JP6776185B2 - 磁性粉、磁性粉の製造方法、及び磁気記録媒体 - Google Patents

Description

本開示は、磁性粉、磁性分の製造方法、及び磁気記録媒体に関する。

磁気記録媒体に用いる磁性粉としては、六方晶バリウムフェライト粉末等が広く用いられている。六方晶バリウムフェライト粉末は板状で高い充填率を達成することが可能である。しかし、近年、磁気記録媒体の高性能化に伴い、さらなる高性能の磁性粉が求められている。
例えば、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３は、異方性磁界（以下、Ｈｋと称することがある）が大きく、より小さい粒子を用いた場合でも、磁化を保つことができるため、次世代の磁性材料として注目されており、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３を含み、粒度分布が改善された磁性粉が提案されている（特許文献１参照）。

特開２０１７−２４９８１号公報

しかし、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３を含む磁性粉は、粒径が小さいために、個々の粒子に注目した場合のＨｋは大きいが、板状であって良好な充填率が得られる六方晶バリウムフェライト粉末に比較すると、磁性材料としては期待したほどの高い磁性特性が得らない。そのため、磁気記録媒体に適用した場合に、信号ノイズ比（以下、ＳＮＲと称することがある）をより大きくすることが困難であるという問題があることが判明した。
また、磁性粉の分散性を向上させる公知の方法としては、分散剤、結合剤など種類を換えたり、含有量等を多くしたりすることが考えられる。しかし、本発明者の検討によれば、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３を含む磁性粉は微細な球状であり、公知の分散剤を用いて、分散剤の含有量を増加させて分散性の向上を図った場合、相対的に磁性層に含まれる磁性粉の含有量が低下し、期待される充填率が得られず、ＳＮＲを向上させることが困難であることが判明した。

本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、分散性が良好で、磁性強度が高い磁性粉を提供することにある。
本発明の別の実施形態が解決しようとする課題は、分散性が良好で、磁性強度が高い磁性粉の製造方法を提供することにある。
本発明の別の実施形態が解決しようとする課題は、磁性粉の充填率が良好な磁性層を有する、磁性強度が高い磁気記録媒体を提供することにある。

既述の課題を達成するための手段は、以下の態様を含む。
＜１＞ ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物を含み、表面の少なくとも一部に、シラン化合物を含む表面処理層を有する磁性粉であり、平均粒子径が８ｎｍ〜２０ｎｍであり、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物に由来する鉄原子に対する、表面処理層に含まれるシラン化合物に由来する炭素原子の含有比率が０．０５％〜０．５％である磁性粉。

式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。
＜２＞ 式（１）で表される化合物は、下記式（１−２）で表される化合物である＜１＞に記載の磁性粉。

式（１−２）中、Ａ^１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表し、Ａ^２は、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ａ^３は、Ｔｉ及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｙは、０＜ｙ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たし、ｘ＋ｙ＋ｚ＜２である。
＜３＞ シラン化合物は、下記式（Ｉ）で表される部分構造を含むシラン化合物である＜１＞又は＜２＞に記載の磁性粉。

式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数３以上２０以下の炭化水素基を表す。
＜４＞ シラン化合物は、分子内に芳香環を有するシラン化合物である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の磁性粉。
＜５＞ α−Ｆｅ_２Ｏ_３及びγ−Ｆｅ_２Ｏ_３から選ばれる少なくとも１種の酸化鉄系化合物の含有量が、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物の含有量１００質量部に対し、２０質量部以下である＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の磁性粉。

＜６＞ ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の表面を、分子内に加水分解性の有機基を有するシラン化合物により表面処理して、表面の少なくとも一部にシラン化合物を含む表面処理層を形成する工程を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の磁性粉の製造方法。

式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。

＜７＞ 非磁性支持体と、非磁性支持体上に、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の磁性粉を含む磁性層と、を有する磁気記録媒体。

本発明の一実施形態によれば、分散性が良好で、磁性強度が高い磁性粉を提供することができる。
本発明の別の実施形態によれば、分散性が良好で、磁性強度が高い磁性粉の製造方法を提供することができる。
本発明の別の実施形態によれば、磁性粉の充填率が良好な磁性層を有する、磁性強度が高い磁気記録媒体を提供することができる。

以下、本発明の具体的な実施形態の例について詳細に説明するが、以下の実施形態は一例に過ぎず、以下の記載に何ら限定されず、本発明の目的の範囲内において、適宜、変更を加えて実施することができる。

本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
本明細書において組成物に含まれる各成分の量は、組成物中に、各成分に該当する物質が複数含まれる場合、特に断らない限り、当該複数の物質の合計量を意味する。
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。

＜磁性粉＞
本開示の磁性粉は、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物を含み、表面の少なくとも一部に、シラン化合物を含む表面処理層を有する磁性粉であり、平均粒子径が８ｎｍ〜２０ｎｍであり、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物に由来する鉄原子に対する表面処理層に含まれるシラン化合物に由来する炭素原子の含有比率（以下、Ｃ／Ｆｅ比と称することがある）が０．０５％〜０．５％である。

式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。
なお、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物からなる金属の粉、即ち、表面処理層を有しない金属の粉を、以下、「特定金属粉」と称することがある。

一般に、微小サイズの金属粒子では、磁化を保つことが困難であるところ、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３は、既述のように異方性磁界（Ｈｋ）が大きいため、より微小なサイズの粒子においても磁化を保つことができる。しかし、個々の微小粒子に着目した場合、単位重量(g)当たりの磁化の強さ（σｓ；emu/g）は、現在汎用されている磁性粉である六方晶フェライトの１／２〜１／３であること、粒子の形状が球状であることが多いために、粒子が凝集しやすく、充填率を高くすることが困難であるなどの理由から、磁性材料として使用した場合のＳＮＲを大きくできないという問題があった。
即ち、本開示の磁性粉における課題は、従来公知の磁性粉では検討されなかった、Ｈｋが大きく、微小なサイズの球状粒子に特有の、分散性の向上が困難であるという課題である。既述の如く、微細な磁性粉においては、分散性が良好ではないと、磁性材料として用いる場合に充分な充填率が得られず、惹いては、期待したＳＮＲの向上効果が得られないことがある。
この課題を、従来公知の分散剤ではなし得なかった方法で解決し、その結果、本開示の磁性粉を磁性層に適用した際の充填率の向上と、それに伴うＳＮＲの良化とが実現された磁気記録媒体を提供するに至った。

（特定金属粉）
式（１）で表される化合物の例としては、下記の式（１−２）で表される化合物、式（２）で表される化合物、下記の式（３）で表される化合物、下記の式（４）で表される化合物、下記の式（５）で表される化合物、及び下記の式（６）で表される化合物が挙げられ、式（１−２）で表される化合物が好ましい。

式（１−２）中、Ａ^１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表し、Ａ^２は、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ａ^３は、Ｔｉ及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｙは、０＜ｙ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たし、ｘ＋ｙ＋ｚ＜２である。

式（１−２）中、Ａ^１、Ａ^２、及びＡ^３において、ε相の安定化及び磁気特性の観点から、Ａ^１としては、Ｇａ、及びＡｌから選ばれる金属元素であることが好ましく、Ａ^２は、Ｃｏ、及びＭｎから選ばれる金属元素であることが好ましく、Ａ^３は、Ｔｉであることが好ましい。
式（１−２）中、ｘ、ｙ、及びｚにおいて、磁気記録媒体に適用するための好ましい磁気特性を取り得るという観点から、ｘは、０＜ｘ＜０．７を満たし、ｙは、０＜ｙ＜０．４を満たし、かつ、ｚは、０＜ｚ＜０．４を満たすことが好ましく、０．０５＜ｘ＜０．４を満たし、０．０１＜ｙ＜０．２を満たし、かつ、０．０１＜ｚ＜０．２を満たすことがより好ましい。
式（１−２）で表される化合物としては、具体的には、例えば、ε−Ｇａ_０．２４Ｃｏ_０．０５Ｔｉ_０．０５Ｆｅ_１．６６Ｏ_３、ε−Ａｌ_{（０．２０）}Ｃｏ_{（０．０６）}Ｔｉ_{（０．０６）}Ｆｅ_{（１．６８）}Ｏ_３、ε−Ｇａ_{（０．１５）}Ｍｎ_{（０．０５）}Ｔｉ_{（０．０５）}Ｆｅ_{（１．７５）}Ｏ_３などが挙げられる。

