが好ましく、０＜ｚ３＜０．３がより好ましい。

式（３−６）で表される化合物の具体例としては、Ｇａ_0.12Ｃｏ_0.025Ｔｉ_0.025Ｆｅ_0.83ＯＯＨ_、Ｇａ_0.15Ｃｏ_0.025Ｔｉ_0.025Ｆｅ_0.8ＯＯＨ_、Ｇａ_0.1Ｃｏ_0.025Ｔｉ_0.025Ｆｅ_0.85ＯＯＨ_、Ｇａ_0.25Ｃｏ_0.005Ｔｉ_0.005Ｆｅ_0.74ＯＯＨなどが挙げられる。

本開示のオキシ水酸化鉄系化合物は、α−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有するオキシ水酸化鉄系化合物、β−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有するオキシ水酸化鉄系化合物、γ−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有するオキシ水酸化鉄系化合物、又はオキシ水酸化鉄と同じ構造を有するδ−オキシ水酸化鉄系化合物であってよく、好ましくはβ-オキシ水酸化鉄と同じ構造を有するオキシ水酸化鉄系化合物である。
なお、オキシ水酸化鉄系化合物の構造、例えば、オキシ水酸化鉄系化合物がβ-オキシ水酸化鉄と同じ構造を有することは、ＸＲＤパターンを解析することにより確認することができる。ＸＲＤ装置としては、Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ（ＰＡＮａｎａｌｙｔｉｃａｌ社製）を使用できる。

コアの一次粒径は、コアシェル粒子のコア部分について、コアシェル粒子の平均一次粒径と同様の手順により、測定できる。好ましくは、コアの一次粒径は、２ｎｍ〜４０ｎｍであり、より好ましくは、３ｎｍ〜３０ｎｍであり、５ｎｍ〜２５ｎｍが更に好ましく、５ｎｍ〜１０ｎｍが最も好ましい。

（シェル）
本開示のシェルは、金属アルコキシドの重縮合物を含む。好ましくは、シェルは、金属アルコキシドの重縮合物である。
金属アルコキシドは、金属原子に直接結合したアルコキシ基を有し、かつ縮重合し得る化合物であれば、特に制限されない。好ましくは、金属アルコキシドは、金属原子に２個以上のアルコキシ基が直接結合している基を有する化合物である。

金属原子には、金属に分類される元素の原子、半金属に分類される元素の原子（例えば、ケイ素及びホウ素）、及び非金属に分類される元素の原子であってもアルコキシ基が結合した場合に金属様性質を示す原子（例えば、リン）が含まれる。金属原子としては、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ホウ素（Ｂ）、リン（Ｐ）、亜鉛（Ｚｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ガリウム（Ｇａ）、アンチモン（Ｓｂ）、スズ（Ｓｎ）、タンタル（Ｔａ）、バナジウム（Ｖ）等が挙げられる。

好ましくは、金属アルコキシドは、ケイ素を含む金属アルコキシドである。
ケイ素を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラプロポキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどが挙げられ、テトラエトキシシランが好ましい。

チタンを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタンが挙げられる。
ジルコニウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラプロポキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウムが挙げられる。

アルミニウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリプロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリブトキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウムが挙げられる。
ホウ素を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリメトキシボラン、トリエトキシボラン、トリプロポキシボラン、トリイソプロポキシボラン、トリブトキシボラン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシボラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシボランが挙げられる。

リンを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリメトキシホスフィン、トリエトキシホスフィンが挙げられる。
亜鉛を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、ジメトキシ亜鉛、ジエトキシ亜鉛が挙げられる。
マグネシウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、ジメトキシマグネシウム、ジエトキシマグネシウムが挙げられる。
ゲルマニウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラエトキシゲルマニウム、テトラ−ｎ−プロポキシゲルマニウムが挙げられる。

ガリウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリエトキシガリウム、トリ−ｎ−ブトキシガリウムが挙げられる。
アンチモンを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリエトキシアンチモン、トリ−ｎ−ブトキシアンチモンが挙げられる。
スズを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラエトキシスズ、テトラ−ｎ−プロポキシスズが挙げられる。
タンタルを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、ペンタメトキシタンタル、ペンタエトキシタンタルが挙げられる。

金属アルコキシドが、ケイ素を含む金属アルコキシドである場合、コアシェル粒子におけるケイ素に対する鉄の元素質量比（Ｆｅ／Ｓｉ比）は、１／１〜１／３０であることが好ましく、１／２〜１／１５であることがより好ましい。コアシェル粒子におけるＦｅ／Ｓｉ比が１／１以上、好ましくは１／２以上であることにより、焼成の際に生じ得るコアの凝集を十分に防ぐことができる。また、コアシェル粒子におけるＦｅ／Ｓｉ比が１／３０以下、好ましくは１／１５以下であることにより、焼成後のコアシェル粒子からシェルを除去する際にシェルが良好に除去され、不純物がより少ないイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を生成することができる。
なお、コアシェル粒子におけるケイ素に対する鉄の元素質量比は、ＴＥＭ観察により確認されるコアシェル粒子のコア部分の面積とシェル部分の面積との面積比、並びにケイ素及び鉄の分子量に基づいて、換算することができる。好ましくは、コア部分の面積とシェル部分の面積との面積比は、複数のコアシェル粒子から得られた面積比の算術平均値が使用される。

シェルの厚さは、コアシェル粒子のシェル部分をＴＥＭで観察することにより、測定することができる。好ましくは、シェルの厚さは、複数のコアシェル粒子について得られた厚さの算術平均である。シェルの厚さは、好ましくは、０．５ｎｍ〜３０ｎｍであり、より好ましくは、１ｎｍ〜１５ｎｍであり、２ｎｍ〜８ｎｍが更に好ましい。

＜コアシェル粒子の製造方法＞
本開示のコアシェル粒子の製造方法は、Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物、又は下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物を含有するコア成分を、界面活性剤を含む有機溶媒に乳化させる工程（工程Ａ）、及び乳化したコア成分を、金属アルコキシドの重縮合物を含むシェルで被覆する工程（工程Ｂ）を含む。
Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。
Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。
Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。

好ましくは、コアシェル粒子の製造方法では、コア１個に対し、コアシェル粒子が１個形成される。

［工程Ａ］
コアシェル粒子の製造方法は、Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物、又は下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物を含有するコア成分を、界面活性剤を含む有機溶媒に乳化させる工程（工程Ａ）を含む。
Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。
Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。
Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。

式（１−１）で表される化合物は、既述の式（１−２）、式（１−３）、式（１−４）、式（１−５）、又は式（１−６）で表される化合物であってよい。
式（２−１）で表される化合物は、既述の式（２−２）、式（２−３）、式（２−４）、式（２−５）、又は式（２−６）で表される化合物であってよい。
式（３−１）で表される化合物は、既述の式（３−２）、式（３−３）、式（３−４）、式（３−５）、又は式（３−６）で表される化合物であってよい。

工程Ａにより、有機溶媒中で本開示のコア成分を含む逆ミセルが形成され、その後の工程で添加されるシェルの構成成分である金属アルコキシドが逆ミセルに入り込んで重縮合することにより、独立して存在するコアシェル粒子、すなわちシェルが複数のコアシェル粒子間で共有されていないコアシェル粒子を好ましく形成することができる。

工程Ａは、有機溶媒に界面活性剤を添加する工程、界面活性剤を含む有機溶媒に酸又はアルカリ水溶液を添加する工程、並びに、界面活性剤及び酸又はアルカリ水溶液を含む有機溶媒にコアを添加する工程を含むことが好ましい。

（有機溶媒に界面活性剤を添加する工程）
工程Ａには、有機溶媒に界面活性剤を添加する工程を含むことが好ましい。有機溶媒に界面活性剤を添加する工程は、激しく撹拌した有機溶媒に界面活性剤を添加することにより行うことが好ましい。

−有機溶媒−
有機溶媒としては、公知の有機溶媒を使用できる。有機溶媒は、直鎖状、分枝状又は環状であってよい飽和又は不飽和の炭素数５〜１８の炭化水素系有機溶媒であることが好ましく、直鎖状、分枝状又は環状であってよいペンタン、ヘキサン又はオクタンがより好ましく、シクロヘキサンが更に好ましい。

有機溶媒は、コア成分を乳化させるのに十分な量であれば、任意の量であってよい。好ましくは、有機溶媒は、コア成分１質量部に対し、１００質量部以上用いられる。

−界面活性剤−
界面活性剤は、公知の界面活性剤を使用できる。界面活性剤は、両親媒性の界面活性剤であることが好ましく、非イオン界面活性剤がより好ましく、親水性のポリオキシアルキレン（ＰＯ）鎖と疎水性の基とがエーテル結合で結びついている界面活性剤が更に好ましい。界面活性剤としては、例えば、ポリ（オキシエチレン）ノニルフェニルエーテルなどを挙げることができる。界面活性剤の分子量は、１００〜１０００であることが好ましい。界面活性剤は、１種のみであってよく、２種以上であってもよい。

