JP6739401B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

本開示は、磁気記録媒体に関する。

磁気テープ等の磁気記録媒体としては、生産性及び汎用性の観点から、強磁性粉末を結合剤（所謂、バインダー）中に分散した磁性層を非磁性支持体上に塗布した塗布型の磁気記録媒体が広く用いられている。このような塗布型の磁気記録媒体では、例えば、走行中に生じ得る磨耗、傷付き等のテープダメージを低減するために、磁性層に、アルミナ等の研磨剤を添加したり、カーボンブラック等の固体潤滑剤又は脂肪酸エステル等の液体潤滑剤を添加することが、一般的に行われている。

例えば、非磁性支持体上に、強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、上記強磁性粉末が、総量１００質量％に対してＡｌ_２Ｏ_３換算で３質量％〜１２質量％のＡｌを含む強磁性六方晶フェライト粉末であり、上記磁性層は研磨剤を更に含み、かつ走査型電子顕微鏡により磁性層の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される研磨剤の平面視最大面積が、上記領域の総面積を１００％として０．０６％未満である磁気記録媒体が知られている（例えば、特許文献１参照）。

また、非磁性支持体上に、非磁性粉末及び結合剤を含む非磁性層と強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体であって、上記非磁性層は、厚みが３００ｎｍ以下であり、上記磁性層表面で測定される複合弾性率は６．０ＧＰａ〜８．０ＧＰａの範囲であり、上記磁性層は１４ｍ^２／ｇ〜４０ｍ^２／ｇの範囲のＢＥＴ法による比表面積を有する研磨剤を含み、かつ磁性層表面の表面研磨剤占有率は０．２％〜２％の範囲である磁気記録媒体が知られている（例えば、特許文献２参照）。

また、非磁性の支持体と、上記支持体の一方の面に積層形成された磁性層とを備えた磁気テープ本体と、上記磁気テープ本体の上記磁性層が形成された側の表面に形成された磁性層側潤滑剤層を備えた磁気テープであって、上記潤滑剤層が、紫外線硬化型シリコーン樹脂とシリコーンオイルとを含んでいる磁気テープが知られている（例えば、特許文献３参照）。

特開２０１４−１７９１４９号公報 特開２０１３−２２９０９０号公報 特開２０１７−０４１２９３号公報

上記のとおり、研磨剤は、塗布型の磁気記録媒体の耐久性の向上に寄与し得る成分の１つである。しかし一方で、研磨剤によれば、ヘッドの磨耗、傷付き等による磁性層の耐久性の低下、ノイズが増大することによる信号ノイズ比（ＳＮＲ：Signal to Noise Ratio）の低下といった現象が生じる場合がある。

一般的に、研磨剤の粒子は、磁性層中で凝集して存在している。磁性層中に存在する研磨剤の粒子の凝集が大きいと、局所的にＳＱ（Squareness Ratio）が低下することによるシグナル強度の低下量が大きくなるため、高いＳＮＲを実現することができない。また、磁性層中に存在する研磨剤の粒子の凝集が小さすぎると、研磨力が弱くなるため、デブリ（例えば、ヘッドのゴミ）が堆積し、初期特性としても高いＳＮＲを実現することが困難となる。磁気記録媒体には、更なる電磁変換特性の向上が求められており、研磨剤に起因するＳＮＲの低下はできるだけ避けたい。

この点に関し、特許文献１に記載の磁気記録媒体では、強磁性粉末としてＡｌを含む強磁性六方晶フェライト粉末を用い、かつ、磁性層において、研磨剤を従来よりもはるかに微粒子の状態で存在させることにより、また、特許文献２に記載の磁気記録媒体では、磁性層において、微粒子の研磨剤を磁性層の表面に適度に存在させることにより、優れた電磁変換特性、耐久性等を実現している。

ところで、近年、磁気記録媒体の高性能化に伴い、磁気材料として、ナノサイズの粒子でありながら、非常に大きな保磁力を発現するε−Ｆｅ_２Ｏ_３（イプシロン酸化鉄）の結晶構造体が注目されている。

本発明者らが、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体を磁気記録媒体に用いるために、種々の検討を重ねたところ、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体は、上向きのスピンの数が少ない（即ち、σｓが低い）ため、磁性層中に含有させた場合、併用する研磨剤の粒子の凝集の影響を受けやすく、局所的なＳＱの低下によるシグナル強度の低下が顕著となる傾向があることがわかった。
また、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体は、非常に微細な粒子であるため、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体を含む磁性層では、膜質が極めて弱くなる傾向がある。そのため、研磨剤と併用する場合には、塗膜破壊を防止するために、ある程度の量の研磨剤を磁性層の表面に露出させる必要がある。しかし、磁性層の表面における研磨剤の露出量が多いと、ＳＮＲが低下するという問題が生じ得ることもわかった。

さらに、本発明者らの検討によれば、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体を含む磁性層の耐久性は、例えば、特許文献１のように、研磨剤の粒子の凝集状態を解消させ、研磨剤を微粒子の状態で存在させるだけでは、向上させることはできないこと、また、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体を利用した磁気記録媒体のＳＮＲの低下は、例えば、特許文献２のように、磁性層の表面における研磨剤の存在量を最適化するだけでは、抑制できないことが判明した。

本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、磁性材料としてイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を含み、ＳＮＲが良好で、かつ、耐擦傷性に優れる磁性層を有する磁気記録媒体を提供することである。

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 非磁性支持体と、非磁性支持体の少なくとも一方の面上に、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子、研磨剤、及び結合剤を含む磁性層と、を有し、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径が、７ｎｍ以上１８ｎｍ以下であり、磁性層を平面視した場合における、研磨剤の平均円相当径が２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、かつ、研磨剤の円相当径の変動係数が３０％以上６０％以下である磁気記録媒体。

式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。

＜２＞ イプシロン型酸化鉄系化合物が、式（１）で表される化合物を含み、式（１）におけるＡが、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｔｉ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素である＜１＞に記載の磁気記録媒体。
＜３＞ 記録方式がリニア記録方式である＜１＞又は＜２＞に記載の磁気記録媒体。
＜４＞ 電磁波アシスト記録に用いられる＜１＞又は＜２＞に記載の磁気記録媒体。

本発明の一実施形態によれば、磁性材料としてイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を含み、ＳＮＲが良好で、かつ、耐擦傷性に優れる磁性層を有する磁気記録媒体が提供される。

以下、本発明を適用した磁気記録媒体の実施形態の一例について説明する。但し、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜、変更を加えて実施することができる。

本開示において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、各成分の量は、各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、複数種の物質の合計量を意味する。

本開示において、「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。

［磁気記録媒体］
本開示の磁気記録媒体は、非磁性支持体と、非磁性支持体の少なくとも一方の面上に、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子、研磨剤、及び結合剤を含む磁性層と、を有し、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径が、７ｎｍ以上１８ｎｍ以下であり、磁性層を平面視した場合における、研磨剤の平均円相当径が２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、かつ、研磨剤の円相当径の変動係数が３０％以上６０％以下である。
本開示の磁気記録媒体は、磁性材料としてイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を含み、ＳＮＲが良好で、かつ、耐擦傷性に優れる磁性層を有する磁気記録媒体である。

既述のとおり、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体は、ナノサイズの微粒子でありながら、非常に大きな保磁力を発現することから、磁性材料として注目されている。
本発明者らが、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体の磁気記録媒体への利用を試みたところ、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体は、上向きのスピンの数が少ない（換言すると、単位質量あたりの飽和磁化（σｓ）が低い）ため、磁性層中に含有させた場合に、併用する研磨剤の粒子の凝集の影響を受けやすく、局所的なＳＱの低下によるシグナル強度の低下が顕著となる傾向があることがわかった。シグナル強度の低下量が大きいと、高いＳＮＲを実現することが困難となる。
また、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体は、非常に微細な粒子であるため、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体を含有させた磁性層は、膜質が極めて弱く、併用する研磨剤の粒子の磁性層表面への露出量が少ないと塗膜破壊が生じ得ること、また、その一方で、磁性層表面への研磨剤の粒子の露出量が多いとＳＮＲが低下し得ることがわかった。
ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体は、σｓが低く、微粒子であるがゆえに、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体を用いる磁気記録媒体では、良好なＳＮＲと優れた耐久性とを両立させることが困難であった。

これに対し、本開示の磁気記録媒体では、磁性層における研磨剤の平面視した場合における平均円相当径及び円相当径の変動係数を制御することにより、磁性材料としてε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体を用いた場合に生じ得る、ＳＮＲ及び耐久性の問題を解決した。より詳細には、本開示では、平均円相当径が７ｎｍ以上１８ｎｍ以下の範囲内であるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子に対して、併用する研磨剤の平面視した場合における、平均円相当径を２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲内とし、かつ、円相当径の変動係数を３０％以上６０％以下の範囲内とすることにより、ＳＮＲが良好で、かつ、耐久性（具体的には、耐擦傷性）に優れる磁性層を有する磁気記録媒体を実現し得る。

本開示の磁気記録媒体に対し、特開２０１４−１７９１４９号公報（既述の特許文献１）及び特開２０１３−２２９０９０号公報（既述の特許文献２）に記載の磁気記録媒体では、磁性材料としてε−Ｆｅ_２Ｏ_３の結晶構造体を用いておらず、また、本発明者らの確認によれば、特許文献１及び特許文献２に記載の磁気記録媒体では、磁性層における研磨剤の平面視した場合における円相当径の変動係数が、本開示の範囲外であることが判明している。
したがって、特許文献１及び特許文献２に記載の磁気記録媒体における磁性材料を、本開示におけるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子に置き換えたとしても、ＳＮＲが良好で、かつ、耐擦傷性に優れる磁性層を有する磁気記録媒体を実現することはできないと考えられる。

本開示の磁気記録媒体に対し、特開２０１７−０４１２９３号公報（既述の特許文献３）に記載の磁気テープは、磁性材料としてε−Ｆｅ_２Ｏ_３を含んでいるが、本発明者らの確認試験によれば、磁性層における研磨剤の平面視した場合における平均円相当径及び円相当径の変動係数のいずれも、本開示の範囲外であることが判明している。
したがって、特許文献３に記載の磁気テープにおいて、磁性材料として、本開示におけるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を用いたとしても、ＳＮＲが良好で、かつ、耐擦傷性に優れる磁性層を有する磁気記録媒体を実現することはできないと考えられる。

−磁気記録媒体の層構成−
本開示の磁気記録媒体は、基材としての非磁性支持体と、磁気記録層としての磁性層とを有し、目的に応じて、その他の層を有していてもよい。
本開示の磁気記録媒体が有し得るその他の層としては、非磁性層、バックコート層等が挙げられる。

＜非磁性支持体＞
本開示の磁気記録媒体は、非磁性支持体を有する。
本開示において、「非磁性支持体」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、及び、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であること、の少なくとも一方を満たす支持体を意味する。

