TW202001414A - 防護薄膜用支撐框架、防護薄膜及防護薄膜用支撐框架的製造方法以及使用了防護薄膜的曝光原版及曝光裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種可在通氣孔中設置容易地裝卸的過濾器，且可設置極紫外光微影術用的防護薄膜用膜的支撐框架、於所述支撐框架設置有極紫外光微影術用的防護薄膜用膜的防護薄膜、及支撐框架的製造方法、以及使用上述的曝光原版及曝光裝置。本發明提供一種防護薄膜用支撐框架，具有第一支撐框架部、第二支撐框架部及過濾器，其中，所述過濾器具有平板狀的框形狀，被所述第一支撐框架部和所述第二支撐框架部夾持，所述第一支撐框架部包括：第一主體部，具有平板狀的框形狀；及第一卡合部，自所述第一主體部向所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向突出，所述第二支撐框架部包括：第二主體部，具有平板狀的框形狀；及第二卡合部，配置在所述第二主體部的設置於所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向上的凹部，且與所述第一卡合部卡合。

Description

防護薄膜用支撐框架、防護薄膜及防護薄膜用支撐框架的製造方法以及使用了防護薄膜的曝光原版及曝光裝置

本發明是有關於一種作為利用微影技術製造半導體器件等時所使用的光罩或網線（reticle）（以下，將該些亦統稱為「光罩」）、及防止塵埃附著的光罩用防塵罩的防護薄膜等。尤其，本發明是有關於一種極紫外光（Extreme Ultraviolet，EUV）微影術用的防護薄膜用支撐框架、防護薄膜及防護薄膜用支撐框架的製造方法以及使用了防護薄膜的曝光原版及曝光裝置。

半導體元件經過被稱作微影術（lithography）的步驟而製造。對於微影術而言，使用稱為掃描器或步進機的曝光裝置，將曝光光照射至描繪有電路圖案的遮罩，並將電路圖案轉印至塗佈有光阻劑的半導體晶圓。至今，微影術的波長正逐步短波長化，作為下一代微影技術，正逐步推進EUV微影術的開發。所謂EUV光，是指軟性X射線區域或真空紫外線區域的波長的光，且是指13.5 nm±0.3 nm左右的光線。EUV光易於被一切物質吸收，因而，對於EUV微影術而言，需要將曝光裝置內設為真空而進行曝光。由於EUV光容易被一切物質吸收，所以配置在防護薄膜上的防護薄膜用膜亦必須是以往沒有的奈米級的膜。

在使曝光裝置內為真空進行的EUV微影術中，由於當初考量並非必須將防護薄膜安裝於光罩，因此於當前開發的EUV曝光裝置中，用以將防護薄膜安裝於光罩的空間僅有3.0 mm左右。然而，為了在曝光裝置內確保用以安裝具有5 mm以上高度的先前的防護薄膜的空間，需要進行光學系統的設計變更，而導致EUV微影術的開發延遲。因而，需要新設計具有先前的防護薄膜的一半以下程度的高度的防護薄膜。

若曝光裝置內為真空，則產生由光罩與防護薄膜形成的封閉空間（防護薄膜的內側）、與其外側的壓力差，防護薄膜用膜可能會鬆弛、或膨起。作為所述解決手段，而考慮設置通氣孔。然而，由於防護薄膜的設置空間受到大幅度限制，因此為了防止損傷奈米級防護薄膜用膜，而需要確保經由配置於防護薄膜的框體的通氣孔的充分的通氣。於通氣孔為了防止異物混入防護薄膜的內側而需要在其中途配置過濾器，但防護薄膜的設置空間受到大幅度限制，並且框體所容許的高度亦受到大幅度限制，因此在將過濾器配置於框體方面亦要求先前所沒有的設計。

例如，專利文獻1中，自耐熱性、通氣速度（減壓時間）、異物捕集效率的觀點出發，記載了一種金屬製或陶瓷製的，並且用通過焊接而與防護薄膜框架連續一體化的過濾器覆蓋通氣孔的EUV曝光用防護薄膜。 [現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2017-116697號公報

[發明所欲解決之課題] 覆蓋通氣孔的過濾器由於EUV光的曝光而劣化，因此需要更換。不易更換與防護薄膜框架一體化的過濾器，期望一種可簡便地更換過濾器的防護薄膜。

本發明解決所述問題，其目的在於提供一種可在通氣孔中設置容易地裝卸的過濾器，且可設置極紫外光微影術用的防護薄膜用膜的支撐框架、於所述支撐框架設置有極紫外光微影術用的防護薄膜用膜的防護薄膜、及支撐框架的製造方法、以及使用所述支撐框架的曝光原版及曝光裝置。 [解決課題之手段]

本發明的一實施方式的防護薄膜用支撐框架包括：第一支撐框架部、第二支撐框架部及過濾器，其中所述過濾器具有平板狀的框形狀，被所述第一支撐框架部和所述第二支撐框架部夾持，所述第一支撐框架部包括：第一主體部，具有平板狀的框形狀；及第一卡合部，自所述第一主體部向所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向突出，所述第二支撐框架部包括：第二主體部，具有平板狀的框形狀；及第二卡合部，配置在所述第二主體部的設置於所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向上的凹部，且與所述第一卡合部卡合。

本發明的一實施方式中，可為：所述第一卡合部包括：第一延伸部，自所述第一主體部向所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向延伸；以及第二延伸部，自所述第一延伸部的與所述第一主體部相反一側的端部向與所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向交叉的方向延伸，所述第二卡合部包括：第一槽部，自位於所述第一支撐框架部側的所述第二支撐框架部的第一面向所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向延伸；以及第二槽部，自所述第一槽部的底部向與所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向交叉的方向延伸，且所述第二延伸部的至少一部分收容於所述第二槽部。

本發明的一實施方式中，可為：所述過濾器在與所述第一卡合部及所述第二卡合部對應的位置具有開口，所述第一卡合部貫通所述開口而與所述第二卡合部卡合。

本發明的一實施方式中，可為：所述第二卡合部具有固定件，所述固定件在所述第一面的方向上與所述第二槽部的底部分離配置，所述第二槽部包括所述第一槽部的底部與所述固定件。

本發明的一實施方式中，可為：所述固定件具有能夠與夾具卡合的第三卡合部。

本發明的一實施方式中，可為：更具有通氣孔，所述通氣孔連接所述防護薄膜用支撐框架的內緣部和外緣部，並配置有所述過濾器。

本發明的一實施方式中，可為：所述通氣孔包括：第一孔，配置有所述過濾器，並沿與所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向大致平行的第一方向延伸；以及第二孔，與所述第一孔的第一端部連接，沿與所述第一方向交叉的第二方向延伸，在所述內緣部或所述外緣部具有開口。

本發明的一實施方式中，可為：所述通氣孔更具有第三孔，所述第三孔與所述第一孔的第二端部連接，並設置於與所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向交叉的方向上。

本發明的一實施方式中，可為：具備多個所述第一卡合部、多個所述第二卡合部、及多個所述通氣孔。

本發明的一實施方式中，可為：所述第一支撐框架部是包含如下薄板的積層體：構成所述第一主體部的具有框形狀的薄板；構成所述第一延伸部的薄板；以及構成所述第二延伸部的薄板。

本發明的一實施方式中，可為：所述第二支撐框架部是包含如下薄板的積層體：構成所述第一槽部的薄板；構成所述第二槽部的薄板。

本發明的一實施方式中，可為：更具有配置於所述過濾器的所述框形狀的內側的壁。

本發明的一實施方式中，提供一種防護薄膜，所述防護薄膜具有所述任一項記載的防護薄膜用支撐框架和防護薄膜用膜。

本發明的一實施方式中，提供一種曝光原版，具有所述防護薄膜和原版。

本發明的一實施方式中，提供一種曝光裝置，具有所述曝光原版和光學系統。

本發明的一實施方式中，提供一種防護薄膜用支撐框架的製造方法，即準備第一支撐框架部，準備第二支撐框架部，準備具有平板狀的框形狀的過濾器，由所述第一支撐框架部與所述第二支撐框架部夾持所述過濾器，使所述第一卡合部與所述第二卡合部卡合，其中所述第一支撐框架部包括：第一主體部，具有平板狀的框形狀；以及第一卡合部，自所述第一主體部向防護薄膜用支撐框架的厚度方向突出，所述第二支撐框架部包括：第二主體部，具有平板狀的框形狀；以及第二卡合部，配置於所述第二主體部的設置於所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向上的凹部，並與所述第一卡合部卡合。

本發明的一實施方式中，可為：準備所述第一支撐框架部，所述第一支撐框架部將構成所述第一主體部的薄板、構成第一延伸部的薄板、及構成第二延伸部的薄板連接，且包括自所述第一主體部向所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向突出的第一卡合部，準備所述第二支撐框架部，所述第二支撐框架部將構成第一槽部的薄板、構成第二槽部的薄板、構成所述第二主體部的薄板連接，且包括所述第二卡合部，將所述第二延伸部的至少一部分收容於所述第二槽部，使所述第一卡合部與所述第二卡合部卡合。 [發明的效果]

根據本發明，提供一種可在通氣孔中設置容易地裝卸的過濾器，且可設置極紫外光微影術用的防護薄膜用膜的支撐框架、於所述支撐框架設置有極紫外光微影術用的防護薄膜用膜的防護薄膜、及支撐框架的製造方法、以及使用所述的曝光原版及曝光裝置。

另外，在一實施方式中，由於在過濾器的固定中不需要接著劑，所以減少了接著劑的釋氣（outgas）的產生，抑制了由原版和防護薄膜形成的空間內的照射EUV光的區域中的污染。另外，能夠抑制因來自接著劑的釋氣而在曝光裝置的光學系統的透鏡上產生模糊、或產生曝光不良或光量不足的情況。

以下，參照圖式對本發明的實施方式進行說明。然而，本發明能夠以多種不同的形態來實施，而並非限定於以下所例示的實施方式的記載內容而解釋。另外，圖式為使說明更加明確，與實際形態相比較，雖有時將各部分的寬度、厚度、形狀等示意性表示，但其終極而言僅為一例，並非限定本發明的解釋。另外，在本說明書及各圖中，對與關於已出現的圖而所述的要素相同的要素，標注相同的符號，有時適當省略詳細的說明。

[定義] 在本說明書中，於某構件或區域設為在其他構件或區域的「上（或下）」的情況下，只要無特別限定，所述情況不僅包含位於其他構件或區域的正上方（或正下方）的情況，亦包含位於其他構件或區域的上方（或下方）的情況，即亦包含在其他構件或區域的上方（或下方）其間含有其他構成要素的情況。

在本說明書中，所謂極紫外光（EUV光）是指波長5 nm以上、30 nm以下的光。EUV光的波長較佳為5 nm以上、14 nm以下。

在本說明書中，所謂防護薄膜意指具有防護薄膜用膜、以及支撐部的膜，其中所述支撐部設置於防護薄膜用膜的一個面、支撐防護薄膜用膜且與原版連接。所謂防護薄膜用膜意指用於防護薄膜的薄膜。支撐部至少包含與原版連接的支撐框架。支撐框架具有通氣孔。通氣孔是在將防護薄膜配置於原版時，可實現由防護薄膜與原版形成的封閉空間的內側與外側通氣的孔。於通氣孔內部配置有過濾器。支撐框架是在通氣孔內部配置有過濾器的框體。支撐部既可為利用支撐框架懸掛防護薄膜用膜的構件，亦可更具有與防護薄膜用膜及支撐框架連接的其他框體。將在框體懸掛著防護薄膜用膜而成的構造物稱為防護薄膜框體。因而，所謂防護薄膜，既可定義為將防護薄膜用膜與支撐部連接而成的構造體，亦可定義為將防護薄膜框體與支撐框架連接而成的構造體。

本說明書中，「面」不限於平面，包括曲面。

[本發明中所發現的現有技術的問題點] 在將使用EUV防護薄膜的微影術裝置內設為真空時，若設置於所述防護薄膜的支撐部的過濾器的面積小，則空氣不易穿過過濾器，從而為了將直至防護薄膜的內部為止設為真空而比較耗費時間。專利文獻1所述的EUV曝光用防護薄膜中，將金屬製或陶瓷製的過濾器與防護薄膜框架藉由焊接而連續地一體化，以覆蓋通氣孔，因此解決了該問題。另一方面，覆蓋通氣孔的過濾器由於EUV光的曝光而劣化，因此需要更換，但難以更換與防護薄膜框架一體化的過濾器。另外，如以往的非EUV曝光用防護薄膜般，在使用有機系接著劑將過濾器固定在防護薄膜框架上的情況下，雖然可以將過濾器自防護薄膜框架上剝離，但在以真空化進行曝光的EUV曝光用防護薄膜中，有時會自接著劑中產生釋氣。釋氣使光罩的表面產生堆積物，或使曝光裝置的光學系統的透鏡產生模糊，產生曝光不良或光量不足。另外，在用一個過濾器覆蓋一個通氣孔的以往的防護薄膜中，過濾器的更換作業繁瑣。

