JP6605871B2 - Substrate floating transfer device - Google Patents
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Description
本発明は、基板を浮上させながら搬送する基板浮上搬送装置に関するものであり、特に、基準サイズの基板に対して川幅方向寸法が大きい基板であっても平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる基板浮上搬送装置に関するものである。 The present invention relates to a substrate levitating and conveying apparatus that conveys a substrate while levitating, and in particular, conveys a substrate having a flatness with high accuracy even if the substrate has a larger dimension in the river width direction than a reference size substrate. The present invention relates to a substrate levitating and conveying apparatus.
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、基板上にレジスト液が塗布されたもの(塗布基板と称す)が使用されている。この塗布基板は、基板を搬送しつつ塗布装置により基板上にレジスト液が均一に塗布されることによって塗布膜が形成される。その後、さらに基板搬送装置により搬送され、乾燥装置等により塗布膜が乾燥されることにより生産される。 A flat panel display such as a liquid crystal display or a plasma display uses a substrate coated with a resist solution (referred to as a coated substrate). In the coated substrate, a coating film is formed by uniformly applying a resist solution onto the substrate by a coating apparatus while the substrate is being conveyed. Thereafter, the coating film is further transported by a substrate transporting device, and the coating film is dried by a drying device or the like to be produced.
最近の基板搬送装置では、塗布基板の裏面(塗布面と反対側)の損傷を回避するため、エア浮上や超音波浮上等、基板を浮上させながら基板を搬送させる基板浮上搬送装置が使用されている。この基板浮上搬送装置は、図7に示すように、基板Wを浮上させる浮上ステージ部100と、浮上した状態の基板Wを保持する基板保持部102とを有しており、基板保持部102を搬送方向に移動させることにより基板Wが浮上ステージ部100上を浮上した状態で搬送されるようになっている。
In recent substrate transport devices, in order to avoid damage to the back surface (the side opposite to the coating surface) of the coated substrate, a substrate floating transport device that transports the substrate while floating the substrate, such as air levitation or ultrasonic levitation, is used. Yes. As shown in FIG. 7, the substrate levitation transport apparatus includes a
例えば、エア浮上搬送の場合には、図8(a)に示すように、浮上ステージ部100における基板Wを浮上させる基板浮上面101に、エアを噴出させる噴出口とエアを吸引する吸引口とが一定の割合で配置されており、基板浮上面101から所定の高さ位置に基板Wを浮上させることができるようにエアの噴出力とエアの吸引力とが調整される(図8の矢印はエアの流れを示す)。そして、基板Wの搬送方向と直交する方向(以下、川幅方向という)の両端部は、基板保持部102の吸着部102aで吸着されることによって保持され、この状態で基板保持部102が搬送方向に走行することにより基板Wが搬送方向に搬送される。すなわち、浮上ステージ部100は、基板Wに対して川幅方向に小さく形成されており、浮上ステージ部100の基板浮上面101に基板Wを載置した状態では、川幅方向両端部に基板Wを吸着できる程度の吸着代(はみ出し領域T)を有する程度に形成されている。そして、基板保持部102を浮上ステージ部100に近接させて設置することでエア浮上が作用しない領域を極力少なくすることにより、川幅方向両端に亘って基板Wを均一に浮上させることができ、基板Wの平面姿勢(以下、平面度という)を高精度に維持した状態で搬送することができる。これより、基板浮上搬送装置と組み合わされる塗布装置103や乾燥装置において、基板Wの姿勢の影響による塗布ムラや乾燥ムラを抑えることができるようになっている。
For example, in the case of air levitation transport, as shown in FIG. 8A, a jet outlet for jetting air and a suction port for sucking air on the
近年では、基板Wの多種多様化に伴い、サイズの異なる塗布基板Wを要求される場合がある。すなわち、最終製品の基板サイズの多様化により、通常よりも川幅方向に寸法が大きい基板W(以下、幅広基板Wという)が要求される場合がある。ところが上記の基板浮上搬送装置で幅広基板Wを搬送しようとすると、図8(b)に示すように、塗布すべき基板有効領域αが浮上ステージ部100を超えて基板保持部102に跨ってしまうことにより、基板Wの平面度を維持できないという問題があった。すなわち、基板有効領域αが基板保持部102に跨ると、浮上ステージ部100と基板保持部102とで基板有効領域α内に浮上状態が異なるため、基板浮上搬送装置と組み合わされる塗布装置103や乾燥装置において、基板Wの姿勢変化による塗布ムラや乾燥ムラが発生するという問題があった。
