JP6892568B2 - 表面性に優れたSnを主成分とするはんだ合金の選別方法 - Google Patents

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Description

本発明は、基板と電子部品等の接合用などに使用されるSnを主成分とするSn系はんだ合金の選別方法に関する。
従来、はんだ合金には柔らかくて加工しやすいPbが主成分として用いられていたが、近年は環境汚染に対する配慮からPbの使用を制限する動きが強くなってきており、例えばRoHS指令などではPbは規制対象物質になっている。こうした動きに対応して、電子部品などの組立の分野においても、Pbを含まない(無鉛)はんだ合金、即ちPbフリーはんだ合金が求められており、既に中低温用(約140〜230℃)のはんだ合金ではSnを主成分とするPbフリーのはんだ合金が実用化されている。
例えば特許文献1にはSnを主成分とし、Agを1.0〜4.0質量%、Cuを2.0質量%以下、Niを0.5質量%以下、Pを0.2質量%以下含有するPbフリーのはんだ合金が記載されている。また、特許文献2にはAgを0.5〜3.5質量%、Cuを0.5〜2.0質量%含有し、残部がSnからなるPbフリーのはんだ合金が記載されている。
更に、特許文献3には上記のようなPbフリーはんだ合金の接合性を向上させるため、はんだ合金及び被接合部材の両方とも前処理を行うことなくフラックスレスではんだ接続する技術が開示されている。このはんだ接合方法は、力を加えることにより溶融はんだの表面被膜が破れて濡れ性を確保することができるので、より高い酸素濃度でLSI、回路基板等の電子回路の被接合部材の接合部間をフラックスレスではんだ接合することができる。具体的には、この電子回路のフラックスレスはんだ接合方法は、被接合部材の両方の接合面にAuめっきを施す工程と、上記接合面に接合用のはんだを供給する工程と、上記接合用のはんだを非酸化性若しくは還元性の雰囲気下で加熱溶融して、はんだの新生面を露出させてはんだの濡れ性を確保する工程とを含むことを特徴としている。
特開平11−077366号公報 特開平8−215880号公報 特開平6−326448号広報
上記の特許文献3の技術は、フラックスレスで濡れ性を確保することができる上、ボイドの巻き込みやフラックス残渣に由来する様々な不具合がなくなり、また、フラックス残渣の洗浄工程が不要になるので非常にメリットがある。しかし、特許文献3の技術では、被接合部材の両方の接合面に非常に高価なAuを用いてAuめっきを施す必要があり、コスト高になるという問題をかかえている。
また、近年の技術の進歩により電子機器はより過酷な条件下で使用される場合が増えており、そのため、電子機器に搭載される電子部品等の接合等に使用されるSnを主成分とするはんだ合金には、優れた濡れ広がり性や接合性に加えて、諸特性の経時変化が少なく、保管性に優れていることが求められるようになってきている。このような背景のもと、本発明は優れた濡れ広がり性や接合性を有することにより高い接合信頼性が得られることに加えて、諸特性の経時変化が少なく、長期に亘って高品質の状態を保つことが可能なSn系はんだ合金を提供することを目的としている。
上記目的を達成するため、本発明が提供するSn系はんだ合金の選別方法の第1の実施形態は、Agを0.1質量%以上6.5質量%以下、Cuを0.01質量%以上5.0質量%以下含有し、残部が製造上、不可避的に含まれる元素を除きSnからなるSn−Ag−Cu系はんだ合金の選別方法であって、はんだ合金の表面の色を測定してJIS Z8781−4のL*a*b*表示系で表したとき、L*が29.0以上51.0以下、a*が−3.05以上−0.05以下、及びb*が−5.2以上0.8以下のうちの少なくともいずれかを満たさない場合は前記はんだ合金を取り除くことを特徴としている。
