JP6846974B2 - 表面処理液及びその利用 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 101
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 88
- -1 azole compound Chemical class 0.000 claims description 151
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 121
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 121
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 105
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole Natural products C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 79
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 76
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 76
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 58
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 56
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 50
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 25
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 claims description 19
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 56
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 33
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 29
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 13
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 13
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 11
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 11
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical group NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N benzopyrrole Natural products C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 1H-1,2,3-Triazole Chemical compound C=1C=NNN=1 QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical class C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BKRYFHAXBGUIOI-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-imidazol-2-amine Chemical compound CC1=CNC(N)=N1 BKRYFHAXBGUIOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 6
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ULRPISSMEBPJLN-UHFFFAOYSA-N 2h-tetrazol-5-amine Chemical compound NC1=NN=NN1 ULRPISSMEBPJLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 5
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WYENVTYBQKCILL-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazolidine-3,5-dithione Chemical compound S=C1NNC(=S)N1 WYENVTYBQKCILL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXQAZWIBPGKHOX-UHFFFAOYSA-N 1H-indol-3-amine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CNC2=C1 TXQAZWIBPGKHOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical compound SC=1N=CNN=1 AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DEPDDPLQZYCHOH-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazol-2-amine Chemical compound NC1=NC=CN1 DEPDDPLQZYCHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYTLHYRDGXRYEY-UHFFFAOYSA-N 5-Methyl-3-pyrazolamine Chemical compound CC=1C=C(N)NN=1 FYTLHYRDGXRYEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WZUUZPAYWFIBDF-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound NC1=NNC(S)=N1 WZUUZPAYWFIBDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 0 C*(*)SC1=NN=C(*)*1 Chemical compound C*(*)SC1=NN=C(*)*1 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- PKWIYNIDEDLDCJ-UHFFFAOYSA-N guanazole Chemical compound NC1=NNC(N)=N1 PKWIYNIDEDLDCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CN1 OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LLCOQBODWBFTDD-UHFFFAOYSA-N 1h-triazol-1-ium-4-thiolate Chemical compound SC1=CNN=N1 LLCOQBODWBFTDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JWYUFVNJZUSCSM-UHFFFAOYSA-N 2-aminobenzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(N)=NC2=C1 JWYUFVNJZUSCSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CIULAVLZOPPVFP-UHFFFAOYSA-N 2H-benzotriazole-5-thiol Chemical compound SC1=CC=C2NN=NC2=C1 CIULAVLZOPPVFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 2H-isoindole Chemical compound C1=CC=CC2=CNC=C21 VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSFHICWNEBCMNN-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazol-5-amine Chemical compound NC1=CC=C2NN=NC2=C1 XSFHICWNEBCMNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YQYLRHOZPZXJKN-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triethoxysilylpropylsulfanyl)-1H-1,2,4-triazol-5-amine Chemical compound NC1=NNC(=N1)SCCC[Si](OCC)(OCC)OCC YQYLRHOZPZXJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ONYNOPPOVKYGRS-UHFFFAOYSA-N 6-methylindole Natural products CC1=CC=C2C=CNC2=C1 ONYNOPPOVKYGRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PAPNRQCYSFBWDI-UHFFFAOYSA-N DMP Natural products CC1=CC=C(C)N1 PAPNRQCYSFBWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWJASCTWJJZMLN-UHFFFAOYSA-N NC1=NNC(=N1)SCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound NC1=NNC(=N1)SCCC[Si](OC)(OC)OC RWJASCTWJJZMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 3
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FMCUPJKTGNBGEC-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazol-4-amine Chemical compound NN1C=NN=C1 FMCUPJKTGNBGEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QZQLBBPKPGSZBH-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydroindazole-3-thione Chemical compound C1=CC=C2C(S)=NNC2=C1 QZQLBBPKPGSZBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVIZXLDFWPPPDX-UHFFFAOYSA-N 1-methylindazol-4-amine Chemical compound C1=CC=C2N(C)N=CC2=C1N FVIZXLDFWPPPDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSUGQXMRKOKBFI-UHFFFAOYSA-N 1-methylindazole Chemical compound C1=CC=C2N(C)N=CC2=C1 CSUGQXMRKOKBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YDTDKKULPWTHRV-UHFFFAOYSA-N 1H-indazol-3-amine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=NNC2=C1 YDTDKKULPWTHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEJFADGISRFLFO-UHFFFAOYSA-N 1H-indazol-6-amine Chemical compound NC1=CC=C2C=NNC2=C1 KEJFADGISRFLFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHWDSEPNZDYMNF-UHFFFAOYSA-N 1H-indol-2-amine Chemical compound C1=CC=C2NC(N)=CC2=C1 IHWDSEPNZDYMNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXYVKXKWSPEULT-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazol-1-ium-4-thiolate Chemical compound SC1=CNC=N1 CXYVKXKWSPEULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBTOSRUBOXQWBO-UHFFFAOYSA-N 1h-indazol-5-amine Chemical compound NC1=CC=C2NN=CC2=C1 XBTOSRUBOXQWBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZISLUPNINLZWRT-UHFFFAOYSA-N 1h-indazole-5-thiol Chemical compound SC1=CC=C2NN=CC2=C1 ZISLUPNINLZWRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MIMYTSWNVBMNRH-UHFFFAOYSA-N 1h-indol-6-amine Chemical compound NC1=CC=C2C=CNC2=C1 MIMYTSWNVBMNRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYFRUBQVZGVXPR-UHFFFAOYSA-N 1h-indole-3-thiol Chemical compound C1=CC=C2C(S)=CNC2=C1 LYFRUBQVZGVXPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVVRJMXHNUAPHW-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazol-5-amine Chemical compound NC=1C=CNN=1 JVVRJMXHNUAPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLSWIGRIBOSFMV-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrol-2-amine Chemical compound NC1=CC=CN1 QLSWIGRIBOSFMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WAUGGYPDCQZJKK-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrol-3-amine Chemical compound NC=1C=CNC=1 WAUGGYPDCQZJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CARFETJZUQORNQ-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrole-2-thiol Chemical compound SC1=CC=CN1 CARFETJZUQORNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1h-triazole Chemical compound N1NC=CN1 SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=CN=C(C)N1 LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVRYCPZDHKLBNR-UHFFFAOYSA-N 2-mercaptoindole Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=CC2=C1 FVRYCPZDHKLBNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHNHHSOHWZKFOX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1H-indole Chemical compound C1=CC=C2NC(C)=CC2=C1 BHNHHSOHWZKFOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRMIKIFLNXEQDG-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole-5-thiol Chemical compound CC1=NC(S)=CN1 CRMIKIFLNXEQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNIUJDOZMFZIFN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-pyrazole-5-thione Chemical compound CN1C=CC(=S)N1 PNIUJDOZMFZIFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAZHXZJUWHKFMP-UHFFFAOYSA-N 2-methylindazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(C)C=C21 OAZHXZJUWHKFMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDWPBMJZDNXTPG-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazol-4-amine Chemical compound NC1=CC=CC2=C1NN=N2 ZDWPBMJZDNXTPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SPSYMWKHDUJABD-UHFFFAOYSA-N 2h-isoindol-1-amine Chemical compound C1=CC=CC2=C(N)NC=C21 SPSYMWKHDUJABD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFRXSXUDWCVSPI-UHFFFAOYSA-N 3h-benzimidazol-5-amine Chemical compound NC1=CC=C2NC=NC2=C1 WFRXSXUDWCVSPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LUNUNJFSHKSXGQ-UHFFFAOYSA-N 4-Aminoindole Chemical compound NC1=CC=CC2=C1C=CN2 LUNUNJFSHKSXGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRZMXADUXZADTF-UHFFFAOYSA-N 4-aminoimidazole Chemical compound NC1=CNC=N1 QRZMXADUXZADTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYFUDPSPYMFYPX-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1h-indazol-7-amine Chemical compound CC1=CC=C(N)C2=C1C=NN2 GYFUDPSPYMFYPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBGPKNRUQCJRCT-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1H-imidazole-4-thiol Chemical compound Nc1[nH]cnc1S SBGPKNRUQCJRCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBWRULFISNEVBP-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,2-dihydropyrazole-3-thione Chemical compound CC1=CC(S)=NN1 XBWRULFISNEVBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound CC1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLIJIXLRIYPOHM-UHFFFAOYSA-N 5-methylsulfanyl-1h-imidazole Chemical compound CSC1=CN=CN1 NLIJIXLRIYPOHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPHZLLIHUUYCR-UHFFFAOYSA-N CO[Si](CCCSC1=NNC=N1)(OC)OC Chemical compound CO[Si](CCCSC1=NNC=N1)(OC)OC DKPHZLLIHUUYCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAVYIQXCJVMYNS-UHFFFAOYSA-N CSC1=NNC(=N1)SCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CSC1=NNC(=N1)SCCC[Si](OC)(OC)OC IAVYIQXCJVMYNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXYXDTAROKJMBO-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-1-amine Chemical compound C1=CC=C2N(N)C=NC2=C1 HXYXDTAROKJMBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCXKHYLLVKZPKE-UHFFFAOYSA-N benzotriazol-1-amine Chemical compound C1=CC=C2N(N)N=NC2=C1 JCXKHYLLVKZPKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYZVLEJDGSWXII-UHFFFAOYSA-N benzotriazol-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=NN(N)N=C21 YYZVLEJDGSWXII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- ZWUUZXDACSQYMI-UHFFFAOYSA-N indazol-1-amine Chemical compound C1=CC=C2N(N)N=CC2=C1 ZWUUZXDACSQYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VUSYGSNEEYEGGX-UHFFFAOYSA-N indol-1-amine Chemical compound C1=CC=C2N(N)C=CC2=C1 VUSYGSNEEYEGGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- XZMPVSHDVAHLHY-UHFFFAOYSA-N isoindol-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CN(N)C=C21 XZMPVSHDVAHLHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 2