界面活性剤は、市販品を使用することができる。例えば、界面活性剤の市販品としては、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製ＴＥＲＧＩＴＯＬ（登録商標）ＮＰシリーズ、ＴｒｉｔｏｎＸシリーズ、Ｒｈｏｄｉａ社製ＩＧＥＰＡＬ（登録商標）ＣＯシリーズ、ＩＧＥＰＡＬ（登録商標）ＣＡシリーズ、Ｃｒｏｄａ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製Ｓｙｎｐｅｒｏｎｉｃ（登録商標）ＮＰシリーズ、及び花王株式会社製エマルゲンシリーズ、三洋化成工業株式会社製ナロアクティーシリーズ、サンノニックシリーズ、エマルミンシリーズ、セドランシリーズ、イオネットシリーズ、ニューポールシリーズ、ピュアミールシリーズが好ましく、Ｒｈｏｄｉａ社製ＩＧＥＰＡＬ（登録商標）ＣＯ５２０が特に好ましい。

界面活性剤の含有量は、有機溶媒１００質量部に対し、０．１質量部〜１５質量部であることが好ましく、１質量部〜１０質量部であることがより好ましい。

（界面活性剤を含む有機溶媒にアルカリ水溶液を添加する工程）
工程Ａは、有機溶媒に界面活性剤を添加する工程の後に、界面活性剤を含む有機溶媒にアルカリ水溶液を添加する工程を含むことが好ましい。
アルカリ水溶液としては、ｐＨが７超１４以下の水溶液であれば特に限定されず、ＫＯＨ水溶液、ＮａＯＨ水溶液、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）水溶液、又はアンモニア水溶液であることが好ましく、２質量％〜３０質量％のアンモニア水溶液であることがより好ましい。

アルカリ水溶液の含有量は、界面活性剤を含む有機溶媒１００質量部に対し、０．０５質量部〜１０質量部であることが好ましく、０．１質量部〜５質量部であることがより好ましい。

（界面活性剤及びアルカリ水溶液を含む有機溶媒にコアを添加する工程）
工程Ａは、界面活性剤を含む有機溶媒にアルカリ水溶液を添加する工程の後に、界面活性剤及びアルカリ水溶液を含む有機溶媒にコアを添加する工程を含むことが好ましい。この工程により、有機溶媒中で、コアが界面活性剤に取り込まれた逆ミセルが形成される。
更に、粉末のオキシ水酸化鉄系化合物は、オレイン酸などの分散剤を混合して解砕することにより、ペースト状のオキシ水酸化鉄系化合物として調製できる。分散剤と混合することにより、有機溶媒への分散性を向上させることができる。

［工程Ｂ］
コアシェル粒子の製造方法は、乳化したコア成分を、金属アルコキシドの重縮合物を含むシェルで被覆する工程（工程Ｂ）を含む。
工程Ｂは、好ましくは、工程Ａにおいて形成されたコアが取り込まれた逆ミセルと、シェルの成分である金属アルコキシドとを有機溶媒中で撹拌して混合することにより行われる。これにより、金属アルコキシドはコアを含む逆ミセル内に入り込み、その中で金属アルコキシドが重縮合することにより、コアがシェルで被覆される。好ましくは、金属アルコキシドは、ケイ素を含む金属アルコキシドである。

金属アルコキシドが、ケイ素を含む金属アルコキシドである場合、コアを被覆した後に得られるコアシェル粒子のケイ素に対する鉄の元素質量比（Ｆｅ／Ｓｉ比）は、１／１〜１／３０であることが好ましく、１／２〜１／１５であることがより好ましい。

（コアの調製）
コアは、Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物、又は下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物を含有する。
Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。
Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。
Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。

式（１−１）で表される化合物は、既述の式（１−２）、式（１−３）、式（１−４）、式（１−５）、又は式（１−６）で表される化合物であってよい。
式（２−１）で表される化合物は、既述の式（２−２）、式（２−３）、式（２−４）、式（２−５）、又は式（２−６）で表される化合物であってよい。
式（３−１）で表される化合物は、既述の式（３−２）、式（３−３）、式（３−４）、式（３−５）、又は式（３−６）で表される化合物であってよい。

好ましくは、式（１−１）におけるＡ^１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である。
好ましくは、式（２−１）におけるＡ^２は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である。
好ましくは、式（３−１）におけるＡ^３は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である。

Ｆｅ_２Ｏ_３及び式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物は、スピネル型構造を有することが好ましい。
なお、酸化鉄系化合物がスピネル型構造を有することは、ＸＲＤパターンにより確認することができる。

式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物は、β−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有することが好ましい。
なお、オキシ水酸化鉄系化合物がβ−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有することは、ＸＲＤパターンにより確認することができる。

−酸化鉄系化合物の調製−
酸化鉄系化合物は、任意の方法で調製できる。酸化鉄系化合物は、例えば、金属原料を有機溶媒中で加熱しながら撹拌して混合し、室温に戻した金属原料混合物を遠心分離し、遠心分離した沈殿物を洗浄して乾燥させることにより、調製できる。

酸化鉄系化合物の金属原料は、所望の酸化鉄系化合物の金属組成に基づき、適宜設定できる。

金属原料としては、金属錯体又は金属石鹸の形態であることが好ましく、いずれも好ましく用いることができる。
金属錯体とは、金属イオンに配位子が配位した化合物をいう。
金属錯体の金属イオンとしては、２価、３価、４価、又は５価の金属イオンが好ましく、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｔｉ及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素が更に好ましい。
また、金属錯体の配位子としては、例えば、単座配位子として、ハロゲン、シアン、アンモニア、ピリジン、又はトリフェニルホスフィン、二座配位子として、エチレンジアミン、又はアセチルアセトン、六座配位子として、エチレンジアミンテトラ酢酸イオン、などが挙げられ、アセチルアセトンが好ましい。
金属錯体としては、アセチルアセトンと錯体を形成した金属錯体が好ましく、例えば、ガリウムアセチルアセトナート、チタンアセチルアセトナート、コバルトアセチルアセトナート、鉄アセチルアセトナートなどが挙げられる。
金属錯体の市販品としては、例えば、オルガチックスシリーズ（マツモトファインケミカル株式会社製）、金属−ＡＡシリーズ（株式会社同仁化学研究所製）、アルミニウム有機化合物シリーズ（アルミキレート各種）（川研ファインケミカル株式会社製）、各種試験用試薬（東京化成工業株式会社製、和光純薬工業株式会社製、シグマアルドリッチ製）などが挙げられる。

金属石鹸とは、アルカリ金属以外の金属の脂肪酸塩をいう。
金属石鹸における金属は、アルカリ金属以外の金属、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｐｂ、及びＣｒからなる群から選択される少なくとも１種の金属であり、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｔｉ及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素であることが好ましい。
金属石鹸における脂肪酸は、飽和又は不飽和の脂肪族モノカルボン酸であり、好ましくは炭素数が６〜３０の飽和又は不飽和の脂肪族モノカルボン酸である。金属石鹸における脂肪酸の脂肪族基は、無置換であってよく、置換基を有していてもよい。
金属石鹸としては、オレイン酸金属塩又はステアリン酸金属塩などのアルカリ金属以外の金属と、炭素数が６〜３０の飽和又は不飽和の脂肪族モノカルボン酸との塩が好ましく、オレイン酸鉄又はステアリン酸鉄などのＦｅをはじめ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｐｂ、及びＣｒからなる群から選択される少なくとも１種の金属と、炭素数が６〜３０の飽和又は不飽和の脂肪族モノカルボン酸との塩がより好ましい。
金属石鹸の市販品としては、例えば、以下金属石鹸のシリーズが挙げられ、ＤＩＣ株式会社製の金属石鹸、淡南化学工業株式会社製の金属石鹸、日東化成工業株式会社製のステアリン酸石鹸シリーズ、１２−ヒドロキシステアリン酸石鹸、ベヘン酸石鹸、モンタン酸石鹸、ラウリン酸石鹸、などが挙げられる。

有機溶媒は、直鎖状、分枝状又は環状であってよい飽和又は不飽和の炭素数５〜１８の炭化水素系有機溶媒であることが好ましく、沸点が３００℃〜３５０℃の高沸点溶剤がより好ましく、１−オクタデセンが更に好ましい。

加熱温度は、好ましくは２００℃〜４００℃、より好ましくは２５０℃〜３５０℃であり、昇温速度は、１℃／分〜１０℃／分が好ましく、２℃／分〜５℃／分がより好ましい。
金属原料混合物の遠心分離は、例えば５０００ｒｐｍ〜１００００ｒｐｍ、５分間〜２０分間の条件で行うことが好ましい。
遠心分離した沈殿物は、例えばエタノール又はシクロヘキサンなどの有機溶媒で洗浄した後、例えば２０℃〜１００℃で乾燥させることにより、コア原料としての酸化鉄が得られる。

−オキシ水酸化鉄系化合物の調製−
オキシ水酸化鉄系化合物は、任意の方法で調製できる。例えば、オキシ水酸化鉄系化合物は、水に金属原料を溶解させ、アルカリ水溶液を添加して撹拌した後、酸性水溶液を添加して撹拌して生じた沈殿物を遠心分離で回収し、水で沈殿物を洗浄して乾燥させることにより、粉末のオキシ水酸化鉄系化合物として調製できる。また、特開２０１１−５１８３６の段落０００８〜００２４に記載の方法によっても、好ましいオキシ水酸化鉄系化合物を得ることができる。
更に、粉末のオキシ水酸化鉄系化合物は、オレイン酸などの分散剤を混合して解砕することにより、ペースト状のオキシ水酸化鉄系化合物として調製できる。分散剤と混合することにより、有機溶媒への分散性を向上させることができる。

