JP6941733B2 - ペリクル用支持枠、ペリクル及びペリクル用支持枠の製造方法、並びにペリクルを用いた露光原版及び露光装置 - Google Patents

Description

本発明は、半導体デバイス等をリソグラフィ技術により製造する際に使用するフォトマスクまたはレチクル（以下、これらを総称して「フォトマスク」ともいう）及び、塵埃が付着することを防ぐフォトマスク用防塵カバーであるペリクル等に関する。特に、本発明は、極端紫外光（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ：ＥＵＶ）リソグラフィ用のペリクル用支持枠、ペリクル及びペリクル用支持枠の製造方法、並びにペリクルを用いた露光原版及び露光装置に関する。

半導体素子は、リソグラフィと称される工程を経て製造される。リソグラフィでは、スキャナやステッパと呼ばれる露光装置を用いて、回路パターンが描画されたマスクに露光光を照射して、フォトレジストが塗布された半導体ウェハに回路パターンを転写する。現在までに、リソグラフィの波長は短波長化が進み、次世代のリソグラフィ技術として、ＥＵＶリソグラフィの開発が進められている。ＥＵＶ光は、軟Ｘ線領域又は真空紫外線領域の波長の光を指し、１３．５ｎｍ±０．３ｎｍ程度の光線を指す。ＥＵＶ光は、あらゆる物質に対して吸収されやすく、したがって、ＥＵＶリソグラフィでは、露光装置内を真空にして露光する必要がある。ＥＵＶ光は、あらゆる物質に対して吸収されやすいため、ペリクルに配置するペリクル膜も従来にないナノメートルオーダーの膜である必要がある。

露光装置内を真空にして行うＥＵＶリソグラフィにおいては、当初、フォトマスクへのペリクルの装着は必須ではないと考えられていたため、現在開発されているＥＵＶ露光装置には、フォトマスクへペリクルを装着するための空間が３．０ｍｍ程度しか存在していない。しかし、５ｍｍ以上の高さを有する従来のペリクルを装着するための空間を露光装置内に確保するには、光学系の設計変更が必要となり、ＥＵＶリソグラフィの開発に遅延をきたすこととなる。したがって、従来のペリクルの半分以下程度の高さとするペリクルを新たに設計する必要がある。

露光装置内を真空にすると、フォトマスクとペリクルによって形成される閉空間（ペリクルの内側）と、その外側との圧力差が生じ、ペリクル膜がたるんだり、或いは膨らんだりしうる。この解決手段として、通気孔を設けることが考えられる。しかし、ペリクルの設置空間が大幅に制限されるため、ナノメートルオーダーのペリクル膜の損傷を防ぐには、ペリクルの枠体に配置した通気孔を介した十分な通気を確保する必要がある。通気孔にはペリクルの内側への異物混入を防ぐためその途中にフィルタを配置する必要があるが、ペリクルの設置空間が大幅に制限され、しかも枠体に許容される高さも大幅に制限されるため、枠体へのフィルタの配置も従来にない設計が要求される。

例えば、特許文献１には、耐熱性や通気スピード（減圧時間）、異物捕集効率の観点から、金属製又はセラミックス製であるとともに、ペリクルフレームと溶接によって連続的に一体化されたフィルタで通気孔を覆ったＥＵＶ露光用ペリクルが記載されている。

特開２０１７−１１６６９７号公報

通気孔を覆うフィルタは、ＥＵＶ光の露光により劣化するため、交換する必要がある。ペリクルフレームと一体化されたフィルタを交換するのは容易ではなく、簡便にフィルタを交換可能なペリクルが望まれる。

本発明は、上述の問題を解決するもので、通気孔に容易に着脱可能なフィルタが設けられ、極端紫外光リソグラフィ用のペリクル膜を設けることができる支持枠、当該支持枠に極端紫外光リソグラフィ用のペリクル膜を設けたペリクル、及び支持枠の製造方法、並びにこれらの支持枠を用いた露光原版及び露光装置を提供することを目的とする。

本発明の一実施形態に係るペリクル用支持枠は、第１の支持枠部と、第２の支持枠部と、フィルタと、を有するペリクル用支持枠であって、前記フィルタは平板状の枠形状を有し、前記第１の支持枠部と前記第２の支持枠部とに挟持され、前記第１の支持枠部は、平板状の枠形状を有する第１の本体部と、前記第１の本体部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向に突出した第１の係合部と、を有し、前記第２の支持枠部は、平板状の枠形状を有する第２の本体部と、前記第２の本体部の前記ペリクル用支持枠の厚み方向に設けられた凹部に配置され、前記第１の係合部と係合する第２の係合部と、を有する。

本発明の一実施形態において、前記第１の係合部は、前記第１の本体部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向に延在する第１の延在部と、前記第１の延在部の前記第１の本体部とは反対側の端部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向と交差する方向に延在する第２の延在部と、を有し、前記第２の係合部は、前記第１の支持枠部側に位置する前記第２の支持枠部の第１の面から前記ペリクル用支持枠の厚み方向に延在する第１の溝部と、前記第１の溝部の底部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向と交差する方向に延在する第２の溝部とを有し、前記第２の延在部の少なくとも一部は、前記第２の溝部に収容されてもよい。

本発明の一実施形態において、前記フィルタは、前記第１の係合部及び前記第２の係合部に対応する位置に開口を有し、前記第１の係合部は、前記開口を貫通して、前記第２の係合部と係合してもよい。

本発明の一実施形態において、前記第２の係合部は、前記第２の溝部の底部から前記第１の面の方向に離間して配置される固定具を有し、前記第２の溝部は、前記第１の溝部の底部と前記固定具とにより構成されてもよい。

本発明の一実施形態において、前記固定具は、治具と係合可能な第３の係合部を有していてもよい。

本発明の一実施形態において、前記ペリクル用支持枠の内縁部と外縁部とを接続し、前記フィルタが配置された通気孔をさらに有してもよい。

本発明の一実施形態において、前記通気孔は、前記フィルタが配置され、前記ペリクル用支持枠の厚み方向と略平行な第１の方向に延びる第１の孔と、前記第１の孔の第１の端部に接続し、前記第１の方向と交差する第２の方向に延伸し、前記内縁部又は前記外縁部に開口を有する第２の孔と、を有してもよい。

本発明の一実施形態において、前記通気孔は、前記第１の孔の第２の端部に接続し、前記ペリクル用支持枠の厚み方向と交差する方向に設けられた第３の孔をさらに有してもよい。

本発明の一実施形態において、複数の前記第１の係合部と、複数の前記第２の係合部と、複数の前記通気孔と、を備えてもよい。

本発明の一実施形態において、前記第１の支持枠部は、前記第１の本体部を構成する枠形状を有する薄板と、前記第１の延在部を構成する薄板と、前記第２の延在部を構成する薄板と、を含む積層体であってもよい。

本発明の一実施形態において、前記第２の支持枠部は、前記第１の溝部を構成する薄板と、前記第２の溝部を構成する薄板と、を含む積層体であってもよい。

本発明の一実施形態において、前記フィルタの前記枠形状の内側に配置された壁をさらに有してもよい。

本発明の一実施形態において、前記いずれかに記載のペリクル用支持枠と、ペリクル膜とを有するペリクルが提供される。

本発明の一実施形態において、前記ペリクルと、原版と、を有する露光原版が提供される。

本発明の一実施形態において、前記露光原版と、光学系とを有する露光装置が提供される。

本発明の一実施形態において、平板状の枠形状を有する第１の本体部と、前記第１の本体部からペリクル用支持枠の厚み方向に突出した第１の係合部と、を有する第１の支持枠部を準備し、平板状の枠形状を有する第２の本体部と、前記第２の本体部の前記ペリクル用支持枠の厚み方向に設けられた凹部に配置され、前記第１の係合部と係合する第２の係合部と、を有する第２の支持枠部を準備し、平板状の枠形状を有するフィルタを準備し、前記フィルタを前記第１の支持枠部と前記第２の支持枠部とを挟持し、前記第１の係合部と前記第２の係合部とを係合するペリクル用支持枠の製造方法が提供される。

本発明の一実施形態において、前記第１の本体部を構成する薄板と、第１の延在部を構成する薄板と、第２の延在部を構成する薄板とを接続して、前記第１の本体部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向に突出した第１の係合部を有する前記第１の支持枠部を準備し、第１の溝部を構成する薄板と、第２の溝部を構成する薄板と、前記第２の本体部を構成する薄板とを接続して、前記第２の係合部を有する前記第２の支持枠部を準備し、前記第２の延在部の少なくとも一部を前記第２の溝部に収容して、前記第１の係合部と前記第２の係合部とを係合してもよい。

本発明によると、容易に着脱可能なフィルタが通気孔に設けられ、極端紫外光リソグラフィ用のペリクル膜を設けることができる支持枠、当該支持枠に極端紫外光リソグラフィ用のペリクル膜を設けたペリクル、及び支持枠の製造方法、並びにこれらを用いた露光原版及び露光装置が提供される。

また、一実施形態において、フィルタの固定に接着剤が不要であるため、接着剤からのアウトガスの発生が低減され、原版とペリクルとによって形成される空間内のＥＵＶ光が照射される領域におけるコンタミネーションが抑制される。また、接着剤からのアウトガスによる露光装置の光学系のレンズに曇りを生じさせたり、露光不良や光量不足が生じたりすることを抑制することができる。

一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１の模式図であり、（ａ）はペリクル用支持枠１１１をペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１が配置される原版の面方向に見た模式図であり、（ｂ）は（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１の断面図であり、（ｃ）は（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１の断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１を構成する第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６の詳細を説明する模式図であり、（ａ）は第１の支持枠部１１の詳細を説明する模式図であり、（ｂ）は第２の支持枠部１６の詳細を説明する模式図であり、（ｃ）及び（ｄ）は、第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６とにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。 （ａ）〜（ｃ）は、第１の係合部１１ｂを第２の係合部１６ｂと係合させる方法を、ペリクル用支持枠１１１をペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１が配置される原版の面方向に、第１の支持枠部１１側に位置する第２の支持枠部１６の第１の面ａで見た模式図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ａの模式図であり、（ａ）はペリクル用支持枠１１１Ａをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ａが配置される原版の面方向に見た模式図であり、（ｂ）は（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ａの断面図であり、（ｃ）は（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ａの断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ａを構成する第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａの詳細を説明する模式図であり、（ａ）は第１の支持枠部１１Ａの詳細を説明する模式図であり、（ｂ）は第２の支持枠部１６Ａの詳細を説明する模式図であり、（ｃ）及び（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａとにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。 一実施形態に係る薄板１２Ａの模式図であり、（ａ）は薄板１２Ａの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１２Ａの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１２Ａの断面図である。 一実施形態に係る薄板１３Ａの模式図であり、（ａ）は薄板１３Ａの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１３Ａの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１３Ａの断面図である。 一実施形態に係る薄板１４Ａの模式図であり、（ａ）は、薄板１４Ａの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１４Ａの断面図である。 一実施形態に係る薄板１５Ａの模式図である。（ａ）は薄板１５Ａの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１５Ａの断面図である。 一実施形態に係るフィルタ３０の模式図であり、（ａ）はフィルタ３０の上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでのフィルタ３０の断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでのフィルタ３０の断面図である。 一実施形態に係る薄板１７Ａの模式図であり、（ａ）は薄板１７Ａの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１７Ａの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１７Ａの断面図である。 一実施形態に係る薄板１８Ａの模式図であり、（ａ）は薄板１８Ａの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１８Ａの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１８Ａの断面図である。 一実施形態に係る薄板１９Ａの模式図であり、（ａ）は薄板１９Ａの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１９Ａの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１９Ａの断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｂの模式図であり、（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｂをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｂが配置される原版の面方向に見た模式図であり、（ｂ）は（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｂの断面図であり、（ｃ）は（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｂの断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｂを構成する第１の支持枠部１１Ｂと第２の支持枠部１６Ｂの詳細を説明する模式図であり、（ａ）は第１の支持枠部１１Ｂの詳細を説明する模式図であり、（ｂ）は第２の支持枠部１６Ｂの詳細を説明する模式図であり、（ｃ）及び（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ｂと第２の支持枠部１６Ｂとにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。 （ａ）〜（ｄ）は、第１の係合部１１ｂを第２の係合部１６ｂと係合させる方法を、ペリクル用支持枠１１１Ｂをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｂが配置される原版の面方向に、第１の支持枠部１１Ｂ側に位置する第２の支持枠部１６Ｂの第１の面ａで見た模式図である。 変形例に係るペリクル用支持枠１１１Ｃの模式図であり、（ａ）はペリクル用支持枠１１１Ｃをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｃが配置される原版の面方向に見た模式図であり、（ｂ）は（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｃの断面図であり、（ｃ）は（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｃの断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｃを構成する第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｃの詳細を説明する模式図であり、（ａ）は第１の支持枠部１１Ｃの詳細を説明する模式図であり、（ｂ）は第２の支持枠部１６Ｃの詳細を説明する模式図であり、（ｃ）及び（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｃとにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｄの模式図であり、（ａ）はペリクル用支持枠１１１Ｄをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｄが配置される原版の面方向に見た模式図であり、（ｂ）は（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｄの断面図であり、（ｃ）は（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｄの断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｄを構成する第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｄの詳細を説明する模式図であり、（ａ）は第１の支持枠部１１Ｃの詳細を説明する模式図であり、（ｂ）は第２の支持枠部１６Ｄの詳細を説明する模式図であり、（ｃ）及び（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｄとにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。 一実施形態に係る固定具２３Ｄを配置した薄板２１Ｄの模式図であり、（ａ）は固定具２３Ｄを配置した薄板２１Ｄの上面図であり、（ｂ）は固定具２３Ｄの上面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板２１Ｄの断面図であり、（ｄ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの固定具２３Ｄを配置した薄板２１Ｄの断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｅを示す模式図であり、（ａ）はペリクル用支持枠１１１Ｅをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｅが配置される原版の面方向に見た模式図であり、（ｂ）は（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｅの断面図であり、（ｃ）は（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｅの断面図である。 一実施形態に係る天板２５Ｅの模式図であり、（ａ）は天板２５Ｅの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの天板２５Ｅの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの天板２５Ｅの断面図である。 一実施形態に係るペリクル１００を示す模式図であり、（ａ）はペリクル１００の上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでのペリクル１００の断面図であり、（ｃ）は（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル１００の断面図である。 一実施形態に係る露光原版１８１の断面の構成を示す模式図である。 一実施形態に係る露光装置１８０を示す模式図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｆを示す模式図であり、（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｆをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｆが配置される原版の面方向に見た模式図であり、（ｂ）は、（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｆの断面図であり、（ｃ）は、（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｆの断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｆの壁１７Ｆの模式図であり、（ａ）は、壁１７Ｆの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの壁１７Ｆの断面図である。 一実施形態に係る薄板１３Ｆの模式図であり（ａ）は、薄板１３Ｆの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１３Ｆの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１３Ｆの断面図である。 一実施形態に係るフィルタ３０Ｆの模式図であり、（ａ）は、フィルタ３０Ｆの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでのフィルタ３０Ｆの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでのフィルタ３０Ｆの断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｇを示す模式図であり、（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｇをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｇが配置される原版の面方向に見た模式図であり、（ｂ）は、（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｇの断面図であり、（ｃ）は、（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｇの断面図である。 一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｇを構成する第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇの詳細を説明する模式図であり、（ａ）は第１の支持枠部１１Ｇの詳細を説明する模式図であり、（ｂ）は第２の支持枠部１６Ｇの詳細を説明する模式図であり、（ｃ）は、第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇとにより、フィルタ３０Ｇを挟持して固定する方法を説明する模式図であり、（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇとを分離する方法を説明する模式図である。 一実施形態に係る薄板１２Ｇの模式図であり、（ａ）は、薄板１２Ｇの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１２Ｇの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１２Ｇの断面図である。 一実施形態に係る薄板１３Ｇの模式図であり、（ａ）は、薄板１３Ｇの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１３Ｇの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１３Ｇの断面図である。 一実施形態に係るフィルタ３０Ｇの模式図であり、（ａ）は、フィルタ３０Ｇの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでのフィルタ３０Ｇの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでのフィルタ３０Ｇの断面図である。 一実施形態に係る薄板１７Ｇの模式図であり、（ａ）は、薄板１７Ｇの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１７Ｇの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１７Ｇの断面図である。 一実施形態に係る薄板１８Ｇの模式図であり、（ａ）は、薄板１８Ｇの上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１８Ｇの断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１８Ｇの断面図である。 一実施形態に係る平板状の部材１９Ｇ−１の模式図であり、（ａ）は、平板状の部材１９Ｇ−１の上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの平板状の部材１９Ｇ−１の断面図である。 一実施形態に係る壁状の部材１９Ｇ−２の模式図であり、（ａ）は、壁状の部材１９Ｇ−２の上面図であり、（ｂ）は（ａ）に示した線分ＣＤでの壁状の部材１９Ｇ−２の断面図である。