また、本発明が提供するSn系はんだ合金の選別方法の第2の実施形態は、Sbを0.01質量%以上20.00質量%以下含有し、残部が製造上、不可避的に含まれる元素を除きSnからなるSn−Sb系はんだ合金の選別方法であって、はんだ合金の表面の色を測定してJIS Z8781−4のL*a*b*表示系で表したとき、L*が14.5以上38.5以下、a*が−2.45以上−0.85以下、及びb*が−14.6以上−0.6以下のうち少なくともいずれかを満たさない場合は前記はんだ合金を取り除くことを特徴としている。
本発明によれば、優れた濡れ広がり及び接合性を有することにより高い接合信頼性が得られることに加えて、品質のバラつきや諸特性の経時変化が少なく、保管性に優れたSn系はんだ合金を提供することができる。
NiめっきしたCu基板の上にはんだ合金が接合された接合体の断面図である。 縦横比の計算に用いる最大のはんだ濡れ広がり長さの長径(X1)及び最小のはんだ濡れ広がり長さの短径(X2)を模式的に示す平面図である。 NiめっきしたCu基板とSiチップとをはんだ合金で接合した接合体の断面図である。
本発明はSnを主成分とするSn系はんだ合金のうちSn−Ag−Cu系はんだ合金及びSn−Sb系はんだ合金を対象としており、これらはいずれも固相線温度がおおよそ210℃以上である。そして、JIS Z8781−4のL*a*b*表示系ではんだ合金の表面の色を表したときにL*、a*、及びb*がそれぞれ所定の範囲内であることを必須の条件としている。これは、Sn系はんだ合金でははんだ表面に酸化物や不純物が存在するとはんだ合金の表面特性が好ましい状態ではなくなり、濡れ特性などの諸特性が経時変化し易い不安定な状態になるが、このような不安定な状態ではSn系はんだ合金の表面の色を上記のL*a*b*表示系で表した時、L*、a*及びb*の少なくともいずれかが予め定めておいた範囲から外れることを発明者は見出した。
すなわち、はんだの表面特性が良好な状態のまま安定的に保たれているか否かの判断を、単にはんだ合金の表面の色を把握することで簡易に行い得ることを見出した。但し、このように加工性、応力緩和性、信頼性等の諸特性に影響を及ぼすはんだの表面特性をL*、a*、b*で把握するには、はんだ合金の組成を所定の範囲内にする必要がある。以下、かかる本発明のSn系はんだ合金の必須元素及び必要に応じて含有させる元素並びにL*a*b*表示系のL*、a*、b*について詳細に説明する。
<L*、a*、b*>
はんだ合金の濡れ性や接合性をバラツキなく安定させるためにはその表面状態を一定に維持するのが好ましい。一般的に、はんだ合金の表面は酸化物層や僅かではあるが不純物が不可避的に付着しているため、それらがどのような状態で付着しているかを明確に把握することができれば品質管理上好ましい。そこで、例えば電界放射型オージェ電子分光装置などではんだ表面付近の酸化物層や炭素量、はんだ成分などを測定することが考えられるが、このような分析装置を製造ラインに入れてはんだ合金の品質管理を行うのはコストがかかり過ぎて現実的ではない。
本発明者はSn系はんだ合金において濡れ性や接合性に大きく影響するはんだ合金の表面特性をはんだ合金の表面の色(明度、色相、彩度)を測定することにより簡易に把握して制御できることを見出した。すなわち、本発明のSn系はんだ合金は、その表面の色を測定してこれをJIS Z8781−4のL*a*b*表示系で表した時、Sn−Ag−Cu系はんだ合金の場合は、L*が29.0以上51.0以下、a*が−3.05以上−0.05以下、b*が−5.2以上0.8以下の範囲であり、Sn−Sb系はんだ合金の場合は、L*が14.5以上38.5以下、a*が−2.45以上−0.85以下、b*が−14.6以上−0.6以下の範囲内であることを特徴としている。