In recent years, with various types of substrates W, coated substrates W having different sizes may be required. That is, there is a case where a substrate W having a larger dimension in the river width direction than usual (hereinafter referred to as a wide substrate W) is required due to diversification of the substrate size of the final product. However, if an attempt is made to transport the wide substrate W with the above-described substrate levitation transport apparatus, as shown in FIG. 8B, the substrate effective region α to be applied extends over the
このような場合には、川幅方向に寸法に僅かでも寸法が大きい幅広基板Wは、上記基板浮上搬送装置では搬送することができず、幅広基板Wを搬送させるために新たな基板浮上搬送装置を別途用意する必要があるという問題があった。 In such a case, the wide substrate W having a small size in the river width direction cannot be transported by the substrate floating transport device, and a new substrate floating transport device is used to transport the wide substrate W. There was a problem that it was necessary to prepare separately.
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、川幅方向に寸法の大きい幅広基板でも平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる基板浮上搬送装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate levitation transport apparatus that can transport a wide substrate having a large dimension in the river width direction while maintaining the flatness with high accuracy. It is said.
上記課題を解決するために本発明の基板浮上搬送装置は、搬送方向に延び、基板浮上面上に基板を浮上させる浮上ステージ部と、前記基板浮上面上に浮上した基板を保持する基板保持部と、を備え、前記基板浮上面上に浮上した状態の基板を保持した状態で前記基板保持部が前記搬送方向に沿って移動することにより、基板が基板浮上面上に浮上した状態で搬送される基板浮上搬送装置において、前記浮上ステージ部と前記基板保持部との間には、基準サイズの基板よりも搬送方向と直交する川幅方向寸法が大きい幅広基板を搬送する場合に、前記基板浮上面から川幅方向にはみ出す前記幅広基板のはみ出し領域を浮上させる補助浮上支持部を備えており、前記補助浮上支持部は、前記基板保持部に設けられており、前記補助浮上支持部には、前記基準サイズの基板が吸着されて保持される吸着面が前記基板保持部の吸着面よりも川幅方向内側に設けられ、前記基準サイズの基板が搬送される際には、前記補助浮上支持部の吸着面で前記基準サイズの基板が吸着保持され、前記幅広基板が搬送される際には前記基板保持部の吸着面で前記幅広基板が吸着保持されることを特徴としている。 In order to solve the above problems, a substrate levitation transport apparatus according to the present invention includes a levitation stage unit that extends in the transport direction and levitates a substrate on the substrate air bearing surface, and a substrate holding unit that retains the substrate levitated on the substrate air bearing surface. And the substrate holding unit moves along the transport direction while holding the substrate floating on the substrate air bearing surface, so that the substrate is transported in a state of floating on the substrate air bearing surface. In the substrate levitation transfer apparatus, the substrate floating surface is provided between the levitation stage unit and the substrate holding unit when a wide substrate having a dimension in the river width direction perpendicular to the transfer direction is larger than that of a reference size substrate. and an auxiliary floating support unit for floating the protruding region of the wide substrate protruding in the river direction from the auxiliary floating support unit, the provided on the substrate holder, the auxiliary floating the support portion The suction surface on which the substrate of the reference size is sucked and held is provided on the inner side in the river width direction than the suction surface of the substrate holding unit, and when the substrate of the reference size is transported, the auxiliary levitation support portion The substrate of the reference size is sucked and held by the suction surface, and the wide substrate is sucked and held by the suction surface of the substrate holder when the wide substrate is transported .