オキシ水酸化鉄系化合物の金属原料は、所望のオキシ水酸化鉄系化合物の金属組成により、適宜設定できる。金属組成については、既述の「コア」の項の記載を参照できる。
金属原料は、水溶性の金属塩（水和物を含む）が好ましく、例えば硝酸塩、又は硫酸塩などがより好ましい。

水に金属原料を溶解させる際、形態制御剤として、高分子系水溶性ポリマーも添加することが好ましい。高分子系水溶性ポリマーは、金属原料の分散剤として機能し、コアの大きさを好ましく制御することができる。高分子系水溶性ポリマーとしては、例えばポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などが好ましい。
高分子系水溶性ポリマーは、オキシ水酸化鉄系化合物の金属原料１００質量部に対し、１質量部〜２０質量部が好ましく、５質量部〜１５質量部であることがより好ましい。

アルカリ水溶液としては、ｐＨが７超１４以下の水溶液であれば特に限定されず、ＫＯＨ水溶液、ＮａＯＨ水溶液、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）水溶液、又はアンモニア水溶液であることが好ましく、１０質量％〜３０質量％のアンモニア水溶液であることがより好ましい。

酸性水溶液としては、ｐＨが１以上７未満の水溶液であれば特に限定されないが、酢酸水溶液、又はクエン酸水溶液であることが好ましく、１質量％〜２０質量％のクエン酸水溶液であることがより好ましい。

＜イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法＞
イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法は、コアシェル粒子を形成する工程、コアシェル粒子を焼成する工程、及び、コアシェル粒子のシェルを除去する工程を含む。
ここで、「イプシロン型酸化鉄系化合物粒子」とは、イプシロン型酸化鉄系化合物から形成される粒子をいう。
コアシェル粒子は、本開示の「コアシェル粒子」の項に記載したコアシェル粒子である。好ましくは、コアシェル粒子は、本開示のコアシェル粒子の製造方法によって製造されるコアシェル粒子である。

（本開示のコアシェル粒子を形成する工程）
本開示のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法は、コアシェル粒子を形成する工程を含む。
コアシェル粒子を形成する工程は、本開示のコアシェル粒子を形成することができれば、任意の方法であってよい。好ましくは、本開示のコアシェル粒子を形成する工程は、本開示のコアシェル粒子の製造方法である。

（コアシェル粒子を焼成する工程）
本開示のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法は、コアシェル粒子を焼成する工程を含む。コアシェル粒子を焼成することにより、コアは、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を形成する。
コアシェル粒子を焼成する工程は、イプシロン型酸化鉄を焼成するための公知の条件で行うことができる。焼成することにより、コアは、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子となる。例えば、焼成条件は、公知の焼成炉内で、大気雰囲気下、９５０℃〜１３００℃であることが好ましく、１０００℃〜１２００℃がより好ましく、１０５０℃〜１１５０℃が最も好ましく、１時間〜２０時間であることが好ましく、２時間〜１５時間であることがより好ましく、３時間〜１２時間であることが最も好ましい。

（コアシェル粒子のシェルを除去する工程）
本開示のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法は、コアシェル粒子のシェルを除去する工程を含む。
コアシェル粒子を焼成した後のコアシェル粒子においては、コアがイプシロン型酸化鉄系化合物粒子であるものの、シェルはそのまま残されている。従って、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子のみを単離するため、コアシェル粒子からシェルを除去する。

シェルの除去は、金属アルコキシドの重縮合物を溶解させることができる公知の方法によって行うことができる。シェルの除去は、例えば、焼成後の本開示のコアシェル粒子を、液温が２０℃〜９０℃である１モル／Ｌ〜８モル／Ｌの水酸化ナトリウムに入れて１時間〜１００時間撹拌することにより、行うことができる。

シェルを除去した後は、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子から残渣の除去等のために、公知の洗浄する工程を設けることができる。
また、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を乾燥させるために、公知の乾燥させる工程を適宜設けることができる。

＜イプシロン型酸化鉄系化合物粒子＞
「イプシロン型酸化鉄系化合物粒子」とは、イプシロン型酸化鉄系化合物から形成される粒子をいう。
イプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、好ましくは、平均一次粒径が６．０ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であり、より好ましくは、平均一次粒径が７．０ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であり、更に好ましくは、平均一次粒径が１０ｎｍ〜１５ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であり、特に好ましくは、平均一次粒径が１１．５ｎｍ〜１４．５ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満である。
また、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、好ましくは、平均一次粒径が６．０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、より好ましくは、平均一次粒径が７．０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、更に好ましくは、平均一次粒径が１０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、特に好ましくは、平均一次粒径が１１．５ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満である。

上記平均一次粒径及び一次粒径の変動係数を有するイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、任意の方法で製造することができる。好ましくは、上記平均一次粒径及び一次粒径の変動係数を有するイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、本開示のコアシェル粒子を焼成して得られる焼成物のコアである。
好ましくは、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、本開示のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法により製造されたイプシロン型酸化鉄系化合物粒子である。本開示のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法により製造されたイプシロン型酸化鉄系化合物粒子である場合、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、コアシェル粒子を焼成した後にシェルに被覆されたままのコアとしてのイプシロン型酸化鉄系化合物粒子、及び焼成後のコアシェル粒子からシェルを除去して形成されたイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の両方をいうことができる。

イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の一次粒径及び平均一次粒径は、コアシェル粒子の平均一次粒径と同様の手順により、測定できる。なお、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子がコアシェル粒子の焼成物のコアである場合、焼成後のコアシェル粒子のコア部分についてＴＥＭを用いた測定を行うことにより、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の一次粒径及び平均一次粒径を測定できる。

また、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の一次粒径の変動係数は、複数のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の一次粒径について得られた標準偏差を平均一次粒径で除算した値として算出される。
なお、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の一次粒径について、「変動係数が小さい」とは、複数個（例えば５００個）の本開示のコアシェル粒子の一次粒径の標準偏差を平均一次粒径で除算して得られる変動係数が、０．５未満、好ましくは０．４未満、より好ましくは０．３未満であることをいう。

（イプシロン型酸化鉄系化合物）
イプシロン型酸化鉄系化合物は、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（４−１）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物である。
ε−Ａ^４ _ａ４Ｆｅ_２−ａ４Ｏ_３ （４−１）
式（４−１）中、Ａ^４は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ４は、０＜ａ４＜２を満たす。
好ましくは、式（４−１）におけるＡ^４は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属元素である。

式（４−１）で表される化合物の例としては、下記の式（４−２）で表される化合物、下記の式（４−３）で表される化合物、下記の式（４−４）で表される化合物、下記の式（４−５）で表される化合物、及び下記の式（４−６）で表される化合物が挙げられる。

ε−Ｚ^４ _ｚ４Ｆｅ_２−ｚ４Ｏ_３ （４−２）
式（４−２）中、Ｚ^４は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群から選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｚ４は、０＜ｚ４＜２を満たす。ｚ４は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ４＜１．８が好ましく、０．１＜ｚ４＜１．２であることがより好ましい。

式（４−２）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｇａ_0.25Ｆｅ_1.75Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.5Ｆｅ_1.50Ｏ_３などが挙げられる。

ε−Ｘ^４ _ｘ４Ｙ^４ _ｙ４Ｆｅ_{２−ｘ４−ｙ４}Ｏ_３ （４−３）
式（４−３）中、Ｘ^４は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ^４は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘ４は、０＜ｘ４＜１を満たし、ｙ４は、０＜ｙ４＜１を満たす。ｘ４は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ４＜０．５であることが好ましい。ｙ４は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ４＜０．５であることが好ましい。

式（４−３）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.9Ｏ_３、ε−Ｃｏ_0.07Ｔｉ_0.07Ｆｅ_1.86Ｏ_３などが挙げられる。

ε−Ｘ^４ _ｘ４Ｚ^４ _ｚ４Ｆｅ_{２−ｘ４−ｚ４}Ｏ_３ （４−４）
式（４−４）中、Ｘ^４は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｚ^４は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群から選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ４は、０＜ｘ４＜１を満たし、ｚ４は、０＜ｚ４＜１を満たす。ｘ４は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ４＜０．５であることが好ましい。ｚ４は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ４＜１．０であることが好ましい。

式（４−４）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｇａ_0.25Ｃｏ_0.05Ｆｅ_1.7Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.3Ｃｏ_0.05Ｆｅ_1.65Ｏ_３などが挙げられる。

ε−Ｙ^４ _ｙ４Ｚ^４ _ｚ４Ｆｅ_{２−ｙ４−ｚ４}Ｏ_３ （４−５）
式（４−５）中、Ｙ^３は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ^４は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群から選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｙ４は、０＜ｙ４＜１を満たし、ｚ４は、０＜ｚ４＜１を満たす。ｙ４は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ４＜０．５であることが好ましい。ｚ４は、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ４＜１．２であることが好ましい。