ここでL*、a*、b*はJIS Z8781において定義される色に関するL*a*b*表示系であり、明度をL*、色相と彩度をa*及びb*で表現したものである。Sn系はんだ合金の表面の色のL*、a*、b*を上記の範囲内とすることにより、はんだ合金の表面層における濡れ性や接合性に悪影響を及ぼす酸化層や不純物の付着状態が許容範囲内になり、また、この良好なはんだ表面状態をほぼ均一な状態に保つことができる。その結果、濡れ広がりや被接合体との合金生成をほぼ均一にでき、ボイドの形成を抑えることができる。よって高い接合信頼性を得ることが可能になる。
本発明のSn系はんだ合金は、このように高品質の状態を安定的に保てるので、収率や生産性が高くなり、コスト的なメリットが得られる。また、表面状態が清浄であることによって酸化や腐食等が進行しにくくなり、保管性や耐食性等にも優れたはんだ合金を提供することができる。Sn系はんだ合金においてL*、a*及びb*の少なくともいずれかが上記の範囲を外れていると、酸化物層が厚かったり、不純物が許容範囲を超えて存在したりする可能性が高くなり、そのようなはんだ合金は高い頻度で濡れ性や接合性に劣るため、結果的に接合信頼性が低いものになる。
これは、はんだ合金の表面が製造初期段階において既に酸化が進行していたり表面に不純物が多く付着していたりすると、その部分を起点としてその後の酸化や腐食が進行し易くなり、よってはんだ合金の諸特性の経時変化が著しくなって、保管性に劣ることになると考えられる。逆に、はんだ表面の酸化がほとんど進行していなかったり不純物がほとんどない場合は、更なる酸化や腐食が比較的緩やかに進行するので優れた濡れ性や接合性を有するはんだ合金になると考えられる。
従って、分光色測計などのL*、a*、b*の測定が可能な装置を用いて、製造段階のSn系はんだ合金を定期的若しくはロット毎にサンプリングし、その表面のL*、a*、b*を測定し、それらの少なくとも1つが上記した範囲を外れていればそのサンプリングした試料の母集団となるはんだ合金については以降の製造を中断し、不純物の付着状況等についてより精密な検査を行うような簡易且つ迅速な選別工程を製造ラインに加えることができる。これにより、コストをあまりかけることなく高品質のはんだ合金製品を提供することができる。
<Sn>
Snは本発明のSn系はんだ合金において主成分をなす元素である。Snは融点が231℃と比較的低温である上、柔らかい金属であるため、Snを主成分とし、はんだ合金の用途等に応じて適宜他の元素を含有させて合金化することによって、中温域用のはんだ合金に必要な種々の特性を備えたはんだ合金を得ることができる。本発明では、このように用途等に応じて適宜含有される下記の各種元素の含有量によってSnの含有量が定まる。
<Ag>
Agは本発明のSn系はんだ合金の第1の実施形態であるSn−Ag−Cu系はんだ合金においては必須元素であり、本発明のSn系はんだ合金の第2の実施形態であるSn−Sb系はんだ合金においては必要に応じて含有される任意元素である。Sn−Ag状態図に示されるように、SnとAgはSn−3.5質量%Agでβ−Sn相とAgSnから成る共晶合金を生成する。このため、一般にSn−Ag系はんだ合金は共晶はんだとして使用される。その共晶点温度は221℃とSn単体より10℃程度下がり、はんだ合金として使い易くなる。さらにAgは酸化されにくくて反応性の高い金属であるため、はんだに含有させると濡れ性や接合性を向上させる。さらにはんだ中にAgSn金属化合物が分散していることにより高い信頼性が得られる。