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

［定義］
本明細書において、ある部材又は領域が、他の部材又は領域の「上に（又は下に）」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の部材又は領域の直上（又は直下）にある場合のみでなく、他の部材又は領域の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の部材又は領域の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。

本明細書において、極端紫外光（ＥＵＶ光）とは、波長５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の光を指す。ＥＵＶ光の波長は、５ｎｍ以上１４ｎｍ以下が好ましい。

本明細書において、ペリクルとは、ペリクル膜と、ペリクル膜の一方の面に設けられたペリクル膜を支持すると共に原版に接続される支持部と、を有するものを意味する。ペリクル膜とはペリクルに使用される薄膜を意味する。支持部は、少なくとも、原版に接続される支持枠を含む。支持枠は通気孔を備える。ペリクルが原版に配置されたときに、通気孔は、ペリクルと原版とにより形成される閉鎖空間の内側と外側との通気を可能とする孔である。通気孔内部にはフィルタが配置される。支持枠は、通気孔内部にフィルタが配置された枠体である。支持部は、支持枠でペリクル膜を吊架するものであってもよいし、ペリクル膜および支持枠に接続される別の枠体をさらに有していてもよい。ペリクル膜を枠体に吊架した構造物をペリクル枠体と称する。したがって、ペリクルとは、ペリクル膜と支持部とが接続した構造体と定義することもできるし、ペリクル枠体と支持枠とが接続した構造体と定義することもできる。

本明細書において、「面」とは、平面に限られるものではなく、曲面を含む。

［本発明において見出した従来技術の問題点］
ＥＵＶペリクルを用いたリソグラフィ装置内を真空にする際に、該ペリクルの支持部に設けられたフィルタの面積が小さいと、空気がフィルタを通りにくく、ペリクルの内部まで真空にするのに比較的時間がかかる。特許文献１に記載されたＥＵＶ露光用ペリクルは、金属製又はセラミックス製のフィルタをペリクルフレームと溶接によって連続的に一体化して通気孔を覆うため、この問題を解決している。一方、通気孔を覆うフィルタは、ＥＵＶ光の露光により劣化するため、交換する必要があるが、ペリクルフレームと一体化したフィルタを交換するのは困難である。また、従来の非ＥＵＶ露光用のペリクルのように、有機系接着剤を用いてフィルタをペリクルフレームに固定した場合、フィルタをペリクルフレームから剥離することは可能であるが、真空化で露光するＥＵＶ露光用ペリクルでは、接着剤からアウトガスが発生する場合がある。アウトガスは、フォトマスクの表面に堆積物を生じさせたり、露光装置の光学系のレンズに曇りを生じさせたりして、露光不良や光量不足を生じさせる。また、１つの通気孔を１つのフィルタで覆う従来のペリクルでは、フィルタの交換作業が煩雑であった。

［実施形態１］
図１は、本発明の一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１の模式図である。図１（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１をペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１が配置される原版（マスク）の面方向に見た模式図である。なお、「原版の面方向」とは、原版の面と交差する方向であり、本実施形態においては、原版の面に略直交する方向である。図１（ｂ）は、図１（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１の断面図であり、図１（ｃ）は、図１（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１の断面図である。図２は、ペリクル用支持枠１１１を構成する第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６の詳細を説明する模式図である。図２（ａ）は第１の支持枠部１１の詳細を説明する模式図であり、図２（ｂ）は第２の支持枠部１６の詳細を説明する模式図である。また、図２（ｃ）及び図２（ｄ）は、第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６とにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。また、図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の係合部１１ｂを第２の係合部１６ｂと係合させる方法を、ペリクル用支持枠１１１をペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１が配置される原版の面方向に、第１の支持枠部１１側に位置する第２の支持枠部１６の第１の面ａで見た模式図である。

ペリクル用支持枠１１１は、第１の支持枠部１１と、第２の支持枠部１６と、フィルタ３０と、を有する。フィルタ３０は平板状の枠形状を有する。また、フィルタ３０は第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６とに挟持される。ペリクル用支持枠１１１において、通気孔１は、ペリクル用支持枠１１１の内側（ペリクルを原版に装着した場合に閉空間が形成される側である。なお、ペリクルを原版に装着した場合の閉空間部分について、矢印Ｐにて示した。）ではペリクル用支持枠１１１の厚み方向Ｌ１（ペリクル膜の面方向と交差する方向であり、本実施形態においては、ペリクル膜の面方向に略直交する方向である。以下、第１の方向とも称する。）に延伸する孔３（第１の孔とも称する）と、孔３に接続し、第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２（ペリクル膜の面方向と略平行な方向）に延伸する孔５（第２の孔とも称する）を有する。孔３はペリクル用支持枠１１１の内縁部に開口を有し、孔５は閉空間部分Ｐの外部へと延伸し、ペリクル用支持枠１１１の外縁部に開口を有する。

図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、フィルタ３０を配置するため、一実施形態として、第１の支持枠部１１は、上面の一部を切り欠いた階段状の構造を有する切り欠き部Ｎを有する。本実施形態においては、第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６とによりフィルタ３０を挟持することによりペリクル用支持枠１１１に固定するため、第１の支持枠部１１に切り欠き部Ｎを配置することにより、ペリクル用支持枠１１１の内縁部に孔３を配置することができる。また、後述するように、ペリクル膜またはペリクル枠体をペリクル用支持枠１１１の上面に配置することにより、ペリクルを得ることができる。したがって、本発明の一実施形態に係るペリクルにおいては、フィルタ３０がペリクル膜から離間して配置される。

第１の支持枠部１１は、平板状の枠形状を有する第１の本体部１１ａと、第１の本体部１１ａからペリクル用支持枠１１１の厚み方向Ｌ１に突出した第１の係合部１１ｂを有する。第２の支持枠部１６は、平板状の枠形状を有する第２の本体部１６ａと、第２の本体部１６ａのペリクル用支持枠１１１の第１の方向Ｌ１に設けられた凹部に配置され、第１の係合部１１ｂと係合する第２の係合部１６ｂを有する。

第１の係合部１１ｂは、第１の本体部１１ａからペリクル用支持枠１１１の第１の方向Ｌ１に延在する第１の延在部１１ｃと、第１の延在部１１ｃの第１の本体部１１ａとは反対側の端部からペリクル用支持枠１１１の第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２に延在する第２の延在部１１ｄと、を有する。第２の係合部１６ｂは、第１の支持枠部１１側に位置する第２の支持枠部１６の第１の面ａからペリクル用支持枠１１１の第１の方向Ｌ１に延在する第１の溝部１６ｃと、第１の溝部１６ｃの底部からペリクル用支持枠１１１の第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２に延在する第２の溝部１６ｄとを有する。第２の延在部１１ｄの少なくとも一部は、第２の溝部１６ｄに収容される。

本実施形態に係る第１の支持枠部１１及び第２の支持枠部１６は、例えば、鋳造や射出成形により形成することができるが、これらに限定されるものではない。例えば、第１の本体部１１ａに第１の係合部１１ｂを接続して、第１の支持枠部１１を形成してもよい。また、平板状の枠形状の部材をエッチングすることにより第２の支持枠部１６を形成してもよい。第１の支持枠部１１及び第２の支持枠部１６の材料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂等が挙げられる。

フィルタ３０は、第１の係合部１１ｂ及び第２の係合部１６ｂに対応する位置に開口ｂを有し、第１の係合部１１ｂは、開口ｂを貫通して、第２の係合部１６ｂと係合する。このような係合は、第１の支持枠部１１の第１の係合部１１ｂを、フィルタ３０の開口ｂに通し、さらに、ペリクル用支持枠１１１の第１の方向Ｌ１に向かって第２の支持枠部１６の第１の溝部１６ｃに挿入し、第２の支持枠部１６の底部に第１の係合部１１ｂが到達した時点で第１の支持枠部１１をペリクル用支持枠１１１の第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２にスライドさせることにより行うことができる。このとき、第１の本体部１１ａ、フィルタ３０及び第２の本体部１６ａは、同一又は概略同一の幅を有する枠形状であるため、一体化してペリクル用支持枠１１１を構成することができる。本実施形態においては、フィルタ３０は、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、通気孔毎にフィルタを配置する必要はなく、ペリクル用支持枠１１１に簡便に取り付けることができる。このようにして、ペリクル用支持枠１１１の内縁部と外縁部とを接続し、フィルタ３０が配置された通気孔１が構成される。

フィルタ３０はＨＥＰＡ、ＵＬＰＡなどのメンブレンフィルタ、不織布フィルタ、カーボンナノチューブやセルロースなどファイバーを積層したフィルタ、セラミックスフィルタ、ガラスフィルタ、金属焼結フィルタ、中空紙フィルタなどを利用することができる。本発明の一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１は、フィルタ３０の通気抵抗が高い場合であっても、通気口の面積を大きくとることができるため、真空引きを行う時間を低減することが可能であり、好ましくは、フィルタ３０は、初期圧力損失が１００Ｐａ以上５５０Ｐａ以下であり、粒径が０．１５μｍ以上０．３μｍ以下の粒子に対して粒子捕集率が９９．７％以上１００％以下の特性を有するフィルタである。また、通気孔１が複数設けられる場合においては、複数の通気孔１に位置するフィルタ３０の合計の面積、即ちペリクルの内側と外側との換気に有効なフィルタ３０の合計の面積が１００ｍｍ²以上２０００ｍｍ²以下であることが好ましい。なお、このフィルタに関する説明は、各実施形態で共通するため、以下では説明を省略する。

ペリクル用支持枠１１１においては、第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６とによりフィルタ３０を挟持し、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとを係合することにより、フィルタ３０を固定している。本実施形態においては、フィルタ３０を固定するために接着剤を用いていないため、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとにより係合している第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６を分離することにより、ペリクル用支持枠１１１からフィルタ３０を簡便に取り外すことができる。即ち、第１の支持枠部１１を第２の方向Ｌ２とは反対側の方向にスライドさせる、又は第２の支持枠部１６を第２の方向Ｌ２にスライドさせることにより、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとの係合を解除する。その後、第１の支持枠部１１を第１の方向Ｌ１とは反対側の方向に持ち上げる、又は第２の支持枠部１６を第１の方向Ｌ１へ下ろすことにより、第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６を分離することができる。

従来のペリクルにおいては、通気孔毎にフィルタを配置していたため、それぞれのフィルタを取り外す必要があった。本実施形態においては、フィルタ３０は、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６を分離すれば、ペリクル用支持枠１１１から容易に取り外すことができる。

また、一実施形態において、フィルタ３０として新しいフィルタを第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６とにより再度挟持することにより、フィルタ３０を簡便に交換することができる。また、本実施形態においては、フィルタ３０を固定するために接着剤を用いていないため、接着剤からのアウトガスの発生が低減され、原版とペリクルとによって形成される空間内のＥＵＶ光が照射される領域におけるコンタミネーションが抑制される。また、接着剤からのアウトガスによる露光装置の光学系のレンズに曇りを生じさせたり、露光不良や光量不足が生じたりすることを抑制することができる。