[實施方式1] 圖1（a）～圖1（c）是本發明一實施方式的防護薄膜用支撐框架111的示意圖。圖1（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111的原版（遮罩）的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111的示意圖。再者，「原版的面方向」是與原版的面交叉的方向，在本實施方式中，是與原版的面大致正交的方向。圖1（b）是圖1（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111的剖面圖，圖1（c）是圖1（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111的剖面圖。圖2（a）～圖2（d）是詳細說明構成防護薄膜用支撐框架111的第一支撐框架部11和第二支撐框架部16的示意圖。圖2（a）是詳細說明第一支撐框架部11的示意圖，圖2（b）是詳細說明第二支撐框架部16的示意圖。另外，圖2（c）及圖2（d）是說明藉由第一支撐框架部11和第二支撐框架部16夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。另外，圖3（a）～圖3（c）是針對使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合的方法，自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111的原版的面方向，在位於第一支撐框架部11側的第二支撐框架部16的第一面a觀察防護薄膜用支撐框架111的示意圖。

防護薄膜用支撐框架111包括第一支撐框架部11、第二支撐框架部16、以及過濾器30。過濾器30具有平板狀的框形狀。另外，過濾器30被第一支撐框架部11和第二支撐框架部16夾持。防護薄膜用支撐框架111中，通氣孔1包括：孔3（亦稱為第一孔），在防護薄膜用支撐框架111的內側（在將防護薄膜安裝到原版上的情況下形成封閉空間的一側。再者，對於將防護薄膜安裝在原版上時的封閉空間部分，用箭頭P表示。），沿防護薄膜用支撐框架111的厚度方向L1（與防護薄膜用膜的面方向交叉的方向，且本實施方式中是與防護薄膜用膜的面方向大致正交的方向。以下，亦稱為第一方向）延伸；及孔5（亦稱為第二孔），與孔3連接，且沿與第一方向L1交叉的第二方向L2（與防護薄膜用膜的面方向大致平行的方向）延伸。孔3在防護薄膜用支撐框架111的內緣部具有開口，孔5向封閉空間部分P的外部延伸，在防護薄膜用支撐框架111的外緣部具有開口。

如圖1（a）及圖1（b）所示，為了配置過濾器30，作為一實施方式，第一支撐框架部11具有切口部N，該切口部N具有將上表面的一部分切除的階梯狀構造。本實施方式中，由於藉由第一支撐框架部11和第二支撐框架部16夾持過濾器30而將其固定在防護薄膜用支撐框架111上，故藉由在第一支撐框架部11上配置切口部N，可以在防護薄膜用支撐框架111的內緣部配置孔3。另外，如後所述，藉由將防護薄膜用膜或防護薄膜框體配置在防護薄膜用支撐框架111的上表面，可以得到防護薄膜。因此，在本發明的一實施方式的防護薄膜中，過濾器30與防護薄膜用膜分離配置。

第一支撐框架部11包括：第一主體部11a，具有平板狀的框形狀；以及第一卡合部11b，自第一主體部11a向防護薄膜用支撐框架111的厚度方向L1突出。第二支撐框架部16包括：第二主體部16a，具有平板狀的框形狀；以及第二卡合部16b，配置於第二主體部16a的設置於防護薄膜用支撐框架111的第一方向L1的凹部，且與第一卡合部11b卡合。

第一卡合部11b包括：第一延伸部11c，自第一主體部11a沿防護薄膜用支撐框架111的第一方向L1延伸；以及第二延伸部11d，自第一延伸部11c的與第一主體部11a相反一側的端部向防護薄膜用支撐框架111的與第一方向L1交叉的第二方向L2延伸。第二卡合部16b包括：第一槽部16c，自位於第一支撐框架部11側的第二支撐框架部16的第一面a朝防護薄膜用支撐框架111的第一方向L1延伸；以及第二槽部16d，自第一槽部16c的底部向防護薄膜用支撐框架111的與第一方向L1交叉的第二方向L2延伸。第二延伸部11d的至少一部分被收容在第二槽部16d。

根據本實施方式的第一支撐框架部11和第二支撐框架部16可以藉由例如鑄造或射出成形來形成，但是不限於此。例如，可將第一卡合部11b連接於第一主體部11a，形成第一支撐框架部11。另外，亦可以藉由對平板狀的框形狀的構件進行蝕刻來形成第二支撐框架部16。作為第一支撐框架部11和第二支撐框架部16的材料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂等。

過濾器30在與第一卡合部11b及第二卡合部16b對應的位置具有開口b，第一卡合部11b貫通開口b，與第二卡合部16b卡合。此種卡合可以藉由使第一支撐框架部11的第一卡合部11b穿過過濾器30的開口b，進而朝向防護薄膜用支撐框架111的第一方向L1插入第二支撐框架部16的第一槽部16c，在第一卡合部11b到達第二支撐框架部16的底部的時刻，使第一支撐框架部11向防護薄膜用支撐框架111的與第一方向L1交叉的第二方向L2滑動來進行。此時，由於第一主體部11a、過濾器30及第二主體部16a為具有相同或大致相同寬度的框形狀，故可一體化而構成防護薄膜用支撐框架111。本實施方式中，過濾器30是具有平板狀的框形狀的一個構件，故不需要在每個通氣孔中配置過濾器，而能夠簡便地安裝在防護薄膜用支撐框架111上。如此，將防護薄膜用支撐框架111的內緣部與外緣部連接，構成配置有過濾器30的通氣孔1。

過濾器30可以利用高效率空氣微粒過濾器（High efficiency particulate air Filter，HEPA）、超低滲透空氣過濾器（Ultra Low Penetration Air Filter，ULPA）等薄膜過濾器（membrane filter）、不織布過濾器、將碳奈米管或纖維素（cellulose）等纖維予以積層的過濾器、陶瓷過濾器、玻璃過濾器、金屬燒結過濾器、中空紙過濾器等。本發明的一實施方式的防護薄膜用支撐框架111即使在過濾器30的通氣阻力高的情況下，由於可擴大通氣口的面積，因此可減少進行抽真空的時間，過濾器30較佳為具有下述特性的過濾器，即：初始壓力損失為100 Pa以上、550 Pa以下，對粒徑為0.15 µm以上、0.3 µm以下的粒子而言粒子捕集率為99.7%以上、100%以下。另外，於設置有多個通氣孔1的情況下，位於多個通氣孔1的過濾器30的合計面積，即對防護薄膜的內側與外側的換氣有效的過濾器30的合計面積較佳為100 mm² 以上、2000 mm² 以下。再者，關於該過濾器的說明在各實施方式中為共通，因此下文中省略說明。

在防護薄膜用支撐框架111中，藉由第一支撐框架部11和第二支撐框架部16來夾持過濾器30，使第一卡合部11b和第二卡合部16b卡合，從而固定過濾器30。本實施方式中，為了固定過濾器30而不使用接著劑，所以藉由將利用第一卡合部11b和第二卡合部16b而卡合的第一支撐框架部11和第二支撐框架部16分離，能夠簡便地將過濾器30自防護薄膜用支撐框架111上拆下。即，藉由使第一支撐框架部11向與第二方向L2相反側的方向滑動，或者使第二支撐框架部16向第二方向L2滑動，來解除第一卡合部11b與第二卡合部16b的卡合。此後，藉由使第一支撐框架部11向與第一方向L1相反側的方向抬起，或者使第二支撐框架部16向第一方向L1下降，來使第一支撐框架部11與第二支撐框架部16分離。

在以往的防護薄膜中，由於在每個通氣孔上配置有過濾器，所以需要將各個過濾器拆下。本實施方式中，由於過濾器30是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以只有將第一支撐框架部11與第二支撐框架部16分離，則可容易地自防護薄膜用支撐框架111拆下。

另外，在一實施方式中，藉由利用第一支撐框架部11和第二支撐框架部16再次夾持作為過濾器30的新的過濾器，能夠簡便地更換過濾器30。另外，本實施方式中，並未為了固定過濾器30而使用接著劑，所以減少了接著劑的釋氣的產生，抑制了在由原版和防護薄膜形成的空間內的照射EUV光的區域中的污染。另外，能夠抑制因來自接著劑的釋氣而使曝光裝置的光學系統的透鏡產生模糊、或產生曝光不良或光量不足的情況。

防護薄膜用支撐框架111可藉由如下步驟來製造，即準備第一支撐框架部11，該第一支撐框架部11包括：第一主體部11a，具有平板狀的框形狀；以及第一卡合部11b，自第一主體部11a向防護薄膜用支撐框架111的厚度方向突出，準備第二支撐框架部16，該第二支撐框架部16包括：第二主體部16a，具有平板狀的框形狀；以及第二卡合部16b，配置於第二主體部16a的設置於防護薄膜用支撐框架111的厚度方向上的凹部，並與第一卡合部11b卡合，準備具有平板狀的框形狀的過濾器30，將過濾器30夾持於第一支撐框架部11與第二支撐框架部16之間，使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合。

[實施方式2] 在所述的實施方式1中，表示了使用將第一主體部11a和第一卡合部11b一體成型，或者在第一主體部11a上連接有第一卡合部11b的第一支撐框架部11的例子，但本發明的防護薄膜用支撐框架及防護薄膜不限於此。作為實施方式2，對積層多個板狀的構件而構成第一支撐框架部及第二支撐框架部的例子進行說明。以下，對於與實施方式1不同的構成，特別進行說明，對於與實施方式1相同的構成，省略說明。

圖4（a）～圖4（C）是本發明一實施方式的防護薄膜用支撐框架111A的示意圖。圖4（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111A的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111A的示意圖。圖4（b）是圖4（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111A的剖面圖，圖4（c）是圖4（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111A的剖面圖。圖5（a）～圖5（d）是詳細說明構成防護薄膜用支撐框架111A的第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A的示意圖。圖5（a）是詳細說明第一支撐框架部11A的示意圖，圖5（b）是詳細說明第二支撐框架部16A的示意圖。另外，圖5（c）及圖5（d）是說明藉由第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。

防護薄膜用支撐框架111A包括第一支撐框架部11A、第二支撐框架部16A、以及過濾器30。過濾器30被第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A夾持。第一支撐框架部11A例如具第一主體部11a，該第一主體部11a藉由積層具有平板狀的框形狀的薄板12A和配置在薄板12A的下表面的具有平板狀的框形狀的薄板13A而構成。另外，本實施方式中，第一支撐框架部11A的切口部N是藉由在薄板13A的上表面配置薄板12A而構成，可在防護薄膜用支撐框架111A的內緣部配置沿第一方向L1延伸的孔3。

第一支撐框架部11A包括第一卡合部11b，該第一卡合部11b是積層薄板14A與薄板15A而構成，所述薄板14A自薄板13A的下表面向防護薄膜用支撐框架111A的第一方向L1延伸，所述薄板15A配置於薄板14A的下表面，自薄板14A向防護薄膜用支撐框架111A的與第一方向L1交叉的第二方向L2延伸。本實施方式中，自第一主體部11a向防護薄膜用支撐框架111A的第一方向L1延伸的第一延伸部11c由薄板14A構成。另外，自第一延伸部11c的與第一主體部11a的相反側的端部沿第二方向L2延伸的第二延伸部11d由薄板15A構成。

第二支撐框架部16A包括第二主體部16a，該第二主體部16a藉由於具有平板狀的框形狀的薄板19A的上表面依次積層具有平板狀的框形狀的薄板18A和具有平板狀的框形狀的薄板17A而構成。另外，本實施方式中，如後所述，在薄板18A的外緣部配置凹部，藉由利用薄板17A和薄板19A夾持該凹部，可以配置在防護薄膜用支撐框架111A的第二方向L2上延伸的孔5。

在薄板17A上配置第一槽部16c，在薄板18A上配置第二槽部16d。藉由在薄板19A的上表面依次積層薄板18A及薄板17A，在第一方向L1延伸的第一槽部16c和在第二方向L2延伸的第二槽部16d重疊，從而在第二支撐框架部16A形成凹部。該凹部作為與第一卡合部11b卡合的第二卡合部16b發揮作用。第二延伸部11d的至少一部分被收容在第二槽部16d，從而使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合。

此處，對構成第一支撐框架部11A及第二支撐框架部16A的各薄板進一步進行說明。圖6（a）～圖6（c）是薄板12A的示意圖。圖6（a）是薄板12A的俯視圖，圖6（b）是圖6（a）所示的線段AB處的薄板12A的剖面圖，圖6（c）是圖6（a）所示的線段CD處的薄板12A的剖面圖。薄板12A例如為矩形的框形狀，具有凹部（凹陷形狀）12a，該凹部12a與框的內緣部（防護薄膜用膜被懸掛的一側，在作為防護薄膜使用時形成封閉空間的一側）連接，並向第二方向凹陷。凹部12a的數量並無特別限定，可以為了充分進行防護薄膜的封閉空間與外部的換氣的過濾器30而設置多個凹部12a。如圖6（c）所示，與凹部12a鄰接的區域具有與第一主體部11a的寬度相當的寬度，對第一支撐框架部11A賦予必要的強度。作為薄板12A的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。本實施方式中，凹部12a形成的開口相當於第一方向L1的孔。

圖7（a）～圖7（c）是薄板13A的示意圖。圖7（a）是薄板13A的俯視圖，圖7（b）是圖7（a）所示的線段AB處的薄板13A的剖面圖，圖7（c）是圖7（a）所示的線段CD處的薄板13A的剖面圖。薄板13A例如為矩形的框形狀，具有在第一方向L1上開口的開口部13a。凹部12a和開口部13a的至少一部分重疊，構成沿第一方向L1延伸的孔3。開口部13a的數量沒有特別限定，可以設置與凹部12a對應的數量。如圖7（c）所示，與開口部13a鄰接的區域具有與第一主體部11a的寬度相當的寬度，對第一支撐框架部11A賦予必要的強度。作為薄板13A的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。