Cuが含有されたSn−Ag−Cu系合金においても上記の性質は基本的に維持される。但し、Sn−Ag−Cu系合金において上記した優れた特性を示すAgの含有量は0.1質量%以上6.5質量%以下である。Ag含有量が0.1質量%未満では含有量が少なすぎて実質的に含有させた効果が現れない。一方、Ag含有量が6.5質量%を超えると粗大なAgSnが生成してチップ傾きの原因になったり、はんだ合金が硬くて脆くなるので好ましくない。
本発明の第2の実施形態のSn−Sb系はんだ合金においてAgを含有させる目的は、濡れ性の向上と信頼性の向上にある。すなわち、Agを含有させることで前述した酸化されにくくて反応性の高いAgの特徴を発揮させることができ、また、はんだ合金内で生成されるAgSnによりクラックの進展抑制効果が期待できる。Sn−Ag−Cu系はんだ合金とSn−Sb系はんだ合金の主な違いはその融点にあり、Sn−Sb系はんだ合金の方がSn−Ag−Cu系はんだ合金に比べて融点が10〜30℃程度高い。主なAgの効果については両合金とも似ているが、その含有量は異なる。すなわち、Sn−Sb系はんだ合金においてAgを含有する場合はその含有量は0.1質量%以上5.0質量%以下である。この範囲内であれば過剰な金属化合物の生成や固相線温度と液相線温度との差も許容範囲内になるので良好な接合ができ、よって高い信頼性を得ることができる。
<Cu>
Cuは本発明のSn系はんだ合金の第1の実施形態であるSn−Ag−Cu系はんだ合金においては必須元素である。Cuを含有させることによってCuSnなどの金属間化合物が生成され、機械的強度が向上するとともに接合信頼性が増す。但し、Cuの含有量が多すぎると金属間化合物が多くなりすぎ、はんだ合金が硬くて脆くなってしまう。よって、Cuの含有量は0.01質量%以上5.0質量%以下である。0.01質量%未満では含有量が少なすぎて実質的に含有させた効果が現れない。一方、5.0質量%を超えると既に述べたようにCuSn金属間化合物の量が多くなりすぎて硬くて脆くなったり、さらには接合時に十分に溶融しなかったり、金属間化合物が粗大化してチップ傾きやボイド発生の原因となったりしてしまう。Cu含有量が0.1質量%以上1.50質量%以下の範囲であれば、上記したCuの含有効果がより一層顕著に現われるので好ましい。
<Ni、Ge>
Niは本発明のSn系はんだ合金の第1及び第2の実施形態であるSn−Ag−Cu系はんだ合金及びSn−Sb系はんだ合金のいずれにおいても必要に応じて含有される任意元素である。また、Geは前者のSn−Ag−Cu系はんだ合金において必要に応じて含有される任意元素である。Sn−Ag−Cu系はんだ合金においてNiやGeを含有させる効果はほぼ同様であり、両方を同時に含有させてもよい。
NiやGeをSn−Ag−Cu系はんだ合金中に含有させることにより接合時のはんだ凝固時にそれが核となって結晶が微細化してクラックが進展しにくくなり、信頼性が向上する。さらにCu面との接合において接合界面のCuSnの成長を抑え、クリープ特性や疲労特性が向上する。このように優れた効果を付与できるNiやGeの含有量は、Niを含有する場合は0.01質量%以上2.00質量%以下、Geを含有する場合は0.01質量%以上2.00質量%以下である。この範囲内であれば、良好な接合が可能となるので好ましい。
一方、Sn−Sb系はんだ合金は包晶合金であるが、Niの効果は上記したSn−Ag−Cu系はんだ合金の場合と似通っている。すなわち、Niを含有させることにより、Niが核となり結晶が微細化したりCu面との過剰な金属間化合物の生成を抑制したりして接合信頼性等を向上させる。Sn−Sb系はんだ合金にNiを含有させる場合は、その含有量は0.01質量%以上2.00質量%以下である。この範囲内であれば少なすぎことも多すぎることもなく良好な接合が可能となる。
<Sb>