ペリクル用支持枠１１１は、平板状の枠形状を有する第１の本体部１１ａと、第１の本体部１１ａからペリクル用支持枠１１１の厚み方向に突出した第１の係合部１１ｂと、を有する第１の支持枠部１１を準備し、平板状の枠形状を有する第２の本体部１６ａと、第２の本体部１６ａのペリクル用支持枠１１１の厚み方向に設けられた凹部に配置され、第１の係合部１１ｂと係合する第２の係合部１６ｂと、を有する第２の支持枠部１６を準備し、平板状の枠形状を有するフィルタ３０を準備し、フィルタ３０を第１の支持枠部１１と第２の支持枠部１６とを挟持し、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとを係合することにより製造することができる。

［実施形態２］
上述した実施形態１においては、第１の本体部１１ａと第１の係合部１１ｂを一体成型、又は第１の本体部１１ａに第１の係合部１１ｂを接続した第１の支持枠部１１を用いる例を示したが、本発明に係るペリクル用支持枠及びペリクルはこれらに限定されるものではない。複数の板状の部材を積層して第１の支持枠部及び第２の支持枠部を構成する例について、実施形態２として説明する。以下においては、実施形態１とは異なる構成について、特に説明し、実施形態１と同様の構成については説明を省略する。

図４は、本発明の一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ａの模式図である。図４（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ａをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ａが配置される原版の面方向に見た模式図である。図４（ｂ）は、図４（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ａの断面図であり、図４（ｃ）は、図４（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ａの断面図である。図５は、ペリクル用支持枠１１１Ａを構成する第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａの詳細を説明する模式図である。図５（ａ）は第１の支持枠部１１Ａの詳細を説明する模式図であり、図５（ｂ）は第２の支持枠部１６Ａの詳細を説明する模式図である。また、図５（ｃ）及び図５（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａとにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。

ペリクル用支持枠１１１Ａは、第１の支持枠部１１Ａと、第２の支持枠部１６Ａと、フィルタ３０と、を有する。フィルタ３０は第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａとにより挟持される。第１の支持枠部１１Ａは、例えば、平板状の枠形状を有する薄板１２Ａと、薄板１２Ａの下面に配置された平板状の枠形状を有する薄板１３Ａとが積層して構成された第１の本体部１１ａを有する。また、本実施形態においては、第１の支持枠部１１Ａの切り欠き部Ｎは、薄板１３Ａの上面に薄板１２Ａを配置することにより構成され、第１の方向Ｌ１に延伸する孔３をペリクル用支持枠１１１Ａの内縁部に配置することができる。

第１の支持枠部１１Ａは、薄板１３Ａの下面からペリクル用支持枠１１１Ａの第１の方向Ｌ１に延在する薄板１４Ａと、薄板１４Ａの下面に配置され、薄板１４Ａからペリクル用支持枠１１１Ａの第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２に延在する薄板１５Ａとが積層して構成された第１の係合部１１ｂを有する。本実施形態においては、第１の本体部１１ａからペリクル用支持枠１１１Ａの第１の方向Ｌ１に延在する第１の延在部１１ｃは、薄板１４Ａにより構成される。また、第１の延在部１１ｃの第１の本体部１１ａとは反対側の端部から第２の方向Ｌ２に延在する第２の延在部１１ｄは、薄板１５Ａにより構成される。

第２の支持枠部１６Ａは、平板状の枠形状を有する薄板１９Ａの上面に平板状の枠形状を有する薄板１８Ａ及び平板状の枠形状を有する薄板１７Ａが順次積層して構成された第２の本体部１６ａを有する。また、本実施形態においては、後述するように、薄板１８Ａの外縁部には凹部が配置され、この凹部を薄板１７Ａと薄板１９Ａとにより挟持することにより、ペリクル用支持枠１１１Ａの第２の方向Ｌ２に延伸する孔５を配置することができる。

薄板１７Ａには第１の溝部１６ｃが配置され、薄板１８Ａには第２の溝部１６ｄが配置される。薄板１９Ａの上面に薄板１８Ａ及び薄板１７Ａを順次積層することにより、第１の方向Ｌ１に延在する第１の溝部１６ｃと第２の方向Ｌ２に延在する第２の溝部１６ｄとが重畳し、第２の支持枠部１６Ａに凹部を形成する。この凹部は、第１の係合部１１ｂと係合する第２の係合部１６ｂとして機能する。第２の延在部１１ｄの少なくとも一部は、第２の溝部１６ｄに収容され、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとが係合する。

ここで、第１の支持枠部１１Ａ及び第２の支持枠部１６Ａを構成する各薄板について、さらに説明する。図６は、薄板１２Ａの模式図である。図６（ａ）は、薄板１２Ａの上面図であり、図６（ｂ）は図６（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１２Ａの断面図であり、図６（ｃ）は図６（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１２Ａの断面図である。薄板１２Ａは、例えば、矩形の枠形状であり、枠の内縁部（ペリクル膜が吊架される側であり、ペリクルとして使用した際に閉空間を形成する側である）に接続し、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）１２ａを有する。凹部１２ａの数に特に限定はなく、ペリクルの閉空間と外部との換気に十分となるフィルタ３０のために複数の凹部１２ａを設けることができる。図６（ｃ）に示したように、凹部１２ａに隣接する領域は、第１の本体部１１ａの幅に相当する幅を有し、第１の支持枠部１１Ａに必要な強度を付与する。薄板１２Ａの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。本実施形態では、凹部１２ａが形成する開口が、第１の方向Ｌ１の孔に相当する。

図７は、薄板１３Ａの模式図である。図７（ａ）は、薄板１３Ａの上面図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１３Ａの断面図であり、図７（ｃ）は図７（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１３Ａの断面図である。薄板１３Ａは、例えば、矩形の枠形状であり、第１の方向Ｌ１に開口した開口部１３ａを有する。凹部１２ａと開口部１３ａとは、少なくとも一部が重畳し、第１の方向Ｌ１に延伸する孔３を構成する。開口部１３ａの数に特に限定はなく、凹部１２ａに対応する数を設けることができる。図７（ｃ）に示したように、開口部１３ａに隣接する領域は、第１の本体部１１ａの幅に相当する幅を有し、第１の支持枠部１１Ａに必要な強度を付与する。薄板１３Ａの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。

図８は、薄板１４Ａの模式図である。図８（ａ）は、薄板１４Ａの上面図であり、図８（ｂ）は図８（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１４Ａの断面図である。薄板１４Ａは、例えば、矩形の形状であり、薄板１３Ａの下面に接続し、第１の本体部１１ａからペリクル用支持枠１１１Ａの第１の方向Ｌ１に延在する第１の延在部１１ｃを構成する。薄板１４Ａは、開口部１３ａが配置される薄板１３Ａの領域に隣接する領域に配置される。薄板１４Ａの数に特に限定はなく、開口部１３ａの両隣に位置する薄板１３Ａの領域に配置されることが好ましい。即ち、本実施形態においては、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂが通気孔１の両側に配置されることにより、第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａとが係合する強度を高めることができ、フィルタを介して通気する際の空気漏れが少なくなる。薄板１４Ａの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。

図９は、薄板１５Ａの模式図である。図９（ａ）は、薄板１５Ａの上面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１５Ａの断面図である。薄板１５Ａは、例えば、矩形の形状であり、薄板１４Ａの下面に接続し、ペリクル用支持枠１１１Ａの第２の方向Ｌ２に延在する第２の延在部１１ｄを構成する。このため、薄板１５Ａは、薄板１４Ａよりも第２の方向Ｌ２に所定の長さで延在する。薄板１４Ａから第２の方向Ｌ２に延在する薄板１５Ａの部分は、第２の係合部１６ｂとの係合に関与する。ここで、第２の方向Ｌ２に延在する薄板１５Ａの部分の長さは、第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａとが係合する強度が得られる範囲で任意に設定可能である。第２の方向Ｌ２に延在する薄板１５Ａの部分を長くすると、第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａとの係合の確実性が高まる。一方、フィルタ３０を第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａで挟んで固定する際の、第１の支持枠部１１Ａがフィルタ３０に接して第２の方向Ｌ２に移動する距離が長くなると、第１の支持枠部１１Ａとフィルタ３０との摩擦によりフィルタ３０からの塵埃が生じるおそれがある。薄板１５Ａは、薄板１５Ａの数に特に限定はなく、薄板１４Ａの数に応じた数で配置される。薄板１５Ａの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。

図１０は、フィルタ３０の模式図である。図１０（ａ）は、フィルタ３０の上面図であり、図１０（ｂ）は図１０（ａ）に示した線分ＡＢでのフィルタ３０の断面図であり、図１０（ｃ）は図１０（ａ）に示した線分ＣＤでのフィルタ３０の断面図である。フィルタ３０は、例えば、矩形の形状であり、第１の係合部１１ｂ及び第２の係合部１６ｂに対応する位置に開口ｂを有する。即ち、開口ｂは、薄板１３Ａの開口部１３ａが配置される領域に隣接する領域に対応するフィルタ３０の位置に配置される。フィルタ３０において、ペリクル用支持枠１１１Ａのフィルタとして機能するのは、通気孔１に対応する部分である。その他のフィルタ３０の構成は実施形態１で説明した構成と同様の構成であってもよく、詳細な説明は省略する。

図１１は、薄板１７Ａの模式図である。図１１（ａ）は、薄板１７Ａの上面図であり、図１１（ｂ）は図１１（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１７Ａの断面図であり、図１１（ｃ）は図１１（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１７Ａの断面図である。薄板１７Ａは、例えば、矩形の枠形状であり、第１の方向Ｌ１に開口した開口部１７ａと、開口部１７ａに隣接して配置される開口部１７ｂとを有する。開口部１７ａは、薄板１３Ａの開口部１３ａに対応する位置に配置され、開口部１３ａとともに第１の方向Ｌ１に延伸する孔３を構成する。また、開口部１７ｂは、第１の方向Ｌ１に延在する第１の溝部１６ｃに対応し、第２の係合部１６ｂを構成する。開口部１７ａの数に特に限定はなく、第１の支持枠部１１Ａに配置された第１の係合部１１ｂに対応する位置に配置することができる。薄板１７Ａの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。

図１２は、薄板１８Ａの模式図である。図１２（ａ）は、薄板１８Ａの上面図であり、図１２（ｂ）は図１２（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１８Ａの断面図であり、図１２（ｃ）は図１２（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１８Ａの断面図である。薄板１８Ａは、例えば、矩形の枠形状であり、枠の外縁部（ペリクルとして使用した際に閉空間を形成しない側である）に接続し、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）１８ａを有する。凹部１８ａの数に特に限定はなく、ペリクルの閉空間と外部との換気に十分となるフィルタ３０のために複数の開口を設けることができる。本実施形態では、薄板１７Ａと薄板１９Ａとにより挟持される凹部１８ａが形成する孔が、ペリクル用支持枠１１１Ａの外縁部（ペリクル用支持枠１１１Ａの内側とは反対側であり、ペリクルとして使用した際に閉空間を形成しない側である）に接続し、第２の方向Ｌ２に延伸する孔５に相当する。また、薄板１８Ａは、開口部１７ａよりも第２の方向Ｌ２に大きな所定の幅で開口した開口部１８ｂを有する。開口部１８ｂは、薄板１７Ａと薄板１９Ａとにより挟持することにより、第２の方向Ｌ２に延伸する第２の溝部１６ｄを構成する。第１の溝部１６ｃと第２の溝部１６ｄとが接続して、第２の係合部１６ｂを構成する。なお、薄板１８Ａ自体の形状も、所望の枠体の形状に応じて形状を適宜設定可能である。開口部１７ａから第２の方向Ｌ２に延在する開口部１８ｂの部分は、第１の係合部１１ｂとの係合に関与する。ここで、第２の方向Ｌ２に延在する開口部１８ｂの部分の幅は、第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａとが係合する強度が得られる範囲で任意に設定可能である。第２の方向Ｌ２に延在する開口部１８ｂの部分の幅を長くすると、第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａとの係合の確実性が高まる。一方、フィルタ３０を第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａで挟んで固定する際の、第１の支持枠部１１Ａがフィルタ３０に接して第２の方向Ｌ２に移動する距離が長くなると、第１の支持枠部１１Ａとフィルタ３０との摩擦によりフィルタ３０からの塵埃が生じる。薄板１８Ａの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。

図１３は、薄板１９Ａの模式図である。図１３（ａ）は、薄板１９Ａの上面図であり、図１３（ｂ）は図１３（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１９Ａの断面図であり、図１３（ｃ）は図１３（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１９Ａの断面図である。薄板１９Ａはペリクル用支持枠１１１Ａにおいては底板として機能し、例えば、矩形の枠形状であるが、所望の枠体の形状に応じて形状を適宜設定可能である。薄板１９Ａの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。なお、上述した各薄板は、それぞれ同種の材質から形成された薄板を組み合わせてもよいし、それぞれ異なった材質から形成された薄板を組み合わせてもよいし、一部共通する材質から形成された薄板を組み合わせてもよい。

本実施形態では、各薄板の固定は、固定されればよく、特に制限されない。固定方法としては、例えば、粘着シート、接着剤、接合剤、常温接合、ダイレクト接合、原子拡散接合、金属接合、溶着、ハンダ接合、熱圧着、ホットメルト、フラックス接合、面ファスナー、ねじ・ピン・クリップ・カシメ等の機械的固定、磁気を用いて挟み込んで固定する方法などが挙げられる。

ペリクル用支持枠１１１Ａへのフィルタ３０の着脱は、実施形態１で説明した方法により行うことができる。第１の支持枠部１１Ａの第１の係合部１１ｂを、フィルタ３０の開口ｂに通し、さらに、ペリクル用支持枠１１１Ａの第１の方向Ｌ１に向かって第２の支持枠部１６Ａの第１の溝部１６ｃに挿入し、第２の支持枠部１６Ａの底部に第１の係合部１１ｂが到達した時点で第１の支持枠部１１Ａをペリクル用支持枠１１１Ａの第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２にスライドさせることにより、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとを係合することができる。第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａによりフィルタ３０を挟持することにより、ペリクル用支持枠１１１Ａの内縁部と外縁部とを接続し、フィルタ３０が配置された通気孔１が構成される。本実施形態においては、フィルタ３０は、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、通気孔毎にフィルタを配置する必要はなく、ペリクル用支持枠１１１Ａに簡便に取り付けることができる。また、本実施形態においては、フィルタ３０を固定するために接着剤を用いていないため、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとにより係合している第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａを分離することにより、ペリクル用支持枠１１１Ａからフィルタ３０を簡便に取り外すことができる。従来のペリクルにおいては、通気孔毎にフィルタを配置していたため、それぞれのフィルタを取り外す必要があった。本実施形態においては、フィルタ３０は、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａを分離すれば、ペリクル用支持枠１１１Ａから容易に取り外すことができる。