非磁性支持体としては、磁気記録媒体に用いられる公知の非磁性支持体であれば、特に制限なく用いることができる。
非磁性支持体の材料は、磁性を有しない材料の中から、磁気記録媒体の種類に応じて、成形性等の物性、耐久性などを考慮し、適宜選択することができる。非磁性支持体の材料としては、例えば、磁性材料を含まない樹脂材料、磁性を有しない無機材料等の材料が挙げられる。

樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアラミドを含む芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリイミド、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルホン、ポリベンゾオキサゾールなどの樹脂材料が挙げられる。
これらの中でも、樹脂材料としては、強度及び耐久性が良好であり、かつ、加工が容易であるとの観点から、ポリエステル及びポリアミド系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、及びポリアミドからなる群より選ばれる少なくとも１種がより好ましい。

非磁性支持体は、磁気記録媒体の使用形態に応じて選択される。
例えば、磁気記録媒体が磁気テープ、フレキシブルディスク等の形態をとる場合、非磁性支持体としては、可撓性を有する樹脂フィルム（又は樹脂シート）を用いることができる。

非磁性支持体として樹脂フィルムを用いる場合、樹脂フィルムは、未延伸フィルムでもよいし、一軸延伸、二軸延伸等の延伸フィルムでもよい。例えば、非磁性支持体としてポリエステルフィルムを用いる場合には、寸法安定性を向上させる観点から、二軸延伸したポリエステルフィルムを用いてもよい。
非磁性支持体に用いられる樹脂フィルムは、２層以上の積層構造を有していてもよい。例えば、特開平３−２２４１２７号公報に示されているように、磁性層を形成する面と、磁性層を形成しない面との表面粗さを変えるため等の目的で、２層の異なるフィルムを積層した非磁性支持体を用いることもできる。

非磁性支持体には、例えば、非磁性支持体の面上に設けられる磁性層との密着性を向上させる目的で、必要に応じて、予めコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等の表面処理が施されていてもよい。また、非磁性支持体には、例えば、磁性層への異物の混入を抑制するため、防塵処理等の表面処理が施されていてもよい。
これらの表面処理は、公知の方法により行うことができる。

−非磁性支持体の厚み−
非磁性支持体の厚みは、特に制限はなく、磁気記録媒体の使用形態に応じて、適宜選択される。
例えば、非磁性支持体の厚みとしては、２．０μｍ以上８０．０μｍ以下であることが好ましく、３．０μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。

磁気記録媒体が磁気テープの形態をとる場合には、非磁性支持体の厚みは、２．０μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、３．０μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。
非磁性支持体の厚みが、２．０μｍ以上であると、成膜性が良好となり、かつ、より高い強度を得ることができる。
非磁性支持体の厚みが、８０．０μｍ以下であると、磁気テープ全体の厚みが無用に厚くなりすぎない。

非磁性支持体、及び以下に説明する磁気記録媒体の各層の厚みは、磁気記録媒体の厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面を走査型電子顕微鏡により観察し、観察した断面における、厚み方向の１箇所において測定した厚みとして、又は無作為に抽出した複数箇所（例えば、２箇所）において測定した厚みの算術平均として、求めることができる。

＜磁性層＞
本開示の磁気記録媒体は、既述の非磁性支持体の少なくとも一方の面上に、磁性層を有する。本開示の磁気記録媒体は、磁性層を、非磁性支持体の一方の面にのみ有していてもよいし、非磁性支持体の両方の面に有していてもよい。

磁性層は、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子、研磨剤、及び結合剤を含む。
以下、磁性層における各成分について、詳細に説明する。

（イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子）
磁性層は、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を含む。

式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。

式（１）で表される化合物は、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３のＦｅ^３＋イオンサイトの一部がＦｅ以外の金属元素で置換された化合物である。
ε−Ｆｅ_２Ｏ_３のＦｅ^３＋イオンサイトの一部をＦｅ以外の金属元素で置換することにより、例えば、磁気特性を調整したり、イプシロン型酸化鉄の結晶構造をより安定化させたりすることができる。

式（１）におけるＡは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素であれば、金属元素の種類及び数は、特に制限されない。
例えば、イプシロン型酸化鉄の結晶構造をより形成しやすく、かつ、形成された結晶構造をより安定化しやすいとの観点からは、式（１）におけるＡは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｒｈ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であることが好ましく、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｔｉ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であることがより好ましく、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｃｏ、及びＴｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であることが更に好ましい。
式（１）におけるａは、例えば、イプシロン型酸化鉄の結晶構造の形成性及び安定性の観点から、０．０１＜ａ＜１．８が好ましく、０．０５＜ａ＜１．５がより好ましい。

式（１）で表される化合物としては、例えば、下記の式（２）で表される化合物、下記の式（３）で表される化合物、下記の式（４）で表される化合物、下記の式（５）で表される化合物、及び下記の式（６）で表される化合物が挙げられる。

式（２）中、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、及びＩｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｚは、０＜ｚ＜２を満たす。

式（２）におけるｚは、例えば、イプシロン型酸化鉄の結晶構造の形成性及び安定性の観点から、好ましくは０．１＜ｚ＜１．９を満たし、より好ましくは０．２＜ｚ＜１．８を満たす。

式（２）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｇａ_{（０．４）}Ｆｅ_{（１．６）}Ｏ_３、ε−Ａｌ_{（０．３）}Ｆｅ_{（１．７）}Ｏ_３、ε−Ｉｎ_{（０．１）}Ｆｅ_{（１．９）}Ｏ_３等が挙げられる。

式（３）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｙは、０＜ｙ＜１を満たす。

式（３）におけるＸ及びＹの組み合わせの好ましい態様としては、例えば、磁気特性の分布を小さくしやすいとの観点から、ＸがＣｏであり、かつ、ＹがＴｉである態様、ＸがＺｎであり、かつ、ＹがＴｉである態様、又は、ＸがＭｎであり、かつ、ＹがＴｉである態様が挙げられる。
式（３）におけるｘ及びｙは、例えば、イプシロン型酸化鉄の結晶構造の形成性及び安定性の観点から、ｘが、０．０１＜ｘ＜０．９を満たし、かつ、ｙが、０．０１＜ｙ＜０．９を満たすことが好ましく、ｘが、０．０２＜ｘ＜０．８を満たし、かつ、ｙが、０．０２＜ｙ＜０．８を満たすことがより好ましい。

式（３）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｃｏ_{（０．０５）}Ｔｉ_{（０．０５）}Ｆｅ_{（１．９０）}Ｏ_３、ε−Ｚｎ_{（０．０２）}Ｔｉ_{（０．０２）}Ｆｅ_{（１．９６）}Ｏ_３等が挙げられる。

式（４）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、及びＩｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たす。

式（４）におけるＸ及びＺの組み合わせの好ましい態様としては、イプシロン型酸化鉄の結晶構造をより安定化させやすい、磁気特性の分布を小さくしやすい等の観点から、ＸがＣｏであり、かつ、ＺがＧａである態様、ＸがＺｎであり、かつ、ＺがＡｌである態様、又は、ＸがＣｏであり、かつ、ＺがＡｌである態様が挙げられる。
式（４）におけるｘ及びｚは、例えば、イプシロン型酸化鉄の結晶構造の形成性及び安定性の観点から、ｘが、０．０１＜ｘ＜０．９を満たし、かつ、ｚが、０．０１＜ｚ＜０．９を満たすことが好ましく、ｘが、０．０２＜ｘ＜０．８を満たし、かつ、ｚが、０．０２＜ｚ＜０．８を満たすことがより好ましい。

式（４）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｃｏ_{（０．０２）}Ｇａ_{（０．３８）}Ｆｅ_{（１．６）}Ｏ_３、ε−Ｚｎ_{（０．０１）}Ｇａ_{（０．３９）}Ｆｅ_{（１．６）}Ｏ_３等が挙げられる。

式（５）中、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、及びＩｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｙは、０＜ｙ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たす。

式（５）におけるＹ及びＺの組み合わせの好ましい態様としては、イプシロン型酸化鉄の結晶構造をより安定化させやすい、磁気特性の分布を小さくしやすい等の観点から、ＹがＴｉであり、かつ、ＺがＧａである態様、又は、ＹがＴｉであり、かつ、ＺがＡｌである態様が挙げられる。
式（５）におけるｙ及びｚは、例えば、イプシロン型酸化鉄の結晶構造の形成性及び安定性の観点から、ｙが、０．０１＜ｙ＜０．９を満たし、かつ、ｚが、０．０１＜ｚ＜０．９を満たすことが好ましく、ｙが、０．０２＜ｙ＜０．８を満たし、かつ、ｚが、０．０２＜ｚ＜０．８を満たすことがより好ましい。

式（５）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｔｉ_{（０．０１）}Ｇａ_{（０．３９）}Ｆｅ_{（１．６）}Ｏ_３、ε−Ｔｉ_{（０．０１）}Ａｌ_{（０．３９）}Ｆｅ_{（１．６）}Ｏ_３等が挙げられる。

式（６）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、及びＩｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｙは、０＜ｙ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たし、ｘ＋ｙ＋ｚ＜２である。

式（６）におけるＸ、Ｙ、及びＺの組み合わせの好ましい態様としては、イプシロン型酸化鉄の結晶構造をより安定化させやすい、磁気特性の分布を小さくしやすい等の観点から、ＸがＣｏであり、ＹがＴｉであり、かつ、ＺがＧａである態様、ＸがＣｏであり、ＹがＴｉであり、かつ、ＺがＡｌである態様、ＸがＺｎであり、ＹがＴｉであり、かつ、ＺがＧａである態様、又は、ＸがＺｎであり、ＹがＴｉであり、かつ、ＺがＡｌである態様が挙げられる。
式（６）におけるｘ、ｙ、及びｚは、例えば、イプシロン型酸化鉄の結晶構造の形成性及び安定性の観点から、ｘが、０．０１＜ｘ＜０．９を満たし、ｙが、０．０１＜ｙ＜０．９を満たし、かつ、ｚが、０．０１＜ｚ＜０．９を満たすことが好ましく、ｘが、０．０２＜ｘ＜０．８を満たし、ｙが、０．０２＜ｙ＜０．８を満たし、かつ、ｚが、０．０２＜ｚ＜０．８を満たすことがより好ましい。

式（６）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｃｏ_{（０．０５）}Ｔｉ_{（０．０５）}Ｇａ_{（０．３０）}Ｆｅ_{（１．６０）}Ｏ_３、ε−Ｃｏ_{（０．０５）}Ｔｉ_{（０．０５）}Ａｌ_{（０．３０）}Ｆｅ_{（１．６０）}Ｏ_３、ε−Ｚｎ_{（０．０５）}Ｔｉ_{（０．０５）}Ｇａ_{（０．３０）}Ｆｅ_{（１．６０）}Ｏ_３等が挙げられる。

これらの中でも、式（１）で表される化合物としては、イプシロン型酸化鉄の結晶構造の形成性の観点から、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物、又は式（６）で表される化合物が好ましく、式（２）で表される化合物又は式（６）で表される化合物がより好ましく、イプシロン型酸化鉄の結晶構造の形成性及び安定性の観点から、式（２）で表される化合物が更に好ましい。

イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の形状としては、特に制限はなく、例えば、球状、ロッド状、針状等の形状が挙げられる。
これらの中でも、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の形状としては、球状が好ましい。球状は、他の形状と比較して比表面積をより小さくできるため、分散及び配向の観点から好ましい。

イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径は、７ｎｍ以上１８ｎｍ以下であり、８ｎｍ以上１６ｎｍ以下であることが好ましく、９ｎｍ以上１４ｎｍ以下であることがより好ましい。
イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径が上記範囲内であると、ＳＮＲが良好な磁気記録媒体を実現し得る。
また、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径が、７ｎｍ以上であると、イプシロン型酸化鉄の結晶構造が安定化し、かつ、磁気特性の分布が小さくなる。
イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径が１８ｎｍ以下であると、記録再生に適した磁気特性に調整しやすいため、ＳＮＲが良好な磁気記録媒体を実現し得る。

本開示において、「イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径」は、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子５００個の円相当径の数平均値を意味する。
個々のイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の円相当径は、透過型電子顕微鏡像（ＴＥＭ（Transmission Electron Microscope）像）に基づき求める。詳細には、ＴＥＭ像におけるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の面積（即ち、投影面積）と同一面積の円の直径を、円相当径とする。
イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径の測定方法の具体例は、後述の実施例に示すとおりである。

磁性層中に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径は、例えば、以下の方法により、磁性層からイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を取り出し、測定することができる。
（１） 磁性層表面に対して、ヤマト科学（株）のプラズマリアクターを用い、１分間〜２分間表面処理を施すことにより、磁性層表面の有機物成分（例えば、結合剤）を灰化して取り除く。
（２） シクロヘキサノン、アセトン等の有機溶媒を浸したろ紙を金属棒のエッジ部に貼り付ける。金属棒のろ紙が貼り付けられたエッジ部で、上記（１）の処理後の磁性層表面をこすり、磁性層成分を磁気記録媒体からろ紙へ転写し剥離する。
（３） 上記（２）で剥離した磁性層成分をシクロヘキサノン、アセトン等の有機溶媒に振るい落とした（具体的には、ろ紙ごと溶媒の中に入れて超音波分散機を用いて振るい落とした）後、有機溶媒を乾燥させて剥離した磁性層成分を取り出す。
（４） 上記（３）で取り出した磁性層成分を十分に洗浄したガラス試験管に入れた後、ｎ−ブチルアミンを２０ｍｌ程度（灰化せず残留した結合剤を分解できる量）加えてガラス試験管を封緘する。
（５） 封緘したガラス試験管を１７０℃で２０時間以上加熱し、結合剤成分及び硬化剤成分を分解させる。
（６） 上記（５）で得られた分解後の沈殿物を純水で十分に洗浄した後、乾燥させ、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を取り出す。

イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径は、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を調製する際の焼成温度、置換する金属元素の種類等により、制御することができる。例えば、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径は、粒子を調製する際の焼成温度を高くすることで大きくすることができ、低くすることで小さくすることができる。

磁性層は、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

磁性層中におけるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の含有率としては、特に制限はなく、例えば、磁性層の固形分量に対して、５０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましい。
磁性層中におけるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の含有率が、磁性層の固形分量に対して、５０質量％以上であると、記録密度をより向上させることができる。
磁性層中におけるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の含有率が、磁性層の固形分量に対して、９０質量％以下であると、磁性層の膜質をより硬くすることができるため、ヘッドとの摺動性をより確保しやすい。

（イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の作製方法）
イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の作製方法としては、特に制限はなく、公知の作製方法を適用することができる。イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の作製方法は、例えば、特開２０１７−２４９８１号公報の段落［００２１］〜［００４１］の記載を参照することができる。

イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の作製方法の一例を以下に示す。
（１）３価の鉄イオン、又は、３価の鉄イオンと最終的にＦｅ^３＋イオンサイトを置換する金属元素の金属イオンとを含む酸性の水溶液（以下、「原料水溶液」という。）を調製する。３価の鉄イオン又は置換する金属元素の金属イオンの供給源としては、特に制限はなく、例えば、入手容易性及びコストの観点から、硝酸塩、硫酸塩、塩化物等の水溶性の無機酸塩が好ましい。
（２）原料水溶液を、アルカリ水溶液（例えば、アンモニア水溶液）を用いて中和し、水酸化物ゾル（以下、「前駆体含有水溶液」という。）を調製する。
（３）前駆体含有水溶液に対して、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ：Tetraethyl Orthosilicate）を滴下した後、１時間〜２４時間撹拌する。
（４）撹拌後の溶液に対して、１０００ｒｐｍ（round per minute；以下、同じ。）〜１００００ｒｐｍにて１分間〜６０分間遠心分離を行い、沈殿物を回収する。
（５）回収した沈殿物を、内部雰囲気温度６０℃〜１１０℃の乾燥機（例えば、オーブン）内にて乾燥させることにより、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の前駆体を得る。前駆体は、ＴＥＯＳの加水分解によって生成したＳｉ含有被膜が形成された粒子である。
（６）得られたイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の前駆体を、炉内に装填し、大気雰囲気下において、８００℃〜１２００℃の温度にて１時間〜１０時間焼成し、焼成物を得る。
（７）得られた焼成物をアルカリ水溶液（例えば、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等の強アルカリ水溶液）中に投入し、液温を２５℃〜８０℃に維持して１時間〜２４時間撹拌することにより、上記（５）にて形成されたＳｉ含有被膜を除去する。
（８）Ｓｉ含有被膜の除去後、１０００ｒｐｍ〜１００００ｒｐｍにて１分間〜６０分間遠心分離を行い、沈殿物を回収する。
（９）回収した沈殿物を、内部雰囲気温度６０℃〜１１０℃の乾燥機（例えば、オーブン）内にて乾燥させることにより、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を得る。

イプシロン型の結晶構造を有する酸化鉄系化合物であることの確認は、例えば、Ｘ線回折（ＸＲＤ：X-Ray-Diffraction）法により行うことができる。
また、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の組成は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法により確認する。具体的には、試料粒子１２ｍｇ及び４ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液１０ｍｌを入れた容器を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持し、溶解液を得る。次いで、得られた溶解液を０．１μｍのメンブレンフィルタを用いてろ過する。このようにして得られたろ液の元素分析を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析装置を用いて行う。得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求める。

（研磨剤）
磁性層は、研磨剤を含む。
磁性層において、研磨剤は、磁気記録媒体の走行中に生じ得る磨耗、傷付き等のテープダメージの低減、及び磁気記録媒体の使用中にヘッドに付着する付着物（所謂、デブリ）の除去に寄与し得る。
研磨剤としては、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化ケイ素、炭化ケイ素チタンカーバイド、酸化チタン、二酸化ケイ素、窒化ホウ素等、主としてモース硬度６以上の公知の材料の粒子が挙げられる。
研磨剤としては、既述の研磨剤同士の複合体（例えば、研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を用いてもよい。このような研磨剤には、主成分以外の化合物又は元素が含まれる場合もあるが、主成分が９０質量％以上であれば、研磨剤としての効果に変わりはない。

研磨剤の形状としては、特に制限はなく、例えば、針状、球状、立方体状、直方体状等の粒子形状が挙げられる。
これらの中でも、研磨剤の形状としては、例えば、研磨性がより良好になるとの観点から、針状、立方体状等、粒子の一部に角を有するものが好ましい。

研磨剤は、磁性層を平面視した場合における、平均円相当径が２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、かつ、円相当径の変動係数が３０％以上６０％以下である。
磁性層を平面視した場合における、研磨剤の平均円相当径及び円相当径の変動係数が上記範囲内であると、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の耐擦傷性に優れる磁気記録媒体を実現し得る。
磁性層を平面視した場合における研磨剤の平均円相当径が、２０ｎｍ以上であると、研磨剤の研磨性が良好に発揮され、デブリが堆積し難くなるため、初期特性として良好なＳＮＲを示す磁気記録媒体を実現し得る。また、磁性層の膜強度が良好となる。
磁性層を平面視した場合における研磨剤の平均円相当径が、１０００ｎｍ以下であると、局所的にＳＱが低下することによるシグナル強度の低下が抑制されるため、良好なＳＮＲを示す磁気記録媒体を実現し得る。
磁性層を平面視した場合における研磨剤の円相当径の変動係数が、３０％以上であると、適度にサイズ差があるため、研磨性が良好となり、デブリが堆積し難くなる。
磁性層を平面視した場合における研磨剤の円相当径の変動係数が、６０％以下であると、極端にサイズの大きな研磨剤が存在しないため、磁性層の耐擦傷性に優れる磁気記録媒体を実現し得る。

磁性層を平面視した場合における研磨剤の平均円相当径は、好ましくは２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、より好ましくは２５ｎｍ以上９００ｎｍ以下であり、更に好ましくは３０ｎｍ以上８００ｎｍ以下である。
磁性層を平面視した場合における研磨剤の円相当径の変動係数は、好ましくは３０％以上６０％以下であり、より好ましくは３３％以上５５％以下であり、更に好ましくは３５％以上５０％以下である。

磁性層を平面視した場合における、研磨剤の平均円相当径及び円相当径の変動係数は、例えば、後述の磁性層形成用組成物を調製する工程において、研磨剤を分散させる時間（分散時間）、研磨剤を分散させる温度（分散温度）、研磨剤を分散させる分散剤の量、研磨剤とイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子との混合比率、塗膜の乾燥条件等を調整することにより、制御することができる。

磁性層を平面視した場合における研磨剤の平均円相当径は、電界放出形走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ：Field Emission-Scanning Electron Microscope）を用いて撮影した研磨剤の画像（所謂、ＳＥＭ画像）から求める。具体的には、以下の方法により求める。

１．ＳＥＭ画像の取得
電界放出形走査型電子顕微鏡を用い、撮影前にコーティング処理を行わずに、加速電圧５ｋＶ、作動距離（Ｗ．Ｄ．）８ｍｍ、及び撮影倍率２万倍の条件下、プローブ電流をＮｏｒｍａｌに設定し、２次電子像を取得する。

２．画像解析
画像解析ソフトを用いて、以下の手順により画像解析を実施する。面積は、ピクセル（単位）で求まる。
（１）上記の「１．ＳＥＭ画像の取得」にて取得したＳＥＭ画像の画像データ（ＳＥＭ（２０Ｋ）ｊｐｇ画像）を、画像解析ソフトにドラッグ及びドロップする。
（２）次いで、画像上、倍率及びスケールが表示されている部分を除き、縦４．３μｍ×横６．３μｍの領域を、解析領域として選択する。
（３）次いで、解析領域を２値化処理する。具体的には、下限値として１５０諧調、及び、上限値として２５５諧調を選択し、これら２つの閾値による２値化を実行する。２値化処理により、解析領域上の白く光る各部分の面積が求められる。
（４）各部分の面積と等しい面積を持つ円のサイズ（所謂、円相当径）を、以下の式（Ａ）により求める。
（５）５００個の研磨剤の円相当径を求め、平均値（即ち、平均円相当径）及び変動係数を算出する。