Sbは本発明のSn系はんだ合金の第1の実施形態であるSn−Ag−Cu系はんだ合金では必要に応じて含有される任意元素であり、本発明のSn系はんだ合金の第2の実施形態であるSn−Sb系はんだ合金では必須元素である。Sn−Ag−Cu系はんだ合金においてSbを含有させる効果は主に信頼性の向上である。すなわち、Sbを含有させることによりはんだ合金の機械的特性が改善され、これにより接合信頼性等の改善が期待できる。Sn−Ag−Cu系はんだ合金にSbを含有させる場合は、その含有量は0.01質量%以上8.00質量%以下である。この範囲内であれば上記した効果が良好に奏される。
一方、Sn−Sb系はんだ合金においてSbは主成分をなすため、その役割は、例えばSn−Ag−Cu系はんだ合金より融点を高くしたり、硬い包晶金属にすることなどを挙げることができる。このように、Sn−Sb系はんだ合金ではSbはSn−Ag−Cu系はんだ合金とは異なる役割を担っており、その含有量は0.01質量%以上20.00質量%以下である。このSb含有量が0.1質量%未満では含有量が少なすぎて実質的に効果が現れず、一方、20.0質量%を超えると含有量が多すぎて液相線温度が高くなりすぎたり金属間化合物の生成量が許容範囲を超えてしまったりして良好な接合ができなくなってしまう。Sb含有量が2.00質量%以上12.00質量%以下であれば含有させた効果が顕著に現れるので好ましい。
<P>
Pは本発明のはんだ合金において濡れ性等の諸特性を向上させるために必要に応じて添加される任意元素である。Pが濡れ性を向上させるメカニズムは以下のとおりである。Pは還元性が強く、Sn、Ag、Cu、Ni、Ge、Sbなどよりも優先して自らが酸化するため、はんだ母相の酸化を防ぐ効果がある。また、半導体素子等の接合面を還元して濡れ性を確保する効果も有している。この接合の際にはんだ合金の表面や接合面の表面の酸化物層がなくなるため、酸化膜によって起こる接合不良が発生しにくくなり、その結果、接合性及び信頼性等が向上する。
Pの含有量が0.500質量%以下であれば、Pの含有量が多ければ多いほど上記の濡れ性向上の効果は大きくなる。従って、Pの含有量を制御することにより、濡れ性を任意に制御することが可能になる。一方、0.500質量%を超えて含有しても濡れ性向上の効果はあまり変わらず、過剰な含有によってかえってPやP酸化物の気体が多量に発生して接合に支障をきたす虞があることからPを含有する場合は0.500質量%以下が好ましい。なお、Pの含有量は、0.001質量%未満では含有量が少なすぎて実質的に含有させた効果が現れない虞があるので0.001質量%以上であるのが好ましい。
原料として、それぞれ純度99.99質量%以上のSn、Ag、Cu、Ni、Ge、Sb及びPを準備した。大きな薄片やバルク状の原料については、溶解後の合金においてサンプリング場所による組成のバラツキがなく、均一になるように留意しながら、切断及び粉砕などにより3mm以下の大きさに細かくした。次に、これら原料から所定量を秤量して、高周波溶解炉用のグラファイト製坩堝に入れた。
上記各原料の入った坩堝を高周波溶解炉に入れ、酸化を抑制するために窒素を原料1kg当たり0.7リットル/分以上の流量で流した。この状態で溶解炉の電源を入れ、原料を加熱溶融させた。原料が溶融しはじめたら混合棒でよく撹拌し、局所的な組成のばらつきが起きないように均一に混合した。十分溶融したことを確認した後、高周波電源を切り、速やかに坩堝を取り出し、坩堝内の溶湯をはんだ母合金の鋳型に流し込んだ。鋳型は、鋳造後に圧延、プレスを行うことを考慮し、幅45mm×厚さ5mm×長さ250mmものを用い、各試料の長さが150±5mmとなるように製造した。