また、一実施形態において、フィルタ３０として新しいフィルタを第１の支持枠部１１Ａと第２の支持枠部１６Ａとにより再度挟持することにより、フィルタ３０を簡便に交換することができる。また、本実施形態においては、フィルタ３０を固定するために接着剤を用いていないため、接着剤からのアウトガスの発生が低減され、原版とペリクルとによって形成される空間内のＥＵＶ光が照射される領域におけるコンタミネーションが抑制される。また、接着剤からのアウトガスによる露光装置の光学系のレンズに曇りを生じさせたり、露光不良や光量不足が生じたりすることを抑制することができる。

なお、本実施形態は、これに限定されず、第２の方向Ｌ２に対して、第１の支持枠部１１Ａの第１の係合部１１ｂを配置する向きと、第２の係合部１６ｂを配置する向きとを逆方向に配置してもよい。すなわち、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂを係合させるときの第２の方向Ｌ２のスライド方向と、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとの係合を解除するときの第２の方向Ｌ２のスライド方向を、実施形態２とは第２の方向Ｌ２に対して逆方向に設定してもよい。また、フィルタ３０を挟持する際に、第１の支持枠部１１Ａを第２の支持枠部１６Ａに対してスライドさせる方向を、第１の方向Ｌ１に設定してもよい。

［実施形態３］
上述した実施形態においては、第１の支持枠部１１を一方向にスライドさせることにより、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂを係合させ、第１の支持枠部１１を逆方向にスライドさせることにより、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂの係合を解除した。本実施形態においては、第１の支持枠部１１を２つの方向に順次スライドすることによりロックする方法について説明する。

図１４は、本発明の一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｂの模式図である。図１４（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｂをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｂが配置される原版の面方向に見た模式図である。図１４（ｂ）は、図１４（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｂの断面図であり、図１４（ｃ）は、図１４（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｂの断面図である。図１５は、ペリクル用支持枠１１１Ｂを構成する第１の支持枠部１１Ｂと第２の支持枠部１６Ｂの詳細を説明する模式図である。図１５（ａ）は第１の支持枠部１１Ｂの詳細を説明する模式図であり、図１５（ｂ）は第２の支持枠部１６Ｂの詳細を説明する模式図である。また、図１５（ｃ）及び図１５（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ｂと第２の支持枠部１６Ｂとにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。また、図１６（ａ）〜図１６（ｄ）は、第１の係合部１１ｂを第２の係合部１６ｂと係合させる方法を、ペリクル用支持枠１１１Ｂをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｂが配置される原版の面方向に、第１の支持枠部１１Ｂ側に位置する第２の支持枠部１６Ｂの第１の面ａで見た模式図である。

本実施形態においては、Ｌ字型の開口部を有する薄板１７Ｂで第１の溝部１６ｅを構成し、Ｌ字型の開口部を有する薄板１８Ｂで第２の溝部１６ｆを構成する。第１の溝部１６ｅに第２の溝部１６ｆが接続することにより、第２の係合部１６ｂが構成される。ペリクル用支持枠１１１Ｂは、第１の支持枠部１１Ｂと、第２の支持枠部１６Ｂと、フィルタ３０と、を有する。フィルタ３０は第１の支持枠部１１Ｂと第２の支持枠部１６Ｂとに挟持される。第１の支持枠部１１Ｂは、例えば、上述した平板状の枠形状を有する薄板１２Ａと、薄板１２Ａの下面に配置された平板状の枠形状を有する薄板１３Ａとが積層して構成された第１の本体部１１ａを有する。また、第１の支持枠部１１Ｂの切り欠き部の構成は、上述した実施形態と同様の構成であってもよく、詳細な説明は省略する。

第１の支持枠部１１Ｂは、薄板１３Ａの下面からペリクル用支持枠１１１Ｂの第１の方向Ｌ１に延在する薄板１４Ｂと、薄板１４Ｂの下面に配置され、薄板１４Ｂからペリクル用支持枠１１１Ｂの第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２に延在する薄板１５Ｂとが積層して構成された第１の係合部１１ｂを有する。本実施形態においては、第１の本体部１１ａからペリクル用支持枠１１１Ｂの第１の方向Ｌ１に延在する第１の延在部１１ｅは、薄板１４Ｂにより構成される。また、第１の延在部１１ｅの第１の本体部１１ａとは反対側の端部から第２の方向Ｌ２に延在する第２の延在部１１ｆは、薄板１５Ｂにより構成される。

第２の支持枠部１６Ｂは、上述した平板状の枠形状を有する薄板１９Ａの上面に平板状の枠形状を有する薄板１８Ｂ及び平板状の枠形状を有する薄板１７Ｂが順次積層して構成された第２の本体部１６ａを有する。また、本実施形態においては、薄板１８Ｂの外縁部には凹部が配置され、この凹部を薄板１７Ｂと薄板１９Ａとにより挟持することにより、ペリクル用支持枠１１１Ｂの第２の方向Ｌ２に延伸する孔５を配置することができる。

薄板１７Ｂには第１の溝部１６ｅが配置され、薄板１８Ｂには第２の溝部１６ｆが配置される。薄板１９Ａの上面に薄板１８Ｂ及び薄板１７Ｂを順次積層することにより、第２の支持枠部１６Ｂの厚み方向である第１の方向Ｌ１に延在し、且つ、第１の方向Ｌ１に交差（又は直交）する第２の方向Ｌ２（ペリクル膜が配置される面方向）に延在し、その一部が第２の方向Ｌ２に交差（又は直交）する第４の方向Ｌ４（本実施形態においては第３の方向であるが、上述した実施形態との関係から、本明細書においては第４の方向と称する）に延在する第１の溝部１６ｅと、第１の溝部１６ｅよりも第２の方向Ｌ２にさらに延在する第２の溝部１６ｆとが重畳し、第２の支持枠部１６Ｂに凹部を形成する。この凹部は、第１の係合部１１ｂと係合する第２の係合部１６ｂとして機能する。第２の延在部１１ｆの少なくとも一部は、第２の溝部１６ｆに収容され、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとが係合する。本実施形態においては、第４の方向Ｌ４に延在する第１の溝部１６ｅがロック機構１６ｌを構成する。ロック機構１６ｌにおける第１の溝部１６ｅの第２の方向Ｌ２の幅は、第１の延在部１１ｅを構成する薄板１４Ｂの幅と概略等しいため、第１の係合部１１ｂが第３の方向（第２の方向Ｌ２とは反対の方向）に戻ることにより第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとの係合が解除されるのを防止することができる。

ここで、第１の支持枠部１１Ｂ及び第２の支持枠部１６Ｂを構成する各薄板について、さらに説明する。薄板１２Ａについては実施形態２において説明したため、詳細な説明は省略する。また、薄板１３Ａについても実施形態２において説明したため、詳細な説明は省略する。薄板１４Ｂは、例えば、矩形の形状であり、薄板１３Ａの下面に接続し、第１の本体部１１ａからペリクル用支持枠１１１Ｂの第１の方向Ｌ１に延在する第１の延在部１１ｅを構成する。薄板１４Ｂは、開口部１６ｅが配置される薄板１３Ａの領域に隣接する領域に配置される。薄板１４Ｂの数に特に限定はなく、開口部１６ｅの両隣に位置する薄板１３Ａの領域に配置されることが好ましい。即ち、本実施形態においては、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂが通気孔１の両側に配置されることにより、第１の支持枠部１１Ｂと第２の支持枠部１６Ｂとが係合する強度を高めることができる。

薄板１５Ｂは、例えば、矩形の形状であり、薄板１４Ｂの下面に接続し、ペリクル用支持枠１１１Ｂの第２の方向Ｌ２に延在する第２の延在部１１ｆを構成する。このため、薄板１５Ｂは、薄板１４Ｂよりも第２の方向Ｌ２に所定の長さで延在する点で、薄板１５Ａとは異なる。その他の薄板１５Ｂの構成は薄板１５Ａの構成と同様であってもよく、詳細な説明は省略する。

図１６に示したように、例えば、矩形の枠形状であり、薄板１７Ｂは、第２の方向Ｌ２に延在する開口部の一部が第４の方向Ｌ４に延在するＬ字型の第１の溝部１６ｅを有する。第１の溝部１６ｅの第４の方向Ｌ４に延在する開口部は、ロック機構１６ｌを構成する。ロック機構１６ｌにおいて、第１の溝部１６ｅの第２の方向Ｌ２の幅は、薄板１４Ｂの第２の方向Ｌ２の幅と概略等しい。

薄板１８Ｂは、矩形の枠形状であり、枠の外縁部に接続し、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）を有する。凹部の数に特に限定はなく、ペリクルの閉空間と外部との換気に十分となるフィルタ３０のために複数の開口を設けることができる。本実施形態では、薄板１７Ｂと薄板１９Ａとにより挟持される凹部が形成する孔が、ペリクル用支持枠１１１Ｂの外縁部に接続し、第２の方向Ｌ２に延伸する孔５に相当する。また、薄板１８Ｂは、第２の方向Ｌ２に延在する開口部の一部が第４の方向Ｌ４に延在するＬ字型の第２の溝部１６ｆを有する。第２の溝部１６ｆは、第１の溝部１６ｅを構成する薄板１７Ｂの開口部よりも第２の方向Ｌ２に大きな所定の幅で開口した開口部を有する。薄板１８Ｂの開口部は、薄板１７Ｂと薄板１９Ａとにより挟持することにより、第２の方向Ｌ２に延伸する第２の溝部１６ｆを構成する。第１の溝部１６ｅと第２の溝部１６ｆとが接続して、第２の係合部１６ｂを構成する。なお、薄板１８Ｂ自体の形状も、所望の枠体の形状に応じて形状を適宜設定可能である。その他の薄板１８Ｂの構成は薄板１８Ａの構成と同様であってもよく、詳細な説明は省略する。薄板１９Ａについては実施形態２において説明したため、詳細な説明は省略する。

ペリクル用支持枠１１１Ｂへのフィルタ３０の着脱は、第１の支持枠部１１Ｂの第１の係合部１１ｂを、フィルタ３０の開口ｂに通し、さらに、ペリクル用支持枠１１１Ｂの第１の方向Ｌ１に向かって第２の支持枠部１６Ｂの第１の溝部１６ｅに挿入し、第２の支持枠部１６Ｂの底部に第１の係合部１１ｂが到達した時点で第１の支持枠部１１Ｂをペリクル用支持枠１１１Ｂの第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２にスライドさせることにより、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂを係合させる。その後、第１の支持枠部１１Ｂを第４の方向Ｌ４にスライドさせることにより、第１の係合部１１ｂがロック機構１６ｌに位置し、第１の係合部１１ｂが第３の方向に戻ることができなくなり、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとが係合状態にロックされる。

第１の本体部１１ａ、フィルタ３０及び第２の本体部１６ａは、同一又は概略同一の幅を有する枠形状であるため、一体化してペリクル用支持枠１１１Ｂを構成することができる。本実施形態においては、フィルタ３０は、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、通気孔毎にフィルタを配置する必要はなく、ペリクル用支持枠１１１Ｂに簡便に取り付けることができる。このようにして、ペリクル用支持枠１１１Ｂの内縁部と外縁部とを接続し、フィルタ３０が配置された通気孔１が構成される。

図１６においては、第１の溝部１６ｅの第２の方向Ｌ２に延在する開口部の幅は、薄板１４Ｂの第２の方向Ｌ２の幅の２倍の幅より僅かに大きく、第１の溝部１６ｅの第４の方向Ｌ４に延在する開口部の長さは、薄板１４Ｂの第４の方向Ｌ４の長さの２倍の長さより僅かに大きいが、本実施形態の第１の溝部１６ｅの形状は、これに限定されない。例えば、第１の溝部１６ｅの第２の方向Ｌ２に延在する開口部の幅は、第１の係合部１１ｂを構成する薄板１５Ａを第１の方向Ｌ１へ挿入可能な幅であればよい。また、第１の溝部１６ｅの第４の方向Ｌ４の長さは、第１の係合部１１ｂを構成する薄板１４Ｂが第３の方向に戻らないように、ロック機構１６ｌへ移動できる長さであってもよい。即ち、第１の溝部１６ｅの第２の方向Ｌ２の幅が薄板１４Ｂの第２の方向Ｌ２の幅と概略等しくてもよく、第１の係合部１１ｂの一部が収容されればよい。

本実施形態においては、フィルタ３０は、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、通気孔毎にフィルタを配置する必要はなく、ペリクル用支持枠１１１Ｂに簡便に取り付けることができる。また、本実施形態においては、フィルタ３０を固定するために接着剤を用いていないため、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとにより係合している第１の支持枠部１１Ｂと第２の支持枠部１６Ｂを分離することにより、ペリクル用支持枠１１１Ｂからフィルタ３０を簡便に取り外すことができる。従来のペリクルにおいては、通気孔毎にフィルタを配置していたため、それぞれのフィルタを取り外す必要があった。本実施形態においては、フィルタ３０は、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、第１の支持枠部１１Ｂと第２の支持枠部１６Ｂを分離すれば、ペリクル用支持枠１１１Ｂから容易に取り外すことができる。

また、一実施形態において、フィルタ３０として新しいフィルタを第１の支持枠部１１Ｂと第２の支持枠部１６Ｂとにより再度挟持することにより、フィルタ３０を簡便に交換することができる。また、本実施形態においては、フィルタ３０を固定するために接着剤を用いていないため、接着剤からのアウトガスの発生が低減され、原版とペリクルとによって形成される空間内のＥＵＶ光が照射される領域におけるコンタミネーションが抑制される。また、接着剤からのアウトガスによる露光装置の光学系のレンズに曇りを生じさせたり、露光不良や光量不足が生じたりすることを抑制することができる。なお、本実施形態は、実施形態１〜２及びこれらの変形例にも適用することができる。

