JP6612668B2 - 光透過性電極積層体 - Google Patents

Description

本発明は、塩化物イオンによる抵抗値変化が抑制され、信頼性に優れた光透過性電極積層体に関するものである。

スマートフォン、パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートＰＣ、タブレットＰＣ、ＯＡ機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルセンサーが広く用いられている。

タッチパネルセンサーには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、抵抗膜方式、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式等があり、上記したディスプレイ用途においては抵抗膜方式と投影型静電容量方式が好適に利用されている。抵抗膜方式のタッチパネルセンサーは、支持体上に光透過性導電層を有する光透過性電極を２枚利用し、これら光透過性電極をドットスペーサーを介して対向配置した構造を有しており、タッチパネルセンサーの１点に力を加えることにより光透過性導電層同士が接触し、各光透過性導電層に印加された電圧をもう一方の光透過性導電層を通して測定することで、力の加えられた位置の検出を行うものである。一方、投影型静電容量方式のタッチパネルセンサーは、２層の光透過性導電層を有する光透過性電極を１枚、または１層の光透過性導電層を有する光透過性電極を２枚利用し、指等を接近させた際の光透過性導電層間の静電容量変化を検出し、指を接近させた位置の検出を行うものである。後者は可動部分がないため耐久性に優れる他、多点同時検出ができることから、スマートフォンやタブレットＰＣ等で、とりわけ広く利用されている。

投影型静電容量方式のタッチパネルセンサーにおいては、支持体上に光透過性導電層をパターニングすることで得られた複数のセンサーからなるセンサー部を配することで、多点同時検出や移動点の検出を可能にしている。このセンサー部が検出した静電容量の変化を電気信号として外部に取り出すため、光透過性電極が有する全てのセンサーと、外部に電気信号を取り出すために設けられる複数の端子からなる端子部との間には、これらを電気的に接続する複数の周辺配線からなる周辺配線部が設けられる。通常、前述した光透過性導電層はディスプレイ上に位置し、周辺配線部や端子部はディスプレイの外、いわゆる額縁部に位置する。従来技術においては、光透過性導電層はＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）導電膜により形成されるのが一般的であり、周辺配線部や端子部は、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム等の金属により形成されるのが一般的であった。例えば特開２０１５−３２１８３号公報（特許文献１）には、光透過性導電層の材料としてＩＴＯやＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の透明導電体を使用し、取出配線（周辺配線部）の材料として銅等の金属を使用したタッチパネルセンサー部材が開示されている。

一方、近年では光透過性導電層として網目状金属細線パターンを有する光透過性電極も開示されている。例えば特開２０１５−１３３２３９号公報（特許文献２）には、網目状金属細線パターンと周辺配線部を、銀微粒子を含有するインクを印刷して形成する方法や、無電解めっき触媒を含有する樹脂塗料を印刷した後に無電解めっきを施す方法、金属層上にフォトレジスト層を設け、レジストパターンを形成した後、金属層をエッチング除去するサブトラクティブ法、銀塩感光材料を用いる方法等、様々な方法により形成できることが記載されている。また、該光透過性電極の網目状金属細線パターンを有する側の面に、粘着剤層と、該粘着剤層上に機能材料とを有する光透過性電極積層体も知られており、例えば特開２０１４−１９８８１１号公報（特許文献３）にはタッチパネルセンサー上に粘着シートからなる粘着剤層と、該粘着剤層上に保護基板を有するタッチパネル用積層体が開示されている。該粘着剤層は一般的に、表示装置やタッチパネルセンサー等の各部材間を密着させるために利用されるものである。

上記した網目状金属細線パターンは、例えば人間の汗に含まれる塩化物イオンにより金属が金属塩化物へ変化し、網目状金属細線パターンの抵抗値が変動する場合があった。網目状金属細線パターンの抵抗値が変動すると、タッチパネルセンサーの検出感度の低下や誤認識が発生する等して、タッチパネルセンサーの信頼性は著しく低下する。上記した塩化物イオンは、前記した粘着剤層側面部より浸透し、網目状金属細線パターンに影響を与えるものと考えられるが、近年は意匠性の観点からタッチパネルの狭額縁化が進められ、網目状金属細線パターンと粘着剤層の側面部が接近することから、塩化物イオンが網目状金属細線パターンにとりわけ作用しやすくなっており、改善が求められていた。

特開２０１４−２９６７１号公報（特許文献４）では、銀を含有する第１電極パターンと、粘着性絶縁層と、第２電極パターンとをこの順で備えるタッチパネル用導電性フィルムが開示され、該粘着性絶縁層に特定の酸価を有する粘着性絶縁材料と共にトリアゾール化合物やテトラゾール化合物、およびベンゾトリアゾール化合物等の金属腐食防止剤を用いることで、タッチパネルの動作不良の発生が抑制されることが記載される。また、特開２０１５−２２３９７号公報（特許文献５）では、無置換のベンゾトリアゾールや、各種置換基を有するベンゾトリアゾール化合物により金属のマイグレーションを抑制し、抵抗値の変化を抑制できることが記載され、特開２０１４−７５１１５号公報（特許文献６）には、銀を含む金属配線間のイオンマイグレーションを抑制し、金属配線間の絶縁信頼性を向上させることを目的として、絶縁基板上の銀を含む金属配線上に、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、およびヒドラジン化合物から選択される化合物と、絶縁樹脂を含有する樹脂層を設けることが記載される。しかし、上記した塩化物イオンによる抵抗値の変動を抑制するには、いずれも十分な方法ではなかった。

