JP6611816B2 - ３−オキソ−３−（アリールアミノ）プロパノエイト、その製造方法、およびピロリジノンの製造におけるその使用 - Google Patents

Description

本発明は、特定の３−オキソ−３−（アリールアミノ）プロパノエイト、その塩および組成物、その製造方法、ならびに除草剤として有用な特定のピロリジノンの製造におけるその使用に関する。

本発明は、式Ｉおよびその塩から選択される化合物に関する。

式中、
Ｑ^１は、フェニル環もしくはナフタレニル環系であって、各環もしくは環系は、任意選択により、Ｒ^１または完全不飽和の５〜６員ヘテロ環もしくは８〜１０員二環式ヘテロ芳香環系から独立して選択される最大５個までの置換基で置換され；各環もしくは環系は、炭素原子、ならびに、最大２個までのＯ原子、最大２個までのＳ原子および最大４個までのＮ原子から独立して選択される１〜４個のヘテロ原子から選択される環メンバーを含み（ここで、最大３個までの炭素環メンバーは、Ｃ（＝Ｏ）およびＣ（＝Ｓ）から独立して選択され、硫黄原子環メンバーはＳ（＝Ｏ）_ｕ（＝ＮＲ^２）_ｖ、各環もしくは環系は、任意選択により、炭素原子環メンバー上のＲ^１からおよび窒素原子環メンバー上のＲ^３から独立して選択される最大５個までの置換基で置換され；
Ｑ^２は、フェニル環もしくはナフタレニル環系であって、各環もしくは環系は、任意選択により、Ｒ^４または完全不飽和の５〜６員ヘテロ環もしくは８〜１０員二環式ヘテロ芳香環系から独立して選択される最大５個までの置換基で置換され；各環もしくは環系は、炭素原子、ならびに、最大２個までのＯ原子、最大２個までのＳ原子および最大４個までのＮ原子から独立して選択される１〜４個のヘテロ原子から選択される環メンバーを含み（ここで、最大３個までの炭素環メンバーは、Ｃ（＝Ｏ）およびＣ（＝Ｓ）から独立して選択され、硫黄原子環メンバーはＳ（＝Ｏ）_ｕ（＝ＮＲ^２）_ｖ、各環もしくは環系は、任意選択により、炭素原子環メンバー上のＲ^４からおよび窒素原子環メンバー上のＲ^５から独立して選択される最大５個までの置換基で置換され；

Ｒは、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基またはフェニル基であり；
各Ｒ^１およびＲ^４は、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ニトロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ニトロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキニル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルアルキル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０ハロシクロアルキルアルキル基、Ｃ_５〜Ｃ_１２アルキルシクロアルキルアルキル基、Ｃ_５〜Ｃ_１２シクロアルキルアルケニル基、Ｃ_５〜Ｃ_１２シクロアルキルアルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８ハロシクロアルキル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０アルキルシクロアルキル基、Ｃ_６〜Ｃ_１２シクロアルキルシクロアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルケニル基、Ｃ_３〜Ｃ_８ハロシクロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルコキシアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルキル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルコキシアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_１０アルコキシアルコキシアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルチオアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルスルフィニルアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルスルホニルアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルアミノアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキルアミノアルキル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルアミノアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_１０ジアルキルアミノアルキル基、−ＣＨＯ、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキルカルボニル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルカルボニル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、Ｃ_２〜Ｃ_８アルコキシカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルコキシカルボニル基、Ｃ_５〜Ｃ_１２シクロアルキルアルコキシカルボニル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ_２、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルアミノカルボニル基、Ｃ_３〜Ｃ_１０ジアルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニルオキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニルオキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８アルキニルオキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８ハロアルキニルオキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルコキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８ハロシクロアルコキシ基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルアルコキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_１０アルキルカルボニルアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキルチオ基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキルスルフィニル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキルスルフィニル基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキルスルホニル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルスルホニル基，ホルミルアミノ基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキルスルホニルアミノ基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキルスルホニルアミノ基、−ＳＦ_５、−ＳＣＮ、Ｃ_３〜Ｃ_１２トリアルキルシリル基、Ｃ_４〜Ｃ_１２トリアルキルシリルアルキル基またはＣ_４〜Ｃ_１２トリアルキルシリルアルコキシ基であり；各Ｒ^２は、独立して、Ｈ、シアノ基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキルカルボニル基またはＣ_２〜Ｃ_３ハロアルキルカルボニル基であり；
各Ｒ^３およびＲ^５は、独立して、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルコキシアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_３アルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキルカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルコキシカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキルアミノアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_４ジアルキルアミノアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
Ｓ（＝Ｏ）_ｕ（＝ＮＲ^２）_ｖの各例における各ｕおよびｖは、独立して、０、１または２である（但し、ｕおよびｖの合計は０、１または２である）

本発明はまた、式Ｉの化合物を製造する方法であって、式ＩＩ

の化合物を、式ＩＩＩ

の化合物と、任意選択により触媒または塩基の存在下で接触させて、式Ｉの化合物を生成することを含む方法に関する。

本発明はさらに、式ＩＶの化合物の製造方法であって、

還元剤の存在下で、式Ｉの化合物を還元的に環化することを含む方法に関する。

本明細書で使用されるとき、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅ（ｓ））」、「含んでいる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「挙げられる（ｉｎｃｌｕｄｅ（ｓ））」、「挙げられている（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有している（ｈａｖｉｎｇ）」、「含有する（ｃｏｎｔａｉｎ（ｓ））」、「含有している（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」、「〜を特徴としている（ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚｅｄ ｂｙ）」という用語、またはそれらの他の任意の変形は、明確に示された限定に対し、非排他的包含をカバーすることが意図されている。例えば、列挙された要素を含む組成物、混合物、プロセス、方法、物品もしくは装置は、必ずしも、それらの要素のみに限定されず、明示的に挙げられていない、またはそのような組成物、混合物、プロセス、方法、物品もしくは装置が本来備えている他の要素を含んでもよい。

「〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」という移行句では、特定されていない要素、工程または成分は除外される。請求項においては、それは、通常含まれる不純物を除き、記載された物質以外の物質を包含することに対し請求項を閉じる。「〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」という句が、プリアンブルの直後ではなく、請求項のボディの節に記載されている場合、その節に記載された要素のみに限られ、他の要素は、請求項全体からは排除されない。

「実質的に〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」という移行部は、開示された文字通りのものに加えて、物質、工程、特性、構成要素または要素を、これらの付加的な物質、工程、特性、構成要素または要素が、請求項の発明の基本的かつ新規の特徴に実質的に影響しないこと条件に含む、組成物、方法または装置を定義するために使用される。「実質的に〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」という用語は、「含んでいる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」と「〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」の間の中間に位置する。

出願人が発明またはその一部を、「含んでいる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」などのオープンエンドの用語で定義した場合、（他に特に記載されていない限り）その記述は、「実質的に〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」または「〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」という用語によってもまた、そのような発明を記載していると解釈されるべきであることは、容易に理解されよう。

さらに、明示的に逆の規定がされていない限り、「または（ｏｒ）」、は、包含的なまたは（ｏｒ）を指し、排他的なまたは（ｏｒ）を指すものではない。例えば、条件ＡまたはＢは、以下のいずれか１つを満たす。Ａは正しく（または、存在する）、かつＢは間違いである（または、存在しない）；Ａは間違いであり（または、存在しない）、かつＢは正しい（または、存在する）；ＡおよびＢはいずれも正しい（または存在する）。

また、発明の要素または構成要素に先行する不定冠詞「ａ」および「ａｎ」は、その要素または構成要素の事例数（すなわち、発生数）が非制限的であることが意図されている。したがって、「ａ」および「ａｎ」は、１つまたは少なくとも１つを含むと読まれるべきであり、単数形の要素または構成要素も、明確に単数であるとされていないなら、複数も含み得る。

上記の記載において、単独で、または「アルキルチオ」または「ハロアルキル」などの複合語で記載されている「アルキル」という用語は、直鎖または分岐アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、またはブチル、ペンチルもしくはヘキシルの各種異性体を含む。「アルケニル」は、直鎖または分岐アルケン、例えば、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、ならびに、ブテニル、ペンテニルおよびヘキセニルの各種異性体を含む。「アルケニル」はまた、ポリエン、例えば、１，２−プロパジエニルおよび２，４−ヘキサジエニルを含む。「アルキニル」は、直鎖または分岐アルキン、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、ならびに、ブチニル、ペンチニルおよびヘキシニルの各種異性体を含む。「アルキニル」はまた、多数の三重結合をからなる部分、例えば、２，５−ヘキサジイニルを含む。

「アルコキシ」は、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ならびに、ブトキシ、ペントキシおよびヘキシルオキシの各種異性体を含む。「アルコキシアルキル」は、アルコキシ置換アルキルを示す。「アルコキシアルキル」の例としては、ＣＨ_３ＯＣＨ_２、ＣＨ_３ＯＣＨ_２ＣＨ_２、ＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２およびＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２が挙げられる。「アルコキシアルコキシ」は、アルコキシ置換アルコキシを示す。「アルケニルオキシ」は、直鎖または分岐アルケニルオキシ基部分を含む。「アルケニルオキシ」の例としては、Ｈ_２Ｃ＝ＣＨＣＨ_２Ｏ、（ＣＨ_３）_２Ｃ＝ＣＨＣＨ_２Ｏ、（ＣＨ_３）ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２Ｏ、（ＣＨ_３）ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＯおよびＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｏが挙げられる。「アルキニルオキシ」は、直鎖または分岐アルキニルオキシ部分を含む。「アルキニルオキシ」の例としては、ＨＣoＣＣＨ_２Ｏ、ＣＨ_３ＣoＣＣＨ_２ＯおよびＣＨ_３ＣoＣＣＨ_２ＣＨ_２Ｏが挙げられる。「アルキルチオ」は、分岐または直鎖アルキルチオ部分、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ならびに、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオおよびヘキシルチオの各種異性体を含む。「アルキルスルフィニル」は、アルキルスルフィニル基の両エナンチオマーを含む。「アルキルスルフィニル」の例としては、ＣＨ_３Ｓ（Ｏ）−、ＣＨ_３ＣＨ_２Ｓ（Ｏ）−、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓ（Ｏ）−、（ＣＨ_３）_２ＣＨＳ（Ｏ）−、ならびに、ブチルスルフィニル、ペンチルスルフィニルおよびヘキシルスルフィニルの各種異性体が挙げられる。「アルキルスルホニル」の例としては、ＣＨ_３Ｓ（Ｏ）_２−、ＣＨ_３ＣＨ_２Ｓ（Ｏ）_２−、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓ（Ｏ）_２−、（ＣＨ_３）_２ＣＨＳ（Ｏ）_２−、ならびに、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニルおよびヘキシルスルホニルの各種異性体が挙げられる。「アルキルチオアルキル」は、アルキルチオ置換アルキルを示す。「アルキルチオアルキル」の例としては、ＣＨ_３ＳＣＨ_２、ＣＨ_３ＳＣＨ_２ＣＨ_２、ＣＨ_３ＣＨ_２ＳＣＨ_２、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_２およびＣＨ_３ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２が挙げられる。「アルキルアミノ」、「アルキルアミノアルキル」などは、上記の例と同様に定義される。

