KR20170016276A - Substrate levitation and transportation device - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 320
- 238000005339 levitation Methods 0.000 title 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 26
- 238000005188 flotation Methods 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 31
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 21
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
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- B65G51/00—Conveying articles through pipes or tubes by fluid flow or pressure; Conveying articles over a flat surface, e.g. the base of a trough, by jets located in the surface
- B65G51/02—Directly conveying the articles, e.g. slips, sheets, stockings, containers or workpieces, by flowing gases
- B65G51/03—Directly conveying the articles, e.g. slips, sheets, stockings, containers or workpieces, by flowing gases over a flat surface or in troughs
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
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- B65G2201/00—Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
- B65G2201/02—Articles
- B65G2201/0214—Articles of special size, shape or weigh
- B65G2201/022—Flat
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2812/00—Indexing codes relating to the kind or type of conveyors
- B65G2812/16—Pneumatic conveyors
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
Description
본 발명은, 기판을 부상(浮上)시키면서 반송(搬送)하는 기판 부상 반송 장치에 관한 것이고, 특히, 기준 사이즈의 기판에 대하여 천폭(川幅) 방향 치수가 큰 기판에서도 평면도를 고정도(高精度)로 유지하면서 반송할 수 있는 기판 부상 반송 장치에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a substrate lifting device for lifting and lowering the flatness of a substrate having a large dimension in the direction of the width (width) To a substrate floating carrier device capable of transporting the substrate while maintaining the same.
액정 디스플레이나 플라스마 디스플레이(plasma display) 등의 플랫 패널 디스플레이(flat panel display)에는, 기판 상(上)에 레지스트액이 도포된 것(도포 기판이라고 칭한다)이 사용되고 있다. 이 도포 기판은, 기판을 반송하면서 도포 장치에 의하여 기판 상에 레지스트액이 균일하게 도포되는 것에 의하여 도포막이 형성된다. 그 후, 나아가 기판 반송 장치에 의하여 반송되고, 건조 장치 등에 의하여 도포막이 건조되는 것에 의하여 생산된다.In a flat panel display such as a liquid crystal display or a plasma display, a substrate coated with a resist solution (referred to as a coated substrate) is used. In this coating substrate, a resist film is uniformly coated on a substrate by a coating apparatus while the substrate is being transported, thereby forming a coating film. Thereafter, it is further conveyed by the substrate conveyance device, and is produced by drying the coating film by a drying device or the like.
최근의 기판 반송 장치에서는, 도포 기판의 이면(裏面)(도포면과 반대 측)의 손상을 회피하기 위하여, 에어(air) 부상이나 초음파 부상 등, 기판을 부상시키면서 기판을 반송시키는 기판 부상 반송 장치가 사용되고 있다. 이 기판 부상 반송 장치는, 도 7에 도시하는 바와 같이, 기판(W)을 부상시키는 부상 스테이지부(100)와, 부상한 상태의 기판(W)을 보지(保持)하는 기판 보지부(102)를 가지고 있고, 기판 보지부(102)를 반송 방향으로 이동시키는 것에 의하여 기판(W)이 부상 스테이지부(100) 상을 부상한 상태로 반송되도록 되어 있다.In a recent substrate transfer apparatus, a substrate floating transfer device for transferring a substrate while floating the substrate, such as an air floating or an ultrasonic floating, is provided to avoid damage to the back surface (opposite to the application surface) of the application substrate . 7, the substrate floating apparatus includes a