従来技術においてベンゾトリアゾール化合物は紫外線吸収剤としても知られており、このことは例えば特開２０１５−２２１８７８号公報（特許文献７）や特開２０１５−２２９７５９号公報（特許文献８）等に記載されている。前者においては銀ナノワイヤーを含有する透明金属薄膜の紫外線吸収による抵抗値の変化の抑制に使用され、後者においても銀ナノワイヤーフィルムに同化合物を含有する粘着シートを積層することで、銀ナノワイヤーフィルムの表面抵抗値の上昇を抑制できることが記載される。

また、特開２００９−１７０８８７号公報（特許文献９）では、導電性薄膜の細線メッシュパターンからなる反射層や、導電性薄膜の細線パターンからなるＦＳＳ素子を有する電磁波吸収体が開示されており、外部光により電磁波吸収体を構成する樹脂の経年劣化を抑えることを目的として、該細線メッシュパターンや細線パターン上にベンゾトリアゾール化合物やベンゾフェノン化合物等の紫外線吸収剤を混入した粘着剤層を設けることが記載され、特開２０１１−１６８６８４号公報（特許文献１０）では、金属メッシュとの接着に好適な、長鎖アルキル基を有するベンゾトリアゾール化合物を含有する光学フィルター用粘着性材料が開示され、該粘着性材料がベンゾフェノン系化合物やベンゾトリアゾール化合物等の紫外線吸収剤を含有できることが記載される。

特開２０１５−３２１８３号公報 特開２０１５−１３３２３９号公報 特開２０１４−１９８８１１号公報 特開２０１４−２９６７１号公報 特開２０１５−２２３９７号公報 特開２０１４−７５１１５号公報 特開２０１５−２２１８７８号公報 特開２０１５−２２９７５９号公報 特開２００９−１７０８８７号公報 特開２０１１−１６８６８４号公報

本発明の課題は、塩化物イオンによる抵抗値変化が抑制され、信頼性に優れた光透過性電極積層体を提供することにある。

本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
（１）支持体上に網目状金属細線パターンを有する光透過性電極の網目状金属細線パターンを有する側の面に、粘着剤層と、機能材料とを少なくともこの順に有する光透過性電極積層体であって、該網目状金属細線パターンを構成する金属細線の線幅が１．５〜１０μｍであり、該粘着剤層が下記一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物を含有することを特徴とする光透過性電極積層体。

一般式１中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立して水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ_５〜Ｒ_８はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基を表す。

本発明により、塩化物イオンによる抵抗値変化が抑制され、信頼性に優れた光透過性電極積層体を提供することができる。

実施例で作製した光透過性電極の概略図

以下、本発明について詳細に説明する。本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、下記一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物を少なくとも含有する。

一般式１中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立して水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ_５〜Ｒ_８はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基を表す。前記したハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示でき、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘキシルメチル基、オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基等が例示でき、アラルキル基としてはベンジル基、フェネチル基、１−メチル−１−フェニルエチル基等が例示でき、アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、オクチルオキシ基等が例示できる。Ｒ_５〜Ｒ_８が有するアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基はさらに置換基を有していてもよい。該置換基としては、Ｒ_５〜Ｒ_８として上記した各種置換基や、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、カルボニル基、スルホンアミド基、ウレイド基、スルファモイル基、カルバモイル基、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、複素環基（ピリジル基、イミダゾリル基、キノリニル基、イソインドリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンズチアゾリル基、オキサゾリル基等）等、およびこれらを組み合わせた基が例示できる。また、Ｒ_５〜Ｒ_８は構造中にエステル結合やエーテル結合、スルフィド結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合を有していてもよい。

一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物の中でも、Ｒ_５〜Ｒ_８の少なくとも１つは炭素数４以上の置換基であることが好ましく、炭素数８以上の置換基であることが特に好ましい。以下に一般式１で表される化合物の具体例を記載するが、これらに限定されない。

本発明において粘着剤層は上記一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物を１種のみ含有していてもよく、２種以上含有していてもよい。

上記一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物として市販品を用いることができる。市販品としては、ＢＡＳＦジャパン（株）製ＴＩＮＵＶＩＮ ９９−２、ＴＩＮＵＶＩＮ ３８４−２、ＴＩＮＵＶＩＮ ９００、ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８、ＴＩＮＵＶＩＮ １１３０、ＴＩＮＵＶＩＮ ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２９、ＴＩＮＵＶＩＮ ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ ５７１等、シプロ化成（株）製ＳＥＥＳＯＲＢ ７０１、ＳＥＥＳＯＲＢ ７０３、ＳＥＥＳＯＲＢ ７０４、ＳＥＥＳＯＲＢ ７０６、ＳＥＥＳＯＲＢ ７０７、ＳＥＥＳＯＲＢ ７０９等、住化ケムテックス（株）製Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ２００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ２５０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３４０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３５０等、城北化学工業（株）製ＪＦ−７７、ＪＦ−７９、ＪＦ−８０、ＪＦ−８３、ＪＦ−８３２、ＪＡＳＴ−５００等が例示できる。他に、上記一般式１で表される高分子型のベンゾトリアゾール化合物として、新中村化学工業（株）製バナレジンＵＶＡ−５０８０等が例示できる。