電界放出形走査型電子顕微鏡としては、例えば、（株）日立ハイテクノロジーのＦＥ−ＳＥＭ Ｓ４８００を用いることができる。
また、画像解析ソフトとしては、例えば、三谷商事（株）のＷｉｎＲＯＯＦを用いることができる。
但し、電界放出形走査型電子顕微鏡及び画像解析ソフトは、これらに限定されない。

研磨剤のＢＥＴ比表面積は、１ｍ^２／ｇ〜３０ｍ^２／ｇであることが好ましい。
研磨剤のタップ密度は、０．３ｇ／ｍｌ〜２ｇ／ｍｌであることが好ましい。

磁性層は、研磨剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

研磨剤としては、市販品を用いることができる。
市販品の例としては、住友化学（株）のＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、レイノルズ社のＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、（株）フジミインコーポレーテッドのＷＡ１００００、上村工業（株）のＵＢ２０、日本化学工業（株）のＧ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業（株）のＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社のベータランダムウルトラファイン、昭和ＫＤＥ（株）のＢ−３等（以上、いずれも商品名）が挙げられる。

磁性層中における研磨剤の含有量としては、特に制限はなく、例えば、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子１００質量部に対して、０．１質量部以上２０質量部以下であることが好ましく、０．５質量部以上１５質量部以下であることがより好ましい。
磁性層中における研磨剤の含有量が、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子１００質量部に対して、０．１質量部以上であると、磁性層の耐擦傷性がより向上し得る。
磁性層中における研磨剤の含有量が、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子１００質量部に対して、２０質量部以下であると、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の含有率への影響が少ないため、ＳＮＲがより良好な磁気記録媒体を実現し得る。

（結合剤）
磁性層は、結合剤を含む。
磁性層において、結合剤は、バインダーとして機能し得る。
結合剤としては、各種樹脂が挙げられる。
結合剤に用いられる樹脂は、目的とする強度、耐久性等の物性を満たす層を形成できれば、特に制限されない。

結合剤に用いられる樹脂は、単独重合体（所謂、ホモポリマー）であってもよいし、共重合体（所謂、コポリマー）であってもよい。また、樹脂は、公知の電子線硬化型樹脂であってよい。
結合剤に用いられる樹脂としては、ポリウレタン、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、結合剤に用いられる樹脂としては、ポリウレタン、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、及び塩化ビニル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

結合剤に用いられる樹脂は、例えば、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の分散性をより向上させる観点から、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の表面に吸着する官能基（例えば、極性基）を分子内に有することが好ましい。
好ましい官能基としては、−ＳＯ_３Ｍ、−ＳＯ_４Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）_２、−ＯＰＯ（ＯＭ）_２、−ＣＯＯＭ、＝ＮＳＯ_３Ｍ、−ＮＲＳＯ_３Ｍ、−ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｎ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｘ⁻等が挙げられる。
ここで、Ｍは、水素原子又はＮａ、Ｋ等のアルカリ金属原子を表す。Ｒは、アルキレン基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はヒドロキシアルキル基を表す。Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子を表す。
結合剤に用いられる樹脂が上記官能基を有する場合、樹脂中の官能基の含有量は、０．０１ｍｅｑ／ｇ以上２．０ｍｅｑ／ｇ以下であることが好ましく、０．３ｍｅｑ／ｇ以上１．２ｍｅｑ／ｇ以下であることがより好ましい。
樹脂中の官能基の含有量が上記範囲内にあると、磁性層におけるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の分散性がより良好となり、磁性密度がより向上し得る。

結合剤に用いられる樹脂としては、−ＳＯ_３Ｎａ基を有するポリウレタンがより好ましい。ポリウレタンが−ＳＯ_３Ｎａ基を有する場合、−ＳＯ_３Ｎａ基は、ポリウレタンに対して、０．０１ｍｅｑ／ｇ〜１．０ｍｅｑ／ｇの範囲の量で含まれることが好ましい。

結合剤に用いられる樹脂の分子量は、重量平均分子量として、例えば、１００００以上２０００００以下とすることができる。
本開示における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。

−条件−
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー（株））
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー（株）、７．８ｍｍＩＤ（Ｉｎｎｅｒ Ｄｉａｍｅｔｅｒ）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
試料濃度：０．５質量％
サンプル注入量：１０μｌ
流速：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度：４０℃
検出器：ＲＩ検出器

磁性層は、結合剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

磁性層中における結合剤の含有量としては、特に制限はなく、例えば、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子１００質量部に対して、１質量部以上３０質量部以下であることが好ましく、２質量部以上２０質量部以下であることがより好ましい。
磁性層中における結合剤の含有量が、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子１００質量部に対して、上記の範囲内であると、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の分散性がより良好となり、磁性密度がより向上し得る。

（他の添加剤）
磁性層は、既述のイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子、研磨剤、及び結合剤以外に、本実施形態の効果を損なわない範囲において、必要に応じて、種々の添加剤（即ち、他の添加剤）を含んでいてもよい。
他の添加剤としては、非磁性フィラー、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等が挙げられる。
他の添加剤は、１つの成分が２つ以上の機能を担うものであってもよい。

−非磁性フィラー−
磁性層は、非磁性フィラーを含むことができる。
非磁性フィラーは、磁性層の膜強度、表面粗さ等の物性の調整に寄与し得る。
本開示において、「非磁性フィラー」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、及び、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であること、の少なくとも一方を満たすフィラーを意味する。

非磁性フィラーとしては、カーボンブラック、無機粒子等が挙げられる。
例えば、分散安定性及び磁性層中への均一配置の観点からは、非磁性フィラーとしては、コロイド粒子が好ましい。また、例えば、入手容易性の観点からは、非磁性フィラーとしては、カーボンブラック及び無機コロイド粒子からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、カーボンブラック及び無機酸化物コロイド粒子からなる群より選ばれる少なくとも１種がより好ましい。
無機酸化物コロイド粒子としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、二酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化ケイ素、チタンカーバイト、二酸化チタン、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデン等の無機酸化物のコロイド粒子の他、ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２／Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２／ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２／Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３／ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_２／ＣｅＯ_２／ＳｉＯ_２等の複合無機酸化物のコロイド粒子が挙げられる。
無機酸化物コロイド粒子としては、単分散のコロイド粒子の入手容易性の観点から、シリカコロイド粒子（コロイダルシリカ）が特に好ましい。

非磁性フィラーの平均粒子径としては、特に制限はなく、例えば、記録エラーの低減及びヘッドのスペーシング確保の観点から、３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが更に好ましい。

本開示において、非磁性フィラーの平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定される値である。また、非磁性フィラーは、既述の磁性層からイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を取り出す方法と同様の方法により、磁性層から取り出すことができる。

磁性層は、非磁性フィラーを含む場合、非磁性フィラーを１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
非磁性フィラーとしては、市販品を用いることができる。

磁性層が非磁性フィラーを含む場合、磁性層中における非磁性フィラーの含有量としては、特に制限はなく、例えば、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子１００質量部に対して、０．０１質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。

−潤滑剤−
磁性層は、潤滑剤を含むことができる。
潤滑剤は、例えば、磁気記録媒体の走行耐久性の向上に寄与し得る。

潤滑剤としては、公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤等を用いることができる。
炭化水素系潤滑剤としては、オレイン酸、ステアリン酸等のカルボン酸系化合物、ステアリン酸ブチル等のエステル系化合物、オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸系化合物、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル系化合物、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール系化合物、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド系化合物、ステアリルアミン等のアミン系化合物などが挙げられる。
炭化水素系潤滑剤としては、摩擦力を低減する効果が高いとの観点から、アルキル基の炭化水素鎖中に、水酸基、エステル基、カルボキシ基等の極性基を有する化合物が好ましい。
フッ素系潤滑剤としては、既述の炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部又は全部が、フルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基で置換された化合物が挙げられる。

磁性層は、潤滑剤を含む場合、潤滑剤を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
潤滑剤としては、市販品を用いることができる。

磁性層が潤滑剤を含む場合、磁性層中における潤滑剤の含有量としては、特に制限はなく、例えば、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子１００質量部に対して、０．１質量部以上２０質量部以下であることが好ましく、０．５質量部以上１５質量部以下であることがより好ましい。

−分散剤−
磁性層は、分散剤を含むことができる。
磁性層において、分散剤は、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の分散性を向上させ、粒子の凝集防止に寄与し得る。また、分散剤は、研磨剤の分散性の向上にも寄与し得る。

分散剤としては、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の表面に吸着する官能基を有する有機化合物が好ましい。
イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の表面に吸着する官能基を有する有機化合物としては、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基、又はスルフィン酸基を１個〜３個有する化合物が挙げられ、これらのポリマーであってもよい。

好ましい分散剤としては、Ｒ−ＮＨ_２、ＮＨ_２−Ｒ−ＮＨ_２、ＮＨ_２−Ｒ（ＮＨ_２）−ＮＨ_２、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_３Ｈ−Ｒ−ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_３Ｈ−Ｒ（ＳＯ_３Ｈ）−ＳＯ_３Ｈ、Ｒ−ＳＯ_２Ｈ、ＳＯ_２Ｈ−Ｒ−ＳＯ_２Ｈ、ＳＯ_２Ｈ−Ｒ（ＳＯ_２Ｈ）−ＳＯ_２Ｈの構造式で表される化合物が挙げられる。
構造式中のＲは、直鎖、分岐若しくは環状の飽和又は不飽和の炭化水素であり、例えば炭素数１個〜２０個のアルキル基であることが好ましい。

好ましい分散剤の具体例としては、オレイン酸、２，３−ジヒドロキシナフタレン、ステアリン酸等が挙げられる。
これらの中でも、分散剤としては、分散性の観点から、オレイン酸及び２，３−ジヒドロキシナフタレンから選ばれる少なくとも１種がより好ましい。

磁性層は、分散剤を含む場合、分散剤を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
分散剤としては、市販品を用いることができる。

磁性層が分散剤を含む場合、磁性層中における分散剤の含有量は、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子及び研磨剤の合計１００質量部に対して、０．１質量部以上３０質量部以下であることが好ましい。
磁性層中における分散剤の含有量が、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子及び研磨剤の合計１００質量部に対して、上記の範囲内であると、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子及び研磨剤の分散性がより良好となり、耐擦傷性がより向上し得る。

−磁性層の厚み−
磁性層の厚みは、特に制限はなく、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて、適宜選択される。
磁性層の厚みとしては、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
磁性層の厚みが１０ｎｍ以上であると、記録密度をより向上させることができる。
磁性層の厚みが１５０ｎｍ以下であると、ノイズがより少なくなり、電磁変換特性がより良好となる。

本開示の磁気記録媒体は、磁性層を少なくとも一層有していればよく、例えば、異なる磁気特性を有する磁性層を二層有していてもよく、公知の重層磁性層に関する構成を適用することができる。なお、磁性層が重層磁性層である場合、既述の磁性層の厚みは、複数の磁性層の合計厚みをいう。