上記基板浮上搬送装置によれば、浮上ステージ部と基板保持部との間に補助浮上支持部を備えているため、川幅方向に寸法の大きい幅広基板でも平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる。すなわち、幅広基板のうち、浮上ステージ部よりも川幅方向にはみ出す領域は、補助浮上支持部による浮上機構により、浮上ステージ部上に位置する基板と同じ浮上状態に設定することにより、川幅方向に亘って浮上状態を均一にすることができる。したがって、従来の基板浮上搬送装置に比べて、幅広基板の平面度を高精度に維持して基板有効領域に塗布ムラが発生する問題を抑えることができ、幅広基板のために新たな基板浮上搬送装置を別途用意する設備コストを抑えることができる。 According to the substrate levitation transport apparatus, since the auxiliary levitation support portion is provided between the levitation stage portion and the substrate holding portion, even a wide substrate having a large dimension in the river width direction is transported while maintaining high flatness. be able to. That is, in the wide substrate, the region that protrudes in the river width direction from the levitation stage portion is set in the same levitation state as the substrate located on the levitation stage portion by the levitation mechanism by the auxiliary levitation support portion. The floating state can be made uniform. Therefore, compared to the conventional substrate levitation transfer device, the flatness of the wide substrate can be maintained with high accuracy, and the problem of uneven coating can be suppressed in the effective area of the substrate. Equipment costs for preparing the apparatus separately can be reduced.
また、前記補助浮上支持部は、その浮上機構が前記浮上ステージ部と同じ浮上機構を有している構成が好ましい。 Further, the auxiliary levitation support part preferably has a structure in which the levitation mechanism has the same levitation mechanism as the levitation stage part.
この構成によれば、補助浮上支持部は、浮上ステージ部と同じ浮上機構(例えば、エア浮上、超音波浮上等)を有しているため、補助浮上支持部における浮上状態を浮上ステージ部における浮上状態と同じ状態にすることができ、幅広基板の浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができる。 According to this configuration, since the auxiliary levitation support unit has the same levitation mechanism as the levitation stage unit (for example, air levitation, ultrasonic levitation, etc.), the levitation state in the auxiliary levitation support unit is changed to the levitation stage unit. The same state as the state can be obtained, and the floating state of the wide substrate can be made uniform over the river width direction.
そして、基準サイズの基板、幅広基板、いずれを搬送する場合であっても、装置構成を組み替えることがなく、段取り作業を簡略化することができる。 In addition, regardless of whether a substrate of a reference size or a wide substrate is transported, the setup operation can be simplified without reconfiguring the apparatus configuration.
また、前記基板保持部の吸着面は、前記補助浮上支持部の吸着面よりも高さ位置が高く設定されており、前記基板保持部の吸着面により幅広基板が保持された状態では、前記補助浮上支持部の浮上機構により、前記浮上ステージ部における浮上状態と同じ浮上状態に維持される構成にしてもよい。 Further, the suction surface of the substrate holding unit is set to be higher in height than the suction surface of the auxiliary levitation support unit, and the auxiliary substrate is held in a state where the wide substrate is held by the suction surface of the substrate holding unit. A configuration may be adopted in which the levitation mechanism of the levitation support portion maintains the same levitation state as the levitation state in the levitation stage portion.
この構成によれば、幅広基板を保持する場合において、浮上ステージ部及び補助浮上支持部のいずれにおいても浮上状態が同じ状態に維持されるため、川幅方向に亘って幅広基板の平面度を高精度に維持することができる。 According to this configuration, when the wide substrate is held, the floating state is maintained in the same state in both the floating stage unit and the auxiliary floating support unit, so that the flatness of the wide substrate is highly accurate over the river width direction. Can be maintained.
本発明の基板浮上搬送装置によれば、川幅方向に寸法の大きい幅広基板でも平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる。 According to the substrate floating conveyance device of the present invention, even a wide substrate having a large dimension in the river width direction can be conveyed while maintaining the flatness with high accuracy.