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、上記一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物を該粘着剤層の全質量に対して０．７５〜７．５質量％含有することが好ましい。これにより、塩化物イオンによる抵抗値変化がより効果的に抑制され、信頼性にとりわけ優れた光透過性電極積層体が得られる。

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、上記一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物に加え、さらに下記一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物を含有することが好ましい。これにより塩化物イオンによる抵抗値変化をより効果的に抑制することができる。

一般式２中、Ｒ_９〜Ｒ_１３はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、アミノメチル基、ニトロ基を表す。前記したアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、ノニル基、２−エチルヘキシル基、イソプロピル基等が例示できる。Ｒ_９〜Ｒ_１３は、さらに置換基を有していてもよい。該置換基としては、Ｒ_９〜Ｒ_１３として上記した各種置換基や、メルカプト基、シアノ基、スルホ基、ヒドロキシアルキル基（ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等）、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、ナフトキシ基等）、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルファモイル基、カルバモイル基、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、アルキルチオ基（メチルチオ基、ヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、リン酸アミド基、アルキルオキシカルボニル基、およびこれらを組み合わせた基等が例示できる。

一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物の中でも、塩化物イオンによる抵抗値変化を効果的に抑制する観点から、Ｒ_１３は水素原子または置換基を有するアミノメチル基であることが好ましい。以下に一般式２で表される化合物の具体例を記載するが、これらに限定されない。

上記一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物として市販品を用いることができる。市販品としては城北化学工業（株）製ＢＴ−１２０、ＢＴ−ＬＸ、ＴＴ−ＬＸ、ＣＢＴ−１、５Ｍ−ＢＴＡ等、大和化成（株）製ＯＡ−３８６等が例示できる。

本発明において粘着剤層は上記一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物を１種のみ含有していてもよく、２種以上含有していてもよい。上記一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物を含有する場合、該粘着剤層の全質量に対する一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物の含有量と、一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物の含有量との比は、１：１．５〜７．５：１であることが塩化物イオンによる抵抗値変化を抑制する観点から特に好ましい。

次に、本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層について説明する。該粘着剤層は上記ベンゾトリアゾール化合物以外に、樹脂を好ましく含有する。該樹脂は特に限定されず、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂等の公知の樹脂を例示できる。上記樹脂は、樹脂前駆体を重合開始剤により重合させることで得られる。

樹脂前駆体は特に限定されず、各種樹脂のモノマーやオリゴマーを用いることができる。中でもアクリル系モノマーは、重合により得られる樹脂が透明性に優れ、またモノマーの重合を制御して樹脂に粘着性を付与することも容易であることから、特に好ましい。従って本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層が含有する好ましい樹脂はアクリル系樹脂である。樹脂前駆体として単一のアクリル系モノマーを用いてもよく、２種類以上のアクリル系モノマーを用いてもよく、アクリル系モノマーとアクリル系モノマー以外のモノマーやオリゴマーを用いてもよい。アクリル系モノマーとしては、直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルとが例示できる。なお、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」および／または「メタクリル」を表し、他も同様である。

上記直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸ペンタデシル、（メタ）アクリル酸ヘキサデシル、（メタ）アクリル酸ヘプタデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ノナデシル、（メタ）アクリル酸エイコシル等の炭素数が１〜２０の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。上記直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、２種類以上混合して用いてもよい。

上記（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸−３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸−３−エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸−４−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸−４−エトキシブチル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルは、２種類以上混合して用いてもよい。

上記アクリル系モノマーの中でも、アクリル系モノマーとして（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルを用いることが、上記ベンゾトリアゾール化合物と、アクリル系樹脂との相溶性の観点から好ましく、具体的には重合に供する樹脂前駆体の全量１００質量部のうち、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルの質量は、３０〜９０質量部が好ましく、より好ましくは３５〜９０質量部であり、特に好ましくは４０〜８５質量部である。

上記したアクリル系モノマー以外のモノマーとしては、極性基含有モノマー、多官能性モノマー等が例示できる。

上記極性基含有モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イソクロトン酸等のカルボキシ基含有モノマーまたはその無水物（無水マレイン酸等）、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸−６−ヒドロキシヘキシル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、ビニルアルコール、アリルアルコール等のヒドロキシ基含有モノマー、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド等のアミド基含有モノマー、（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸−ｔ−ブチルアミノエチル等のアミノ基含有モノマー、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸メチルグリシジル等のグリシジル基含有モノマー、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のシアノ基含有モノマー、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、（メタ）アクリロイルモルホリンの他、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニルピリミジン、Ｎ−ビニルピペラジン、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルオキサゾール等の複素環含有ビニル系モノマー、ビニルスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸基含有モノマー、２−ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェート等のリン酸基含有モノマー、シクロヘキシルマレイミド、イソプロピルマレイミド等のイミド基含有モノマー、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基含有モノマー等が挙げられる。上記極性基含有モノマーは、２種類以上混合して用いてもよい。

上記多官能性モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、ジ（メタ）アクリル酸ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ブタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸（ポリ）エチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸（ポリ）プロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、ジ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、トリ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、ヘキサ（メタ）アクリル酸ジペンタエリスリトール、トリ（メタ）アクリル酸トリメチロールプロパン、トリ（メタ）アクリル酸テトラメチロールメタン、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ビニル等が挙げられる。上記多官能性モノマーは、２種類以上混合して用いてもよい。