예를 들어, 에어 부상 반송의 경우에는, 도 8(a)에 도시하는 바와 같이, 부상 스테이지부(100)에 있어서의 기판(W)을 부상시키는 기판 부상면(浮上面)(101)에, 에어를 분출(噴出)시키는 분출구와 에어를 흡인하는 흡인구가 일정한 비율로 배치되어 있고, 기판 부상면(101)으로부터 소정의 높이 위치로 기판(W)을 부상시킬 수 있도록 에어의 분출력과 에어의 흡인력이 조정된다(도 8의 화살표는 에어의 흐름을 도시한다). 그리고, 기판(W)의 반송 방향과 직교하는 방향(이하, 천폭 방향이라고 한다)의 양(兩) 단부(端部)는, 기판 보지부(102)의 흡착부(102a)에서 흡착되는 것에 의하여 보지되고, 이 상태에서 기판 보지부(102)가 반송 방향으로 주행하는 것에 의하여 기판(W)이 반송 방향으로 반송된다. 즉, 부상 스테이지부(100)는, 기판(W)에 대하여 천폭 방향으로 작게 형성되어 있고, 부상 스테이지부(100)의 기판 부상면(101)에 기판(W)을 재치(載置)한 상태에서는, 천폭 방향 양 단부에 기판(W)을 흡착할 수 있는 정도의 흡착대(吸着代)(비어져 나옴 영역(T))를 가지는 정도로 형성되어 있다. 그리고, 기판 보지부(102)를 부상 스테이지부(100)에 근접시켜 설치하는 것으로 에어 부상이 작용하지 않는 영역을 극력(極力) 적게 하는 것에 의하여, 천폭 방향 양단에 걸쳐 기판(W)을 균일하게 부상시킬 수 있고, 기판(W)의 평면 자세(이하, 평면도라고 한다)를 고정도로 유지한 상태에서 반송할 수 있다. 이것으로부터, 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치(103)나 건조 장치에 있어서, 기판(W)의 자세의 영향에 의한 도포 얼룩이나 건조 얼룩을 억제할 수 있도록 되어 있다.For example, as shown in Fig. 8 (a), in the case of air-floating transfer, on the substrate floating surface (floating surface) 101 for floating the substrate W in the
근년(近年)에는, 기판(W)의 다종다양화(多種多樣化)에 수반하여, 사이즈가 다른 도포 기판(W)이 요구되는 경우가 있다. 즉, 최종 제품의 기판 사이즈의 다양화에 의하여, 통상(通常)보다도 천폭 방향으로 치수가 큰 기판(W)(이하, 광폭 기판(W)이라고 한다)이 요구되는 경우가 있다. 그런데 상기의 기판 부상 반송 장치로 광폭 기판(W)을 반송하려고 하면, 도 8(b)에 도시하는 바와 같이, 도포해야 할 기판 유효 영역(α)이 부상 스테이지부(100)를 넘어 기판 보지부(102)에 걸쳐 버리는 것에 의하여, 기판(W)의 평면도를 유지할 수 없다고 하는 문제가 있었다. 즉, 기판 유효 영역(α)이 기판 보지부(102)에 걸치면, 부상 스테이지부(100)와 기판 보지부(102)에서 기판 유효 영역(α) 내에 부상 상태가 다르기 때문에, 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치(103)나 건조 장치에 있어서, 기판(W)의 자세 변화에 의한 도포 얼룩이나 건조 얼룩이 발생한다고 하는 문제가 있었다.In recent years, there has been a case where a coated substrate W having a different size is required in accordance with the diversification of the substrate W in many kinds. That is, the substrate W having a large dimension in the direction of the width of the substrate (hereinafter referred to as a wide substrate W) may be required due to diversification of the substrate size of the final product. As shown in Fig. 8 (b), when the wide substrate W is to be carried by the above-described substrate floating apparatus, the substrate effective area [alpha] to be coated is moved beyond the
이와 같은 경우에는, 천폭 방향으로 약간이라도 치수가 큰 광폭 기판(W)은, 상기 기판 부상 반송 장치에서는 반송하지 못하고, 광폭 기판(W)을 반송시키기 위하여 새로운 기판 부상 반송 장치를 별도 준비할 필요가 있다고 하는 문제가 있었다.In such a case, it is necessary to separately prepare a new substrate floating transport device for transporting the wide substrate W without transporting the wide substrate W having a slight size in the direction of the width direction by the substrate floating transport device There was a problem that said.
본 발명은, 상기의 문제점에 감안하여 이루어진 것이고, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있는 기판 부상 반송 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a substrate floating apparatus capable of carrying a substrate while maintaining a high degree of planarity even in a wide substrate having a large dimension in the direction of the substrate.