- NYIGEYYREVRXES-UHFFFAOYSA-N pyrazol-1-amine Chemical compound NN1C=CC=N1 NYIGEYYREVRXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIIJXXHLNFBJDB-UHFFFAOYSA-N pyrazole-1,5-diamine Chemical compound NC1=CC=NN1N CIIJXXHLNFBJDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNZAFFFENDLJQG-UHFFFAOYSA-N pyrrol-1-amine Chemical compound NN1C=CC=C1 YNZAFFFENDLJQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- ZFRKQXVRDFCRJG-UHFFFAOYSA-N skatole Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CNC2=C1 ZFRKQXVRDFCRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 2
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N -2,3-Dihydroxypropanoic acid Natural products OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHAZGSRLKBTDBF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazol-1-amine Chemical compound NN1C=NC=N1 NHAZGSRLKBTDBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAPNKJDKITTYLO-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylpyrrole Chemical compound CC=1C=C(C)N(C)C=1 JAPNKJDKITTYLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJQIBTFOXWGAEN-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylbenzimidazole Chemical compound C1=CC=C2N(C)C(C)=NC2=C1 PJQIBTFOXWGAEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1C GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJMUOUXGBFNLSN-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylindole Chemical compound C1=CC=C2N(C)C(C)=CC2=C1 BJMUOUXGBFNLSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONIFNICATWBCHW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-1,2,4-triazole Chemical compound CC=1N=CN(C)N=1 ONIFNICATWBCHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBSCDKNKRHHRGB-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-2h-isoindole Chemical compound C1=CC=CC2=C(C)NC(C)=C21 ZBSCDKNKRHHRGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NODLZCJDRXTSJO-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylpyrazole Chemical compound CC=1C=CN(C)N=1 NODLZCJDRXTSJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJAWOLWHEQUTDE-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethyltriazole Chemical compound CC1=CN(C)N=N1 OJAWOLWHEQUTDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLHKJRPYIRFHQB-UHFFFAOYSA-N 1,5-diethyltetrazole Chemical compound CCC1=NN=NN1CC CLHKJRPYIRFHQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWHNFJYQDMSYAF-UHFFFAOYSA-N 1,5-dimethyltetrazole Chemical compound CC1=NN=NN1C HWHNFJYQDMSYAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXHNLMTVIGZXSG-UHFFFAOYSA-N 1-Methylpyrrole Chemical compound CN1C=CC=C1 OXHNLMTVIGZXSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRINVAVVCSZIDB-UHFFFAOYSA-N 1-amino-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound NN1N=NN=C1S KRINVAVVCSZIDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIAMPLQEZAMORJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethane Chemical compound CCOCCOCCOCCOCC KIAMPLQEZAMORJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEOIYPLRWRCSMS-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1,2,4-triazole Chemical compound CCN1C=NC=N1 FEOIYPLRWRCSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUSUKOLMBIDYKD-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1,2,4-triazole-3,5-diamine Chemical compound CCN1N=C(N)N=C1N GUSUKOLMBIDYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLQLTELAOKOFBV-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CCN1N=NN=C1S JLQLTELAOKOFBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVNMLOGVAVGQIT-UHFFFAOYSA-N 1-ethylbenzimidazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)C=NC2=C1 WVNMLOGVAVGQIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGCWCUQMEWJQSU-UHFFFAOYSA-N 1-ethylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)N=NC2=C1 VGCWCUQMEWJQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWDFHWZHHOSSGR-UHFFFAOYSA-N 1-ethylimidazole Chemical compound CCN1C=CN=C1 IWDFHWZHHOSSGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKSKBIKKJLHPLR-UHFFFAOYSA-N 1-ethylindazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)N=CC2=C1 BKSKBIKKJLHPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRRKZFCXXBFHSV-UHFFFAOYSA-N 1-ethylindole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)C=CC2=C1 QRRKZFCXXBFHSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLNMQGISZVYIIK-UHFFFAOYSA-N 1-ethylpyrazole Chemical compound CCN1C=CC=N1 FLNMQGISZVYIIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLWMIWWZDAAMCP-UHFFFAOYSA-N 1-ethylsulfanyl-2-methylisoindole Chemical compound C1=CC=CC2=C(SCC)N(C)C=C21 WLWMIWWZDAAMCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGPNLKPTYJCEKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethyltetrazol-5-amine Chemical compound CCN1N=NN=C1N WGPNLKPTYJCEKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZDFYVBXRWSAON-UHFFFAOYSA-N 1-ethyltetrazole Chemical compound CCN1C=NN=N1 PZDFYVBXRWSAON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQTFIQIFWFHGEU-UHFFFAOYSA-N 1-ethyltriazol-4-amine Chemical compound CCN1C=C(N)N=N1 QQTFIQIFWFHGEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALNWCYLRUYXLCD-UHFFFAOYSA-N 1-ethyltriazole Chemical compound CCN1C=CN=N1 ALNWCYLRUYXLCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWZDIEIXRBWPLG-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1,2,4-triazole Chemical compound CN1C=NC=N1 MWZDIEIXRBWPLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REFNCKLJAUXDRN-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1,2,4-triazole-3,5-diamine Chemical compound CN1N=C(N)N=C1N REFNCKLJAUXDRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYWVHPHFFBNEAZ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dithione Chemical compound CN1NC(=S)NC1=S RYWVHPHFFBNEAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOHZHMUQBFJTNH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CN1N=NN=C1S XOHZHMUQBFJTNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAMMWYIEZMIVIL-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-methylsulfanyl-1,2,4-triazole Chemical compound CSC=1N=CN(C)N=1 MAMMWYIEZMIVIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHBGCSIFUKEXTC-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-5-methylsulfanyl-1,2,4-triazol-3-amine Chemical compound CSC1=NC(N)=NN1C GHBGCSIFUKEXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXYHDGHYFGKBMN-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-5-methylsulfanyltetrazole Chemical compound CSC1=NN=NN1C LXYHDGHYFGKBMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZLDWZUSBMSTNO-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-5-propan-2-yltetrazole Chemical compound CC(C)C1=NN=NN1C GZLDWZUSBMSTNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBHNDUQLKUVZIZ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-5-propyltetrazole Chemical compound CCCC1=NN=NN1C VBHNDUQLKUVZIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGYADSCZTQOAFK-UHFFFAOYSA-N 1-methylbenzimidazole Chemical compound C1=CC=C2N(C)C=NC2=C1 FGYADSCZTQOAFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXQHRUJXQJEGER-UHFFFAOYSA-N 1-methylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(C)N=NC2=C1 HXQHRUJXQJEGER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRHMMGNCXNXJL-UHFFFAOYSA-N 1-methylindole Chemical compound C1=CC=C2N(C)C=CC2=C1 BLRHMMGNCXNXJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTKOKCQMHAGFSM-UHFFFAOYSA-N 1-methyltetrazol-5-amine Chemical compound CN1N=NN=C1N GTKOKCQMHAGFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMAFFHIGWTVZOH-UHFFFAOYSA-N 1-methyltetrazole Chemical compound CN1C=NN=N1 OMAFFHIGWTVZOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHCBWIXMCAIFMC-UHFFFAOYSA-N 1-methyltriazol-4-amine Chemical compound CN1C=C(N)N=N1 SHCBWIXMCAIFMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWAWEQBUZOGIBZ-UHFFFAOYSA-N 1-methyltriazole Chemical compound CN1C=CN=N1 JWAWEQBUZOGIBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDTUDLGSHURRHY-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yl-1,2,4-triazole Chemical compound CC(C)N1C=NC=N1 RDTUDLGSHURRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLEVSDFJKYACBO-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yl-1,2,4-triazole-3,5-diamine Chemical compound CC(C)N1N=C(N)N=C1N PLEVSDFJKYACBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SANFJGZEVHYFAL-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CC(C)N1N=NN=C1S SANFJGZEVHYFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJVKPYTXOUBSB-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylbenzimidazole Chemical compound C1=CC=C2N(C(C)C)C=NC2=C1 UMJVKPYTXOUBSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXIPDJNZPQCQNG-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(C(C)C)N=NC2=C1 BXIPDJNZPQCQNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPIORGCOGQZEHO-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylimidazole Chemical compound CC(C)N1C=CN=C1 IPIORGCOGQZEHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLJNDKIJSSGTIQ-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylindazole Chemical compound C1=CC=C2N(C(C)C)N=CC2=C1 ZLJNDKIJSSGTIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFIJVJKRTZYCK-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylindole Chemical compound C1=CC=C2N(C(C)C)C=CC2=C1 JDFIJVJKRTZYCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANMVTDVBEDVFRB-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylpyrazole Chemical compound CC(C)N1C=CC=N1 ANMVTDVBEDVFRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYZTYGNWUNKTRN-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yltetrazol-5-amine Chemical compound CC(C)N1N=NN=C1N SYZTYGNWUNKTRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTWDTTSNSJEVDI-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yltetrazole Chemical compound CC(C)N1C=NN=N1 GTWDTTSNSJEVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNTHUBFWDIZBAA-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yltriazol-4-amine Chemical compound CC(C)N1C=C(N)N=N1 LNTHUBFWDIZBAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSGWGQQMKGFUPS-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yltriazole Chemical compound CC(C)N1C=CN=N1 BSGWGQQMKGFUPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKQWDRFCZMKEAZ-UHFFFAOYSA-N 1-propyl-1,2,4-triazole-3,5-diamine Chemical compound CCCN1N=C(N)N=C1N RKQWDRFCZMKEAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVVDPRQMYYDZHL-UHFFFAOYSA-N 1-propyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CCCN1N=NN=C1S BVVDPRQMYYDZHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZUVIELFLONRSS-UHFFFAOYSA-N 1-propylbenzimidazole Chemical compound C1=CC=C2N(CCC)C=NC2=C1 LZUVIELFLONRSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMHKYOIGRHFJBP-UHFFFAOYSA-N 1-propylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(CCC)N=NC2=C1 KMHKYOIGRHFJBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYVYLVCVXXCYRI-UHFFFAOYSA-N 1-propylimidazole Chemical compound CCCN1C=CN=C1 IYVYLVCVXXCYRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZKWVEZVXKPEIV-UHFFFAOYSA-N 1-propylindazole Chemical compound C1=CC=C2N(CCC)N=CC2=C1 RZKWVEZVXKPEIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAAHPFCQVWTSIK-UHFFFAOYSA-N 1-propylindole Chemical compound C1=CC=C2N(CCC)C=CC2=C1 LAAHPFCQVWTSIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLSRZIPSXWHULZ-UHFFFAOYSA-N 1-propylpyrazole-4-thiol Chemical compound CCCN1C=C(S)C=N1 GLSRZIPSXWHULZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUCUYFVAKOESSN-UHFFFAOYSA-N 1-propyltetrazol-5-amine Chemical compound CCCN1N=NN=C1N RUCUYFVAKOESSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHYVTIGFFGLKHA-UHFFFAOYSA-N 1-propyltetrazole Chemical compound CCCN1C=NN=N1 AHYVTIGFFGLKHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GROQSPMDHNYZBL-UHFFFAOYSA-N 1-propyltriazol-4-amine Chemical compound CCCN1C=C(N)N=N1 GROQSPMDHNYZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGJPMSBRYUISGR-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole silane Chemical compound [SiH4].N1C=CC=C1 UGJPMSBRYUISGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKOPZHDWHPNIIG-UHFFFAOYSA-N 1h-indole-4-thiol Chemical compound SC1=CC=CC2=C1C=CN2 VKOPZHDWHPNIIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUYMSWAUONHACL-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazole-4-thiol Chemical compound SC=1C=NNC=1 LUYMSWAUONHACL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 1h-tetrazol-1-ium-5-thiolate Chemical compound SC1=NN=NN1 JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBPTNCGZUOCBK-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC(C)=C(C)N1 PTBPTNCGZUOCBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFFMQGGZCLEMCI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-1h-pyrrole Chemical compound CC1=CNC(C)=C1 MFFMQGGZCLEMCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFLFWZRPMDXJCW-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-1h-indole Chemical compound CC1=CC=C2NC(C)=CC2=C1 ZFLFWZRPMDXJCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKMMTJMQCTUHRP-UHFFFAOYSA-N 2-aminopropan-1-ol Chemical compound CC(N)CO BKMMTJMQCTUHRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIJWWVKWPSWGBA-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound CCN1C=NC(S)=N1 DIJWWVKWPSWGBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHCCOYAKYCWDOJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(CC)=NC2=C1 QHCCOYAKYCWDOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDHFQLXEZRPRKC-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazol-5-amine Chemical compound CCC1=NC(N)=CN1 DDHFQLXEZRPRKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRPDDDRNQJNHLQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-pyrrole Chemical compound CCC1=CC=CN1 XRPDDDRNQJNHLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLABSMWKISCOCW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(CC)N=C21 SLABSMWKISCOCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUXVARDAJFAAHS-UHFFFAOYSA-N 2-ethylindazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(CC)C=C21 CUXVARDAJFAAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XETNILDBKBCRLR-UHFFFAOYSA-N 2-ethylisoindole Chemical compound C1=CC=CC2=CN(CC)C=C21 XETNILDBKBCRLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGCOPUIBNABIEP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylsulfanyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(SCC)=NC2=C1 UGCOPUIBNABIEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZKKGEQXOTVRRU-UHFFFAOYSA-N 2-ethylsulfanyl-1h-imidazole Chemical compound CCSC1=NC=CN1 ZZKKGEQXOTVRRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAMYNGYKAFZBTE-UHFFFAOYSA-N 2-ethylsulfanyl-1h-indole Chemical compound C1=CC=C2NC(SCC)=CC2=C1 YAMYNGYKAFZBTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUEIINDYWPMJEW-UHFFFAOYSA-N 2-ethyltetrazol-5-amine Chemical compound CCN1N=NC(N)=N1 SUEIINDYWPMJEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGRKDLVBPMCBJW-UHFFFAOYSA-N 2-ethyltetrazole Chemical compound CCN1N=CN=N1 BGRKDLVBPMCBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTERHQFTRLXWDG-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound CN1C=NC(S)=N1 FTERHQFTRLXWDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDZYRENCLPUXAX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(C)=NC2=C1 LDZYRENCLPUXAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQULCCZIXYRBSE-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-indol-5-amine Chemical compound NC1=CC=C2NC(C)=CC2=C1 JQULCCZIXYRBSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLRIYDBAFPKSRC-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-tetrazole-5-thione Chemical compound CN1N=NC(=S)N1 RLRIYDBAFPKSRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWORFEDVDWBHSJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(C)N=C21 PWORFEDVDWBHSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLWIMPFRPFWOGK-UHFFFAOYSA-N 2-methylisoindole Chemical compound C1=CC=CC2=CN(C)C=C21 ZLWIMPFRPFWOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCKJFOHZLXIAAT-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfanyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(SC)=NC2=C1 OCKJFOHZLXIAAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVOCLWUDDWXHFW-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfanyl-1h-imidazole Chemical compound CSC1=NC=CN1 SVOCLWUDDWXHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEINETSKRAZANU-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfanyl-1h-indole Chemical compound C1=CC=C2NC(SC)=CC2=C1 SEINETSKRAZANU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPNDTMYJCNBLAI-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfanyl-1h-pyrrole Chemical compound CSC1=CC=CN1 VPNDTMYJCNBLAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZUKLCJYWVMPML-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrazol-5-amine Chemical compound CN1N=NC(N)=N1 AZUKLCJYWVMPML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRESBNUEIKZECD-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrazole Chemical compound CN1N=CN=N1 VRESBNUEIKZECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RITUGMAIQCZEOG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(C(C)C)=NC2=C1 RITUGMAIQCZEOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-1h-imidazole Chemical compound CC(C)C1=NC=CN1 FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYNHWMHRAXGFGH-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(C(C)C)N=C21 TYNHWMHRAXGFGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWKQLKZHPMHBSM-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylindazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(C(C)C)C=C21 WWKQLKZHPMHBSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTAKQCSXVMTUGQ-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylsulfanyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(SC(C)C)=NC2=C1 LTAKQCSXVMTUGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSQPCUWZLDLVHC-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylsulfanyl-1h-imidazole Chemical compound CC(C)SC1=NC=CN1 HSQPCUWZLDLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCHKXYEXZMOHO-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yltetrazole Chemical compound CC(C)N1N=CN=N1 GUCHKXYEXZMOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBLJZPQLNMVEMR-UHFFFAOYSA-N 2-propyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(CCC)=NC2=C1 FBLJZPQLNMVEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKBBSFGKFMQPPC-UHFFFAOYSA-N 2-propyl-1h-imidazole Chemical compound CCCC1=NC=CN1 MKBBSFGKFMQPPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNTRQYJOOUIDTM-UHFFFAOYSA-N 2-propylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(CCC)N=C21 MNTRQYJOOUIDTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJNUYXSRWYPKQO-UHFFFAOYSA-N 2-propylindazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(CCC)C=C21 GJNUYXSRWYPKQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXCVPSBLRFEJFX-UHFFFAOYSA-N 2-propylisoindole Chemical compound C1=CC=CC2=CN(CCC)C=C21 AXCVPSBLRFEJFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOXWEMKADONAQS-UHFFFAOYSA-N 2-propylsulfanyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(SCCC)=NC2=C1 BOXWEMKADONAQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCLHESAQESSWPC-UHFFFAOYSA-N 2-propylsulfanyl-1h-imidazole Chemical compound CCCSC1=NC=CN1 FCLHESAQESSWPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 2h-triazol-4-amine Chemical compound NC1=CNN=N1 JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCXAZZQEURPCCG-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(methylsulfanyl)-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CSC1=NNC(SC)=N1 DCXAZZQEURPCCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBXKHQMLNCTDEG-UHFFFAOYSA-N 3,5-di(propan-2-yl)-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CC(C)C1=NNC(C(C)C)=N1 GBXKHQMLNCTDEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGERGYDWQOPISO-UHFFFAOYSA-N 3,5-diethyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CCC1=NNC(CC)=N1 UGERGYDWQOPISO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYYXDARQOHWBPO-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CC1=NNC(C)=N1 XYYXDARQOHWBPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-1h-pyrazole Chemical compound CC=1C=C(C)NN=1 SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMMXUARUNDHNMH-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-methyl-1H-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound CN1NC(=S)N=C1N XMMXUARUNDHNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTOOTUYZFDDTBD-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropylsilane Chemical class [SiH3]CCCCl DTOOTUYZFDDTBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTLYEWOHOZSGGN-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-5-methyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CCC1=NN=C(C)N1 GTLYEWOHOZSGGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXSVQRANRHJRID-UHFFFAOYSA-N 3-ethylsulfanyl-1,2,4-triazol-4-amine Chemical compound CCSC1=NN=CN1N FXSVQRANRHJRID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCCPJGRWTNQHJZ-UHFFFAOYSA-N 3-ethylsulfanyl-1h-1,2,4-triazol-5-amine Chemical compound CCSC1=NNC(N)=N1 BCCPJGRWTNQHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVTSOZQVZDCGAQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethylsulfanyl-1h-indole Chemical compound C1=CC=C2C(SCC)=CNC2=C1 GVTSOZQVZDCGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWSSZZBNUPLYAT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylsulfanyl-1h-pyrrole Chemical compound CCSC=1C=CNC=1 VWSSZZBNUPLYAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCNIVPWINMSHOV-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-5-methylsulfanyl-1,2,4-triazol-4-amine Chemical compound CSC1=NN=C(C)N1N RCNIVPWINMSHOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADOZKMJJGVRACC-UHFFFAOYSA-N 3-methylsulfanyl-1,2,4-triazol-4-amine Chemical compound CSC1=NN=CN1N ADOZKMJJGVRACC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGWWZKBCQLBJNH-UHFFFAOYSA-N 3-methylsulfanyl-1h-1,2,4-triazol-5-amine Chemical compound CSC1=NN=C(N)N1 XGWWZKBCQLBJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAJNVDTUARTZKS-UHFFFAOYSA-N 3-methylsulfanyl-1h-indazole Chemical compound C1=CC=C2C(SC)=NNC2=C1 OAJNVDTUARTZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVHHOXFINVVIIT-UHFFFAOYSA-N 3-methylsulfanyl-1h-indole Chemical compound C1=CC=C2C(SC)=CNC2=C1 TVHHOXFINVVIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPBDQUSJACEGDI-UHFFFAOYSA-N 3-methylsulfanyl-1h-pyrazol-5-amine Chemical compound CSC1=CC(N)=NN1 NPBDQUSJACEGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRYMYSNVAZLFNM-UHFFFAOYSA-N 3-propan-2-ylsulfanyl-1h-1,2,4-triazol-5-amine Chemical compound CC(C)SC1=NNC(N)=N1 BRYMYSNVAZLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAOPZUAEZGKQNC-UHFFFAOYSA-N 3-propyl-1h-pyrrole Chemical compound CCCC=1C=CNC=1 FAOPZUAEZGKQNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHVJBTKSUVKKPP-UHFFFAOYSA-N 3-propylsulfanyl-1h-1,2,4-triazol-5-amine Chemical compound CCCSC1=NNC(N)=N1 QHVJBTKSUVKKPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUHOSAJLEIASKI-UHFFFAOYSA-N 4,5-diethyl-2h-triazole Chemical compound CCC=1N=NNC=1CC XUHOSAJLEIASKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSWBFLWKAIRHEI-UHFFFAOYSA-N 4,5-dimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC=1N=CNC=1C YSWBFLWKAIRHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VALUMXGSLBMNES-UHFFFAOYSA-N 4,5-dimethyl-2h-triazole Chemical compound CC=1N=NNC=1C VALUMXGSLBMNES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVETYZWBIIYQRR-UHFFFAOYSA-N 4,5-dimethyltriazol-1-amine Chemical compound CC=1N=NN(N)C=1C LVETYZWBIIYQRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRBBTGGZVUFCRP-UHFFFAOYSA-N 4-amino-1,2-dihydrotriazole-5-thione Chemical compound NC=1NN=NC=1S GRBBTGGZVUFCRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLLBXBCKFUPBJE-UHFFFAOYSA-N 4-amino-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound NN1C=NNC1=S DLLBXBCKFUPBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBKNKJFPVHUXCW-UHFFFAOYSA-N 4-amino-3-methyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound CC1=NNC(=S)N1N KBKNKJFPVHUXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVCOAGFWVDOSMB-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1-methyltriazole Chemical compound CCC1=CN(C)N=N1 PVCOAGFWVDOSMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYCYFQLHLFRVKW-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound CCN1C=NNC1=S VYCYFQLHLFRVKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHNXHUNMFYXQCG-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1h-pyrazole Chemical compound CCC=1C=NNC=1 IHNXHUNMFYXQCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRZBHUBTUHPBDP-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-2h-triazole Chemical compound CCC=1C=NNN=1 SRZBHUBTUHPBDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URWUYUHRXQSIQT-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-5-propyl-2h-triazole Chemical compound CCCC1=NNN=C1CC URWUYUHRXQSIQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRQDRLLGAERV-UHFFFAOYSA-N 4-ethylsulfanyl-1h-indole Chemical compound CCSC1=CC=CC2=C1C=CN2 OYPRQDRLLGAERV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DORKSRRTHNCISG-UHFFFAOYSA-N 4-ethylsulfanyl-2h-triazole Chemical compound CCSC=1C=NNN=1 DORKSRRTHNCISG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDORYRHKUMUNGZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethylsulfanyl-5-methyl-2H-triazole Chemical compound CCSC1=NNN=C1C ZDORYRHKUMUNGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKDUPDCCGBMNPT-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,2-dihydrotriazole-5-thione Chemical compound CC=1N=NNC=1S FKDUPDCCGBMNPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGWWTUWTOBEQFE-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound CN1C=NN=C1S AGWWTUWTOBEQFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYGYULIGJXJLRW-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1h-indazole Chemical compound CC1=CC=CC2=C1C=NN2 ZYGYULIGJXJLRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-benzotriazole Chemical compound CC1=CC=CC2=NNN=C12 CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVSNQMFKEPBIOY-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-triazole Chemical compound CC=1C=NNN=1 GVSNQMFKEPBIOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)pentan-2-imine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C(C)CC(C)C PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVVSPJZIPZPMPS-UHFFFAOYSA-N 4-methylsulfanyl-1h-indole Chemical compound CSC1=CC=CC2=C1C=CN2 ZVVSPJZIPZPMPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQRKUUUHFSFKAB-UHFFFAOYSA-N 4-methylsulfanyl-1h-pyrazole Chemical compound CSC=1C=NNC=1 VQRKUUUHFSFKAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEDXNNRTYCLCMP-UHFFFAOYSA-N 4-methylsulfanyl-2h-triazole Chemical compound CSC1=CNN=N1 VEDXNNRTYCLCMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRJRIWMZIAJIDG-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-yl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound CC(C)N1C=NNC1=S QRJRIWMZIAJIDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVEIJLGSXRYDEY-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-yl-2h-triazole Chemical compound CC(C)C1=CNN=N1 LVEIJLGSXRYDEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOUDLJSGJVYGBF-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylsulfanyl-1h-pyrazole Chemical compound CC(C)SC=1C=NNC=1 AOUDLJSGJVYGBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFVZQTWACVPVHC-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylsulfanyl-2h-triazole Chemical compound CC(C)SC=1C=NNN=1 JFVZQTWACVPVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCHHCDJJRLONST-UHFFFAOYSA-N 4-propyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound CCCN1C=NN=C1S CCHHCDJJRLONST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAXKXMVDJJMGRY-UHFFFAOYSA-N 4-propyl-1h-pyrazole Chemical compound CCCC=1C=NNC=1 YAXKXMVDJJMGRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECJQIPEEHNWCS-UHFFFAOYSA-N 4-propyl-2h-triazole Chemical compound CCCC1=CNN=N1 HECJQIPEEHNWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZLUHSSJBLSHNS-UHFFFAOYSA-N 4-propylsulfanyl-2h-triazole Chemical compound CCCSC=1C=NNN=1 XZLUHSSJBLSHNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVPKIPGHRNIOPT-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=NNN=C21 MVPKIPGHRNIOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJUQGASMPRMWIW-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethylbenzimidazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=C1NC=N2 LJUQGASMPRMWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQKKAODZIRWHOV-UHFFFAOYSA-N 