本発明の基板浮上搬送装置に係る実施の形態について図面を用いて説明する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明の基板浮上搬送装置1と組み合わされる塗布装置2を概略的に示す斜視図であり、図2は、図1における基板浮上搬送装置1と組み合わされる塗布装置2の正面図である。 FIG. 1 is a perspective view schematically showing a coating apparatus 2 combined with the substrate floating conveyance apparatus 1 of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the coating apparatus 2 combined with the substrate floating conveyance apparatus 1 in FIG. is there.
図1、図2において、基板Wを搬送させる基板浮上搬送装置1は、搬送される基板Wに塗布膜を形成する塗布装置2の塗布ユニット21と組み合わされており、一連の基板処理装置を形成している。この基板浮上搬送装置1は、一方向に延びる浮上ステージ部10を有しており、この浮上ステージ部10の延びる方向に沿って基板Wが搬送される。図1の例では、浮上ステージ部10は、X軸方向に延びて形成されており、基板WがX軸方向に上流側(前工程側)から下流側(後工程側)に搬送されるようになっている。そして、塗布ユニット21から塗布液を吐出することにより、基板W上に塗布膜が形成される。具体的には、基板Wが浮上ステージ部10に浮上された状態でX軸方向に搬送されつつ、塗布ユニット21から塗布液が吐出されることにより、基板W上に均一厚さの塗布膜が形成されるようになっている。なお、以下の説明では、基板Wが搬送される方向をX軸方向とし、X軸方向が搬送方向に相当する。また、X軸方向(搬送方向)と水平面上で直交する方向をY軸方向とし、特にY軸方向を川幅方向ともいう。そして、X軸方向及びY軸方向の双方に直交する方向をZ軸方向として説明を進めることとする。
In FIG. 1 and FIG. 2, a substrate floating transfer device 1 that transfers a substrate W is combined with a
塗布ユニット21は、基板Wに塗布液を塗布するものであり、フレーム部22と口金部23とを有している。フレーム部22は、浮上ステージ部10のY軸方向両側にそれぞれ配置される支柱22aを有しており、この支柱22aに口金部23が設けられている。具体的には、支柱22aは、Y軸方向(川幅方向)両側に固定して設けられており、後述する基板保持部30の走行を妨げることのないように、基板保持部30の走行経路よりも外側に配置されている。そして、これらの支柱22aに口金部23が架け渡されて設けられており、口金部23が浮上ステージ部10を横切る状態で取り付けられている。また、支柱22aには昇降機構が設けられており、昇降機構を作動させることにより口金部23がZ方向に移動できるようになっている。すなわち、昇降機構により口金部23が浮上ステージ部10に対して接離動作できるようになっている。
The
口金部23は、塗布液を吐出するものであり、一方向に延びて形成されている。この口金部23は、一方向に延びるスリットノズル23a(図2参照)が形成されており、口金部23内に貯留された塗布液をスリットノズル23aから吐出できるようになっている。具体的には、スリットノズル23aは、浮上ステージ部10と対向する面に形成されており、口金部23はスリットノズル23aが川幅方向に延びる状態で設置されている。そして、搬送される基板Wに対して口金部23を昇降させて基板Wとスリットノズル23aとの距離を所定の距離に合わせた状態で、スリットノズル23aから塗布液を吐出することにより、川幅方向に一様な塗布膜が搬送方向に連続的に形成されるようになっている。
The
また、基板浮上搬送装置1は、基板Wを浮上させつつ特定方向に搬送させるものである。基板浮上搬送装置1は、基板Wを浮上させる浮上ステージ部10と、浮上ステージ部10に浮上させた基板Wを保持し搬送させる基板搬送ユニット3とを有している。
Further, the substrate levitation transport apparatus 1 transports the substrate W in a specific direction while floating. The substrate levitation transport apparatus 1 includes a
浮上ステージ部10は、基板Wを浮上させるものであり、本実施形態ではエア浮上機構を有している。浮上ステージ部10は、基台11上に平板部12が設けられて形成されており、複数枚の平板部12がX軸方向に沿って配列されて形成されている。すなわち、平板部12は、平滑な基板浮上面12a(図3参照)を有しており、それぞれの基板浮上面12aが均一高さになるように配列されている。そして、基板浮上面12aには、搬送させる基板Wとの間に空気層が形成されることにより基板Wを所定高さ位置に浮上させることができるようになっている。具体的には、平板部12には、基板浮上面12aに開口する微小な噴出口(不図示)と吸引口(不図示)とが形成されており、噴出口とコンプレッサとが配管で接続され、吸引口と真空ポンプとが配管で接続されている。そして、噴出口から噴出されるエアと吸引口に発生する吸引力とをバランスさせることにより、基板Wが基板浮上面12aから所定高さに水平の姿勢で浮上させることができるようになっている。これにより、基板Wの平面姿勢(平面度という)を高精度に維持した状態で搬送できるようになっている。