式（２）中、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、及びＩｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｚは、０＜ｚ＜２を満たす。
式（２）中、Ｚとしては、ε相の安定化の観点から、Ｇａ、及びＡｌから選ばれる金属元素であることが好ましい。
磁気特性の観点から、ｚは、０＜ｚ＜０．８を満たすことが好ましく、０．０５＜ｚ＜０．６を満たすことがより好ましい。
式（２）で表される化合物としては、具体的には、例えば、ε−Ｇａ_{（０．５５）}Ｆｅ_{（１．４５ ）}Ｏ_３、ε−Ａｌ_{（０．４５）}Ｆｅ_{（１．５５）}Ｏ_３などが挙げられる。

式（３）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｙは、０＜ｙ＜１を満たす。
式（３）中、磁気特性の観点から、Ｘは、Ｃｏ、及びＭｎから選ばれる金属元素であることが好ましく、Ｙは、Ｔｉであることが好ましい。
ε相の安定化の観点から、ｘは、０＜ｘ＜０．４を満たし、かつ、ｙは、０＜ｙ＜０．４を満たすことが好ましく、０＜ｘ＜０．２を満たし、かつ、０＜ｙ＜０．２を満たすことがより好ましい。
式（３）で表される化合物としては、具体的には、例えば、ε−Ｃｏ_{（０．０５）}Ｔｉ_{（０．０５）}Ｆｅ_{（１．９）}Ｏ_３、ε−Ｍｎ_{（０．０７５）}Ｔｉ_{（０．０７５）}Ｆｅ_{（１．８５）}Ｏ_３などが挙げられる。

式（４）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、及びＩｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たす。
式（４）中、ε相の安定化及び磁気特性の観点から、Ｘは、Ｃｏ、及びＭｎから選ばれる金属元素であることが好ましく、Ｚは、Ｇａ、及びＡｌから選ばれる金属元素であることが好ましい。
ε相の安定化及び磁気特性の観点から、ｘは、０＜ｘ＜０．４を満たし、かつ、ｚは、０＜ｚ＜０．６を満たすことが好ましく、０＜ｘ＜０．２を満たし、かつ、０．０５＜ｚ＜０．６を満たすことがより好ましい。
式（４）で表される化合物としては、具体的には、例えば、ε−Ｍｎ_{（０．０２）}Ｇａ_{（０．５）}Ｆｅ_{（１．４８）}Ｏ_３、ε−Ｃｏ_{（０．０２）}Ｇａ_{（０．４）}Ｆｅ_{（１．５８）}Ｏ_３などが挙げられる。

式（５）中、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、及びＩｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｙは、０＜ｙ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たす。
式（５）中、ε相の安定化及び磁気特性の観点から、Ｙは、Ｔｉであることが好ましく、Ｚは、Ｇａ、及びＡｌから選ばれる金属元素であることが好ましい。
ε相の安定化及び磁気特性の観点から、ｙは、０＜ｙ＜０．４を満たし、かつ、ｚは、０＜ｚ＜０．８を満たすことが好ましく、０＜ｙ＜０．２を満たし、かつ、０．０５＜ｚ＜０．６を満たすことがより好ましい。
式（５）で表される化合物としては、具体的には、例えば、ε−Ｔｉ_{（０．０２）}Ｇａ_{（０．５）}Ｆｅ_{（１．４８）}Ｏ_３、ε−Ｔｉ_{（０．０２）}Ａｌ_{（０．５）}Ｆｅ_{（１．４８）}Ｏ_３などが挙げられる。

式（６）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、及びＩｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｙは、０＜ｙ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たし、ｘ＋ｙ＋ｚ＜２である。
式（６）中、ε相の安定化及び磁気特性の観点から、Ｘは、Ｃｏ、及びＭｎから選ばれる金属元素であることが好ましく、Ｙは、Ｔｉであることが好ましく、Ｚは、Ｇａ、及びＡｌから選ばれる金属元素であることが好ましい。
式（６）中、ｘ、ｙ、及びｚにおいて、磁気記録媒体に適用するための好ましい磁気特性を取り得るという観点から、ｘは、０＜ｘ＜０．４を満たし、ｙは、０＜ｙ＜０．７を満たし、かつ、ｚは、０＜ｚ＜０．４を満たすことが好ましく、０．０１＜ｘ＜０．２を満たし、０．０５＜ｙ＜０．４を満たし、かつ、０．０１＜ｚ＜０．２を満たすことがより好ましい。
式（６）で表される化合物としては、具体的には、例えば、ε−Ｇａ_０．２４Ｃｏ_０．０５Ｔｉ_０．０５Ｆｅ_１．６６Ｏ_３、ε−Ａｌ_{（０．２０）}Ｃｏ_{（０．０６）}Ｔｉ_{（０．０６）}Ｆｅ_{（１．６８）}Ｏ_３、ε−Ｇａ_{（０．１５）}Ｍｎ_{（０．０５）}Ｔｉ_{（０．０５）}Ｆｅ_{（１．７５）}Ｏ_３などが挙げられる。

なお、酸化鉄系化合物の組成、及び結晶構造の確認方法については、実施例に詳述する。

特定金属粉は、例えば、以下の方法で調製することができる。
まず、水に、硝酸鉄などの３価の鉄化合物、及び必要に応じて特定金属粉に含ませる、鉄以外の金属元素を含む金属化合物を溶解させ、アンモニアを加え、さらに水を加えて、５０℃〜９０℃に加熱撹拌し、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を滴下し、そのまま５時間〜３６時間程度撹拌する。
得られた反応溶液を７０℃〜１００℃の乾燥機内に一晩静置し、析出した固体を、純水で洗浄し、再度乾燥させ、特定金属粉の前駆体を得る。
得られた特定金属粉の前駆体を、炉内に装填し、大気雰囲気下において、９００℃〜１２００℃の温度にて３時間〜６時間熱処理を施し、４モル／Ｌの水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液中に投入し、液温６０℃〜９０℃に維持して５時間〜３６時間撹拌することによりケイ素酸化物を除去し、遠心分離処理により粉体を採集し、純水で洗浄を行うことで特定金属粉を得る。

特定金属粉の粒子形状には特に制限はなく、例えば、球状、ロッド状等の形状が好ましく、分散性、配向性がより良好であるという観点から、球状が好ましい。
特定金属粉の粒径は、平均粒子径が８ｎｍ〜２０ｎｍであり、１０ｎｍ〜１８ｎｍの範囲が好ましく、１１ｎｍ〜１７ｎｍの範囲がより好ましい。
特定金属粉の平均粒子径が上記範囲の粒子であって、かつ、既述の表面処理層を有する粒子を磁性粉として磁気記録媒体に好適に使用することができる。
炉内での熱処理温度により、粒子径を制御することができる。例えば、炉内での熱処理温度が低いほど粒子径がより小さくなり、熱処理温度が高いほど粒子径がより大きくなる傾向がある。

特定金属粉の平均粒径は、以下の方法により、算出することができる。
特定金属粉を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：Transmission Electron Microscope）を用いて撮影倍率５００００倍〜８００００倍程度で撮影し、総倍率５０００００倍になる条件で印画紙にプリントして粉末を構成する粒子の写真を得る。
得られた粒子の写真から一次粒子を選び、デジタイザーで粒子の輪郭をトレースし、トレースした領域と同じ面積の円の直径（円面積相径）を算出することで粒子（一次粒子）のサイズを測定する。ここで、一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
本明細書では、以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行い、得られた５００個の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。
上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。スキャナーからの画像取り込み及び画像解析の際のｓｃａｌｅ補正は、例えば直径１ｃｍの円を用いて行うことができる。
なお、特定金属粉のみならず、磁性粉、任意成分としての非磁性粒子などについても、既述と同様の方法にて平均粒子径を測定することができる。

（表面処理層）
本開示の磁性粉は、既述の特定金属粉の表面の少なくとも一部に、シラン化合物を含む表面処理層を有する。
シラン化合物を含む表面処理層は、特定金属粉の表面全域に有していてもよいが、必ずしも表面全域に有する必要はない。例えば、特定金属粉の表面に不連続な表面処理層、即ち、一部に表面処理層の不形性領域がある表面処理層を有してもよく、また、特定金属粉の表面の一部に局所的に表面処理層を有していてもよい。即ち、特定金属粉の表面に、局所的であっても、シラン化合物を含む表面処理層を有することにより、本開示の効果を得ることができる。
表面処理層に含まれるシラン化合物は、下記式（Ｉ）で表される部分構造を含むシラン化合物であることが好ましい。

式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数３以上２０以下の炭化水素基を表す。
Ｒ^１で表される炭化水素基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖を有していてもよく、環状構造を有していてもよい。
また、シラン化合物は、分子内に芳香環を有するシラン化合物であることがより好ましい。

表面処理層は、後述の如く、特定金属粉をシランカップリング剤のごとく、加水分解性基を有するシラン化合物で処理することにより形成することが好ましい。加水分解性基が、加水分解して特定金属粉に吸着し、Ｓｉ元素を１つ有するシラン化合物を含む表面処理層が形成されることで、例えば、ポリシロキサン化合物等を用いて作製する表面処理層よりも、厚みがより薄い層が形成される。

