JP6625826B2 - 光ファイバを処理するための装置 - Google Patents
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Description
本発明は、光ファイバを処理するための装置に関する。
従来、いくつかのファイバをプラスチックで被覆してファイバの周りに被覆チューブを形成することによって光ファイバ要素を製造する被覆処理が知られている。
被覆チューブのプラスチックが制御された仕方で確実に冷却されるように、光ファイバ要素は、水で満たされた冷却通路に導入される。濡れた光ファイバ要素は、次いで光ファイバ要素の外面に接触する1対のプーリによって引張られ、最終的に光ファイバ要素はリールに巻き取られる。
上述のような解決策に伴う問題は、濡れた光ファイバ要素が滑りやすいことである。さらに、プーリが光ファイバ要素の外面に力をかけすぎないように注意を払う必要がある。なぜなら、力をかけすぎると、被覆、場合によっては光ファイバを損傷することによって、光ファイバ要素を変形させることがあるからである。
市場は、際限なく速いライン速度を要求しがちである。そのため、光ファイバ要素の取扱いは困難を伴うものになりつつある。そのリスクは、光ファイバ要素がプーリ間の空間から滑り落ち、その結果、製造が停止し、また原材料が無駄になることである。
本発明の目的は、光ファイバを効率的かつ確実に処理することが可能な装置を得ることである。この目的は、独立請求項1に記載の装置によって実現される。
第1のプーリが第1の光ファイバ要素を収容する第1の周状溝を有し、第1の光ファイバ要素の断面積の2分の1未満が第1の溝から突出し、第2のプーリが有する接触面が第1の光ファイバ要素の突出している部分の表面に接触するような1対のプーリを使用することによって、第1の光ファイバ要素をかなりのライン速度で確実に処理することが可能な装置が得られる。
本発明の好ましい実施形態は、従属請求項に開示される。
以下、本発明について、例として添付の図面を参照しながらより詳細に説明する。
図1および図2は、光ファイバを処理するための第1の装置を示す。図1は、冷却通路に配置された1対のプーリを示し、図2は、これらのプーリの形状をより詳細に示す。
図1において、第1のプーリ1および第2のプーリ2を含む1対のプーリは、冷却通路3から第1の光ファイバ要素4を受け取るように構成される。これらのプーリは、例えば鋼またはアルミニウムなどの適当な金属材料から製作することができる。光ファイバ要素は、適当なプラスチック材料の被覆内に収容された1または複数の光ファイバを含みうる。冷却通路3は、例えば水で満たされていてもよく、この水は光ファイバ要素、特に光ファイバ要素を冷却通路3内へ送り出す直前に押出成形されたものでありうる被覆の温度を制御するために利用される。
プーリ1,2を回転させ、第1の光ファイバ要素4の外面とプーリの外周接触面との間の接触によって第1の光ファイバ要素4を引張るために、例えば電気モータを含みうる駆動機構が用いられる。
第1のプーリ1は、その外周接触面6に第1の周状溝5を備える。第1の光ファイバ要素4は、第1の溝5によって受容される。この目的のために、第1の溝5は第1の光ファイバ要素4を収容するような形状であり、第1の光ファイバ要素4の断面積の2分の1未満が第1の溝5から突出する。図2に示された例では、第1の光ファイバ要素4は第1の溝5に完全に収容され、したがって第1の光ファイバ要素4は第1の溝5からまったく突出していない。第2のプーリ2の外周接触面7は、第1の光ファイバ要素4の表面に接触する。外周接触面7は、第1のプーリ1および第2のプーリ2によって区画された空間に第1の光ファイバ要素4を囲い込むように、第1のプーリ1の第1の溝5内へ突出する周状部分8を有する。簡単のため、第1の光ファイバ要素4の断面は、1または複数の光ファイバおよび被覆を別個に示してはいない。
2つ以上の寸法の光ファイバ要素が存在する場合、図2に示す1対のプーリ1,2は、第1の周状溝5に加えて第2の周状溝14を備える。図示された例において、第2の溝14は、例として第2のプーリ2に形成されているが、代替方法として、第1のプーリ1に形成されてもよい。第2の溝14は、第1の光ファイバ要素4とは異なる断面寸法を有する第2の光ファイバ要素を収容できるように、第1の溝5とは異なる寸法を有する。