上記アクリル系モノマー以外のモノマーの中でも、極性基含有モノマーを用いることが塩化物イオンによる抵抗値変化を効果的に抑制する観点から好ましく、ヒドロキシ基含有モノマーを用いることが特に好ましい。

上記モノマー以外にも、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル等の環状アルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル等の、公知の共重合性モノマーを用いることができる。

前述した樹脂前駆体として用いられるオリゴマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、イソプレンアクリレート、ブタジエンアクリレート等のアクリル系オリゴマーが例示できる。本発明におけるアクリル系オリゴマーとは、アクリル基を少なくとも１つ以上有するオリゴマーを意味する。

上記アクリル系オリゴマーは市販されており、いずれも好ましく用いることができる。ウレタンアクリレートとしては東亞合成（株）製アロニックスＭ−１１００、アロニックスＭ−１２００、新中村化学工業（株）製ＵＡ−１１００Ｈ、ＵＡ−１６０ＴＭ、ダイセル・オルネクス（株）製ＥＢＥＣＲＹＬ２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ２３０、ＥＢＥＣＲＹＬ２７０、荒川化学工業（株）製ビームセット５０５Ａ−６、ビームセット５５０Ｂ、ビームセット５７５等が例示できる。エポキシアクリレートとしてはＤＩＣ（株）製ユニディックＶ−５５００、ユニディックＶ−５５０２、共栄社化学（株）製エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３０００ＭＫ等が例示できる。ポリエステルアクリレートとしては東亞合成（株）製アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８１００、ダイセル・オルネクス（株）製ＥＢＥＣＲＹＬ４３６、ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ８１０等が例示できる。イソプレンアクリレートとしては、（株）クラレ製ＵＣ−１０２、ＵＣ−２０３等が例示できる。ブタジエンアクリレートとしては、日本曹達（株）製ＮＩＳＳＯ−ＰＢ ＴＥ−２０００等が例示できる。

樹脂前駆体の重合に用いる重合開始剤は特に限定されず、公知の重合開始剤が例示できる。ここで重合開始剤とは、熱や電離放射線により、上記樹脂前駆体の重合反応を開始させる化合物を意味する。熱により重合反応を開始させる重合開始剤としては、メチルエチルケトンペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、（２−エチルヘキサノイル）（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド等の有機過酸化物、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２′−アゾビス−２−メチルブチロニトリル等のアゾ化合物が例示でき、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン｝、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン等のアセトフェノン化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチル−ジフェニルサルファイド、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン化合物、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロリド等のチオキサントン化合物等が例示できる。なお、電離放射線とは、樹脂前駆体の重合反応を開始させうるエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、紫外線、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が例示でき、中でも紫外線を用いることが生産性の観点から好ましい。

上記重合開始剤は市販されており、いずれも好ましく用いることができる。具体的にはＢＡＳＦジャパン（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１１７３等、大塚化学（株）製ＡＩＢＮ、ＡＤＶＮ、ＡＭＢＮ等が例示できる。

樹脂前駆体の重合に用いる重合開始剤の量は特に限定されないが、重合に供する樹脂前駆体の全量１００質量部に対し、重合開始剤は０．０５〜５質量部であることが重合速度の観点から好ましく、０．１〜３質量部が特に好ましい。

樹脂前駆体の重合方法としては、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、電離放射線照射重合方法等の公知の重合方法が例示でき、熱により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は溶液重合方法を、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は電離放射線照射重合方法を、といったように使用する重合開始剤の特性に合わせて選択すればよい。

溶液重合方法を用いて樹脂前駆体を重合する場合に用いる重合用溶媒は特に限定されず、樹脂前駆体および重合開始剤を溶解可能な公知の有機溶媒を用いることができる。具体的には酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶媒、アセトン、２−ブタノン等のケトン系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、エタノール、２−プロパノール等のアルコール系溶媒が例示できる。重合用溶媒として２種以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、上記した樹脂、ベンゾトリアゾール化合物以外に、架橋剤（例えばイソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤等）、シランカップリング剤（例えば３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ基を有するシランカップリング剤、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト基を有するシランカップリング剤、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリル基を有するシランカップリング剤等）、粘着付与剤（例えば、ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール樹脂等）、酸化防止剤（ヒンダードフェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物等）、紫外線吸収剤（トリアジン化合物、ベンゾフェノン化合物等）、光安定剤（ヒンダードアミン化合物等）、充填剤、着色剤（顔料や染料等）、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤等の公知の樹脂用添加剤を含有していてもよい。上記樹脂用添加剤の中でも、架橋剤を含有することが粘着剤層の粘着性の観点から好ましく、イソシアネート系架橋剤を含有することが特に好ましい。

イソシアネート系架橋剤は特に限定されず、１，２−エチレンジイソシアネート、１，４−ブチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシレンジイソシアネート等の脂環族ポリイソシアネート類、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート類等の公知のイソシアネート系架橋剤が例示できる。また、トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート付加物（日本ポリウレタン工業（株）製、商品名「コロネートＬ」）、トリメチロールプロパン／ヘキサメチレンジイソシアネート付加物（日本ポリウレタン工業（株）製、商品名「コロネートＨＬ」）等も好ましく用いることができる。