5-(3-triethoxysilylpropylsulfanyl)-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSC1=NNC(=S)S1 BQKKAODZIRWHOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XECIMMKZGQKOIJ-UHFFFAOYSA-N 5-(3-trimethoxysilylpropylsulfanyl)-1,3,4-thiadiazol-2-amine Chemical compound NC=1SC(=NN=1)SCCC[Si](OC)(OC)OC XECIMMKZGQKOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJFIENDVSKMOO-UHFFFAOYSA-N 5-(3-trimethoxysilylpropylsulfanyl)-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSC1=NNC(=S)S1 QSJFIENDVSKMOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXDMTLVCACMNJO-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound NC1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 BXDMTLVCACMNJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYXQDGGJZMWJOX-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-1-methyltetrazole Chemical compound CCC1=NN=NN1C WYXQDGGJZMWJOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVWFWIXWMIMWEU-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-1h-1,2,4-triazol-3-amine Chemical compound CCC1=NC(N)=NN1 ZVWFWIXWMIMWEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDIPHBYZUMQFQV-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CCC1=NC=NN1 JDIPHBYZUMQFQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYRMPMCAOPMOIR-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-2h-tetrazole Chemical compound CCC=1N=NNN=1 KYRMPMCAOPMOIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJNZEYWFIRHRFE-UHFFFAOYSA-N 5-ethylsulfanyl-1-methyltetrazole Chemical compound CCSC1=NN=NN1C LJNZEYWFIRHRFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHIOXHCBRKQOTQ-UHFFFAOYSA-N 5-ethylsulfanyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CCSC1=NC=NN1 UHIOXHCBRKQOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GONFBOIJNUKKST-UHFFFAOYSA-N 5-ethylsulfanyl-2h-tetrazole Chemical compound CCSC=1N=NNN=1 GONFBOIJNUKKST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCAIXOPJCFYHFJ-UHFFFAOYSA-N 5-ethyltetrazol-1-amine Chemical compound CCC1=NN=NN1N OCAIXOPJCFYHFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGAHLGMMSVAQRQ-UHFFFAOYSA-N 5-ethyltriazol-1-amine Chemical compound CCC1=CN=NN1N RGAHLGMMSVAQRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUZCWDMJTKYHCA-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical compound CC1=NNC(S)=N1 OUZCWDMJTKYHCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJRZOOICEHBAED-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-1,2,4-triazol-3-amine Chemical compound CC1=NNC(N)=N1 FJRZOOICEHBAED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZKFSRWSQOQYNR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CC1=NC=NN1 PZKFSRWSQOQYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCUNRLLJHAWKRZ-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-indazole Chemical compound CC1=CC=C2NN=CC2=C1 DCUNRLLJHAWKRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-pyrazole Chemical compound CC1=CC=NN1 XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZGLNCKSNVGDNX-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2h-tetrazole Chemical compound CC=1N=NNN=1 XZGLNCKSNVGDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAHJJQGHAWTUQU-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2h-triazol-4-amine Chemical compound CC1=NNN=C1N QAHJJQGHAWTUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLSXIQIFBAFZGG-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3-propyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CCCC1=NNC(C)=N1 PLSXIQIFBAFZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPKBCLZFIYBSHK-UHFFFAOYSA-N 5-methylindole Chemical compound CC1=CC=C2NC=CC2=C1 YPKBCLZFIYBSHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILGFDCBCUSGHIG-UHFFFAOYSA-N 5-methylsulfanyl-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound CSC1=NC(=S)NN1 ILGFDCBCUSGHIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBQOOUMQVKQIQH-UHFFFAOYSA-N 5-methylsulfanyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CSC=1N=CNN=1 QBQOOUMQVKQIQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICMGOFLTVLYGTP-UHFFFAOYSA-N 5-methylsulfanyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(SC)C=CC2=NNN=C21 ICMGOFLTVLYGTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBXNFTFKKOSPLD-UHFFFAOYSA-N 5-methylsulfanyl-2h-tetrazole Chemical compound CSC1=NN=NN1 ZBXNFTFKKOSPLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBKDRHNSFRBYMS-UHFFFAOYSA-N 5-methyltetrazol-1-amine Chemical compound CC1=NN=NN1N UBKDRHNSFRBYMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCEKEODXLSQFDV-UHFFFAOYSA-N 5-methyltriazol-1-amine Chemical compound CC1=CN=NN1N HCEKEODXLSQFDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHNZNYRWQWTNSG-UHFFFAOYSA-N 5-propan-2-yl-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound CC(C)C1=NC(=S)NN1 HHNZNYRWQWTNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDLFQCVYROBFIW-UHFFFAOYSA-N 5-propan-2-yl-1h-1,2,4-triazol-3-amine Chemical compound CC(C)C1=NC(N)=NN1 MDLFQCVYROBFIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJNQPSCMOSUVKK-UHFFFAOYSA-N 5-propan-2-yl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CC(C)C=1N=CNN=1 AJNQPSCMOSUVKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFFXUEDBNNOGDO-UHFFFAOYSA-N 5-propan-2-yl-2h-tetrazole Chemical compound CC(C)C=1N=NNN=1 RFFXUEDBNNOGDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJIZGNFGZUZSNN-UHFFFAOYSA-N 5-propan-2-ylsulfanyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CC(C)SC1=NC=NN1 JJIZGNFGZUZSNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REJPUTHYKWJPGV-UHFFFAOYSA-N 5-propan-2-ylsulfanyl-2H-tetrazole Chemical compound CC(C)Sc1nn[nH]n1 REJPUTHYKWJPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGXSRSPMUCBHLN-UHFFFAOYSA-N 5-propan-2-yltetrazol-1-amine Chemical compound NN1C(C(C)C)=NN=N1 PGXSRSPMUCBHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLVPQJNKQAFMCX-UHFFFAOYSA-N 5-propan-2-yltriazol-1-amine Chemical compound CC(C)c1cnnn1N CLVPQJNKQAFMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAHAMKQVODCJTO-UHFFFAOYSA-N 5-propyl-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound CCCC1=NC(=S)NN1 ZAHAMKQVODCJTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCPOFDRZTYMDKK-UHFFFAOYSA-N 5-propyl-1h-1,2,4-triazol-3-amine Chemical compound CCCC1=NC(N)=NN1 GCPOFDRZTYMDKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFWJVKLPEZPKNL-UHFFFAOYSA-N 5-propyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CCCC1=NC=NN1 ZFWJVKLPEZPKNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHCQVVOKAFXQU-UHFFFAOYSA-N 5-propyl-2h-tetrazole Chemical compound CCCC=1N=NNN=1 JAHCQVVOKAFXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAJVYOXCHCXLOM-UHFFFAOYSA-N 5-propylsulfanyl-1h-1,2,4-triazole Chemical compound CCCSC1=NC=NN1 PAJVYOXCHCXLOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKIICDHFAMVIDA-UHFFFAOYSA-N 5-propylsulfanyl-2H-benzotriazole Chemical compound CCCSc1ccc2n[nH]nc2c1 YKIICDHFAMVIDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKBCMVPFQYAXLU-UHFFFAOYSA-N 5-propylsulfanyl-2h-tetrazole Chemical compound CCCSC=1N=NNN=1 FKBCMVPFQYAXLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNITXYKJZDISMP-UHFFFAOYSA-N 5-propyltetrazol-1-amine Chemical compound CCCC1=NN=NN1N RNITXYKJZDISMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBIANVDDNNLGOY-UHFFFAOYSA-N 5-propyltriazol-1-amine Chemical compound CCCC1=CN=NN1N DBIANVDDNNLGOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAFXGOUJAXXPOQ-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-1h-indazol-5-amine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC2=C1C=NN2 VAFXGOUJAXXPOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLAZPAQEVQDPHR-UHFFFAOYSA-N 7-methyl-1h-indazole Chemical compound CC1=CC=CC2=C1NN=C2 RLAZPAQEVQDPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YPZGMOPVWKCQGE-UHFFFAOYSA-N C(C)O[Si](CCCCCCCCSC=1SC=NN=1)(OCC)OCC Chemical compound C(C)O[Si](CCCCCCCCSC=1SC=NN=1)(OCC)OCC YPZGMOPVWKCQGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEEXUAXMPHXNAM-UHFFFAOYSA-N C(C)O[Si](CCCCCCSC1=NNC=N1)(OCC)OCC Chemical compound C(C)O[Si](CCCCCCSC1=NNC=N1)(OCC)OCC MEEXUAXMPHXNAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUPFXWCQPHFXLL-UHFFFAOYSA-N C(C)O[Si](CCCSC1=NNC=N1)(OCC)OCC Chemical compound C(C)O[Si](CCCSC1=NNC=N1)(OCC)OCC KUPFXWCQPHFXLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBJGTPZGTMCLBY-UHFFFAOYSA-N C(C)SC1=NNC(=N1)SCC Chemical compound C(C)SC1=NNC(=N1)SCC ZBJGTPZGTMCLBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKCODKIQSKYRFK-UHFFFAOYSA-N C(CC)SC=1NC2=C(C=1)C=CC=C2 Chemical compound C(CC)SC=1NC2=C(C=1)C=CC=C2 JKCODKIQSKYRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSRAXWGDTNWIRA-UHFFFAOYSA-N CC(C)SC1=CNC=C1 Chemical compound CC(C)SC1=CNC=C1 SSRAXWGDTNWIRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLNBUJXSUKOSPY-UHFFFAOYSA-N CC1=NN=C(S1)SCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound CC1=NN=C(S1)SCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC QLNBUJXSUKOSPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIQLRQNRZRVNQG-UHFFFAOYSA-N CC1=NN=C(S1)SCCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CC1=NN=C(S1)SCCCCC[Si](OC)(OC)OC GIQLRQNRZRVNQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTQFEFNWIWORGH-UHFFFAOYSA-N CC1=NN=C(S1)SCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CC1=NN=C(S1)SCCC[Si](OC)(OC)OC ZTQFEFNWIWORGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONQHMSWDTJLRSP-UHFFFAOYSA-N CC1=NNC(=N1)SCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CC1=NNC(=N1)SCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC ONQHMSWDTJLRSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUKQFLRIGQFTHF-UHFFFAOYSA-N CC1=NNC(=N1)SCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CC1=NNC(=N1)SCCCC[Si](OC)(OC)OC ZUKQFLRIGQFTHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJNMKGHLPHFWRQ-UHFFFAOYSA-N CC1=NNC(=N1)SCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound CC1=NNC(=N1)SCC[Si](OCC)(OCC)OCC WJNMKGHLPHFWRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDKRKRVPKJHEBA-UHFFFAOYSA-N