［実施形態２及び３の変形例］
上述した実施形態２及び３の変形例について説明する。図１７は、本発明の変形例に係るペリクル用支持枠１１１Ｃの模式図である。図１７（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｃをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｃが配置される原版の面方向に見た模式図である。図１７（ｂ）は、図１７（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｃの断面図であり、図１７（ｃ）は、図１７（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｃの断面図である。図１８は、ペリクル用支持枠１１１Ｃを構成する第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｃの詳細を説明する模式図である。図１８（ａ）は第１の支持枠部１１Ｃの詳細を説明する模式図であり、図１８（ｂ）は第２の支持枠部１６Ｃの詳細を説明する模式図である。また、図１８（ｃ）及び図１８（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｃとにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。

第１の支持枠部１１Ｃは、薄板１２Ｃ−１の下面に薄板１２Ｃ−２と薄板１３Ｃが積層した第１の本体部１１ａを有する。本実施形態においては、薄板１２Ｃ−１及び薄板１２Ｃ−２は、上述した薄板１２Ａと同様に、例えば、矩形の枠形状であり、枠の内縁部に接続し、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）を有する。凹部の数に特に限定はなく、ペリクルの閉空間と外部との換気に十分となるフィルタ３０のために複数の凹部を設けることができる。本実施形態においては、薄板１２Ｃ−１と薄板１２Ｃ−２とを積層して用いるため、薄板１２Ｃ−１と薄板１２Ｃ−２とは薄板１２Ａよりも薄い部材であってもよい。薄板１２Ｃ−１及び薄板１２Ｃ−２のその他の構成は、薄板１２Ａと同様の構成であってもよく、詳細な説明は省略する。本実施形態では、薄板１２Ｃ−１及び薄板１２Ｃ−２の凹部が形成する開口が、第１の方向Ｌ１の孔に相当する。第１の支持枠部１１Ｃは、薄板１３Ｃの下面からペリクル用支持枠１１１Ｃの第１の方向Ｌ１に延在する薄板１４Ｃ−１、薄板１４Ｃ−２及び薄板１４Ｃ−３が積層した第１の延在部１１ｇと、薄板１４Ｃ−３の下面に配置され、薄板１４Ｃ−３からペリクル用支持枠１１１Ｃの第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２に延在する薄板１５Ｃにより構成される第２の延在部１１ｈとが積層して構成された第１の係合部１１ｂを有する。

第２の支持枠部１６Ｃは、平板状の枠形状を有する薄板１９Ｃの上面に平板状の枠形状を有する薄板１８Ｃと、平板状の枠形状を有する薄板１７Ｃ−１及び薄板１７Ｃ−２とが順次積層して構成された第２の本体部１６ａを有する。また、本実施形態においては、後述するように、薄板１７Ｃ−２及び薄板１８Ｃの外縁部には凹部が配置され、この凹部を薄板１７Ｃ−１と薄板１９Ｃとにより挟持することにより、ペリクル用支持枠１１１Ｃの第２の方向Ｌ２に延伸する孔５を配置することができる。

ペリクル用支持枠１１１Ｃは、第１の本体部１１ａを構成する薄板１２Ａに対応する薄板を複数の薄板（図１７においては、薄板１２Ｃ−１及び薄板１２Ｃ−２）で構成する点、第１の係合部１１ｂを構成する薄板１４Ａを複数の薄板（図１７においては、薄板１４Ｃ−１、薄板１４Ｃ−２及び薄板１４Ｃ−３）で構成する点で実施形態２とは異なる。また、ペリクル用支持枠１１１Ｃは、第２の係合部１６ｂを構成する薄板１７Ａを複数の薄板（図１７においては、薄板１７Ｃ−１及び薄板１７Ｃ−２）で構成する点で実施形態２とは異なる。即ち、本変形例においては、上述した実施形態２〜３及びそれらの変形例において、任意の薄板を複数の薄板を用いて構成することが可能である。また、本変形例においては、薄板１７Ｃ−１と薄板１７Ｃ−２のように、その一部が異なる薄板を組み合わせてもよい一例として、図１７（ｂ）において、薄板１８Ｃと同様に、薄板１７Ｃ−２は枠の外縁部に接続し、第２の方向に凹んだ凹部を有する点で薄板１７Ｃ−１とは異なる。

本変形例においては、第２の係合部１６ｂに位置する薄板１７Ｃ−１と薄板１７Ｃ−２の形状を同じ形状とすることにより、第２の係合部１６ｂの第１の方向Ｌ１の強度を高めることができる。一方、薄板１７Ｃ−２は枠の外縁部に接続する凹部を有することにより、薄板１８Ｃと積層して構成される第２の方向Ｌ２に延伸する孔５の第１の方向Ｌ１に対する高さを大きくし、換気能力を高めることができる。なお、本変形例はこれらに限定されるものではなく、任意の薄板の形状を隣接する他の薄板で実現してもよい。説明したこれらの構成以外は、実施形態２及び３とその変形例において上述した構成と同様の構成を用いてもよく、詳細な説明は省略する。

ペリクル用支持枠１１１Ｃへのフィルタ３０の着脱は、実施形態１で説明した方法により行うことができる。第１の支持枠部１１Ｃの第１の係合部１１ｂを、フィルタ３０の開口ｂに通し、さらに、ペリクル用支持枠１１１Ｃの第１の方向Ｌ１に向かって第２の支持枠部１６Ｃの第１の溝部１６ｇに挿入し、第２の支持枠部１６Ｃの底部に第１の係合部１１ｂが到達した時点で第１の支持枠部１１Ｃをペリクル用支持枠１１１Ｃの第１の方向Ｌ１と交差する第２の方向Ｌ２にスライドさせることにより、薄板１５Ｃにより構成される第２の延在部１１ｈが第２の溝部１６ｈに収容され、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとを係合することができる。第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｃによりフィルタ３０を挟持することにより、ペリクル用支持枠１１１Ｃの内縁部と外縁部とを接続し、フィルタ３０が配置された通気孔１が構成される。

本実施形態においては、フィルタ３０は、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、通気孔毎にフィルタを配置する必要はなく、ペリクル用支持枠１１１Ｃに簡便に取り付けることができる。また、本実施形態においては、フィルタ３０を固定するために接着剤を用いていないため、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとにより係合している第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｃを分離することにより、ペリクル用支持枠１１１Ｃからフィルタ３０を簡便に取り外すことができる。従来のペリクルにおいては、通気孔毎にフィルタを配置していたため、それぞれのフィルタを取り外す必要があった。本実施形態においては、フィルタ３０は、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｃを分離すれば、ペリクル用支持枠１１１Ｃから容易に取り外すことができる。

また、一実施形態において、フィルタ３０として新しいフィルタを第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｃとにより再度挟持することにより、フィルタ３０を簡便に交換することができる。また、本実施形態においては、フィルタ３０を固定するために接着剤を用いていないため、接着剤からのアウトガスの発生が低減され、原版とペリクルとによって形成される空間内のＥＵＶ光が照射される領域におけるコンタミネーションが抑制される。また、接着剤からのアウトガスによる露光装置の光学系のレンズに曇りを生じさせたり、露光不良や光量不足が生じたりすることを抑制することができる。

［実施形態４］
上述した実施形態においては、第２の支持枠部を構成する薄板が積層することにより第２の係合部１６ｂを構成する例を示したが、本発明に係るペリクル用支持枠１１１はこれに限定されるものではない。本実施形態においては、閂様の固定具を第２の支持枠部に配置することにより第２の係合部１６ｂを構成し、第１の係合部１１ｂと係合する例について説明する。

図１９は、本発明の一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｄの模式図である。図１９（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｄをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｄが配置される原版の面方向に見た模式図である。図１９（ｂ）は、図１９（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｄの断面図であり、図１９（ｃ）は、図１９（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｄの断面図である。図２０は、ペリクル用支持枠１１１Ｄを構成する第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｄの詳細を説明する模式図である。図２０（ａ）は第１の支持枠部１１Ｃの詳細を説明する模式図であり、図２０（ｂ）は第２の支持枠部１６Ｄの詳細を説明する模式図である。また、図２０（ｃ）及び図２０（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｄとにより、フィルタ３０を挟持して固定する方法を説明する模式図である。また、図２１は、固定具２３Ｄを配置した薄板２１Ｄの模式図である。図２１（ａ）は、固定具２３Ｄを配置した薄板２１Ｄの上面図であり、図２１（ｂ）は、固定具２３Ｄの上面図であり、図２１（ｃ）は図２１（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板２１Ｄの断面図であり、図２１（ｄ）は図２１（ａ）に示した線分ＣＤでの固定具２３Ｄを配置した薄板２１Ｄの断面図である。

第１の支持枠部１１Ｃは、実施形態２及び３の変形例で説明した構成と同様の構成であってもよく、詳細な説明は省略する。第２の支持枠部１６Ｄは、平板状の枠形状を有する薄板１９Ｄの上面に平板状の枠形状を有する薄板１８Ｄ上に、平板状の枠形状を有する薄板２１Ｄと薄板１７Ｄとが順次積層して構成された第２の本体部１６ａを有する。また、本実施形態においては、後述するように、薄板１７Ｄ及び薄板１８Ｄの外縁部には凹部が配置され、この凹部を薄板１７Ｄと薄板１９Ｄとにより挟持することにより、ペリクル用支持枠１１１Ｄの第２の方向Ｌ２に延伸する孔５を配置することができる。本実施形態においては、薄板１７Ｄとは、第２の係合部１６ｂの位置において薄板１８Ｄと同じ形状を有する。また、本実施形態においては、フィルタ３０Ｄも第２の係合部１６ｂの位置において薄板１８Ｄと同じ形状を有する。即ち、薄板１７Ｄ、薄板１８Ｄ及びフィルタ３０Ｄは、第２の係合部１６ｂの位置において、第２の溝部１６ｈを構成する開口部を有し、開口部の形状は、平面視において第２の延在部１１ｈと概略同じ形状である。

薄板２１Ｄは、例えば、矩形の枠形状であり、枠の外縁部に接続し、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）２１ａを有する。凹部２１ａの数に特に限定はなく、ペリクルの閉空間と外部との換気に十分となるフィルタ３０Ｄのために複数の開口を設けることができる。本実施形態では、薄板１８Ｃと積層し、薄板１７Ｄと薄板１９Ｄとにより挟持される凹部２１ａが形成する孔が、ペリクル用支持枠１１１Ｄの外縁部に接続し、第２の方向Ｌ２に延伸する孔５に相当する。また、薄板２１Ｄは、凹部２１ａに隣接し、第２の溝部１６ｈが配置される位置に相当する位置に、外縁部に接続し、固定具２３Ｄを配置したときに第１の溝部１６ｇを構成する開口部２１ｂが配置される。第１の溝部１６ｇは、平面視において第１の延在部１１ｇと概略同じ形状である。薄板２１Ｄの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。

固定具２３Ｄは、開口部２１ｂの外縁部に配置することにより、開口部２１ｂとともに第１の溝部１６ｇを構成する部材である。図２１（ｂ）においては、固定具２３Ｄは矩形の平板状の部材であるが、これに限定されるものではない。固定具２３Ｄの外縁部側には、Ｌ字型の治具と係合可能な第３の係合部２４Ｄを有する。第３の係合部２４Ｄは、平面視においてＬ字型の溝部を有する。これによりＬ字型の冶具を用い容易に固定具２３Ｄの着脱（抜き差し）が可能となる。固定具２３Ｄの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。

本実施形態においては、第２の係合部１６ｂは、第２の溝部１６ｈの底部から第１の方向Ｌ１に離間して配置される固定具２３Ｄを有し、第２の溝部１６ｈは、第１の溝部１６ｇの底部と固定具２３Ｄとにより構成される。第１の支持枠部１１Ｃの第１の係合部１１ｂを、フィルタ３０Ｄの開口に通し、さらに、ペリクル用支持枠１１１Ｄの第１の方向Ｌ１に向かって第２の支持枠部１６Ｄの第１の溝部１６ｇに挿入する。固定具２３Ｄを第２の支持枠部１６Ｄの第３の方向にスライドさせることにより、薄板１５Ｃにより構成される第２の延在部１１ｈが第２の溝部１６ｈに収容され、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとを係合することができる。第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｄによりフィルタ３０Ｄを挟持することにより、ペリクル用支持枠１１１Ｄの内縁部と外縁部とを接続し、フィルタ３０Ｄが配置された通気孔１が構成される。また、本実施形態においては、固定具２３Ｄを第２の支持枠部１６Ｄから外すことにより、第１の係合部１１ｂとの係合状態が解除される。

本実施形態においては、フィルタ３０Ｄは、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、通気孔毎にフィルタを配置する必要はなく、ペリクル用支持枠１１１Ｄに簡便に取り付けることができる。また、本実施形態においては、フィルタ３０Ｄを固定するために接着剤を用いていないため、第１の係合部１１ｂと第２の係合部１６ｂとにより係合している第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｄを分離することにより、ペリクル用支持枠１１１Ｄからフィルタ３０Ｄを簡便に取り外すことができる。従来のペリクルにおいては、通気孔毎にフィルタを配置していたため、それぞれのフィルタを取り外す必要があった。本実施形態においては、フィルタ３０Ｄは、平板状の枠形状を有する１つの部材であるため、第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｄを分離すれば、ペリクル用支持枠１１１Ｄから容易に取り外すことができる。

また、一実施形態において、フィルタ３０Ｄとして新しいフィルタを第１の支持枠部１１Ｃと第２の支持枠部１６Ｄとにより再度挟持することにより、フィルタ３０Ｄを簡便に交換することができる。また、本実施形態においては、フィルタ３０Ｄを固定するために接着剤を用いていないため、接着剤からのアウトガスの発生が低減され、原版とペリクルとによって形成される空間内のＥＵＶ光が照射される領域におけるコンタミネーションが抑制される。また、接着剤からのアウトガスによる露光装置の光学系のレンズに曇りを生じさせたり、露光不良や光量不足が生じたりすることを抑制することができる。