상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기판 부상 반송 장치는, 반송 방향으로 연장되고, 기판 부상면 상에 기판을 부상시키는 부상 스테이지부와, 상기 기판 부상면 상에 부상한 기판을 보지하는 기판 보지부를 구비하고, 상기 기판 부상면 상에 부상한 상태의 기판을 보지한 상태로 상기 기판 보지부가 상기 반송 방향을 따라 이동하는 것에 의하여, 기판이 기판 부상면 상에 부상한 상태로 반송되는 기판 부상 반송 장치에 있어서, 상기 부상 스테이지부와 상기 기판 보지부와의 사이에는, 기준 사이즈의 기판보다도 반송 방향과 직교하는 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판을 반송하는 경우에, 상기 기판 부상면으로부터 천폭 방향으로 비어져 나오는 상기 광폭 기판의 비어져 나옴 영역을 부상시키는 보조 부상 지지부를 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.In order to solve the above problems, a substrate floating apparatus of the present invention comprises: a floating stage unit that extends in a carrying direction and floats a substrate on a substrate floating surface; and a substrate holding unit that holds the substrate floating on the substrate floating surface And the substrate holding portion is moved in the carrying direction while holding the substrate in a floating state on the substrate floating surface so that the substrate is transported in a floating state on the substrate floating surface, Wherein when the wide substrate having a larger dimension in the width direction perpendicular to the transport direction than the substrate having the standard size is transported between the floating stage portion and the substrate holding portion, And an auxiliary lifting supporter for lifting a vacant region of the wide substrate to be lifted out .
상기 기판 부상 반송 장치에 의하면, 부상 스테이지부와 기판 보지부와의 사이에 보조 부상 지지부를 구비하고 있기 때문에, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있다. 즉, 광폭 기판 중, 부상 스테이지부보다도 천폭 방향으로 비어져 나오는 영역은, 보조 부상 지지부에 의한 부상 기구에 의하여, 부상 스테이지부 상에 위치하는 기판과 같은 부상 상태로 설정하는 것에 의하여, 천폭 방향에 걸쳐 부상 상태를 균일하게 할 수 있다. 따라서, 종래의 기판 부상 반송 장치에 비하여, 광폭 기판의 평면도를 고정도로 유지하여 기판 유효 영역에 도포 얼룩이 발생하는 문제를 억제할 수 있고, 광폭 기판을 위하여 새로운 기판 부상 반송 장치를 별도 준비하는 설비 코스트를 억제할 수 있다.According to the above-mentioned substrate floating type transfer apparatus, since the auxiliary floating support portion is provided between the floating stage portion and the substrate holding portion, it is possible to carry the substrate while maintaining a high degree of flatness even in a wide substrate having a large dimension in the direction of the width. That is, in the wide substrate, the region emerging in the direction of the width of the floating stage relative to the floating stage is set in a floating state such as a substrate located on the floating stage portion by the floating mechanism by the auxiliary floating support portion, So that the floating state can be made uniform. Therefore, compared with the conventional substrate floating apparatus, the problem that the coating unevenness occurs in the substrate effective region by maintaining the flatness of the wide substrate at a high level can be suppressed, and a facility cost for separately preparing a new substrate floating transfer apparatus for the wide substrate Can be suppressed.
또한, 상기 보조 부상 지지부는, 그 부상 기구가 상기 부상 스테이지부와 같은 부상 기구를 가지고 있는 구성이 바람직하다.It is preferable that the above-mentioned auxiliary lifting support portion has a lifting mechanism such as the lifting stage portion.
이 구성에 의하면, 보조 부상 지지부는, 부상 스테이지부와 같은 부상 기구(예를 들어, 에어 부상, 초음파 부상 등)를 가지고 있기 때문에, 보조 부상 지지부에 있어서의 부상 상태를 부상 스테이지부에 있어서의 부상 상태와 같은 상태로 할 수 있고, 광폭 기판의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다.According to this configuration, since the auxiliary lifting support portion has a lifting mechanism (for example, air lifting, ultrasonic lifting, etc.) such as the lifting stage portion, the lifted state of the auxiliary lifting support portion is lifted by the lifting State, and the floating state of the wide substrate can be made uniform over the width direction.
예를 들어, 상기 보조 부상 지지부는, 상기 부상 스테이지부에 착탈(着脫) 가능하게 설치되어 있고, 상기 광폭 기판이 반송되는 경우에 상기 부상 스테이지부에 장착되고, 상기 광폭 기판은 상기 부상 스테이지부 및 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여 부상되는 구성으로 하여도 무방하다.For example, the auxiliary lifting supporter is attached to the lifting stage unit so as to be attachable to and detachable from the lifting stage unit. When the wide substrate is transported, the auxiliary lifting support unit is mounted to the lifting stage unit, And the lifting mechanism of the auxiliary lifting support portion.