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、２層以上の組成の異なる粘着剤層からなっていてもよい。例えば、光透過性電極の網目状金属細線パターンを有する側の面に、上記ベンゾトリアゾール化合物を含有する粘着剤層Ａを設け、該粘着剤層Ａ上にベンゾトリアゾール化合物を含有しない粘着剤層Ｂを設けて、１つの粘着剤層としてもよい。

粘着剤層の厚みは特に限定されないが、薄すぎると網目状金属細線パターンを有する側の光透過性電極表面の凹凸へ追従しきれず、光透過性電極積層体中に泡が入る場合があり、また厚すぎると光透過性電極積層体の透明性が損なわれる場合がある。よって粘着剤層の厚みは５〜３００μｍが好ましく、より好ましくは１０〜２５０μｍである。また、光透過性電極積層体の透明性の観点から、粘着剤層の全光線透過率は９０％以上であることが好ましく、特に好ましくは９５％以上である。同様の観点から、粘着剤層のヘイズは０〜３％が好ましく、特に好ましくは０〜２％である。

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層の形成方法を説明する。粘着剤層を形成する方法は特に限定されないが、上記した樹脂、ベンゾトリアゾール化合物、その他の粘着剤層が含有していてもよい添加剤、以上のものを溶媒に溶解させた粘着剤層形成用塗液を作製し、これを塗布・乾燥させ粘着剤層を形成する方法が、生産性の観点から特に好ましい。従って本発明において、該樹脂は溶液重合方法により重合することが重合用溶媒をそのまま粘着剤層形成用塗液の溶媒として利用できるため生産性の観点から好ましく、重合開始剤としては熱により重合反応を開始させる重合開始剤を用いることが好ましい。

本発明においては、光透過性電極上に粘着剤層を形成し、該粘着剤層上に後述する機能材料を積層してもよく、機能材料上に粘着剤層を形成し、該粘着剤層上に光透過性電極を積層してもよく、剥離加工済み支持体上に粘着剤層を形成し、その後、剥離加工済み支持体より該粘着剤層を剥離して光透過性電極上に積層し、さらに機能材料を積層してもよい。中でも剥離加工済み支持体上に粘着剤層を形成する方法が、粘着剤層を形成する工程中に光透過性電極や機能材料を傷つける可能性を回避できるため、生産性の観点から特に好ましい。

剥離加工済み支持体の支持体は特に限定されず、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂等の各種樹脂フィルム、各種金属、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス等が例示できる。剥離加工方法としては、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の公知の剥離処理剤で支持体表面を処理する方法が例示できる。

粘着剤層形成用塗液を剥離加工済み支持体上に付与する方法は特に限定されず、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、キスコート法等の公知の方法を用いて塗布する方法や、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、ディスペンサー印刷、パッド印刷等の公知の方法を用いて印刷する方法等が例示できる。粘着剤層形成用塗液を付与した後は、加熱や自然乾燥等の公知の乾燥方法により溶媒を乾燥させ、粘着剤層とする。

次に、本発明の光透過性電極積層体が有する光透過性電極について説明する。本発明の光透過性電極積層体が有する光透過性電極は、支持体上に網目状金属細線パターンを有し、該網目状金属細線パターンは金属細線から構成される。光透過性電極の透明性の観点から、光透過性電極の支持体は光透過性を有することが特に好ましい。光透過性を有する支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂等の各種樹脂フィルム、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス等が例示できる。光透過性電極積層体の透明性の観点から、支持体の全光線透過率は６０％以上が好ましく、特に好ましくは７０％以上である。支持体は、易接着層、ハードコート層、反射防止層、防眩層、ＩＴＯ等からなる導電性非金属層等の、公知の層を有していてもよい。

網目状金属細線パターンを構成する金属細線が含有する金属種は限定されず、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル等の公知の金属や公知の金属からなる合金を例示できるが、導電性の観点から銀または銅を含有することが好ましく、銀を含有することが特に好ましい。金属細線が含有する金属の割合は、金属細線の全固形分質量に対し５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上が特に好ましい。

光透過性電極積層体の信頼性の観点から、支持体上の網目状金属細線パターンを構成する金属細線の線幅は１．５〜１０μｍであることが必要であり、特に好ましくは３．０〜８．０μｍである。線幅が１．５μｍ未満である場合、および１０μｍ超である場合、網目状金属細線パターンの抵抗値変化を抑制しきれず、光透過性電極積層体の信頼性が低下する。また、光透過性電極積層体の信頼性の観点から、支持体上の網目状金属細線パターンを構成する金属細線の金属量は、０．５〜１０．５ｇ／ｍ^２であることが好ましい。

本発明において支持体上の網目状金属細線パターンを構成する金属細線の金属量は、光透過性電極を一部切り取って測定試料とし、蛍光Ｘ線により測定試料中の金属の存在量（ｇ）を測定し、測定試料の網目状金属細線パターンを有する面のうち、金属細線が存在する部分のみの面積（ｍ^２）で割ることで算出する方法を例示できる。