以下、磁気記録媒体における任意の層である非磁性層及びバックコート層について説明する。

＜非磁性層＞
非磁性層は、磁性層の薄層化等に寄与する層である。
非磁性層は、フィラーとしての非磁性粒子及び膜形成成分である結合剤を含む層であることが好ましく、目的に応じて、更に添加剤を含んでいてもよい。

非磁性層は、非磁性支持体と磁性層との間に設けることができる。
非磁性層には、磁性を有しない層、及び、不純物として又は意図的に少量の強磁性体（例えば、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子）を含む実質的に非磁性な層が包含される。本開示において、「非磁性層」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、及び、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であること、の少なくとも一方を満たす層を意味する。

（非磁性粒子）
非磁性層は、非磁性粒子を含むことが好ましい。
非磁性層において、非磁性粒子は、フィラーとして機能し得る。
本開示において、「非磁性粒子」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、及び、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であること、の少なくとも一方を満たす粒子を意味する。

非磁性粒子は、無機粒子であってもよいし、有機粒子であってもよい。非磁性粒子としては、カーボンブラックを用いることもできる。
無機粒子としては、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粒子が挙げられる。
非磁性粒子の具体例としては、二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化ケイ素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ_３、ＣａＣＯ_３、ＢａＣＯ_３、ＳｒＣＯ_３、ＢａＳＯ_４、炭化ケイ素、炭化チタンなどが挙げられる。
これらの中でも、非磁性粒子としては、α−酸化鉄が好ましい。

非磁性粒子の形状は、特に制限はなく、針状、球状、多面体状、及び板状のいずれでもあってもよい。
非磁性粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましい。
非磁性粒子の平均粒子径が、上記範囲内であると、分散性がより良好となり、かつ、非磁性層をより好適な表面粗さに調整することができる。
平均粒子径の異なる非磁性粒子を組み合わせたり、又は、非磁性粒子の粒径分布を調整したりすることにより、非磁性粒子の分散性及び非磁性層の表面粗さを好適に調整することができる。
非磁性粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定される値である。
非磁性粒子のＢＥＴ比表面積は、５０ｍ^２／ｇ以上１５０ｍ^２／ｇ以下であることが好ましい。

非磁性層は、非磁性粒子を含む場合、非磁性粒子を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
非磁性粒子は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。

非磁性層が非磁性粒子を含む場合、非磁性層中における非磁性粒子の含有率は、非磁性層の固形分量に対して、５０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。

（結合剤）
非磁性層は、結合剤を含むことが好ましい。
非磁性層における結合剤は、磁性層の項において説明した結合剤と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。

（他の添加剤）
非磁性層は、既述の非磁性粒子及び結合剤以外に、必要に応じて、種々の添加剤（即ち、他の添加剤）を含んでいてもよい。
非磁性層における他の添加剤は、磁性層の項において説明した他の添加剤と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。

−非磁性層の厚み−
非磁性層の厚みは、特に制限はない。
磁性層の厚みとしては、０．０５μｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以上２．０μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ以上１．５μｍ以下であることが更に好ましい。

＜バックコート層＞
バックコート層は、走行安定性等に寄与する層である。
バックコート層は、フィラーとしての非磁性粒子及び膜形成成分である結合剤を含む層であることが好ましく、目的に応じて、更に添加剤を含んでいてもよい。
バックコート層は、非磁性支持体の磁性層側とは反対側の表面に設けることができる。

（結合剤）
バックコート層は、結合剤を含むことが好ましい。
バックコート層における結合剤は、磁性層の項において説明した結合剤と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。

（他の添加剤）
バックコート層は、既述の非磁性粒子及び結合剤以外に、必要に応じて、種々の添加剤（即ち、他の添加剤）を含んでいてもよい。
バックコート層における他の添加剤は、磁性層の項において説明した他の添加剤と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。

−バックコート層の厚み−
バックコート層の厚みは、特に制限はない。
バックコート層の厚みとしては、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上０．７μｍ以下であることがより好ましい。

［磁気記録媒体の製造方法］
本開示の磁気記録媒体の製造方法としては、特に制限はなく、公知の製造方法を適用することができる。
本開示の磁気記録媒体の製造方法としては、例えば、磁性層形成用組成物を調製する工程（以下、「工程Ａ」ともいう。）、非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を付与して磁性層形成用組成物層を形成する工程（以下、「工程Ｂ」ともいう。）、形成された磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程（以下、「工程Ｃ」ともいう。）、及び磁場配向処理された磁性層形成用組成物層を乾燥して磁性層を形成する工程（以下、「工程Ｄ」ともいう。）を含む製造方法（以下、「本実施形態の製造方法」ともいう。）が挙げられる。
本実施形態の製造方法は、必要に応じて、更に、磁性層を有する非磁性支持体をカレンダー処理する工程（以下、「工程Ｅ」ともいう。）、非磁性層、バックコート層等の任意の層を形成する工程（以下、「工程Ｆ」ともいう。）などを含むことができる。
個々の工程は、それぞれ２段階以上に分かれていてもよい。
以下、本実施形態の製造方法における各工程について詳細に説明する。

＜工程Ａ＞
工程Ａは、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子、研磨剤、結合剤、必要に応じて添加剤（既述の他の添加剤、硬化剤等）、及び溶媒を混合する工程（以下、「工程Ａ１」ともいう。）と、混合工程で得られた混合液を分散する工程（以下、「工程Ａ２」ともいう。）を含む。

イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子、研磨剤、結合剤等の全ての原料は、工程Ａ中のいずれの時点で混合してもよい。
個々の原料は、一括して混合してもよいし、２回以上に分割して混合してもよい。
例えば、結合剤は、工程Ａ２にて他の原料と混合した後、分散後の粘度調整のために更に添加して混合することができる。

磁性層形成用組成物の原料の分散には、バッチ式縦型サンドミル、横型ビーズミル等の公知の分散装置を用いることができる。
分散ビーズとしては、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズ等を用いることができる。分散ビーズの粒径（所謂、ビーズ径）及び充填率は、適宜最適化して用いることができる。
磁性層形成用組成物の原料の分散には、例えば、公知の超音波装置を用いることもできる。
また、工程Ａ２の前に、磁性層形成用組成物の原料の少なくとも一部を、例えば、オープンニーダを用いて混練してもよい。

磁性層形成用組成物の原料は、それぞれの原料ごとに溶液を調製した後に、混合してもよい。例えば、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を含む磁性液と、研磨剤を含む研磨剤液と、をそれぞれ調製した後に、混合して分散することができる。

（磁性層形成用組成物）
磁性層形成用組成物を調製するための「イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子」、「研磨剤」、「結合剤」、及び「他の添加剤」は、「磁性層」の項で説明した「イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子」、「研磨剤」、「結合剤」、及び「他の添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様であるため、ここでは説明を省略する。

磁性層形成用組成物中におけるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の含有率は、磁性層形成用組成物の全質量に対して、５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、８質量％以上２０質量％以下であることがより好ましい。
磁性層形成用組成物中における研磨剤の含有量は、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子１００質量部に対して、０．１質量部以上２０質量部以下であることが好ましく、０．５質量部以上１５質量部以下であることがより好ましい。
磁性層形成用組成物中における結合剤の含有量は、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子１００質量部に対して、５質量部以上５０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上３０質量部以下であることがより好ましい。

−溶媒−
溶媒は、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子、研磨剤、結合剤、並びに必要に応じて用いられる添加剤（他の添加剤及び硬化剤）の分散媒として寄与し得る。
溶媒は、１種のみであってよく、又は２種以上の混合溶媒であってもよい。
溶媒としては、有機溶媒が好ましい。
有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系化合物、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコール系化合物、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル系化合物、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系化合物、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素系化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサンなどを用いることができる。
これらの中でも、有機溶媒としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びこれらを任意の割合で含む混合溶媒が好ましい。

例えば、分散性を向上させる観点からは、溶媒としては、ある程度極性が高い溶媒が好ましく、磁性層形成用組成物中に、誘電率が１５以上の溶媒が、溶媒の全質量に対して、５０質量％以上含まれることが好ましい。また、溶媒の溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

−硬化剤−
磁性層形成用組成物は、硬化剤を含むことができる。
硬化剤は、膜強度の向上に寄与し得る。硬化剤によれば、磁性層を形成する既述の結合剤との間で架橋構造を形成することで、磁性層の膜強度を向上させることができる。

硬化剤としては、イソシアネート系化合物が好ましい。
イソシアネート系化合物としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等が挙げられる。
また、イソシアネート系化合物としては、既述のイソシアネート系化合物とポリアルコールとの反応生成物、既述のイソシアネート系化合物の縮合生成物等のポリイソシアネートを用いることもできる。

硬化剤としては、市販品を用いることができる。
硬化剤であるイソシアネート系化合物の市販品の例としては、東ソー（株）のコロネート（登録商標）Ｌ、コロネート（登録商標）ＨＬ、コロネート（登録商標）２０３０、コロネート（登録商標）２０３１、コロネート（登録商標）３０４１、ミリオネート（登録商標）ＭＲ、ミリオネート（登録商標）ＭＴＬ、三井化学（株）のタケネート（登録商標）Ｄ−１０２、タケネート（登録商標）Ｄ−１１０Ｎ、タケネート（登録商標）Ｄ−２００、タケネート（登録商標）Ｄ−２０２、コベストロ社のデスモジュール（登録商標）Ｌ、デスモジュール（登録商標）ＩＬ、デスモジュール（登録商標）Ｎ、デスモジュール（登録商標）ＨＬ等（以上、いずれも商品名）が挙げられる。

磁性層形成用組成物は、硬化剤を含む場合、硬化剤を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
硬化剤としては、市販品を用いることができる。

磁性層形成用組成物が硬化剤を含む場合、磁性層形成用組成物中における硬化剤の含有量は、結合剤１００質量部に対して、例えば、０質量部を超えて８０質量部以下とすることができ、磁性層等の各層の強度向上の観点からは、好ましくは、５０質量部〜８０質量部とすることができる。

［工程Ｂ］
本実施形態の製造方法は、工程Ａの後に、非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を付与して磁性層形成用組成物層を形成する工程（即ち、工程Ｂ）を含む。
工程Ｂは、例えば、走行下にある非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を所定の膜厚となるように塗布することにより行うことができる。
磁性層の好ましい厚みは、「磁性層」の項に記載したとおりである。

磁性層形成用組成物を塗布する方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等の公知の方法が挙げられる。
塗布の方法については、例えば、（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参照することができる。

［工程Ｃ］
本実施形態の製造方法は、工程Ｂの後に、形成された磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程（即ち、工程Ｃ）を含む。

形成された磁性層形成用組成物層は、非磁性支持体が磁気テープ等のフィルム状である場合、磁性層形成用組成物に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子に対して、コバルト磁石、ソレノイド等を用いて、磁場配向処理することができる。
形成された磁性層形成用組成物層は、非磁性支持体がハードディスクである場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置する、ソレノイドで交流磁場を印加する等、公知のランダム配向装置を用いる方法が好ましい。また、異極対向磁石を用いる方法等の公知の方法を用いて垂直配向とすることで、円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は、垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向することもできる。
磁場配向処理は、形成された磁性層形成用組成物層が乾燥する前に行うことが好ましい。