式（４−５）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｇａ_0.3Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.65Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.25Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.7Ｏ_３などが挙げられる。

ε−Ｘ^４ _ｘ４Ｙ^４ _ｙ４Ｚ^４ _ｚ４Ｆｅ_{２−ｘ４−ｙ４−ｚ４}Ｏ_３ （４−６）
式（４−６）中、Ｘ^４は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ^３は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ^４は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群から選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ４は、０＜ｘ４＜１を満たし、ｙ４は、０＜ｙ４＜１を満たし、ｚ４は、０＜ｚ４＜１を満たし、ｘ４＋ｙ４＋ｚ４＜２である。各々、磁気特性とε相の安定形成の観点から、ｘ４は、０＜ｘ４＜１．５であることが好ましく、０＜ｘ４＜１．０がより好ましく、ｙ４は、０＜ｙ４＜０．５であることが好ましく、０＜ｙ４＜０．３がより好ましく、ｚ４は、０＜ｚ４＜０．５であることが好ましく、０＜ｚ４＜０．３がより好ましい。

式（４−６）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.3Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.6Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.2Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.7Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.5Ｃｏ_0.01Ｔｉ_0.01Ｆｅ_1.48Ｏ_３などが挙げられる。

イプシロン型酸化鉄系化合物が、Ｆｅ、Ｇａ及びＣｏを含む場合、Ｆｅ原子及びＣｏ原子に対するＧａ原子の原子組成百分率は、０．２原子％〜０．３原子％であることが好ましい。
また、イプシロン型酸化鉄系化合物が、Ｇａ、Ｃｏ及びＴｉを含む場合、Ｃｏ原子及びＴｉ原子に対するＧａ原子の原子組成百分率は、０．０３原子％〜０．０５原子％であることが好ましい。

（酸化鉄系化合物、オキシ水酸化鉄系化合物、及びイプシロン型酸化鉄系化合物の組成）
酸化鉄系化合物、オキシ水酸化鉄系化合物、及びイプシロン型酸化鉄系化合物の組成は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法により確認する。具体的には、上記化合物を含有する粉末又は粒子の試料１２ｍｇ及び４ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液１０ｍｌを入れた容器を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持し、溶解液を得る。次いで、得られた溶解液を０．１μｍのメンブレンフィルタを用いてろ過する。このようにして得られたろ液の元素分析を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析装置を用いて行う。得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求める。

＜磁気記録媒体＞
本開示の磁気記録媒体は、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む。磁気記録媒体において、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、以下に記載する強磁性粉末に含まれる。
また、好ましくは、磁気記録媒体に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、本開示のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法に従って得られるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子である。
好ましくは、磁気記録媒体に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、本開示のコアシェル粒子を焼成して得られる焼成物のコアである。

磁気記録媒体は、非磁性支持体と、強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層と、を有する。好ましくは、強磁性粉末は、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む。
磁気記録媒体は、目的に応じてその他の層を有してもよい。磁気記録媒体が有し得るその他の層としては、非磁性層、バックコート層などが挙げられる。その他の層については後述する。

［非磁性支持体］
非磁性支持体とは、磁性を有しない支持体を指す。以下、非磁性支持体を、単に「支持体」と称することがある。
「磁性を有しない」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、又は、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは、残留磁束密度と保磁力を持たないことを意味する。

非磁性支持体は、磁性を有しない材料、例えば、磁性材料を含まない樹脂材料、磁性を有しない無機材料により形成された基材を挙げることができる。非磁性支持体を形成する材料は、磁気記録媒体に必要な成形性などの物性、形成された非磁性支持体の耐久性等の要求を満たす材料から適宜選択して用いることができる。
非磁性支持体は、磁気記録媒体の使用形態に応じて選択される。例えば、磁気記録媒体が磁気テープ等の場合、非磁性支持体としては、可撓性を有する樹脂フィルムを用いることができる。磁気記録媒体がハードディスクの場合、非磁性支持体としては、ディスク状の樹脂成形体、無機材料成形体、金属材料成形体などを用いることができる。

非磁性支持体を形成する樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアラミドを含む芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂、ポリイミド、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾール等の樹脂材料が挙げられる。既述の樹脂材料から適宜選択して非磁性支持体を形成することができる。
なかでも、強度と耐久性とが良好であり、加工が容易であるとの観点から、ポリエステル、アミド系樹脂等が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、及びポリアミドがより好ましい。

樹脂材料を磁気テープ等の非磁性支持体に用いる場合には、樹脂材料をフィルム状に成形する。樹脂材料をフィルム状に成形する方法は、公知の方法を用いることができる。
樹脂フィルムは、未延伸フィルムでもよく、一軸延伸、二軸延伸などの延伸フィルムでもよい。例えば、ポリエステルを用いる場合には、寸法安定性を向上させるため、二軸延伸したポリエステルフィルムを用いることができる。
また、目的に応じて２層以上の積層構造を有するフィルムを用いることもできる。即ち、例えば、特開平３−２２４１２７号公報に示されるように、磁性層を形成する面と、磁性層を有しない面との表面粗さを変えるため等の目的で異なる２層のフィルムを積層した非磁性支持体等を用いることもできる。

非磁性支持体の厚みは、特に限定されず、磁気記録媒体の用途に応じて適宜設定できる。非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．０μｍ〜８０．０μｍである。例えば、磁気記録媒体が磁気テープである場合、非磁性支持体の厚みは、３．０μｍ〜６．５μｍであることが好ましく、３．０μｍ〜６．０μｍであることがより好ましく、３．３μｍ〜５．５μｍであることが更に好ましい。

非磁性支持体、及び以下に説明する磁気記録媒体の各層の厚みは、磁気記録媒体の厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行い、断面観察において厚み方向の１箇所の厚みとして、又は無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所（例えば２箇所）において求められた厚みの算術平均として、求めることができる。

［磁性層］
磁性層は、磁気記録に寄与する層である。磁性層は、磁性体としての強磁性粉末及び膜形成成分である結合剤を含む層が好ましく、更に目的に応じて添加剤を含んでもよい。

（強磁性粉末）
磁性層における強磁性粉末は、本開示のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む。
強磁性粉末に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、好ましくは、平均一次粒径が６．０ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であり、より好ましくは、平均一次粒径が７．０ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であり、更に好ましくは、平均一次粒径が１０ｎｍ〜１５ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であり、特に好ましくは、平均一次粒径が１１．５ｎｍ〜１４．５ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満である。
また、強磁性粉末に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、好ましくは、平均一次粒径が６．０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、より好ましくは、平均一次粒径が７．０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、更に好ましくは、平均一次粒径が１０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、特に好ましくは、平均一次粒径が１１．５ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満である。
また、好ましくは、強磁性粉末に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、本開示のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法に従って得られるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子である。
また、好ましくは、強磁性粉末に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、本開示のコアシェル粒子を焼成して得られる焼成物のコアである。

磁性層における強磁性粉末の含有率（充填率）は、磁性層の乾燥質量に対し、好ましくは５０質量％〜９０質量％であり、より好ましくは６０質量％〜９０質量％である。磁性層における強磁性粉末の充填率が、磁性層の乾燥質量に対し、５０質量％以上であることにより、記録密度を向上させることができる。

（結合剤）
結合剤は、既述の強磁性粉末を含む磁性層を形成するために有用な膜形成性樹脂から選ばれる。
結合剤に用いられる樹脂は、目的とする強度、耐久性などの諸物性を満たす樹脂層を形成しうる限り、特に制限はない。公知の膜形成性樹脂から目的に応じて適宜選択して、結合剤として用いることができる。

結合剤に用いる樹脂は、単独重合体（ホモポリマー）であってもよく、共重合体（コポリマー）であってもよい。結合剤に用いる樹脂は、公知の電子線硬化型樹脂であってよい。
結合剤に用いる樹脂としては、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を（共）重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選択したものを単独で用いることができ、又は複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものは、ポリウレタン、アクリル樹脂、セルロース樹脂及び塩化ビニル樹脂である。

結合剤としての樹脂は、磁性層に含まれる強磁性粉末の分散性をより向上させるため、粉体表面に吸着し得る官能基、例えば、極性基を分子内に有することが好ましい。結合剤としての樹脂が有し得る好ましい官能基としては、例えば、−ＳＯ_３Ｍ、−ＳＯ_４Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）_２、−ＯＰＯ（ＯＭ）_２、−ＣＯＯＭ、＝ＮＳＯ_３Ｍ、＝ＮＲＳＯ_３Ｍ、−ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｎ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｘ⁻などが挙げられる。ここで、Ｍは水素原子またはＮａ、Ｋ等のアルカリ金属原子を表す。Ｒはアルキレン基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基を表す。ＸはＣｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子を表す。
結合剤としての樹脂が上記官能基を有する場合、樹脂中の官能基の含有量は０．０１ｍｅｑ／ｇ以上２．０ｍｅｑ／ｇ以下が好ましく、０．３ｍｅｑ／ｇ以上１．２ｍｅｑ／ｇ以下がさらに好ましい。樹脂における官能基の含有量が上記範囲内にあることで、磁性層における強磁性粉体等の分散性がより良好となり、磁性密度がより向上するため好ましい。