このようにして、上記各原料の混合比率を種々に変えた試料1〜51のSn−Ag−Cu系はんだ合金、及び試料52〜87のSn−Sb系はんだ母合金を作製した。得られた試料1〜87の各はんだ母合金の組成をICP発光分光分析器(SHIMAZU S−8100)を用いて組成分析した。得られた組成分析結果を下記表1〜4に示す。
Figure 0006892568
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Figure 0006892568
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次に、上記試料1〜51のSn−Ag−Cu系はんだ合金及び試料52〜87のSn−Sb系はんだ母合金の各々について、下記のごとく圧延機でシート状に加工し、さらにプレス機で打抜いて、直径3.0mmの円板形状(以下、Φ3mm品)と8.0mm×8.0mmの四角形状(以下、□8mm品)の2種類の打抜き品を製造した。そしてこれら打抜き品について分光色測計を用いてL*、a*、b*を測定した。さらにΦ3mm品を基板と接合して濡れ広がり性を評価した。さらに□8mm品を用いて、基板とチップの接合体を作り接合性、保管性、及び信頼性を評価した。以下、打抜き品の製造方法、そして各種評価方法について詳述する。
なお、表面状態を調整するため、50〜200℃の温度で大気、窒素、水素中での熱処理を行った。さらに比較例において故意に表面状態を悪くする必要がある試料についてはオイルに漬けた後、軽い洗浄を行い、故意にオイルがはんだ表面に残るように調整した。
<打抜き品の製造方法>
上記表1〜4に示す試料1〜87のはんだ母合金(厚さ5mmの板状インゴット)の各々を、圧延機を用いて厚さ50μmまで圧延した。圧延作業には関しては以下に注意を払い加工した。まず、試料がロールに貼り付かないように必要に応じて潤滑油を適量かけながら圧延した。このようにロールとシート及びシートとシートの間に油膜を作ることによって、ロールとシート又はシート同士が貼り付くことを抑えることができる。そして、試料の送り速度にも配慮が必要であり、送り速度が速すぎるとシート同士が貼り付きやすくなったり、張力がかかりすぎて切れてしまったりする。逆に送り速度が遅すぎると撓みが発生して巻きずれを起こしたり、均一な厚みのシートが得られなかったりする。
得られた各シートはプレス機を用いて打抜き品に加工した。具体的にはシートをプレス機にセットして、その後、潤滑油を供給しながら打抜いていき、打抜き品を有機溶剤の入った容器に回収していった。形状は各試料について、Φ3mm品、□8mm品の2種類の形状に加工した。その後、打抜き品を有機溶剤によって洗浄し、真空乾燥機で真空引きしながら2時間乾燥し、評価用の試料を得た。そして、表面状態を調整するため必要に応じて50〜200℃の温度で大気、窒素、又は水素中で熱処理したり、オイルに漬けたりした後、軽い洗浄を行った。
<L*、a*、b*の測定>
上記した試料1〜87について、L*、a*、b*を分光色測計(コニカミノルタオプティクス株式会社製、型式:CM−5)を用いて測定した。まず、標準光源によって装置の校正を行った。その後、試料を測定台に載せ、蓋を閉じて自動で測定を行った。測定は正反射光を除去した測定とした(本装置においてSCEモード、正反射光を除去する測定モード)。各試料の測定結果は上記表1〜4に示した。
<濡れ広がり性の評価(縦横比の測定)>
濡れ性試験機(装置名:雰囲気制御式濡れ性試験機)を起動し、加熱するヒーター部分に2重のカバーをしてヒーター部の周囲4箇所から窒素ガスを12L/分の流量で流した。その後、ヒーター設定温度を各試料の融点より50℃高い温度にして加熱した。ヒーター温度が設定値で安定した後、Niめっき(膜厚:3.0μm)したCu基板(板厚:0.3mm)をヒーター部にセッティングして25秒加熱し、次にΦ3mm品のはんだ合金試料をCu基板上に載せて25秒加熱した。この加熱が完了した後、Cu基板をヒーター部から取り上げ、その横の窒素雰囲気が保たれている場所に一旦設置して冷却し、十分に冷却した後大気中に取り出した。