シラン化合物を含む表面処理層を有する本開示の磁性粉の作用は明確ではないが、一定の厚さで、好ましくはシランカップリング剤により表面処理されて、特定金属粉の表面の少なくとも一部に形成された表面処理層を有する磁性粉は、特定金属粉と結合剤とを含む磁性層を形成する際に、特定金属粉と結合剤との相互作用が良化し、より少ない結合剤で、特定金属粉の凝集が抑制され、良好な分散状態とすることができると考えられる。即ち、表面処理層の存在により磁性体の分散性が増し、平均粒径が２０ｎｍ以下の如き微細な特定金属粉を用いた場合であっても粒子同士の凝集が効果的に抑制される。
従って、上記表面処理層を有する磁性粉を後述の磁気記録媒体に適用して磁性層を形成する際に、公知の金属粉用の分散剤を含む表面処理層を有する粒子に比較して、より高い充填率を達成することができる。
そして、微細な金属粉が良好な充填率で充填が可能となることで、磁気記録媒体における磁性層に、より良好な磁性が発現される。従って、本開示の磁性粉は、磁気記録媒体に好適な磁性粉となると考えられる。

上記式（Ｉ）におけるＲ^１は、炭素数３以上２０以下の炭化水素基を表す。炭化水素基の炭素数は６以上１８以下が好ましく、８以上１２以下がより好ましい。
Ｒ^１で表される炭化水素基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖を有していてもよく、環状構造を有していてもよい。環状構造は、脂肪環であっても芳香環であってもよい。
表面処理層の形成に用いられるシラン化合物としては、分子内に加水分解性の有機基を有するシラン化合物を用いることができる。分子内に加水分解性の有機基を有するシラン化合物としては、加水分解性シリル基及びシラノール基の少なくとも１種を有するシラン化合物が挙げられる。分子内に加水分解性の有機基を有するシラン化合物としては、公知のシランカップリング剤を好ましく用いることができる。シラン化合物としては、例えば、ドデシルトリエトキシシラン、トリエトキシオクチルシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、トリメトキシプロピルシラン、トリエトキシフェニルシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビニルメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、１−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、［３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン等が挙げられ、なかでも、分子内に芳香環を有するトリエトキシフェニルシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等が好ましい。

表面処理層の形成に用いられる、既述のシラン化合物に由来するＳｉ原子と炭化水素基とが、特定金属粉に吸着し、固定化されることで、表面処理層が形成される。表面処理層は、必ずしも特定金属粉の表面の全域に亘り形成されていなくてもよい。しかし、特定金属粉が有する表面処理層においては、特定量以上のシラン化合物が含まれていることが、効果の観点から好ましい。
表面処理層にシラン化合物が含まれることが後述のＸ線光電子分光分析（ＸＰＳ）により確認することができる。
表面処理層におけるＳｉ原子の含有量としては、特定金属粉に由来する鉄原子に対する、表面処理層に含まれるシラン化合物に由来するＳｉ原子の含有比率（Ｓｉ／Ｆｅ：原子数比）が０．０２％〜０．２％であることが好ましい。
また、表面処理層の形成条件としては、特定金属粉に由来する鉄原子に対する、表面処理層に含まれるシラン化合物に由来する炭素原子の含有比率（Ｃ／Ｆｅ：原子数比）が、０．０５％〜０．５％となる条件を選択すればよい。Ｃ／Ｆｅ含有比率は、０．１％〜０．４％が好ましく、０．１５％〜０．３％がより好ましい。

（表面処理層におけるシラン化合物、及びＣ／Ｆｅ含有比の確認）
特定金属粉等の金属粉における表面処理層の確認は、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）を用いて行なうことができる。
ＸＰＳの測定は、例えば、島津製作所（株）、Ｘ線光電子分光分析装置（ＡＸＩＳ−ＵＬＴＲＡ：商品名）を用いることができる。
測定方法については、実施例の欄にて詳述する。

シラン化合物を含む表面処理層を有する本開示の磁性粉の製造方法には、特に制限はない。
なかでも、特定金属粉の表面を、分子内に加水分解性の有機基を有するシラン化合物により表面処理して、表面の少なくとも一部にシラン化合物を含む表面処理層を形成する工程を含む製造方法により製造されることが好ましい。
表面処理の方法としては、公知の方法が適宜適用しうる。
例えば、特定金属粉をエタノールなどの溶媒に分散させ、塩酸などの酸を加えて分散液のｐＨを２〜４の酸性に調整し、そこに、シラン化合物を添加し、充分に撹拌してシラン化合物を特定金属粉表面に吸着させ、その後、洗浄する方法が挙げられる。
撹拌は、液温を常温（２５℃）〜６０℃とし、５分間〜１２０分間行なうことが好ましい。

表面処理層の形成に用いるシラン化合物の添加量は、特定金属粉１００質量部に対し、０．０５質量部〜２．０質量部であることが好ましく、０．１質量部〜１．２質量部であることがより好ましい。
上記範囲において、表面処理層におけるＣ／Ｆｅ含有比を適切な範囲とすることができる。
表面処理層におけるＣ／Ｆｅ含有比は、特定金属粉の表面処理に用いるシラン化合物の種類と、含有量と、を制御することにより調整することができる。また、表面処理における液温、表面処理時間、及び溶液のｐＨを適宜制御することによっても、Ｃ／Ｆｅ含有比を調整することができる。

（磁性粉に含まれうる他の成分）
本開示の磁性粉には、既述の表面処理層を有する特定金属粉に加え、必要に応じて、さらに、他の成分を含んでもよい。
他の成分としては、例えば、特定金属粉以外の金属粉等が挙げられる。
特定金属粉以外の金属粉としては、例えば、α−Ｆｅ_２Ｏ_３及びγ−Ｆｅ_２Ｏ_３から選ばれる少なくとも１種の酸化鉄系化合物（以下、他の酸化鉄系化合物と称することがある）が挙げられる。なお、α−Ｆｅ_２Ｏ_３及びγ−Ｆｅ_２Ｏ_３から選ばれる少なくとも１種の酸化鉄系化合物の含有量は、特定金属粉の含有量１００質量部に対し、２０質量部以下であることが好ましい。
即ち、特定金属粉の少なくとも１部を、磁性粉の用途に汎用される既述の他の酸化鉄系化合物に置き換えることで、磁性特性の調整を行なったり、性能を低下させない範囲でコストを軽減したりすることができる。一方、特定金属粉は単相、即ち、特定金属粉以外の金属粉を含まない相であることが好ましいが、不可避不純物としてのα−Ｆｅ_２Ｏ_３及びγ−Ｆｅ_２Ｏ_３から選ばれる少なくとも１種の酸化鉄系化合物を含むことがある。
いずれの場合においても、特定金属粉の含有量１００質量部に対する他の酸化鉄系化合物を含有量は、２０質量部以下であることが好ましく、５質量部以下であることがより好ましい。

＜磁気記録媒体＞
既述の本開示の磁性粉は、磁気記録媒体に好適に使用される。
本開示の磁気記録媒体は、非磁性支持体と、非磁性支持体上に、既述の本開示の磁性粉を含む磁性層と、を有する磁気記録媒体である。
本開示の磁気記録媒体は、非磁性支持体と、非磁性支持体の少なくとも一方の面上に、強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層と、を有する。すなわち、磁気記録媒体は、基材としての非磁性支持体と、磁気記録層としての磁性層を有し、目的に応じてその他の層を有してもよい。
磁気記録媒体が有しうるその他の層としては、非磁性層、バックコート層などが挙げられる。その他の層については後述する。

［非磁性支持体］
非磁性支持体とは、磁性を有しない支持体を指す。以下、非磁性支持体を、単に「支持体」と称することがある。
「磁性を有しない」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であること、の少なくともいずれかの条件を満たすことをいう。

非磁性支持体は、磁性を有しない材料、例えば、磁性材料を含まない樹脂材料、磁性を有しない無機材料等の材料により形成された基材を挙げることができる。支持体を形成する材料は、磁気記録媒体に必要な成形性などの物性、形成された支持体の耐久性等の要求を満たす材料から適宜選択して用いることができる。
支持体は、磁気記録媒体の使用形態に応じて選択される。例えば、磁気記録媒体が磁気テープ、フレキシブルディスク等の場合、支持体としては、可撓性を有する樹脂フィルムを用いることができる。磁気記録媒体がハードディスク等の場合、支持体としては、ディスク状であり、フレキシブルディスク用の支持体よりも硬質な樹脂成形体、無機材料成形体、金属材料成形体などを用いることができる。