「シクロアルキル」は、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルを含む。「アルキルシクロアルキル」という用語は、アルキル置換シクロアルキル部分を示し、例えば、エチルシクロプロピル、ｉ−プロピルシクロブチル、３−メチルシクロペンチルおよび４−メチルシクロヘキシルを含む。「シクロアルキルアルキル」という用語は、シクロアルキル置換アルキル部分を示す。「シクロアルキルアルキル」の例としては、シクロプロピルメチル、シクロペンチルエチル、および直鎖または分岐アルキル基に結合した他のシクロアルキル部分が挙げられる。「シクロアルコキシ」という用語は、酸素原子を介して結合するシクロアルキル、例えば、シクロペンチルオキシおよびシクロヘキシルオキシを示す。「シクロアルキルアルコキシ」は、アルキル鎖に付いた酸素原子を介して結合するシクロアルキルアルキルを示す。「シクロアルキルアルコキシ」の例としては、シクロプロピルメトキシ、シクロペンチルエトキシ、および直鎖または分岐アルコキシ基に結合した他のシクロアルキル部分が挙げられる。

単独、または「ハロアルキル」などの複合語、あるいは、「ハロゲンで置換されたアルキル」などの記述で使用されるときの「ハロゲン」という用語は、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を含む。さらに、「ハロアルキル」などの複合語で使用されるとき、または「ハロゲンで置換されたアルキル」などの記述で使用されるとき、前記アルキルは、ハロゲン原子で部分置換されていてもよく、または完全置換されていてもよく、それらのハロゲン原子は同じであっても異なっていてもよい。「ハロアルキル」または「ハロゲンで置換されたアルキル」の例としては、Ｆ_３Ｃ、ＣｌＣＨ_２、ＣＦ_３ＣＨ_２およびＣＦ_３ＣＣｌ_２が挙げられる。「ハロシクロアルキル」、「ハロアルコキシ」、「ハロアルキルチオ」、「ハロアルケニル」、「ハロアルキニル」などの用語は、「ハロアルキル」という用語と同様に定義される。「ハロアルコキシ」の例としては、ＣＦ_３Ｏ−、ＣＣｌ_３ＣＨ_２Ｏ−、ＨＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−およびＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ−が挙げられる。「ハロアルキルチオ」の例としては、ＣＣｌ_３Ｓ−、ＣＦ_３Ｓ−、ＣＣｌ_３ＣＨ_２Ｓ−およびＣｌＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓ−が挙げられる。「ハロアルキルスルフィニル」の例としては、ＣＦ_３Ｓ（Ｏ）−、ＣＣｌ_３Ｓ（Ｏ）−、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｓ（Ｏ）−およびＣＦ_３ＣＦ_２Ｓ（Ｏ）−が挙げられる。「ハロアルキルスルホニル」の例としては、ＣＦ_３Ｓ（Ｏ）_２−、ＣＣｌ_３Ｓ（Ｏ）_２−、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｓ（Ｏ）_２−およびＣＦ_３ＣＦ_２Ｓ（Ｏ）_２−が挙げられる。「ハロアルケニル」の例としては、（Ｃｌ）_２Ｃ＝ＣＨＣＨ_２−およびＣＦ_３ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２−が挙げられる。「ハロアルキニル」の例としては、ＨＣoＣＣＨＣｌ−、ＣＦ_３ＣoＣ−、ＣＣｌ_３ＣoＣ−およびＦＣＨ_２ＣoＣＣＨ_２−が挙げられる。「ハロアルコキシアルコキシ」の例としては、ＣＦ_３ＯＣＨ_２Ｏ−、ＣｌＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、Ｃｌ_３ＣＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｏ−および分岐アルキル基誘導体が挙げられる。

「アルキルカルボニル」は、Ｃ（＝Ｏ）部分に結合した直鎖または分岐アルキル部分を示す。「アルキルカルボニル」の例としては、ＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（＝Ｏ）−および（ＣＨ_３）_２ＣＨＣ（＝Ｏ）−が挙げられる。「アルコキシカルボニル」の例としては、ＣＨ_３ＯＣ（＝Ｏ）−、ＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）−、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）−、（ＣＨ_３）_２ＣＨＯＣ（＝Ｏ）−、およびブトキシカルボニルまたはペントキシカルボニルの各種異性体が挙げられる。

置換基の炭素原子の合計数は、接頭辞「Ｃ_ｉ〜Ｃ_ｊ」で示される。ここで、ｉおよびｊは１〜１２の数である。例えば、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルホニルは、メチルスルホニル〜ブチルスルホニルを示し；Ｃ_２アルコキシアルキル基は、ＣＨ_３ＯＣＨ_２−を示し；Ｃ_３
アルコキシアルキルは、例えば、ＣＨ_３ＣＨ（ＯＣＨ_３）−、ＣＨ_３ＯＣＨ_２ＣＨ_２−またはＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２−を示し；Ｃ_４アルコキシアルキルは、合計４個の炭素原子を含むアルコキシ基で置換されたアルキル基の各種異性体を示し、その例としては、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−およびＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−が挙げられる。

化合物が、置換基の数（１超であり得る）を示す下付き文字を有する置換基で置換されている場合、前記置換基（１超であるとき）は、定義された置換基の群、例えば、（［Ｒ^１）_ｎ］は０、１、２、３、４または５である）から独立して選択される。ある基が、水素原子になり得る置換基を含む場合、例えば、Ｑ^１、この置換基が水素原子とされる場合、これは、前記基が非置換であると認められる。変形基、例えば、Ｒ^１が、ある位置に任意選択により結合されると示されている場合、たとえ変形基の定義に記載されていなくとも、その位置に水素原子が存在し得る。ある基の１つ以上の位置が、「置換されていない」または「非置換である」と記載されている場合、水素原子が任意の残余原子価を埋めるために結合する。

環を構成している原子に関し、「完全に飽和されている」との表現は、環を構成している原子間の結合が全て単結合であることを意味している。環に関し、「完全に不飽和である」との表現は、環の原子間の結合が、原子価結合理論による単結合または二重結合であり、さらに、環の原子間の結合が、二重結合が累積しない（すなわち、Ｃ＝Ｃ＝Ｃ、Ｎ＝Ｃ＝Ｃなどがない）範囲で、できるだけ多くの二重結合を含んでいることを意味している。環に関し、「部分的に不飽和である」という用語は、隣接する環メンバーに二重結合によって結合した少なくとも１つの環メンバーを含み、かつ概念上、隣接する環メンバーを介して、存在する（すなわち、部分的不飽和の形態の）二重結合の数より多くの非累積的二重結合を提供する（すなわち、完全不飽和に対応する形態の）可能性のある環を示す。完全不飽和の環がヒュッケル則を満たす場合、芳香族とも記載され得る。

別段の指示がない限り、式Ｉ例えば、置換基の構成要素（Ｑ^１）「環」または「環系」は、炭素環またはヘテロ環である。「環系」という用語は、２個以上の縮合環を示す。「二環式環系」という用語は、２個の縮合環からなる環系を示す。それは、別段の指示がない限り、いずれの環も飽和、部分的不飽和または完全不飽和であり得る。「二環式ヘテロ芳香環系」という用語は、少なくとも１つの環原子が炭素でない二環式環系を示す。「環メンバー」という用語は、環もしくは環系の骨格を形成する原子または他の部分（例えば、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｓ）、Ｓ（Ｏ）またはＳ（Ｏ）_２）を指す。

「炭素環」という用語は、環の骨格を形成する原子が炭素からのみ選択される環もしくは環系を示す。別段の指示がない限り、炭素環は、飽和環、部分的不飽和環または完全不飽和環であり得る。完全不飽和の炭素環がヒュッケル則を満たす場合、前記環はまた、「芳香環」と呼ばれる。

「ヘテロ環」という用語は、環の骨格を形成する少なくとも１つの原子が炭素ではなく、例えば、窒素、酸素または硫黄である環もしくは環系を示す。通常、ヘテロ環は、４個を超える窒素、２個を超える酸素、および２個を超える硫黄を含まない。別段の指示がない限り、ヘテロ環は、飽和環、部分的不飽和環または完全不飽和環であり得る。完全不飽和のヘテロ環がヒュッケル則を満たすなら、前記環はまた「ヘテロ芳香環」または「芳香族ヘテロ環」とも呼ばれる。別段の指示がない限り、ヘテロ環およびヘテロ環系は、任意の利用可能な炭素原子または窒素原子を介して、前記炭素原子または窒素原子上の水素を置換することによって、結合することができる。

「芳香族」は、各環原子が実質的に同じ平面にあり、環平面に垂直なｐ軌道を有し、かつ（４ｎ＋２）π電子（ここで、ｎは正の整数である）が環に関連してヒュッケル則に従う。

ヘテロ環に関連する「任意選択により置換され」という用語は、非置換であるか、または、非置換アナログが有する生物活性を失活させることがない少なくとも１つの非水素置換基を有する基を指す。本明細書で使用されるとき、別段の指示がない限り、以下の定義が適用される。「任意選択により置換され」という用語は、「置換または非置換の」という句、あるいは「（非）置換の」という用語と互換的に使用される。別段の指示がない限り、任意選択により置換される基は、その基の置換可能な各位置に置換基を有し、各置換は他から独立している。

Ｑ^１およびＱ^２が５員または６員の窒素含有ヘテロ環であるとき、特に他の記載がない限り、任意の利用可能な炭素または窒素の環原子を介して、式Ｉの残部に結合され得る。上記のように、Ｑ^１またはＱ^２は、（特に）、任意選択により、発明の概要で定義された通りの置換基から選択される１つ以上の置換基で置換されるフェニル基であり得る。任意選択により１〜５個の置換基で置換されるフェニル基の一例は、提示１にＵ−１として示した環である。ここで、例えば、Ｒ^ｖは、Ｑ^１発明の概要で定義されたＲ^１についてであるか、またはＱ^２発明の概要で定義されたＲ^４についてであり、ｒは整数（０〜５）である。

上記のように、Ｑ^１およびＱ^２は、（特に）、任意選択により、発明の概要で定義された通りの置換基から選択される１つ以上の置換基で置換される５員または６員の完全不飽和のヘテロ環であり得る。任意選択により、１つ以上の置換基で置換される５員または６員の完全不飽和のヘテロ環の例としては、提示１に示したＵ−２〜Ｕ−６１の環が挙げられる。ここで、Ｒ^ｖは、発明の概要でＱ^１定義された置換基（すなわち、Ｒ^１についてもしくはＲ^３）であるか、またはＱ^２定義された置換基（すなわち、Ｒ^４についてもしくはＲ^５）であり、ｒは、０〜４の整数であり、それは各Ｕ基の利用可能な位置数により制限される。Ｕ−２９、Ｕ−３０、Ｕ−３６、Ｕ−３７、Ｕ−３８、Ｕ−３９、Ｕ−４０、Ｕ−４１、Ｕ−４２およびＵ−４３は、利用可能な位置が１つのみであるため、これらのＵ基では、ｒは整数０または１に限られる。そして、ｒが０であることは、Ｕ基が非置換であり、水素原子が（Ｒ^ｖ）_ｒで示された位置に存在することを意味する。