圖8（a）及圖8（b）是薄板14A的示意圖。圖8（a）是薄板14A的俯視圖，圖8（b）是圖8（a）所示的線段CD處的薄板14A的剖面圖。薄板14A例如是矩形的形狀，與薄板13A的下表面連接，構成自第一主體部11a沿防護薄膜用支撐框架111A的第一方向L1延伸的第一延伸部11c。薄板14A配置在與配置有開口部13a的薄板13A的區域鄰接的區域。較佳為薄板14A的數量沒有特別限定，配置在位於開口部13a的兩鄰的薄板13A的區域。即，本實施方式中，藉由將第一卡合部11b和第二卡合部16b配置在通氣孔1的兩側，能夠提高第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A卡合的強度，減少經由過濾器通氣時的漏氣。作為薄板14A的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。

圖9（a）及圖9（b）是薄板15A的示意圖。圖9（a）是薄板15A的俯視圖，圖9（b）是圖9（a）所示的線段CD處的薄板15A的剖面圖。薄板15A例如是矩形的形狀，與薄板14A的下表面連接，構成沿防護薄膜用支撐框架111A的第二方向L2延伸的第二延伸部11d。因此，薄板15A在第二方向L2上比薄板14A延伸規定的長度。自薄板14A向第二方向L2延伸的薄板15A的部分參與與第二卡合部16b的卡合。此處，在第二方向L2上延伸的薄板15A的部分的長度可以在能夠獲得第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A卡合的強度的範圍內任意設定。如果延長沿第二方向L2延伸的薄板15A的部分，則第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A的卡合的可靠性提高。另一方面，若在用第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A夾持並固定過濾器30時，第一支撐框架部11A與過濾器30接觸而向第二方向L2移動的距離變長，則有可能由於第一支撐框架部11A和過濾器30的摩擦而自過濾器30產生塵埃。對薄板15A的數量沒有特別限定，以與薄板14A的數量對應的數量配置薄板15A。作為薄板15A的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。

圖10（a）～圖10（c）是過濾器30的示意圖。圖10（a）是過濾器30的俯視圖，圖10（b）是圖10（a）所示的線段AB處的過濾器30的剖面圖，圖10（c）是圖10（a）所示的線段CD處的過濾器30的剖面圖。過濾器30例如是矩形的形狀，在與第一卡合部11b及第二卡合部16b對應的位置具有開口b。即，開口b配置在與薄板13A的配置開口部13a的區域鄰接的區域對應的過濾器30的位置。過濾器30中，作為防護薄膜用支撐框架111A的過濾器發揮作用的是與通氣孔1對應的部分。其他的過濾器30的構成可以是與實施方式1中說明的構成相同的構成，省略詳細的說明。

圖11（a）～圖11（c）是薄板17A的示意圖。圖11（a）是薄板17A的俯視圖，圖11（b）是圖11（a）所示的線段AB處的薄板17A的剖面圖，圖11（c）是圖11（a）所示的線段CD處的薄板17A的剖面圖。薄板17A例如為矩形的框形狀，具有在第一方向L1上開口的開口部17a、及與開口部17a鄰接地配置的開口部17b。開口部17a配置在與薄板13A的開口部13a對應的位置，與開口部13a一起構成沿第一方向L1延伸的孔3。另外，開口部17b與沿第一方向L1延伸的第一槽部16c對應，構成第二卡合部16b。開口部17a的數量沒有特別限定，且可配置於與配置在第一支撐框架部11A的第一卡合部11b對應的位置。作為薄板17A的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。

圖12（a）～圖12（c）是薄板18A的示意圖。圖12（a）是薄板18A的俯視圖，圖12（b）是圖12（a）所示的線段AB處的薄板18A的剖面圖，圖12（c）是圖12（a）所示的線段CD處的薄板18A的剖面圖。薄板18A例如為矩形的框形狀，具有凹部（凹陷形狀）18a，該凹部18a與框的外緣部（在作為防護薄膜使用時未形成封閉空間的一側）連接，並向第二方向凹陷。凹部18a的數量並無特別限定，可以為了充分進行防護薄膜的封閉空間與外部的換氣的過濾器30而設置多個開口。本實施方式中，由薄板17A和薄板19A夾持的凹部18a所形成的孔相當於與防護薄膜用支撐框架111A的外緣部（與防護薄膜用支撐框架111A的內側相反的一側，在作為防護薄膜使用時不形成封閉空間的一側）連接，並向第二方向L2延伸的孔5。另外，薄板18A具有開口部18b，該開口部18b以較開口部17a大的規定寬度在第二方向L2上開口。開口部18b由薄板17A和薄板19A夾持，藉此構成沿第二方向L2延伸的第二槽部16d。第一槽部16c和第二槽部16d連接，構成第二卡合部16b。再者，薄板18A自身的形狀亦可以根據所希望的框體的形狀而適當設定形狀。自開口部17a向第二方向L2延伸的開口部18b的部分參與與第一合部11b的卡合。此處，在第二方向L2上延伸的開口部18b的部分的寬度可以在能夠獲得第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A卡合的強度的範圍內任意設定。如果延長沿第二方向L2延伸的開口部18b的部分的寬度，則第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A的卡合的可靠性提高。另一方面，若在用第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A夾持並固定過濾器30時，第一支撐框架部11A與過濾器30接觸而向第二方向L2移動的距離變長，則由於第一支撐框架部11A和過濾器30的摩擦而自過濾器30產生塵埃。作為薄板18A的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。

圖13（a）～圖13（c）是薄板19A的示意圖。圖13（a）是薄板19A的俯視圖，圖13（b）是圖13（a）所示的線段AB處的薄板19A的剖面圖，圖13（c）是圖13（a）所示的線段CD處的薄板19A的剖面圖。薄板19A在防護薄膜用支撐框架111A中作為底板發揮作用，例如為矩形的框形狀，但可根據所希望的框體的形狀適當設定形狀。作為薄板19A的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。再者，所述的各薄板可以組合分別由同種材質形成的薄板，亦可以組合分別由不同的材質形成的薄板，還可以組合一部分由共同的材質形成的薄板。

本實施方式中，各薄板的固定只要被固定即可，並無特別限制。作為固定方法，例如可舉出黏著片材、接著劑、接合劑、常溫接合、直接接合、原子擴散接合、金屬接合、熔接、焊料接合、熱壓接、熱熔接（hotmelt）、助焊劑（flux）接合、面扣件、螺釘/銷/夾子/鉚接等機械固定、利用磁力夾入而固定的方法等。

過濾器30向防護薄膜用支撐框架111A的裝卸可以藉由實施方式1中說明的方法進行。可以藉由使第一支撐框架部11A的第一卡合部11b穿過過濾器30的開口b，進而朝向防護薄膜用支撐框架111A的第一方向L1插入第二支撐框架部16A的第一槽部16c，在第一卡合部11b到達第二支撐框架部16A的底部的時刻，使第一支撐框架部11A向防護薄膜用支撐框架111A的與第一方向L1交叉的第二方向L2滑動，來使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合。藉由第一支撐框架部11A與第二支撐框架部16A夾持過濾器30，將防護薄膜用支撐框架111A的內緣部與外緣部連接，構成配置有過濾器30的通氣孔1。本實施方式中，過濾器30是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以不需要在每個通氣孔中配置過濾器，而能夠簡便地安裝在防護薄膜用支撐框架111A上。另外，本實施方式中，並未為了固定過濾器30而使用接著劑，所以藉由將利用第一卡合部11b和第二卡合部16b而卡合的第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A分離，能夠簡便地將過濾器30自防護薄膜用支撐框架111A上拆下。在以往的防護薄膜中，由於在每個通氣孔中配置有過濾器，所以需要將各個過濾器拆下。本實施方式中，過濾器30是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以只要將第一支撐框架部11A與第二支撐框架部16A分離，則可容易地自防護薄膜用支撐框架111A拆下。

另外，在一實施方式中，藉由利用第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A再次夾持作為過濾器30的新的過濾器，能夠簡便地更換過濾器30。另外，本實施方式中，並未為了固定過濾器30而使用接著劑，所以減少了接著劑的釋氣的產生，抑制了在由原版和防護薄膜形成的空間內的照射EUV光的區域中的污染。另外，能夠抑制因來自接著劑的釋氣而使曝光裝置的光學系統的透鏡產生模糊、或產生曝光不良或光量不足的情況。

再者，本實施方式不限於此，可相對於第二方向L2，將配置第一支撐框架部11A的第一卡合部11b的方向和配置第二卡合部16b的方向配置為相反方向。即，可以將使第一卡合部11b和第二卡合部16b卡合時的第二方向L2上的滑動方向、與解除第一卡合部11b和第二卡合部16b的卡合時的第二方向L2上的滑動方向設定為與實施方式2的第二方向L2相反的方向。另外，在夾持過濾器30時，也可以將使第一支撐框架部11A相對於第二支撐框架部16A滑動的方向設定為第一方向L1。

[實施方式3] 所述實施方式中，藉由使第一支撐框架部11向一個方向滑動，使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合，藉由使第一支撐框架部11向相反方向滑動，來解除第一卡合部11b與第二卡合部16b的卡合。本實施方式中，對藉由使第一支撐框架部11向兩個方向依次滑動來進行鎖定的方法進行說明。

圖14（a）～圖14（c）是本發明一實施方式的防護薄膜用支撐框架111B的示意圖。圖14（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111B的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111B的示意圖。圖14（b）是圖14（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111B的剖面圖，圖14（c）是圖14（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111B的剖面圖。圖15（a）～圖15（d）是詳細說明構成防護薄膜用支撐框架111B的第一支撐框架部11B和第二支撐框架部16B的示意圖。圖15（a）是詳細說明第一支撐框架部11B的示意圖，圖15（b）是詳細說明第二支撐框架部16B的示意圖。另外，圖15（c）及圖15（d）是說明藉由第一支撐框架部11B和第二支撐框架部16B夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。另外，圖16（a）～圖16（d）是針對使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合的方法，自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111B的原版的面方向，在位於第一支撐框架部11B側的第二支撐框架部16B的第一面a觀察防護薄膜用支撐框架111B的示意圖。

本實施方式中，由具有L字型的開口部的薄板17B構成第一槽部16e，由具有L字型的開口部的薄板18B構成第二槽部16f。藉由將第二槽部16f連接於第一槽部16e，構成第二卡合部16b。防護薄膜用支撐框架111B包括第一支撐框架部11B、第二支撐框架部16B、以及過濾器30。過濾器30被第一支撐框架部11B和第二支撐框架部16B夾持。第一支撐框架部11B例如具有第一主體部11a，該第一主體部11a藉由積層具有所述平板狀的框形狀的薄板12A和配置在薄板12A的下表面的具有平板狀的框形狀的薄板13A而構成。另外，第一支撐框架部11B的切口部的構成可以是與所述實施方式相同的構成，省略詳細的說明。

第一支撐框架部11B包括第一卡合部11b，該第一卡合部11b是積層薄板14B與薄板15B而構成，所述薄板14B自薄板13A的下表面向防護薄膜用支撐框架111B的第一方向L1延伸，所述薄板15B配置於薄板14B的下表面，且自薄板14B向防護薄膜用支撐框架111B的與第一方向L1交叉的第二方向L2延伸。本實施方式中，自第一主體部11a沿防護薄膜用支撐框架111B的第一方向L1延伸的第一延伸部11e由薄板14B構成。另外，自第一延伸部11e的與第一主體部11a的相反側的端部沿第二方向L2延伸的第二延伸部11f由薄板15B構成。

第二支撐框架部16B具有第二主體部16a，該第二主體部16a藉由於具有所述平板狀的框形狀的薄板19A的上表面依次積層具有平板狀的框形狀的薄板18B和具有平板狀的框形狀的薄板17B而構成。另外，本實施方式中，在薄板18B的外緣部配置凹部，藉由利用薄板17B和薄板19A夾持該凹部，可以配置在防護薄膜用支撐框架111B的第二方向L2上延伸的孔5。

在薄板17B上配置第一槽部16e，在薄板18B上配置第二槽部16f。藉由在薄板19A的上表面依次積層薄板18B及薄板17B，第一槽部16e與第二槽部16f重疊，在第二支撐框架部16B形成凹部，所述第一槽部16e在作為第二支撐框架部16B的厚度方向的第一方向L1上延伸，且在與第一方向L1交叉（或正交）的第二方向L2（配置防護薄膜用膜的面方向）上延伸，並且其一部分在與第二方向L2交叉（或正交）的第四方向L4（本實施方式中是第三方向，但根據與所述實施方式的關係，在本說明書中稱為第四方向）上延伸，所述第二槽部16f較第一槽部16e更向第二方向L2延伸疊。該凹部作為與第一卡合部11b卡合的第二卡合部16b發揮作用。第二延伸部11f的至少一部分被收容在第二槽部16f，從而使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合。本實施方式中，沿第四方向L4延伸的第一槽部16e構成鎖定機構16l。鎖定機構16l中的第一槽部16e的第二方向L2的寬度與構成第一延伸部11e的薄板14B的寬度大致相等，因此，能夠防止由於第一卡合部11b向第三方向（與第二方向L2相反的方向）返回而解除第一卡合部11b與第二卡合部16b的卡合。