これらのなかでも、結合剤に用いる樹脂としては、−ＳＯ_３Ｎａ基を含むポリウレタンがより好ましい。ポリウレタンが−ＳＯ_３Ｎａ基を含む場合、−ＳＯ_３Ｎａ基は、ポリウレタンに対し、０．０１ｍｅｑ／ｇ〜１．０ｍｅｑ／ｇで含まれることが好ましい。
結合剤は、市販の樹脂を適宜使用できる。

結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下とすることができる。
本開示における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー株式会社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー株式会社製、７．８ｍｍＩＤ（Ｉｎｎｅｒ Ｄｉａｍｅｔｅｒ）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
試料濃度：０．５質量％
サンプル注入量：１０μｌ
流速：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度：４０℃
検出器：ＲＩ検出器

磁性層における結合剤の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、例えば１質量部〜３０質量部の範囲とすることができ、２質量部〜２０質量部の範囲とすることが好ましい。

（他の添加剤）
磁性層は、既述の強磁性粉末及び結合剤に加え、磁性層の効果を損なわない範囲にて、目的に応じて種々の添加剤を含有することができる。
添加剤としては、例えば、研磨剤、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラック等を挙げることができる。また、添加剤としては、必要に応じて、無機フィラーとしてのコロイド粒子も用いることができる。
添加剤は、所望の性質に応じて、市販品を適宜使用できる。

［非磁性層］
非磁性層は、磁性層の薄層化等に寄与する層である。非磁性層は、フィラーとしての非磁性粉末及び膜形成成分である結合剤を含む層であることが好ましく、更に目的に応じて添加剤を含んでよい。

非磁性層は、非磁性支持体と磁性層との間に設けることができる。非磁性層には、磁性を有しない層、及び、不純物として又は意図的に少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層が包含される。
ここで「非磁性」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、又は、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であることをいい、好ましくは、残留磁束密度と保磁力を持たないことを意味する。

（非磁性粉末）
非磁性粉末は、フィラーとして機能する、磁性を有しない粉末である。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機粉末でも有機粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機粉末としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末が挙げられる。非磁性粉末は、１種単独で使用でき、又は２種以上を組み合わせて使用することもできる。非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。

具体的には二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単独または２種類以上を組み合わせて使用することができる。好ましいものは、α−酸化鉄、酸化チタンである。

非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれでもあってもよい。非磁性粉末の結晶子サイズは、４ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、４０ｎｍ〜１００ｎｍがさらに好ましい。結晶子サイズが４ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であれば、分散が困難になることもなく、また好適な表面粗さを有するため好ましい。これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ〜５００ｎｍが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１０ｎｍ〜２００ｎｍである。５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であれば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さを有するため好ましい。

非磁性層における非磁性粉末の含有率（充填率）は、好ましくは５０質量％〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０質量％〜９０質量％の範囲である。

非磁性層における「結合剤」及び「添加剤」は、「磁性層」の項において説明した「結合剤」及び「添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様である。

非磁性層の厚みは、０．０５μｍ〜３．０μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜２．０μｍであることがより好ましく、０．０５μｍ〜１．５μｍであることが更に好ましい。

［バックコート層］
バックコート層は、経時安定性、走行安定性等に寄与する層である。バックコート層は、フィラーとしての非磁性粉末及び膜形成成分である結合剤を含有する層であることが好ましく、目的に応じて、更に添加剤を含んでよい。

バックコート層は、非磁性支持体の磁性層側とは反対側の表面に設けることができる。

バックコート層における「非磁性粉末」、は、「非磁性層」の項で説明した「非磁性粉末」と同義であり、好ましい態様も同様である。また、バックコート層における「結合剤」及び「添加剤」は、「磁性層」の項で説明した「結合剤」、及び「添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様である。

バックコート層の厚みは、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ〜０．７μｍであることがより好ましい。

＜磁気記録媒体の製造方法＞
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む磁性層形成用組成物を調製する工程（工程Ｃ）、非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を塗布する工程（工程Ｄ）、及び、非磁性支持体上の磁性層形成用組成物を乾燥させて磁性層を形成する工程（工程Ｅ）を含む。
好ましくは、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、コアシェル粒子を焼成して得られる焼成物のコアである。

（工程Ｃ）
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む磁性層形成用組成物を調製する工程（工程Ｃ）を含む。
イプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、好ましくは、平均一次粒径が６．０ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であり、より好ましくは、平均一次粒径が７．０ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であり、更に好ましくは、平均一次粒径が１０ｎｍ〜１５ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であり、特に好ましくは、平均一次粒径が１１．５ｎｍ〜１４．５ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満である。
また、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、好ましくは、平均一次粒径が６．０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、より好ましくは、平均一次粒径が７．０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、更に好ましくは、平均一次粒径が１０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、特に好ましくは、平均一次粒径が１１．５ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満である。
また、好ましくは、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、本開示のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法に従って得られるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子である。
また、好ましくは、強磁性粉末に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、本開示のコアシェル粒子を焼成して得られる焼成物のコアである。

工程Ｃは、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む強磁性粉末、結合剤、及び必要に応じて添加剤を、溶媒に添加すること及び分散することを含む。
組成物を調製するための「強磁性粉末」、「結合剤」、及び「添加剤」は、「磁性層」の項で説明した「強磁性粉末」、「結合剤」、及び「添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様である。

本開示の強磁性粉末、結合剤、非磁性粉末、添加剤など全ての原料は、工程Ｃの最初又は途中で添加してもかまわない。
個々の原料は、同時に添加してよく、又は２回以上に分割して添加してもかまわない。例えば、結合剤は、成分を分散させる工程において添加した後、分散後の粘度調整のために更に添加することができる。

磁性層形成用組成物の原料の分散には、例えばバッチ式縦型サンドミル、横型ビーズミルなどの公知の分散装置を用いることができる。分散ビーズとしては、例えばガラスビーズ、ジルコニアビーズ、チタニアビーズ、及びスチールビーズなどを用いることができる。分散ビーズの粒径（ビーズ径）及び充填率は、最適化して用いることができる。
また、磁性層形成用組成物の原料の分散は、例えば公知の超音波装置を用いて行うこともできる。
また、分散前に、磁性層形成用組成物の原料の少なくとも一部を、例えばオープンニーダを用いて混練することもできる。

磁性層形成用組成物の原料は、それぞれの原料ごとに溶液を調製した後に、混合してもよい。例えば、強磁性粉末を含む磁性液、及び研磨剤を含む研磨剤液をそれぞれ調製した後に、混合して、分散することができる。

組成物における強磁性粉末の含有量は、磁性層形成用組成物の全質量に対し、５質量％〜５０質量％が好ましく、１０質量％〜３０質量％がより好ましい。
磁性層形成用組成物における結合剤の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、１質量部〜３０質量部の範囲が好ましく、２質量部〜２０質量部の範囲とすることがより好ましい。

−溶媒−
溶媒は、強磁性粉末及び結合剤、必要に応じて添加剤を分散させるための媒体である。
溶媒は、１種のみであってよく、又は２種以上の混合溶媒であってもよい。溶媒としては、有機溶媒が好ましい。
有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系化合物、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコール系化合物、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル系化合物、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系化合物、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素系化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。好ましい有機溶媒は、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びこれらを任意の割合で含む混合溶媒を挙げることができる。

分散性を向上させるためには、ある程度極性が強い溶媒が好ましく、溶媒全質量に対し、誘電率が１５以上の溶媒が５０質量％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

（工程Ｄ）
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を塗布する工程（工程Ｄ）を含む。

組成物を塗布する塗布方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等の公知の方法を利用できる。塗布方法については、例えば（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。

（（磁場配向処理））
イプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布した後、組成物が乾燥する前に、組成物の塗布層を磁場配向処理することが好ましい。組成物の塗布層は、磁気テープの場合、組成物中に含まれる強磁性体であるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子にコバルト磁石やソレノイドを用いて磁場配向処理することが好ましい。ディスクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。また異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向することもできる。

（工程Ｅ）
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体上の磁性層形成用組成物を乾燥させて磁性層を形成する工程（工程Ｅ）を含む。
強磁性体であるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む組成物を非磁性支持体上で乾燥させることにより、磁性層が形成される。

−乾燥−
非磁性支持体上の組成物は、公知の方法で乾燥させることができる。乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できる様にすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。

（（カレンダー処理））
磁気記録媒体の製造方法は、工程Ｅの後に、磁性層を有する非磁性支持体をカレンダー処理することが好ましい。

磁性層を有する非磁性支持体は、巻き取りロールでいったん巻き取られた後、この巻き取りロールから巻き出されて、カレンダー処理に供することができる。カレンダー処理によって、表面平滑性が向上するとともに、乾燥時の溶媒の除去によって生じた空孔が消滅し、磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。カレンダー処理する工程は、磁性層の表面の平滑性に応じて、カレンダー処理条件を変化させながら行うことが好ましい。

カレンダー処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどを利用することができる。
カレンダーロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用することができる。また金属ロールで処理することもできる。