本発明の光透過性電極積層体をタッチパネルセンサーに利用する場合、網目状金属細線パターンは、複数の単位格子を網目状に配置した幾何学形状を有することがセンサーの感度、視認性（センサーの形状が見えにくい）等の観点から好ましい。単位格子の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形等のｎ角形、星形等を組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは２種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも単位格子の形状としては正方形もしくは菱形が好ましい。またボロノイ図形やドロネー図形、ペンローズタイル図形等に代表される不規則幾何学形状も好ましい網目状金属細線パターンの形状の一つである。

本発明の光透過性電極積層体をタッチパネルセンサーに利用する場合、網目状金属細線パターンは、互いに電気的に絶縁された複数のセンサーからなるセンサー部からなっていてもよい。該センサー部の視認性の観点から、支持体上のセンサー部間にはセンサー部と電気的に絶縁された、網目状金属細線パターンからなるダミー部を有していてもよい。センサー部、ダミー部以外に、外部に電気信号を取り出すために設けられる複数の端子からなる端子部や、センサー部と端子部を電気的に接続する複数の周辺配線からなる周辺配線部を有していてもよい。該端子部および周辺配線部は網目状金属細線パターンからなっていてもよく、ベタパターン（塗りつぶしパターン）であってもよい。

支持体上に網目状金属細線パターンを形成する方法は特に限定されず、例えば特開２０１５−６９８７７号公報に開示される方法に従い、金属およびバインダーを含有する導電性金属インキや導電性ペーストを、支持体上に印刷等の方法で付与して網目状金属細線パターンを形成する方法や、特開２００７−５９２７０号公報に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用い、硬化現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００７−１２３１４号公報等に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用い、直接現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報、特開２００７−１８８６５５号公報、特開２００４−２０７００１号公報等に開示される方法に従い、支持体上に物理現像核層と、ハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用い、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させる、いわゆる銀塩拡散転写法を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２０１４−１９７５３１号公報に開示される方法に従い、支持体上に下地層、感光性レジスト層を積層した感光性レジスト材料を光透過性電極前駆体として用い、感光性レジスト層を任意のパターン状に露光後、現像し、レジスト画像を形成した後、無電解めっきを施してレジスト画像に被覆されていない下地層上に金属を局在化させ、その後レジスト画像を除去し網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２０１５−８２１７８号公報に開示されている方法に従い、支持体上に金属膜、レジスト膜を設け、該レジスト膜を露光および現像して開口部を形成し、該開口部の金属膜をエッチングして除去して網目状金属細線パターンを形成する方法、等が例示できる。

上記した支持体上に網目状金属細線パターンを形成する方法の中でも、銀を含有する金属細線からなる網目状金属細線パターンが容易に形成でき、パターンの微細化も容易であることから、銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、感光性レジスト材料を光透過性電極前駆体として用いて無電解めっきを施して網目状金属細線パターンを形成する方法が好ましい。

支持体上に網目状金属細線パターンを形成後、金属細線表面に公知の金属表面処理を施してもよい。例えば特開２００８−３４３６６号公報に記載されているような還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物を作用させてもよく、特開２０１３−１９６７７９号公報に記載されているような分子内に２つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体を作用させてもよく、特開２０１１−２０９６２６号公報に記載されているように硫化反応による黒化処理を施してもよい。また、銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用いて網目状金属細線パターンを形成する場合、網目状金属細線パターンを構成する金属細線と、粘着剤層との接着性を向上させる観点から、特開２００７−１２４０４号公報に記載されているようにタンパク質分解酵素等の酵素を含有する処理液で処理してもよい。

本発明の光透過性電極積層体が有する機能材料としては、前述の光透過性電極や、化学強化ガラス、ソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート等の各種樹脂からなるフィルム、および上記したガラスやフィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、反射防止層、防眩層、偏光層、ＩＴＯ等からなる導電性非金属層等の公知の機能層を有する材料が例示できる。

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

＜光透過性電極１の作製＞
支持体として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なお、支持体の全光線透過率は９１．５％であった。

次に下記組成の下地層を支持体上に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。

＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液 塩化パラジウム ５ｇ
塩酸 ４０ｍｌ
蒸留水 １０００ｍｌ
Ｂ液 硫化ソーダ ８．６ｇ
蒸留水 １０００ｍｌ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。

＜下地層組成／１ｍ^２あたり＞
クラレポバールＰＶＡ−２１７ １２ｍｇ
（（株）クラレ製ポリビニルアルコール 鹸化度８８％、重合度１７００）
ハイドランＷＬＳ−２１０ １７．２ｍｇ（固形分６ｍｇ）
（ＤＩＣ（株）製ウレタン樹脂エマルション 平均粒径０．０５μｍ）
界面活性剤（Ｓ−１） １２ｍｇ
水酸化ナトリウム １１０ｍｇ
グルタルアルデヒド １８ｍｇ
硫化パラジウムゾル ０．４ｍｇ

このようにして得られた下地層上に、クレゾールノボラック樹脂およびナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを含有する感光性液状レジストを塗布、乾燥して、乾燥膜厚が１．５μｍのポジ型感光性レジスト層を設けることで、感光性レジスト材料を得た。

上記のようにして得られた感光性レジスト材料について、感光性レジスト層表面に、網目状細線パターン、周辺配線部パターン、および端子部パターンを有するネガ型透過原稿を密着させ、感光性レジスト層の感光域の波長を有する光（超高圧水銀灯）を集光し、コリメーターレンズを通して平行光露光を行った。その後、現像液として液温３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を用い、現像液をシャワー方式にて感光性レジスト層に３０秒間吹き掛けて現像し、網目状細線パターン、周辺配線部パターン、および端子部パターン状に下地層が露出したレジスト画像を得た。