上記のように、Ｑ^１およびＱ^２は、（特に）、任意選択により、Ｑ^１およびＱ^２発明の概要で定義された通りの置換基から選択される１つ以上の置換基で置換される８〜１０員の二環式ヘテロ芳香環系であり得る。任意選択により、１つ以上の置換基で置換される８〜１０員の二環式ヘテロ芳香環系の例としては、提示２に示したＵ−６２〜Ｕ−１００の環が挙げられる。ここで、Ｒ^ｖは、発明の概要でＱ^１またはＱ^２定義された置換基であり、ｒは、通常、０〜４の整数である。

Ｒ^ｖ基は構造Ｕ−１〜Ｕ−１００で示されるが、それらは任意選択の置換基であるため、含まれる必要がないことに留意されたい。Ｒ^ｖが、原子に結合したＨである場合、前記原子が非置換であるのと同じであることに留意されたい。価数を埋めるために置換が必要な窒素原子は、ＨまたはＲ^ｖで置換される。（Ｒ^ｖ）_ｒとＵ基との結合が非固定的に示されている場合、（Ｒ^ｖ）_ｒはＵ基の利用可能な任意の炭素原子または窒素原子に結合し得ることに留意されたい。Ｕ基の結合点が非固定的に示されている場合、Ｕ基は水素原子を置換することによって、その利用可能な任意の炭素原子または窒素原子を介して、式Ｉの残部に結合し得ることに留意されたい。Ｕ基のなかには、４個未満のＲ^ｖ基でのみ置換し得るものがあることに留意されたい（例えば、Ｕ−２〜Ｕ−５、Ｕ−７〜Ｕ−４８およびＵ−５２〜Ｕ−６１）。

この分野では、芳香族および非芳香族のヘテロ環およびヘテロ環系を製造し得る様々な合成方法が知られている。広範な検討のためには、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ 全８巻，編集主幹Ａ．Ｒ．ＫａｔｒｉｔｚｋｙおよびＣ．Ｗ．Ｒｅｅｓ，Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ，Ｏｘｆｏｒｄ，１９８４と、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＩＩ 全１２巻，編集主幹Ａ．Ｒ．Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ，Ｃ．Ｗ．ＲｅｅｓおよびＥ．Ｆ．Ｖ．Ｓｃｒｉｖｅｎ，Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ，Ｏｘｆｏｒｄ，１９９６を参照されたい。

本発明の化合物は、１種以上の立体異性体として存在し得る。種々の立体異性体としては、エナンチオマー、ジアステレオマー、アトロプ異性体および幾何異性体が挙げられる。立体異性体は、構成は同一であるが、原子の空間配置が異なる異性体であり、それには、エナンチオマー、ジアステレオマー、シス−トランス異性体（幾何異性体としても知られる）およびアトロプ異性体が含まれる。アトロプ異性体は、単結合を中心とする回転の束縛から生ずるもので、そこでは、異性体種を分離させ得るだけの高い回転障害がある。当業者であれば、１つの立体異性体が、他の立体異性体よりリッチであるか、または他の立体異性体から分離されたなら、活性がより大きく、かつ／または、有益な効果を示し得ることは認識していよう。さらに、当業者であれば、前記立体異性体の分離方法、リッチ化方法および／または選択的に製造する方法を知っている。本発明の化合物は、立体異性体の混合物として、個別の立体異性体として、または光学的に活性な形態として存在し得る。

例えば、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｑ^２）（Ｒ^６）部分（ピロリジノン環の３位の炭素原子に結合）およびＱ^１（ピロリジノン環の４位の炭素原子に結合）は、一般に、トランス配置で見出されている。これらの２つの炭素原子（すなわち、それぞれ、式ＩＶのピロリジノン環の３位および４位にある）はいずれもキラル中心を有する。最も一般的な２つの対のエナンチオマーを、キラル中心が特定された（すなわち、３Ｒ，４Ｓまたは３Ｓ，４Ｒとして）式ＩＶ’および式ＩＶ”として描かれている。本発明は全ての立体異性体に関するが、生物学的実施可能性の点から好ましいエナンチオマー対は、式ＩＶ’（すなわち、３Ｒ，４Ｓ配置）であるとされている。立体異性体の全ての態様の網羅的な検討は、Ｅｒｎｅｓｔ Ｌ．Ｅｌｉｅｌ ａｎｄ Ｓａｍｕｅｌ Ｈ．Ｗｉｌｅｎ，Ｓｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，１９９４を参照されたい。

本明細書に描かれた分子描写は、立体化学を描写するための従来からの標準的な方法に従っている。立体配置を示すために、図の平面から上方に、見ている人に向かって延びている結合は、楔形実線で示され、その楔の広端が、図の平面から上方に、見ている人に向かっている原子に接合されている。図の平面から下方に、見ている人から離れる方向に延びている結合は、楔形破線で示され、その楔の狭端が、見ている人からさらに離れた原子に接合されている。一定の幅の線は、楔形実線または楔形破線で示された結合とは反対または中立の方向の結合を示し、一定の幅の線はまた、特定の立体配置を特定することが意図されていない分子または分子の一部の結合を示す。

本発明は、ラセミ混合物、例えば、当量の式ＩＶ’および式ＩＶ”のエナンチオマーを含む。さらに、本発明は、式ＩＶのエナンチオマーにおいて、ラセミ混合物に比べて、よりリッチである化合物を含む。また、式Ｉの化合物の実質的に純粋なエナンチオマー、例えば、式ＩＶ’および式ＩＶ”も含まれる。

エナンチオマー的にリッチであるとき、一方のエナンチオマーが他より多く存在し、そのリッチの程度は、キラル高速液体クロマトグラフィーによって測定される２つのエナンチオマーの相対面積％で表されるエナンチオマー比（ＥＲ）によって定義され得る。

本発明の組成物は、より活性な異性体のＥＲが少なくとも５０％であることが好ましく、少なくとも７５％であることがより好ましく、少なくとも９０％であることがさらに好ましく、少なくとも９４％であることが最も好ましい。特に注目すべきは、活性のより大きい異性体の、エナンチオマー的に純粋な実施形態である。

式ＩＶの化合物は、さらなるキラル中心を含み得る。例えば、置換基、ならびにＲ^１、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５などの他の分子成分は、それ自身、キラル中心を含み得る。本発明は、これらのさらなるキラル中心でのラセミ混合物、ならびに、リッチな立体配置および実質的に純粋な立体配置を含む。

本発明の化合物は、式Ｉおよび式ＩＶにおけるアミド結合（例えば、Ｃ（Ｏ）−Ｎ）結合を中心とする回転の束縛に起因する１つ以上の配座異性体をとして存在し得る。本発明は、配座異性体の混合物を含む。さらに、本発明は、１つの配座体が他よりリッチである化合物を含む。

式Ｉの化合物は、通常、１つ超の形態で存在し、したがって、式Ｉは、式Ｉが示す化合物の全ての結晶性および非結晶性形態を含む。非結晶性形態としては、ワックスおよびゴムなどの固体の実施形態、ならびに溶液および融液などの液体の実施形態が挙げられる。結晶性形態としては、実質的に単一の結晶型を示す実施形態、および多形体（すなわち、種々の結晶型）の混合物を示す実施形態が挙げられる。「多形体」という用語は、種々の結晶形態で結晶することができる化合物の特定の結晶形態を指し、これらの形態は、結晶格子中に配置および／または配座は異なる種々の分子を有する。多形体は、同じ化学組成を有することができるが、また、結晶格子に弱くまたは強く結合し得る共結晶化水または他の分子の有無により、異なる組成も有し得る。多形体は、異なる、結晶形、密度、硬さ、色、化学的安定性、融点、吸湿性、懸濁性、溶解速度および生物学的利用率などの化学的、物理的および生物学的特性を有し得る。当業者であれば、多形体の式Ｉの化合物が、式Ｉの同じ化合物の他の多形体または多形態の混合物に比べて有益な効果（例えば有用な製剤の調製に対する適合性、生物学的特性の向上など）を示し得ることは認識していよう。式Ｉの化合物の特定の多形体の製造および分離は、例えば、選択した溶媒および温度を使用する結晶化など、当業者に知られた方法で行うことができる。多形性の包括的な検討については、Ｒ．Ｈｉｌｆｉｋｅｒ，Ｅｄ．，Ｐｏｌｙｍｏｒｐｈｉｓｍ ｉｎ ｔｈｅ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ，Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，２００６を参照されたい。

窒素はオキシドへの酸化に利用可能な孤立電子対を必要とするため、全ての窒素含有ヘテロ環がＮ−オキシドを生成し得るとは限らないことは、当業者であれば理解していよう。当業者は、そのようなＮ−オキシドを生成し得る窒素含有ヘテロ環がわかるであろう。当業者は、また、第３級アミンがＮ−オキシドを生成し得ることもわかっていよう。ヘテロ環および第３級アミンからＮ−オキシドを製造するための合成方法は、過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）などのペルオキシ酸、過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシドなどのアルキルヒドロペルオキシド、過ホウ酸ナトリウム、およびジメチルジオキシランなどのジオキシランによるヘテロ環および第３級アミンの酸化など、当業者によく知られている。これらのＮ−オキシドを製造する方法は、文献に広く記載され、かつ検討されており、例えば、Ｔ．Ｌ．Ｇｉｌｃｈｒｉｓｔ ｉｎ Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｖｏｌ．７，ｐｐ ７４８−７５０，Ｓ．Ｖ．Ｌｅｙ，Ｅｄ．，Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ；Ｍ．Ｔｉｓｌｅｒ ａｎｄ Ｂ．Ｓｔａｎｏｖｎｉｋ ｉｎ Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｖｏｌ．３，ｐｐ １８−２０，Ａ．Ｊ．Ｂｏｕｌｔｏｎ ａｎｄ Ａ．ＭｃＫｉｌｌｏｐ，Ｅｄｓ．，Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ；Ｍ．Ｒ．Ｇｒｉｍｍｅｔｔ ａｎｄ Ｂ．Ｒ．Ｔ．Ｋｅｅｎｅ ｉｎ Ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｖｏｌ．４３，ｐｐ １４９−１６１，Ａ．Ｒ．Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ，Ｅｄ．，Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ；Ｍ．Ｔｉｓｌｅｒ ａｎｄ Ｂ．Ｓｔａｎｏｖｎｉｋ ｉｎ Ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｖｏｌ．９，ｐｐ ２８５−２９１，Ａ．Ｒ．Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ ａｎｄ Ａ．Ｊ．Ｂｏｕｌｔｏｎ，Ｅｄｓ．，Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ；ａｎｄ Ｇ．Ｗ．Ｈ．Ｃｈｅｅｓｅｍａｎ ａｎｄ Ｅ．Ｓ．Ｇ．Ｗｅｒｓｔｉｕｋ ｉｎ Ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｖｏｌ．２２，ｐｐ ３９０−３９２，Ａ．Ｒ．Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ ａｎｄ Ａ．Ｊ．Ｂｏｕｌｔｏｎ，Ｅｄｓ．，Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓを参照されたい。