カレンダー処理条件としては、カレンダーロールの温度を、例えば６０℃〜１２０℃の範囲、好ましくは８０℃〜１００℃の範囲とすることができ、圧力は、例えば１００ｋｇ／ｃｍ〜５００ｋｇ／ｃｍ（９８ｋＮ／ｍ〜４９０ｋＮ／ｍ）の範囲、好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍ（１９６〜４４１ｋＮ／ｍ）の範囲とすることができる。

［非磁性層及びバックコート層等の任意の層を形成する工程］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、必要に応じて、非磁性層及びバックコート層等の任意の層を形成する工程を含むことができる。
非磁性層及びバックコート層は、「工程Ｃ」、「工程Ｄ」、及び「工程Ｅ」と同様にして形成することができる。
なお、「非磁性層」及び「バックコート層」の項に記載したように、非磁性層は、非磁性支持体と磁性層との間に設けることができ、バックコート層は、非磁性支持体の磁性層側とは反対側の表面に設けることができる。

非磁性層の形成用組成物、及びバックコート層の形成用組成物は、「非磁性層」及び「バックコート層」の項に記載した成分及び含有量で調製することができる。

以下、本開示を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。

＜実施例１＞
（原料Ａ）
純水９１ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．１ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物１．１ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物１８８ｍｇ、硫酸チタン（ＩＶ）１４９ｍｇ、及びポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）１．１５gを溶解させ、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、２５℃の条件下で、２５％アンモニア水溶液３．７ｇを添加し、そのまま２時間撹拌した。この溶液に、クエン酸０．９ｇを水９．１gに溶かした溶液を加え、１時間撹拌した。沈殿した粉を遠心分離で採集して、純水で洗浄した後、８０℃で乾燥させ、粉末Ａを得た。粉末ＡのＸＲＤパターンから、β−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有するオキシ水酸化鉄系化合物（Ｇａ_0.12Ｃｏ_0.025Ｔｉ_0.025Ｆｅ_0.83ＯＯＨ）が生成していることを確認した。ＸＲＤは、Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ（ＰＡＮａｎａｌｙｔｉｃａｌ社製）を用いて解析した。
上記オキシ水酸化鉄系化合物の組成は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析法により確認した。具体的には、上記粉末Ａ１２ｍｇ及び４ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液１０ｍｌを入れた容器を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持し、溶解液を得た。次いで、得られた溶解液を０．１μｍのメンブレンフィルタを用いてろ過した。このようにして得られたろ液の元素分析を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析装置（製品名：ＩＣＰＳ−８１００、（株）島津製作所）を用いて行った。得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求めた。

粉末Ａ１ｇにオレイン酸１．２ｇを加えて自動乳鉢にて２４時間解砕を行い、ペースト状の原料Ａを得た。シクロヘキサン１８０ｍｌを激しく撹拌しながら界面活性剤としてＩＧＥＰＡＬ（登録商標）ＣＯ５２０（Ｒｈｏｄｉａ社製）７．４ｍｌを添加し、そのまま１時間撹拌した後、２５質量％アンモニア水溶液（和光純薬製）を２．２ｍｌ、及び原料Ａを添加し、撹拌を３０分続けた。その後、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）５．４ｍＬを１時間かけて滴下し、さらに２５℃の恒温槽中で２４時間撹拌した。この溶液にエタノールを１５０ｍｌ加え、生成した沈殿物をデカンテーションで採集し、計３回エタノールで洗浄し、８０℃で乾燥させることで、粉末Ｂを得た。この粉末Ｂを透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより、β−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有するオキシ水酸化鉄系化合物（Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66ＯＯＨ）をコアとし、金属アルコキシドの重縮合物であるＳｉＯ_２をシェルとするコアシェル粒子が形成していることが確認された。上記オキシ水酸化鉄系化合物の組成は、実施例１の粉末Ａについて行った手順と同じ手順により測定した。また、このコア部分の面積及びシェル部分の面積比、並びにケイ素及び鉄の原子量から換算したＦｅ/Ｓｉ元素質量比は、１／１０であることが算出された。

得られた粉末Ｂを、炉内に装填し、大気雰囲気下、１０３８℃で４時間の熱処理を施し、熱処理粉とした。熱処理粉を、液温７０℃の４モル／Ｌの水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液中に投入して２４時間撹拌することにより、熱処理粉からケイ素酸化物を除去した。残渣を遠心分離によって採集し、純水で残渣を洗浄することにより、ε-Ｆｅ_２Ｏ_３相を有するイプシロン型酸化鉄系化合物粒子（ε−Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66Ｏ_３）を得た。上記イプシロン型酸化鉄系化合物の組成は、実施例１の粉末Ａについて行った手順と同じ手順により測定した。後述する方法で算出したイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の平均一次粒径は、１２．１ｎｍであった。

（平均一次粒径及び変動係数）
イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の粉末を、株式会社日立ハイテクノロジーズ製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いて撮影倍率８００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の写真を得た。得られた粒子の写真から任意の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし、トレースした領域と同じ面積の円の直径（円面積相当径）を算出することで「一次粒径」を求めた。円面積相当径の算出には、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いた。なお、一次粒径とは、凝集のない独立した粒子の粒径をいう。
こうして得られた５００個のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の一次粒径の算術平均を「平均一次粒径」とした。
また、５００個のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子について得られた一次粒径の標準偏差を平均一次粒径で除算した値である「変動係数」を用いて、以下の評価を行った。

（サイズ分布の評価）
本開示のコアシェル粒子の焼成後のコアであるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の一次粒径に基づいて得られる変動係数の値に基づいて、サイズ分布を以下のように評価した。
５： 変動係数が０．３未満である。 （最もサイズ分布が小さく良好）
４： 変動係数が０．３以上０．４未満である。
３： 変動係数が０．４以上０．５未満である。
２： 変動係数が０．５以上０．６未満である。
１： 変動係数が０．６以上である。

＜実施例２＞
原料Ａを以下で得られる原料Ｂに代えた他は実施例１と同様にして、コアシェル粒子を得た。図１に、実施例２のコアシェル粒子のＴＥＭ画像を示す。図１において、実施例２のコアシェル粒子は、独立して存在すること、すなわち複数のコアシェル粒子間でシェルが共有されていないことが確認された。なお、コアシェル粒子１個は、１個のコアを含み、コアはそれぞれ個別的にシェルで被覆されていることも確認された。
上記コアシェル粒子について、焼成条件を１２１５℃で１００時間に変更した以外は、実施例１と同様にして、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子（ε−Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66Ｏ_３）を得た。上記イプシロン型酸化鉄系化合物の組成は、実施例１の粉末Ａについて行った手順と同じ手順により測定した。得られたイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の平均一次粒径は、１２．４ｎｍであった。

（原料Ｂ）
３口フラスコに、１−オクタデセン１０５ｇ、ステアリン酸鉄（ＩＩＩ）１８．２ｇ、オレイン酸２．０ｇ、ガリウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート１．４ｇ、チタン（ＩＶ）アセチルアセトナート０．１８ｇ、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート０．１７ｇを添加し、還流管、熱電対、及び耐熱性スターラーチップを入れて、撹拌しながら３１７℃まで３．２℃／分の昇温速度で加熱した。その後、３０分３２０℃程度で撹拌し続け、室温に戻して黒色の分散液を得た。

遠心分離用の容器へ分散液を移し、シクロヘキサンを２４０ｍｌ添加して激しく振とうした後、遠心分離を７６００ｒｐｍで１２分間行い、沈殿物を回収して、計３回シクロヘキサンで洗浄し、８０℃で乾燥させることで、原料Ｂを得た。原料ＢのＸＲＤパターンから、スピネル構造を有する酸化鉄系化合物（Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66Ｏ_３、Ｇａ_0.375Ｃｏ_0.075Ｔｉ_0.075Ｆｅ_2.475Ｏ₄）が混晶で生成していることを確認した。なお、ＸＲＤは、Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ（ＰＡＮａｎａｌｙｔｉｃａｌ社製）を用いて解析した。上記酸化鉄系化合物の組成は、実施例１の粉末Ａについて行った手順と同じ手順により測定した。
また、原料ＢのＴＥＭ観察から、スピネル構造を持つ酸化鉄系化合物（Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66Ｏ_３、Ｇａ_0.375Ｃｏ_0.075Ｔｉ_0.075Ｆｅ_2.475Ｏ₄）をコアとし、ＳｉＯ_２をシェルとするコアシェル粒子が形成されていることを確認した。上記酸化鉄系化合物の組成は、実施例１の粉末Ａについて行った手順と同じ手順により測定した。また、コア部分の面積及びシェル部分の面積比、並びにケイ素及び鉄の原子量から換算したＦｅ/Ｓｉ元素質量比は、１／９と算出された。