이 구성에 의하면, 광폭 기판을 반송하는 경우에만, 보조 부상 지지부를 부상 스테이지부에 장착하면 되기 때문에, 간단한 구성으로 보조 부상 지지부를 설치할 수 있다.According to this structure, only when the wide substrate is transported, the auxiliary floating support portion can be mounted on the floating stage portion, so that the auxiliary floating support portion can be provided with a simple structure.
또한, 상기 기판 보지부는, 상기 부상 스테이지부에 대하여 천폭 방향으로 위치 조절 가능하게 형성되어 있고, 상기 보조 부상 지지부가 떼어내져 있는 경우에는, 상기 부상 스테이지부에 근접하는 위치에 배치되고, 상기 부상 스테이지부에 상기 보조 부상 지지부가 장착된 경우에는, 상기 부상 스테이지부로부터 떨어진 위치에 배치되는 구성으로 하여도 무방하다.The substrate holding portion is formed so as to be positionally adjustable in the direction of the width direction with respect to the floating stage portion. When the auxiliary floating support portion is detached, the substrate holding portion is disposed at a position close to the floating stage portion, And the auxiliary lifting support portion is disposed at a position away from the lifting stage portion.
이 구성에 의하면, 보조 부상 지지부의 유무에 관계없이, 기판 보지부와 부상 스테이지부(보조 부상 지지부가 장착되어 있는 경우에는 보조 부상 지지부)에서 형성되는 간극(間隙)을 필요 최소한으로 할 수 있기 때문에, 그 간극이 기판의 평면도에 영향을 미치는 것을 극력 억제할 수 있다.According to this configuration, the gap formed in the substrate holding portion and the flotation stage portion (the auxiliary flotation support portion when the auxiliary flotation support portion is mounted) can be minimized irrespective of the presence or absence of the auxiliary flotation support portion , It is possible to minimize the influence of the gap on the flatness of the substrate.
또한, 상기 보조 부상 지지부는, 상기 기판 보지부에 설치되어 있고, 상기 보조 부상 지지부에 설치된 흡착부에 의하여 기준 사이즈의 기판을 흡착하여 보지하고, 상기 기판 보지부의 흡착부에 의하여 광폭 기판이 흡착되어 보지되는 구성으로 하여도 무방하다.The auxiliary lifting supporter is provided on the substrate holding portion and sucks and holds the substrate of the reference size by the sucking portion provided on the auxiliary lifting supporter and the wide substrate is adsorbed by the adsorbing portion of the substrate holding portion It is also possible to adopt a constitution in which it is held.
이 구성에 의하면, 기준 사이즈의 기판, 광폭 기판, 어느 한 쪽을 반송하는 경우여도, 장치 구성을 재조합할 일이 없이, 절차 작업을 간략화할 수 있다.According to this configuration, even when a substrate of a standard size or a wide substrate is transported, the procedure work can be simplified without re-assembling the apparatus configuration.
또한, 상기 기판 보지부의 흡착부는, 상기 보조 부상 지지부의 흡착부보다도 높이 위치가 높게 설정되어 있고, 상기 기판 보지부의 흡착부에 의하여 광폭 기판이 보지된 상태에서는, 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여, 상기 부상 스테이지부에 있어서의 부상 상태와 같은 부상 상태로 유지되는 구성으로 하여도 무방하다.The suction portion of the substrate holding portion is set to be higher in height than the suction portion of the auxiliary flotation support portion, and when the wide substrate is held by the suction portion of the substrate holding portion, , It is also possible to adopt a constitution in which it is held in a floating state such as a floating state in the floating stage portion.
이 구성에 의하면, 광폭 기판을 보지하는 경우에 있어서, 부상 스테이지부 및 보조 부상 지지부 중 어느 하나에 있어서도 부상 상태가 같은 상태로 유지되기 때문에, 천폭 방향에 걸쳐 광폭 기판의 평면도를 고정도로 유지할 수 있다.According to this configuration, in the case of holding the wide substrate, the floating state is maintained in the same state in either the floating stage portion or the auxiliary floating support portion, so that the flatness of the wide substrate can be maintained to a high degree .