第2の溝14は、第2の光ファイバ要素を受容するように寸法設定され、第2の光ファイバ要素の断面積の2分の1未満が第2の溝から突出する。第1のプーリ1の外周接触面6は、第2の溝14に受容された第2の光ファイバ要素の表面に接触する。図2に示されているように、第2のプーリ2は周状突出部分を有し、この周状突出部分に第2の溝14が形成される。この突出部分は、第1のプーリ1の周状凹部10内へ突出する。周状凹部10は、第2のプーリ2の突出部分を受容するのに十分な幅を有する。
第1の溝5および第2の溝14の両方を有するプーリ対を使用することは、異なる断面直径を有する光ファイバ要素を同じプーリ対で引張ることができるため、有利である。ただし、多くの実施形態において、一度に使用されるのはこれらの溝のうち1つだけである。換言すれば、2つの溝が存在しても、1つだけの光ファイバ要素が引張られる。そのような実施形態の利点は、異なる寸法を有する光ファイバ要素を処理するように処理ラインを変更するときに、プーリ対を交換する必要がなく、代わりに新しい寸法を有する光ファイバ要素を正しい寸法を有する他方の溝の中へ導入してこの光ファイバ要素を引張れることである。
第1および第2のプーリ1,2の接触面6,7は、有利には、粗面化された高摩擦接触面を提供する被覆によって少なくとも部分的に被覆される。被覆は、例えば図3に示すように形成されてもよい。1つの代替方法は、例えばプラズマ蒸着によって炭化タングステン層を塗布することである。そのような層は、耐摩耗性が非常に強い。目的は摩擦を増大させることであるため、蒸着後のこの層の機械加工は最小限でよく、またはいくつかの実施形態では完全に省略することができる。
図3は、装置の第2の実施形態を示す。図3の装置は、図1および図2に関連して説明した装置によく類似している。したがって、図3の実施形態については、主に、これらの実施形態の間の違いを指摘することによって説明する。
図3において、第1のプーリ1’および第2のプーリ2’を含む1対のプーリは、1つの溝5のみを備える。したがって、この1対のプーリは、1つの寸法の光ファイバ要素4のみに対して最適化される。図3はまた、図1および図2の実施形態に関連して説明したように、この1対のプーリのために粗面化された高摩擦接触面6,7を提供する被覆9を示す。このような被覆は、後に説明する他の実施形態でも利用することができる。
図3の実施形態において、第2のプーリ2’は、図2のように第1のプーリ1’の溝または凹部の中に突出するのではない。代わりに、第1のプーリ1’の回転軸11に対して平行に延びる間隙12が、プーリ1’および2’を互いから分離している。図示された例において、第2のプーリ2’は第1の光ファイバ要素4の表面に接触する概して平坦な接触面7を有するが、平坦ではなくわずかに凹面の、例えば図2の凹部10と同様の形状を有する接触面7を、第1の光ファイバ要素が溝5の中央部に留まるのを助けるために利用してもよい。
図3はまた、第1の光ファイバ要素4の断面領域の中心点13を示す。中心点13のレベル(換言すれば、位置)で、第1のプーリ1’の回転軸11の方向において、第1の溝5の幅W1は、第1の光ファイバ要素4の幅W2に実質的に対応する。ここで、「実質的に対応する」とは、第1の光ファイバ要素4の表面と接触面6,7との間に良好なグリップを確保するのに十分な力で、第1のプーリ1’および第2のプーリ2’がそれらの間に第1の光ファイバ要素4をプレスしたときに、第1の光ファイバ要素4が円形から楕円形へと変形しすぎないように溝5の壁が第1の光ファイバ要素4に十分な支持を与えられる程度に、溝5の幅W1が第1の光ファイバ要素4の幅W2に近接している寸法設定を指す。実際には、この寸法設定は、溝5の幅W1が第1の光ファイバ要素4の幅W2を最大で20%、好ましくは2.5〜10%超過するものとして実現することができる。そのような寸法設定は、少なくとも、典型的には1〜4mmの直径を有する光ファイバ要素について最適である。同様の寸法設定は、有利には、図1〜2および図4〜5の実施形態でも利用される。
また、図3では、第1の光ファイバ要素4の断面領域の中心点13が、第1の光ファイバ要素4の断面積の2分の1未満が第1の溝5から突出するように、第1の溝5内の深さYのところに位置する。これにより、第1の光ファイバ要素が濡れて滑りやすい上にライン速度が速い実装形態であっても、第1の光ファイバ要素4がプーリ1’,2’間の空間から滑り落ちることが効果的に防止されることが確実になる。
図4は、装置の第3の実施形態を示す。図4の実施形態は、図3に関連して説明した実施形態によく類似している。したがって、図4の実施形態については、主に、これらの実施形態の間の違いを指摘することによって説明する。
