JP6924147B2 - 真空排気システム及びこの真空排気システムに使用されるチャネル切換弁 - Google Patents
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- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
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- F04C25/00—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
- F04C25/02—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4405—Cleaning of reactor or parts inside the reactor by using reactive gases
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C23/001—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of similar working principle
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C23/001—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of similar working principle
- F04C23/003—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of similar working principle having complementary function
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- H01L21/205—
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2220/00—Application
- F04C2220/30—Use in a chemical vapor deposition [CVD] process or in a similar process
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K15/00—Check valves
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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Description
図1は、本発明による真空排気システムの一実施形態のブロック図である。この図に示す真空排気システムS1は、複数のチャンバ1(1A,1B,...1n)からガスを排気するシステムの構造を有する。
チャンバ1(1A)は、半導体生産プラント等に使用される処理チャンバのような排気可能な容器であり、処理ガスなどを使用する特定の処理がチャンバ1(1A)内で実行される。これは他のチャンバ1(1B,...1n)にも当て嵌まる。
分岐チャネル2(2A,2B)及び主チャネル3の各々はパイプから形成され、特に、第1のポンプ7及び第3のポンプ9が装着される分岐チャネル2(2A)の構造的パイプのサイズ(直径)は、位置に応じて変わる。
2つの分岐チャネル2(2A,2B)に装着されたチャネルオン−オフ弁4の両方は、指定タイミングに従った制御デバイスDからの開閉制御信号F1に基づいて、対応する分岐チャネル2を開閉するように構造化される。
3つの選択チャネル5(5A,5B,5C)の各々の上流端は、後述するチャネル切換弁6の出力ポートに接続され、この下流でチャンバ1(1A,1B,...1n)のチャネル切換弁6からの選択チャネル5(5A,5B,5C)と合流し、第2のポンプ8(8A,8B,8C)の入力ポートに接続される。
チャンバ1(1A,1B,1C)の各々のチャネル切換弁6の構造は、上述のように、それらが上述の主チャネル3の下流端への接続のための入力ポートと、3つの選択チャネル5(5A,5B,5C)の上流端の各々との接続のための出力ポートとを有し、チャネル切換弁6内の切換作動によって主チャネル3からの流れが選択チャネル5(5A,5B,5C)のうちの1つの中に迂回されるようなものである。チャネル切換弁6内の切換作動は、制御デバイスDからのチャネル切換信号F2に基づいて指定タイミングで実行される。
第1のポンプ7の構造は、ガス入力ポートを有し、このガス入力ポートは、チャンバ1の開口部に接続されて、その開口部及び入力ポートを通じてチャンバ1にガスを給送するようにする。
第3のポンプ9は、それがガス入力ポート及び出力ポートを有するような構造を有し、入力ポート及び出力ポートが第1のポンプ7から下流で第1のポンプ7と同じ分岐チャネル2(2A)に接続されるので、第1のポンプ7から分岐チャネル2(2A)を通じて給送されたガスは、ここでもまた下流の主チャネル3に向けて排気される。
図1に示す真空排気システムS1には、選択チャネル5のうちの3つがあり、選択チャネル5(5A,5B,5C)の各々に第2のポンプ8(8A,8B,8C)のうちの1つが接続される。1つの選択チャネル5(5A)に装着された第2のポンプ8(8A)は、ガスがチャンバ1からラフポンピングされる時にラフポンピングポンプとして使用され、ラフポンピング時以外は、他の2つの選択チャネル5(5B,5C)に装着された第2のポンプ8(8B,8C)に対するバックアップポンプとして即座に使用可能な待機状態にある。
制御デバイスDは、例えば、少なくとも以下に1〜5として示す機能を実行するためのシステムプログラム及びハードウエアリソースを備えたパーソナルコンピュータを含む。
機能1は、始動、停止、及び回転速度などのようなポンプ状態を制御するための制御信号を第1のポンプ7、第2のポンプ8(8A,8B,8C)、及び第3のポンプ9のコントローラCに出力する。
機能2は、開閉を行うために開閉制御信号F1をチャネル開閉弁4に出力する。
機能3は、上述のようにチャネル切換弁6内の切換を実行するために、チャネル切換弁6にチャネル切換信号F2を出力する。
機能4は、第1のポンプ7、第2のポンプ8(8A,8B,8C)、及び第3のポンプ9の各々にあるコントローラC内の診断回路及び診断プログラムによって生成された診断結果R(ポンプが正常であるか否か)を受信する。