支持体を形成する樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアラミドを含む芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂、ポリイミド、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルホン、ポリベンゾオキサゾール等の樹脂材料が挙げられる。既述の樹脂材料から適宜選択して支持体を形成することができる。
なかでも、強度と耐久性とが良好であり、加工が容易であるとの観点から、ポリエステル、アミド系樹脂等が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、及びポリアミドがより好ましい。

樹脂材料を磁気テープ等の支持体に用いる場合には、樹脂材料をフィルム状に成形する。樹脂材料をフィルム状に成形する方法は、公知の方法を用いることができる。
樹脂フィルムは、未延伸フィルムでもよく、一軸延伸、二軸延伸などの延伸フィルムでもよい。例えば、ポリエステルを用いる場合には、寸法安定性を向上させるため、二軸延伸したポリエステルフィルムを用いることができる。
また、目的に応じて２層以上の積層構造を有するフィルムを用いることもできる。即ち、例えば、特開平３−２２４１２７号公報に示される如き、磁性層を形成する面と、磁性層を有しない面との表面粗さを変えるため等の目的で異なる２層のフィルムを積層した支持体等を用いることもできる。

磁気記録媒体がハードディスクの場合には、既述の樹脂材料をディスク状に成形した樹脂成形体、ガラスなどの無機材料又はアルミニウムなどの金属材料をディスク状に成形した無機材料成形体を、支持体として用いることができる。

例えば、支持体の面上に備えられる磁性層との密着性を向上させる等の目的で、支持体には、必要に応じて、予めコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等の表面処理を行ってもよい。また、磁性層への異物混入を抑制するため、支持体に防塵処理などの表面処理を行なってもよい。
既述の各表面処理は公知の方法により実施することができる。

支持体の厚みは、特に限定されず、磁気記録媒体の用途に応じて適宜設定できる。支持体の厚みは、好ましくは３．０μｍ〜８０．０μｍである。例えば、磁気記録媒体が磁気テープである場合、支持体の厚みは、３．０μｍ〜６．５μｍであることが好ましく、３．０μｍ〜６．０μｍであることがより好ましく、４．０μｍ〜５．５μｍであることが更に好ましい。

非磁性支持体、及び以下に説明する磁気記録媒体の各層の厚みは、磁気記録媒体の厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行い、断面観察において厚み方向の１箇所の厚みとして、又は無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所（例えば２箇所）において求められた厚みの算術平均として、求めることができる。

［磁性層］
磁性層は、磁気記録に寄与する層である。磁性層は、磁性体として、既述の本開示の磁性粉を含む強磁性粉末及び膜形成成分である結合剤を含む層であることが好ましく、更に目的に応じて添加剤を含んでもよい。

（強磁性粉末）
磁性層における強磁性粉末は、本開示の磁性粉を含む。
磁性層が本開示の特定磁性粉を含むことで、磁気記録媒体のＳＮＲが著しく改善されることは既述の通りである。
なお、磁性層が、本開示の磁性粉以外の強磁性粉末（他の強磁性粉末）を含む場合、本開示の磁性粉１００質量部に対する他の強磁性粉末の含有量は、２０質量部以下であることが好ましい。

本開示の磁性粉及び他の強磁性粉末の平均一次粒径の測定方法は既述の通りである。なお、磁性粉の平均一次粒径の測定方法は、後述の実施例にてより具体的に説明する。

平均一次粒径を測定するための磁性粉又は他の強磁性粉末の試料粉末としては、原料粉末であっても、磁性層から採取した試料粉末であってもよい。
磁性層からの磁性分などを試料粉末として採取する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
１．磁性層表面にヤマト科学製プラズマリアクターで１〜２分間表面処理を施し、磁性層表面の有機物成分（結合剤成分等）を灰化して取り除く。
２．シクロヘキサノン又はアセトンなどの有機溶剤を浸したろ紙を金属棒のエッジ部に貼り付け、その上で、上記１．の処理後の磁性層表面をこすり、磁性層成分を磁気記録媒体からろ紙へ転写し剥離する。
３．上記２．で剥離した磁性層成分を、シクロヘキサノン又はアセトンなどの有機溶媒の中に振るい落とし、有機溶媒を乾燥させて、ろ紙から剥離成分を取り出す。なお、振るい落とす方法としては、ろ紙ごと溶媒の中に入れ超音波分散機で振るい落とす方法をとることができる。
４．上記３．でかき落とした磁性層成分を十分洗浄したガラス試験管に入れ、ガラス試験管中にｎ−ブチルアミンを磁性層成分に対し、２０ｍｌ程度加えてガラス試験管を封緘する。なお、ｎ−ブチルアミンは、灰化せず残留した結合剤を分解できる量加えることが好ましい。
５．ガラス試験管を１７０℃で２０時間以上加熱し、バインダー及び硬化剤成分などの磁性層含まれる有機成分を分解する。
６．上記５．の分解後の沈殿物を純水で十分に洗浄後乾燥させ、粉末を取り出す。
以上の工程により、磁性層から試料粉末を採取して、平均一次粒径の測定に用いることができる。

磁性層における強磁性粉末の含有率（充填率）は、磁性層の乾燥質量に対し、好ましくは５０質量％〜９０質量％であり、より好ましくは６０質量％〜９０質量％である。磁性層における強磁性粉末の充填率が、磁性層の乾燥質量に対し、５０質量％以上であることにより、記録密度を向上させることができる。
なお、本開示の磁性粉は、好ましくは、特定の条件にてシランカップリング剤により表面処理されてなる表面処理層を有する磁性粉である。よって、粒子径が、従来用いられている一般的な磁性粒子より小さいにも拘わらず、分散性が良好であり、充填率をより向上させることができ、記録密度がより向上した。

（結合剤）
結合剤は、既述の強磁性粉末を含む磁性層を形成するために有用な膜形成性樹脂から選ばれる。
結合剤に用いられる樹脂は、目的とする強度、耐久性などの諸物性を満たす樹脂層を形成しうる限り、特に制限はない。公知の膜形成性樹脂から目的に応じて適宜選択して、結合剤として用いることができる。

結合剤に用いる樹脂は、単独重合体（ホモポリマー）であってもよく、共重合体（コポリマー）であってもよい。結合剤に用いる樹脂は、公知の電子線硬化型樹脂であってよい。
結合剤に用いうる樹脂としては、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を（共）重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選択した樹脂が挙げられる。結合剤に用いる樹脂は、既述の樹脂を単独で用いてもよく、複数用いてもよい。これらの中でも、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂及び塩化ビニル樹脂が好ましい。

結合剤としての樹脂は、磁性層に含まれる強磁性粉末の分散性をより向上させるため、粉体表面に吸着し得る官能基、例えば、極性基を分子内に有することが好ましい。結合剤としての樹脂が有し得る好ましい官能基としては、例えば、−ＳＯ_３Ｍ、−ＳＯ_４Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）_２、−ＯＰＯ（ＯＭ）_２、−ＣＯＯＭ、＝ＮＳＯ_３Ｍ、＝ＮＲＳＯ_３Ｍ、−ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｎ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｘ⁻などが挙げられる。ここで、Ｍは水素原子またはＮａ、Ｋ等のアルカリ金属原子を表す。Ｒはアルキレン基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基を表す。ＸはＣｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子を表す。
結合剤としての樹脂が上記官能基を有する場合、樹脂中の官能基の含有量は０．０１ｍｅｑ／ｇ以上２．０ｍｅｑ／ｇ以下が好ましく、０．３ｍｅｑ／ｇ以上１．２ｍｅｑ／ｇ以下がさらに好ましい。樹脂における官能基の含有量が上記範囲内にあることで、磁性層における強磁性粉体等の分散性がより良好となり、磁性密度がより向上するため好ましい。

なかでも、結合剤に用いる樹脂としては、−ＳＯ_３Ｎａ基を含むポリウレタンがより好ましい。ポリウレタンが−ＳＯ_３Ｎａ基を含む場合、−ＳＯ_３Ｎａ基は、ポリウレタンに対し、０．０１ｍｅｑ／ｇ〜１．０ｍｅｑ／ｇで含まれることが好ましい。
結合剤は、市販の樹脂を適宜使用できる。

結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下とすることができる。
本開示における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ（Ｉｎｎｅｒ Ｄｉａｍｅｔｅｒ）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
試料濃度：０．５質量％
サンプル注入量：１０μｌ
流速：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度：４０℃
検出器：ＲＩ検出器

磁性層における結合剤の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、例えば１質量部〜３０質量部の範囲とすることができ、２質量部〜２０質量部の範囲とすることが好ましい。