図4において、第1の溝5は、第1のプーリ1”の周状突出部分に形成される。第2のプーリ2”には、周状凹部10”が形成される。凹部10”は、第1のプーリ1”の突出部分が凹部10”内へ円滑に突出するのに十分な幅を有する。したがって、第1のプーリ1”は第2のプーリ2”内へ突出し、第1の光ファイバ要素4は、第1および第2のプーリ1”,2”によって区画された空間に囲い込まれる。
図5は、装置の第4の実施形態を示す。図5の実施形態は、図1および図2に関連して説明した実施形態によく類似している。したがって、図5の実施形態については、主に、これらの実施形態の間の違いを指摘することによって説明する。
図5において、電気モータを含む駆動機構19によって回転させられる第1のプーリ1および第2のプーリ2を含む1対のプーリは、図1に関連して説明したように、冷却通路3に関連して配置される。なお、図5の実施形態では、図1および図2に示すプーリ1,2を使用する代わりに、プーリ1’,2’またはプーリ1”,2”を使用することも可能である。
冷却通路3の前には、1または複数の光ファイバ15を受け取る押出機20が配置される。図示された例において、押出機20は、第1の光ファイバ要素4を製造するために、ペイオフリール16から2つの光ファイバ15を受け取り、光ファイバ15を取り巻くようにプラスチック被覆を製造する。製造された第1の光ファイバ要素4は、押出機20から、冷却通路3内にある冷却液、好ましくは水に導入される。
一代替方法は、押出機20によって製造された被覆がチューブを形成し、このチューブ内に光ファイバ15を緩く配置することである。換言すれば、光ファイバ15は、チューブのプラスチック材料に付着したり埋め込まれたりしないように配置される。ただし、チューブは、チューブ内の光ファイバを取り囲む適切なゼリーで充填されうる。
さらに、図5の装置は、プーリ1,2に加えて第1の光ファイバ要素4を引張る主キャプスタン17を備える。後収縮の悪影響を回避するために、1対のプーリ1,2は、キャプスタンよりも高速で第1の光ファイバ要素4を引張るように構成される。チューブを形成するプラスチック材料は、冷却されると元の寸法から収縮する傾向がある。そこで、1対のプーリ1,2は、より高速で動作し、チューブに応力をかけて、プーリ1,2の位置ではファイバよりわずかに長いチューブを得る。ファイバ15はチューブ内で緩んでいるため、プーリ1,2によって第1の光ファイバ要素4へもたらされる引張りによる応力を受けない。したがって、超過ファイバ長(EFL)と呼ばれる長さの差が得られる。
続いて、主キャプスタン17が、ファイバ15およびチューブに等しく応力をかけることによって、第1の光ファイバ要素4を引張る。これは、例えばチューブの内側とチューブ内の光ファイバとの間の摩擦がチューブを一時的に光ファイバに固定するように、主キャプスタン17のホイールの周りに第1の光ファイバ要素4を1周よりも多く巻き付けることによって実現されうる。最後に、処理済みの第1の光ファイバ要素4が、リール18に巻き取られる。
上記の説明および添付図面は、本発明について説明することだけを目的とすることを理解されたい。本発明は、本発明の範囲から逸脱することなく変形および修正されうることが、当業者には明らかであろう。
2,2’,2” 第2のプーリ
3 冷却通路
4 第1の光ファイバ要素
5 第1の周状溝
6,7 外周接触面
8 周状突出部分
9 被覆
10,10” 周状凹部
11 回転軸
13 中心点
14 第2の周状溝
15 第2の光ファイバ
17 主キャプスタン
19 駆動機構
20 押出機
Claims (10)
- 被覆内に収容された1または複数の光ファイバ(15)を含む第1の光ファイバ要素(4)をそれらの間の空間に受容するように構成された1対のプーリ(1,2;1’,2’;1”,2”)と、
前記1対のプーリ(1,2;1’,2’;1”,2”)を回転させ、前記第1の光ファイバ要素(4)の外面と前記1対のプーリ(1,2;1’,2’;1”,2”)との間の接触によって前記第1の光ファイバ要素(4)を引張る駆動機構(19)と
を含む、光ファイバを処理するための装置において、
前記1対のプーリのうちの第1のプーリ(1,1’,1”)が、外周接触面(6)に前記第1の光ファイバ要素(4)を受容するための第1の周状溝(5)を備え、