機能5は、機能4によって受信された診断結果Rを精査し、異常と診断された場合にポンプが故障しているかを検査する。すなわち、例えば、第2のポンプ8(8B)が故障していると診断された場合に、チャネル切換弁6にチャネル切換信号F2(上記「機能3」参照)を出力し、上述のように待機ステータスにある第2のポンプ8(8A)を装着した選択チャネル5(5A)を主チャネル2と連通させるために処理が実行され、第2のポンプ8(8A)のコントローラCにバックアップ開始信号F3を出力し、第2のポンプ8(8A)を待機状態からバックアップ作動ステータスに切り換えるために処理が実行される。同様に、第2のポンプ8(8C)が異常であると診断された場合もそうである。
図1に示す真空排気システムS1では、チャンバ1(1A)に関してラフポンピングが実行される時に、分岐チャネル2(2B)のチャネル開閉弁4が開かれて分岐チャネル2(2A)のチャネル開閉弁4が閉じられ、更に、チャネル切換弁6の切換作動によって選択チャネル5(5A)が主チャネル3と連通する。第2のポンプ8(8A)の排気作動に起因して、分岐チャネル2(2B)、主チャネル3、及び選択チャネル5(5A)を通じてチャンバ1のラフポンピングが実行される。
2(2A,2B) 分岐チャネル
3 主チャネル
4 チャネル開閉弁
5(5A,5B,5C) 選択チャネル
6 チャネル切換弁
7 第1のポンプ
8(8A,8B,8C) 第2のポンプ
9 第3のポンプ
50A 第1のチャネル
50A−1 第1の分岐チャネル
50A−2 第2の分岐チャネル
50B 第2のチャネル
51 ターボ分子ポンプ
52、53、54 複合乾式ポンプ
C コントローラ
D 制御デバイス
P1 ポンプ本体
P2 メカニカルブースターポンプ
S1 真空排気システム(本発明)
S2 代替真空排気システム
V1、V2、V3、V4 弁
Claims (5)
- チャンバからガスを排気する真空排気システムであって、
前記真空排気システムは、
前記チャンバからの前記ガスの前記排気のための複数の分岐チャネルと、
前記複数の分岐チャネルの合流から形成された主チャネルと、
前記複数の分岐チャネルの各々に対応して装着されたチャネル開閉弁と、
チャネル切換弁と、
を含み、
前記主チャネルが、前記チャネル切換弁を介して複数の選択チャネルの一つに接続され、
前記チャネル切換弁は、前記主チャネルを前記複数の選択チャネルの何れか一つに接続するように構成され、
前記ガスの分子流れ領域内のガス排気手段である第1のポンプと、
前記ガスの粘性流れ領域内のガス排気手段である第2のポンプと、
を含み、
前記第1のポンプは、前記複数の分岐チャネルのうちのいずれかに装着され、
前記第2のポンプは、前記複数の選択チャネルに装着される、
ことを特徴とする真空排気システム。 - 前記第2のポンプの排気速度が低下する圧力領域内の該排気速度を高めるように構成された第3のポンプを備え、
前記第3のポンプは、前記複数の分岐チャネルのうちのいずれか1つに装着される、ことを特徴とする請求項1に記載の真空排気システム。 - 前記選択チャネルは、3つの選択チャネルを含み、前記第2のポンプのうちの各々の1つが、該選択チャネルの各々に装着され、
前記第2のポンプのうちの一つが、ガスが排気される時に前記チャンバのラフポンピングのために構成されるように、前記真空排気システムは構成されており、かつ前記第2のポンプは、ラフポンピングのために使用されていないときに、他の2つの前記選択チャネルに装着された他の2つの該第2のポンプのためのバックアップポンプとして使用されるように即座に使用可能な待機状態に保たれることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の真空排気システム。 - 前記第3のポンプは、前記複数の分岐チャネル内に装着され、前記分岐チャネルの前記第1のポンプから前記第3のポンプまでの部分の直径が、前記分岐チャネルの残りの部分の直径よりも大きいことを特徴とする請求項2に記載の真空排気システム。
- 第1のチャンバ及び少なくとも一つの追加のチャンバからガスを排気する真空排気システムであって、
前記第1のチャンバを排気するための請求項1〜4の何れか1項に記載の真空排気システム、及び、少なくとも一つの追加のチャンバからの前記ガスの排気のための少なくとも一つの追加の分岐チャネルと、
前記少なくとも一つの追加の複数の分岐チャネルの合流から形成された少なくとも一つの追加の主チャネルと、
前記少なくとも一つの追加の複数の分岐チャネルの各々に対応して装着されたチャネル開閉弁と、
少なくとも一つの追加のチャネル切換弁と、
を含み、
前記少なくとも一つの追加の主チャネルが、前記少なくとも一つの追加のチャネル切換弁を介して複数の選択チャネルの一つに接続され、
前記チャネル切換弁のそれぞれは、前記少なくとも一つの追加の主チャネルを前記複数の選択チャネルの何れか一つに接続するように構成され、
さらに、
前記少なくとも一つの追加のチャンバの排気のための前記ガスの分子流れ領域内のガス排気手段として機能する少なくとも一つの追加の第1のポンプ、を含み、
前記少なくとも一つの追加の第1のポンプは、前記少なくとも一つの追加の複数の分岐チャネルのうちのいずれかに装着されている、
ことを特徴とする真空排気システム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1500133.2 | 2015-01-06 | ||
GB1500133.2A GB2533933A (en) | 2015-01-06 | 2015-01-06 | Improvements in or relating to vacuum pumping arrangements |
PCT/GB2016/050019 WO2016110695A1 (en) | 2015-01-06 | 2016-01-06 | Vacuum exhaust system and channel-switching valve used in this vacuum exhaust system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018501437A JP2018501437A (ja) | 2018-01-18 |
JP6924147B2 true JP6924147B2 (ja) | 2021-08-25 |
Family
ID=55129989
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017553465A Active JP6924147B2 (ja) | 2015-01-06 | 2016-01-06 | 真空排気システム及びこの真空排気システムに使用されるチャネル切換弁 |