此處，對構成第一支撐框架部11B及第二支撐框架部16B的各薄板進一步進行說明。在實施方式2中對薄板12A進行了說明，因此省略詳細的說明。另外，在實施方式2中對薄板13A進行了說明，因此省略詳細的說明。薄板14B例如是矩形的形狀，與薄板13A的下表面連接，構成自第一主體部11a向防護薄膜用支撐框架111B的第一方向L1延伸的第一延伸部11e。薄板14B配置在與配置有開口部16e的薄板13A的區域鄰接的區域。薄板14B的數量沒有特別限定，較佳為配置在位於開口部16e的兩鄰的薄板13A的區域。即，本實施方式中，藉由將第一卡合部11b和第二卡合部16b配置在通氣孔1的兩側，能夠提高第一支撐框架部11B和第二支撐框架部16B卡合的強度。

薄板15B例如是矩形的形狀，與薄板14B的下表面連接，構成沿防護薄膜用支撐框架111B的第二方向L2延伸的第二延伸部11f。因此，薄板15B與薄板15A的不同之處在於：在第二方向L2上較薄板14B延伸規定的長度。其他的薄板15B的構成可以是與薄板15A的構成相同的構成，省略詳細的說明。

如圖16（a）～圖16（d）所示，薄板17B例如為矩形的框形狀，具有L字型的第一槽部16e，該第一槽部16e的沿第二方向L2延伸的開口部的一部分沿第四方向L4延伸。第一槽部16e的沿第四方向L4延伸的開口部構成鎖定機構16l。鎖定機構16l中，第一槽部16e的第二方向L2的寬度與薄板14B的第二方向L2的寬度大致相等。

薄板18B為矩形的框形狀，具有與框的外緣部連接，並向第二方向凹陷的凹部（凹陷形狀）。凹部的數量並無特別限定，可以為了充分進行防護薄膜的封閉空間與外部的換氣的過濾器30而設置多個開口。本實施方式中，由薄板17B和薄板19A夾持的凹部所形成的孔相當於與防護薄膜用支撐框架111B的外緣部連接，並向第二方向L2延伸的孔5。另外，薄板18B具有L字型的第二槽部16f，該第二槽部16f的沿第二方向L2延伸的開口部的一部分沿第四方向L4延伸。第二槽部16f具有以較構成第一槽部16e的薄板17B的開口部大的規定寬度在第二方向L2上開口的開口部。薄板18B的開口部由薄板17B和薄板19A夾持，藉此構成沿第二方向L2延伸的第二槽部16f。第一槽部16e和第二槽部16f連接，構成第二卡合部16b。再者，薄板18B自身的形狀亦可以根據所希望的框體的形狀適當設定形狀。其他的薄板18B的構成可以是與薄板18A的構成相同的構成，省略詳細的說明。在實施方式2中對薄板19A進行了說明，因此省略詳細的說明。

關於過濾器30朝防護薄膜用支撐框架111B的裝卸，藉由使第一支撐框架部11B的第一卡合部11b穿過過濾器30的開口b，進而朝向防護薄膜用支撐框架111B的第一方向L1插入第二支撐框架部16B的第一槽部16e，在第一卡合部11b到達第二支撐框架部16B的底部的時刻，使第一支撐框架部11B向防護薄膜用支撐框架111B的與第一方向L1交叉的第二方向L2滑動來使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合。其後，藉由使第一支撐框架部11B向第四方向L4滑動，第一卡合部11b位於鎖定機構16l，第一卡合部11b無法向第三方向返回，第一卡合部11b和第二卡合部16b被鎖定為卡合狀態。

第一主體部11a、過濾器30及第二主體部16a為具有相同或大致相同寬度的框形狀，故可一體化地構成防護薄膜用支撐框架111B。本實施方式中，過濾器30是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以不需要在每個通氣孔中配置過濾器，而能夠簡便地安裝在防護薄膜用支撐框架111B上。如此，將防護薄膜用支撐框架111B的內緣部與外緣部連接，構成配置有過濾器30的通氣孔1。

圖16（a）～圖16（d）中，第一槽部16e的沿第二方向L2延伸的開口部的寬度較薄板14B的第二方向L2的寬度的2倍的寬度稍大，第一槽部16e的沿第四方向L4延伸的開口部的長度較薄板14B的第四方向L4的長度的2倍的長度稍大，但本實施方式的第一槽部16e的形狀不限於此。例如，第一槽部16e的沿第二方向L2延伸的開口部的寬度只要是能夠將構成第一卡合部11b的薄板15A向第一方向L1插入的寬度即可。另外，第一槽部16e的第四方向L4的長度可以是能夠向鎖定機構16l移動的長度，以使構成第一卡合部11b的薄板14B不會向第三方向返回。即，第一槽部16e的第二方向L2的寬度可以與薄板14B的第二方向L2的寬度大致相等，只要收容第一卡合部11b的一部分即可。

本實施方式中，過濾器30是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以不需要在每個通氣孔中配置過濾器，而能夠簡便地安裝在防護薄膜用支撐框架111B上。另外，本實施方式中，並未為了固定過濾器30而使用接著劑，所以藉由將利用第一卡合部11b和第二卡合部16b而卡合的第一支撐框架部11B和第二支撐框架部16B分離，能夠簡便地將過濾器30自防護薄膜用支撐框架111B上拆下。在以往的防護薄膜中，由於在每個通氣孔上配置有過濾器，所以需要將各個過濾器拆下。本實施方式中，過濾器30是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以只要將第一支撐框架部11B與第二支撐框架部16B分離，則可容易地自防護薄膜用支撐框架111B拆下。

另外，一實施方式中，藉由利用第一支撐框架部11B和第二支撐框架部16B再次夾持作為過濾器30的新的過濾器，能夠簡便地更換過濾器30。另外，本實施方式中，並未為了固定過濾器30而使用接著劑，所以減少了接著劑的釋氣的產生，抑制了在由原版和防護薄膜形成的空間內的照射EUV光的區域中的污染。另外，能夠抑制因來自接著劑的釋氣而使曝光裝置的光學系統的透鏡產生模糊、或產生曝光不良或光量不足的情況。再者，本實施方式亦可以適用於實施方式1～2及其變形例。

[實施方式2和實施方式3的變形例] 對所述的實施方式2和實施方式3的變形例進行說明。圖17（a）～圖17（c）是本發明的變形例的防護薄膜用支撐框架111C的示意圖。圖17（a）是自配置防護薄膜用膜的一側向配置防護薄膜用支撐框架111C的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111C的示意圖。圖17（b）是圖17（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111C的剖面圖，圖17（c）是圖17（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111C的剖面圖。圖18（a）～圖18（d）是詳細說明構成防護薄膜用支撐框架111C的第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16C的示意圖。圖18（a）是詳細說明第一支撐框架部11C的示意圖，圖18（b）是詳細說明第二支撐框架部16C的示意圖。另外，圖18（c）及圖18（d）是說明藉由第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16C夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。

第一支撐框架部11C具有第一主體部11a，該第一主體部11a是在薄板12C-1的下表面積層薄板12C-2和薄板13C而成。本實施方式中，薄板12C-1與薄板12C-2與所述的薄板12A同樣地例如為矩形的框形狀，具有與框的內緣部連接，並向第二方向凹陷的凹部（凹陷形狀）。凹部的數量並無特別限定，可以為了充分進行防護薄膜的封閉空間與外部的換氣的過濾器30而設置多個凹部。本實施方式中，由於積層使用薄板12C-1和薄板12C-2，所以薄板12C-1和薄板12C-2可以是較薄板12A薄的構件。薄板12C-1和薄板12C-2的其他構成可以是與薄板12A的構成相同的構成，省略詳細的說明。本實施方式中，薄板12C-1和薄板12C-2的凹部形成的開口相當於第一方向L1的孔。第一支撐框架部11C包括第一卡合部11b，所述第一卡合部11b是積層第一延伸部11g與第二延伸部11h而構成，所述第一延伸部11g是積層自薄板13C的下表面向防護薄膜用支撐框架111C的第一方向L1延伸的薄板14C-1、薄板14C-2、及薄板14C-3而成；所述第二延伸部11h包括配置於薄板14C-3的下表面，且自薄板14C-3向防護薄膜用支撐框架111C的與第一方向L1交叉的第二方向L2延伸的薄板15C。

第二支撐框架部16C具有第二主體部16a，該第二主體部16a藉由於具有平板狀的框形狀的薄板19C的上表面依次積層具有平板狀的框形狀的薄板18C、和具有平板狀的框形狀的薄板17C-1、薄板17C-2而構成。另外，本實施方式中，如後所述，在薄板17C-2及薄板18C的外緣部配置凹部，藉由利用薄板17C-1和薄板19C夾持該凹部，可以配置在防護薄膜用支撐框架111C的第二方向L2上延伸的孔5。

防護薄膜用支撐框架111C與實施方式2的不同之處在於，由多個薄板（在圖17（a）～圖17（c）中為薄板12C-1及薄板12C-2）構成與構成第一主體部11a的薄板12A對應的薄板，由多個薄板（在圖17（a）～圖17（c）中為薄板14C-1、薄板14C-2及薄板14C-3）構成構成第一卡合部11b的薄板14A。另外，防護薄膜用支撐框架111C與實施方式2的不同之處在於，由多個薄板（在圖17（a）～圖17（c）中為薄板17C-1及薄板17C-2）構成構成第二卡合部16b的薄板17A。即，本變形例中，在所述實施方式2～3及其變形例中，可以使用多個薄板構成任意的薄板。另外，本變形例中，如薄板17C-1和薄板17C-2般，作為可組合其一部分不同的薄板的一例，在圖17（b）中，與薄板18C同樣地，薄板17C-2具有與框的外緣部連接，向第二方向凹陷的凹部，在這一點上與薄板17C-1不同。

本變形例中，藉由使位於第二卡合部16b的薄板17C-1和薄板17C-2的形狀為相同的形狀，能夠提高第二卡合部16b的第一方向L1的強度。另一方面，薄板17C-2具有與框的外緣部連接的凹部，藉此，能夠增大與薄板18C積層而構成的沿第二方向L2延伸的孔5相對於第一方向L1的高度，能夠提高換氣能力。再者，本變形例不限於此，也可以用相鄰的其他薄板來實現任意的薄板的形狀。除說明的所述構成以外，可在實施方式2和實施方式3及其變形例中，使用與所述構成同樣的構成，省略詳細的說明。

過濾器30向防護薄膜用支撐框架111C的裝卸可以藉由實施方式1中說明的方法進行。可以藉由使第一支撐框架部11C的第一卡合部11b穿過過濾器30的開口b，進而朝向防護薄膜用支撐框架111C的第一方向L1插入第二支撐框架部16C的第一槽部16g，在第一卡合部11b到達第二支撐框架部16C的底部的時刻，使第一支撐框架部11C向防護薄膜用支撐框架111C的與第一方向L1交叉的第二方向L2滑動，而可將包含薄板15C的第二延伸部11h收容至第二槽部16h，使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合。藉由利用第一支撐框架部11C與第二支撐框架部16C夾持過濾器30，將防護薄膜用支撐框架111C的內緣部與外緣部連接，構成配置有過濾器30的通氣孔1。

本實施方式中，過濾器30是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以不需要在每個通氣孔中配置過濾器，而能夠簡便地安裝在防護薄膜用支撐框架111C上。另外，本實施方式中，並未為了固定過濾器30而使用接著劑，所以藉由將利用第一卡合部11b和第二卡合部16b而卡合的第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16C分離，能夠簡便地將過濾器30自防護薄膜用支撐框架111C上拆下。在以往的防護薄膜中，由於在每個通氣孔中配置有過濾器，所以需要將各個過濾器拆下。本實施方式中，過濾器30是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以只要將第一支撐框架部11C與第二支撐框架部16C分離，則可容易地自防護薄膜用支撐框架111C拆下。

另外，一實施方式中，藉由利用第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16C再次夾持作為過濾器30的新的過濾器，能夠簡便地更換過濾器30。另外，本實施方式中，並未為了固定過濾器30而使用接著劑，所以減少了接著劑的釋氣的產生，抑制了由原版和防護薄膜形成的空間內的照射EUV光的區域中的污染。另外，能夠抑制因來自接著劑的釋氣而使曝光裝置的光學系統的透鏡產生模糊、或產生曝光不良或光量不足的情況。

[實施方式4] 在所述的實施方式中，表示了藉由將構成第二支撐框架部的薄板積層來構成第二卡合部16b的例子，但本發明的防護薄膜用支撐框架111不限於此。本實施方式中，說明藉由將閂樣的固定件配置在第二支撐框架部而構成第二卡合部16b，並與第一卡合部11b卡合的例子。

圖19（a）～圖19（c）是本發明一實施方式的防護薄膜用支撐框架111D的示意圖。圖19（a）是自配置防護薄膜用膜的一側向配置防護薄膜用支撐框架111D的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111D的示意圖。圖19（b）是圖19（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111D的剖面圖，圖19（c）是圖19（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111D的剖面圖。圖20（a）～圖20（d）是詳細說明構成防護薄膜用支撐框架111D的第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16D的示意圖。圖20（a）是詳細說明第一支撐框架部11C的示意圖，圖20（b）是詳細說明第二支撐框架部16D的示意圖。另外，圖20（c）及圖20（d）是說明藉由第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16D夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。另外，圖21（a）～圖21（d）是配置有固定件23D的薄板21D的示意圖。圖21（a）是配置有固定件23D的薄板21D的俯視圖，圖21（b）是固定件23D的俯視圖，圖21（c）是圖21（a）所示的線段AB處的薄板21D的剖面圖，圖21（d）是圖21（a）所示的線段CD處的配置有固定件23D的薄板21D的剖面圖。