［実施形態５］
図２２は、本発明の一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｅを示す模式図である。図２２（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｅをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｅが配置される原版の面方向に見た模式図である。図２２（ｂ）は、図２２（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｅの断面図であり、図２２（ｃ）は、図２２（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｅの断面図である。図２２においては、一例として、実施形態２で説明したペリクル用支持枠１１１Ａに天板２５Ｅを配置した例を示すが、本実施形態はこれに限定されず、上記の実施形態及び変形例で説明した何れのペリクル用支持枠にも適用可能である。

図２３は、天板２５Ｅの模式図である。図２３（ａ）は、天板２５Ｅの上面図であり、図２３（ｂ）は図２３（ａ）に示した線分ＡＢでの天板２５Ｅの断面図であり、図２３（ｃ）は図２３（ａ）に示した線分ＣＤでの天板２５Ｅの断面図である。天板２５Ｅは、平板状の枠形状を有する薄板であり、薄板１９Ａと概略同一の形状を有する。天板２５Ｅの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。図２２（ａ）では、天板２５Ｅが存在するため、上面からフィルタ３０を観察することはできないが、下層でフィルタ３０が配置される場所について、点線を用いて示している。

本実施形態においては、天板２５Ｅは、薄板１２Ａの上に接続され、孔３の上部は天板２５Ｅにより覆われる。本実施形態においては、薄板１３Ａ、薄板１２Ａ及び天板２５Ｅが順次積層することにより、孔３の第２の端部に接続し、第２の方向Ｌ２に設けられた孔７（第３の孔）を有する通気孔１を構成する。天板２５Ｅは、ペリクル膜またはペリクル膜体と接続される。実施形態５では、ペリクル膜またはペリクル膜体との接続を天板全体で行うことができるため、接続強度を高くすることができる。また、フィルタ３０が天板２５Ｅで覆われるため、露光光がフィルタ３０に当たりにくく、フィルタ３０の劣化をより抑えることができる。

［実施形態６］
図２７は、本発明の一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｆを示す模式図である。図２７（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｆをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｆが配置される原版の面方向に見た模式図である。図２７（ｂ）は、図２７（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｆの断面図であり、図２７（ｃ）は、図２７（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｆの断面図である。ペリクル用支持枠１１１Ｆは、実施形態２で説明したペリクル用支持枠１１１Ａに類似した構成を有する。したがって、ペリクル用支持枠１１１Ａと同じ又は類似した構成についての説明は省略する。ペリクル用支持枠１１１Ｆは、露光光を遮光する壁１７Ｆが、フィルタよりも内側（図１において、矢印Ｐで示したペリクルを原版に装着した場合の閉空間部分側）に配置される点で、実施形態２に示したペリクル用支持枠１１１Ａとは異なる。

ペリクル膜を通して原版に照射されたＥＵＶ光は、原版の表面で散乱・回折し、一部のＥＵＶ光はペリクル用支持枠の内壁にも照射される。ここで、図４（ｂ）及び図４（ｃ）を参照すると、フィルタ３０は端面が露出する構造となっている。このため、ペリクル用支持枠１１１Ａの内側（断面方向Ｂ及びＤ側）では、フィルタ３０の端面の露出面積は小さいものの、散乱・回折したＥＵＶ光に暴露され、光劣化を生じる可能性もある。光劣化により生じたアウトガスは、原版の表面にコンタミネーションを堆積させる懸念がある。

ペリクル用支持枠１１１Ｆにおいては、露光光を遮光する壁１７Ｆが、フィルタ３０Ｆよりも内側に配置されるため、フィルタ３０Ｆが露光光に暴露することがなく、フィルタ３０Ｆを保護することができる。図２８（ａ）は、壁１７Ｆの上面図であり、図２８（ｂ）は図２８（ａ）に示した線分ＡＢでの壁１７Ｆの断面図である。壁１７Ｆは、例えば、矩形の枠形状である。壁１７Ｆの線分ＡＢの幅は、ＥＵＶ光を遮光可能な幅であればよく、壁１７Ｆの原料のＥＵＶ光の透過率から決定することができる。一実施形態において、壁１７Ｆは、ＥＵＶ光を９０％以上、９５％以上、９８％以上又は９９％以上遮光することができる。壁１７Ｆの原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられるが、ＥＵＶ光を反射又は散乱せず、吸収する材料であることが好ましい。

壁１７Ｆの高さは、フィルタ３０Ｆが散乱・回折したＥＵＶ光に暴露されるのを防止する目的から、フィルタ３０Ｆの厚みより大きいことが好ましく、フィルタ３０Ｆの厚みと薄板１３Ｆの厚みの合計値以下である。壁１７Ｆの高さがフィルタ３０Ｆの厚みと薄板１３Ｆの厚みの合計値と等しければ、壁１７Ｆは薄板１２Ｆと薄板１７Ａとにより挟持され、切り欠き部Ｎ以外の部分では、フィルタ３０ＦがＥＵＶ光により暴露されるのを完全に防ぐことができる。また、切り欠き部Ｎにおいても、壁１７Ｆは、フィルタ３０ＦがＥＵＶ光により暴露されるのを実質的に防ぐことができる。なお、壁１７Ｆは、薄板１７Ａと一体で構成されていてもよい。

図２９は、薄板１３Ｆの模式図である。図２９（ａ）は、薄板１３Ｆの上面図であり、図２９（ｂ）は図２９（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１３Ｆの断面図であり、図２９（ｃ）は図２９（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１３Ｆの断面図である。薄板１２Ｆと薄板１７Ａとの間に壁１７Ｆを配置するため、薄板１３Ｆの幅は、薄板１７Ａの幅よりも閉空間部分側の幅が狭くなるように設定される。これ以外の構成については、薄板１３Ｆは、薄板１３Ａと同様の構成を有してもよく、詳細な説明は省略する。

図３０は、フィルタ３０Ｆの模式図である。図３０（ａ）は、フィルタ３０Ｆの上面図であり、図３０（ｂ）は図３０（ａ）に示した線分ＡＢでのフィルタ３０Ｆの断面図であり、図３０（ｃ）は図３０（ａ）に示した線分ＣＤでのフィルタ３０Ｆの断面図である。薄板１２Ｆと薄板１７Ａとの間に壁１７Ｆを配置するため、フィルタ３０Ｆの幅は、薄板１７Ａの幅よりも閉空間部分側の幅が狭くなるように設定される。これ以外の構成については、フィルタ３０Ｆは、フィルタ３０と同様の構成を有してもよく、詳細な説明は省略する。

ペリクル用支持枠１１１Ｆにおいては、第１の支持枠部は、薄板１２Ａ、薄板１３Ｆ、薄板１４Ａ及び薄板１５Ａで構成される。また、第２の支持枠部は、壁１７Ｆ、薄板１７Ａ、薄板１８Ａ及び薄板１９Ａで構成される。ペリクル用支持枠１１１Ｆにおいては、ペリクル用支持枠１１１Ａと同様に、第１の支持枠部と第２の支持枠部とによりフィルタ３０Ｆを挟持する。図５（ｄ）に示したように、第２の方向Ｌ２にスライドさせることにより、第１の係合部と第２の係合部とを係合するため、図２７（ｂ）及び図２７（ｃ）においては、壁１７Ｆと、薄板１３Ｆ及びフィルタ３０Ｆとの間に僅かな隙間を設けることにより、薄板１３Ｆ及びフィルタ３０Ｆが壁１７Ｆに衝突して発塵するのを防ぐことが好ましい。なお、フィルタ３０ＦがＥＵＶ光により暴露されるのを防ぐ観点から、発塵しない程度の距離で壁１７Ｆと、薄板１３Ｆ及びフィルタ３０Ｆとを近接させてもよい。

ペリクル用支持枠１１１Ｆにおいては、壁１７Ｆを配置することにより、フィルタ３０Ｆの劣化、及びコンタミネーションの堆積を抑制することができる。なお、図２７においては、一例として、実施形態２で説明したペリクル用支持枠１１１Ａに類似した構成を示すが、本実施形態はこれに限定されず、上記の実施形態及び変形例で説明した何れのペリクル用支持枠にも適用可能である。また、実施形態５において説明した天板２５Ｅをペリクル用支持枠１１１Ｆに配置することができる。

［実施形態７］
上述した実施形態においては、第１の支持枠部と第２の支持枠部とをスライドさせること、又は固定具を用いることにより、フィルタを挟持して固定した。実施形態７においては、第３の固定方法について説明する。図３１は、本発明の一実施形態に係るペリクル用支持枠１１１Ｇを示す模式図である。図３１（ａ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｇをペリクル膜が配置される側からペリクル用支持枠１１１Ｇが配置される原版の面方向に見た模式図である。図３１（ｂ）は、図３１（ａ）の線分ＡＢにおけるペリクル用支持枠１１１Ｇの断面図であり、図３１（ｃ）は、図３１（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル用支持枠１１１Ｇの断面図である。ペリクル用支持枠１１１Ｇは、引掛け部１９Ｇを用いて第１の支持枠部と第２の支持枠部とを固定する点で、上述した実施形態とは異なる。

図３２は、ペリクル用支持枠１１１Ｇを構成する第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇの詳細を説明する模式図である。図３２（ａ）は第１の支持枠部１１Ｇの詳細を説明する模式図であり、図３２（ｂ）は第２の支持枠部１６Ｇの詳細を説明する模式図である。また、図３２（ｃ）は、第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇとにより、フィルタ３０Ｇを挟持して固定する方法を説明する模式図であり、図３２（ｄ）は、第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇとを分離する方法を説明する模式図である。

ペリクル用支持枠１１１Ｇは、第１の支持枠部１１Ｇと、第２の支持枠部１６Ｇと、フィルタ３０Ｇと、を有する。フィルタ３０Ｇは第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇとにより挟持される。第１の支持枠部１１Ｇは、例えば、平板状の枠形状を有する薄板１２Ｇと、薄板１２Ｇの下面に配置された平板状の枠形状を有する薄板１３Ｇとが積層した構造を有する。また、第１の支持枠部１１Ｇは、第２の支持枠部１６Ｇに配置された引掛け部１９Ｇと係合するための第１の係合部１１ｍを有する。引掛け部１９Ｇは、第１の係合部１１ｍと係合するための第２の係合部１６ｍを有する。ペリクル用支持枠１１１Ｇは、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとを係合することにより、フィルタ３０Ｇを挟持して固定する。また、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとの係合を解除することにより、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとを分離して、フィルタ３０Ｇを交換することが可能である。

第１の支持枠部１１Ｇは、平板状の枠形状を有する薄板１２Ｇと平板状の枠形状を有する薄板１３Ｇが積層した構造を有する。図３２（ａ）に示したように、第１の係合部１１ｍ（線分ＣＤ）においては、薄板１２Ｇの第２の方向Ｌ２の幅は、薄板１３Ｇの第２の方向Ｌ２の幅よりも短い。第１の係合部１１ｍでの薄板１２Ｇの幅と薄板１３Ｇの幅との差は、第２の係合部１６ｍと係合可能な範囲で任意に設定可能である。

第２の支持枠部１６Ｇは、平板状の枠形状を有する薄板１９Ａの上面に平板状の枠形状を有する薄板１８Ｇ及び平板状の枠形状を有する薄板１７Ｇが順次積層して構成された第２の係合部１６ｍを有する。また、第２の支持枠部１６Ｇは、引掛け部１９Ｇを有する。引掛け部１９Ｇは、所定の長さを有する壁状の部材１９Ｇ−２と所定の長さを有する平板状の部材１９Ｇ−１で構成される。引掛け部１９Ｇは、薄板１９Ａの上面に壁状の部材１９Ｇ−２と平板状の部材１９Ｇ−１が順次積層して構成され、一実施形態において、２つの引掛け部１９Ｇが薄板１９Ａの上面に対向して配置される。換言すれば、２つの引掛け部１９Ｇは、薄板１７Ｇ及び薄板１８Ｇを挟んで配置される。図３２（ｂ）に示したように、第２の係合部１６ｍ（線分ＣＤ）においては、平板状の部材１９Ｇ−１の第２の方向Ｌ２の幅は、壁状の部材１９Ｇ−２の第２の方向Ｌ２の幅よりも長い。第２の係合部１６ｍでの平板状の部材１９Ｇ−１の幅と壁状の部材１９Ｇ−２の幅との差は、第１の係合部１１ｍと係合可能な範囲で任意に設定可能である。また、引掛け部１９Ｇの数は特には限定されず、２つの引掛け部１９Ｇを１対として、第２の支持枠部１６Ｇは２対以上、好ましくは４対以上の引掛け部１９Ｇを有する。

ここで、第１の支持枠部１１Ｇ及び第２の支持枠部１６Ｇを構成する各薄板について、さらに説明する。なお、薄板１９Ａの構成については上述した実施形態において説明したため、さらなる説明は省略する。図３３は、薄板１２Ｇの模式図である。図３３（ａ）は、薄板１２Ｇの上面図であり、図３３（ｂ）は図３３（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１２Ｇの断面図であり、図３３（ｃ）は図３３（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１２Ｇの断面図である。薄板１２Ｇは、例えば、矩形の枠形状であり、枠の内縁部（ペリクル膜が吊架される側であり、ペリクルとして使用した際に閉空間を形成する側である）に接続し、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）１２ａを有する。凹部１２ａについては、上述した実施形態において説明したため、詳細な説明は省略する。図３３（ａ）に示したように、凹部１２ａに隣接する領域は、薄板１９Ａの幅に相当する幅を有し、第１の支持枠部１１Ｇに必要な強度を付与する。また、線分ＣＤでの第１の係合部１１ｍを構成する枠の両側の部分には、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）１２ｃを有する。第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、平板状の部材１９Ｇ−１が隣接して配置されるため、凹部１２ａに隣接する領域よりも、凹部１２ｃを２つ配置した幅だけ、第２の方向Ｌ２の幅が狭く設定される。図３１（ｃ）において、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、薄板１２Ｇと平板状の部材１９Ｇ−１との間には僅かな隙間が配置されてもよい。その他の薄板１２Ｇの構成は、薄板１２Ａと同様の構成であってもよく、詳細な説明は省略する。