The
また、浮上ステージ部10の平板部12は、そのY軸方向寸法が基準サイズの基板W(標準基板W)のY軸方向寸法よりも小さく形成されており、基板浮上面12a上に基板Wを載置すると、基板浮上面12aから基板WのY軸方向端部がはみ出した状態となる。このはみ出した部分(はみ出し領域T)を後述の基板搬送ユニット3で保持することにより、基板Wを搬送できるようになっている。この平板部12のY軸方向寸法は、はみ出し領域Tが基板保持部30で保持できる必要最小限の寸法になるように設定されている。すなわち、はみ出し領域Tのはみ出し量は、基板保持部30で基板Wのはみ出し領域Tを保持した場合に、基板保持部30と平板部12との間に互いに接触することのない僅かな隙間が形成される程度に設定されている。なお、基準サイズの基板Wとは、基板浮上搬送装置1を設計する際に基準となる大きさの基板Wのことをいい、後述の川幅方向寸法が大きい幅広基板Wに対して標準基板Wと呼ぶこととする。
Further, the
また、平板部12は、補助浮上支持部4が取り付けできるようになっている。この補助浮上支持部4は、標準基板Wに対して川幅方向寸法が大きい幅広基板Wを搬送させる場合に、幅広基板Wの姿勢を川幅方向に亘って水平に維持させるものである。
The
本実施形態の補助浮上支持部4は、補助ブロック40であり、幅広基板Wを搬送させる場合に、平板部12のY軸方向(川幅方向)側面に取り付けて固定されるようになっている。具体的には、補助ブロック40は、直方体形状を有しており、搬送方向寸法は平板部12と同じ寸法に形成され、川幅方向寸法は、幅広基板Wが基板浮上面12aに載置された場合に、幅広基板WのY軸方向端部が川幅方向にはみ出した状態となる寸法に形成されている。すなわち、はみ出し量は、標準基板Wと同様に、基板保持部30で基板Wを保持した場合に、基板保持部30が補助ブロック40に接触せず走行するのに最低限必要となる寸法、すなわち、基板保持部30と補助ブロック40との間に互いに接触することのない僅かな隙間が形成される寸法に設定されている。また、補助ブロック40が取り付けられた状態では、補助ブロック40の上面が平板部12の基板浮上面12aと同じ高さになるように設定されている。これにより、平板部12と補助ブロック40によって一回り大きい平坦で一様な基板浮上面12aが形成されるようになっている。
The auxiliary
また、補助ブロック40(補助浮上支持部4)は、浮上ステージ部10と同じ浮上機構(本実施形態ではエア浮上機構)を有している。具体的には、補助ブロック40の基板浮上面12aを形成する面には、平板部12と同様に、噴出口(不図示)と吸引口(不図示)とが形成されており、平板部12の噴出口及び吸引口と同じ態様で形成されている。すなわち、平板部12の出口及び吸引口と同じ割合、同じ位置関係を有するように形成されており、平板部12における基板Wの浮上状態と、補助ブロック40における基板Wの浮上状態とを同じ状態にすることができるようになっている。したがって、補助ブロック40が取り付けられた状態では、幅広基板Wであっても、川幅方向に亘って均一に浮上させることができ、基板Wの平面度を高精度に維持した状態で浮上させることができる。
Further, the auxiliary block 40 (auxiliary levitation support portion 4) has the same levitation mechanism as the levitation stage portion 10 (in this embodiment, an air levitation mechanism). Specifically, a jet port (not shown) and a suction port (not shown) are formed on the surface of the
また、基板搬送ユニット3は、浮上状態の基板Wを搬送させるものであり、基板Wを保持する基板保持部30と、基板保持部30を走行させる搬送駆動部31とを有している。
The
搬送駆動部31は、基板保持部30を搬送方向に移動させるように構成されており、浮上ステージ部10に沿って搬送方向に延びる搬送レール部31aと、この搬送レール部31a上を走行する搬送本体部31bとで形成されている。具体的には、搬送方向に延びるように設けられた基台11が浮上ステージ部10の川幅方向両側に配置されており、それぞれの基台11上に搬送レール部31aが設けられている。すなわち、搬送レール部31aが浮上ステージ部10に沿って途切れることなく連続して設けられている。また、搬送本体部31bは、凹形状に形成された板状部材であり、図4(a)に示すように、搬送レール部31aの上面を覆うように設けられている。具体的には、搬送本体部31bは、エアパッド32を介して搬送レール部31aに覆うように設けられており、図示しないリニアモータを駆動させることにより、搬送本体部31bが搬送レール部31a上を走行するようになっている。すなわち、リニアモータを駆動制御することにより、搬送本体部31bが搬送レール部31a上を接触することなく走行し、適切な位置で停止できるようになっている。