磁場配向処理は、磁場強度０．１Ｔ〜１．０Ｔの磁場を、塗布した磁性層形成用組成物面に対して垂直方向に印加する垂直配向処理によって行うことができる。

［工程Ｄ］
本実施形態の製造方法は、工程Ｃの後に、磁場配向処理された磁性層形成用組成物層を乾燥して磁性層を形成する工程（即ち、工程Ｄ）を含む。

磁性層形成用組成物層の乾燥は、乾燥風の温度、風量、及び塗布速度により制御することができる。
例えば、塗布速度は２０ｍ／分〜１０００ｍ／分であることが好ましく、乾燥風の温度は６０℃以上であることが好ましい。また、磁場を印加する前に、磁性層形成用組成物層を適度に予備乾燥することができる。

［工程Ｅ］
本実施形態の製造方法は、工程Ａ、工程Ｂ、工程Ｃ、及び工程Ｄを経た後に、磁性層を有する非磁性支持体をカレンダー処理する工程（即ち、工程Ｅ）を含むことが好ましい。

磁性層を有する非磁性支持体は、巻き取りロールで一旦巻き取られた後、この巻き取りロールから巻き出されて、カレンダー処理に供することができる。
カレンダー処理によれば、表面平滑性が向上し、かつ、乾燥の際の溶媒の除去によって生じた空孔が消滅して、磁性層中のイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の充填率が向上するので、電磁変換特性（例えば、ＳＮＲ）の高い磁気記録媒体を得ることができる。
工程Ｅは、磁性層の表面の平滑性に応じて、カレンダー処理条件を変化させながら行うことが好ましい。

カレンダー処理には、例えば、スーパーカレンダーロールを用いることができる。
カレンダーロールとしては、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂等の樹脂で形成された耐熱性プラスチックロールを用いることができる。また、金属ロールを用いて処理することもできる。

カレンダー処理の条件としては、カレンダーロールの温度を、例えば、６０℃〜１２０℃の範囲、好ましくは８０℃〜１００℃の範囲とすることができ、圧力を、例えば、１００ｋｇ／ｃｍ〜５００ｋｇ／ｃｍ（９８ｋＮ／ｍ〜４９０ｋＮ／ｍ）の範囲、好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ〜４５０ｋｇ／ｃｍ（１９６ｋＮ／ｍ〜４４１ｋＮ／ｍ）の範囲とすることができる。

［工程Ｆ］
本実施形態の製造方法は、必要に応じて、非磁性層、バックコート層等の任意の層を形成する工程（即ち、工程Ｆ）を含むことができる。
非磁性層及びバックコート層は、それぞれの層を形成するための組成物を調製した後、磁性層における工程Ｂ、工程Ｃ、及び工程Ｄと同様の工程を経ることで、形成することができる。
なお、「非磁性層」及び「バックコート層」の項に記載したように、非磁性層は、非磁性支持体と磁性層との間に設けることができ、バックコート層は、非磁性支持体の磁性層側とは反対側の表面に設けることができる。

非磁性層の形成用組成物及びバックコート層の形成用組成物は、「非磁性層」及び「バックコート層」の項に記載した成分及び量にて、更に溶媒を含めることで、調製することができる。

［磁気記録媒体の記録方式］
本開示の磁気記録媒体の記録方式としては、ヘリカルスキャン記録方式であってもよいし、リニア記録方式であってもよく、好ましくはリニア記録方式である。
本開示の磁気記録媒体は、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の耐擦傷性に優れるため、リニア方式による記録に好適である。
本開示の磁気記録媒体の記録方式として、リニア記録方式を適用する場合には、例えば、記録のしやすさの観点から、磁性層に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子が、式（１）で表される化合物であることがより好ましい。

本開示の磁気記録媒体は、電磁波アシスト記録に用いられることが好ましい。
本開示の磁気記録媒体では、磁性材料として、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を用いている。イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子は、保磁力が非常に高いため、スピンを反転させ難い。本開示の磁気記録媒体では、磁性層に含まれるイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子に対して電磁波を照射し、スピンを歳差運動させながら磁界によって反転させて記録する、所謂、電磁波アシスト記録を適用することで、スピンを記録の際にのみ容易に反転させて、良好な記録を実現し得る。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

＜イプシロン型酸化鉄系化合物の作製＞
−磁性体Ａ〜Ｋの作製−
（１）前駆体含有水溶液の調製
撹拌羽を備えた回分式（所謂、バッチ式）反応槽において、以下の方法により、イプシロン型酸化鉄系化合物の前駆体を含む水溶液（即ち、前駆体含有水溶液）を調製した。
磁性体Ａ〜Ｊの作製では、反応槽において、硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物〔Ｆｅ（ＮＯ_３）_３・９Ｈ_２Ｏ〕及び下記の表１に示す添加元素Ｍの塩を精製水に溶解し、原料水溶液を得た。なお、原料水溶液中の硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物及び添加元素Ｍの塩の濃度は、表１に示す値とした。
また、磁性体Ｋの作製では、反応槽において、硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物〔Ｆｅ（ＮＯ_３）_３・９Ｈ_２Ｏ〕を精製水に溶解し、原料水溶液を得た。なお、原料水溶液中の硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物の濃度は、表１に示す値とした。
次いで、撹拌羽による原料水溶液の撹拌を継続しながら、反応槽に、反応槽中の原料水溶液のｐＨが１０．５となるように２８質量％アンモニア水溶液を滴下し（滴下速度：１０ｃｍ^３／分）、水酸化物ゾル（即ち、前駆体含有水溶液）を調製した。

（２）被膜の形成
上記（１）の前駆体含有水溶液の調製に用いた硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物に含まれるＦｅに対してＳｉが１０倍モル量になるように、上記（１）で調製した前駆体含有水溶液に、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を滴下した後、２４時間撹拌した。
次いで、遠心分離機を用い、回転数７０００ｒｐｍにて１０分間遠心分離を行った後、沈殿物を回収した。回収した沈殿物を内部雰囲気温度８０℃のオーブン内で乾燥させて、イプシロン型酸化鉄系化合物の前駆体である粒子を得た。得られた粒子には、ＴＥＯＳの加水分解によって生成したＳｉ含有被膜が形成されている。このＳｉ含有被膜は、Ｓｉの酸化物又は水酸化物の被膜と推察される。

（３）焼成
上記（２）で得られた粉末をマッフル炉の中に入れ、大気雰囲気下において、炉内の温度を表１の条件に設定し、焼成を行って焼成物を得た。

（４）被膜の除去
上記（３）で得られた焼成物を４ｍｏｌ／Ｌ（リットル）の水酸化ナトリウム水溶液に投入し、液温６０℃で２４時間撹拌し、上記（２）で形成されたＳｉ含有被膜を除去した。次いで、遠心分離機を用い、回転数７０００ｒｐｍにて１０分間遠心分離を行った後、沈殿物を回収した。回収した沈殿物を内部雰囲気温度８０℃のオーブン内で乾燥させて、イプシロン型酸化鉄系化合物である磁性体Ａ〜Ｋの粒子を得た。

磁性体Ａ〜Ｋの粒子が、イプシロン型の結晶構造を有していることは、Ｘ線回折（ＸＲＤ）法により確認した。なお、装置には、ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社のＸ’Ｐｅｒｔ Ｐｒｏ回折計を用いた。
また、磁性体Ａ〜Ｋの組成を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析法により確認した。具体的には、各磁性体の粒子１２ｍｇ及び４ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液１０ｍｌを入れた容器を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持し、溶解液を得た。次いで、得られた溶解液を０．１μｍのメンブレンフィルタを用いてろ過した。このようにして得られたろ液の元素分析を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析装置（製品名：ＩＣＰＳ−８１００、（株）島津製作所）を用いて行った。得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求めた。結果を以下に示す。
磁性体Ａ：ε−Ｇａ_{（０．３８）}Ｆｅ_{（１．６２）}Ｏ_３、磁性体Ｂ：ε−Ｇａ_{（０．３９）}Ｆｅ_{（１．６１）}Ｏ_３、磁性体Ｃ：ε−Ｇａ_{（０．３８）}Ｆｅ_{（１．６２）}Ｏ_３、磁性体Ｄ：ε−Ｇａ_{（０．３９）}Ｆｅ_{（１．６１）}Ｏ_３、磁性体Ｅ：ε−Ｇａ_{（０．４０）}Ｆｅ_{（１．６０）}Ｏ_３、磁性体Ｆ：ε−Ｇａ_{（０．３９）}Ｆｅ_{（１．６１）}Ｏ_３、磁性体Ｇ：ε−Ｇａ_{（０．４０）}Ｆｅ_{（１．６０）}Ｏ_３、磁性体Ｈ：ε−Ａｌ_{（０．３７）}Ｆｅ_{（１．６３）}Ｏ_３、磁性体Ｉ：ε−Ｉｎ_{（０．３５）}Ｆｅ_{（１．６５）}Ｏ_３、磁性体Ｊ：ε−Ｇａ_{（０．１８）}Ｃｏ_{（０．０９）}Ｔｉ_{（０．０９）}Ｆｅ_{（１．６４）}Ｏ_３、磁性体Ｋ：ε−Ｆｅ_２Ｏ_３

（粒子の形状）
磁性体Ａ〜Ｋの粒子の形状を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による観察により確認したところ、いずれも球状を有していた。

（粒子の平均円相当径）
磁性体Ａ〜Ｋの粒子の平均円相当径を、以下の方法により求めた。
粒子を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（型番：Ｈ−９０００型、（株）日立ハイテクノロージーズ）を用いて、撮影倍率６万倍で撮影した。得られた粒子のＴＥＭ画像を、画像処理ソフト（型番：ＫＳ−４００、カールツァイス社）に取り込み、画像処理を施した。
より詳細には、数視野のＴＥＭ像から任意に抽出した５００個の粒子に関して、画像解析を行い、同面積円相当直径を算出した。得られた５００個の粒子の同面積円相当直径を単純平均（即ち、数平均）することにより、粒子の平均円相当径を求めた。結果を表１に示す。

＜非イプシロン型酸化鉄系化合物の作製＞
非イプシロン型酸化鉄系化合物として、以下に示す、六方晶型の結晶構造を有するバリウムフェライト磁性体である磁性体Ｌ及び磁性体Ｍの粉末を作製した。