環境および生理学的条件下では、化合物の塩は対応する非塩形態と平衡状態にあるため、塩が非塩形態の生物学的有用性共有することは、当業者は認識している。したがって、様々な式Ｉの化合物の塩が、望ましくない植物の制御に有用である（すなわち、農学的に好適である）。式Ｉの化合物の塩としては、無機酸または有機酸、例えば、臭化水素酸、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸、酢酸、酪酸、フマル酸、乳酸、マレイン酸、マロン酸、シュウ酸、プロピオン酸、サリチル酸、酒石酸、４−トルエンスルホン酸または吉草酸などによる酸付加塩が挙げられる。式Ｉの化合物がカルボン酸またはフェノールなどの酸性部分を含む場合、塩はまた、有機塩基または無機塩基、例えば、ピリジン、トリエチルアミンもしくはアンモニア、またはアミド、水素化物、水酸化物、あるいはナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウムまたはバリウムのカルボン酸塩などで生成されたものが挙げられる。したがって、本発明は、式Ｉ、そのＮ−オキシドおよび農学的に好適な塩を含む。

発明の概要に記載の本発明の実施形態は、以下のものを含む（ここで、以下の実施形態に使用される式Ｉには、そのＮ−オキシドおよび塩が含まれる）。

実施形態Ａ１．発明の概要に記載の式Ｉの化合物。
実施形態Ａ２．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される最大５個までの置換基で任意選択により置換されるフェニル環である、実施形態Ａ１の化合物。
実施形態Ａ３．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される１〜４個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ａ２の化合物。
実施形態Ａ４．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ａ３の化合物。
実施形態Ａ５．Ｑ^１が、メタ（３−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環である、実施形態Ａ１〜Ａ４のいずれか１つの化合物。
実施形態Ａ６．Ｑ^１が、パラ（４−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環である、実施形態Ａ１〜Ａ４のいずれか１つの化合物。
実施形態Ａ７．Ｑ^１が、任意選択により、炭素原子環メンバーはＲ^１から、窒素原子環メンバーはＲ^３から、独立して選択される、最大５個までの置換基で置換される完全不飽和の５〜６員ヘテロ環である、実施形態Ａ１の化合物。
実施形態Ａ８．Ｑ^１が、任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるピリジル環である、実施形態Ａ７の化合物。
実施形態Ａ９．Ｑ^１が、式Ｉの化合物の残部にＱ^１を結合する結合のパラの位置がＲ^１で置換された３−ピリジル環である、実施形態Ａ８の化合物。
実施形態Ａ１０．Ｑ^１が、任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるチオフェニル環もしくはフラニル環である、実施形態Ａ７の化合物。
実施形態Ａ１１．Ｑ^１が、任意選択によりＲ^１およびＲ^３で置換される８〜１０員二環式ヘテロ芳香環系であり、かつ式Ｉの残部が前記二環式環系の完全不飽和環に結合している、実施形態Ａ１の化合物。
実施形態Ａ１２．Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される最大５個までの置換基で任意選択により置換されるフェニル環である、実施形態Ａ１の化合物。
実施形態Ａ１３．Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜４個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ａ１２の化合物。
実施形態Ａ１４．Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ａ１３の化合物。
実施形態Ａ１５．Ｑ^２が、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環である、実施形態Ａ１２〜Ａ１４のいずれか１つの化合物。

実施形態Ａ１６．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換されるピリジル環である、実施形態Ａ１の化合物。
実施形態Ａ１７．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換される２−ピリジル環または３−ピリジル環である、実施形態Ａ１６の化合物。
実施形態Ａ１８．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換される完全不飽和の５員ヘテロ環である、実施形態Ａ１の化合物。
実施形態Ａ１９．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換されるオキサゾリル環である、実施形態Ａ１８の化合物。
実施形態Ａ２０．Ｒが、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基である、実施形態Ａ１〜Ａ１９のいずれか１つの化合物。
実施形態Ａ２１．Ｒが、メチル基またはエチル基である、実施形態Ａ２０の化合物。
実施形態Ａ２２．Ｒが、メチル基である、実施形態Ａ２１の化合物。
実施形態Ａ２３．Ｒが、エチル基である、実施形態Ａ２１の化合物。
実施形態Ａ２４．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ニトロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ニトロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキニル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルキニル基である、実施形態Ａ１〜Ａ２３のいずれか１つの化合物。
実施形態Ａ２５．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基である、実施形態Ａ２４の化合物。
実施形態Ａ２６．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である、実施形態Ａ２５の化合物。
実施形態Ａ２７．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である、実施形態Ａ２６の化合物。
実施形態Ａ２８．Ｒ^１が、独立して、ＦまたはＣＦ_３である、実施形態Ａ２７の化合物。実施形態Ａ２９．Ｒ^１がＣＦ_３である、実施形態Ａ２８の化合物。
実施形態Ａ３０．Ｒ^１がＦである、実施形態Ａ２８の化合物。

実施形態Ａ３１．Ｒ^３が、独立して、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３アルコキシ基である、実施形態Ａ１〜Ａ３０のいずれか１つの化合物。
実施形態Ａ３２．Ｒ^３が、独立して、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基である、実施形態Ａ３１の化合物。
実施形態Ａ３３．Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ニトロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ニトロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキニル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルキニル基である、実施形態Ａ１〜Ａ３２のいずれか１つの化合物。
実施形態Ａ３４．Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である、実施形態Ａ３３の化合物。
実施形態Ａ３５．Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である、実施形態Ａ３４の化合物。
実施形態Ａ３６．Ｒ^４が、独立して、ＦまたはＣＦ_３である、実施形態Ａ３５の化合物。実施形態Ａ３７．Ｒ^４がＦである、実施形態Ａ３６の化合物。
実施形態Ａ３８．Ｒ^４がＣＦ_３である、実施形態Ａ３６の化合物。
実施形態Ａ３９．Ｑ^１を式Ｉの残部に結合する炭素中心の立体化学がＳである、実施形態Ａ１〜Ａ３８のいずれか１つの化合物。
実施形態Ａ４０．Ｑ^１を式Ｉの残部に結合する炭素中心の立体化学がＲである、実施形態Ａ１〜Ａ３８のいずれか１つの化合物。

実施形態Ｂ１．発明の概要に記載の式Ｉの化合物を製造する方法。
実施形態Ｂ２．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される最大５個までの置換基で任意選択により置換されるフェニル環である、実施形態Ｂ１の方法。
実施形態Ｂ３．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される１〜４個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ｂ２の方法。
実施形態Ｂ４．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ｂ３の方法。
実施形態Ｂ５．Ｑ^１が、メタ（３−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環である、実施形態Ｂ１〜Ｂ４のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ６．Ｑ^１が、パラ（４−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環である、実施形態Ｂ１〜Ｂ５のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ７．Ｑ^１が、任意選択により、炭素原子環メンバーはＲ^１から、窒素原子環メンバーはＲ^３から、独立して選択される、最大５個までの置換基で置換される完全不飽和の５〜６員ヘテロ環である、実施形態Ｂ１の方法。
実施形態Ｂ８．Ｑ^１が、任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるピリジル環である、実施形態Ｂ７の方法。
実施形態Ｂ９．Ｑ^１が、式Ｉの化合物の残部にＱ^１を結合する結合のパラの位置がＲ^１で置換された３−ピリジル環である、実施形態Ｂ８の方法。
実施形態Ｂ１０．Ｑ^１が、任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるチオフェニル環もしくはフラニル環である、実施形態Ｂ７の方法。
実施形態Ｂ１１．Ｑ^１が、任意選択によりＲ^１およびＲ^３で置換される８〜１０員二環式ヘテロ芳香環系であり、かつ式Ｉの残部が前記二環式環系の完全不飽和環に結合している、実施形態Ｂ１の方法。
実施形態Ｂ１２．Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される最大５個までの置換基で任意選択により置換されるフェニル環である、実施形態Ｂ１の方法。
実施形態Ｂ１３．Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜４個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ｂ１２の方法。
実施形態Ｂ１４．Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフ
ェニル環である、実施形態Ｂ１３の方法。
実施形態Ｂ１５．Ｑ^２が、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環である、実施形態Ｂ１２〜Ｂ１４のいずれか１つの方法。

実施形態Ｂ１６．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換されるピリジル環である、実施形態Ｂ１の方法。
実施形態Ｂ１７．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換される２−ピリジル環または３−ピリジル環である、実施形態Ｂ１６の方法。
実施形態Ｂ１８．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換される完全不飽和の５員ヘテロ環である、実施形態Ｂ１の方法。
実施形態Ｂ１９．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換されるオキサゾリル環である、実施形態Ｂ１８の方法。
実施形態Ｂ２０．Ｒが、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基である、実施形態Ｂ１〜Ｂ１９のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ２１．Ｒが、メチル基またはエチル基である、実施形態Ｂ２０の方法。
実施形態Ｂ２２．Ｒが、メチル基である、実施形態Ｂ２１の方法。
実施形態Ｂ２３．Ｒが、エチル基である、実施形態Ｂ２１の方法。
実施形態Ｂ２４．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ニトロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ニトロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキニル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルキニル基である、実施形態Ｂ１〜Ｂ２３のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ２５．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基である、実施形態Ｂ２４の方法。
実施形態Ｂ２６．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である、実施形態Ｂ２５の方法。
実施形態Ｂ２７．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である、実施形態Ｂ２６の方法。
実施形態Ｂ２８．Ｒ^１が、独立して、ＦまたはＣＦ_３である、実施形態Ｂ２７の方法。
実施形態Ｂ２９．Ｒ^３が、独立して、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３アルコキシ基である、実施形態Ｂ７〜Ｂ２８のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ３０．Ｒ^３が、独立して、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基である実施形態Ｂ２９の方法。

実施形態Ｂ３１．Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ニトロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ニトロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキニル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルキニル基である、実施形態Ｂ１〜Ｂ３０のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ３２．Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である、実施形態Ｂ３１の方法。
実施形態Ｂ３３．Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である、実施形態Ｂ３２の方法。
実施形態Ｂ３４．Ｒ^４が、独立して、ＦまたはＣＦ_３である、実施形態Ｂ３３の方法。
実施形態Ｂ３５．Ｑ^１を式Ｉの残部に結合する炭素中心の立体化学がＳである、実施形態Ｂ１〜Ｂ３４のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ３６．Ｑ^１を式Ｉの残部に結合する炭素中心の立体化学がＲである、実施形態Ｂ１〜Ｂ３４のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ３７．触媒が存在する、実施形態Ｂ１〜Ｂ３６のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ３８．触媒が有機金属錯体である、実施形態Ｂ３７の方法。
実施形態Ｂ３９．触媒がニッケル錯体である、実施形態Ｂ３８の方法。
実施形態Ｂ４０．ニッケル錯体がキラルである、実施形態Ｂ３９の方法。
実施形態Ｂ４１．ニッケル錯体が、ビシナルジアミンリガンドを有するＮｉ（ＩＩ）である、実施形態Ｂ４０の方法。
実施形態Ｂ４２．リガンドが、Ｎ置換シクロヘキサン−１，２−ジアミンまたは１，１’−ビ（テトラヒドロイソキノリン）−ジアミンである実施形態Ｂ４１の方法。
実施形態Ｂ４３．ニッケル錯体が、Ｎｉ（ＩＩ）ビス［（Ｒ，Ｒ）−Ｎ，Ｎ’−ジベンジルシクロヘキサン−１，２−ジアミン］ブロミドまたはＮｉ（ＩＩ）ビス［（Ｓ，Ｓ）−Ｎ，Ｎ’−ジベンジルシクロヘキサン−１，２−ジアミン］ブロミドである、実施形態Ｂ４２の方法。
実施形態Ｂ４４．塩基が存在する、実施形態Ｂ１〜Ｂ４３のいずれか１つの方法。
実施形態Ｂ４５．塩基が有機塩基である、実施形態Ｂ４４の方法。
実施形態Ｂ４６．塩基が、トリエチルアミン、モルホリンまたはピペリジンである、実施形態Ｂ４５の方法。