The
また、基板保持部30は、基板Wを保持するものであり、搬送本体部31bに取り付けられている。具体的には、図4(a)に示すように、基板保持部30は、ほぼ直方体のブロック状に形成されており、浮上ステージ部10の平板部12に接触しない程度の隙間を介して取り付けられている。また、基板保持部30は、その上面(吸着面33)が浮上させた基板Wの下面の高さ位置と面位置になるように設定されている。そして、図5に示すように、吸着面33には、開口部34が形成されており、その開口部34内に弾性変形可能な蛇腹形状の吸着パッド35が埋設されている。この吸着パッド35は、吸引力を発生させて基板Wを吸着保持するものであり、通常状態(基板Wがない状態)では、その先端が開口部34から僅かに突出した状態で待機するように設定されている(図5(a)参照)。そして、基板浮上面12aに基板Wが載置されると基板浮上面12aから川幅方向にはみ出した部分が吸着パッド35に当接する。この状態で吸着パッド35に吸引力を発生させると、基板Wの下面が吸着パッド35で吸引されつつ、その吸引状態を保ったまま、吸着パッド35自体が開口部34内に収縮して基板Wの下面が吸着面33に当接し基板Wが保持されるようになっている(図5(b)参照)。これにより、浮上ステージ部10で浮上された基板Wが、川幅方向に亘って同じ浮上高さ位置を維持した状態で保持される。
The
また、基板保持部30は、位置調節機構を有している。すなわち、基板保持部30は、搬送本体部31bにリニアガイド36を介して設けられており、川幅方向に移動できるようになっている。具体的には、搬送本体部31bには、川幅方向に移動可能なリニアガイド36が取り付けられており、このリニアガイド36に基板保持部30が取り付けられている。そして、リニアガイド36を駆動制御することにより基板保持部30が川幅方向に移動し、適切な位置で停止できるようになっている。
Further, the
本実施形態では、標準基板Wを搬送させる場合には、基板保持部30が浮上ステージ部10に近接する位置に移動し固定される(図4(a)参照)。すなわち、基板保持部30と浮上ステージ部10との間に、基板保持部30が搬送方向に走行しても浮上ステージ部10の平板部12に接触しない程度の隙間を有するように、基板保持部30が浮上ステージ部10に極力接近する位置に固定される。これにより、基板Wに浮上機構が作用しない領域を極力少なくすることができ、基板Wの浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができる。
In the present embodiment, when the standard substrate W is transported, the
また、幅広基板Wを搬送させる場合には、補助ブロック40が存在する分だけ川幅方向外側に移動し、基板保持部30が補助ブロック40に近接した位置に固定される(図4(b)参照)。この場合においても、基板保持部30と補助ブロック40との間に、基板保持部30が搬送方向に走行しても補助ブロック40に接触しない程度の隙間を有するように固定され、基板Wに浮上機構が作用しない領域を極力少なくして、基板Wの浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができるようになっている。
Further, when transporting the wide substrate W, the substrate moves to the outside in the river width direction as much as the
このように、本実施形態における基板浮上搬送装置1では、浮上ステージ部10と基板保持部30との間に補助浮上支持部4(補助ブロック40)を備えているため、川幅方向に寸法の大きい幅広基板Wでも平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる。すなわち、幅広基板Wのうち、浮上ステージ部10よりも川幅方向にはみ出す領域は、補助浮上支持部4による浮上機構により、浮上ステージ部10上に位置する基板Wと同じ浮上状態に設定することにより、川幅方向に亘って浮上状態を均一にすることができる。したがって、従来の基板浮上搬送装置1に比べて、幅広基板Wの平面度を高精度に維持して基板W有効領域に塗布ムラが発生する問題を抑えることができ、幅広基板Wのために新たな基板浮上搬送装置1を別途用意する設備コストを抑えることができる。
As described above, in the substrate levitation transfer apparatus 1 according to the present embodiment, the auxiliary levitation support portion 4 (auxiliary block 40) is provided between the