（他の添加剤）
磁性層は、既述の強磁性粉体及び結合剤に加え、磁性層の効果を損なわない範囲にて、目的に応じて種々の添加剤を含有することができる。
添加剤としては、例えば、研磨剤、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラック等を挙げることができる。また、添加剤としては、必要に応じて、無機フィラーとしてのコロイド粒子、及び硬化剤も用いることができる。
添加剤は、所望の性質に応じて、市販品を適宜使用できる。

−研磨剤−
磁性層は、研磨剤を含むことができる。磁性層が研磨剤を含むことで、磁気記録媒体の使用中にヘッドに付着する付着物を除去することができる。
研磨剤としては、例えば、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化ケイ素、炭化ケイ素チタンカーバイド、酸化チタン、二酸化ケイ素、窒化ホウ素等の、主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用されることが好ましい。また、これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。
研磨剤には既述の主成分である金属化合物粒子以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量％以上であれば効果に変わりはない。
また、研磨剤は、上記粒子を表面処理した材料を使用してもよい。
研磨剤は、市販品を適宜使用できる。
具体的には、研磨剤の市販品としては、住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００；レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ；不二見研磨剤社製ＷＡ１００００；上村工業社製ＵＢ２０；日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１；戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０；イビデン社製ベータランダムウルトラファイン；昭和鉱業社製Ｂ−３；等が挙げられる。

研磨剤の粒子サイズは０．０１μｍ〜２μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜１．０μｍであることがより好ましく、０．０５μｍ〜０．５μｍであることがさらに好ましい。
特に電磁変換特性を高めるためには、研磨剤は粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることも可能である。研磨剤のタップ密度は０．３ｇ／ｍｌ〜２ｇ／ｍｌであることが好ましく、含水率は０．１％〜５％であることが好ましく、ｐＨは２〜１１であることが好ましく、ＢＥＴ比表面積（Ｓ_ＢＥＴ）は１ｍ²／ｇ〜３０ｍ²／ｇであることが好ましい。
研磨剤の形状は針状、球状、立方体状のいずれでもよいが、形状の一部に角を有する粒子が、研磨性が高く好ましい。

磁性層が研磨剤を含む場合の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、１質量部〜１０質量部の範囲であることが好ましい。

−潤滑剤−
磁性層は、潤滑剤を含むことができる。
磁性層が潤滑剤を含むことで、例えば、磁気記録媒体の走行耐久性を向上させることができる。
潤滑剤としては、公知の炭化水素系潤滑剤、及びフッ素系潤滑剤などが使用できる。
潤滑剤は、市販品を適宜使用してもよい。

潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。

炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類；ステアリン酸ブチル等のエステル類；オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類；リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類；ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類；ステアリルアミン等のアミン類；などが挙げられる。

フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。
パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_nまたはこれらの共重合体等である。

また、炭化水素系潤滑剤のアルキル基の末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシル基などの極性官能基を有する化合物が、摩擦力を低減する効果が高く好適である。
さらに、潤滑剤の分子量は、５００〜５０００、好ましくは１０００〜３０００である。５００〜５０００とすることで、揮発を抑え、また潤滑性の低下を抑えることができる。また、粘度が高くなるのを防ぎ、スライダーとディスクが吸着し易くなって走行停止やヘッドクラッシュなどを発生するのを防ぐことができる。
潤滑剤として用い得るパーフルオロポリエーテルは、具体例的には、例えば、アウジモンド社製のＦＯＭＢＬＩＮ、デュポン社製のＫＲＹＴＯＸなどの商品名で市販されている。

極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類；亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類；トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類；二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤；などが挙げられる。

磁性層が潤滑剤を含む場合、潤滑剤は、１種単独で使用してよく、又は２種以上を使用してもよい。

磁性層が潤滑剤を含む場合の潤滑剤の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、０．１質量部〜５質量部の範囲であることが好ましい。

−非磁性フィラー−
磁性層は、非磁性フィラーを含むことができる。非磁性フィラーは、分散性及び表面粗さの観点から、コロイド粒子であることが好ましい。
コロイド粒子としては、入手容易性の点から無機コロイド粒子が好ましく、無機酸化物コロイド粒子がより好ましい。無機酸化物コロイド粒子としては、上記無機酸化物のコロイド粒子を挙げることができ、ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂／ＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂／Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃／ＴｉＯ₂、ＴｉＯ₂／ＣｅＯ₂／ＳｉＯ₂などの複合無機酸化物コロイド粒子を挙げることもできる。好ましいものとしては、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃などの無機酸化物コロイド粒子を挙げることができ、単分散のコロイド粒子の入手容易性の点から、シリカコロイド粒子（コロイダルシリカ）が特に好ましい。

磁性層が非磁性フィラーを含む場合、非磁性フィラーは、１種単独であってもよく、２種以上であってよい。
非磁性フィラーは、市販品を適宜使用できる。
磁性層が非磁性フィラーを含む場合の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、１質量部〜１０質量部の範囲であることが好ましい。

磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて最適化することができる。磁性層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、高密度記録化の観点から、より好ましくは２０ｎｍ〜１２０ｎｍであり、更に好ましくは３０ｎｍ〜１００ｎｍである。
磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する二層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。重層磁性層について、磁性層の厚みとは、複数の磁性層の合計厚みをいう。

以下、磁気記録媒体における任意の層である非磁性層及びバックコート層について説明する。

［非磁性層］
非磁性層は、磁性層の薄層化等に寄与する層である。非磁性層は、フィラーとしての非磁性粉末及び膜形成成分である結合剤を含む層であることが好ましく、更に目的に応じて添加剤を含んでよい。

非磁性層は、非磁性支持体と磁性層との間に設けることができる。非磁性層には、磁性を有しない層、及び、不純物として又は意図的に少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層が包含される。
ここで「非磁性」とは、既述の「非磁性支持体」にて述べた如く、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であることの少なくともいずれかを満たすことをいう。

（非磁性粉末）
非磁性粉末は、フィラーとして機能する、磁性を有しない粉末である。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機粉末でも有機粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機粉末としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末が挙げられる。非磁性粉末は、１種単独で使用でき、又は２種以上を組み合わせて使用することもできる。非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。

具体的には二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単独または２種類以上を組み合わせて使用することができる。好ましいものは、α−酸化鉄、酸化チタンである。

非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状等のいずれでもあってもよい。非磁性粉末の結晶子サイズは、４ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、４０ｎｍ〜１００ｎｍがさらに好ましい。結晶子サイズが４ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であれば、分散が困難になることもなく、また好適な表面粗さを有するため好ましい。これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ〜５００ｎｍが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１０ｎｍ〜２００ｎｍである。５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であれば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さを有するため好ましい。

非磁性層における非磁性粉末の含有率（充填率）は、好ましくは５０質量％〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０質量％〜９０質量％の範囲である。

非磁性層における「結合剤」及び「添加剤」は、「磁性層」の項において説明した「結合剤」及び「添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様である。

非磁性層の厚みは、０．０５μｍ〜３．０μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜２．０μｍであることがより好ましく、０．０５μｍ〜１．５μｍであることが更に好ましい。

［バックコート層］
バックコート層は、走行安定性等に寄与する層である。バックコート層は、フィラーとしての非磁性粉末及び膜形成成分である結合剤を含有する層であることが好ましく、目的に応じて、更に添加剤を含んでよい。

バックコート層は、非磁性支持体の磁性層側とは反対側の表面に設けることができる。

バックコート層における「非磁性粉末」、は、「非磁性層」の項で説明した「非磁性粉末」と同義であり、好ましい態様も同様である。また、バックコート層における「結合剤」及び「添加剤」は、「磁性層」の項で説明した「結合剤」、及び「添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様である。

バックコート層の厚みは、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ〜０．７μｍであることがより好ましい。

＜磁気記録媒体の製造方法＞
本開示の磁気記録媒体の製造方法には特に制限はなく、公知の製造方法を適用することができる。
磁気記録媒体の製造方法としては、例えば、磁性層形成用組成物を調製する工程（工程（Ａ））、非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を付与して磁性層形成用組成物層を形成する工程（工程（Ｂ））、形成された磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程（工程（Ｃ））、及び磁場配向処理された磁性層形成用組成物層を乾燥して磁性層を形成する工程（工程（Ｄ））を含む製造方法が挙げられる。
なお、磁気記録媒体の製造方法は、必要に応じて、さらに、磁性層を有する非磁性支持体をカレンダ処理する工程、非磁性層及びバックコート層等の任意の層を形成する工程等を含むことができる。
個々の工程は、それぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。

［工程（Ａ）］
磁性粉の製造方法は、磁性層形成用組成物を調製する工程（工程（Ａ））を含むことが好ましい。
工程（Ａ）は、強磁性粉末、結合剤、及び必要に応じて添加剤を、溶媒に添加すること及び分散することを含む。