CCCC(CCSC1=NNC(=N1)N)[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CCCC(CCSC1=NNC(=N1)N)[Si](OC)(OC)OC IDKRKRVPKJHEBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWOGPYHHIFCEAS-UHFFFAOYSA-N CO[Si](CCCCCCCCCCCCSC1=NNC=N1)(OC)OC Chemical compound CO[Si](CCCCCCCCCCCCSC1=NNC=N1)(OC)OC SWOGPYHHIFCEAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGXHFDOBFVOASD-UHFFFAOYSA-N CO[Si](CCCCCCSC=1SC=NN=1)(OC)OC Chemical compound CO[Si](CCCCCCSC=1SC=NN=1)(OC)OC KGXHFDOBFVOASD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUPPNGDYQBPCPE-UHFFFAOYSA-N CO[Si](OC)(OC)CSC1=NNC=N1 Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CSC1=NNC=N1 VUPPNGDYQBPCPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTWYHXVTNZDTHF-UHFFFAOYSA-N CO[Si](OC)(OC)CSC=1SC=NN=1 Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CSC=1SC=NN=1 CTWYHXVTNZDTHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNJDQBOYDCPWJS-UHFFFAOYSA-N CSC1=NNC(=N1)SCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CSC1=NNC(=N1)SCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC FNJDQBOYDCPWJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALYGGBXVMMSIFW-UHFFFAOYSA-N CSC1=NNC(=N1)SCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound CSC1=NNC(=N1)SCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC ALYGGBXVMMSIFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZALYHAXUZLWEV-UHFFFAOYSA-N CSC=1SC(=NN=1)SCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound CSC=1SC(=NN=1)SCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC IZALYHAXUZLWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYIPNAZHLKCLIJ-UHFFFAOYSA-N CSC=1SC(=NN=1)SCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CSC=1SC(=NN=1)SCCCC[Si](OC)(OC)OC IYIPNAZHLKCLIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRXSPEJSDRWXJR-UHFFFAOYSA-N CSC=1SC(=NN=1)SCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CSC=1SC(=NN=1)SCCC[Si](OC)(OC)OC XRXSPEJSDRWXJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVKYQPJQFBKELY-UHFFFAOYSA-N CSC=1SC(=NN=1)SCCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound CSC=1SC(=NN=1)SCCC[Si](OCC)(OCC)OCC JVKYQPJQFBKELY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229910017518 Cu Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017566 Cu-Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017758 Cu-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017755 Cu-Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017752 Cu-Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017770 Cu—Ag Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017767 Cu—Al Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017805 Cu—Be—Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017816 Cu—Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017813 Cu—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017827 Cu—Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017818 Cu—Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017871 Cu—Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017876 Cu—Ni—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017931 Cu—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017927 Cu—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017934 Cu—Te Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017945 Cu—Ti Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017943 Cu—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017985 Cu—Zr Inorganic materials 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N D-glyceric acid Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQFQONCQIQEYPJ-UHFFFAOYSA-N N-methylpyrazole Chemical compound CN1C=CC=N1 UQFQONCQIQEYPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUEILBTZXRYEDR-UHFFFAOYSA-N NC1=NNC(=N1)SCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound NC1=NNC(=N1)SCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC QUEILBTZXRYEDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPIGOYMEAAIYKE-UHFFFAOYSA-N NC1=NNC(=N1)SCCCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound NC1=NNC(=N1)SCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KPIGOYMEAAIYKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEQJGHPIBJZBRC-UHFFFAOYSA-N NC1=NNC(=N1)SC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound NC1=NNC(=N1)SC[Si](OCC)(OCC)OCC YEQJGHPIBJZBRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBEBEICKHXBDKL-UHFFFAOYSA-N NC=1SC(=NN=1)SCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound NC=1SC(=NN=1)SCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC QBEBEICKHXBDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFJATQURDXRBKC-UHFFFAOYSA-N NC=1SC(=NN=1)SCCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound NC=1SC(=NN=1)SCCC[Si](OCC)(OCC)OCC JFJATQURDXRBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLXGLFFYGIXKJY-UHFFFAOYSA-N NC=1SC(=NN=1)SCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound NC=1SC(=NN=1)SCC[Si](OCC)(OCC)OCC ZLXGLFFYGIXKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- CWEQZKRYPJZBMA-UHFFFAOYSA-N SC1=NNC(=N1)SCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound SC1=NNC(=N1)SCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC CWEQZKRYPJZBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIDZXPVJUAPYFQ-UHFFFAOYSA-N SC1=NNC(=N1)SCCCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound SC1=NNC(=N1)SCCCCC[Si](OC)(OC)OC ZIDZXPVJUAPYFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPOFVKFNLFCFLA-UHFFFAOYSA-N SC1=NNC(=N1)SCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound SC1=NNC(=N1)SCC[Si](OC)(OC)OC CPOFVKFNLFCFLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDRXEXJTZKTQKY-UHFFFAOYSA-N SC=1SC(=NN=1)SCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound SC=1SC(=NN=1)SCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC GDRXEXJTZKTQKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007567 Zn-Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007614 Zn—Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L copper;diformate Chemical compound [Cu+2].[O-]C=O.[O-]C=O HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- MXZANEWAFZMPKW-UHFFFAOYSA-N imidazol-1-amine Chemical compound NN1C=CN=C1 MXZANEWAFZMPKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 1
- BUZRAOJSFRKWPD-UHFFFAOYSA-N isocyanatosilane Chemical class [SiH3]N=C=O BUZRAOJSFRKWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229940040102 levulinic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDRAGZZZBGZJC-UHFFFAOYSA-N n-[3-[3-aminopropoxy(dimethoxy)silyl]propyl]-1-phenylprop-2-en-1-amine Chemical compound NCCCO[Si](OC)(OC)CCCNC(C=C)C1=CC=CC=C1 HMDRAGZZZBGZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- WIJVUKXVPNVPAQ-UHFFFAOYSA-N silyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CC(=C)C(=O)O[SiH3] WIJVUKXVPNVPAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNRUQUSSDKZTSQ-UHFFFAOYSA-N tetrazol-1-amine Chemical compound NN1C=NN=N1 KNRUQUSSDKZTSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- MPSUGQWRVNRJEE-UHFFFAOYSA-N triazol-1-amine Chemical compound NN1C=CN=N1 MPSUGQWRVNRJEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical class [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
また、電子機器・電子部品の小型化・薄型化のために多層プリント配線板を薄型化するには層間の絶縁樹脂層(例えば、ソルダーレジストやプリプレグなどの絶縁樹脂からなる層)の薄膜化が考えられるが、絶縁樹脂層が薄くなると酸素の透過性が増大し、樹脂の加熱硬化時に金属配線層(例えば、銅又は銅合金などの金属からなる導電部)の回路(導電パターン)の表面に酸化物が形成され、めっき処理時に該酸化物が溶解されるので、ハローイング(金属配線層と絶縁樹脂層との間の酸化物が浸食されて空隙が発生する)が発生しやすくなる。
<1>下記化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物を少なくとも1種と、化学式(II)〜(XIV)で示されるアゾール化合物からなる群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする金属の表面処理液。
<3>前記アゾール化合物を0.0001〜5質量%含有することを特徴とする前記<1>又は<2>に記載の金属の表面処理液。
<4>さらに、酸、アルカリ及び有機溶剤からなる群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする前記<1>〜<3>のいずれか1つに記載の金属の表面処理液。
<5>前記金属が、銅又は銅合金であることを特徴とする前記<1>〜<4>のいずれか1つに記載の金属の表面処理液。
<7>前記金属が、銅又は銅合金であることを特徴とする前記<6>に記載の金属の処理方法。
<9>前記金属が、銅又は銅合金であることを特徴とする前記<8>に記載のプリント配線板の製造方法。
<11>前記金属が、銅又は銅合金であることを特徴とする前記<10>に記載の金属と樹脂材料との接着方法。
本発明の金属の表面処理液に含有するアゾールシラン化合物は下記化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物(以下、「特定アゾールシラン化合物」ともいう。)である。この特定アゾールシラン化合物は、1種を単独で含有してもよく、2種以上を組み合わせて含有してもよい。
同様に、化学式(I−2)で示されるアゾールシラン化合物(以下、アゾールシラン化合物(I−2)ともいう。)は、nが1である場合のアゾールシラン化合物であり、化学式(I−3)で示されるアゾールシラン化合物(以下、アゾールシラン化合物(I−3)ともいう。)は、nが2である場合のアゾールシラン化合物であり、化学式(I−4)で示されるアゾールシラン化合物(以下、アゾールシラン化合物(I−4)ともいう。)は、nが3である場合のアゾールシラン化合物である。
このアゾールシラン化合物(I−1)の例としては、例えば、
3−トリメトキシシリルメチルチオ−1,2,4−トリアゾール、3−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−[3−(トリエトキシシリル)プロピルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−[6−(トリエトキシシリル)ヘキシルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−[12−(トリメトキシシリル)ドデシルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−メチル−5−[2−(トリエトキシシリル)エチルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−メチル−5−[4−(トリメトキシシリル)ブチルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−メチル−5−[10−(トリメトキシシリル)デシルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−トリエトキシシリルメチルチオ−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−[6−(トリメトキシシリル)ヘキシルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−[12−(トリメトキシシリル)ドデシルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−[3−(トリエトキシシリル)プロピルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−5−[2−(トリメトキシシリル)エチルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−5−[5−(トリメトキシシリル)ペンチルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−5−[8−(トリメトキシシリル)オクチルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−メチルチオ−5−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−メチルチオ−5−[10−(トリメトキシシリル)デシルチオ]−1,2,4−トリアゾール、3−メチルチオ−5−[4−(トリエトキシシリル)ブチルチオ]−1,2,4−トリアゾール(以上、Yが−NH−の場合)や、