第一支撐框架部11C可以是與在實施方式2及實施方式3的變形例中說明的構成相同的構成，省略詳細的說明。第二支撐框架部16D具有第二主體部16a，該第二主體部16a是於具有平板狀的框形狀的薄板19D的上表面，於具有平板狀的框形狀的薄板18D上依次積層具有平板狀的框形狀的薄板21D、薄板17D而構成。另外，本實施方式中，如後所述，在薄板17D及薄板18D的外緣部配置凹部，藉由利用薄板17D和薄板19D夾持該凹部，可以配置在防護薄膜用支撐框架111D的第二方向L2上延伸的孔5。在本實施方式中，薄板17D在第二卡合部16b的位置處具有與薄板18D相同的形狀。另外，本實施方式中，過濾器30D亦在第二卡合部16b的位置處具有與薄板18D相同的形狀。即，薄板17D、薄板18D以及過濾器30D在第二卡合部16b的位置處具有構成第二槽部16h的開口部，開口部的形狀為在俯視時與第二延伸部11h大致相同的形狀。

薄板21D例如為矩形的框形狀，具有與框的外緣部連接，並向第二方向凹陷的凹部（凹陷形狀）21a。凹部21a的數量並無特別限定，可以為了充分進行防護薄膜的封閉空間與外部的換氣的過濾器30D而設置多個開口。本實施方式中，與薄板18C積層，由薄板17D和薄板19D夾持的凹部21a所形成的孔相當於與防護薄膜用支撐框架111D的外緣部連接，並向第二方向L2延伸的孔5。另外，薄板21D在與凹部21a鄰接且相當於配置第二槽部16h的位置的位置，配置有與外緣部連接、在配置固定件23D時構成第一槽部16g的開口部21b。第一槽部16g為在俯視時與第一延伸部11g大致相同的形狀。作為薄板21D的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。

固定件23D是藉由配置在開口部21b的外緣部而與開口部21b一起構成第一槽部16g的構件。在圖21（b）中，固定件23D是矩形的平板狀構件，但不限於此。在固定件23D的外緣部側，具有能夠與L字型的夾具卡合的第三卡合部24D。第三卡合部24D具有俯視為L字型的槽部。藉此，使用L字型的夾具，能夠容易地進行固定件23D的裝卸（插拔）。作為固定件23D的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。

本發明的一實施方式中，第二卡合部16b具有在第一方向L1上與第二槽部16h的底部分離配置的固定件23D，第二槽部16h包括第一槽部16g的底部與固定件23D。使第一支撐框架部11C的第一卡合部11b穿過過濾器30D的開口，進而朝向防護薄膜用支撐框架111D的第一方向L1插入第二支撐框架部16D的第一槽部16g。藉由使固定件23D向第二支撐框架部16D的第三方向滑動，由薄板15C構成的第二延伸部11h被收容在第二槽部16h中，能夠使第一卡合部11b和第二卡合部16b卡合。藉由利用第一支撐框架部11C與第二支撐框架部16D夾持過濾器30D，將防護薄膜用支撐框架111D的內緣部與外緣部連接，構成配置有過濾器30D的通氣孔1。另外，本實施方式中，藉由將固定件23D自第二支撐框架部16D卸下，解除與第一卡合部11b的卡合狀態。

本實施方式中，過濾器30D是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以不需要在每個通氣孔中配置過濾器，而能夠簡便地安裝在防護薄膜用支撐框架111D上。另外，本實施方式中，並未為了固定過濾器30D而使用接著劑，所以藉由將利用第一卡合部11b和第二卡合部16b而卡合的第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16D分離，能夠簡便地將過濾器30D自防護薄膜用支撐框架111D上拆下。在以往的防護薄膜中，由於在每個通氣孔中配置有過濾器，所以需要將各個過濾器拆下。本實施方式中，過濾器30D是具有平板狀的框形狀的一個構件，所以只要將第一支撐框架部11C與第二支撐框架部16D分離，則可容易地自防護薄膜用支撐框架111D拆下。

另外，一實施方式中，藉由利用第一支撐框架部11E和第二支撐框架部16D再次夾持作為過濾器30D的新的過濾器，能夠簡便地更換過濾器30D。另外，本實施方式中，並未為了固定過濾器30D而使用接著劑，所以減少了接著劑的釋氣的產生，抑制了由原版和防護薄膜形成的空間內的照射EUV光的區域中的污染。另外，能夠抑制因來自接著劑的釋氣而使曝光裝置的光學系統的透鏡產生模糊、或產生曝光不良或光量不足的情況。

[實施方式5] 圖22（a）～圖22（C）是表示本發明一實施方式的防護薄膜用支撐框架111E的示意圖。圖22（a）是自配置防護薄膜用膜的一側向配置防護薄膜用支撐框架111E的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111E的示意圖。圖22（b）是圖22（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111E的剖面圖，圖22（c）是圖22（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111E的剖面圖。在圖22（a）～圖22（C）中，作為一例，表示在實施方式2中說明的防護薄膜用支撐框架111A上配置頂板25E的例子，但本實施方式不限於此，亦可適用於在所述實施方式及變形例中說明的任何一種防護薄膜用支撐框架。

圖23（a）～圖23（c）是頂板25E的示意圖。圖23（a）是頂板25E的俯視圖，圖23（b）是圖23（a）所示的線段AB處的頂板25E的剖面圖，圖23（c）是圖23（a）所示的線段CD處的頂板25E的剖面圖。頂板25E是具有平板狀的框形狀的薄板，具有與薄板19A大致相同的形狀。作為頂板25E的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。在圖22（a）中，由於存在頂板25E，所以無法自上表面觀察過濾器30，但對在下層配置過濾器30的部位，用虛線表示。

本實施方式中，頂板25E連接在薄板12A上，孔3的上部被頂板25E覆蓋。本實施方式中，藉由依次積層薄板13A、薄板12A及頂板25E，構成具有與孔3的第二端部連接、設置在第二方向L2上的孔7（第三孔）的通氣孔1F。頂板25E與防護薄膜用膜或防護薄膜膜體連接。在實施方式5中，由於可在整個頂板上進行與防護薄膜用膜或防護薄膜膜體的連接，故可提高連接強度。另外，由於過濾器30被頂板25E覆蓋，因此曝光光難以照射到過濾器30上，能夠進一步抑制過濾器30的劣化。

[實施方式6] 圖27（a）～圖27（c）是表示本發明一實施方式的防護薄膜用支撐框架111F的示意圖。圖27（a）是自配置防護薄膜用膜的一側向配置防護薄膜用支撐框架111F的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111F的示意圖。圖27（b）是圖27（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111F的剖面圖，圖27（c）是圖27（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111F的剖面圖。防護薄膜用支撐框架111F具有與實施方式2中說明的防護薄膜用支撐框架111A類似的構成。因此，省略對與防護薄膜用支撐框架111A相同或類似的構成的說明。防護薄膜用支撐框架111F與實施方式2所示的防護薄膜用支撐框架111A的不同之處在於，在較過濾器更靠內側（圖1（a）～圖1（c）中，箭頭P所示的將防護薄膜安裝在原版上時的封閉空間部分側）處配置對曝光光進行遮光的壁17F。

透過防護薄膜用膜照射到原版上的EUV光在原版的表面散射、繞射，一部分EUV光亦照射到防護薄膜用支撐框架的內壁上。此處，參照圖4（b）及圖4（c），過濾器30為端面露出的結構。因此，在防護薄膜用支撐框架111A的內側（剖面方向B及D側），雖然過濾器30的端面的露出面積小，但暴露於散射、繞射的EUV光，亦有可能發生光劣化。由於光劣化而產生的釋氣有可能在原版的表面堆積污染物。

在防護薄膜用支撐框架111F中，由於遮擋曝光光的壁17F配置在較過濾器30F更靠內側處，因此過濾器30F不會暴露於曝光光，可保護過濾器30F。圖28（a）是壁17F的俯視圖，圖28（b）是圖28（a）所示的線段AB處的壁17F的剖面圖。壁17F例如為矩形的框形狀。壁17F的線段AB處的寬度只要是能夠遮擋EUV光的寬度即可，可以根據壁17F的原料的EUV光的透過率來決定。在一個實施方式中，壁17F能夠遮擋90%以上、95%以上、98%以上或99%以上的EUV光。作為壁17F的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂，但較佳為不反射或散射EUV光、而吸收EUV光的材料。

自防止過濾器30F暴露於散射、繞射的EUV光的目的出發，壁17F的高度較佳為大於過濾器30F的厚度，為過濾器30F的厚度和薄板13F的厚度的合計值以下。如果壁17F的高度與過濾器30F的厚度和薄板13F的厚度的合計值相等，則壁17F被薄板12F和薄板17A夾持，在切口部N以外的部分，能夠完全防止過濾器30F被EUV光暴露。另外，在切口部N中，壁17F亦能夠實質上防止過濾器30F被EUV光暴露。再者，壁17F可以與薄板17A一體地構成。

圖29（a）～圖29（c）是薄板13F的示意圖。圖29（a）是薄板13F的俯視圖，圖29（b）是圖29（a）所示的線段AB處的薄板13F的剖面圖，圖29（c）是圖29（a）所示的線段CD處的薄板13F的剖面圖。由於在薄板12F和薄板17A之間配置壁17F，所以薄板13F的寬度被設定為與薄板17A的寬度相比，封閉空間部分側的寬度變窄。關於除此以外的構成，薄板13F可以具有與薄板13A同樣的構成，省略詳細的說明。

圖30（a）～圖30（c）是過濾器30F的示意圖。圖30（a）是過濾器30F的俯視圖，圖30（b）是圖30（a）所示的線段AB處的過濾器30F的剖面圖，圖30（c）是圖30（a）所示的線段CD處的過濾器30F的剖面圖。由於在薄板12F和薄板17A之間配置壁17F，所以過濾器30F的寬度被設定為與薄板17A的寬度相比，封閉空間部分側的寬度變窄。關於除此以外的構成，過濾器30F可以具有與過濾器30同樣的構成，省略詳細的說明。

在防護薄膜用支撐框架111F中，第一支撐框架部由薄板12A、薄板13F、薄板14A及薄板15A構成。另外，第二支撐框架部由壁17F、薄板17A、薄板18A及薄板19A構成。在防護薄膜用支撐框架111F中，與防護薄膜用支撐框架111A同樣地，由第一支撐框架部和第二支撐框架部夾持過濾器30F。如圖5（d）所示，藉由向第二方向L2滑動，使第一卡合部和第二卡合部卡合，因此，在圖27（b）及圖27（c）中，較佳為藉由在壁17F、與薄板13F及過濾器30F之間設置微小的間隙，防止薄板13F及過濾器30F與壁17F碰撞而產生灰塵。再者，自防止過濾器30F被EUV光暴露的觀點出發，亦可以以不產生灰塵的程度的距離使壁17F、與薄板13F以及過濾器30F接近。

在防護薄膜用支撐框架111F中，藉由配置壁17F，可抑制過濾器30F的劣化及污染的堆積。再者，在圖27（a）～圖27（c）中，作為一例，表示與實施方式2中說明的防護薄膜用支撐框架111A類似的構成，但本實施方式不限於此，亦可適用於在所述實施方式及變形例中說明的任何一種防護薄膜用支撐框架。另外，可將實施方式5中所說明的頂板25E配置於防護薄膜用支撐框架111F。

[實施方式7] 在所述實施方式中，藉由使第一支撐框架部和第二支撐框架部滑動、或者使用固定件來夾持並固定過濾器。實施方式7中，對第三種固定方法進行說明。圖31（a）～圖31（c）是表示本發明一實施方式的防護薄膜用支撐框架111G的示意圖。圖31（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111G的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111G的示意圖。圖31（b）是圖31（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111G的剖面圖，圖31（c）是圖31（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111G的剖面圖。防護薄膜用支撐框架111G在使用鉤掛部19G來固定第一支撐框架部和第二支撐框架部這一點上，與所述實施方式不同。

圖32（a）～圖32（d）是詳細說明構成防護薄膜用支撐框架111G的第一支撐框架部11G與第二支撐框架部16G的示意圖。圖32（a）是詳細說明第一支撐框架部11G的示意圖，圖32（b）是詳細說明第二支撐框架部16G的示意圖。另外，圖32（c）是說明藉由第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G夾持並固定過濾器30G的方法的示意圖，圖32（d）是說明將第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G分離的方法的示意圖。

防護薄膜用支撐框架111G包括第一支撐框架部11G、第二支撐框架部16G、以及過濾器30G。過濾器30G被第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G夾持。第一支撐框架部11G例如具有如下結構，將具有平板狀的框形狀的薄板12G、配置於薄板12G的下表面的具有平板狀的框形狀的薄板13G積層而成的結構。另外，第一支撐框架部11G具有用於與配置在第二支撐框架部16G的鉤掛部19G卡合的第一卡合部11m。鉤掛部19G具有用於與第一卡合部11m卡合的第二卡合部16m。防護薄膜用支撐框架111G藉由將第一卡合部11m與第二卡合部16m卡合，來夾持並固定過濾器30G。另外，藉由解除第一卡合部11m和第二卡合部16m的卡合，能夠使第一卡合部11m和第二卡合部16m分離，從而更換過濾器30G。