본 발명의 기판 부상 반송 장치에 의하면, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있다.According to the substrate floating apparatus of the present invention, it is possible to carry the substrate while maintaining a high degree of flatness even on a wide substrate having a large dimension in the direction of the width.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치를 도시하는 사시도이다.
도 2는 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치의 정면도이다.
도 3은 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치에 있어서 기판을 보지한 상태를 도시하는 확대도이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면, (b)는 광폭 기판을 보지하기 위하여 부상 스테이지부에 보조 부상 지지부를 장착한 상태를 도시하는 도면이다.
도 4는 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치의 기판 보지부를 도시하는 도면이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면, (b)는 보조 부상 지지부를 장착한 경우에 광폭 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이다.
도 5는 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치의 기판 보지부의 흡착 패드를 도시하는 도면이고, (a)는 흡착하기 전의 상태를 도시하는 도면이고, (b)는 흡착한 상태를 도시하는 도면이다.
도 6은 다른 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치의 기판 보지부를 도시하는 도면이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이고, (b)는 광폭 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이다.
도 7은 종래의 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치를 도시하는 사시도이다.
도 8은 종래의 기판 부상 반송 장치에 있어서 기판의 보지 상태를 도시하는 도면이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이고, (b)는 광폭 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a perspective view showing a coating apparatus combined with a substrate floating apparatus according to an embodiment of the present invention; Fig.
2 is a front view of a coating apparatus combined with a substrate floating apparatus in the above embodiment.
FIG. 3 is an enlarged view showing a state in which a substrate is held in a substrate floating device in the above embodiment. FIG. 3 (a) is a view showing a state in which a standard substrate is held, And the auxiliary lifting support portion is mounted on the lifting stage portion in order to hold it.
Fig. 4 is a view showing a substrate holding portion of the substrate floating device in the above embodiment, Fig. 4 (a) is a view showing a state in which a standard substrate is held, Fig. 4 Fig. 8 is a diagram showing a state in which a wide substrate is held.
Fig. 5 is a view showing the adsorption pad of the substrate holding portion of the substrate floating device in the above embodiment, Fig. 5 (a) showing the state before adsorption, and Fig. 5 FIG.