2−トリメトキシシリルメチルチオ−1,3,4−チアジアゾール、2−[6−(トリメトキシシリル)ヘキシルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−[8−(トリエトキシシリル)オクチルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、5−メチル−2−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、5−メチル−2−[5−(トリメトキシシリル)ペンチルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、5−メチル−2−[12−(トリエトキシシリル)ドデシルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−アミノ−5−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−アミノ−5−[8−(トリメトキシシリル)オクチルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−アミノ−5−[2−(トリエトキシシリル)エチルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−アミノ−5−[3−(トリエトキシシリル)プロピルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−5−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−5−[5−(トリメトキシシリル)ペンチルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−5−[3−(トリエトキシシリル)プロピルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−5−[10−(トリエトキシシリル)デシルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−メチルチオ−5−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−メチルチオ−5−[4−(トリメトキシシリル)ブチルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、2−メチルチオ−5−[3−(トリエトキシシリル)プロピルチオ]−1,3,4−チアジアゾール、及び2−メチルチオ−5−[8−(トリエトキシシリル)オクチルチオ]−1,3,4−チアジアゾール(以上、Yが−S−の場合)
等を挙げることができる。
アゾールシラン化合物(I−1)は、前述のとおり、水と接触すると加水分解されるが、この加水分解の態様をスキーム(A)に示す。
このスキーム(A)においては、前記のアゾールシラン化合物(I−1)〜(I−3)の有するシリル基が加水分解される態様、即ち、トリアルコキシシリル基が、漸次、ジアルコキシヒドロキシシリル基、ジヒドロキシアルコキシシリル基、トリヒドロキシシリル基に変化する様が示される。なお、化学式(e)で示される基のXは繰り返し単位の数を表す整数である。
例えば、銅と樹脂材料との接着を例に挙げると、本発明の実施において用いるアゾールシラン化合物は、分子中にアゾール環とアルコキシシリル基(−Si−OR)を有しており、アゾール環は、樹脂及び銅と相互作用し、化学結合を形成する。
また、アルコキシシリル基は加水分解を受けて、ヒドロキシシリル基(−Si−OH)に変換され、このヒドロキシシリル基は銅の表面に点在する酸化銅と化学結合する。
従って、銅と本発明の表面処理液を接触させることにより、該銅の表面にはアゾール環やヒドロキシシリル基との結合により、化学式(I)で示されるアゾールシラン化合物に由来する化成皮膜が形成されて、この化成皮膜の表面に樹脂材料からなる絶縁樹脂層を形成させた場合には、銅の表面に直に絶縁樹脂層を形成させる場合に比べて、銅と樹脂材料との接着性を高めることができる。
本発明の金属の表面処理液に含有するアゾール化合物は下記化学式(II)〜(XIV)で示されるアゾール化合物(以下、「特定アゾール化合物」ともいう。)からなる群から選択される少なくとも1種のアゾール化合物である。この特定アゾール化合物は、1種を単独で含有してもよく、2種以上を組み合わせて含有してもよい。
<化学式(II)で示されるアゾール化合物(ピロール化合物)>
表題のピロール化合物としては、例えば、ピロール、1−メチルピロール、2−エチルピロール、3−プロピルピロール、2,4−ジメチルピロール、2,5−ジメチルピロール、1,3,5−トリメチルピロール、1−アミノピロール、2−アミノピロール、3−アミノピロール、2−メルカプトピロール、2−(メチルチオ)ピロール、3−(エチルチオ)ピロール、3−(イソプロピルチオ)ピロール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、ピロール、1−アミノピロール、2−アミノピロール、3−アミノピロール、2−メルカプトピロールを用いることが好ましい。
表題のピラゾール化合物としては、例えば、ピラゾール、1−メチルピラゾール、1−エチルピラゾール、1−イソプロピルピラゾール、3−メチルピラゾール、4−エチルピラゾール、4−プロピルピラゾール、1,3−ジメチルピラゾール、3,5−ジメチルピラゾール、1−アミノピラゾール、3−アミノピラゾール、3−アミノ−5−メチルピラゾール、1,5−ジアミノピラゾール、3−アミノ−5−メチルピラゾール、3−メルカプト−1−メチルピラゾール、3−メルカプト−5−メチルピラゾール、3−アミノ−5−(メチルチオ)ピラゾール、4−メルカプトピラゾール、4−(メチルチオ)ピラゾール、4−(イソプロピルチオ)ピラゾール、4−メルカプト−1−プロピルピラゾール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、ピラゾール、1−アミノピラゾール、3−アミノピラゾール、3−アミノ−5−メチルピラゾール、1,5−ジアミノピラゾール、3−アミノ−5−メチルピラゾール、3−メルカプト−1−メチルピラゾール、3−メルカプト−5−メチルピラゾールを用いることが好ましい。
表題のイミダゾール化合物としては、例えば、イミダゾール、1−メチルイミダゾール、1−エチルイミダゾール、1−プロピルイミダゾール、1−イソプロピルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−プロピルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、4,5−ジメチルイミダゾール、2,4,5−トリメチルイミダゾール、1−アミノイミダゾール、2−アミノイミダゾール、2−アミノ−4−メチルイミダゾール、4−アミノイミダゾール、4−アミノ−2−エチルイミダゾール、2−メルカプトイミダゾール、2−(メチルチオ)イミダゾール、2−(エチルチオ)イミダゾール、2−(プロピルチオ)イミダゾール、2−(イソプロピルチオ)イミダゾール、4−メルカプトイミダゾール、4−メルカプト−2−メチルイミダゾール、4−(メチルチオ)イミダゾール、4−アミノ−5−メルカプトイミダゾール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、イミダゾール、2−メルカプトイミダゾール、4−メルカプトイミダゾール、4−メルカプト−2−メチルイミダゾール、4−(メチルチオ)イミダゾール、4−アミノ−5−メルカプトイミダゾール、2−アミノイミダゾール、2−アミノ−4−メチルイミダゾール、4−アミノイミダゾールを用いることが好ましい。
表題の1,2,4−トリアゾール化合物としては、例えば、1,2,4−トリアゾール、1−メチル−1,2,4−トリアゾール、1−エチル−1,2,4−トリアゾール、1−プロピル−1,2,4−トリアゾール、1−イソプロピル−1,2,4−トリアゾール、3−メチル−1,2,4−トリアゾール、3−エチル−1,2,4−トリアゾール、3−プロピル−1,2,4−トリアゾール、3−イソプロピル−1,2,4−トリアゾール、1,3−ジメチル−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾール、3−エチル−5−メチル−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジエチル−1,2,4−トリアゾール、3−メチル−5−プロピル−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジイソプロピル−1,2,4−トリアゾール、1−アミノ−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−メチル−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−エチル−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−プロピル−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−イソプロピル−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジアミノ−1−メチル−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジアミノ−1−エチル−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジアミノ−1−プロピル−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジアミノ−1−イソプロピル−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−5−メチル−1,2,4−トリアゾール、5−エチル−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、5−プロピル−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、5−イソプロピル−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−1−メチル−1,2,4−トリアゾール、1−エチル−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−4−メチル−1,2,4−トリアゾール、4−エチル−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−4−プロピル−1,2,4−トリアゾール、4−イソプロピル−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジメルカプト−1−メチル−1,2,4−トリアゾール、3−(メチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3−(エチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3−(プロピルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3−(イソプロピルチオ)−1,2,4−トリアゾール、1−メチル−3−(メチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−5−(メチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3,5−ビス(メチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3,5−ビス(エチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、5−アミノ−3−メルカプト−1−メチル−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−(メチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−(エチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−(プロピルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−(イソプロピルチオ)−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−1−メチル−5−(メチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−3−メルカプト−5−メチル−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−5−エチル−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−3−(メチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−3−(エチルチオ)−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−3−メチル−5−(メチルチオ)−1,2,4−トリアゾール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、1,2,4−トリアゾール、3−
アミノ−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジメルカプト−1,2,
4−トリアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−1,2,
4−トリアゾール、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾールを用いることが好まし
い。
表題の1,2,3−トリアゾール化合物としては、例えば、1,2,3−トリアゾール、1−メチル−1,2,3−トリアゾール、1−エチル−1,2,3−トリアゾール、1−プロピル−1,2,3−トリアゾール、1−イソプロピル−1,2,3−トリアゾール、4−メチル−1,2,3−トリアゾール、4−エチル−1,2,3−トリアゾール、4−プロピル−1,2,3−トリアゾール、4−イソプロピル−1,2,3−トリアゾール、1,4−ジメチル−1,2,3−トリアゾール、4−エチル−1−メチル−1,2,3−トリアゾール、4,5−ジメチル−1,2,3−トリアゾール、4,5−ジエチル−1,2,3−トリアゾール、4−エチル−5−プロピル−1,2,3−トリアゾール、1−アミノ−1,2,3−トリアゾール、1−アミノ−5−メチル−1,2,3−トリアゾール、1−アミノ−5−エチル−1,2,3−トリアゾール、1−アミノ−5−プロピル−1,2,3−トリアゾール、1−アミノ−5−イソプロピル−1,2,3−トリアゾール、1−アミノ−4,5−ジメチル−1,2,3−トリアゾール、4−アミノ−1,2,3−トリアゾール、4−アミノ−5−メチル−1,2,3−トリアゾール、4−アミノ−1−メチル−1,2,3−トリアゾール、4−アミノ−1−エチル−1,2,3−トリアゾール、4−アミノ−1−プロピル−1,2,3−トリアゾール、4−アミノ−1−イソプロピル−1,2,3−トリアゾール、4−メルカプト−1,2,3−トリアゾール、5−メルカプト−4−メチル−1,2,3−トリアゾール、4−(メチルチオ)−1,2,3−トリアゾール、4−(エチルチオ)−1,2,3−トリアゾール、4−(プロピルチオ)−1,2,3−トリアゾール、4−(イソプロピルチオ)−1,2,3−トリアゾール、4−(エチルチオ)−5−メチル−1,2,3−トリアゾール、4−アミノ−5−メルカプト−1,2,3−トリアゾール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、1,2,3−トリアゾール、4−
メルカプト−1,2,3−トリアゾールを用いることが好ましい。
表題の1H−テトラゾール化合物としては、例えば、1H−テトラゾール、1−メチルテトラゾール、1−エチルテトラゾール、1−プロピルテトラゾール、1−イソプロピルテトラゾール、5−メチルテトラゾール、5−エチルテトラゾール、5−プロピルテトラゾール、5−イソプロピルテトラゾール、1,5−ジメチルテトラゾール、5−エチル−1−メチルテトラゾール、5−プロピル−1−メチルテトラゾール、5−イソプロピル−1−メチルテトラゾール、1,5−ジエチルテトラゾール、1−アミノテトラゾール、1−アミノ−5−メチルテトラゾール、1−アミノ−5−エチルテトラゾール、1−アミノ−5−プロピルテトラゾール、1−アミノ−5−イソプロピルテトラゾール、5−アミノテトラゾール、5−アミノ−1−メチルテトラゾール、5−アミノ−1−エチルテトラゾール、5−アミノ−1−プロピルテトラゾール、5−アミノ−1−イソプロピルテトラゾール、5−メルカプトテトラゾール、5−メルカプト−1−メチルテトラゾール、1−エチル−5−メルカプトテトラゾール、5−メルカプト−1−プロピルテトラゾール、1−イソプロピル−5−メルカプトテトラゾール、5−(メチルチオ)テトラゾール、5−(エチルチオ)テトラゾール、5−(プロピルチオ)テトラゾール、5−(イソプロピルチオ)テトラゾール、1−メチル−5−(メチルチオ)テトラゾール、1−メチル−5−(エチルチオ)テトラゾール、1−アミノ−5−メルカプトテトラゾール、2H−テトラゾール、2−メチルテトラゾール、2−エチルテトラゾール、2−イソプロピルテトラゾール、5−アミノ−2−メチルテトラゾール、5−アミノ−2−エチルテトラゾール、5−メルカプト−2−メチルテトラゾール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、1H−テトラゾール、5−アミノ
テトラゾールを用いることが好ましい。
表題のインドール化合物としては、例えば、インドール、1−メチルインドール、1−エチルインドール、1−プロピルインドール、1−イソプロピルインドール、2−メチルインドール、3−メチルインドール、4−メチルインドール、5−メチルインドール、6−メチルインドール、1,2−ジメチルインドール、2,5−ジメチルインドール、1−アミノインドール、2−アミノインドール、3−アミノインドール、4−アミノインドール、6−アミノインドール、5−アミノ−2−メチルインドール、2−メルカプトインドール、2−(メチルチオ)インドール、2−(エチルチオ)インドール、2−(プロピルチオ)インドール、3−メルカプトインドール、3−(メチルチオ)インドール、3−(エチルチオ)インドール、4−メルカプトインドール、4−(メチルチオ)インドール、4−(エチルチオ)インドール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、インドール、2−メルカプトインドール、3−メルカプトインドール、2−アミノインドール、3−アミノインドール、4−アミノインドール、1−アミノインドール、6−アミノインドール、5−アミノ−2−メチルインドールを用いることが好ましい。
表題のイソインドール化合物としては、例えば、イソインドール、2−メチルイソインドール、2−エチルイソインドール、2−プロピルイソインドール、1,3−ジメチルイソインドール、1−アミノイソインドール、2−アミノイソインドール、1−(エチルチオ)−2−メチルイソインドール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、イソインドール、1−アミノイソインドール、2−アミノイソインドールを用いることが好ましい。
表題のインダゾール化合物としては、例えば、インダゾール、1−メチルインダゾール、1−エチルインダゾール、1−プロピルインダゾール、1−イソプロピルインダゾール、2−メチルインダゾール、2−エチルインダゾール、2−プロピルインダゾール、2−イソプロピルインダゾール、4−メチルインダゾール、5−メチルインダゾール、7−メチルインダゾール、1−アミノインダゾール、3−アミノインダゾール、5−アミノインダゾール、6−アミノインダゾール、4−アミノ−1−メチルインダゾール、5−アミノ−6−メチルインダゾール、7−アミノ−4−メチルインダゾール、3−メルカプトインダゾール、5−メルカプトインダゾール、3−(メチルチオ)インダゾール、5−アミノ−6−メルカプトインダゾール、5−アミノ−6−(エチルチオ)インダゾール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、インダゾール、1−アミノインダゾール、3−アミノインダゾール、5−アミノインダゾール、6−アミノインダゾール、4−アミノ−1−メチルインダゾール、5−アミノ−6−メチルインダゾール、7−アミノ−4−メチルインダゾール、3−メルカプトインダゾール、5−メルカプトインダゾールを用いることが好ましい。
表題のベンズイミダゾール化合物としては、例えば、ベンズイミダゾール、1−メチルベンズイミダゾール、1−エチルベンズイミダゾール、1−プロピルベンズイミダゾール、1−イソプロピルベンズイミダゾール、2−メチルベンズイミダゾール、2−エチルベンズイミダゾール、2−プロピルベンズイミダゾール、2−イソプロピルベンズイミダゾール、1,2−ジメチルベンズイミダゾール、5,6−ジメチルベンズイミダゾール、1−アミノベンズイミダゾール、2−アミノベンズイミダゾール、5−アミノベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプト−5−メチルベンズイミダゾール、2−(メチルチオ)ベンズイミダゾール、2−(エチルチオ)ベンズイミダゾール、2−(プロピルチオ)ベンズイミダゾール、2−(イソプロピルチオ)ベンズイミダゾール、5−アミノ−2−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、ベンズイミダゾール、1−アミノベンズイミダゾール、2−アミノベンズイミダゾール、5−アミノベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプト−5−メチルベンズイミダゾール、5−アミノ−2−メルカプトベンズイミダゾールを用いることが好ましい。
表題のベンゾトリアゾール化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、1−メチルベンゾトリアゾール、1−エチルベンゾトリアゾール、1−プロピルベンゾトリアゾール、1−イソプロピルベンゾトリアゾール、2−メチルベンゾトリアゾール、2−エチルベンゾトリアゾール、2−プロピルベンゾトリアゾール、2−イソプロピルベンゾトリアゾール、4−メチルベンゾトリアゾール、5−メチルベンゾトリアゾール、5,6−ジメチルベンゾトリアゾール、1−アミノベンゾトリアゾール、2−アミノベンゾトリアゾール、4−アミノベンゾトリアゾール、5−アミノベンゾトリアゾール、5−メルカプトベンゾトリアゾール、5−(メチルチオ)ベンゾトリアゾール、5−(プロピルチオ)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
これらの中でも、ハローイング抑制効果の観点から、ベンゾトリアゾール、1−アミノベンゾトリアゾール、2−アミノベンゾトリアゾール、4−アミノベンゾトリアゾール、5−アミノベンゾトリアゾール、5−メルカプトベンゾトリアゾールを用いることが好ましい。