実施形態Ｃ１．発明の概要に記載の式ＩＶの化合物の製造方法。
実施形態Ｃ２．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される最大５個までの置換基で任意選択により置換されるフェニル環である、実施形態Ｃ１の方法。
実施形態Ｃ３．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される１〜４個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ｃ２の方法。
実施形態Ｃ４．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ｃ３の方法。
実施形態Ｃ５．Ｑ^１が、メタ（３−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環である、実施形態Ｃ１〜Ｃ４のいずれか１つの方法。
実施形態Ｃ６．Ｑ^１が、パラ（４−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環である、実施形態Ｃ１〜Ｃ４のいずれか１つの方法。
実施形態Ｃ７．Ｑ^１が、任意選択により、炭素原子環メンバー上はＲ^１から、窒素原子環メンバー上はＲ^３から、独立して選択される、最大５個までの置換基で置換される完全不飽和の５〜６員ヘテロ環である、実施形態Ｃ１の方法。
実施形態Ｃ８．Ｑ^１が、任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるピリジル環である、実施形態Ｃ７の方法。
実施形態Ｃ９．Ｑ^１が、式ＩＶの残部にＱ^１を結合する結合のパラの位置がＲ^１で置換された３−ピリジル環である、実施形態Ｃ８の方法。
実施形態Ｃ１０．Ｑ^１が、任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるチオフェン環もしくはフラン環である、実施形態Ｃ７の方法。
実施形態Ｃ１１．Ｑ^１が、任意選択によりＲ^１およびＲ^３で置換される８〜１０員二環式ヘテロ芳香環系であり、かつ式Ｉの残部が前記二環式環系の完全不飽和環に結合している、実施形態Ｃ１の方法。
実施形態Ｃ１２．Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される最大５個までの置換基で任意選択により置換されるフェニル環である、実施形態Ｃ１の方法。
実施形態Ｃ１３．Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜４個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ｃ１２の方法。
実施形態Ｃ１４．Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環である、実施形態Ｃ１３の方法。
実施形態Ｃ１５．Ｑ^２が、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環である、実施形態Ｃ１２〜Ｃ１４のいずれか１つの方法。

実施形態Ｃ１６．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換されるピリジル環である、実施形態Ｃ１の方法。
実施形態Ｃ１７．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換される２−ピリジル環または３−ピリジル環である実施形態Ｃ１６の方法。
実施形態Ｃ１８．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換される完全不飽和の５員ヘテロ環である、実施形態Ｃ１の方法。
実施形態Ｃ１９．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換されるオキサゾリル環である、実施形態Ｃ１８の方法。
実施形態Ｃ２０．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ニトロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ニトロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキニル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルキニル基である、実施形態Ｃ１〜Ｃ１９のいずれか１つの方法。
実施形態Ｃ２１．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基であ
る、実施形態Ｃ２０の方法。
実施形態Ｃ２２．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である実施形態Ｃ２１の方法。
実施形態Ｃ２３．Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である実施形態Ｃ２２の方法。
実施形態Ｃ２４．Ｒ^１が、独立して、ＦまたはＣＦ_３である、実施形態Ｃ２３の方法。
実施形態Ｃ２５．Ｒ^３が、独立して、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３アルコキシ基である、実施形態Ｃ７〜Ｃ２４のいずれか１つの方法。
実施形態Ｃ２６．Ｒ^３が、独立して、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基である、実施形態Ｃ２５の方法。
実施形態Ｃ２７．Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ニトロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ニトロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキニル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルキニル基である実施形態Ｃ１〜Ｃ２６のいずれか１つの方法。
実施形態Ｃ２８．Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である実施形態Ｃ２７の方法。
実施形態Ｃ２９．Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である実施形態Ｃ２８の方法。
実施形態Ｃ３０．Ｒ^４は、独立して、ＦまたはＣＦ_３である実施形態Ｃ２９の方法。
実施形態Ｃ３１．式ＩＶの化合物の立体化学が（３Ｒ，４Ｓ）である、実施形態Ｃ１〜Ｃ３０のいずれか１つの方法。
実施形態Ｃ３１ａ．式ＩＶの化合物の立体化学が（３Ｓ，４Ｒ）である、実施形態Ｃ１〜Ｃ３０のいずれか１つの方法。
実施形態Ｃ３２．還元剤が、触媒の存在下における水素である、実施形態Ｃ１〜Ｃ３１のいずれか１つの方法。
実施形態Ｃ３３．触媒がＰｄ／Ｃである、実施形態Ｃ３２の方法。
実施形態Ｃ３４．還元剤が、酸中の金属である、実施形態Ｃ１〜Ｃ３１のいずれか１つの方法。
実施形態Ｃ３５．金属が亜鉛であり、かつ酸が酢酸である、実施形態Ｃ３４の方法。

上記の実施形態Ａ１〜Ａ３４、Ｂ１〜Ｂ４１およびＣ１〜Ｃ３５、ならびに、本明細書に記載の他の実施形態の任意の実施形態を含む本発明の実施形態は、任意の方法で組み合わせることができ、かつ、それらの実施形態の変形の記載は、式ＩおよびＩＶの化合物のみならず、式ＩおよびＩＶの化合物の製造に有用な出発化合物および中間化合物にも関連する。

実施形態Ａ１〜Ａ３４、Ｂ１〜Ｂ４１およびＣ１〜Ｃ３５の組合せを、以下の実施形態で説明する。

実施形態ＡＡ１．Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；
Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒが、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
式Ｉの化合物。
実施形態ＡＡ２．Ｑ^１が、メタ（３−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環であり；
Ｑ^２が、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環であり；
Ｒが、メチル基またはエチル基であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
実施形態ＡＡ１の化合物。
実施形態ＡＡ３．Ｑ^１が、パラ（４−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環である、；
Ｑ^２が、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環であり；
Ｒが、メチル基またはエチル基であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
実施形態ＡＡ１の化合物。
実施形態ＡＡ４．Ｑ^１が、任意選択により、炭素原子環メンバー上はＲ^１から、窒素原子環メンバー上はＲ^３から独立して選択される、最大５個までの置換基で置換される完全不飽和の５〜６員ヘテロ環であり；
Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基フェニル環であり；
Ｒが、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基であり、
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基；
Ｒ^３は、独立して、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３アルコキシ基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
式Ｉの化合物。
実施形態ＡＡ５．Ｑ^１が、任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるピリジル環であり；
Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜２個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒが、メチル基またはエチル基であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
実施形態ＡＡ４の化合物。
実施形態ＡＡ６．Ｑ^１が、式Ｉの化合物の残部にＱ^１を結合する結合のパラの位置がＲ^１で置換された３−ピリジル環であるか、または任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるチオフェン環もしくはフラン環であり；
Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜２個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒが、メチル基またはエチル基であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
実施形態ＡＡ４の化合物。
実施形態ＡＡ７．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換されるピリジル環または３−ピリジル環であり；
Ｒが、メチル基またはエチル基であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
式Ｉの化合物。
実施形態ＡＡ８．Ｑ^２が、任意選択により最大２個までのＲ^４で置換されるオキサゾリル環であり；
Ｒが、メチル基またはエチル基であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
式Ｉの化合物。
実施形態ＡＡ９．式Ｉの残部にＱ^１を結合する炭素中心の立体化学が、ＳまたはＲである実施形態ＡＡ１〜ＡＡ８のいずれか１つの化合物。

実施形態ＢＢ１．Ｑ^１が、Ｒ^１独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；
Ｑ^２が、Ｒ^４独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；
Ｒが、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
発明の概要に記載の式Ｉの化合物の製造方法。
実施形態ＢＢ２．Ｑ^１が、メタ（３−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環であり；
Ｑ^２が、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環であり；
Ｒは、メチル基またはエチル基であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
実施形態ＢＢ１の方法。
実施形態ＢＢ３．触媒がニッケル錯体であり；かつ
塩基が有機塩基である
実施形態ＢＢ１およびＢＢ２のいずれか１つの方法。
実施形態ＢＢ４．ニッケル錯体が、キラルビシナルジアミンリガンドを有するＮｉ（ＩＩ）である
実施形態ＢＢ３の方法。
実施形態ＢＢ５．リガンドが、Ｎ置換シクロヘキサン−１，２−ジアミンまたは１，１’−ビ（テトラヒドロイソキノリン）−ジアミンであり；かつ
塩基が、トリエチルアミン、モルホリンまたはピペリジンである
実施形態ＢＢ４の方法。
実施形態ＢＢ６．Ｑ^１を式Ｉの残部に結合する炭素中心の立体化学がＳまたはＲである、実施形態ＢＢ１〜ＢＢ５のいずれか１つの方法。

実施形態ＣＣ１．発明の概要に記載の式ＩＶの化合物の製造方法であって、
Ｑ^１が、Ｒ^１から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｑ^２が、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒが、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基である；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
発明の概要に記載の式ＩＶの化合物の製造方法。
実施形態ＣＣ２．Ｑ^１が、メタ（３−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環であり；
Ｑ^２が、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ任意選択により最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環であり；
Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
実施形態ＣＣ１の方法。
実施形態ＣＣ３．Ｑ^１が、任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるピリジル環であり；
Ｑ^２は、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒ^１が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
Ｒ^４が、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である
発明の概要に記載の式ＩＶの化合物の製造方法。
実施形態ＣＣ４．式ＩＶの化合物の立体化学が、（３Ｒ，４Ｓ）または（３Ｓ，４Ｒ）である
実施形態ＣＣ１〜ＣＣ３のいずれか１つの方法。
実施形態ＣＣ５．還元剤が、触媒の存在下の水素であるか、または酸中の金属である
実施形態ＣＣ１〜ＣＣ４のいずれか１つの方法。

具体的な実施形態としては、
エチル（βＳ）−α−［［（２−フルオロフェニル）アミノ］カルボニル）−β−（ニトロメチル）−３−（トリフルオロメチル）ベンゼンプロパノエイト；
エチルα−［［（２−フルオロフェニル）アミノ］カルボニル］−β−（ニトロメチル）−３−（トリフルオロメチル）ベンゼンプロパノエイト；
（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−２−オキソ−４−［３−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−ピロリジンカルボキサミド；および
ｒｅｌ−（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−２−オキソ−４−［３−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−ピロリジンカルボキサミド
からなる群から選択される式Ｉの化合物が挙げられる。