JP2017553464A Pending JP2018503027A (ja) | 2015-01-06 | 2016-01-06 | 真空ポンプ装置における又はそれに関連する改善 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017553464A Pending JP2018503027A (ja) | 2015-01-06 | 2016-01-06 | 真空ポンプ装置における又はそれに関連する改善 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20170350395A1 (ja) |
EP (2) | EP3243005B1 (ja) |
JP (2) | JP6924147B2 (ja) |
KR (2) | KR102504078B1 (ja) |
CN (2) | CN107110161B (ja) |
GB (2) | GB2533933A (ja) |
SG (1) | SG11201705287WA (ja) |
WO (2) | WO2016110695A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP6522892B2 (ja) * | 2014-05-30 | 2019-05-29 | 株式会社荏原製作所 | 真空排気システム |
-
2015
- 2015-01-06 GB GB1500133.2A patent/GB2533933A/en not_active Withdrawn
-
2016
- 2016-01-06 EP EP16700505.7A patent/EP3243005B1/en active Active
- 2016-01-06 WO PCT/GB2016/050019 patent/WO2016110695A1/en active Application Filing
- 2016-01-06 SG SG11201705287WA patent/SG11201705287WA/en unknown
- 2016-01-06 JP JP2017553465A patent/JP6924147B2/ja active Active
- 2016-01-06 CN CN201680005140.5A patent/CN107110161B/zh active Active
- 2016-01-06 GB GB1600201.6A patent/GB2536336B/en not_active Expired - Fee Related
- 2016-01-06 KR KR1020177018524A patent/KR102504078B1/ko active IP Right Grant
- 2016-01-06 US US15/541,083 patent/US20170350395A1/en not_active Abandoned
- 2016-01-06 JP JP2017553464A patent/JP2018503027A/ja active Pending
- 2016-01-06 US US15/541,085 patent/US10309401B2/en active Active
- 2016-01-06 WO PCT/GB2016/050018 patent/WO2016110694A1/en active Application Filing
- 2016-01-06 EP EP16700506.5A patent/EP3247907B1/en active Active
- 2016-01-06 KR KR1020177018523A patent/KR20170102256A/ko unknown
- 2016-01-06 CN CN201680005146.2A patent/CN107110162B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170102256A (ko) | 2017-09-08 |
EP3243005A1 (en) | 2017-11-15 |
US20170350395A1 (en) | 2017-12-07 |
CN107110161B (zh) | 2019-09-13 |
CN107110162B (zh) | 2019-07-16 |
WO2016110695A1 (en) | 2016-07-14 |
EP3247907B1 (en) | 2019-05-01 |
KR102504078B1 (ko) | 2023-02-24 |
EP3247907A1 (en) | 2017-11-29 |
CN107110161A (zh) | 2017-08-29 |
CN107110162A (zh) | 2017-08-29 |
GB2536336B (en) | 2018-06-20 |
EP3243005B1 (en) | 2019-08-28 |
GB2536336A (en) | 2016-09-14 |
US10309401B2 (en) | 2019-06-04 |
KR20170102257A (ko) | 2017-09-08 |
SG11201705287WA (en) | 2017-07-28 |
JP2018503027A (ja) | 2018-02-01 |
GB2533933A (en) | 2016-07-13 |
WO2016110694A1 (en) | 2016-07-14 |
US20180003178A1 (en) | 2018-01-04 |
GB201600201D0 (en) | 2016-02-17 |
JP2018501437A (ja) | 2018-01-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181120 |
|
A977 | Report on retrieval |
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|
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|
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|
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|
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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