図３４は、薄板１３Ｇの模式図である。図３４（ａ）は、薄板１３Ｇの上面図であり、図３４（ｂ）は図３４（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１３Ｇの断面図であり、図３４（ｃ）は図３４（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１３Ｇの断面図である。薄板１３Ｇは、例えば、矩形の枠形状であり、第１の方向Ｌ１に開口した開口部１３ａを有する。開口部１３ａについては、上述した実施形態において説明したため、詳細な説明は省略する。開口部１３ａに隣接する領域は、薄板１９Ａの幅に相当する幅を有し、第１の支持枠部１１Ｇに必要な強度を付与する。また、線分ＣＤでの第１の係合部１１ｍを構成する枠の両側の部分には、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）１３ｃを有する。第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、壁状の部材１９Ｇ−２が隣接して配置されるため、開口部１３ａに隣接する領域よりも、凹部１３ｃを２つ配置した幅だけ、第２の方向Ｌ２の幅が狭く設定される。図３１（ｃ）において、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、薄板１３Ｇと壁状の部材１９Ｇ−２との間には僅かな隙間が配置されてもよい。その他の薄板１３Ｇの構成は、薄板１３Ａと同様の構成であってもよく、詳細な説明は省略する。

図３５は、フィルタ３０Ｇの模式図である。図３５（ａ）は、フィルタ３０Ｇの上面図であり、図３５（ｂ）は図３５（ａ）に示した線分ＡＢでのフィルタ３０Ｇの断面図であり、図３５（ｃ）は図３５（ａ）に示した線分ＣＤでのフィルタ３０Ｇの断面図である。フィルタ３０Ｇは、例えば、矩形の形状であり、第１の係合部１１ｍ及び第２の係合部１６ｍに対応する位置に２つの凹部３０ｃを有する。即ち、凹部３０ｃは、薄板１３Ｇの開口部１３ａが配置される領域に隣接する領域に対応するフィルタ３０Ｇの位置に配置される。第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、壁状の部材１９Ｇ−２が隣接して配置されるため、開口部１３ａが配置される領域よりも、凹部３０ｃを２つ配置した幅だけ、第２の方向Ｌ２の幅が狭く設定される。図３１（ｃ）において、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、フィルタ３０Ｇと壁状の部材１９Ｇ−２との間には僅かな隙間が配置されてもよい。フィルタ３０Ｇのその他の構成は、フィルタ３０と同様の構成であってもよく、詳細な説明は省略する。

図３６は、薄板１７Ｇの模式図である。図３６（ａ）は、薄板１７Ｇの上面図であり、図３６（ｂ）は図３６（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１７Ｇの断面図であり、図３６（ｃ）は図３６（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１７Ｇの断面図である。薄板１７Ｇは、例えば、矩形の枠形状であり、第１の方向Ｌ１に開口した開口部１７ａを有する。開口部１７ａについては、上述した実施形態において説明したため、詳細な説明は省略する。開口部１７ａに隣接する領域は、薄板１９Ａの幅に相当する幅を有し、第２の支持枠部１６Ｇに必要な強度を付与する。また、線分ＣＤで第２の支持枠部１６Ｇを構成する枠の両側の部分には、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）１７ｃを有する。第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、壁状の部材１９Ｇ−２が隣接して配置されるため、開口部１７ａに隣接する領域よりも、凹部１７ｃを２つ配置した幅だけ、第２の方向Ｌ２の幅が狭く設定される。図３１（ｃ）において、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、薄板１７Ｇと壁状の部材１９Ｇ−２との間には僅かな隙間が配置されてもよい。その他の薄板１７Ｇの構成は、薄板１７Ａと同様の構成であってもよく、詳細な説明は省略する。

図３７は、薄板１８Ｇの模式図である。図３７（ａ）は、薄板１８Ｇの上面図であり、図３７（ｂ）は図３７（ａ）に示した線分ＡＢでの薄板１８Ｇの断面図であり、図３７（ｃ）は図３７（ａ）に示した線分ＣＤでの薄板１８Ｇの断面図である。薄板１８Ｇは、例えば、矩形の枠形状であり、第１の方向Ｌ１に開口した開口部１８ａを有する。開口部１８ａについては、上述した実施形態において説明したため、詳細な説明は省略する。開口部１８ａに隣接する領域は、薄板１９Ａの幅に相当する幅を有し、第２の支持枠部１６Ｇに必要な強度を付与する。また、線分ＣＤで第２の支持枠部１６Ｇを構成する枠の両側の部分には、第２の方向に凹んだ凹部（窪み形状）１８ｃを有する。第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、壁状の部材１９Ｇ−２が隣接して配置されるため、凹部１８ａに隣接する領域よりも、凹部１８ｃを２つ配置した幅だけ、第２の方向Ｌ２の幅が狭く設定される。図３１（ｃ）において、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとが係合する際に、薄板１８Ｇと壁状の部材１９Ｇ−２との間には僅かな隙間が配置されてもよい。その他の薄板１８Ｇの構成は、薄板１８Ａと同様の構成であってもよく、詳細な説明は省略する。

図３８は、平板状の部材１９Ｇ−１の模式図である。図３８（ａ）は、平板状の部材１９Ｇ−１の上面図であり、図３８（ｂ）は図３８（ａ）に示した線分ＣＤでの平板状の部材１９Ｇ−１の断面図である。平板状の部材１９Ｇ−１は、例えば、矩形の形状であり、壁状の部材１９Ｇ−２を介して、薄板１９Ａの上面に接続し、第２の方向Ｌ２に延在する引掛け部１９Ｇの第２の係合部１６ｍを構成する。平板状の部材１９Ｇ−１は、壁状の部材１９Ｇ−２よりも第２の方向Ｌ２に所定の長さで延在する。壁状の部材１９Ｇ−２から第２の方向Ｌ２に延在する平板状の部材１９Ｇ−１の部分は、第１の係合部１１ｍとの係合に関与する。ここで、第２の方向Ｌ２に延在する平板状の部材１９Ｇ−１の部分の長さは、第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇとが係合する強度が得られる範囲で任意に設定可能である。このため、第２の方向Ｌ２に延在する平板状の部材１９Ｇ−１の部分を長くすると、第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇとの係合の確実性が高まる。平板状の部材１９Ｇ−１は、開口部１２ａが配置される薄板１２Ｇの領域に隣接する領域に配置される。平板状の部材１９Ｇ−１の数に特に限定はなく、開口部１２ａの両隣に位置する薄板１２Ｇの領域に１対ずつ配置されることが好ましい。即ち、本実施形態においては、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍが通気孔１の両側に配置されることにより、第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇとが係合する強度を高めることができ、フィルタを介して通気する際の空気漏れが少なくなる。平板状の部材１９Ｇ−１の原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。

図３９は、壁状の部材１９Ｇ−２の模式図である。図３９（ａ）は、壁状の部材１９Ｇ−２の上面図であり、図３９（ｂ）は図３９（ａ）に示した線分ＣＤでの壁状の部材１９Ｇ−２の断面図である。壁状の部材１９Ｇ−２は、例えば、矩形の形状であり、薄板１９Ａの上面に接続し、ペリクル用支持枠１１１Ｇの第１の方向Ｌ１に延在する。壁状の部材１９Ｇ−２は、第２の方向Ｌ２に延在する平板状の部材１９Ｇ−１に接続して、引掛け部１９Ｇの第２の係合部１６ｍを構成する。壁状の部材１９Ｇ−２は、開口部１３ａが配置される薄板１３Ｇの領域に隣接する領域に配置される。壁状の部材１９Ｇ−２の数に特に限定はなく、開口部１３ａの両隣に位置する薄板１３Ｇの領域に１対ずつ配置されることが好ましい。即ち、本実施形態においては、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍが通気孔１の両側に配置されることにより、第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇとが係合する強度を高めることができ、フィルタを介して通気する際の空気漏れが少なくなる。壁状の部材１９Ｇ−２の原料としては金属、ガラス、シリコンウエハ、セラミクス、樹脂が挙げられる。

図３２（ｃ）及び図３２（ｄ）を参照して、ペリクル用支持枠１１１Ｇへのフィルタ３０Ｇの着脱方法について説明する。図３２（ｃ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｇにフィルタ３０Ｇを固定する方法を説明する模式図である。第２の支持枠部１６Ｇの薄板１７Ｇの上面にフィルタ３０Ｇを配置する。このとき、フィルタ３０Ｇの凹部３０ｃは、壁状の部材１９Ｇ−２に対応する位置に配置される。したがって、凹部３０ｃが配置された位置において、フィルタ３０Ｇは、一対の壁状の部材１９Ｇ−２により挟持される。その後、第１の支持枠部１１Ｇを、第１の方向Ｌ１に向かってフィルタ３０Ｇ上に配置する。これにより、第１の支持枠部１１Ｇの凹部１３ｃが１対の平板状の部材１９Ｇ−１の間を通過し、薄板１３Ｇとフィルタ３０Ｇとが密着する。ペリクル用支持枠１１１Ｇにおいては、壁状の部材１９Ｇ−２が可撓性を有することにより、薄板１３Ｇの凹部１３ｃが１対の平板状の部材１９Ｇ−１の間を通過する際に、壁状の部材１９Ｇ−２が第２の方向Ｌ２（薄板１３Ｇの外側）に向かって撓むことにより、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとを係合させることができる。本実施形態においては、他の実施掲題で説明したスライドや固定具を用いる方式に比べ、フレームの構造が簡易になるともに、摺動動作のない固定方式であるため、発塵のリスクが低減される。

図３２（ｄ）は、ペリクル用支持枠１１１Ｇにフィルタ３０Ｇを取り外す方法を説明する模式図である。例えば、第２の係合部１６ｍを第２の方向Ｌ２（薄板１３Ｇの外側）に向かって引っ張りながら、第１の支持枠部１１Ｇを第１の方向Ｌ１に向かって持ち上げる。これにより、第１の係合部１１ｍと第２の係合部１６ｍとの係合が解除され、第１の支持枠部１１Ｇと第２の支持枠部１６Ｇを分離する。ペリクル用支持枠１１１Ｇから第１の支持枠部１１Ｇを取り外すことにより、フィルタ３０Ｇを第２の支持枠部１６Ｇから取り外して、交換することができる。

なお、本実施形態において説明したフィルタの挟持及び固定方法は、上述した他の実施形態の層構成に対しても適用可能である。

［ペリクル］
上述した各実施形態に示した支持枠にペリクル膜１０２またはペリクル枠体を配置することにより、ペリクルを構成することができる。後述するように、本発明の実施形態に係るペリクル膜１０２は非常に薄い膜であるため、ハンドリングの面から、ペリクル膜１０２の一方の面に第１の枠体を設けたペリクル枠体とし、ペリクル枠体を支持枠に配置する構成とすることが好ましい。ペリクル膜１０２またはペリクル枠体と、支持枠との接続方法は特に制限されないが、例えば、粘着シート、接着剤、接合剤、常温接合、ダイレクト接合、原子拡散接合、金属接合、溶着、ハンダ接合、熱圧着、ホットメルト、フラックス接合、面ファスナー、ファンデルワールス力、静電力、磁力、ねじ・ピン・クリップ・カシメ等の機械力で接続することができる。

図２４は、本発明の一実施形態に係るペリクル１００を示す模式図である。図２４（ａ）は、ペリクル１００の上面図であり、図２４（ｂ）は図２４（ａ）に示した線分ＡＢでのペリクル１００の断面図であり、図２４（ｃ）は、図２４（ａ）の線分ＣＤにおけるペリクル１００の断面図である。図２４においては、一例として、実施形態５で説明したペリクル用支持枠１１１Ｅに第１の枠体１０４に配置されたペリクル膜１０２を配置した例を示すが、本実施形態はこれに限定されず、上記の実施形態及び変形例で説明した何れのペリクル用支持枠にも適用可能である。

第１の枠体１０４は、略矩形の枠形状であり、金属、ガラス、シリコン、セラミクス、グラファイト、樹脂等から選択される材料で構成される。ペリクル膜１０２は、第１の枠体１０４に吊架され、第１の枠体１０４は、ペリクル膜１０２を支持する。第１の枠体１０４上にペリクル膜１０２を配置した構造体をペリクル枠体１０６と称する。ペリクル１００において、ペリクル枠体１０６は、接着層３９を介して、ペリクル用支持枠１１１Ｅの天板２５Ｅの上面に貼付される。したがって、本実施形態においては、ペリクル膜１０２の一方の面に設けられた第１の枠体１０４を介して、ペリクル用支持枠１１１Ｅにペリクル膜１０２が設けられた構成となる。本実施形態においては、支持部がペリクル膜１０２を支持する第１の枠体１０４と、ペリクル用支持枠１１１Ｃを構成する第２の枠体とを有する例を示したが、本実施形態はこれに限定されず、第１の枠体１０４を介さずに、ペリクル用支持枠１１１Ｅにペリクル膜１０２を配置してもよい。

接着層３９は、ペリクル膜または第１の枠体と、支持枠と、を接着する層である。接着層３９は、例えば、両面粘着テープ、シリコン樹脂粘着剤、アクリル系粘着剤、ポリオレフィン系粘着剤、無機系接着剤等である。ＥＵＶ露光時の真空度を保持する観点から、接着層３９は、アウトガスが少ないものが好ましい。アウトガスの評価方法として、例えば昇温脱離ガス分析装置を用いることができる。接着層３９は、ペリクル膜または第１の枠体と、支持枠との接続まえに、あらかじめ支持枠に形成されていてもよい。接着層３９は、支持枠のうち、最もペリクル膜側に配置された層の上に形成すればよい。

［ペリクル膜］
ペリクル膜の厚さ（二層以上で構成される場合には総厚）は、例えば、１０ｎｍ〜２００ｎｍとすることができ、１０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜７０ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍが特に好ましい。

ペリクル膜はＥＵＶ光の透過率が高いことが好ましく、ＥＵＶリソグラフィに用いる光（例えば、波長１３．５ｎｍの光や波長６．７５ｎｍの光）の透過率が５０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。ペリクル膜が保護層と積層される場合には、これらを含む膜の光の透過率が５０％以上であることが好ましい。