−磁性体Ｌの作製−
酸化物換算で、Ｂ_２Ｏ_３：２３．０ｍｏｌ％、Ａｌ_２Ｏ_３：８．７ｍｏｌ％、ＢａＯ：３７．０ｍｏｌ％、及びＦｅ_２Ｏ_３：３１．３ｍｏｌ％となるように、Ｂ_２Ｏ_３に対応するＨ_３ＢＯ_３と、Ａｌ_２Ｏ_３に対応するＡｌ（ＯＨ）_３と、ＢａＯに対応するＢａＣＯ_３と、Ｆｅ_２Ｏ_３と、を所定量秤量し、秤量物を、ミキサーを用いて混合し、混合物を得た。得られた混合物を容量２Ｌ（リットル）の白金ルツボに仕込み、溶融後、水冷ロールを用いて冷却し、非晶質体を得た。得られた非晶質体６００ｇを電気炉に仕込み、７２０℃まで４℃／ｍｉｎで昇温した後、温度を５時間保持させて六方晶フェライトを結晶化（即ち、析出）させた。
次いで、結晶化が完了した加熱処理物６００ｇを、乳鉢を用いて粗粉砕し、粗粉砕物を得た。得られた粗粉砕物と、直径５ｍｍのジルコニアボール５ｋｇと、純水１．２ｋｇと、を３Ｌ（リットル）のポットミルに入れ、ボールミルを用いて粉砕処理を４時間行った後、粉砕液をジルコニアボールと分離させ、５Ｌ（リットル）のステンレスビーカーに入れた。
次いで、粉砕液と３０質量％酢酸溶液とを３：１の割合（質量比）で混合し、８５℃に温度を制御した状態で２時間撹拌し、酸処理した。酸処理物に対し、デカンテーションによる水洗操作を繰り返した後、乾燥させて、磁性体Ｌの粒子を得た。
得られた磁性体Ｌの粒子の平均円相当径を、磁性体Ａ〜Ｋの粒子と同様の方法により測定したところ、２２ｎｍであった。

−磁性体Ｍの作製−
酸化物換算で、Ｂ_２Ｏ_３：２２．８ｍｏｌ％、Ａｌ_２Ｏ_３：１．５ｍｏｌ％、ＢａＯ：３１．７ｍｏｌ％、及びＦｅ_２Ｏ_３：４４．０ｍｏｌ％となるように、Ｂ_２Ｏ_３に対応するＨ_３ＢＯ_３と、Ａｌ_２Ｏ_３に対応するＡｌ（ＯＨ）_３と、ＢａＯに対応するＢａＣＯ_３と、Ｆｅ_２Ｏ_３と、を所定量秤量し、秤量物を、ミキサーを用いて混合し、混合物を得た。得られた混合物（Ｆｅの一部をＺｎ＝１．５ａｔ％、及びＮｂ＝０．７５ａｔ％で置換したものを用いた）を容量２Ｌ（リットル）の白金ルツボに仕込み、溶融後、水冷ロールを用いて冷却し、非晶質体を得た。得られた非晶質体６００ｇを電気炉に仕込み、６６０℃まで４℃／ｍｉｎで昇温した後、温度を５時間保持させて六方晶フェライトを結晶化（即ち、析出）させた。
次いで、結晶化が完了した加熱処理物６００ｇを、乳鉢を用いて粗粉砕し、粗粉砕物を得た。得られた粗粉砕物と、直径５ｍｍのジルコニアボール５ｋｇと、純水１．２ｋｇと、を３Ｌ（リットル）のポットミルに入れ、ボールミルを用いて粉砕処理を４時間行った後、粉砕液をジルコニアボールと分離させ、５Ｌ（リットル）のステンレスビーカーに入れた。
次いで、粉砕液と３０質量％酢酸溶液とを３：１の割合（質量比）で混合し、８５℃に温度を制御した状態で２時間撹拌し、酸処理した。酸処理物に対し、デカンテーションによる水洗操作を繰り返した後、乾燥させて、磁性体Ｍの粒子を得た。
得られた磁性体Ｍの粒子の平均円相当径を、磁性体Ａ〜Ｋの粒子と同様の方法により測定したところ、１９ｎｍであった。

表１中、原料水溶液中の濃度の欄に記載の「−」は、該当する成分（即ち、添加元素Ｍの塩）を使用していないことを意味する。

［磁気記録媒体（磁気テープ）の作製］
＜実施例１〜１８及び比較例１〜９＞
（１）アルミナ分散物の調製
アルミナ粉末（商品名：ＨＩＴ−８０、平均粒子径：１３０ｎｍ、α化率：約６５％、ＢＥＴ比表面積：２０ｍ^２／ｇ、住友化学（株））１００．０質量部に対し、表２に示す種類及び量の分散剤と、極性基としてＳＯ_３Ｎａ基を有するポリエステルポリウレタンの３２質量％溶液（商品名：バイロン（登録商標）ＵＲ−４８００、ＳＯ_３Ｎａ基の量：８０ｍｅｑ／ｋｇ、溶媒：メチルエチルケトン及びトルエンの混合溶液（質量比：５０／５０）、東洋紡（株））を３１．３質量部と、溶媒としてメチルエチルケトン及びシクロヘキサノンの混合溶液（質量比：５０／５０）５７０．０質量部と、を加えた後、ジルコニアビーズの存在下で、ペイントシェーカーを用いた分散処理を表２に示す時間行った。なお、分散温度は、分散容器に対して温度調節可能な外部ジャケットを設置することにより、表２に示す温度に調整した。
分散処理後、メッシュを用いて分散処理物からジルコニアビーズを分離し、取り除くことにより、アルミナ分散物を得た。

（２）磁性層形成用組成物の調製
下記に示す組成の磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
まず、下記に示す組成の磁性液を調製した。磁性液の各成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間ビーズ分散することにより、磁性液を得た。なお、分散ビーズには、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用いた。
次いで、上記にて調製した磁性液及びアルミナ分散物（即ち、研磨剤液）、並びに下記に示す他の成分（シリカゾル、その他の成分、及び仕上げ添加溶媒）を、ディゾルバー撹拌機を用いて、周速１０ｍ／秒にて３０分間撹拌した。
次いで、フロー式超音波分散機を用いて、流量７．５ｋｇ／分にて２回分散処理を行った後、平均孔径０．１μｍのフィルタを用いて、１回ろ過を行い、磁性層形成用組成物を得た。

−磁性層形成用組成物の組成−
（磁性液）
・表２に示す磁性体 １００．０質量部
（上記にて作製した磁性体Ａ〜磁性体Ｍ）
・ポリウレタンＡ １０．０質量部
（ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン、ＳＯ_３Ｎａ基量：６×１０^−５ｅｑ／ｇ、重量平均分子量：１０００００、Ｔｇ：６５℃、合成組成：水素化ビスフェノール／ビスフェノールＡのポリプロピレンオキシド付加物／スルホイソフタル酸エチレンオキシド付加物／ジフェニルメタンイソシアネート／トリメチロールプロパン（モル比：０．６／０．３／０．０５／１．０／０．０５）；結合剤）
・シクロヘキサノン １５０．０質量部
・メチルエチルケトン １５０．０質量部
（研磨剤液）
・上記（１）にて調製したアルミナ分散物 ６．０質量部
（シリカゾル）
・コロイダルシリカ（平均粒子径：８０ｎｍ） ２．０質量部
・メチルエチルケトン １．４質量部
（その他成分）
・ステアリン酸ブチル（潤滑剤） １．０質量部
・ステアリン酸（潤滑剤） １．０質量部
・ポリイソシアネート（硬化剤） ２．５質量部
（商品名：コロネート（登録商標）Ｌ、東ソー（株））
（仕上げ添加溶媒）
・シクロヘキサノン ２００．０質量部
・メチルエチルケトン ２００．０質量部

（３）非磁性層形成用組成物の調製
下記に示す組成の非磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
下記に示す非磁性層形成用組成物の成分のうち、潤滑剤であるステアリン酸ブチル及びステアリン酸、シクロヘキサノン、並びにメチルエチルケトンを除いた各成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間ビーズ分散することにより、第１の分散液を得た。なお、分散ビーズには、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用いた。
次いで、得られた第１の分散液に、残りの成分（即ち、潤滑剤であるステアリン酸ブチル及びステアリン酸、シクロヘキサン、並びにメチルエチルケトン）を添加し、ディゾルバー撹拌機を用いて、周速１０ｍ／秒にて６０分間撹拌することにより、第２の分散液を得た。
次いで、得られた第２の分散液に対し、平均孔径０．５μｍのフィルタを用いたろ過を行い、非磁性層形成用組成物を得た。

−非磁性層形成用組成物の組成−
・非磁性無機粒子；α−酸化鉄 １００．０質量部
（平均粒子径（平均長軸長）：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ）
・カーボンブラック ２０．０質量部
（平均粒子径：２０ｎｍ）
・電子線硬化型塩化ビニル共重合体 １３．０質量部
（塩化ビニル−エポキシ含有モノマー共重合体である日本ゼオン（株）のＭＲ１１０（平均重合度：３１０、エポキシ含有率：３質量％）を２−イソシアネートエチルメタクリレートを用いてアクリル変性したもの（アクリル含有量：６モル／１モル））
・電子線硬化型ポリウレタン ６．０質量部
（ヒドロキシ含有アクリル化合物−ホスホン酸基含有リン化合物−ヒドロキシ含有ポリエステルポリオール、重量平均分子量：２３０００、Ｐ含有率：０．２質量％、アクリル含有量：８モル／１モル）
・ステアリン酸ブチル（潤滑剤） ４．０質量部
・ステアリン酸（潤滑剤） １．０質量部
・フェニルホスホン酸 ３．０質量部
・シクロヘキサノン ３００．０質量部
・メチルエチルケトン ３００．０質量部

（４）バックコート層形成用組成物の調製
下記に示す組成のバックコート層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
下記に示すバックコート層形成用組成物の成分のうち、潤滑剤であるステアリン酸ブチル及びステアリン酸、硬化剤であるポリイソシアネート、シクロヘキサノン、並びにメチルエチルケトンを除いた各成分を、オープンニーダを用いて混練及び希釈（希釈溶媒：メチルエチルケトン及びシクロヘキサノンの混合溶媒）した後、横型ビーズミル分散機により、直径１ｍｍのジルコニアビーズを用いて、ビーズ充填率を８０体積％、及びローター先端周速１０ｍ／秒の条件にて、１パスあたりの滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行い、第１の分散物を得た。
次いで、得られた第１の分散液に、残りの成分（即ち、潤滑剤であるステアリン酸ブチル及びステアリン酸、硬化剤であるポリイソシアネート、シクロヘキサノン、並びにメチルエチルケトン）を添加し、ディゾルバー撹拌機を用いて、周速１０ｍ／秒にて６０分間撹拌することにより、第２の分散液を得た。
次いで、得られた第２の分散液に対し、平均孔径１．０μｍのフィルタを用いたろ過を行い、バックコート層形成用組成物を得た。

−バックコート層形成用組成物の組成−
・非磁性無機粒子；α−酸化鉄 ８０．０質量部
（平均粒子径（平均長軸長）：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ）
・カーボンブラック ２０．０質量部
（平均粒子径：２０ｎｍ）
・塩化ビニル共重合体 １３．０質量部
（商品名：ＭＲ−１０４、日本ゼオン（株））
・ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン ６．０質量部
（重量平均分子量：５００００、ＳＯ_３Ｎａ基量：０．０７ｍｅｑ／ｇ）
・ステアリン酸ブチル（潤滑剤） ３．０質量部
・ステアリン酸（潤滑剤） ３．０質量部
・フェニルホスホン酸 ３．０質量部
・ポリイソシアネート（硬化剤） ５．０質量部
（商品名：コロネート（登録商標）３０４１、東ソー（株））
・シクロヘキサノン ３５５．０質量部
・メチルエチルケトン １５５．０質量部