式ＩＶのピロリジノンは、ＰＣＴ／ＵＳ１４／６８０７３号明細書に開示されるように、除草剤として有用である。

式ＩおよびＩＶの化合物は、有機合成化学の分野で知られる一般的な方法で製造することができる。以下のスキーム１〜５に記載の方法およびその変形の１つ以上を用いて、式ＩおよびＩＶの化合物を製造することができる。下記の式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの化合物におけるＱ^１、Ｑ^２、Ｒの定義は、特に断らない限り、上述の発明の概要に記載した通りである。特に断らない限り、式ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆにおける置換基は全て、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよびＩＶ上で定義した通りである。

スキーム１に示すように、式ＩＶの化合物は式Ｉの化合物の還元、およびそれに続く、生成された中間体のアミンのインサイチューでの環化により得ることができる。式Ｉの化合物中の脂肪族ニトロ基を還元する様々な方法が文献によって知られている。当業者によく知られた方法としては、炭素担持パラジウムの存在下での触媒的水素化、酸性媒体中でのラネーニッケル、鉄または亜鉛金属による還元（例えば、Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ｄｅｒ Ｄｅｕｔｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｎ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ １９０４，３７，３５２０−３５２５を参照）および水素化アルミニウムリチウムによる還元が挙げられる。メタノールなどのプロトン源の存在下で、ヨウ化サマリウム（ＩＩ）を用いることによっても、還元することができる（例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ １９９１，３２ （１４），１６９９−１７０２を参照）。あるいは、酢酸ニッケル（ＩＩ）または塩化ニッケル（ＩＩ）などのニッケル触媒の存在下で水素化ホウ素ナトリウムを使用することができる（例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ １９８５，２６（５２），６４１３−６４１６を参照）。塩化ニッケル（ＩＩ）の触存在下で水素化ホウ素ナトリウムを使用する方法は、合成例１の工程Ｃで説明する。

スキーム２に示すように、式Ｉの化合物は、塩基の存在下で、式ａの化合物をニトロメタンと反応させることによって製造することができる。この反応に好適な塩基としては、メタノール中のナトリウムメトキシドまたはエタノール中のナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属低級アルコキシドが挙げられる。

あるいは、スキーム３に示すように、触媒、塩基、または触媒および塩基の両方の存在下で、式ＩＩの二トロアルケンを式ＩＩＩのマロン酸エステルと反応させることによって、式Ｉの化合物を製造することができる。この反応の好適な触媒としては、限定はされないが、Ｎｉ（ＩＩ）ビス［（Ｒ，Ｒ）−Ｎ，Ｎ’−ジベンジルシクロヘキサン−１，２−ジアミン］ブロミド、またはキラル１，１’−ビ（テトラヒドロキノリン）−ジアミンと錯体を形成したＮｉ（ＩＩ）Ｂｒ_２などの、ビシナルジアミンリガンドを有するＮｉ（ＩＩ）錯体が挙げられる。この反応の好適な塩基としては、限定はされないが、メタノール中のナトリウムメトキシドもしくはエタノール中のナトリウムメトキシドなどのアルカリ金属低級アルコシド、ピペリジン、モルホリン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンもしくはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基、または、テトラヒドロフラン、トルエンもしくはジクロロメタンなどの溶媒中の、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、およびリチウムジイソプロピルアミドなどの塩基が挙げられる。一般に、反応は、約−７８℃〜約２３℃の温度で、任意選択により０〜２当量の触媒および／または塩基の存在下で行われる。この変換を行わせる条件については、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ２００５，２２３９−２２４５を、また、この変換を立体選択的に行わせる条件については、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００５，９９５８−９９５９またはＥｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１１，５４４１−５４４６ を参照されたい。還流水中、触媒の非存在下で、この変換を行わせる条件は、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ ２０１３，４３，７４４−７４８に報告されている。式ＩＩの二トロアルケンは、アルデヒドおよびニトロメタンから、当業者に知られた方法で容易に製造することができる。

スキーム４に示すように、式ａの化合物は、式ｄのマロン酸エステルを式ｅのアルデヒドと、当業者に知られた方法、例えば、アルデヒドとマロン酸エステルとのクネーフェナーゲル縮合（例えば、Ｊｏｎｅｓ，Ｇ．，Ｏｒｇａｎｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ；Ｖｏｌｕｍｅ １５，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，１９６７を参照）によって、反応させることにより、製造することができる。また、スキーム４に示すように、式ｄのマロン酸エステルは、メチルマロニルクロリドなどの式ｂの低級アルキルマロニルクロリドと、式ｃのアミンから、当業者に知られた方法で製造することができる。

スキーム５に示すように、式ＩＩの化合物は、塩基の存在下で、ニトロメタンを式ｅのアルデヒドと反応させることによって製造することができる。中間体ｆの脱水は、反応混合物から水を共沸蒸留するか、または、トリエチルアミンなどの塩基の存在下でメタンスルホニルクロリドと反応させることにより行うことができる。この反応に好適な塩基としては、限定はされないが、水酸化ナトリウム、メタノール中のナトリウムメトキシドもしくはエタノール中のナトリウムエトキシドなどのアルカリ金属低級アルコキシド、酢酸アンモニウム、または、メタノール、トルエン、酢酸もしくは１−クロロブタンなどの溶媒中のピペリジン、モルホリンもしくはトリエチルアミンなどの有機塩基が挙げられる。一般に、反応は、０〜２当量の触媒および／または塩基の存在下、約−７８℃〜１３０℃の温度で行われる。ニトロスチレンを製造するための代表的な条件については、国際公開第２０１２／１５８４１３号パンフレット、米国特許出願公開第２０１１／２０７９４４号明細書および国際公開第２００４／１８４５５号パンフレットを参照されたい。

当業者であれば、式Ｉの様々な化合物を提供するため、各種官能基を他のものに変換できることは認識している。官能基の相互変換を簡単かつ分かりやすく説明する有用な資料は、Ｌａｒｏｃｋ，Ｒ．Ｃ．，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ：Ａ Ｇｕｉｄｅ ｔｏ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ，２ｎｄ Ｅｄ．，Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９９を参照されたい。例えば、式Ｉの化合物を製造するための中間体は、芳香族ニトロ基を含み得る。これはアミノ基に還元され、次いで、ザントマイヤー反応などの当該技術分野でよく知られた反応によって様々なハロゲン化物に変換され、式Ｉの化合物が提供される。上記反応はまた、多くの場合、順序を変えて行うことができる。

式Ｉの化合物を得るための上記の試薬や反応条件の中には、中間体に含まれる官能基と適合できないものがあることは認識されている。これらの例では、配列または官能基の相互変換の保護／脱保護を合成に導入することが、所望の生成物を得る上で助けとなろう。保護基の使用および選択は、化学合成の熟練者には明らかであろう（例えば、Ｇｒｅｅｎｅ，Ｔ．Ｗ．；Ｗｕｔｓ，Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，２ｎｄ ｅｄ．；Ｗｉｌｅｙ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１を参照）。ある場合には、個々のスキームに記載されているように所与の試薬を導入した後、詳しくは記載されていない通常の合成工程を追加して、式Ｉの化合物を完成させる必要があり得ることは、当業者であれば認識していよう。上記スキームに記載された工程を、特に示されたのとは異なる順序で組み合わせて、式Ｉの化合物を製造する必要があることもまた当業者であれば認識していよう。

本明細書に記載された式Ｉの化合物および中間体は、様々な求電子反応、求核反応、有機金属反応、酸化反応および還元反応によって、置換基を付加、または存在する置換基の改質が行われ得ることもまた当業者であれば認識していよう。

詳細に説明されていなくとも、当業者であれば、前述の記載によって、本発明を最大範囲で利用することができよう。したがって、以下の実施例は、単に例示であって、開示を決して制限するものではないと解釈されるべきである。以下の実施例の工程は合成変換全体における各工程手順を説明し、各工程の出発物質は、手順が他の実施例または工程で記載されている特定の準備の実行で必ずしも製造されていない。合成されていない。クロマトグラフィーの溶媒混合物、および他に示されている場合を除き、パーセントは重量基準である。クロマトグラフィーの溶媒混合物の部およびパーセントは、他に特に示されていなければ、体積基準である。^１Ｈ ＮＭＲスペクトルは、他に特に示されていなければ、ＣＤＣｌ_３溶液中のテトラメチルシランより低磁場側のｐｐｍで報告し、「ｓ」は単一線を意味し、「ｄ」は二重線を意味し、「ｔ」は三重線を意味し、「ｑ」は四重線を意味し、「ｍ」は多重線を意味し、「ｂｒ ｓ」はブロードな単一線を意味する。^１９Ｆ ＮＭＲスペクトルは、他に特に示されていなければ、ＣＦＣｌ_３中のＣＦＣｌ_３より低磁場側のｐｐｍで報告する。エナンチオマー比（ＥＲ）は、キラル高速液体クロマトグラフィー分析により、Ｃｈｉｒａｌｐａｋ ＡＤ−ＲＨカラムを用い、５０：５０イソプロパノール／水混合液で、４０℃、０．３ｍＬ／ｍｉｎにて溶出した。

合成例１
ｒｅｌ−（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−２−オキソ−４−［３−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−ピロリジンカルボキサミドの製造
工程Ａ：１−［（Ｅ）−２ニトロフェニル−］−３−（トリフルオロメチル）ベンゼンの製造
３−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド（１２．２ｇ、７０．１ｍｍｏｌ）のメタノール（５０ｍＬ）溶液を撹拌しながら、ニトロメタン（４．３４ｇ、７１．１ｍｍｏｌ）を加えた。この混合物を２℃にまで冷却し、水酸化ナトリウム（５．６５ｇ、７０．６ｍｍｏｌ）を、２４．３ｍＬの水に５０％溶液として、１５分かけて滴下した。さらに１時間撹拌し、その間、発熱に留意し、追加の氷を加えて、内部温度を１０℃未満に維持した。反応混合物を１Ｎの塩酸７５ｍＬに注ぎ、１０ｍＬのメタノール／水でフラスコを洗浄した。急冷した反応混合物を分液漏斗に移し、１５０ｍＬのトルエンで抽出した。水層を分離し、有機層を真空下で濃縮して、黄色の油状物１５．８４ｇを得た。

こうして得られた黄色の油状物（１５．８４ｇ、６７．３ｍｍｏｌ）を、１６０ｍＬのジクロロメタンに取った。この溶液を３℃にまで冷却し、メタンスルホニルクロリド（８．０３ｇ、７１．１ｍｍｏｌ）を、５０ｍＬのジクロロメタン溶液として、ピペットを用いて添加した。トリエチルアミン（１４．２ｇ、１４０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン５０ｍＬに溶解した溶液を、その後、５０分かけて滴下した。混合物を２時間撹拌し、その後、１Ｎの塩酸１５０ｍＬに注ぎ、分液漏斗に移した。層を分離し、有機層を１５０ｍＬの水で洗浄し、その後、濾過した。有機層を減圧下で濃縮し、粗固形物をヘキサンで沈澱させて、黄色固体として１２．０９ｇ（２工程で収率７９．４％）の生成物を得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（５００ ＭＨｚ）δ ７．９６−８．０８（ｍ，１Ｈ），７．６９−７．８４（ｍ，３Ｈ），７．５４−７．６６（ｍ，２Ｈ）．