また、補助ブロック40には、浮上ステージ部10と同じエア浮上機構を使用しているため、補助ブロック40における浮上状態を浮上ステージ部10における浮上状態と同じ状態にすることができるため、幅広基板Wの浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができる。
Further, since the
また、上記実施形態では、補助浮上支持部4が浮上ステージ部10に取り付けられる補助ブロック40である場合について説明したが、補助浮上支持部4が基板保持部30に設けられるものであってもよい。図6に示す例では、基板保持部30の吸着面33aが補助浮上支持部4の一部をなすように構成されている。すなわち、基板保持部30には、吸着ブロック37が設けられ、川幅方向内側に補助浮上支持部4が形成され、川幅方向外側に基板保持部30が形成され、これらが一体的に構成されている。具体的には、基板保持部30の吸着面33aが、川幅方向外側に位置し、補助浮上支持部4の吸着面33bよりも一段高い位置に形成されている。そして、それぞれの吸着面33(吸着面33a及び吸着面33b)には、開口部34が形成されており、その開口部34に上述した吸着パッド35が埋設され、基板Wを吸着して保持できるようになっている。すなわち、吸着ブロック37における補助浮上支持部4は、浮上ステージ部10の平板部12に近接する位置に配置されており、浮上ステージ部10に標準基板Wが載置されると基板浮上面12aからはみ出したはみ出し領域Tを吸着パッド35で吸着できるようになっている(図6(a))。すなわち、吸着ブロック37の補助浮上支持部4は、上記実施形態と同様に、基板保持部30が搬送方向に走行しても浮上ステージ部10の平板部12に接触しない程度の隙間を有するように配置され、川幅方向に亘って均一に浮上させ、基板Wの平面度を高精度に維持した状態で浮上させることができる。
Moreover, although the said embodiment demonstrated the case where the auxiliary
また、基板保持部30における吸着パッド35は、浮上ステージ部10に載置された幅広基板Wのはみ出し領域Tを吸着できる位置に配置されている。また、補助浮上支持部4の吸着面33bには、噴出口(不図示)と吸引口(不図示)とが形成されており、平板部12の噴出口及び吸引口と同じ態様で形成されている。すなわち、浮上ステージ部10に幅広基板Wが載置されると、浮上ステージ部10からはみだす部分は、吸着ブロック37の補助浮上支持部4に設けられた浮上機構により浮上される。また、吸着面33bと基板浮上面12aの高さ位置は共通の高さに設定されている。これにより、幅広基板Wのはみ出し領域Tは、浮上ステージ部10に設けられた浮上機構と同じ構成の浮上機構で浮上させることができるため、基板保持部30が浮上ステージ部10から川幅方向外側に離れた位置に配置されていても、基板Wの浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができる。そして、本実施形態では、上記実施形態のように、標準基板Wと幅広基板Wを搬送する際に、補助ブロック40を付け替える必要がないため、上記実施形態に比べて、段取り作業を簡略化することができる。
Further, the
また、上記実施形態では、浮上ステージ部10の浮上機構としてエア浮上機構を使用する例について説明したが、超音波浮上等、他の浮上機構を用いるものであってもよい。
In the above embodiment, an example in which an air levitation mechanism is used as the levitation mechanism of the
また、上記実施形態では、補助浮上支持部4において、浮上ステージ部10と同じ浮上機構を用いる例について説明したが、異なる浮上機構を用いるものであってもよい。例えば、浮上ステージ部10に超音波浮上機構を使用し、補助浮上支持部4においてエア浮上機構を使用してもよい。いずれの浮上機構を使用しても、浮上ステージ部10及び補助浮上支持部4での浮上高さを共通にして川幅方向に亘って均一な浮上状態を形成できればよい。
In the above-described embodiment, an example in which the same levitation mechanism as that of the
また、上記実施形態では、基板浮上搬送装置1を塗布装置2に組み合わせる例について説明したが、基板浮上搬送装置1を乾燥装置に組み合わせてもよく、さまざまな基板処理装置に組み合わせて使用することができる。 Moreover, although the said embodiment demonstrated the example which combines the substrate levitation conveyance apparatus 1 with the coating device 2, you may combine the substrate levitation conveyance apparatus 1 with a drying apparatus, and it can be used in combination with various substrate processing apparatuses. it can.
1 基板浮上搬送装置