（５）磁気テープの作製
厚み５．００μｍのポリエチレンナフタレート製の支持体（即ち、非磁性支持体）上に、乾燥後の厚みが１．００μｍになるように非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた後、１２５ｋＶの加速電圧で４０ｋＧｙのエネルギーとなるように電子線を照射し、非磁性層を形成した。
次いで、形成した非磁性層の上に、乾燥後の厚みが６０ｎｍ（０．０６μｍ）になるように磁性層形成用組成物を塗布して塗布層を形成した。形成した塗布層が湿潤状態にあるうちに、塗布層にスムージング処理を施した。なお、スムージング処理は、市販のソリッドスムーザー（中心線平均表面粗さ（カタログ値）：１．２ｎｍ）を用いて、塗布層にせん断を付与することにより行った。
次いで、配向ゾーンにおいて、磁場強度０．３Ｔの磁場を塗布層表面に対して垂直方向に印加し、垂直配向処理を行った後、塗布層を乾燥させて磁性層を形成した。なお、乾燥ゾーンの温度は１００℃に設定した。
次いで、上記非磁性支持体の、非磁性層及び磁性層を形成した面とは反対側の面上に、バックコート層形成用組成物を乾燥後の厚みが０．４０μｍになるように塗布し乾燥させてバックコート層を形成し、バックコート層／非磁性支持体／非磁性層／磁性層の層構成を有する積層体を得た。
次いで、得られた積層体に対し、金属ロールのみから構成されたカレンダーロールを用いて、カレンダー処理速度８０ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、及びカレンダーロールの表面温度９０℃にて、表面平滑化処理（所謂、カレンダー処理）を行った後、雰囲気温度７０℃の環境下で３６時間熱処理を行った。熱処理後、積層体を１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、スリット品を得た。
次いで、得られたスリット品に対し、スリット品の送り出し及び巻き取り機能を有する装置に不織布とカミソリブレードとが磁性層の表面に押し当たるように取り付けられたテープクリーニング装置を用いて、磁性層の表面のクリーニングを行った。
以上により、実施例１〜１８及び比較例１〜９の磁気テープを作製した。

＜比較例１０＞
実施例１において、アルミナ分散物を事前に調製せずに、磁性体を分散する際に用いるバッチ式縦型サンドミルにアルミナ分散物を調製する際に用いる各素材、並びにコロイダルシリカ（平均粒子径：８０ｎｍ）及びメチルエチルケトンを添加し、磁性体の分散とアルミナの分散とを同時に行ったこと以外は、実施例１と同様の操作を行い、比較例１０の磁気テープを作製した。
なお、磁性層形成用組成物に含まれる研磨剤液の組成は、上記にて示した研磨剤液の組成となるように、各成分の配合量を調整した。

［測定及び評価］
上記にて作製した実施例１〜１８及び比較例１〜１０の磁気テープに対して、以下の測定及び評価を行った。評価結果を表２に示す。

（１）研磨剤の平面視平均円相当径の測定、及び円相当径の変動係数の算出
磁気テープの磁性層における研磨剤の存在状態の指標として、磁性層を平面視した場合における研磨剤の平均円相当径（所謂、平面視平均円相当径）を測定した。研磨剤の平面視平均円相当径は、電界放出形走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）を用いて撮影した研磨剤の画像（所謂、ＳＥＭ画像）から求めた。具体的手順を以下に示す。

１．ＳＥＭ画像の取得
電界放出形走査型電子顕微鏡として、（株）日立ハイテクノロジーのＦＥ−ＳＥＭ Ｓ４８００を用い、撮影前にコーティング処理を行わずに、加速電圧５ｋＶ、作動距離（Ｗ．Ｄ．）８ｍｍ、及び撮影倍率２万倍の条件下、プローブ電流をＮｏｒｍａｌに設定し、２次電子像を取得した。

２．画像解析
画像解析ソフトとして、三谷商事（株）のＷｉｎＲＯＯＦを用いて、以下の手順により画像解析を実施した。面積は、ピクセル（単位）で求まる。
（１）上記の「１．ＳＥＭ画像の取得」にて取得したＳＥＭ画像の画像データ（ＳＥＭ（２０Ｋ）ｊｐｇ画像）を、ＷｉｎＲＯＯＦにドラッグ及びドロップした。
（２）次いで、画像上、倍率及びスケールが表示されている部分を除き、縦４．３μｍ×横６．３μｍの領域を、解析領域として選択した。
（３）次いで、解析領域を２値化処理した。具体的には、下限値として１５０諧調、及び、上限値として２５５諧調を選択し、これら２つの閾値による２値化を実行した。２値化処理により、解析領域上の白く光る各部分の面積が求められる。画像解析ソフトの操作としては、「計測→形状特徴→面積」を実行した。
（４）各部分の面積と等しい面積を持つ円のサイズ（所謂、円相当径）を、以下の式（Ａ）により求めた。
（５）５００個の研磨剤の円相当径を求め、平均値（即ち、平均円相当径）及び変動係数を算出した。

（２）ＳＮＲ（Signal to Noise Ratio）の評価
磁気テープに対して、下記の記録再生条件にて、磁気信号を磁気テープの長手方向に記録し、磁気抵抗効果型（ＭＲ：Magnetoresistive）ヘッドにより再生した。再生信号を、シバソク社のスペクトラムアナライザを用いて周波数分析し、３００ｋｆｃｉの出力と、０ｋｆｃｉ〜６００ｋｆｃｉの範囲で積分したノイズとの比をＳＮＲとした。なお、単位「ｋｆｃｉ」は、線記録密度の単位である。

−記録再生条件−
記録
記録トラック幅：５μｍ
記録ギャップ：０．１７μｍ
ヘッドの飽和磁束密度（Ｂｓ）：１．８Ｔ
再生
再生トラック幅：０．４μｍ
シールド（ｓｈ;ｓｈｉｅｌｄ）間距離（ｓｈ−ｓｈ距離）：０．０８μｍ
記録波長：３００ｋｆｃｉ

（３）磁性層の耐擦傷性の評価
雰囲気温度２３℃及び１０％ＲＨの環境下において、磁気テープの表面（即ち、磁性層の表面）に、直径４ｍｍのアルミナ球を用いた２０ｇの荷重をかけて、磁気テープを２０回繰り返し走行させた。走行後、磁性層の表面の荷重をかけた箇所を、光学顕微鏡（倍率：２００倍）により観察し、下記の評価基準に従って、磁性層の耐擦傷性を評価した。
評価結果が、「Ａ」、「Ｂ」、又は「Ｃ」であれば、実用上許容される範囲内であると判断した。

−評価基準−
Ａ：光学顕微鏡の視野中に確認される磁性層の表面の傷が０箇所である。
Ｂ：光学顕微鏡の視野中に確認される磁性層の表面の傷が１箇所〜５箇所である。
Ｃ：光学顕微鏡の視野中に確認される磁性層の表面の傷が６箇所〜１０箇所である。
Ｄ：光学顕微鏡の視野中に確認される磁性層の表面の傷が１１箇所〜５０箇所である。
Ｅ：光学顕微鏡の視野中に確認される磁性層の表面の傷が５１箇所を超える。

表２に示すように、非磁性支持体と、非磁性支持体の少なくとも一方の面上に、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子、研磨剤、及び結合剤を含む磁性層と、を有し、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径が、７ｎｍ以上１８ｎｍ以下であり、磁性層を平面視した場合における、研磨剤の平均円相当径が２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、かつ、研磨剤の円相当径の変動係数が３０％以上６０％以下である、実施例１〜１８の磁気テープは、ＳＮＲが良好で、かつ、耐擦傷性に優れる磁性層を有していた。

一方、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径が、７ｎｍ未満である比較例１の磁気テープ及び１８ｎｍを超える比較例２の磁気テープは、７ｎｍ以上１８ｎｍ以下の範囲内である磁気テープ（例えば、実施例１〜５）と比較して、ＳＮＲが顕著に低い値を示した。

磁性層を平面視した場合における研磨剤の平均円相当径が２０ｎｍ未満である比較例３の磁気テープは、２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲内である磁気テープ（例えば、実施例１）と比較して、ＳＮＲが顕著に低い値を示した。
磁性層を平面視した場合における、研磨剤の平均円相当径が１０００ｎｍを超え、かつ、研磨剤の円相当径の変動係数が６０％を超える比較例４及び比較例１０の磁気テープは、研磨剤の平均円相当径が２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲内であり、かつ、研磨剤の円相当径の変動係数が３０％以上６０％以下の範囲内である磁気テープ（例えば、実施例１）と比較して、ＳＮＲが顕著に低い値を示し、かつ、耐擦傷性が顕著に劣っていた。
磁性層を平面視した場合における、研磨剤の円相当径の変動係数が３０％未満である比較例９の磁気テープは、３０％以上６０％以下の範囲内である磁気テープ（例えば、実施例１）と比較して、耐擦傷性が顕著に劣っていた。
磁性層を平面視した場合における、研磨剤の円相当径の変動係数が６０％を超える比較例５の磁気テープは、３０％以上６０％以下の範囲内である磁気テープ（例えば、実施例１）と比較して、耐擦傷性が劣っていた。
磁性層を平面視した場合における研磨剤の平均円相当径が１０００ｎｍを超える比較例６の磁気テープは、２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲内である磁気テープ（例えば、実施例１）と比較して、ＳＮＲが顕著に低い値を示し、かつ、耐擦傷性が顕著に劣っていた。

磁性体として、非イプシロン型酸化鉄である六方晶型の結晶構造を有するバリウムフェライトの粒子を用いた比較例７及び比較例８の磁気テープは、研磨剤の存在状態に関わらず、イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子を用いた磁気テープ（例えば、実施例１）と比較して、ＳＮＲが顕著に低い値を示した。

Claims (4)

1. 非磁性支持体と、前記非磁性支持体の少なくとも一方の面上に、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物の粒子、研磨剤、及び結合剤を含む磁性層と、を有し、
   前記イプシロン型酸化鉄系化合物の粒子の平均円相当径が、７ｎｍ以上１８ｎｍ以下であり、
   前記磁性層を平面視した場合における、前記研磨剤の平均円相当径が２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、かつ、前記研磨剤の円相当径の変動係数が３０％以上６０％以下である、磁気記録媒体。
   
   式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。
2. 前記イプシロン型酸化鉄系化合物が、前記式（１）で表される化合物を含み、
   前記式（１）におけるＡが、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｔｉ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素である、請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 記録方式がリニア記録方式である、請求項１又は請求項２に記載の磁気記録媒体。
4. 電磁波アシスト記録に用いられる、請求項１又は請求項２に記載の磁気記録媒体。