本開示の強磁性粉末、結合剤、非磁性粉末、添加剤など全ての原料は、本工程（Ａ）におけるいずれの時期に添加してもかまわない。
個々の原料は、同時に添加してよく、又は２回以上に分割して添加してもかまわない。例えば、結合剤は、分散工程で添加した後、分散後の粘度調整のために更に添加することができる。

磁性層形成用組成物の原料の分散には、例えばバッチ式縦型サンドミル、横型ビーズミルなどの公知の分散装置を用いることができる。分散ビーズとしては、例えばガラスビーズ、ジルコニアビーズ、チタニアビーズ、及びスチールビーズなどを用いることができる。分散ビーズの粒径（ビーズ径）及び充填率は、最適化して用いることができる。
また、磁性層形成用組成物の原料の分散は、例えば公知の超音波装置を用いて行うこともできる。
また、分散前に、磁性層形成用組成物の原料の少なくとも一部を、例えばオープンニーダを用いて混練することもできる。

磁性層形成用組成物の原料は、それぞれの原料ごとに溶液を調製した後に、混合してもよい。例えば、強磁性粉末を含む磁性液、及び研磨剤を含む研磨液をそれぞれ調製した後に、混合して、分散することができる。

（磁性層形成用組成物）
磁性層形成用組成物を調製するための「強磁性粉末」、「結合剤」、及び「添加剤」は、「磁性層」の項で説明した「強磁性粉末」、「結合剤」、及び「添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様である。

磁性層形成用組成物における強磁性粉末の含有量は、磁性層形成用組成物の全質量に対し、５質量％〜５０質量％が好ましく、１０質量％〜３０質量％がより好ましい。
磁性層形成用組成物における結合剤の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、１質量部〜３０質量部の範囲が好ましく、２質量部〜２０質量部の範囲とすることがより好ましい。

−溶媒−
溶媒は、強磁性粉末及び結合剤、必要に応じて添加剤を分散させるための媒体である。
溶媒は、１種のみであってよく、又は２種以上の混合溶媒であってもよい。溶媒としては、有機溶媒が好ましい。
有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系化合物、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコール系化合物、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル系化合物、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系化合物、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素系化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。好ましい有機溶媒は、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びこれらを任意の割合で含む混合溶媒を挙げることができる。

分散性を向上させるためには、ある程度極性が強い溶媒が好ましく、溶媒全質量に対し、誘電率が１５以上の溶媒が５０質量％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

−硬化剤−
磁性層形成用組成物は、硬化剤を含むことができる。
磁性層形成用組成物が硬化剤を含むことで、磁性層を形成する際に、磁性層に含まれる結合剤に架橋構造が形成され、形成される磁性層の膜強度がより向上する。
硬化剤としては、イソシアネート系化合物が好ましい。イソシアネート系化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート系化合物が挙げられ、これらのイソシアネート系化合物とポリアルコールとの生成物、及びイソシアネート系化合物の縮合によって生成した２官能以上のポリイソシアネートを使用することができる。

硬化剤は、市販品を適宜使用することができる。市販されているイソシアネート系化合物の商品名としては、例えば、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ等が挙げられる。

磁性層形成用組成物が硬化剤を含む場合、硬化剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を使用してもよい。
磁性層形成用組成物が硬化剤を含む場合の硬化剤の含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して、例えば０．１質量部〜１０質量部添加してよく、磁性層の強度向上の観点から、好ましくは１質量部〜１０質量部添加することができる。
なお、硬化剤は、必要に応じて、他の層の形成時に、他の層の膜強度を形成させる目的で、他の相の形成用組成物に含有させることができる。

［工程（Ｂ）］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、組成物調製工程の後に、非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を付与して磁性層形成用組成物層を形成する工程（工程（Ｂ））を含むことが好ましい。
本工程（Ｂ）は、例えば、走行下にある非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を所定の膜厚となる量で塗布することにより行うことができる。磁性層の好ましい膜厚は、「磁性層」の項に記載した通りである。

磁性層形成用組成物を支持体の面上に塗布する塗布方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等の公知の方法を利用できる。塗布方法については、例えば（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。

［工程（Ｃ）］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、組成物層形成工程の後に、形成された磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程（工程（Ｃ））を含むことが好ましい。

形成された磁性層形成用組成物層は、支持体が磁気テープ等のフィルム上である場合、磁性層形成用組成物に含まれる強磁性粉末に対し、コバルト磁石又はソレノイドなどを用いて磁場配向処理することができる。支持体がハードディスク用の支持体である場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加することなどによる、公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。また、異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向することもできる。
磁場配向処理は、形成された磁性層形成用組成物層が乾燥する前に行うことが好ましい。

磁場配向処理は、磁場強度０．１Ｔ〜１．０Ｔの磁場を、形成した磁性層形成用組成物層の面に対し垂直方向に印加する垂直配向処理によって行うことができる。

［工程（Ｄ）］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、磁場配向処理を行なう工程（Ｃ）の後に、磁場配向処理された磁性層形成用組成物層を乾燥して磁性層を形成する工程（工程（Ｄ））を含むことが好ましい。

磁性層形成用組成物層の乾燥においては、乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することにより、磁性層形成用組成物層の乾燥を制御することができる。例えば、塗布速度は２０ｍ／分〜１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。また、磁場を印加する前に、組成物を適度に予備乾燥することができる。

［カレンダ処理工程］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、工程（Ａ）、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）及び工程（Ｄ）を経て、支持体上に磁性層を形成した後、磁性層を有する非磁性支持体をカレンダ処理する工程を実施することが好ましい。

磁性層を有する非磁性支持体は、巻き取りロールでいったん巻き取られた後、巻き取りロールから巻き出されて、カレンダ処理に供することができる。カレンダ処理によって、表面平滑性がより向上し、かつ、乾燥時の溶媒の除去によって生じた空孔が消滅し、磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性のより高い磁気記録媒体を得ることができる。カレンダ処理は、磁性層の表面の平滑性に応じて、カレンダ処理条件を変化させながら行うことが好ましい。

カレンダ処理には、例えばスーパーカレンダロールなどを利用することができる。
カレンダロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用することができる。また金属ロールで処理することもできる。

カレンダ処理条件としては、カレンダロールの温度を、例えば６０℃〜１２０℃の範囲、好ましくは８０℃〜１００℃の範囲とすることができ、圧力は、例えば１００ｋｇ／ｃｍ〜５００ｋｇ／ｃｍ（９８ｋＮ／ｍ〜４９０ｋＮ／ｍ）の範囲、好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍ（１９６〜４４１ｋＮ／ｍ）の範囲とすることができる。

［非磁性層及びバックコート層等の任意の層を形成する工程］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、必要に応じて、非磁性層及びバックコート層等の任意の層を形成する工程を含むことができる。
非磁性層及びバックコート層は、それぞれの層を形成するための組成物を調製した後、磁性層の形成における工程（Ｂ）、工程（Ｃ）、及工程（Ｄ）と同様の工程を行なって形成することができる。
なお、「非磁性層」及び「バックコート層」の項に記載した如く、非磁性層は、支持体と磁性層との間に設けることができ、バックコート層は、支持体の磁性層を有する側とは反対側の面に設けることができる。

非磁性層の形成用組成物、及びバックコート層の形成用組成物は、「非磁性層」及び「バックコート層」の項に記載した成分及び含有量で調製することができる。

以下、実施例をもとに本開示の磁性粉、その製造方法、及び磁気記録媒体についてさらに詳細に説明するが、本開示は以下の具体例の記載に制限されず、本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変形が可能である。
なお、特に断らないかぎり、実施例における「％」及び「部」は質量基準である。

〔実施例１〕
（特定金属粉の作製）
純水９０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．３ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物１．３ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物１９０ｍｇ、硫酸チタン（ＩＶ）１５０ｍｇを溶解させた溶液を、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、２５℃の条件下で、２５質量％のアンモニア水溶液４．０ｇを添加し、２５℃の温度条件下で、２時間撹拌した。撹拌した液に純水９００ｇを加え、７０℃に昇温した後、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）１７ｍＬを滴下し、７０℃の温度を維持したまま２４時間撹拌した。得られた反応溶液を８０℃の乾燥機内に一晩静置し、析出した固体を純水で洗浄し、再度乾燥させて、特定金属粉の前駆体を得た。