工程Ｂ：エチル３−［（２−フルオロフェニル）アミノ］−３−オキソプロパノエイトの製造
２−フルオロアニリン（１０ｇ、９０．０ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（９．１ｇ、９０．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５０ｍＬ）溶液を撹拌しながら、０℃で、１０分かけて、エチルマロニルクロリド（１５．５ｇ、９０．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３０ｍＬ）２−溶液を滴加した。得られた混合物を室温で２４時間撹拌した。反応混合物を、その後、水（１００ｍＬ）に注ぎ、有機層を分離し、水（５０ｍＬ）および塩水（５０ｍＬ）で洗浄し、脱水し（ＭｇＳＯ_４）減圧下で濃縮して、琥珀色油状物として標記化合物（１９．０ｇ）を得た。
^１Ｈ ＮＭＲ δ ９．４６（ｂｒ ｓ，１Ｈ），８．２８（ｍ，１Ｈ），７．１０（ｍ，２Ｈ），４．２６（ｍ，２Ｈ），３．５１（ｓ，２Ｈ），１．３２（ｔ，３Ｈ）．

工程Ｃ：エチルα−［［（２−フルオロフェニル）アミノ］カルボニル］−β−（ニトロメチル）−３−（トリフルオロメチル）ベンゼンプロパノエイトの製造
１−［（Ｅ）−２−ニトロビニル］−３−（トリフルオロメチル）ベンゼン（すなわち、工程Ａの生成物、１２ｇ、５５ｍｍｏｌ）およびエチル３−［（２−フルオロフェニル）アミノ］−３−オキソプロパノエイト（すなわち、工程Ｂの生成物、１２．４ｇ、５５ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（５５ｍＬ）を、窒素雰囲気下、−５℃にまで冷却した。この混合物に、トリエチルアミン（７．７ｍＬ，５５ｍｍｏｌ）を、無水テトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液として、１０分間かけて添加した。反応物を撹拌し、１．５時間の間に周囲温度にまで加温した。この溶液を減圧下で濃縮した。得られた粗固形物をＥｔ_２Ｏで沈澱させ、濾過し、少量のＥｔ_２Ｏ、次いでヘキサンで洗浄した。窒素下、真空乾燥して、１６．２５ｇの白色固体を分離した。濾液を濃縮し、５０℃で、１−クロロタンにより沈澱させて、３．４５ｇのさらなる生成物（ＮＭＲデータは２つのジアステレオマーの１：１混合物である）を得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（５００ ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ １０．１６（ｓ，１Ｈ），１０．０３（ｓ，１Ｈ），７．４４−７．８８（ｍ，８Ｈ），６．８５−７．３３（ｍ，８Ｈ），４．９５−５．１６（ｍ，４Ｈ），４．１０−４．３８（ｍ，６Ｈ），３．８４−４．０１（ｍ，２Ｈ），１．１７−１．２４（ｍ，３Ｈ），０．９０−１．００（ｍ，３Ｈ）；^１９Ｆ ＮＭＲ（４７１ ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ−１２４．４１−−１２４．１７（ｍ，２Ｆ），−６１．５６−６０．９９（ｍ，６Ｆ）．

工程Ｄ：ｒｅｌ−（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−２−オキソ−４−［３−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−ピロリジンカルボキサミドの製造
無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミアミド（３０ｍＬ）およびメタノール（１６０ｍＬ）に溶解したα［［（２−フルオロフェニル）アミノ］カルボニル］−β−（ニトロメチル）−３−（トリフルオロメチル）ベンゼンプロパノエイト（エチルα−［すなわち、工程Ｃの生成物、１５．１ｇ、３４ｍｍｏｌ）に、粉末（８．１ｇ、３４ｍｍｏｌ）を一度に加えた。溶液が透明になった後、混合物を−７℃にまで冷却した。内部温度を０℃未満に維持しながら、ＮａＢＨ_４を０．５ｇずつ添加した。反応混合物を周囲温度に加温し、終夜撹拌した。溶液を減圧下で濃縮し、粗物質をジクロロメタン（３００ｍｌ）に懸濁し、シリカゲル（６０ｇ）とｃｅｌｉｔｅ（２５ｇ）の混合物に吸着させた。真空中で濃縮後、試料をシリカゲル（１６０ｇ）のプラグにより濾過し、酢酸エチルで、プラグを通る生成物がなくなるまで溶出した。減圧下で濃縮して、油性のオフホワイト色の固体として所期の生成物９．５５ｇを得た。^１Ｈ ＮＭＲ（５００ ＭＨｚ）δ ９．７０（ｂｒ ｓ，１Ｈ），８．１５−８．２５（ｍ，１Ｈ），７．４２−７．６８（ｍ，４Ｈ），６．９７−７．１２（ｍ，３Ｈ），６．４９（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．２３−４．３４（ｍ，１Ｈ），３．８１−３．８９（ｍ，１Ｈ），３．５６−３．６７（ｍ，１Ｈ），３．４１−３．５３（ｍ，１Ｈ）；
^１９Ｆ ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ）δ ｐｐｍ −１２９．６９−−１２９．５１（ｍ，１Ｆ），−６２．５６（ｓ，３Ｆ）．

合成例２
（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−（２フルオロフェニル）−２−オキソ−４−［３−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−ピロリジンカルボキサミドの製造
工程Ａ：エチル（βＳ）−α−［［（２−フルオロフェニル）アミノ）カルボニル］−β−（ニトロメチル）−３−（トリフルオロメチル）ベンゼンプロパノエイトの製造
１−［（Ｅ）−２−ニトロフェニル］−３−（トリフルオロメチル）ベンゼン］−３−（すなわち、合成例１における工程Ａの生成物、７０ｇ、０．３２ｍｏｌ）およびエチル３−［（２−フルオロフェニル）アミノ］−３−オキソプロパノエイト［（すなわち、合成例１における工程Ｂの生成物、７２．６ｇ、０．３２２５ｍｏｌ）のトルエン（３５０ｍＬ）溶液に、機械的に撹拌しながら、Ｎｉ（ＩＩ）−ビス［（Ｒ，Ｒ）−Ｎ，Ｎ’−ジベンジルシクロヘキサン−１，２−ジアミン］ブロミド（３．９ｇ、０．００４８ｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を周囲温度で４８時間撹拌した。この溶液を、その後、ジクロロメタン（５００ｍＬ）で希釈し、シリカゲルに吸着させ、クロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル７０／３０）により精製した。周囲温度で放置して、白色固体１３０ｇを得た。キラルＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌ Ｐａｋ ＩＡ（２５０×４．６）ｍｍ ５μ、０．１％児エチルアミン（ヘキサン中）：エタノール（９０：１０）、１．０ｍＬ／ｍｉｎで）による分析は、ＥＲ ８９：１０を示した。
^１Ｈ ＮＭＲ（５００ ＭＨｚ）δ ８．６６（ｂｒ ｓ，２Ｈ），８．１６−８．２５（ｍ，１Ｈ），７．９９−８．０９（ｍ，１Ｈ），７．５２−７．６２（ｍ，３Ｈ），７．３９−７．５１（ｍ，５Ｈ），７．０１−７．２０（ｍ，６Ｈ），５．０４−５．０９（ｍ，２Ｈ），４．８７−５．０１（ｍ，２Ｈ），４．３９−４．４６（ｍ，１Ｈ），４．３０（ｑ，Ｊ＝７．１５Ｈｚ，３Ｈ），４．０２ （ｑ，Ｊ＝７．２０Ｈｚ，２Ｈ），３．８２−３．９１（ｍ，２Ｈ），１．２８−１．３７（ｍ，３Ｈ），０．９３−１．０５（ｍ，３Ｈ）；
^１９Ｆ ＮＭＲ（４７１ ＭＨｚ）δ −１３０．２４−−１３０．０９（ｍ，１Ｆ），−１２９．９２−−１２９．７６（ｍ，１Ｆ），−６２．８４（ｓ，３Ｆ），−６２．８０（ｓ，３Ｆ）；ＮＭＲデータは、２つのジアステレオマーの１：１混合物である。
ＭＰ：１３０．６−１３４．６℃：ＥＳＩ［Ｍ＋１］４４３．６．

工程Ｂ：（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−２−オキソ−４−［３−（トリフルオロメチル）フェニル］−３−ピロリジンカルボキサミドの製造
エチル（βＳ）−α−［［（２−フルオロフェニル）アミノ］カルボニル］−β−（ニトロメチル）−３−（トリフルオロメチル）ベンゼンプロパノエイト（すなわち、工程Ｃの生成物、のエタノール（１０００ｍＬ）溶液に亜鉛粉末（１４４．７ｇ、２．２６ｍｏｌ）を一度に加えた。反応混合物を８０℃にまで加熱した。酢酸（１０８ｇ、１．８１ｍｏｌ）を４５分間かけて滴下した。酢酸添加後、溶液を９０℃にまで加熱し、３時間撹拌した。溶液を週温度にまで冷却し、酢酸エチル（１Ｌ）で希釈し、Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）珪藻土濾過助剤床を通して濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、残渣を酢酸エチル（２Ｌ）に取った。有機層を０．５ＮＨＣｌ、水および塩水で洗浄し、その後、Ｎａ_２ＳＯ_４で脱水し、濾過し、真空中で濃縮した。得られた濃厚液を、１０％メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル／石油エーテル５００ｍＬで沈澱処理して、白色固体を得た。濾過し、乾燥して、白色固体として標記化合物（５６ｇ、収率６７％）を得た。キラルＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌ Ｐａｋ ＩＡ（２５０×４．６）ｍｍ ５μ、０．１％ＤＥＡ（ヘキサン中）：エタノール（９０：１０）、１．０ｍＬ／ｍｉｎで）による分析は、ＥＲ ８６：１４を示した。
^１Ｈ ＮＭＲ（５００ ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）δ １０．０５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），８．２４−８．３３（ｍ，１Ｈ），７．７８−７．９０（ｍ，２Ｈ），７．５７−７．６５（ｍ，２Ｈ），７．５２（ｂｒ ｓ，１Ｈ），７．００−７．２２（ｍ，３Ｈ），４．２０−４．２９（ｍ，１Ｈ），３．９６−４．０２（ｍ，１Ｈ），３．８３−３．９２（ｍ，１Ｈ），３．４１−３．５３（ｍ，１Ｈ）；
^１９Ｆ ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，アセトン−ｄ６）δ ｐｐｍ −１３１．１９−−１３１．０１（ｍ，１Ｆ），−６２．９３（ｓ，３Ｆ）；
ＭＰ １４１．８−１４４．７℃；ＥＳＩ［Ｍ＋１］３６７．０．

本明細書に記載の手順、および当該技術分野で知られた方法によって、以下の表１〜６８８の化合物を製造することができる。次の略語が表で使用される。すなわち、ｔは三級を意味し、ｎはノーマルを意味し、ｉはイソを意味し、ｃはシクロを意味し、Ｍｅはメチル基を意味し、Ｅｔはエチル基を意味し、Ｐｒはプロピル基を意味し、Ｂｕはブチル基を意味し、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基を意味し、Ｂｕはブチルを意味し、ｃ−Ｐｒ シクロプロピル基、ｃ−Ｂｕはシクロブチル基を意味し、Ｐｈはフェニル基を意味し、ＯＭｅはメトキシ基を意味し、ＯＥｔはエトキシ基を意味し、ＳＭｅはメチルチオ基を意味し、ＳＥｔはエチルチオ基を意味し、ＮＨＭｅ メチルアミノ基、−ＣＮはシアノ基を意味し、−ＮＯ_２はニトロ基を意味し、ＴＭＳはトリメチルシリル基を意味し、Ｓ（Ｏ）Ｍｅはメチルスルフィニル基を意味し、Ｓ（Ｏ）_２Ｍｅはメチルスルホニル基を意味する。