得られた図1に示すようなCu基板のNi層にはんだ合金が接合された接合体について、濡れ広がったはんだ合金の縦横比を求めた。具体的には、図2に示す最大のはんだ濡れ広がり長さを長径(X1)、最小のはんだ濡れ広がり長さ短径(X2)を測定し、下記計算式1により縦横比を算出した。計算式1の縦横比が1に近いほど基板上に真円状に濡れ広がっており、濡れ広がり性がよいと判断できる。逆に1よりも大きくなるに従い濡れ広がり形状が真円からずれていき、溶融はんだの移動距離にバラつきがでて反応が不均一になり、合金層の厚みや成分にバラつきが大きくなって均一で良好な接合ができなくなってしまう。さらにある方向に多くのはんだが流れるように広がってはんだ量が過剰な箇所とはんだが無い箇所ができ、接合不良や場合よっては接合できなかったりしてしまう。
[計算式1]
縦横比=長径÷短径
<接合性の評価(ボイド率の測定)>
接合性の評価には上記の□8mm品を用いて行った。まず、ダイボンダー(ウウェストボンド社製、MODEL:7327C)を起動し、加熱するヒーター部分にカバーをしてヒーター部の周囲から窒素を流した(窒素流量:合計8L/分)。その後、ヒーター設定温度を融点より50℃高い温度にして加熱した。ヒーター温度が設定値で安定した後、Niめっき(膜厚:3.0μm)したCu基板(板厚:0.3mm)をヒーター部にセッティングして25秒加熱した。次に、□8mm品のはんだ合金試料をCu基板の上に載せて25秒加熱し、その直後にSiチップを載せて3秒間スクラブした。スクラブが終了した後はCu基板をヒーター部から取り上げてその横の窒素雰囲気が保たれている場所に一旦設置して冷却した。十分に冷却した後、Siチップ接合体を大気中に取り出した(図3参照)。
濡れ性を確認するため、得られたSiチップ接合体のボイド率をX線透過装置(株式会社東芝製、TOSMICRON−6125)を用いて測定した。具体的にははんだ合金試料でSiチップとCu基板とが接合されたSiチップ接合体の接合面に向けてSiチップの真上から垂直にX線を透過し、以下の計算式2を用いてボイド率を算出した。
[計算式2]
ボイド率=ボイド面積÷(ボイド面積+はんだとCu基板との接合面積)×100(%)
<保管性の評価>
はんだ試料を長期間保管した場合、はんだ表面が腐食したり、酸化したりして表面状態が変わってしまうと濡れ性や接合性を低下させてしまい、良好な接合ができなくなってしまう。さらにはんだ表面が経時変化してしまうと接合状態にバラつきを生じてしまう。従って、はんだ表面が環境によって変化しないことは良好な接合を得るために重要なことである。この保管性を評価するため、恒温恒湿下での試験を行った。
具体的には各□8mm品を恒温恒湿槽(ヤマト科学株式会社製、型式:IW242)に入れ、85℃−85%RH−1000時間の試験を行った。試料1の恒温恒湿試験前の酸化膜厚の厚さを100として、各試料の恒温恒湿試験前後の酸化膜厚を相対評価した。酸化膜厚の定義ははんだ合金表面付近の最高酸化濃度を100%として、はんだ表面から深さ方向に酸素濃度を測定していったときに酸素濃度が50%まで減少したときのはんだ表面からの深さ(距離)とした。はんだ合金表面付近の酸化物層の厚さは電界放射型オージェ電子分光装置(ULVAC−PHI製、型式:SAM−4300)により行った。
<信頼性の評価(ヒートサイクル試験)>