＜実施例３＞
実施例１のテトラエトキシシランの添加量を０．６ｍｌとした以外は、実施例１と同様にして、実施例３の試料を得た。

＜実施例４＞
実施例１のテトラエトキシシランの添加量を２．３ｍｌとした以外は、実施例１と同様にして、実施例４の試料を得た。

＜実施例５＞
実施例１のテトラエトキシシランの添加量を８．２ｍｌとした以外は、実施例１と同様にして、実施例５の試料を得た。

＜実施例６＞
実施例１のテトラエトキシシランの添加量を１５．９ｍｌとした以外は、実施例１と同様にして、実施例６の試料を得た。

＜実施例７＞
実施例２のテトラエトキシシランの添加量を０．６ｍｌとした以外は、実施例２と同様にして、実施例7の試料を得た。

＜実施例８＞
実施例２のテトラエトキシシランの添加量を２．５ｍｌとした以外は、実施例２と同様にして、実施例８の試料を得た。

＜実施例９＞
実施例２のテトラエトキシシランの添加量を８．４ｍｌとした以外は、実施例２と同様にして、実施例９の試料を得た。

＜実施例１０＞
実施例２のテトラエトキシシランの添加量を１６．２ｍｌとした以外は、実施例２と同様にして、実施例１０の試料を得た。

＜比較例１＞
特開２０１５−１５３９１８号公報の実施例１の記載に従って試料を作製し、評価を行った。詳細は、以下の通りである。
ナイタール４８．９ｇ（メタノールに体積で３．１％の硝酸を加えた溶液）に２８．１ｇの水を加え，均一になるように撹拌した。この溶液にテトラアルコキシシラン類としてのテトラメトキシシランの４量体（多摩工業化学社製、商品名：シリケート５１）３１ｇを徐々に添加した。この溶液中の溶媒であるメタノールと水とを徐々に蒸発させながら濃縮し、溶液を増粘させた。この溶液の粘度が１Ｐａ・ｓ〜５Ｐａ・ｓ程度になった際に、この溶液に、Ｆｅ含有粉末としてのＦｅＣｏ合金粉末（Ｆｅ：７０質量％）を混合し、激しく撹拌した。ＦｅＣｏ合金粉末の混合量は、最終的に得られる組成物中ＴＥＭ観察から得られるＦｅ/Ｓｉ元素質量比が１／１０となるように設定した。なお、使用したＦｅＣｏ合金粉末の平均一次粒径は、０．９７μｍであった。

得られたゲル状物質を乾燥させて固形化した後、乳鉢を用いて粉砕した。この粉砕物を、真空オーブン（１８ｈＰａ以下）を使用して１２０℃にて２０時間の条件で加熱乾燥させた。この乾燥物を真空高温熱処理炉にて焼成した。焼成条件としては、昇温速度２４５℃／時間で１２１０℃まで昇温し、１２００℃で３．５時間保持した後、室温まで冷却した。得られた粉末をＴＥＭで観察した結果、ＳｉＯ_２のマトリックス中にＦｅＣｏが存在している態様が確認されたが、コアシェル粒子として独立に存在する態様は確認されなかった。
上記比較例１の粉末について、実施例と同様の評価を行った。

＜比較例２＞
特許第５３４７１４６号公報に記載の実施例に従って試料を作製し、実施例と同様の評価を行った。比較例２の試料の作製の詳細は、以下の通りである。
（１）ミセル溶液Ａおよびミセル溶液Ｂの調製
（１−１）イオン交換水５３ｍｌ、ｎ−オクタン１６５ｍｌ及び１−ブタノール３４ｍｌを混合する。この溶液に、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物を０．０１４ｍｏｌ添加し、室温でよく撹拌しながら溶解させた。さらに、界面活性剤として臭化セチルトリメチルアンモニウムを、イオン交換水／界面活性剤のモル比が２９．５となる量で添加して撹拌することにより、ミセル溶液Ａを得た。

（１−２）２５％のアンモニア水１８．１ｍｌをイオン交換水３４．１ｍｌに添加して撹拌した後、さらにｎ−オクタン１６５ｍｌと１−ブタノール３４ｍｌを加えてよく撹拌した。この溶液に、界面活性剤として臭化セチルトリメチルアンモニウムを、（イオン交換水＋アンモニア水中の水分）／界面活性剤のモル比が３０．５となる量で添加して撹拌することにより、ミセル溶液Ｂを得た。

（２）ミセル溶液Ａに対してミセル溶液Ｂを激しく撹拌しながら滴下した。滴下が終了した後、ミセル溶液Ａとミセル溶液Ｂとの混合液を８０分間撹拌し続けた。
（３）得られたＡＢ混合液を撹拌しながら、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）１４．８ｍｌを加え２４時間撹拌する。この工程により、鉄化合物の粉末の表面にＳｉＯ_２の層が形成された。

（４）得られた溶液を遠心分離機によって遠心分離処理した。この処理で得られた沈殿物を回収した。回収された沈殿物をエタノールで複数回洗浄して乾燥させた後、粉末として回収した。この粉末のＸＲＤパターンから、オキシ水酸化鉄のパターンが見られたが、βの単相ではなく、複相となっていた。
ここで得られた粉末（比較例２の焼成前の粉末）をＴＥＭで観察した結果を図２に示す。図２において、ＳｉＯ_２のシェル中に複数のオキシ水酸化鉄粒子が存在している態様、及びマトリックス状のＳｉＯ_２中にオキシ水酸化鉄粒子が凝集している態様などが確認されたが、コアシェル粒子として独立に存在する態様は確認されなかった。

（５）上記粉末を大気雰囲気、１０５０℃で４時間焼成した。焼成後の粉末を９ｍｏｌ／ｌのＮａＯＨ水溶液中で５０℃２４時間撹拌し、粉末表面に存在するＳｉＯ_２を除去し、濾過した後水洗いし、乾燥させることにより、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３を含む粉末が得られた。この粉末を、水素気流中に４００℃の雰囲気温度で４０時間放置することにより、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の粒子の表面を還元し、さらに５０℃酸素濃度０．４％の雰囲気２４時間放置し、還元後のε−Ｆｅ_２Ｏ_３表面に保護層を形成した。上記によって、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３を含むコアと、Ｆｅを主成分とするシェルとを有する粉末（比較例２の粉末）が作製された。

上記比較例２の粉末について、実施例と同様の評価を実施した。

［磁気記録媒体（磁気テープ）の作製］
（１）磁性層形成用組成物処方
（磁性液）
強磁性粉末（上記実施例または比較例で作製した粉末）：１００．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：１４．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．４ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン：１５０．０部
メチルエチルケトン：１５０．０部
（研磨剤液）
−研磨剤液Ａ−
アルミナ研磨剤（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）:３．０部
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂：０．３部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ₃Ｎａ基：０．３ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン：２６．７部
−研磨剤液Ｂ−
ダイヤモンド研磨剤（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）:１．０部
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂:０．１部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ₃Ｎａ基：０．３ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン：２６．７部
（シリカゾル）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）：０．２部
メチルエチルケトン：１．４部
（その他成分）
ステアリン酸：２．０部
ブチルステアレート：６．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート）：２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン：２００．０部
メチルエチルケトン：２００．０部

（２）非磁性層形成用組成物処方
非磁性無機粉末 α−酸化鉄：１００．０部
平均粒子サイズ：１０ｎｍ
平均針状比：１．９
ＢＥＴ比表面積：７５ｍ²／ｇ
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２５．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：１８．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
ステアリン酸：１．０部
シクロヘキサノン：３００．０部
メチルエチルケトン：３００．０部

（３）バックコート層形成用組成物処方
非磁性無機粉末 α−酸化鉄：８０．０部
平均粒子サイズ：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２０．０部
塩化ビニル共重合体：１３．０部
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１５５．０部
メチルエチルケトン：１５５．０部
ステアリン酸：３．０部
ブチルステアレート：３．０部
ポリイソシアネート：５．０部
シクロヘキサノン：２００．０部

（４）磁気テープの作製
磁性液は、上記磁性液の処方中の成分を混合し、バッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散して調製した。分散ビーズとしては、粒径０．５ｍｍΦのジルコニアビーズを使用した。研磨剤液は、上記研磨剤液の処方中の成分を混合し、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ，３００Ｗ）で２４時間分散して調製した。これらの分散液を他の成分（シリカゾル、その他成分及び仕上げ添加溶媒）と混合後、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ、３００Ｗ）で３０分処理を行った。その後、０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過して磁性層形成用組成物を作製した（なお、比較例１の粉末を用いた場合は、フィルタ径が１．２μｍのフィルタを使用した）。
非磁性層形成用組成物については、各成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて、２４時間分散した。分散ビーズとしては、粒径０．１ｍｍΦのジルコニアビーズを使用した。得られた分散液を０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過を行い非磁性層形成用組成物を作製した。

バックコート層形成用組成物は、潤滑剤（ステアリン酸及びブチルステアレート）とポリイソシアネート、シクロヘキサノン２００．０部を除いた各成分をオープンニーダにより混練及び希釈した後、横型ビーズミル分散機により、粒径１ｍｍΦのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パス滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。その後、残りの成分を分散液に添加し、ディゾルバーで撹拌した。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過しバックコート層形成用組成物を作製した。
その後、厚み５μｍのポリエチレンナフタレート製支持体に、乾燥後の厚みが１００ｎｍになるように非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた後、その上に乾燥後の厚みが７０ｎｍになるように磁性層用形成組成物を塗布した。

この磁性層形成用組成物が未乾状態にあるうちに、磁場強度０．６Ｔの磁場を、塗布面に対し垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、乾燥させた。その後、上記支持体の塗布面の反対側に、乾燥後の厚みが０．４μｍになるようにバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させた。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダで、速度１００ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、カレンダロールの表面温度１００℃で表面平滑化処理（カレンダ処理）を行った後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間熱処理を行った。熱処理後、１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、磁気テープを得た。