得られた特定金属粉の前駆体を、炉内に装填し、大気雰囲気下、１０６０℃で４時間の熱処理を施した。熱処理した特定金属粉の前駆体を、４モル／Ｌの水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液中に投入し、液温を７０℃に維持して２４時間撹拌することにより、熱処理した特定金属粉の前駆体からケイ素酸化物を除去した。
その後、遠心分離処理により、ケイ素酸化物を除去した特定金属粉の前駆体を採集し、純水で洗浄を行って、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３相の単相である酸化鉄ナノ磁性粒子（特定金属粉）を得た。
得られた特定金属粉の組成をＩＣＰ−ＯＥＳ（高周波誘導結合プラズマ発光分光分析）により確認したところ、ε−Ｇａ_０．２４Ｃｏ_０．０５Ｔｉ_０．０５Ｆｅ_１．６６Ｏ_３であった。また、粉末ＸＲＤ（Ｘ線回折）パターンのピークの確認により、磁性粉は、α−Ｆｅ_２Ｏ_３及びγ−Ｆｅ_２Ｏ_３から選ばれる少なくとも１種の酸化鉄系化合物を含まないε−Ｆｅ_２Ｏ_３単相の磁性粉であることが確認された。
後述する方法で算出した平均粒径は、１６．７ｎｍであり、粒子形状は、球状であった。
ＩＣＰ−ＯＥＳ測定装置は、島津製作所(株）製、ＩＣＰＳ−８１００を使用した。
測定は、以下の方法で行なった。
試料粉末１２ｍｇ及び４ｍｏｌ／Ｌ塩酸１０ｍＬを入れた容器（ビーカー）を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持し、溶解液を得た。
得られた溶解液に純水３０ｍＬを加えた後、０．１μｍのメンブレンフィルタを用いてろ過した。
得られたろ液を、上記のＩＣＰ−ＯＥＳ測定装置で分析することで、それぞれの金属原子の含有率を求めた。

粉末ＸＲＤ（Ｘ線回折）装置は、ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社製、Ｘ’ｐｅｒｔ Ｐｒｏを使用し、以下の測定条件にて測定を行なった。
Ｘ線源：Ｃｕ Ｋα線（波長１．５４Å（０．１５４ｎｍ））、（出力：４０ｍＡ、４５ｋＶ）
スキャンした範囲：２０°＜２θ＜７０°
スキャン間隔：０．０５°
スキャンスピード：０．７５°／ｍｉｎ

（表面処理層の形成）
特定金属粉１ｇに純水１０ｇ及びエタノール９０ｇを加えて分散した。続いて塩酸によって分散液のｐＨを３．５に調整した。
その後、分散液を３０℃に保ち、シランカップリング剤であるオクタデシルトリメトキシシラン１０ｍｇを加えて、３０分間撹拌し、遠心分離処理により採集した粉末を、純水及びエタノールで洗浄を行って、特定金属粉の表面の少なくとも１部にシラン化合物を含む表面処理層が形成された、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３を含む実施例１の磁性粉を得た。

（金属粉、磁性粉の平均粒径の算出）
特定金属粉などの粉末を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：日立製作所（株）、透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型）を用いて撮影倍率８００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になる条件で印画紙にプリントして粉末を構成する粒子の写真を得た。
得られた粒子の写真から一次粒子を選び、デジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定した。ここで、一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。粒子サイズの測定は、各粒子の輪郭をデジタイザーでトレースし、トレースした領域と同じ面積の円の直径（円面積相径）を算出することで求めた。画像解析ソフトとしてカールツァイス製、画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行った。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行った。
こうして得られた５００個の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとした。既述の如く、平均粒径は、１６．７ｎｍであった。

（表面処理層におけるシラン化合物、及びＣ／Ｆｅ含有比の確認）
特定金属粉等の金属粉における表面処理層の確認は、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）を用いて行なった。
（株）島津製作所、Ｘ線光電子分光分析（ＡＸＩＳ−ＵＬＴＲＡ：商品名）を用い、励起Ｘ線源には単色化Ａｌ−Ｋα線を用いた。得られたスペクトルより、金属粉の表面におけるＳｉの存在を確認した。
また、シラン化合物に含まれるＣ由来のピーク面積と、金属粉におけるＦｅ由来のピーク面積から、Ｃ／Ｆｅ比（原子数比）を算出した。

〔実施例２〜実施例１１〕
実施例１の磁性粉の作製において、表面処理に用いたシラン化合物の種類と量を下記表１に記載の如く変えた以外は、実施例１と同様にして磁性粉を作製した。

〔磁気記録媒体の作製〕
（磁性液の処方）
ε-Ｆｅ_２Ｏ_３粉末（既述の磁性粉） １００．０部
オレイン酸 ２．０部
塩化ビニル共重合体（日本ゼオン（株）、ＭＲ−１０４）（表１に記載の量）
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 （表１に記載の量）
（重量平均分子量７００００、ＳＯ３Ｎａ基：０．０７ｍｅｑ／ｇ）
アミン系ポリマー （表１に記載の量）
（ビックケミー社製ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２）
メチルエチルケトン（溶剤） １５０．０部
シクロヘキサノン １５０．０部

（研磨剤液の処方）
α−アルミナ ６．０部
（ＢＥＴ比表面積１９ｍ^２／ｇ、モース硬度９）
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 ０．６部
（重量平均分子量７００００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．１ｍｅｑ／ｇ）
２，３−ジヒドロキシナフタレン ０．６部
シクロヘキサノン ２３．０部

（非磁性フィラー液の処方）
コロイダルシリカ ２．０部
（平均粒子サイズ１２０ｎｍ）
メチルエチルケトン ８．０部

（潤滑剤及び硬化剤液の処方）
ステアリン酸 ３．０部
ステアリン酸アミド ０．３部
ステアリン酸ブチル ６．０部
メチルエチルケトン １１０．０部
シクロヘキサノン １１０．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート（登録商標）Ｌ）
３．０部

（１．磁性層形成用組成物の調製）
磁性層形成用組成物を、以下の方法によって調製した。
上記磁性液の処方に記載の各種成分を、バッチ式縦型サンドミルにより、ビーズ径０．５ｍｍφのジルコニアビーズ（第一の分散ビーズ、密度６．０ｇ／ｃｍ^３）を使用して２４時間分散し（第一の段階）、その後、０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いて濾過することにより分散液Ａを調製した。ジルコニアビーズは、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３を含む磁性粉に対して、質量基準で１０倍量用いた。

その後、得られた分散液Ａを、バッチ式縦型サンドミルによりビーズ径５００ｎｍφのダイヤモンドビーズ（第二の分散ビーズ、密度３．５ｇ／ｃｍ^３）を使用して１時間分散し（第二の段階）、遠心分離機を用いてダイヤモンドビーズを分離した分散液（分散液Ｂ）を調製して磁性液とした。

研磨剤液は、上記の研磨剤液の処方に記載の各種成分を混合して、ビーズ径０．３ｍｍφのジルコニアビーズを加え、横型ビーズミル分散機に入れ、ビーズ体積／（研磨剤液の体積＋ビーズ体積）が８０％になるように調整し、１２０分間ビーズミル分散処理を行い、処理後の液を取り出し、フロー式の超音波分散濾過装置を用いて、超音波分散濾過処理を施した。こうして研磨剤液を調製した。

調製した磁性液及び研磨剤液、ならびに上記の非磁性フィラー液ならびに潤滑剤及び硬化剤液をディゾルバー撹拌機に導入し、周速１０ｍ／秒で３０分間撹拌した後、フロー式超音波分散機により流量７．５ｋｇ／分で３パス処理し、孔径１μｍのフィルタで濾過して磁性層形成用組成物を調製した。

（非磁性層形成用組成物の処方）
非磁性無機粉末 α−酸化鉄 １００．０部
（平均粒子サイズ１０ｎｍ、ＢＥＴ比表面積７５ｍ^２／ｇ）
カーボンブラック ２５．０部
（平均粒子サイズ２０ｎｍ）
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 １８．０部
（重量平均分子量７００００、ＳＯ_３Ｎａ基含有量０．２ｍｅｑ／ｇ）
ステアリン酸 １．０部
シクロヘキサノン ３００．０部
メチルエチルケトン ３００．０部

（２．非磁性層形成用組成物の調製）
上記の非磁性層形成用組成物の処方に記載の各成分を、バッチ式縦型サンドミルによりビーズ径０．１ｍｍφのジルコニアビーズを使用して２４時間分散し、その後、０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いて濾過することにより、非磁性層形成用組成物を調製した。

（バックコート層形成用組成物の処方）
非磁性無機粉末 α−酸化鉄 ８０．０部
（平均粒子サイズ０．１５μｍ、ＢＥＴ比表面積５２ｍ^２／ｇ）
カーボンブラック ２０．０部
（平均粒子サイズ２０ｎｍ）
塩化ビニル共重合体 １３．０部
スルホン酸塩基含有ポリウレタン樹脂 ６．０部
フェニルホスホン酸 ３．０部
シクロヘキサノン １５５．０部
メチルエチルケトン １５５．０部
ステアリン酸 ３．０部
ステアリン酸ブチル ３．０部
ポリイソシアネート ５．０部
シクロヘキサノン ２００．０部