2 塗布装置
3 基板搬送ユニット
4 補助浮上支持部
10 浮上ステージ部
12 平板部
12a 基板浮上面
30 基板保持部
33 吸着面
37 吸着ブロック
40 補助ブロック
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate floating conveyance apparatus 2
Claims (3)
前記基板浮上面上に浮上した基板を保持する基板保持部と、
を備え、前記基板浮上面上に浮上した状態の基板を保持した状態で前記基板保持部が前記搬送方向に沿って移動することにより、基板が基板浮上面上に浮上した状態で搬送される基板浮上搬送装置において、
前記浮上ステージ部と前記基板保持部との間には、基準サイズの基板よりも搬送方向と直交する川幅方向寸法が大きい幅広基板を搬送する場合に、前記基板浮上面から川幅方向にはみ出す前記幅広基板のはみ出し領域を浮上させる補助浮上支持部を備えており、
前記補助浮上支持部は、前記基板保持部に一体的に設けられており、前記補助浮上支持部には、前記基準サイズの基板が吸着されて保持される吸着面が前記基板保持部の吸着面よりも川幅方向内側に設けられ、
前記基準サイズの基板が搬送される際には、前記補助浮上支持部の吸着面で前記基準サイズの基板が吸着保持され、前記幅広基板が搬送される際には前記基板保持部の吸着面で前記幅広基板が吸着保持されることを特徴とする基板浮上搬送装置。 A levitation stage that extends in the transport direction and levitates the substrate on the substrate levitation surface;
A substrate holding unit for holding the substrate levitated on the substrate air bearing surface;
The substrate is transported in a state where the substrate is floated on the substrate air bearing surface by moving the substrate holding portion along the transport direction in a state where the substrate floated on the substrate air bearing surface is retained In the levitation transport device,
In the case of transporting a wide substrate having a larger dimension in the river width direction perpendicular to the transport direction than the substrate of the standard size between the levitation stage unit and the substrate holding unit, the wide projecting from the substrate floating surface in the river width direction is carried out. It has an auxiliary levitation support that levitates the protruding area of the substrate,
The auxiliary levitation support part is provided integrally with the substrate holding part, and the auxiliary levitation support part has an adsorption surface on which the substrate of the reference size is adsorbed and held by the adsorption surface of the substrate holding part. Than the river width direction inside,
When the substrate of the reference size is transported, the substrate of the reference size is sucked and held by the suction surface of the auxiliary levitation support portion, and when the wide substrate is transported, the suction surface of the substrate holding portion. A substrate floating transfer apparatus, wherein the wide substrate is held by suction .
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