［磁気テープの評価方法］
１．電磁変換特性（ＳＮＲ）の評価
作製した各磁気テープに対して、下記条件で磁気信号をテープ長手方向に記録し、磁気抵抗効果型（ＭＲ；Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドで再生した。再生信号をシバソク製スペクトラムアナライザーで周波数分析し、３００ｋｆｃｉの出力と、０〜６００ｋｆｃｉ範囲で積分したノイズとの比をＳＮＲとした。
（記録再生条件）
記録：記録トラック幅５μｍ
記録ギャップ０．１７μｍ
ヘッド飽和磁束密度Ｂｓ１．８Ｔ
再生：再生トラック幅０．４μｍ
シールド間距離（ｓｈ−ｓｈ距離）０．０８μｍ
記録波長：３００ｋｆｃｉ

（ＳＮＲの評価）
５： ノイズがほぼなく、シグナルが良好でエラーも見られず実用上問題なし
４： ノイズが小さく、シグナルが良好で実用上問題なし。
３： ノイズが見られるが、シグナルが良好なため実用上問題なし。
２： ノイズが大きく、シグナルが不明瞭で実用上問題あり。
１： ノイズとシグナルの区別ができないか記録でできておらず、実用上問題あり。

実施例１及び３〜６の結果から、コアがβ−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有するオキシ水酸化鉄系化合物（Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66ＯＯＨ）である実施例１及び３〜６のコアシェル粒子は、ケイ素に対する鉄の元素質量比（Ｆｅ／Ｓｉ比）が、１／１〜１／３０であることが示された。また、それらのコアシェル粒子を焼成して得られた焼成物のコアであるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、平均一次粒径が、１１．２ｎｍ〜１４．２ｎｍであり、かつ良好なサイズ分布を有する（すなわち一次粒径の変動係数が小さい）こと、及び磁気テープとした場合に良好なＳＮＲを有することが示された。また、コアシェル粒子のＦｅ／Ｓｉ比が、１／２〜１／１５である場合に、生成したイプシロン型酸化鉄系化合物粒子のサイズ分布がより良好であり（すなわち一次粒径の変動係数がより小さく）、かつ磁気テープとした場合のＳＮＲがより良好であることが示された。

実施例２及び７〜１０の結果から、コアがスピネル構造を有する酸化鉄（Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66Ｏ_３、Ｇａ_0.375Ｃｏ_0.075Ｔｉ_0.075Ｆｅ_2.475Ｏ₄）である実施例２及び７〜１０のコアシェル粒子は、Ｆｅ／Ｓｉ比が１／１〜１／３０であることが示された。また、それらのコアシェル粒子を焼成して得られた焼成物のコアであるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、平均一次粒径が、１０．４ｎｍ〜１２．５ｎｍであり、かつ良好なサイズ分布を有する（すなわち一次粒径の変動係数が小さい）こと、及び磁気テープとした場合に良好なＳＮＲを有することが示された。また、コアシェル粒子のＦｅ／Ｓｉ比が、１／２〜１／１５である場合に、生成したイプシロン型酸化鉄系化合物粒子のサイズ分布がより良好であり（すなわち一次粒径の変動係数がより小さく）、かつ磁気テープとした場合のＳＮＲがより良好であることが示された。

他方、本開示のコアシェル粒子を形成しない比較例１により得られたイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、平均一次粒径が１０００ｎｍ超であること、及び磁気テープとした場合のＳＮＲが不良であることが示された。

本開示のコアシェル粒子を形成しない比較例２により得られたイプシロン型酸化鉄系化合物粒子は、平均一次粒径が２３．４ｎｍであり、かつサイズ分布が不良である（すなわち一次粒径の変動係数が大きい）こと、及び磁気テープとした場合のＳＮＲが不良であることが示された。

本開示のコアシェル粒子は、一次粒径の変動係数が小さく、かつ、磁気記録媒体に使用した場合に良好なＳＮＲを示すイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を提供することができることから、優れた磁気特性を有する磁気記録媒体の製造などに好ましく使用することができる。

Claims (22)

1. コアシェル粒子であって、
   Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物、又は下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物を含有するコアと、
   前記コアを被覆する金属アルコキシドの重縮合物を含むシェルと、
   を含み、
   前記コアシェル粒子１個が、前記コアを１個含み、
   前記コアシェル粒子は、焼成されることにより、焼成後の前記シェルで被覆された前記コアが、平均一次粒径が６．０ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子となるものである、
   コアシェル粒子。
   Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
   式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。
   Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
   式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。
   Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
   式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。
2. 前記式（１−１）におけるＡ^１が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、請求項１に記載のコアシェル粒子。
3. 前記式（２−１）におけるＡ^２が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、請求項１又は請求項２に記載のコアシェル粒子。
4. 前記式（３−１）におけるＡ^３が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
5. 前記Ｆｅ_２Ｏ_３及び前記式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物が、スピネル型構造を有する、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
6. 前記式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物が、β−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有する、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
7. 前記金属アルコキシドが、ケイ素を含む金属アルコキシドである、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
8. ケイ素に対する鉄の元素質量比が、１／２〜１／１５である、請求項７に記載のコアシェル粒子。
9. コアシェル粒子の製造方法であって、
   Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物、又は下記の式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物を含有するコア成分を、界面活性剤を含む有機溶媒に乳化させる工程、及び前記乳化したコア成分を、金属アルコキシドの重縮合物を含むシェルで被覆する工程を含み、
   前記コア１個に対し、前記コアシェル粒子が１個形成され、
   前記コアシェル粒子は、焼成されることにより、焼成後の前記シェルで被覆された前記コアが、平均一次粒径が６．０ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．５未満であるイプシロン型酸化鉄系化合物粒子となるものである、
   コアシェル粒子の製造方法。
   Ａ^１ _ａ１Ｆｅ_２−ａ１Ｏ_３ （１−１）
   式（１−１）中、Ａ^１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０＜ａ１＜２を満たす。
   Ａ^２ _ａ２Ｆｅ_３−ａ２Ｏ_４ （２−１）
   式（２−１）中、Ａ^２は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ２は、０＜ａ２＜２を満たす。
   Ａ^３ _ａ３Ｆｅ_１−ａ３ＯＯＨ （３−１）
   式（３−１）中、Ａ^３は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ３は、０＜ａ３＜１を満たす。
10. 前記界面活性剤が、非イオン性界面活性剤である、請求項９に記載のコアシェル粒子の製造方法。
11. 前記式（１−１）におけるＡ^１が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、請求項９又は請求項１０に記載のコアシェル粒子の製造方法。
12. 前記式（２−１）におけるＡ^２が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、請求項９〜請求項１１のいずれか１項に記載のコアシェル粒子の製造方法。
13. 前記式（３−１）におけるＡ^３が、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素である、請求項９〜請求項１２のいずれか１項に記載のコアシェル粒子の製造方法。
14. 前記Ｆｅ_２Ｏ_３及び前記式（１−１）で表される化合物、並びにＦｅ_３Ｏ_４及び下記の式（２−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の酸化鉄系化合物が、スピネル型構造を有する、請求項９〜請求項１３のいずれか１項に記載のコアシェル粒子の製造方法。
15. 前記式（３−１）で表されるオキシ水酸化鉄系化合物が、β−オキシ水酸化鉄と同じ構造を有する、請求項９〜請求項１４のいずれか１項に記載のコアシェル粒子の製造方法。
16. 前記金属アルコキシドが、ケイ素を含む金属アルコキシドである、請求項９〜請求項１５のいずれか１項に記載のコアシェル粒子の製造方法。
17. 前記コアシェル粒子におけるケイ素に対する鉄の元素質量比が、１／２〜１／１５である、請求項１６に記載のコアシェル粒子の製造方法。
18. 請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載のコアシェル粒子を形成する工程、
    前記コアシェル粒子を焼成する工程、及び、
    前記コアシェル粒子のシェルを除去する工程、
    を含む、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法。
19. 請求項９〜請求項１７のいずれか１項に記載のコアシェル粒子の製造方法に従って、コアシェル粒子を形成する工程、
    前記コアシェル粒子を焼成する工程、及び、
    前記コアシェル粒子のシェルを除去する工程、
    を含む、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法。
20. 平均一次粒径が６．０ｎｍ〜１２．３ｎｍであり、かつ、一次粒径の変動係数が０．４未満であり、ε−Ｆｅ _２ Ｏ _３ 及び下記の式（４−１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物から形成されている、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子。
    ε−Ａ ^４ _ａ４ Ｆｅ _２−ａ４ Ｏ _３ （４−１）
    式（４−１）中、Ａ ^４ は、Ｇａ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を表し、ａ４は、０＜ａ４＜２を満たす。
21. 請求項２０に記載のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む、磁気記録媒体。
22. 請求項２０に記載のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子を含む磁性層形成用組成物を調製する工程、
    非磁性支持体上に前記磁性層形成用組成物を塗布する工程、及び、
    前記非磁性支持体上の前記磁性層形成用組成物を乾燥させて磁性層を形成する工程、
    を含む、磁気記録媒体の製造方法。

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