FIG. 6 is a view showing a substrate holding portion of the substrate floating device in another embodiment. FIG. 6 (a) is a view showing a state in which a standard substrate is held, FIG.
7 is a perspective view showing a coating apparatus combined with a conventional substrate floating apparatus.
8A is a view showing a state in which a standard substrate is held, FIG. 8B is a view showing a state in which a wide substrate is held, FIG. 8A is a view showing a state in which a standard substrate is held, FIG.
본 발명의 기판 부상 반송 장치에 관련되는 실시예에 관하여 도면을 이용하여 설명한다.An embodiment related to the substrate floating apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.
도 1은, 본 발명의 기판 부상 반송 장치(1)와 조합되는 도포 장치(2)를 개략적으로 도시하는 사시도이고, 도 2는, 도 1에 있어서의 기판 부상 반송 장치(1)와 조합되는 도포 장치(2)의 정면도이다.Fig. 1 is a perspective view schematically showing a
도 1, 도 2에 있어서, 기판(W)을 반송시키는 기판 부상 반송 장치(1)는, 반송되는 기판(W)에 도포막을 형성하는 도포 장치(2)의 도포 유닛(21)과 조합되어 있고, 일련의 기판 처리 장치를 형성하고 있다. 이 기판 부상 반송 장치(1)는, 일 방향으로 연장되는 부상 스테이지부(10)를 가지고 있고, 이 부상 스테이지부(10)가 연장되는 방향을 따라 기판(W)이 반송된다. 도 1의 예에서는, 부상 스테이지부(10)는, X축 방향으로 연장되어 형성되어 있고, 기판(W)이 X축 방향으로 상류 측(전(前) 공정 측)으로부터 하류 측(후(後) 공정 측)으로 반송되도록 되어 있다. 그리고, 도포 유닛(21)으로부터 도포액을 토출(吐出)하는 것에 의하여, 기판(W) 상에 도포막이 형성된다. 구체적으로는, 기판(W)이 부상 스테이지부(10)에 부상된 상태로 X축 방향으로 반송되면서, 도포 유닛(21)으로부터 도포액이 토출되는 것에 의하여, 기판(W) 상에 균일 두께의 도포막이 형성되도록 되어 있다. 덧붙여, 이하의 설명에서는, 기판(W)이 반송되는 방향을 X축 방향으로 하고, X축 방향이 반송 방향에 상당한다. 또한, X축 방향(반송 방향)과 수평면 상에서 직교하는 방향을 Y축 방향으로 하고, 특히 Y축 방향을 천폭 방향이라고도 한다. 그리고, X축 방향 및 Y축 방향의 쌍방에 직교하는 방향을 Z축 방향으로 하여 설명을 해 나가는 것으로 한다.1 and 2, a substrate floating apparatus 1 for carrying a substrate W is combined with a
도포 유닛(21)은, 기판(W)에 도포액을 도포하는 것이고, 프레임부(22)와 구금부(口金部)(23)를 가지고 있다. 프레임부(22)는, 부상 스테이지부(10)의 Y축 방향 양측(兩側)에 각각 배치되는 지주(支柱)(22a)를 가지고 있고, 이 지주(22a)에 구금부(23)가 설치되어 있다. 구체적으로는, 지주(22a)는, Y축 방향(천폭 방향) 양측에 고정되어 설치되어 있고, 후술하는 기판 보지부(30)의 주행을 방해하는 일이 없도록, 기판 보지부(30)의 주행 경로보다도 외측(外側)에 배치되어 있다. 그리고, 이러한 지주(22a)에 구금부(23)가 걸쳐져 설치되어 있고, 구금부(23)가 부상 스테이지부(10)를 가로지르는 상태로 장착되어 있다. 또한, 지주(22a)에는 승강 기구가 설치되어 있고, 승강 기구를 작동시키는 것에 의하여 구금부(23)가 Z축 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 즉, 승강 기구에 의하여 구금부(23)가 부상 스테이지부(10)에 대하여 접리(接離) 동작할 수 있도록 되어 있다.The