第一支撐框架部11G具有如下結構，將具有平板狀的框形狀的薄板12G與具有平板狀的框形狀的薄板13G積層而成的結構。如圖32（a）所示，在第一卡合部11m（線段CD）中，薄板12G的第二方向L2的寬度較薄板13G的第二方向L2的寬度短。第一卡合部11m處的薄板12G的寬度與薄板13G的寬度之差可在能夠與第二卡合部16m卡合的範圍內任意設定。

第二支撐框架部16G具有第二卡合部16m，該第二卡合部16m藉由於具有平板狀的框形狀的薄板19A的上表面依次積層具有平板狀的框形狀的薄板18G和具有平板狀的框形狀的薄板17G而構成。另外，第二支撐框架部16G具有鉤掛部19G。鉤掛部19G由具有規定長度的壁狀構件19G-2和具有規定長度的平板狀構件19G-1構成。鉤掛部19G藉由在薄板19A的上表面依次積層壁狀構件19G-2和平板狀構件19G-1而構成，在一實施方式中，兩個鉤掛部19G於薄板19A的上表面相向配置。換言之，兩個鉤掛部19G隔著薄板17G及薄板18G而配置。如圖32（b）所示，在第二卡合部16m（線段CD）中，平板狀構件19G-1的第二方向L2的寬度較壁狀構件19G-2的第二方向L2的寬度長。第二卡合部16m處的平板狀構件19G-1的寬度與壁狀構件19G-2的寬度之差可在能夠與第一卡合部11m卡合的範圍內任意設定。另外，鉤掛部19G的數量沒有特別限定，以2個鉤掛部19G為1對，第二支撐框架部16G具有2對以上、較佳為4對以上的鉤掛部19G。

此處，對構成第一支撐框架部11G及第二支撐框架部16G的各薄板進一步進行說明。再者，在所述實施方式中對薄板19A的構成進行了說明，因此省略更詳細的說明。圖33（a）～圖33（c）是薄板12G的示意圖。圖33（a）是薄板12G的俯視圖，圖33（b）是圖33（a）所示的線段AB處的薄板12G的剖面圖，圖33（c）是圖33（a）所示的線段CD處的薄板12G的剖面圖。薄板12G例如為矩形的框形狀，具有凹部（凹陷形狀）12a，該凹部12a與框的內緣部（防護薄膜用膜被懸掛的一側，在作為防護薄膜使用時形成封閉空間的一側）連接，並向第二方向凹陷。在所述實施方式中對凹部12a進行了說明，因此省略詳細的說明。如圖33（a）所示，與凹部12a鄰接的區域具有與薄板19A的寬度相當的寬度，對第一支撐框架部11G賦予必要的強度。另外，在線段CD處的構成第一卡合部11m的框的兩側的部分，具有向第二方向凹陷的凹部（凹陷形狀）12c在第一卡合部11m和第二卡合部16m卡合時，平板狀構件19G-1鄰接配置，故第二方向L2的寬度被設定為與鄰接於凹部12a的區域相比，窄配置了2個凹部12c的寬度。在圖31（c）中，在第一卡合部11m與第二卡合部16m卡合時，可以在薄板12G與平板狀構件19G-1之間配置微小的間隙。其他的薄板12G的構成可以是與薄板12A的構成相同的構成，省略詳細的說明。

圖34（a）～圖34（c）是薄板13G的示意圖。圖34（a）是薄板13G的俯視圖，圖34（b）是圖34（a）所示的線段AB處的薄板13G的剖面圖，圖34（c）是圖34（a）所示的線段CD處的薄板13G的剖面圖。薄板13G例如為矩形的框形狀，具有在第一方向L1上開口的開口部13a。在所述實施方式中對開口部13a進行了說明，因此省略詳細的說明。與開口部13a鄰接的區域具有與薄板19A的寬度相當的寬度，對第一支撐框架部11G賦予必要的強度。另外，在線段CD處的構成第一卡合部11m的框的兩側的部分，具有向第二方向凹陷的凹部（凹陷形狀）13c。在第一卡合部11m和第二卡合部16m卡合時，壁狀構件19G-2鄰接地配置，故第二方向L2的寬度被設定為與鄰接於開口部13a的區域相比，窄配置了2個凹部13c的寬度。在圖31（c）中，在第一卡合部11m與第二卡合部16m卡合時，可以在薄板13G與壁狀構件19G-2之間配置微小的間隙。其他的薄板13G的構成可以是與薄板13A相同的構成，省略詳細的說明。

圖35（a）～圖35（c）是過濾器30G的示意圖。圖35（a）是過濾器30G的俯視圖，圖35（b）是圖35（a）所示的線段AB處的過濾器30G的剖面圖，圖35（c）是圖35（a）所示的線段CD處的過濾器30G的剖面圖。過濾器30G例如是矩形的形狀，在與第一卡合部11m及第二卡合部16m對應的位置具有兩個凹部30c。即，凹部30c配置在與薄板13G的配置開口部13a的區域鄰接的區域對應的過濾器30G的位置。在第一卡合部11m和第二卡合部16m卡合時，壁狀構件19G-2鄰接地配置，故第二方向L2的寬度被設定為與配置有開口部13a的區域相比，窄配置了2個凹部30c的寬度。在圖31（c）中，在第一卡合部11m與第二卡合部16m卡合時，可以在過濾器30G與壁狀構件19G-2之間配置微小的間隙。過濾器30G的其他構成可以是與過濾器30相同的構成，省略詳細的說明。

圖36（a）～圖36（c）是薄板17G的示意圖。圖36（a）是薄板17G的俯視圖，圖36（b）是圖36（a）所示的線段AB處的薄板17G的剖面圖，圖36（c）是圖36（a）所示的線段CD處的薄板17G的剖面圖。薄板17G例如為矩形的框形狀，具有在第一方向L1上開口的開口部17a。在所述實施方式中對開口部17a進行了說明，因此省略詳細的說明。與開口部17a鄰接的區域具有與薄板19A的寬度相當的寬度，對第二支撐框架部16G賦予必要的強度。另外，在線段CD處的構成第二支撐框架部16G的框的兩側的部分，具有向第二方向凹陷的凹部（凹陷形狀）17c。在第一卡合部11m和第二卡合部16m卡合時，壁狀構件19G-2鄰接地配置，故第二方向L2的寬度被設定為與鄰接於開口部17a的區域相比，窄配置了2個凹部17c的寬度。在圖31（c）中，在第一卡合部11m與第二卡合部16m卡合時，可以在薄板17G與壁狀構件19G-2之間配置微小的間隙。其他的薄板17G的構成可以是與薄板17A相同的構成，省略詳細的說明。

圖37（a）～圖37（c）是薄板18G的示意圖。圖37（a）是薄板18G的俯視圖，圖37（b）是圖37（a）所示的線段AB處的薄板18G的剖面圖，圖37（c）是圖37（a）所示的線段CD處的薄板18G的剖面圖。薄板18G例如為矩形的框形狀，具有在第一方向L1上開口的開口部18a。在所述實施方式中對開口部18a進行了說明，因此省略詳細的說明。與開口部18a鄰接的區域具有與薄板19A的寬度相當的寬度，對第二支撐框架部16G賦予必要的強度。另外，在線段CD處的構成第二支撐框架部16G的框的兩側的部分，具有向第二方向凹陷的凹部（凹陷形狀）18c。在第一卡合部11m和第二卡合部16m卡合時，壁狀構件19G-2鄰接地配置，故第二方向L2的寬度被設定為與鄰接於凹部18a的區域相比，窄配置了2個凹部18c的寬度。在圖31（c）中，在第一卡合部11m與第二卡合部16m卡合時，可以在薄板18G與壁狀構件19G-2之間配置微小的間隙。其他的薄板18G的構成可以是與薄板18A相同的構成，省略詳細的說明。

圖38（a）及圖38（b）是平板狀構件19G-1的示意圖。圖38（a）是平板狀構件19G-1的俯視圖，圖38（b）是圖38（a）所示的線段CD處的平板狀構件19G-1的剖面圖。平板狀構件19G-1例如為矩形的形狀，經由壁狀構件19G-2而與薄板19A的上表面連接，構成沿第二方向L2延伸的鉤掛部19G的第二卡合部16m。平板狀構件19G-1在第二方向L2上較壁狀構件19G-2延伸規定的長度。自壁狀構件19G-2向第二方向L2延伸的平板狀構件19G-1的部分參與與第一卡合部11m的卡合。此處，在第二方向L2上延伸的平板狀構件19G-1的部分的長度可以在能夠獲得第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G卡合的強度的範圍內任意設定。因此，如果延長沿第二方向L2延伸的平板狀構件19G-1的部分，則第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G的卡合的可靠性提高。平板狀構件19G-1配置在與配置有開口部12a的薄板12G的區域鄰接的區域。平板狀構件19G-1的數量沒有特別限定，較佳為於位於開口部12a的兩鄰的薄板12G的區域各配置一對。即，本實施方式中，藉由將第一卡合部11m和第二卡合部16m配置在通氣孔1的兩側，能夠提高第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G卡合的強度，減少經由過濾器通氣時的漏氣。作為平板狀構件19G-1的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。

圖39（a）及圖39（b）是壁狀構件19G-2的示意圖。圖39（a）是壁狀構件19G-2的俯視圖，圖39（b）是圖39（a）所示的線段CD處的壁狀構件19G-2的剖面圖。壁狀構件19G-2例如是矩形的形狀，與薄板19A的上表面連接，朝防護薄膜用支撐框架111G的第一方向L1延伸。壁狀構件19G-2與朝第二方向L2延伸的平板狀構件19G-1連接，構成鉤掛部19G的第二卡合部16m。壁狀構件19G-2配置在與配置有開口部13a的薄板13G的區域鄰接的區域。壁狀構件19G-2的數量沒有特別限定，較佳為於位於開口部13a的兩鄰的薄板13G的區域各配置一對。即，本實施方式中，藉由將第一卡合部11m和第二卡合部16m配置在通氣孔1的兩側，能夠提高第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G卡合的強度，減少經由過濾器通氣時的漏氣。作為壁狀構件19G-2的原料，可以列舉出金屬、玻璃、矽晶圓、陶瓷、樹脂。

參照圖32（c）及圖32（d），說明對防護薄膜用支撐框架111G裝卸過濾器30G的方法。圖32（c）是說明在防護薄膜用支撐框架111G上固定過濾器30G的方法的示意圖。在第二支撐框架部16G的薄板17G的上表面配置過濾器30G。此時，過濾器30G的凹部30c配置在與壁狀構件19G-2對應的位置。因此，在配置有凹部30c的位置上，過濾器30G被一對壁狀構件19G-2夾持。之後，將第一支撐框架部11G朝向第一方向L1配置在過濾器30G上。藉此，第一支撐框架部11G的凹部13c穿過一對平板狀構件19G-1之間，薄板13G和過濾器30G密接。在防護薄膜用支撐框架111G中，由於壁狀構件19G-2具有可撓性，當薄板13G的凹部13c穿過一對平板狀構件19G-1之間時，壁狀構件19G-2朝第二方向L2（薄板13G的外側）撓曲，藉此可使第一卡合部11m與第二卡合部16m卡合。本實施方式中，與其他實施主題中說明的使用滑動件或固定件的方式相比，框架的結構變得簡單，並且由於是沒有滑動動作的固定方式，所以能夠降低發塵的風險。

圖32（d）是說明在防護薄膜用支撐框架111G上卸下過濾器30G的方法的示意圖。例如，一邊將第二卡合部16m向第二方向L2（薄板13G的外側）拉伸，一邊將第一支撐框架部11G向第一方向L1抬起。藉此，第一卡合部11m與第二卡合部16m的卡合被解除，第一支撐框架部11G與第二支撐框架部16G分離。藉由自防護薄膜用支撐框架111G上卸下第一支撐框架部11G，可將過濾器30G自第二支撐框架部16G上卸下，進行更換。

再者，本實施方式中說明的過濾器的夾持及固定方法亦可以應用於所述其他實施方式的層結構。

[防護薄膜] 藉由將防護薄膜用膜102或防護薄膜框體配置於上文所述的各實施方式所示的支撐框架，可構成防護薄膜。如後所述，由於本發明的實施方式的防護薄膜用膜102是非常薄的膜，因此自操作之面而言，較佳為設置將第一框體設置於防護薄膜用膜102的一個面的防護薄膜框體，且將防護薄膜框體配置於支撐框架的結構。防護薄膜用膜102或防護薄膜框體與支撐框架的連接方法並無特別限制，例如，可利用黏著片材、接著劑、接合劑、常溫接合、直接接合、原子擴散接合、金屬接合、熔接、焊料接合、熱壓接、熱熔接、助焊劑接合、面扣件、範德華力（Van der Waals force）、靜電力、磁力、螺釘/銷/夾子/鉚接等機械力來連接。

圖24（a）～圖24（c）是表示本發明一實施方式的防護薄膜100的示意圖。圖24（a）是防護薄膜100的俯視圖，圖24（b）是圖24（a）所示的線段AB處的防護薄膜100的剖面圖，圖24（c）是圖24（a）的線段CD處的防護薄膜100的剖面圖。在圖24（a）～圖24（c）中，作為一例，表示在實施方式5中說明的防護薄膜用支撐框架111E上配置有配置於第一框體104的防護薄膜用膜102的例子，但本實施方式不限於此，亦可適用於在所述實施方式及變形例中說明的任何一種防護薄膜用支撐框架。