はんだ接合の信頼性を評価するためにヒートサイクル試験を行った。この試験は、上記した接合性の評価においてはんだ合金がCu基板に接合できた試料(濡れ性の評価が○又は△の試料)を各々2個ずつ用いて行った。即ち、各試料のはんだ合金が接合されたCu基板2個のうちの1個に対しては、−40℃の冷却と+150℃の加熱を1サイクルとするヒートサイクル試験を途中確認のため500サイクルまで繰り返した。残る1個に対しては、同様のヒートサイクル試験を1000サイクルまで繰り返した。
その後、500サイクル及び1000サイクルのヒートサイクル試験を実施した各試料について、はんだ合金が接合されたCu基板を樹脂に埋め込み、断面研磨を行い、SEM(装置名:HITACHI S−4800)により接合面の観察を行った。この観察の結果、接合面に剥がれが生じるか又ははんだにクラックが入った場合を「×」、そのような不良がなく、初期状態と同様の接合面を保っていた場合を「○」とした。
得られた信頼性の評価結果を上記の濡れ広がり性等の評価結果と共に下記の表5〜8に示す。
Figure 0006892568
Figure 0006892568
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上記表5〜8から分るように、本発明による試料1〜35及び52〜76の各Sn系はんだ合金の試料は、濡れ広がり性、接合性、保管性、及び信頼性の全ての評価項目において良好な特性を示している。即ち、濡れ広がり性の評価では、縦横比が1.04以下であり、接合性評価ではボイド率が0.2%以下であり、均一な濡れ広がり、非常に優れた接合性を示した。さらに保管性の評価では試験前後で酸化膜厚がほとんど変化なく、はんだ合金表面が変化しづらく非常に優れた保管性を示し、信頼性評価では1000サイクルまでに不良は一切発生しなかった。このように優れた結果が得られた理由は本発明のはんだ合金においてL*、a*、b*が適正な範囲内にあり、かつはんだ合金組成が適切な範囲にあるためだと考えられる。
一方、比較例である試料36〜51及び77〜87の各はんだ合金は、L*、a*、b*が適切な範囲にないか、又は、Ag、Cu、Ni、Ge、Sb及びPのうちのいずれかの含有量が適切でなかったため、各種評価で好ましくない結果となった。すなわち、濡れ広がり性評価では全ての試料が1.2以上であり、接合性の評価ではボイド率が8%以上であり、保管性の評価では試験前の酸化膜が相対比較で試料1の3倍以上あり、さらに試験後で5倍以上に厚くなっている。そして、信頼性評価では500サイクルまでに不良が発生した。
1 Cu基板
2 Ni層
3 はんだ合金
4 Siチップ


Claims (2)

  1. Agを0.1質量%以上6.5質量%以下、Cuを0.01質量%以上5.0質量%以下含有し、残部が製造上、不可避的に含まれる元素を除きSnからなるSn−Ag−Cu系はんだ合金の選別方法であって、
    はんだ合金の表面の色を測定してJIS Z8781−4のL*a*b*表示系で表したとき、L*が29.0以上51.0以下、a*が−3.05以上−0.05以下、及びb*が−5.2以上0.8以下のうちの少なくともいずれかを満たさない場合は前記はんだ合金を取り除くことを特徴とするSn−Ag−Cu系はんだ合金の選別方法。
  2. Sbを0.01質量%以上20.00質量%以下含有し、残部が製造上、不可避的に含まれる元素を除きSnからなるSn−Sb系はんだ合金の選別方法であって、
    はんだ合金の表面の色を測定してJIS Z8781−4のL*a*b*表示系で表したとき、L*が14.5以上38.5以下、a*が−2.45以上−0.85以下、及びb*が−14.6以上−0.6以下のうち少なくともいずれかを満たさない場合は前記はんだ合金を取り除くことを特徴とするSn−Sb系はんだ合金の選別方法。
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