化学式(III)で示されるアゾール化合物は、例えば、Science of Synthesis,12巻,15頁(2002年)に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(IV)で示されるアゾール化合物は、例えば、Science of Synthesis,12巻,325頁(2002年)に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(V)で示されるアゾール化合物は、例えば、国際公開第92/02853号に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(VI)で示されるアゾール化合物は、例えば、Molecules,9巻,204頁(2004年)に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(VII)で示されるアゾール化合物は、例えば、米国特許第7,550,601号明細書に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(VIII)で示されるアゾール化合物は、例えば、Journal of the Chemical Society,Dalton Transactions,3373頁(2001年)に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(IX)で示されるアゾール化合物は、例えば、Science of Synthesis,10巻,361頁(2000年)に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(X)で示されるアゾール化合物は、例えば、Science of Synthesis,10巻,653頁(2000年)に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(XI)及び(XII)で示されるアゾール化合物は、例えば、Science of Synthesis,12巻,227頁(2002年)に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(XIII)で示されるアゾール化合物は、例えば、Science of Synthesis,12巻,529頁(2002年)に記載された方法に準拠して合成することができる。
化学式(XIV)で示されるアゾール化合物は、例えば、Science of Synthesis,13巻,540頁(2003年)に記載された方法に準拠して合成することができる。
また、市販のものを使用することもでき、例えば、化学式(V)に含まれる3−アミノ−1,2,4−トリアゾールとして和光純薬工業社製の試薬、化学式(VI)に含まれる4−アミノ−1,2,4−トリアゾールとして東京化成工業社製の試薬、化学式(VII)に含まれる1,2,3−トリアゾールとして東京化成工業社製の試薬、化学式(VIII)に含まれる1H−テトラゾールとして東京化成工業社製の試薬が挙げられる。
表面処理液の調製に用いられる水としては、水道水、イオン交換水、蒸留水、精製水等が挙げられ、イオン交換水や蒸留水等の純水を用いることが好ましい。
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプトシラン化合物、
ビニルトリクロルシラン、
ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン等のビニルシラン化合物、
p−スチリルトリメトキシシラン等のスチリルシラン化合物、
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン化合物、
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリロキシシラン化合物、
メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のメタクリロキシシラン化合物、
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
3−アミノプロピルトリエトキシシラン、
3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、
N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノシラン化合物、
3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイドシラン化合物、
3−クロロプロピルトリメトキシシラン等のクロロプロピルシラン化合物、
ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド等のスルフィドシラン化合物及び
3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン等のイソシアナトシラン化合物
等を挙げることができる。
その他、アルミニウム系カップリング剤、チタン系カップリング剤、ジルコニウム系カップリング剤等も挙げることができる。これらのカップリング剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。
本発明の表面処理液を用いて金属を処理する方法としては、表面処理液と金属の表面を接触させることができれば特に制限はされない。表面処理液と金属の表面を接触させる方法としては、例えば、スプレー、浸漬や塗布等の手段を採用することができる。
乾燥は、室温〜150℃の温度、好ましくは60〜120℃の温度で、1秒〜10分、好ましくは10秒〜3分程度の時間とすることが好ましい。
なお、水洗に用いる水としては、イオン交換水や蒸留水等の純水が好ましいが、水洗の方法や時間には特に制限なく、スプレーや浸漬等の手段による適宜の時間で構わない。
前記合金の具体例としては、銅合金では、銅を含む合金であれば特に限定されず、例えば、Cu−Ag系、Cu−Te系、Cu−Mg系、Cu−Sn系、Cu−Si系、Cu−Mn系、Cu−Be−Co系、Cu−Ti系、Cu−Ni−Si系、Cu−Zn−Ni系、Cu−Cr系、Cu−Zr系、Cu−Fe系、Cu−Al系、Cu−Zn系、Cu−Co系等の合金が挙げられる。
また、その他の合金では、アルミニウム合金(Al−Si合金)、ニッケル合金(Ni−Cr合金)、鉄合金(Fe−Ni合金、ステンレス)等が挙げられる。
これらの金属の中では、銅及び銅合金が好ましい。
これらの樹脂材料の中では、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂及びポリイミド樹脂が好ましい。
金属と樹脂材料との接着方法としては、特に限定されず公知の方法により行うことができる。金属の表面に本発明の表面処理液を接触させて金属の表面に化成皮膜を形成し、次いで、該化成皮膜を介して、金属の表面に樹脂材料からなる基材を接着させるに当って、例えば、形成された化成皮膜の一部又は全体に、樹脂材料を塗布、圧着、混合等の手段や、接着剤、接着シート(フィルム)の利用あるいはこれらの手段を組合わせて接着することができる。
また、本発明は、上記接着方法を用いたプリント配線板の製造方法も提供するものである。すなわち、本発明のプリント配線板の製造方法は、金属の表面に、本発明の表面処理液を接触させて、化成皮膜を形成する工程を含む。
また、前記の水洗の方法についても特に制限はないが、洗浄水中への銅配線層の浸漬又は洗浄水による銅配線層表面へのスプレーが簡便かつ確実であり好ましい。
前記の絶縁樹脂層の形成には、公知の方法、例えば半硬化の樹脂材料を貼り付ける方法や溶剤を含む液状の樹脂材料を塗布する手段等を採用することができる。次いで、上下の配線を導通させる為に、ビアホールを形成する。このプロセスを繰り返すことにより、多層プリント配線板を作製できる。
本発明において、本発明の表面処理液により金属を処理する前又は処理した後に、防錆処理液により処理することもできる。
前記防錆処理液を、本発明の表面処理液により処理する前又は本発明の表面処理液により処理した後に金属の表面に接触させることで、金属と樹脂材料との接着性を損なうことなく、処理された金属の酸化が更に抑えられ、耐薬品性が向上するので、めっき工程でのハローイングの発生を更に抑制することができる。
水としては、水道水、イオン交換水、蒸留水、精製水等が挙げられ、イオン交換水や蒸留水等の純水を用いることが好ましい。
例えば、酸に溶解しやすいアゾール化合物(V)〜(VIII)を含有する防錆処理液については、可溶化剤として酸を用いて溶解させて水溶液にした後、アルカリ性のpH調整剤を用いて造膜性を調整することができる。また、アルカリに溶解しやすいアゾール化合物(V)〜(VIII)の場合については、可溶化剤としてアルカリを用いて溶解させて水溶液にした後、酸性のpH調整剤を用いて造膜性を調整することができる。酸性のpH調整剤としては、例えば、硫酸、硝酸、塩酸等の鉱酸や、ギ酸、酢酸、乳酸、グリコール酸、アミノ酸などの有機酸等が挙げられ、アルカリ性のpH調整剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物や、アンモニア、エタノールアミン等のアミン類等が挙げられる。
乾燥は、室温〜150℃の温度、好ましくは60〜120℃の温度で、1秒〜10分、好ましくは10秒〜3分程度の時間とすることが好ましい。
なお、水洗に用いる水としては、イオン交換水や蒸留水等の純水が好ましいが、水洗の方法や時間には特に制限なく、スプレーや浸漬等の手段による適宜の時間で構わない。
<アゾールシラン化合物又はシラン化合物>
アゾールシラン化合物A:3−アミノ−5−[3−(トリメトキシシリル)プロピルチオ]−1,2,4−トリアゾール(特開2015−10079号公報に記載された方法に準拠して合成した。)
アゾールシラン化合物B:3−アミノ−5−[3−(トリエトキシシリル)プロピルチオ]−1,2,4−トリアゾール(同上)
アゾールシラン化合物C:3−アミノ−5−[3−(トリメトキシシリル)ヘキシルチオ]−1,2,4−トリアゾール(同上)
アゾールシラン化合物D:イミダゾールシラン化合物(特開平5−186479号公報に記載された方法に準拠して合成した。下記化学式(XV−1)〜(XV−3)の混合物である。
シラン化合物E:γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業社製、商品名「KBM−903」)
アゾール化合物a:ピロール(和光純薬工業社製)
アゾール化合物b:ピラゾール(同上)
アゾール化合物c:イミダゾール(同上)
アゾール化合物d:3−アミノ−1,2,4−トリアゾール(同上)
アゾール化合物e:1,2,4−トリアゾール(東京化成工業社製)
アゾール化合物f:1,2,3−トリアゾール(同上)
アゾール化合物g:5−アミノテトラゾール(同上)
アゾール化合物h:インドール(和光純薬工業社製)
アゾール化合物i:イソインドール(Science of Synthesis,10巻,653頁(2000年)に記載された方法に準拠して合成した。)
アゾール化合物j:1−メチルインダゾール(和光純薬工業社製)
アゾール化合物k:2−メチルインダゾール(同上)
アゾール化合物l:ベンズイミダゾール(東京化成工業社製)
アゾール化合物m:ベンゾトリアゾール(和光純薬工業社製)
アゾールシラン化合物A 10g、アゾール化合物m 1gを測り取り、エチレングリコールモノブチルエーテル 200gを加え、続いて水 789gを加えて、室温にて2時間撹拌し、表面処理液を調製した。
この処理液について、アゾールシラン化合物のメトキシシリル基が、ヒドロキシシリル基に加水分解されていることを確認した。
アゾールシラン化合物又はシラン化合物とアゾール化合物とを、表2、3に記載の組合せに変更した以外は実施例1と同様にして表面処理液を調製した。
これらの処理液について、当該アゾールシラン化合物又はシラン化合物のメトキシシリル基及びエトキシシリル基が、ヒドロキシシリル基に加水分解されていることを確認した。
[接着性の評価試験(a)]
(1)試験片
試験片として、電解銅箔(厚み:18μm)を用いた。
(2)試験片の処理
以下の工程i〜iiに従って試験片の処理を行った。ただし、比較例1については、表面処理液で処理を行わなかった。
i. 酸清浄/1分間(室温)、水洗、乾燥/1分(100℃)
ii. 表面処理液に浸漬/1分(室温)、水洗、乾燥/1分(100℃)
(3)試験片と樹脂の接着
処理した試験片のS面(光沢面)に、ガラス布エポキシ樹脂含浸プリプレグ(FR−4グレード)を積層プレスし、試験片と樹脂を接着してプリント配線板を作製した。
(4)接着性の評価
このプリント配線板から、「JIS C6481(1996)」に従って、幅10mmの試験片を作製し、プレッシャークッカー処理(121℃/湿度100%/100時間)した後、銅箔の引き剥がし強さ(kN/m)を測定した。
試験片のS面(光沢面)に、「ガラス布エポキシ樹脂含浸プリプレグ(FR−4グレード)を積層プレス」する代わりに、「ビルドアップ配線板用樹脂(味の素ファインテクノ社製、品名「GX−13」)をラミネート」した以外は、評価試験(a)と同様の手順で、銅と樹脂の接着性を評価した。
(1)試験片
プリント配線板の試験片として、電解銅メッキ(メッキ厚:20μm)を施した両面銅張積層板(基材:FR4,板厚:1.0mm,銅箔厚:18μm,縦120mm×横110mm)を用いた。
(2)試験片の処理
以下の工程i〜iiに従って試験片の処理を行った。ただし、比較例1については、表面処理液で処理を行わなかった。
i. 酸清浄/1分間(室温)、水洗、乾燥/1分(100℃)
ii. 表面処理液に浸漬/1分(室温)、水洗、乾燥/1分(100℃)
(3)試験片への絶縁樹脂層の形成
処理した試験片に、ソルダーレジスト(太陽インキ製造社製、商品名「PSR−4000AUS308」)を塗布した後、乾燥(80℃/30分)、ポストキュア(150℃/60分)を行って、13μm厚の絶縁樹脂層(塗膜)を形成させた。
(4)接着性の評価
「JIS K5400−8.5(1990)」に従って、試験片に形成した塗膜を1mm×1mmの碁盤目にクロスカット(100マス)し、プレッシャークッカー処理(121℃/湿度100%/100時間)した後、テープピールテストを行い、塗膜が剥離しないマス目の数を計測した。また、塗膜の傷み具合を目視にて観察した。
なお、接着性の判定基準は、表1に示したとおりである。
(1)試験片
試験片として、銅張積層板(銅厚み35μm、板厚1.0mm)を用いた。
(2)試験片の処理
以下の工程i〜iiに従って試験片の処理を行った。ただし、比較例1については、表面処理液で処理を行わなかった。
i. 酸洗浄/1分間(室温)、水洗
ii. 表面処理液に浸漬/1分間(30℃)、水洗、乾燥/1分間(100℃)
(3)プリント配線板の作製
試験片の銅表面にソルダーレジスト(太陽インキ製造社製、商品名「PSR−4000AUS308」)を塗布した後、以下の工程iii〜ivを行って、銅開口部(開口径150μm、5穴)を有するソルダーレジストの硬化物と試験片(銅張積層板)が接着したプリント配線板を作製した。
iii.露光工程(420mJ/cm2、オーク製作所社製HMW−680使用)、現像工程(1質量%炭酸ソーダ水溶液/90秒間(30℃))
iv. 乾燥(80℃/30分間)、ポストキュア(150℃/60分間)
(4)めっき処理
プリント配線板の銅開口部について、めっき液としてパラジウム触媒(奥野製薬工業社製、商品名「ICPニコロン アクセラ」、ニッケルめっき(奥野製薬工業社製、商品名「ICPニコロンGM」と金めっき(小島化学薬品社製、商品名「オーエルII」)を用いて、以下の工程vを行って、金めっき処理を行った。
v. ソフトエッチング/1分間(30℃)、水洗、パラジウム触媒/2分間(室温)、ニッケルめっき/35分間(75℃)、金めっき/5分間(80℃)
(5)ハローイング性の評価
得られたプリント配線板の金めっきした銅開口部(開口径150μm)について、薬液のもぐりこみによるハローイング(ソルダーレジスト剥がれ)の幅(単位:μm)を光学顕微鏡SZ−61(OLYMPUS社製)により測定した。なお測定は5穴について行い、それらの平均値を算出した。
Claims (11)
- 前記アゾールシラン化合物を0.0001〜5質量%含有することを特徴とする請求項1に記載の金属の表面処理液。
- 前記アゾール化合物を0.0001〜5質量%含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の金属の表面処理液。
- さらに、酸、アルカリ及び有機溶剤からなる群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の金属の表面処理液。
- 前記金属が、銅又は銅合金であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の金属の表面処理液。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の金属の表面処理液を、金属の表面に接触させることを特徴とする金属の処理方法。
- 前記金属が、銅又は銅合金であることを特徴とする請求項6に記載の金属の処理方法。
- 金属の表面に、請求項1〜4のいずれか1項に記載の金属の表面処理液を接触させて、化成皮膜を形成する工程を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法。
- 前記金属が、銅又は銅合金であることを特徴とする請求項8に記載のプリント配線板の製造方法。
- 金属と樹脂材料との接着方法であって、前記金属の表面に、請求項1〜4のいずれか1項に記載の金属の表面処理液を接触させて化成皮膜を形成し、前記金属と前記樹脂材料とを前記化成皮膜を介して接着させることを特徴とする金属と樹脂材料との接着方法。
- 前記金属が、銅又は銅合金であることを特徴とする請求項10に記載の金属と樹脂材料との接着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017072885A JP6846974B2 (ja) | 2017-03-31 | 2017-03-31 | 表面処理液及びその利用 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017072885A JP6846974B2 (ja) | 2017-03-31 | 2017-03-31 | 表面処理液及びその利用 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018172759A JP2018172759A (ja) | 2018-11-08 |
JP6846974B2 true JP6846974B2 (ja) | 2021-03-24 |
Family
ID=64107766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017072885A Active JP6846974B2 (ja) | 2017-03-31 | 2017-03-31 | 表面処理液及びその利用 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6846974B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020094258A (ja) * | 2018-12-14 | 2020-06-18 | 日本パーカライジング株式会社 | 表面処理剤及びその利用 |
WO2020178146A1 (en) | 2019-03-01 | 2020-09-10 | Atotech Deutschland Gmbh | Method for increasing adhesion strength between a metal and an organic material |
CN114341401B (zh) * | 2019-09-06 | 2024-04-05 | 四国化成工业株式会社 | 金属的表面处理液及其浓缩液、金属的表面处理液套组和表面处理方法以及印刷配线板的制造方法 |
JP6779557B1 (ja) * | 2020-07-20 | 2020-11-04 | メック株式会社 | 被膜形成用組成物、表面処理金属部材の製造方法、および金属‐樹脂複合体の製造方法 |
US11996357B2 (en) | 2020-09-09 | 2024-05-28 | Ibiden Co., Ltd. | Wiring substrate and method for manufacturing wiring substrate |
CN112111223A (zh) * | 2020-09-18 | 2020-12-22 | 重庆立道新材料科技有限公司 | 一种水性高防腐纳米覆膜保护剂 |
JP2022119416A (ja) | 2021-02-04 | 2022-08-17 | イビデン株式会社 | 配線基板及び配線基板の製造方法 |
JP2022119418A (ja) | 2021-02-04 | 2022-08-17 | イビデン株式会社 | 配線基板及び配線基板の製造方法 |
JP2022164074A (ja) | 2021-04-15 | 2022-10-27 | イビデン株式会社 | 配線基板及び配線基板の製造方法 |
JP2023043634A (ja) * | 2021-09-16 | 2023-03-29 | 株式会社東芝 | 洗浄剤及び半導体装置の製造方法 |
CN117385346B (zh) * | 2023-12-12 | 2024-02-23 | 江苏中科智芯集成科技有限公司 | 一种晶圆中的铜基化学镀镍钯金的方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5548690B2 (ja) * | 2009-10-09 | 2014-07-16 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 銅又は銅合金の表面処理剤及び処理方法 |
JP6591284B2 (ja) * | 2014-12-29 | 2019-10-16 | 四国化成工業株式会社 | 金属の表面処理液、表面処理方法およびその利用 |
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Publication number | Publication date |
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JP2018172759A (ja) | 2018-11-08 |
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