第一框體104為大致矩形的框形狀，由選自金屬、玻璃、矽、陶瓷、石墨、樹脂等的材料構成。防護薄膜用膜102懸掛於第一框體104，第一框體104支撐防護薄膜用膜102。將在第一框體104上配置有防護薄膜用膜102的構造體稱為防護薄膜框體106。在防護薄膜100中，防護薄膜框體106經由接著層39而貼附於防護薄膜用支撐框架111E的頂板25E的上表面。因而，在本實施方式中，形成下述構成，即經由設置於防護薄膜用膜102的一個面的第一框體104，將防護薄膜用膜102設置於防護薄膜用支撐框架111E。在本實施方式中，例示了支撐部具有支撐防護薄膜用膜102的第一框體104、以及構成防護薄膜用支撐框架111C的第二框體，但本實施方式並不限定於此，亦可不經由第一框體104，而將防護薄膜用膜102配置於防護薄膜用支撐框架111E。

接著層39是將防護薄膜用膜或第一框體、與支撐框架進行接著的層。接著層39例如為雙面黏著膠帶、矽樹脂黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚烯烴系黏著劑、無機系接著劑等。自保持EUV曝光時的真空度的觀點而言，接著層39較佳為釋氣（outgas）少。作為釋氣的評估方法，例如可利用升溫脫離氣體分析裝置。可在將防護薄膜用膜或第一框體與支撐框架進行連接之前，預先將接著層39形成於支撐框架。接著層39亦可形成於配置在支撐框架中的最靠近防護薄膜用膜側的層上。

[防護薄膜用膜] 防護薄膜用膜的厚度（在構成為二層以上時為總厚度）例如可為10 nm～200 nm，較佳為10 nm～100 nm，更佳為10 nm～70 nm，尤佳為10 nm～50 nm。

防護薄膜用膜較佳為EUV光的透射率高，EUV微影術中所用的光（例如，波長13.5 nm的光或波長6.75 nm的光）的透射率較佳為50%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上。在將防護薄膜用膜與保護層積層時，較佳為含有所述積層的膜的光透射率為50%以上。

防護薄膜用膜的材料只要使用周知的EUV用防護薄膜用膜的材料即可。作為防護薄膜用膜的材料，例如可舉出碳奈米管、類金剛石碳（Diamond-like carbon，DLC）、非晶碳（Amorphous carbon）、石墨（Graphite）、碳化矽等碳系材料、單晶矽、多晶矽、非晶質矽、金屬矽化物等矽系材料、芳香族聚醯亞胺、脂肪族聚醯亞胺、交聯聚乙烯（cross-linking polyethylene）、交聯聚苯乙烯（cross-linking polystyrene）、聚醚醯亞胺（Polyetherimide）、聚苯碸（Polyphenylene sulfone）、聚苯醚（polyphenylene ether）、聚醚碸(polyethersulfone)、聚醚醚酮（polyetheretherketone)、液晶聚合物、聚對苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate）、芳香族聚醯胺（Aromatic polyamide）、派瑞林（Parylene）等高分子系材料。

[曝光原版] 圖25是表示本發明的一實施方式的曝光原版181的剖面的構成的示意圖。作為一例，曝光原版181具備：包含防護薄膜用膜102及防護薄膜用支撐框架111的防護薄膜100、原版184。關於本發明的曝光原版181，在設置有安裝於原版184上的極端紫外光微影術用的防護薄膜用膜102的防護薄膜100中，可裝卸設置於防護薄膜用支撐框架111的通氣孔中的過濾器30，可減少對原版184的污染。在圖25中，表示了將包括防護薄膜用膜102及防護薄膜用支撐框架111的防護薄膜100配置在形成有圖案的原版184的面上的例子，但本發明的曝光原版不限於此，亦可以配置具有所述各實施方式中說明的支撐框架的防護薄膜。

將本發明的防護薄膜安裝於原版的方法並無特別限定。例如，既可將支撐框架直接貼附於原版，亦可經由位於支撐框架的一個端面的原版用接著劑層固定，還可利用機械性固定的方法或磁鐵等的引力而將原版與支撐框進行固定。由於原版用接著劑層可使用與接著層39相同的層，因此省略詳細的記載。

[防護薄膜的用途] 本發明的防護薄膜不僅可作為用於在EUV曝光裝置內抑制異物附著於原版的保護構件，亦可作為用於在保管原版時、或搬運原版時保護原版的保護構件。例如，若保持將防護薄膜安裝於原版的狀態（曝光原版），可在自EUV曝光裝置拆卸後，原樣不變地進行保管。在將防護薄膜安裝於原版的方法中，具有利用接著劑進行貼附的方法、機械地固定的方法等。

[曝光裝置] 圖26是表示本發明的一個實施方式的曝光裝置180的示意圖。在圖26中，用剖面圖來表示曝光原版181。

作為一例，EUV曝光裝置180包括：光源182，放出EUV光；作為本實施形態的曝光原版的一例的曝光原版181；以及照明光學系統183，將自光源182放出的EUV光引導至曝光原版181。

在EUV曝光裝置180中，自光源182放出的EUV光被照明光學系統183聚光而將照度均一化，且照射至曝光原版181。照射至曝光原版181的EUV光被原版184圖案狀地反射。

所述曝光原版181為本實施方式的曝光原版的一例。配置為自光源182放出的EUV光透射防護薄膜用膜102而照射至原版184。原版184將被照射的EUV光圖案狀地反射。

在照明光學系統183內，包含用於調整EUV光的光路的多個多層膜反射鏡189、以及光耦合器（光學積分器（Optical integrator））等。

光源182及照明光學系統183可使用公知的光源及照明光學系統。

在EUV曝光裝置180中，在光源182與照明光學系統183之間、及照明光學系統183與原版184之間，分別設置有過濾窗（Filter window）185及過濾窗186。過濾窗185及過濾窗186可捕捉飛散粒子（碎屑（debris））。另外，EUV曝光裝置180包括投影光學系統188，所述投影光學系統188將原版184所反射的EUV光導向感應基板187。投影光學系統188為了將原版184所反射的EUV光導向感應基板187，可以具備多個多層膜反射鏡190及多層膜反射鏡191。

本發明的一個實施形態的曝光裝置由於在通氣孔中可拆裝地設置有過濾器，且將設置有極紫外光微影術用防護薄膜用膜的防護薄膜與曝光原版連接，而可降低對曝光裝置的光學系統的影響。

本實施方式的曝光裝置包括：光源，放出曝光光（較佳為EUV光等，更佳為EUV光。以下相同）；本實施形態的曝光原版；以及光學系統，將自光源放出的曝光光朝曝光原版引導；曝光原版較佳為配置為自光源放出的曝光光透射防護薄膜用膜而照射至原版。

根據此種形態，除了可藉由EUV光等形成細微化的圖案（例如線寬度32 nm以下）以外，即便在使用易於出現因異物所致的解析不良的問題的EUV光時，亦可進行減少了因異物所致的解析不良的圖案曝光。

[半導體裝置的製造方法] 本實施方式的半導體裝置的製造方法包括：使自光源放出的曝光光透射本實施方式的曝光原版的防護薄膜用膜而照射至原版，並利用原版反射的步驟；以及藉由使由原版反射的曝光光透射防護薄膜用膜而照射至感應基板，從而以圖案狀對感應基板進行曝光的步驟。

根據本實施方式的半導體裝置的製造方法，即便在使用易於出現因異物所致的解析不良的問題的EUV光時，仍可製造減少了因異物所致的解析不良的半導體裝置。例如藉由使用本發明的曝光裝置，可進行本實施方式的半導體裝置的製造方法。

根據本發明的一個實施方式的半導體裝置的製造方法，由於在通氣孔中可拆裝地設置有過濾器，且將設置有極紫外光微影術用防護薄膜用膜的防護薄膜與曝光原版連接，因此可在極紫外光微影術中，進行高精細曝光。

1、1F‧‧‧通氣孔 3、5、7‧‧‧孔 11、11A、11B、11C、11E、11G‧‧‧第一支撐框架部 11a‧‧‧第一主體部 11b、11m‧‧‧第一卡合部 11c、11e、11g‧‧‧第一延伸部 11d、11f、11h‧‧‧第二延伸部 12A、12C-1、12C-2、12F、12G、13A、13C、13F、13G 、14A、14B、14C-1、14C-2、14C-3、15A、15B、15C、17A、17B、17C-1、17C-2、17D、17G、18、18A、18B、18C、18D、18G、19A、19C、19D、21D‧‧‧薄板 12a、12c、13c、17c、18a、18c、21a、30c‧‧‧凹部（凹陷形狀） 12a、13a、17a、17b、18a、18b、21b‧‧‧開口部 16、16A、16B、16C、16D、16G‧‧‧第二支撐框架部 16a‧‧‧第二主體部 16b、16m‧‧‧第二卡合部 16c、16e、16g‧‧‧第一槽部 16d、16f、16h‧‧‧第二槽部 16l‧‧‧鎖定機構 17F‧‧‧壁 19G‧‧‧鉤掛部 19G-1‧‧‧平板狀構件 19G-2‧‧‧壁狀構件 23D‧‧‧固定件 24D‧‧‧第三卡合部 25E‧‧‧頂板 30、30D、30F、30G‧‧‧過濾器 39‧‧‧接著層 100‧‧‧防護薄膜 102‧‧‧防護薄膜用膜 104‧‧‧第一框體 106‧‧‧防護薄膜框體 111、111A、111B、111C、111D、111E、111F、111G‧‧‧防護薄膜用支撐框架 180‧‧‧曝光裝置/EUV曝光裝置 181‧‧‧曝光原版 182‧‧‧光源 183‧‧‧照明光學系統 184‧‧‧原版 185、186‧‧‧過濾窗 187‧‧‧感應基板 188‧‧‧投影光學系統 189、190、191‧‧‧多層膜反射鏡 a‧‧‧第一面 b‧‧‧開口 AB、CD‧‧‧線段 P‧‧‧封閉空間 L1‧‧‧厚度方向/第一方向 L2‧‧‧第二方向 L4‧‧‧第四方向 N‧‧‧切口部 P‧‧‧封閉空間部分