구금부(23)는, 도포액을 토출하는 것이고, 일 방향으로 연장되어 형성되어 있다. 이 구금부(23)는, 일 방향으로 연장되는 슬릿 노즐(23a)(도 2 참조)이 형성되어 있고, 구금부(23) 내에 저류(貯留)된 도포액을 슬릿 노즐(23a)로부터 토출할 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 슬릿 노즐(23a)은, 부상 스테이지부(10)와 대향하는 면에 형성되어 있고, 구금부(23)는 슬릿 노즐(23a)이 천폭 방향으로 연장되는 상태로 설치되어 있다. 그리고, 반송되는 기판(W)에 대하여 구금부(23)를 승강시켜 기판(W)과 슬릿 노즐(23a)과의 거리를 소정의 거리에 맞춘 상태에서, 슬릿 노즐(23a)로부터 도포액을 토출하는 것에 의하여, 천폭 방향으로 일양(一樣)한 도포막이 반송 방향으로 연속적으로 형성되도록 되어 있다.The holding
또한, 기판 부상 반송 장치(1)는, 기판(W)을 부상시키면서 특정 방향으로 반송시키는 것이다. 기판 부상 반송 장치(1)는, 기판(W)을 부상시키는 부상 스테이지부(10)와, 부상 스테이지부(10)에 부상시킨 기판(W)을 보지하고 반송시키는 기판 반송 유닛(3)을 가지고 있다.The substrate floating carrier device 1 transports the substrate W in a specific direction while lifting up the substrate W. The substrate floating carrier apparatus 1 has a floating
부상 스테이지부(10)는, 기판(W)을 부상시키는 것이고, 본 실시예에서는 에어 부상 기구를 가지고 있다. 부상 스테이지부(10)는, 기대(基臺)(11) 상에 평판부(平板部)(12)가 설치되어 형성되어 있고, 복수 매(枚)의 평판부(12)가 X축 방향을 따라 배열되어 형성되어 있다. 즉, 평판부(12)는, 평활한 기판 부상면(12a)(도 3 참조)을 가지고 있고, 각각의 기판 부상면(12a)이 균일 높이가 되도록 배열되어 있다. 그리고, 기판 부상면(12a)에는, 반송시키는 기판(W)과의 사이에 공기층이 형성되는 것에 의하여 기판(W)을 소정 높이 위치로 부상시킬 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 평판부(12)에는, 기판 부상면(12a)에 개구(開口)하는 미소(微小)한 분출구(도시하지 않음)와 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 분출구와 컴프레서(compressor)가 배관으로 접속되고, 흡인구와 진공 펌프가 배관으로 접속되어 있다. 그리고, 분출구로부터 분출되는 에어와 흡인구에 발생하는 흡인력을 밸런스(balance)시키는 것에 의하여, 기판(W)이 기판 부상면(12a)으로부터 소정 높이로 수평의 자세로 부상시킬 수 있도록 되어 있다. 이것에 의하여, 기판(W)의 평면 자세(평면도라고 한다)를 고정도로 유지한 상태에서 반송할 수 있도록 되어 있다.The floating
또한, 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)는, 그 Y축 방향 치수가 기준 사이즈의 기판(W)(표준 기판(W))의 Y축 방향 치수보다도 작게 형성되어 있고, 기판 부상면(12a) 상에 기판(W)을 재치하면, 기판 부상면(12a)으로부터 기판(W)의 Y축 방향 단부가 비어져 나온 상태가 된다. 이 비어져 나온 부분(비어져 나옴 영역(T))을 후술의 기판 반송 유닛(3)으로 보지하는 것에 의하여, 기판(W)을 반송할 수 있도록 되어 있다. 이 평판부(12)의 Y축 방향 치수는, 비어져 나옴 영역(T)이 기판 보지부(30)에서 보지할 수 있는 필요 최소한의 치수로 되도록 설정되어 있다. 즉, 비어져 나옴 영역(T)의 비어져 나옴량은, 기판 보지부(30)에서 기판(W)의 비어져 나옴 영역(T)을 보지한 경우에, 기판 보지부(30)와 평판부(12)와의 사이에 서로 접촉하는 일이 없는 약간의 간극이 형성되는 정도로 설정되어 있다. 덧붙여, 기준 사이즈의 기판(W)이란, 기판 부상 반송 장치(1)를 설계할 때에 기준이 되는 크기의 기판(W)의 것을 말하고, 후술의 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판(W)에 대하여 표준 기판(W)으로 부르는 것으로 한다.The
또한, 평판부(12)는, 보조 부상 지지부(4)를 장착할 수 있도록 되어 있다. 이 보조 부상 지지부(4)는, 표준 기판(W)에 대하여 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판(W)을 반송시키는 경우에, 광폭 기판(W)의 자세를 천폭 방향에 걸쳐 수평으로 유지시키는 것이다.Further, the