前記1対のプーリのうちの第2のプーリ(2,2’,2”)が、前記第1の光ファイバ要素(4)の表面に接触する外周接触面(7)を備え、 前記1対のプーリの間の前記空間において、前記第1の周状溝(5)が、前記第1の光ファイバ要素(4)の断面積の2分の1未満が前記第1の周状溝(5)から突出するように前記第1の光ファイバ要素(4)を収容するような形状であり、
前記第1の光ファイバ要素(4)の断面領域の中心点(13)のレベルで、前記第1の周状溝(5)が、前記第1のプーリ(1,1’,1”)の回転軸(11)の方向に、前記第1の光ファイバ要素(4)の幅(W2)を最大20%超過する幅(W1)を有する、
ことを特徴とする装置。 - 前記第1の光ファイバ要素(4)の断面領域の中心点(13)のレベルで、前記第1の周状溝(5)が、前記第1のプーリ(1,1’,1”)の回転軸(11)の方向に、前記第1の光ファイバ要素(4)の幅(W2)に実質的に対応する幅(W1)を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記第1の光ファイバ要素(4)の断面領域の中心点(13)のレベルで、前記第1の周状溝(5)が、前記第1のプーリ(1,1’,1”)の回転軸(11)の方向に、前記第1の光ファイバ要素(4)の幅(W2)を2.5〜10%超過する幅(W1)を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記第2のプーリ(2)の前記外周接触面(7)が、前記第1および第2のプーリによって区画された空間に前記第1の光ファイバ要素(4)を囲い込むように前記第1のプーリ(1)の前記第1の周状溝(5)内へ突出する周状部分(8)を有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第2のプーリ(2”)の前記外周接触面(7)が周状凹部(10”)を有し、前記第1のプーリ(1”)が、前記第1および第2のプーリによって区画された空間に前記第1の光ファイバ要素を囲い込むように前記第2のプーリ(2”)の前記周状凹部(10”)内へ突出する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第1および第2のプーリ(1,2)のうちの一方が、前記外周接触面(6,7)に前記第1の光ファイバ要素とは異なる断面寸法を有する第2の光ファイバ要素を受容するための第2の周状溝(14)を備え、
前記第2の周状溝(14)が、前記第2の光ファイバ要素の断面積の2分の1未満が前記第2の周状溝(14)から突出するように前記第2の光ファイバ要素を収容するために、前記第1の周状溝(5)とは異なる寸法を有し、
前記第1および第2のプーリ(1,2)のうちの他方の前記外周接触面(6,7)が、前記第2の光ファイバ要素の表面に接触する、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。 - 前記第1および第2のプーリ(1,2;1’,2’;1”,2”)のうちの少なくとも一方の前記外周接触面(6,7)が、粗面化された高摩擦接触面(6,7)を提供する被覆(9)で少なくとも部分的に被覆される、請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。
- 液体のための冷却通路(3)を備え、前記第1の光ファイバ要素(4)は前記冷却通路(3)を通って前記1対のプーリ(1,2;1’,2’;1”,2”)に導入される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
- 1または複数の光ファイバ(15)を受け取り、前記1または複数の光ファイバを取り巻くようにプラスチック被覆を設けて前記第1の光ファイバ要素(4)を製造する押出機(20)を備える、請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第1の光ファイバ要素(4)の前記被覆がチューブであり、前記1または複数の光ファイバ(15)が前記チューブ内に緩く配置され、
前記装置が、前記第1の光ファイバ要素(4)を引張るように前記1対のプーリ(1,2;1’,2’;1”,2”)の後に配置された主キャプスタン(17)を備え、
前記1対のプーリ(1,2;1’,2’;1”,2”)が、後収縮の影響を除去するために、前記主キャプスタン(17)よりも高速で前記第1の光ファイバ要素(4)を引張るように構成される、
請求項1〜9のいずれか1項に記載の装置。
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