次に、感光性レジスト材料の上記レジスト画像を有する側の面を脱イオン水で洗浄し、圧縮空気により脱イオン水を吹き飛ばした後、下記組成のアンモニア性硝酸銀溶液と還元剤溶液を双頭スプレーガンにて、レジスト画像を有する側の面に同時に３０秒間吹き付けて無電解銀めっきを行い、レジスト画像で被覆されていない下地層上に銀を析出させた。その後、脱イオン水で洗浄し、自然乾燥させた。双頭スプレーガンの吹き付け量は各々２４０ｍＬ／分であった。

＜アンモニア性硝酸銀溶液の調製＞
Ｃ液 硝酸銀 ２０ｇ
脱イオン水 １０００ｇ
Ｄ液 ２８質量％アンモニア水溶液 １００ｇ
モノエタノールアミン ５ｇ
脱イオン水 １０００ｇ
Ｃ液とＤ液を１：１の質量比で混合し、アンモニア性硝酸銀溶液を得た。

＜還元剤溶液の調製＞
硫酸ヒドラジン １０ｇ
モノエタノールアミン ５ｇ
水酸化ナトリウム １０ｇ
これらを脱イオン水１０００ｇに溶解し、還元剤溶液を得た。

次に、銀が析出した側の面に、５質量％水酸化ナトリウム溶液をシャワー方式にて６０秒間吹き掛けてレジスト画像を溶解除去し、水洗後、自然乾燥した。さらに、下記組成の黒化処理液に５０℃で２０秒間浸漬処理することで銀画像を黒化し、図１に示す光透過性電極１を得た。

＜黒化処理液の調製＞
硫化ナトリウム・９水和物 ０．３ｇ
硫黄 ０．０６ｇ
１０質量％ポリオキシエチレンアルキルエーテル ０．０１ｇ
これらを脱イオン水１０００ｇに溶解し、黒化処理液を得た。

光透過性電極１においてセンサー部１１は線幅５．０μｍ、一辺の長さが３００μｍで狭い方の角度が６０°の菱形の単位格子からなる網目状金属細線パターンによって形成されており、周辺配線部１２、端子部１３は全てベタパターン（塗りつぶしパターン）である。周辺配線部１２を構成する周辺配線の線幅は全て２０μｍであり、隣接する周辺配線間の最短距離は２０μｍである。図１中の破線は、後ほど作製する粘着剤層の外縁１４を示し、光透過性電極１上に破線は存在しない。蛍光Ｘ線分析による測定の結果、センサー部１１を構成する金属細線の金属量は５．０ｇ／ｍ^２であった。

＜光透過性電極２〜５の作製＞
感光性レジスト材料の上記レジスト画像を有する側の面に対して、上記アンモニア性硝酸銀溶液と還元剤溶液を双頭スプレーガンにて吹き付ける時間を変化させた以外は光透過性電極１と同様にして、光透過性電極２〜５を得た。光透過性電極２〜５が有するセンサー部１１を構成する金属細線の金属量を蛍光Ｘ線分析により測定し、この結果を後述する表１に記載した。

＜光透過性電極６〜１１の作製＞
前記したネガ型透過原稿中、センサー部１１を構成する金属細線の線幅を変更した以外は光透過性電極１と同様にして、光透過性電極６〜１１を得た。センサー部１１を構成する金属細線の線幅は後述する表１に記載した。また蛍光Ｘ線分析による測定の結果、センサー部１１を構成する金属細線の金属量はいずれも５．０ｇ／ｍ^２であった。

＜光透過性電極１２の作製＞
支持体として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なお、支持体の全光線透過率は９１．５％であった。

次に下記組成の物理現像核層を支持体上に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。

＜物理現像核層組成／１ｍ^２あたり＞
上記硫化パラジウムゾル ０．４ｍｇ
２質量％グリオキザール水溶液 ０．２ｍｌ
界面活性剤（Ｓ−１） ４ｍｇ
デナコールＥＸ−８３０ ５０ｍｇ
（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
１０質量％ＳＰ−２００水溶液 ０．５ｍｇ
（（株）日本触媒製ポリエチレンイミン 平均分子量１０，０００）

続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核液層の上に塗布、乾燥して、銀塩感光材料を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀９５モル％と臭化銀５モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを含む。

＜中間層組成／１ｍ^２あたり＞
ゼラチン ０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ５ｍｇ
染料１ ５ｍｇ

＜ハロゲン化銀乳剤層組成／１ｍ^２あたり＞
ゼラチン ０．５ｇ
ハロゲン化銀乳剤 ３．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ３ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ２０ｍｇ

＜保護層組成／１ｍ^２あたり＞
ゼラチン １ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ） １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） １０ｍｇ

銀塩感光材料と、網目状細線パターン、周辺配線部パターン、および端子部パターンを有するポジ型透過原稿とを密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。その後、下記拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。このようにして図１に示す光透過性電極１２を得た。なお、得られた光透過性電極１２は、下記表１に示した通り、センサー部１１を構成する金属細線の金属量が１．０ｇ／ｍ^２であった以外は、前記した光透過性電極と同様であった。

＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム ２５ｇ
ハイドロキノン １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン ２ｇ
亜硫酸カリウム ８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン １５ｇ
臭化カリウム １．２ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する。

＜粘着剤層１の作製＞
アクリル酸−２−メトキシエチルを６０質量部、アクリル酸−２−エチルヘキシルを３９質量部、アクリル酸−４−ヒドロキシブチルを１質量部、重合開始剤として２，２′−アゾビスイソブチロニトリル（大塚化学（株）製ＡＩＢＮ）を０．５質量部、重合用溶媒として酢酸エチルを３００部、以上をセパラブルフラスコに投入し、窒素ガスを導入しながら１時間撹拌した。その後、６５℃に昇温して１０時間撹拌して溶液重合方法により樹脂前駆体を重合させ、固形分濃度２５質量％の樹脂溶液を得た。

この樹脂溶液１００質量部（固形分換算）に、イソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＬ）を０．５質量部（固形分換算）添加した後、これらを均一に混合し粘着剤層形成用塗液１を得た。該粘着剤層形成用塗液１を厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８、剥離加工済み）の剥離加工面上に塗布し、１００℃の温風で３分間加熱し乾燥させ、粘着剤層１（厚み５０μｍ）を作製した。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８、剥離加工済み）の剥離加工面を粘着剤層１上に貼合した。

＜粘着剤層２〜２７の作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液１に対し、表２に示す化合物を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が表２に示す値になるように混合した以外は粘着剤層１の作製と同様にして、粘着剤層２〜２７を得た。なお、表２中の化合物１−１４としては新中村化学工業（株）製バナレジンＵＶＡ−５０８０を用いた。

＜粘着剤層２８の作製＞
アクリル酸−２−メトキシエチルを６０質量部、アクリル酸ブチルを３４質量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンを３．５質量部、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミドを１質量部、２−アクリル酸−４−ヒドロキシブチルを１質量部、アクリル酸を０．５質量部、重合開始剤として２，２′−アゾビス−２−メチルブチロニトリル（大塚化学（株）製ＡＭＢＮ）を０．５質量部、重合用溶媒として酢酸エチルを３００部、以上をセパラブルフラスコに投入し、窒素ガスを導入しながら１時間撹拌した。その後、６５℃に昇温して１０時間撹拌して溶液重合方法により樹脂前駆体を重合させ、固形分濃度２５質量％の樹脂溶液を得た。

この樹脂溶液１００質量部（固形分換算）に、イソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＬ）を０．５質量部（固形分換算）、シランカップリング剤（３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業（株）製、ＫＢＭ−４０３）を０．３質量部添加した後、これらを均一に混合し粘着剤層形成用塗液２を得た。該粘着剤層形成用塗液２を厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８、剥離加工済み）の剥離加工面上に塗布し、１００℃の温風で３分間加熱し乾燥させ、粘着剤層２８（厚み５０μｍ）を作製した。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８、剥離加工済み）の剥離加工面を粘着剤層２８上に貼合した。

＜粘着剤層２９〜３１の作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液２に対し、表２に示す化合物を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が前述した表２に示す値になるように混合した以外は粘着剤層２８の作製と同様にして、粘着剤層２９〜３１を得た。

＜試料１の作製＞
光透過性電極１上の、図１で示した外縁１４で囲まれた領域に対し、粘着剤層１を貼合し、さらに粘着剤層１上に無アルカリガラス（コーニングジャパン（株）製イーグル２０００）を貼合した。この手順を繰り返し、試料１を３０枚作製した。

＜試料２〜４２の作製＞
光透過性電極、粘着剤層を表３に記載したように変更した以外は試料１の作製と同様にして、試料２〜４２を各３０枚作製した。

＜抵抗値が変化した試料数＞
全ての試料について、設計上導通している左右の端子間での抵抗値を全端子間について測定し初期抵抗値とした。次に、全試料の全端子の露出している部分（粘着剤層で被覆されていない端子部）をマスキングテープにより一時的に封止したうえで、ＪＩＳ Ｚ ２３７１に準じ、スガ試験機（株）製塩水噴霧試験装置内に入れ、７２時間の中性塩水噴霧試験を実施した。試験に使用した塩化ナトリウム水溶液の塩化ナトリウム濃度は５０ｇ／Ｌ、試験時の水温は３５℃であった。試験後、全ての試料の全端子からマスキングテープを剥離し、設計上導通している左右の端子間での抵抗値を全端子間について測定し、初期抵抗値からの抵抗値変化率（単位：％）を算出した。全ての試料について、１端子間でも抵抗値変化率が±１０％を超えたものの枚数を数えた（抵抗値が変化した試料数）。結果を表３に示す。

表３の結果から、本発明によって、塩化物イオンによる抵抗値変化が抑制され、信頼性に優れた光透過性電極積層体が得られることが判る。

１１ センサー部
１２ 周辺配線部
１３ 端子部
１４ 外縁

Claims (1)

1. 支持体上に網目状金属細線パターンを有する光透過性電極の網目状金属細線パターンを有する側の面に、粘着剤層と、機能材料とを少なくともこの順に有する光透過性電極積層体であって、該網目状金属細線パターンを構成する金属細線の線幅が１．５〜１０μｍであり、該粘着剤層が下記一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物を含有することを特徴とする光透過性電極積層体。
   一般式１中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立して水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ_５〜Ｒ_８はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基を表す。