（３．バックコート層形成用組成物の調製）
上記のバックコート層形成用組成物の処方に記載の各成分のうち潤滑剤（ステアリン酸及びステアリン酸ブチル）、ポリイソシアネートならびにシクロヘキサノン２００．０部を除いた成分をオープンニーダにより混練及び希釈した後、横型ビーズミル分散機によりビーズ径１ｍｍφのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で１パス滞留時間を２分間とし、１２パスの分散処理に供した。
その後、上記の残りの成分を添加してディゾルバーで撹拌し、得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルタを用いて濾過することにより、バックコート層形成用組成物を調製した。

（４．磁気テープの作製）
厚み５．０μｍのポリエチレンナフタレート製支持体（非磁性支持体）の表面上に、上記で調製した非磁性層形成用組成物を、乾燥後の厚みが１００ｎｍになる量で塗布し乾燥させて非磁性層を形成した。
形成した非磁性層の表面上に、上記で調製した磁性層形成用組成物を、乾燥後の厚みが７０ｎｍになる量で塗布して塗布層を形成した。
形成された磁性層形成用組成物の塗布層が湿潤（未乾燥）状態にあるうちに、磁場強度０．１５Ｔの磁場を上記磁性層形成用組成物の塗布層の表面に対し垂直方向に印加する垂直配向処理を施した。
その後、垂直配向処理を施した磁性層形成用組成物の塗布層を乾燥させ、磁性層を形成した。
上記非磁性支持体の、非磁性層及び磁性層を形成した表面とは反対の表面上に、乾燥後の厚みが０．４μｍになる条件で、上記で調製したバックコート層形成用組成物を塗布し、乾燥させた。
磁性層、非磁性層、バックコート層を形成したテープを、金属ロールのみから構成される一対のカレンダロールにより、速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、カレンダロールの表面温度１００℃でカレンダ処理（表面平滑化処理）し、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間熱処理を施した。
熱処理後、１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、磁気記録媒体としての磁気テープを得た。

＜磁気記録媒体の評価＞
得られた磁気記録媒体としての磁気テープについて以下の評価を行ない、結果を下記表１に記載した。

（１．信号−ノイズ比：ＳＮＲの評価）
実施例及び比較例の各磁気テープの電磁変換特性を、ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）リールテスターを用いて以下の方法により測定した。
ヘッド／テープ相対速度は６ｍ／ｓとした。記録はＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎ−Ｇａｐ）ヘッド（ギャップ長０．１５μｍ、トラック幅１．０μｍ）を使い、記録電流は各磁気テープの最適記録電流に設定した。
再生ヘッドには素子厚み１５ｎｍ、シールド間隔０．１μｍ及びリード幅０．５μｍのＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ−Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドを用いた。
線記録密度２７０ＫＦＣＩで信号の記録を行い、再生信号をシバソク社製のスペクトラムアナライザーで測定した。
キャリア信号の出力値（Ｓ）と、スペクトル全帯域の積分ノイズ（Ｎ）との比をＳＮＲとした。ＳＮＲ測定のためには、各磁気テープの走行後に信号が十分に安定した部分の信号を使用した。

（２．磁気特性（配向σｒ）の評価）
得られた媒体の磁気特性を、振動試料型磁束計（玉川製作所製）を用いて、最大印加磁界４．５ｋＯｅ、温度２９６Ｋ、磁界掃引速度２５Ｏｅ／ｓで測定した。
σｒは、印加磁場０Ｔにおける磁化の値である。単位は、磁気テープの単位面積あたりの磁化量ｅｍｕ／ｃｍ^２とした。

〔比較例１、比較例２〕
実施例１の磁性層形成用組成物の調製において、特定金属粉にシランカップリング剤による表面処理を行なわない金属粉を用い、結合剤の含有量を、下記表１に記載した量として磁性層形成用組成物を調製した。得られた比較磁性層形成用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製し、実施例１と同様に評価した。
結果を下記表１に記載した。

〔比較例３〕
実施例８の磁性層形成用組成物の調製において、特定金属粉の表面処理に用いたシランカップリング剤の量を表１に記載の如く変更し、撹拌時間を１５分間に変えた以外は、実施例８と同様にして磁気テープを作製し、実施例１と同様に評価した。
結果を下記表１に記載した。

〔比較例４〕
実施例８の磁性層形成用組成物の調製において、特定金属粉の表面処理に用いたシランカップリング剤の量を表１に記載の如く変更し、撹拌時間を６０分間に変えた以外は、実施例８と同様にして磁気テープを作製し、実施例１と同様に評価した。
結果を下記表１に記載した。

〔比較例５〕
実施例１の磁性粉の調製において、特定金属粉の表面処理に用いたシランカップリング剤に代えて、ポリビニルピロリドン （粘性特性値：Ｋ３０、和光純薬工業（株））を用いた。特定金属粉１ｇに純水１００ｇを加えた混合物に、１％のポリビニルピロリドン溶液１ｇを加えた。得られた混合物に、径１００μｍのＺｒビーズを加え、振盪器によって室温で１０分間振盪した。処理後の粉を遠心分離により採集し、純水で数度洗浄したのち乾燥させ、回収した。得られた比較磁性粉を、実施例１で得た磁性粉に換えた以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作製し、実施例１と同様に評価した。
結果を下記表１に記載した。

〔比較例６〕
比較例５の磁性粉の調製において、特定金属粉の表面処理に用いたポリビニルピロリドンに代えて、ポリビニルアルコール（和光純薬工業（株）、平均重合度５００、完全けん化型）を用いた以外は、比較例５と同様にして磁気テープを作製し、実施例１と同様に評価した。

〔比較例７〕
比較例５の磁性粉の調製において、特定金属粉の表面処理に用いたポリビニルピロリドンに代えて、臭化セチルトリメチルアンモニウムを用いた以外は、比較例５と同様にして磁気テープを作製し、実施例１と同様に評価した。
結果を下記表１に記載した。

なお、表１において、１^＊の符号は、比較表面処理剤の含有量ではなく、各表面処理層を有する比較例５〜比較例７に記載の磁性粉の製造方法が、それぞれの比較例において記載された製造方法により得られたことを示す符号である。
表１に記載の評価結果より、実施例１〜実施例１１の磁性粉は、分散性が良好であり、その結果、磁気テープにおける磁性層を形成した場合の充填率が向上し、いずれもＳＮＲが、基準となる比較例１よりも良好であり、媒体化後の配向も、より高いことがわかる。
他方、表面処理層にシラン化合物を含まない比較例の磁性粉を用いた場合には、一般の分散剤を用いた場合でも、磁性粒子の充填率の向上に起因する良好なＳＮＲは達成できず、磁気記録媒体とした場合の配向も実施例に対して劣ることがわかる。

Claims (9)

1. ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物を含み、表面の少なくとも一部に、シラン化合物を含む表面処理層を有する磁性粉であり、
   平均粒子径が８ｎｍ〜２０ｎｍであり、
   ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物に由来する鉄原子に対する、表面処理層に含まれるシラン化合物に由来する炭素原子の含有比率が０．０５％〜０．５％である磁性粉。
   
   
   式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。
2. 前記式（１）で表される化合物は、下記式（１−２）で表される化合物である請求項１に記載の磁性粉。
   
   
   式（１−２）中、Ａ^１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表し、Ａ^２は、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ａ^３は、Ｔｉ及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｙは、０＜ｙ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たし、ｘ＋ｙ＋ｚ＜２である。
3. 前記シラン化合物は、下記式（Ｉ）で表される部分構造を含むシラン化合物である請求項１又は請求項２に記載の磁性粉。
   
   
   式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数３以上２０以下の炭化水素基を表す。
4. 前記シラン化合物は、分子内に芳香環を有するシラン化合物である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の磁性粉。
5. α−Ｆｅ_２Ｏ_３及びγ−Ｆｅ_２Ｏ_３から選ばれる少なくとも１種の酸化鉄系化合物の含有量が、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び前記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物の含有量１００質量部に対し、２０質量部以下である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の磁性粉。
6. 前記ε−Ｆｅ _２ Ｏ _３ 及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物に由来する鉄原子に対する、表面処理層に含まれるシラン化合物に由来する炭素原子の含有比率が０．１％〜０．４％である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁性粉。
7. 前記ε−Ｆｅ _２ Ｏ _３ 及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物に由来する鉄原子に対する、表面処理層に含まれるシラン化合物に由来する炭素原子の含有比率が０．１５％〜０．３％である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の磁性粉。
8. ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物粒子の表面を、分子内に加水分解性の有機基を有するシラン化合物により表面処理して、表面の少なくとも一部にシラン化合物を含む表面処理層を形成する工程を含む、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の磁性粉の製造方法。
   
   
   式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。
9. 非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の磁性粉を含む磁性層と、を有する磁気記録媒体。