圖1（a）～圖1（c）是一實施方式的防護薄膜用支撐框架111的示意圖，圖1（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111的示意圖，圖1（b）是圖1（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111的剖面圖，圖1（c）是圖1（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111的剖面圖。 圖2（a）～圖2（d）是詳細說明構成一實施方式的防護薄膜用支撐框架111的第一支撐框架部11和第二支撐框架部16的示意圖，（a）是詳細說明第一支撐框架部11的示意圖，（b）是詳細說明第二支撐框架部16的示意圖，（c）和（d）是說明藉由第一支撐框架部11和第二支撐框架部16夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。 圖3（a）～圖3（c）是針對使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合的方法，自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111的原版的面方向，在位於第一支撐框架部11側的第二支撐框架部16的第一面a觀察防護薄膜用支撐框架111的示意圖。 圖4（a）～圖4（c）是一實施方式的防護薄膜用支撐框架111A的示意圖，圖4（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111A的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111A的示意圖，圖4（b）是圖4（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111A的剖面圖，圖4（c）是圖4（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111A的剖面圖。 圖5（a）～圖5（d）是詳細說明構成一實施方式的防護薄膜用支撐框架111A的第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A的示意圖，圖5（a）是詳細說明第一支撐框架部11A的示意圖，圖5（b）是詳細說明第二支撐框架部16A的示意圖，圖5（c）和圖5（d）是說明藉由第一支撐框架部11A和第二支撐框架部16A夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。 圖6（a）～圖6（c）是一實施方式的薄板12A的示意圖，圖6（a）是薄板12A的俯視圖，圖6（b）是圖6（a）所示的線段AB處的薄板12A的剖面圖，圖6（c）是圖6（a）所示的線段CD處的薄板12A的剖面圖。 圖7（a）～圖7（c）是一實施方式的薄板13A的示意圖，圖7（a）是薄板13A的俯視圖，圖7（b）是圖7（a）所示的線段AB處的薄板13A的剖面圖，圖7（c）是圖7（a）所示的線段CD處的薄板13A的剖面圖。 圖8（a）及圖8（b）是一實施方式的薄板14A的示意圖，圖8（a）是薄板14A的俯視圖，圖8（b）是圖8（a）所示的線段CD處的薄板14A的剖面圖。 圖9（a）及圖9（b）是一實施方式的薄板15A的示意圖。圖9（a）是薄板15A的俯視圖，圖9（b）是圖9（a）所示的線段CD處的薄板15A的剖面圖。 圖10（a）～圖10（c）是一實施方式的過濾器30的示意圖，圖10（a）是過濾器30的俯視圖，圖10（b）是圖10（a）所示的線段AB處的過濾器30的剖面圖，圖10（c）是圖10（a）所示的線段CD處的過濾器30的剖面圖。 圖11（a）～圖11（c）是一實施方式的薄板17A的示意圖，圖11（a）是薄板17A的俯視圖，圖11（b）是圖11（a）所示的線段AB處的薄板17A的剖面圖，圖11（c）是圖11（a）所示的線段CD處的薄板17A的剖面圖。 圖12（a）～圖12（c）是一實施方式的薄板18A的示意圖，圖12（a）是薄板18A的俯視圖，圖12（b）是圖12（a）所示的線段AB處的薄板18A的剖面圖，圖12（c）是圖12（a）所示的線段CD處的薄板18A的剖面圖。 圖13（a）～圖13（c）是一實施方式的薄板19A的示意圖，圖13（a）是薄板19A的俯視圖，圖13（b）是圖13（a）所示的線段AB處的薄板19A的剖面圖，圖13（c）是圖13（a）所示的線段CD處的薄板19A的剖面圖。 圖14（a）～圖14（c）是一實施方式的防護薄膜用支撐框架111B的示意圖，圖14（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111B的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111B的示意圖，圖14（b）是圖14（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111B的剖面圖，圖14（c）是圖14（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111B的剖面圖。 圖15（a）～圖15（d）是詳細說明構成一實施方式的防護薄膜用支撐框架111B的第一支撐框架部11B和第二支撐框架部16B的示意圖，圖15（a）是詳細說明第一支撐框架部11B的示意圖，圖15（b）是詳細說明第二支撐框架部16B的示意圖，圖15（c）和圖15（d）是說明藉由第一支撐框架部11B和第二支撐框架部16B夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。 圖16（a）～圖16（d）是針對使第一卡合部11b與第二卡合部16b卡合的方法，自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111B的原版的面方向，在位於第一支撐框架部11B側的第二支撐框架部16B的第一面a觀察防護薄膜用支撐框架111B的示意圖。 圖17（a）～圖17（c）是變形例的防護薄膜用支撐框架111C的示意圖，圖17（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111C的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111C的示意圖，圖17（b）是圖17（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111C的剖面圖，圖17（c）是圖17（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111C的剖面圖。 圖18（a）～圖18（d）是詳細說明構成一實施方式的防護薄膜用支撐框架111C的第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16C的示意圖，圖18（a）是詳細說明第一支撐框架部11C的示意圖，圖18（b）是詳細說明第二支撐框架部16C的示意圖，圖18（c）和圖18（d）是說明藉由第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16C夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。 圖19（a）～圖19（c）是一實施方式的防護薄膜用支撐框架111D的示意圖，圖19（a）是自配置防護薄膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111D的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111D的示意圖，圖19（b）是圖19（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111D的剖面圖，圖19（c）是圖19（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111D的剖面圖。 圖20（a）～圖20（d）是詳細說明構成一實施方式的防護薄膜用支撐框架111D的第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16D的示意圖，圖20（a）是詳細說明第一支撐框架部11C的示意圖，圖20（b）是詳細說明第二支撐框架部16D的示意圖，圖20（c）和圖20（d）是說明藉由第一支撐框架部11C和第二支撐框架部16D夾持並固定過濾器30的方法的示意圖。 圖21（a）～圖21（d）是配置有一實施方式的固定件23D的薄板21D的示意圖，圖21（a）是配置有固定件23D的薄板21D的俯視圖，圖21（b）是固定件23D的俯視圖，圖21（c）是圖21（a）所示的線段AB處的薄板21D的剖面圖，圖21（d）是圖21（a）所示的線段CD處的配置有固定件23D的薄板21D的剖面圖。 圖22（a）～圖22（c）是表示一實施方式的防護薄膜用支撐框架111E的示意圖，圖22（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111E的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111E的示意圖，圖22（b）是圖22（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111E的剖面圖，圖22（c）是圖22（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111E的剖面圖。 圖23（a）～圖23（c）是一實施方式的頂板25E的示意圖，圖23（a）是頂板25E的俯視圖，圖23（b）是圖23（a）所示的線段AB處的頂板25E的剖面圖，圖23（c）是圖23（a）所示的線段CD處的頂板25E的剖面圖。 圖24（a）～圖24（c）是表示一實施方式的防護薄膜100的示意圖，圖24（a）是防護薄膜100的俯視圖，圖24（b）是圖24（a）所示的線段AB處的防護薄膜100的剖面圖，圖24（c）是圖24（a）的線段CD處的防護薄膜100的剖面圖。 圖25是表示一實施方式的曝光原版181的剖面的構成的示意圖。 圖26是表示一實施方式的曝光裝置180的示意圖。 圖27（a）～圖27（c）是表示一實施方式的防護薄膜用支撐框架111F的示意圖，圖27（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111F的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111F的示意圖，圖27（b）是圖27（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111F的剖面圖，圖27（c）是圖27（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111F的剖面圖。 圖28（a）及圖28（b）是一實施方式的防護薄膜用支撐框架111F的壁17F的示意圖，圖28（a）是壁17F的俯視圖，圖28（b）是圖28（a）所示的線段AB處的壁17F的剖面圖。 圖29（a）～圖29（c）是一實施方式的薄板13F的示意圖，圖29（a）是薄板13F的俯視圖，圖29（b）是圖29（a）所示的線段AB處的薄板13F的剖面圖，圖29（c）是圖29（a）所示的線段CD處的薄板13F的剖面圖。 圖30（a）～圖30（c）是一實施方式的過濾器30F的示意圖，圖30（a）是過濾器30F的俯視圖，圖30（b）是圖30（a）所示的線段AB處的過濾器30F的剖面圖，圖30（c）是圖30（a）所示的線段CD處的過濾器30F的剖面圖。 圖31（a）～圖31（c）是表示一實施方式的防護薄膜用支撐框架111G的示意圖，圖31（a）是自配置防護薄膜用膜的一側在配置防護薄膜用支撐框架111G的原版的面方向觀察防護薄膜用支撐框架111G的示意圖，圖31（b）是圖31（a）的線段AB處的防護薄膜用支撐框架111G的剖面圖，圖31（c）是圖31（a）的線段CD處的防護薄膜用支撐框架111G的剖面圖。 圖32（a）～圖32（d）是詳細說明構成一實施方式的防護薄膜用支撐框架111G的第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G的示意圖，圖32（a）是詳細說明第一支撐框架部11G的示意圖，圖32（b）是詳細說明第二支撐框架部16G的示意圖，圖32（c）是說明藉由第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G夾持並固定過濾器30G的方法的示意圖，圖32（d）是說明將第一支撐框架部11G和第二支撐框架部16G分離的方法。 圖33（a）～圖33（c）是一實施方式的薄板12G的示意圖，圖33（a）是薄板12G的俯視圖，圖33（b）是圖33（a）所示的線段AB處的薄板12G的剖面圖，圖33（c）是圖33（a）所示的線段CD處的薄板12G的剖面圖。 圖34（a）～圖34（c）是一實施方式的薄板13G的示意圖，圖34（a）是薄板13G的俯視圖，圖34（b）是圖34（a）所示的線段AB處的薄板13G的剖面圖，圖34（c）是圖34（a）所示的線段CD處的薄板13G的剖面圖。 圖35（a）～圖35（c）是一實施方式的過濾器30G的示意圖，圖35（a）是過濾器30G的俯視圖，圖35（b）是圖35（a）所示的線段AB處的過濾器30G的剖面圖，圖35（c）是圖35（a）所示的線段CD處的過濾器30G的剖面圖。 圖36（a）～圖36（c）是一實施方式的薄板17G的示意圖，圖36（a）是薄板17G的俯視圖，圖36（b）是圖36（a）所示的線段AB處的薄板17G的剖面圖，圖36（c）是圖36（a）所示的線段CD處的薄板17G的剖面圖。 圖37（a）～圖37（c）是一實施方式的薄板18G的示意圖，圖37（a）是薄板18G的俯視圖，圖37（b）是圖37（a）所示的線段AB處的薄板18G的剖面圖，圖37（c）是圖37（a）所示的線段CD處的薄板18G的剖面圖。 圖38（a）及圖38（b）是一實施方式的平板狀構件19G-1的示意圖，圖38（a）是平板狀構件19G-1的俯視圖，圖38（b）是圖38（a）所示的線段CD處的平板狀構件19G-1的剖面圖。 圖39（a）及圖39（b）是一實施方式的壁狀構件19G-2的示意圖，圖39（a）是壁狀構件19G-2的俯視圖，圖39（b）是圖39（a）所示的線段CD處的壁狀構件19G-2的剖面圖。

1‧‧‧通氣孔

3、5‧‧‧孔

11‧‧‧第一支撐框架部

16‧‧‧第二支撐框架部

16a‧‧‧第二主體部

16c‧‧‧第一槽部

30‧‧‧過濾器

111‧‧‧防護薄膜用支撐框架

AB、CD‧‧‧線段

N‧‧‧切口部

P‧‧‧封閉空間

L1‧‧‧厚度方向/第一方向

L2‧‧‧第二方向

Claims (17)

1. 一種防護薄膜用支撐框架，其特徵在於：包括第一支撐框架部、第二支撐框架部、以及過濾器，其中 所述過濾器具有平板狀的框形狀，被所述第一支撐框架部和所述第二支撐框架部夾持， 所述第一支撐框架部包括：第一主體部，具有平板狀的框形狀；以及第一卡合部，自所述第一主體部向所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向突出， 所述第二支撐框架部包括：第二主體部，具有平板狀的框形狀；以及第二卡合部，配置於所述第二主體部的設置於所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向的凹部，且與所述第一卡合部卡合。
2. 如申請專利範圍第1項所述的防護薄膜用支撐框架，其中，所述第一卡合部包括：第一延伸部，自所述第一主體部沿所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向延伸；以及第二延伸部，自所述第一延伸部的與所述第一主體部相反一側的端部向和所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向交叉的方向延伸， 所述第二卡合部包括：第一槽部，自位於所述第一支撐框架部側的所述第二支撐框架部的第一面向所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向延伸；以及第二槽部，自所述第一槽部的底部向與所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向交叉的方向延伸， 所述第二延伸部的至少一部分收容於所述第二槽部。
3. 如申請專利範圍第1項所述的防護薄膜用支撐框架，其中，所述過濾器在與所述第一卡合部及所述第二卡合部對應的位置具有開口， 所述第一卡合部貫通所述開口而與所述第二卡合部卡合。
4. 如申請專利範圍第2項所述的防護薄膜用支撐框架，其中，所述第二卡合部包括在所述第一面的方向上與所述第二槽部的底部分離配置的固定件， 所述第二槽部包括：所述第一槽部的底部與所述固定件。
5. 如申請專利範圍第4項所述的防護薄膜用支撐框架，其中，所述固定件包括能夠與夾具卡合的第三卡合部。
6. 如申請專利範圍第1項所述的防護薄膜用支撐框架，其更包括通氣孔，所述通氣孔連接所述防護薄膜用支撐框架的內緣部和外緣部，並配置有所述過濾器。
7. 如申請專利範圍第6項所述的防護薄膜用支撐框架，其中，所述通氣孔包括： 第一孔，配置有所述過濾器，並沿與所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向大致平行的第一方向延伸；以及 第二孔，與所述第一孔的第一端部連接，沿與所述第一方向交叉的第二方向延伸，在所述內緣部或所述外緣部具有開口。
8. 如申請專利範圍第7項所述的防護薄膜用支撐框架，其中，所述通氣孔更具有第三孔，所述第三孔與所述第一孔的第二端部連接，並設置於與所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向交叉的方向上。
9. 如申請專利範圍第8項所述的防護薄膜用支撐框架，其包括：多個所述第一卡合部；多個所述第二卡合部；以及多個所述通氣孔。
10. 如申請專利範圍第2項所述的防護薄膜用支撐框架，其中，所述第一支撐框架部是包含如下薄板的積層體：構成所述第一主體部的具有框形狀的薄板；構成所述第一延伸部的薄板；以及構成所述第二延伸部的薄板。
11. 如申請專利範圍第2項所述的防護薄膜用支撐框架，其中，所述第二支撐框架部是包含如下薄板的積層體：構成所述第一槽部的薄板；及構成所述第二槽部的薄板。
12. 如申請專利範圍第1項所述的防護薄膜用支撐框架，其更具有配置於所述過濾器的所述框形狀的內側的壁。
13. 一種防護薄膜，其特徵在於，包括：如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述的防護薄膜用支撐框架、及防護薄膜用膜。
14. 一種曝光原版，其特徵在於，包括：如申請專利範圍第13項所述的防護薄膜、及原版。
15. 一種曝光裝置，其特徵在於，包括：如申請專利範圍第14項所述的曝光原版、及光學系統。
16. 一種防護薄膜用支撐框架的製造方法，其特徵在於： 準備第一支撐框架部，所述第一支撐框架部包括：第一主體部，具有平板狀的框形狀；以及第一卡合部，自所述第一主體部向防護薄膜用支撐框架的厚度方向突出， 準備第二支撐框架部，所述第二支撐框架部包括：第二主體部，具有平板狀的框形狀；以及第二卡合部，配置於所述第二主體部的設置於所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向的凹部，且與所述第一卡合部卡合， 準備具有平板狀的框形狀的過濾器， 由所述第一支撐框架部與所述第二支撐框架部夾持所述過濾器，使所述第一卡合部與所述第二卡合部卡合。
17. 如申請專利範圍第16項所述的防護薄膜用支撐框架的製造方法，其中 準備所述第一支撐框架部，所述第一支撐框架部將構成所述第一主體部的薄板、構成第一延伸部的薄板、及構成第二延伸部的薄板連接，且包括自所述第一主體部向所述防護薄膜用支撐框架的厚度方向突出的第一卡合部， 準備所述第二支撐框架部，所述第二支撐框架部將構成第一槽部的薄板、構成第二槽部的薄板、及構成所述第二主體部的薄板連接，且包括所述第二卡合部， 將所述第二延伸部的至少一部分收容於所述第二槽部，使所述第一卡合部與所述第二卡合部卡合。

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