表２は、「ＲはＭｅ；Ｑ^２はＰｈ（２−Ｆ）、およびＱ^１は」という行見出しが、下記の表２に挙げられている行見出し（すなわち、「ＲはＭｅ；Ｑ^２はＰｈ（２，３−ジＦ）、およびＱ^１は」）に置き換えられる以外は同様に構成される、したがって、表２の第１の項は、ＲはＭｅ；Ｑ^２はＰｈ（２，３−ジＦ）、およびＱ^１はＰｈ（２−Ｃｌ）（すなわち、２−クロロフェニル）である式Ｉの化合物である。表３〜表６８８は同様に構成される。

Claims (20)

1. 式Ｉおよびその塩から選択される化合物
   

   

   （式中、
   Ｑ^１は、フェニル環もしくはナフタレニル環系であって、各環もしくは環系は、任意選択により、Ｒ^１または完全不飽和の５〜６員ヘテロ環もしくは８〜１０員二環式ヘテロ芳香環系から独立して選択される最大５個までの置換基で置換され；各環もしくは環系は、炭素原子、ならびに、最大２個までのＯ原子、最大２個までのＳ原子および最大４個までのＮ原子から独立して選択される１〜４個のヘテロ原子から選択される環メンバーを含み（ここで、最大３個までの炭素環メンバーは、Ｃ（＝Ｏ）およびＣ（＝Ｓ）から独立して選択され、硫黄原子環メンバーはＳ（＝Ｏ）_ｕ（＝ＮＲ^２）_ｖから独立して選択される）、各環もしくは環系は、任意選択により、炭素原子環メンバー上のＲ^１および窒素原子環メンバー上のＲ^３から独立して選択される最大５個までの置換基で置換され；
   Ｑ^２は、フェニル環もしくはナフタレニル環系であって、各環もしくは環系は、任意選択により、Ｒ^４または完全不飽和の５〜６員ヘテロ環もしくは８〜１０員二環式ヘテロ芳香環系から独立して選択される最大５個までの置換基で置換され；各環もしくは環系は、炭素原子、ならびに、最大２個までのＯ原子、最大２個までのＳ原子および最大４個までのＮ原子から独立して選択される１〜４個のヘテロ原子から選択される環メンバーを含み（ここで、最大３個までの炭素環メンバーは、Ｃ（＝Ｏ）およびＣ（＝Ｓ）から独立して選択され、硫黄原子環メンバーはＳ（＝Ｏ）_ｕ（＝ＮＲ^２）_ｖから独立して選択される）、各環もしくは環系は、任意選択により、炭素原子環メンバー上のＲ^４および窒素原子環メンバー上のＲ^５から独立して選択される最大５個までの置換基で置換され；
   Ｒは、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基またはフェニル基であり；
   各Ｒ^１およびＲ^４は、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ニトロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ニトロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキニル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルアルキル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０ハロシクロアルキルアルキル基、Ｃ_５〜Ｃ_１２アルキルシクロアルキルアルキル基、Ｃ_５〜Ｃ_１２シクロアルキルアルケニル基、Ｃ_５〜Ｃ_１２シクロアルキルアルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８ハロ
   シクロアルキル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０アルキルシクロアルキル基、Ｃ_６〜Ｃ_１２シクロアルキルシクロアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルケニル基、Ｃ_３〜Ｃ_８ハロシクロアルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルコキシアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキアルキル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルコキシアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_１０アルコキシアルコキシアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルチオアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルスルフィニルアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルスルホニルアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルアミノアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキルアミノアルキル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルアミノアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_１０ジアルキルアミノアルキル基、−ＣＨＯ、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキルカルボニル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルカルボニル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、Ｃ_２〜Ｃ_８アルコキシカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルコキシカルボニル基、Ｃ_５〜Ｃ_１２シクロアルキルアルコキシカルボニル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ_２、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルアミノカルボニル基、Ｃ_３〜Ｃ_１０ジアルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルコキシアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルケニルオキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルケニルオキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８アルキニルオキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８ハロアルキニルオキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルコキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８ハロシクロアルコキシ基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルアルコキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_１０アルキルカルボニルアルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_４〜Ｃ_１０シクロアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキルチオ基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキルスルフィニル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキルスルフィニル基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキルスルホニル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルスルホニル基、ホルミルアミノ基、Ｃ_２〜Ｃ_８アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_２〜Ｃ_８ハロアルキルカルボニルアミノ、Ｃ_２〜Ｃ_８アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキルスルホニルアミノ基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキルスルホニルアミノ基、−ＳＦ_５、−ＳＣＮ、Ｃ_３〜Ｃ_１２トリアルキルシリル基、Ｃ_４〜Ｃ_１２トリアルキルシリルアルキル基またはＣ_４〜Ｃ_１２トリアルキルシリルアルコキシ基であり；
   各Ｒ^２は、独立して、Ｈ、シアノ基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキルカルボニル基またはＣ_２〜Ｃ_３ハロアルキルカルボニル基であり；
   各Ｒ^３およびＲ^５は、独立して、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルコキシアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_３アルコキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキルカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルコキシカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキルアミノアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_４ジアルキルアミノアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
   Ｓ（＝Ｏ）_ｕ（＝ＮＲ^２）_ｖの各例における各ｕおよびｖは、独立して、０、１または２である（但し、ｕおよびｖの合計は０、１または２である））。
2. Ｑ^１は、Ｒ^１から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；
   Ｑ^２は、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒは、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基であり；
   Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基であり；かつ
   Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項１に記載の化合物。
3. Ｑ^１は、メタ（３−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ、任意選択により、最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環であり；
   Ｑ^２は、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ、任意選択により、
   最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環であり；
   Ｒは、メチル基またはエチル基であり；
   Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
   Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項２に記載の化合物。
4. Ｑ^１は、パラ（４−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ、任意選択により、最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環であり；
   Ｑ^２は、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ、任意選択により、最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環であり；
   Ｒは、メチル基またはエチル基であり；
   Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
   Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項２に記載の化合物。
5. Ｑ^１は、任意選択により、炭素原子環メンバー上のＲ^１および窒素原子環メンバー上のＲ^３から独立して選択される最大５個までの置換基で置換される完全不飽和の５〜６員ヘテロ環であり；
   Ｑ^２は、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒは、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基であり；
   Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基であり；
   Ｒ^３は、独立して、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_３アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３アルコキシ基であり；かつ
   Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項１に記載の化合物。
6. Ｑ^１は、任意選択により最大で２個までのＲ^１で置換されるピリジル環であり；
   Ｑ^２は、Ｒ^４から独立して選択される１〜２個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒは、メチル基またはエチル基であり；
   Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
   Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項５に記載の化合物。
7. Ｑ^１は、式Ｉの化合物の残部にＱ^１を結合するパラの位置がＲ^１で置換された３−ピリジル環であるか；または、Ｑ^１は、任意選択により最大２個までのＲ^１で置換されるチオフェン環もしくはフラン環であり、
   Ｑ^２は、Ｒ^４から独立して選択される１〜２個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒは、メチル基またはエチル基であり；
   Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
   Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項５に記載の化合物。
8. Ｑ^２は、任意選択により最大で２個までのＲ^４で置換される２−ピリジル環または３−ピリジル環であり；
   Ｒは、メチル基またはエチル基であり；
   Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
   Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項１に記載
   の化合物。
9. 式Ｉ
   

   

   （式中、Ｑ¹、Ｑ²およびＲは、請求項１〜８のいずれか一項で定義されたとおりである）の化合物を製造する方法であって、
   式ＩＩ
   

   

   （式中、Ｑ¹は、請求項１〜８のいずれか一項で定義されたとおりである）
   の化合物を、式ＩＩＩ
   

   

   （式中、Ｑ²およびＲは、請求項１〜８のいずれか一項で定義されたとおりである）
   の化合物と、任意選択により触媒または塩基の存在下で接触させて、式Ｉの化合物を生成することを含む、前記方法。
10. Ｑ^１は、Ｒ^１から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；
    Ｑ^２は、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒは、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基であり；
    Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基であり、かつ
    Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項９に記載の方法。
11. Ｑ^１は、メタ（３−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ、任意選択により、最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環であり；
    Ｑ^２は、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ、任意選択により、最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環であり；
    Ｒは、メチル基またはエチル基であり；
    Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル
    基であり；かつ
    Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項１０に記載の方法。
12. 前記触媒はニッケル錯体であり、かつ前記塩基は有機塩基である請求項１０または１１に記載の方法。
13. 前記ニッケル錯体はキラルビシナルジアミンリガンドを有するＮｉ（ＩＩ）である請求項１２に記載の方法。
14. 前記リガンドは、Ｎ置換シクロヘキサン−１，２−ジアミンまたは１，１’−ビ（テトラヒドロイソキノリン）−ジアミンであり；かつ
    前記塩基は、トリエチルアミン、モルホリンまたはピペリジンである請求項１３に記載の方法。
15. 式Ｉの残部にＱ^１を結合する炭素中心の立体化学は、ＳまたはＲである請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の方法。
16. 式ＩＶ
    

    

    （式中、Ｑ¹およびＱ²は、請求項１〜８のいずれか一項で定義されたとおりである）の化合物を製造する方法であって、
    還元剤の存在下で、式Ｉ
    

    

    （式中、Ｑ¹、Ｑ²、およびＲは、請求項１〜８のいずれか一項で定義されたとおりである）の化合物を還元的に環化することを含む、前記方法。
17. Ｑ^１は、Ｒ^１から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；
    Ｑ^２は、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒは、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基であり；
    Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_８ハロアルキル基またはＣ_２〜Ｃ_８ハロアルコキシアルコキシ基であり；かつ
    Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項１６に記載の方法。
18. Ｑ^１は、メタ（３−）位にＲ^１から選択される置換基を有し、かつ、任意選択により、最大２個までの追加のＲ^１置換基を有するフェニル環であり；
    Ｑ^２は、オルト（２−）位にＲ^４から選択される置換基を有し、かつ、任意選択により、最大２個までの追加のＲ^４置換基を有するフェニル環であり；
    Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_３アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；
    Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項１７に記載の方法。
19. Ｑ^１は、任意選択により最大で２個までのＲ^１で置換されるピリジル環であり；
    Ｑ^２は、Ｒ^４から独立して選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニル環であり；Ｒ^１は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基であり；かつ
    Ｒ^４は、独立して、ハロゲン原子またはＣ_１〜Ｃ_３ハロアルキル基である請求項１６に記載の方法。
20. 式ＩＶの化合物の立体化学は、（３Ｒ，４Ｓ）または（３Ｓ，４Ｒ）である請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の方法。