ペリクル膜の材料は、公知のＥＵＶ用ペリクル膜の材料を用いればよい。ペリクル膜の材料としては、例えば、カーボンナノチューブ、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、グラファイト、炭化ケイ素などの炭素系材料、単結晶シリコン、多結晶シリコン、非晶質シリコン、メタルシリサイドなどのシリコン系材料、芳香族ポリイミド、脂肪族ポリイミド、架橋ポリエチレン、架橋ポリスチレン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルフォン、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、ポリエチレンテレフタレート、芳香族ポリアミド、パリレンなどの高分子系材料が挙げられる。

［露光原版］
図２５は、本発明の一実施形態に係る露光原版１８１の断面の構成を示す模式図である。一例として、露光原版１８１は、ペリクル膜１０２及びペリクル用支持枠１１１を含むペリクル１００と、原版１８４と、を備える。本発明に係る露光原版１８１は、原版１８４に装着された極端紫外光リソグラフィ用のペリクル膜１０２が設けられたペリクル１００において、ペリクル用支持枠１１１の通気孔に設けられたフィルタ３０の着脱を可能にし、原版１８４へのコンタミネーションを低減することができる。図２５においては、ペリクル膜１０２及びペリクル用支持枠１１１を含むペリクル１００をパターンが形成された原版１８４の面に配置する例を示したが、本発明に係る露光原版はこれに限定されるものではなく、上述した各実施形態において説明した支持枠を有するペリクルを配置してもよい。

本発明に係るペリクルを原版に装着する方法は、特に限定されない。例えば、原版に支持枠を直接貼り付けてもよく、支持枠の一方の端面にある原版用接着剤層を介してもよく、機械的に固定する方法や磁石などの引力を利用して原版と支持枠と、を固定してもよい。原版用接着剤層は、接着層３９と同様のものを用いることができるため詳細な記載は省略する。

［ペリクルの用途］
本発明のペリクルは、ＥＵＶ露光装置内で、原版に異物が付着することを抑制するための保護部材としてだけでなく、原版の保管時や、原版の運搬時に原版を保護するための保護部材としてもよい。例えば、原版にペリクルを装着した状態（露光原版）にしておけば、ＥＵＶ露光装置から取り外した後、そのまま保管すること等が可能となる。ペリクルを原版に装着する方法には、接着剤で貼り付ける方法、機械的に固定する方法等がある。

［露光装置］
図２６は、本発明の一実施形態に係る露光装置１８０を示す模式図である。図２６において、露光原版１８１は断面図で示す。

一例として、ＥＵＶ露光装置１８０は、ＥＵＶ光を放出する光源１８２と、本実施形態の露光原版の一例である露光原版１８１と、光源１８２から放出されたＥＵＶ光を露光原版１８１に導く照明光学系１８３と、を備える。

ＥＵＶ露光装置１８０では、光源１８２から放出されたＥＵＶ光が照明光学系１８３で集光され照度が均一化され、露光原版１８１に照射される。露光原版１８１に照射されたＥＵＶ光は、原版１８４によりパターン状に反射される。

この露光原版１８１は、本実施形態の露光原版の一例である。光源１８２から放出されたＥＵＶ光がペリクル膜１０２を透過して原版１８４に照射されるように配置されている。原版１８４は、照射されたＥＵＶ光をパターン状に反射するものである。

照明光学系１８３には、ＥＵＶ光の光路を調整するための複数枚の多層膜ミラー１８９と光結合器（オプティカルインテグレーター）等が含まれる。

光源１８２及び照明光学系１８３は、公知の光源及び照明光学系を用いることができる。

ＥＵＶ露光装置１８０において、光源１８２と照明光学系１８３との間、及び照明光学系１８３と原版１８４の間には、フィルター・ウィンドウ１８５及び１８６がそれぞれ設置されている。フィルター・ウィンドウ１８５及び１８６は、飛散粒子（デブリ）を捕捉し得るものである。また、ＥＵＶ露光装置１８０は、原版１８４が反射したＥＵＶ光を感応基板１８７へ導く投影光学系１８８を備えている。投影光学系１８８は、原版１８４が反射したＥＵＶ光を感応基板１８７へ導くために、複数の多層膜ミラー１９０及び多層膜ミラー１９１を備えてもよい。

本発明の一実施形態に係る露光装置は、通気孔にフィルタが着脱可能に設けられ、極端紫外光リソグラフィ用のペリクル膜が設けられたペリクルが露光原版に接続されているため、露光装置の光学系への影響を低減することができる。

本実施形態の露光装置は、露光光（好ましくはＥＵＶ光等、より好ましくはＥＵＶ光。以下同じ。）を放出する光源と、本実施形態の露光原版と、光源から放出された露光光を露光原版に導く光学系と、を備え、露光原版は、光源から放出された露光光がペリクル膜を透過して原版に照射されるように配置されていることが好ましい。

この態様によれば、ＥＵＶ光等によって微細化されたパターン（例えば線幅３２ｎｍ以下）を形成できることに加え、異物による解像不良が問題となり易いＥＵＶ光を用いた場合であっても、異物による解像不良が低減されたパターン露光を行うことができる。

［半導体装置の製造方法］
本実施形態の半導体装置の製造方法は、光源から放出された露光光を、本実施形態の露光原版のペリクル膜を透過させて原版に照射し、原版で反射させるステップと、原版によって反射された露光光を、ペリクル膜を透過させて感応基板に照射することにより、感応基板をパターン状に露光するステップと、を有する。

本実施形態の半導体装置の製造方法によれば、異物による解像不良が問題となり易いＥＵＶ光を用いた場合であっても、異物による解像不良が低減された半導体装置を製造することができる。例えば本発明に係る露光装置を用いることで、本実施形態の半導体装置の製造方法を行うことができる。

本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造方法によると、通気孔にフィルタが着脱可能に設けられ、極端紫外光リソグラフィ用のペリクル膜が設けられたペリクルが露光原版に接続されているため、極端紫外光リソグラフィにおいて、高精細の露光を行うことができる。

１ 通気孔、３ 孔、５ 孔、７ 孔、１１ 第１の支持枠部、１１ａ 第１の本体部、１１Ａ 第１の支持枠部、１１Ｂ 第１の支持枠部、１１Ｃ 第１の支持枠部、１１Ｅ 第１の支持枠部、１１Ｇ 第１の支持枠部、１１ｂ 第１の係合部、１１ｃ 第１の延在部、１１ｄ 第２の延在部、１１ｅ 第１の延在部、１１ｆ 第２の延在部、１１ｇ 第１の延在部、１１ｈ 第２の延在部、１２Ａ 薄板、１２Ｃ−１ 薄板、１２Ｃ−２ 薄板、１２Ｆ 薄板、１２Ｇ 薄板、１２ａ 凹部（窪み形状）、１３Ａ 薄板、１３Ｃ 薄板、１３Ｆ 薄板、１３Ｇ 薄板、１３ａ 開口部、１４Ａ 薄板、１４Ｂ 薄板、１４Ｃ−１ 薄板、１４Ｃ−２ 薄板、１４Ｃ−３ 薄板、１５Ａ 薄板、１５Ｂ 薄板、１５Ｃ 薄板、１６ 第２の支持枠部、１６Ａ 第２の支持枠部、１６Ｂ 第２の支持枠部、１６Ｃ 第２の支持枠部、１６Ｄ 第２の支持枠部、１６Ｇ 第２の支持枠部、１６ａ 第２の本体部、１６ｂ 第２の係合部、１６ｃ 第１の溝部、１６ｄ 第２の溝部、１６ｅ 第１の溝部、１６ｆ 第２の溝部、１６ｇ 第１の溝部、１６ｈ 第２の溝部、１６ｌ ロック機構、１７Ａ 薄板、１７Ｂ 薄板、１７Ｃ−１ 薄板、１７Ｃ−２ 薄板、１７Ｄ 薄板、１７Ｆ 壁、１７Ｇ 薄板、１７ａ 開口部、１７ｂ 開口部、１８ 薄板、１８Ａ 薄板、１８Ｂ 薄板、１８Ｃ 薄板、１８Ｄ 薄板、１８Ｇ 薄板、１８ａ 凹部（窪み形状）、１８ｂ 開口部、１９Ａ 薄板、１９Ｄ 薄板、１９Ｇ 引掛け部、１９Ｇ−１ 平板状の部材、１９Ｇ−２ 壁状の部材、２１Ｄ 薄板、２３Ｄ 固定具、２１ａ 凹部（窪み形状）、２１ｂ 開口部、２４Ｄ 第３の係合部、２５Ｅ 天板、３０ フィルタ、３０Ｄ フィルタ、３０Ｇ フィルタ、３９ 接着層、１００ ペリクル、１０２ ペリクル膜、１０４ 第１の枠体、１０６ ペリクル枠体、１１１ ペリクル用支持枠、１１１Ａ ペリクル用支持枠、１１１Ｂ ペリクル用支持枠、１１１Ｃ ペリクル用支持枠、１１１Ｄ ペリクル用支持枠、１１１Ｅ ペリクル用支持枠、１８０ 露光装置、１８１ 露光原版、１８２ 光源、１８３ 照明光学系、１８４ 原版、１８５ フィルター・ウィンドウ、１８７ 感応基板、１８８ 投影光学系、１８９ 多層膜ミラー、１９０ 多層膜ミラー、１９１ 多層膜ミラー

Claims (17)

1. 第１の支持枠部と、第２の支持枠部と、フィルタと、を有するペリクル用支持枠であって、
   前記フィルタは平板状の枠形状を有し、前記第１の支持枠部と前記第２の支持枠部とに挟持され、
   前記第１の支持枠部は、平板状の枠形状を有する第１の本体部と、前記第１の本体部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向に突出した第１の係合部と、を有し、
   前記第２の支持枠部は、平板状の枠形状を有する第２の本体部と、前記第２の本体部の前記ペリクル用支持枠の厚み方向に設けられた凹部に配置され、前記第１の係合部と係合する第２の係合部と、を有することを特徴とするペリクル用支持枠。
2. 前記第１の係合部は、前記第１の本体部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向に延在する第１の延在部と、前記第１の延在部の前記第１の本体部とは反対側の端部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向と交差する方向に延在する第２の延在部と、を有し、
   前記第２の係合部は、前記第１の支持枠部側に位置する前記第２の支持枠部の第１の面から前記ペリクル用支持枠の厚み方向に延在する第１の溝部と、前記第１の溝部の底部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向と交差する方向に延在する第２の溝部とを有し、
   前記第２の延在部の少なくとも一部は、前記第２の溝部に収容されることを特徴とする請求項１に記載のペリクル用支持枠。
3. 前記フィルタは、前記第１の係合部及び前記第２の係合部に対応する位置に開口を有し、
   前記第１の係合部は、前記開口を貫通して、前記第２の係合部と係合することを特徴とする請求項１に記載のペリクル用支持枠。
4. 前記第２の係合部は、前記第２の溝部の底部から前記第１の面の方向に離間して配置される固定具を有し、
   前記第２の溝部は、前記第１の溝部の底部と前記固定具とにより構成されることを特徴とする請求項２に記載のペリクル用支持枠。
5. 前記固定具は、治具と係合可能な第３の係合部を有することを特徴とする請求項４に記載のペリクル用支持枠。
6. 前記ペリクル用支持枠の内縁部と外縁部とを接続し、前記フィルタが配置された通気孔をさらに有することを特徴とする請求項１に記載のペリクル用支持枠。
7. 前記通気孔は、前記フィルタが配置され、前記ペリクル用支持枠の厚み方向と略平行な第１の方向に延びる第１の孔と、
   前記第１の孔の第１の端部に接続し、前記第１の方向と交差する第２の方向に延伸し、前記内縁部又は前記外縁部に開口を有する第２の孔と、
   を有することを特徴とする請求項６に記載のペリクル用支持枠。
8. 前記通気孔は、前記第１の孔の第２の端部に接続し、前記ペリクル用支持枠の厚み方向と交差する方向に設けられた第３の孔をさらに有することを特徴とする請求項７に記載のペリクル用支持枠。
9. 複数の前記第１の係合部と、複数の前記第２の係合部と、複数の前記通気孔と、を備えることを特徴とする請求項８に記載のペリクル用支持枠。
10. 前記第１の支持枠部は、前記第１の本体部を構成する枠形状を有する薄板と、前記第１の延在部を構成する薄板と、前記第２の延在部を構成する薄板と、を含む積層体であることを特徴とする請求項２に記載のペリクル用支持枠。
11. 前記第２の支持枠部は、前記第１の溝部を構成する薄板と、前記第２の溝部を構成する薄板と、を含む積層体であることを特徴とする請求項２に記載のペリクル用支持枠。
12. 前記フィルタの前記枠形状の内側に配置された壁をさらに有することを特徴とする請求項１に記載のペリクル用支持枠。
13. 請求項１乃至１２の何れか一に記載のペリクル用支持枠と、ペリクル膜とを有することを特徴とするペリクル。
14. 請求項１３に記載のペリクルと、原版と、を有することを特徴とする露光原版。
15. 請求項１４に記載の露光原版と、光学系とを有することを特徴とする露光装置。
16. 平板状の枠形状を有する第１の本体部と、前記第１の本体部からペリクル用支持枠の厚み方向に突出した第１の係合部と、を有する第１の支持枠部を準備し、
    平板状の枠形状を有する第２の本体部と、前記第２の本体部の前記ペリクル用支持枠の厚み方向に設けられた凹部に配置され、前記第１の係合部と係合する第２の係合部と、を有する第２の支持枠部を準備し、
    平板状の枠形状を有するフィルタを準備し、
    前記フィルタを前記第１の支持枠部と前記第２の支持枠部とを挟持し、前記第１の係合部と前記第２の係合部とを係合することを特徴とするペリクル用支持枠の製造方法。
17. 前記第１の本体部を構成する薄板と、第１の延在部を構成する薄板と、第２の延在部を構成する薄板とを接続して、前記第１の本体部から前記ペリクル用支持枠の厚み方向に突出した第１の係合部を有する前記第１の支持枠部を準備し、
    第１の溝部を構成する薄板と、第２の溝部を構成する薄板と、前記第２の本体部を構成する薄板とを接続して、前記第２の係合部を有する前記第２の支持枠部を準備し、
    前記第２の延在部の少なくとも一部を前記第２の溝部に収容して、前記第１の係合部と前記第２の係合部とを係合することを特徴とする請求項１６に記載のペリクル用支持枠の製造方法。

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