본 실시예의 보조 부상 지지부(4)는, 보조 블록(40)이고, 광폭 기판(W)을 반송시키는 경우에, 평판부(12)의 Y축 방향(천폭 방향) 측면에 장착하여 고정되도록 되어 있다. 구체적으로는, 보조 블록(40)은, 직방체 형상을 가지고 있고, 반송 방향 치수는 평판부(12)와 같은 치수로 형성되고, 천폭 방향 치수는, 광폭 기판(W)이 기판 부상면(12a)에 재치된 경우에, 광폭 기판(W)의 Y축 방향 단부가 천폭 방향으로 비어져 나온 상태가 되는 치수로 형성되어 있다. 즉, 비어져 나옴량은, 표준 기판(W)과 마찬가지로, 기판 보지부(30)에서 기판(W)을 보지한 경우에, 기판 보지부(30)가 보조 블록(40)에 접촉하지 않고 주행하는데 최저한 필요로 하는 치수, 즉, 기판 보지부(30)와 보조 블록(40)과의 사이에 서로 접촉하는 일이 없는 약간의 간극이 형성되는 치수로 설정되어 있다. 또한, 보조 블록(40)이 장착된 상태에서는, 보조 블록(40)의 상면(上面)이 평판부(12)의 기판 부상면(12a)과 같은 높이로 되도록 설정되어 있다. 이것에 의하여, 평판부(12)와 보조 블록(40)에 의하여 한층 큰 평탄하고 일양한 기판 부상면(12a)이 형성되도록 되어 있다.The
또한, 보조 블록(40)(보조 부상 지지부(4))은, 부상 스테이지부(10)와 같은 부상 기구(본 실시예에서는 에어 부상 기구)를 가지고 있다. 구체적으로는, 보조 블록(40)의 기판 부상면(12a)을 형성하는 면에는, 평판부(12)와 마찬가지로, 분출구(도시하지 않음)와 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 평판부(12)의 분출구 및 흡인구와 같은 태양(態樣)으로 형성되어 있다. 즉, 평판부(12)의 분출구 및 흡인구와 같은 비율, 같은 위치 관계를 가지도록 형성되어 있고, 평판부(12)에 있어서의 기판(W)의 부상 상태와, 보조 블록(40)에 있어서의 기판(W)의 부상 상태를 같은 상태로 할 수 있도록 되어 있다. 따라서, 보조 블록(40)이 장착된 상태에서는, 광폭 기판(W)에서도, 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 부상시킬 수 있고, 기판(W)의 평면도를 고정도로 유지한 상태에서 부상시킬 수 있다.The auxiliary block 40 (auxiliary lifting support portion 4) has a lifting mechanism (an air lifting mechanism in this embodiment) such as the lifting
또한, 기판 반송 유닛(3)은, 부상 상태의 기판(W)을 반송시키는 것이고, 기판(W)을 보지하는 기판 보지부(30)와, 기판 보지부(30)를 주행시키는 반송 구동부(31)를 가지고 있다.The
반송 구동부(31)는, 기판 보지부(30)를 반송 방향으로 이동시키도록 구성되어 있고, 부상 스테이지부(10)를 따라 반송 방향으로 연장되는 반송 레일부(31a)와, 이 반송 레일부(31a) 상을 주행하는 반송 본체부(31b)로 형성되어 있다. 구체적으로는, 반송 방향으로 연장되도록 설치된 기대(11)가 부상 스테이지부(10)의 천폭 방향 양측에 배치되어 있고, 각각의 기대(11) 상에 반송 레일부(31a)가 설치되어 있다. 즉, 반송 레일부(31a)가 부상 스테이지부(10)를 따라 중단되는 일 없이 연속하여 설치되어 있다. 또한, 반송 본체부(31b)는, 오목 형상으로 형성된 판상(板狀) 부재이고, 도 4(a)에 도시하는 바와 같이, 반송 레일부(31a)의 상면을 덮도록 설치되어 있다. 구체적으로는, 반송 본체부(31b)는, 에어 패드(32)를 통하여 반송 레일부(31a)에 덮도록 설치되어 있고, 도시하지 않는 리니어(linear) 모터를 구동시키는 것에 의하여, 반송 본체부(31b)가 반송 레일부(31a) 상을 주행하도록 되어 있다. 즉, 리니어 모터를 구동 제어하는 것에 의하여, 반송 본체부(31b)가 반송 레일부(31a) 상을 접촉하는 일 없이 주행하고, 적절한 위치에서 정지할 수 있도록 되어 있다.The
또한, 기판 보지부(30)는, 기판(W)을 보지하는 것이고, 반송 본체부(31b)에 장착되어 있다. 구체적으로는, 도 4(a)에 도시하는 바와 같이, 기판 보지부(30)는, 거의 직방체의 블록상(狀)으로 형성되어 있고, 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 통하여 장착되어 있다. 또한, 기판 보지부(30)는, 그 상면(흡착면(33))이 부상시킨 기판(W)의 하면(下面)의 높이 위치와 면 위치가 되도록 설정되어 있다. 그리고, 도 5에 도시하는 바와 같이, 흡착면(33)에는, 개구부(34)가 형성되어 있고, 그 개구부(34) 내에 탄성 변형 가능한 주름 호스 형상의 흡착 패드(35)가 매설되어 있다. 이 흡착 패드(35)는, 흡인력을 발생시켜 기판(W)을 흡착 보지하는 것이고, 통상 상태(기판(W)이 없는 상태)에서는, 그 선단(先端)이 개구부(34)로부터 약간 돌출한 상태에서 대기하도록 설정되어 있다(도 5(a) 참조). 그리고, 기판 부상면(12a)에 기판(W)이 재치되면 기판 부상면(12a)으로부터 천폭 방향으로 비어져 나온 부분이 흡착 패드(35)에 당접(當接)한다. 이 상태에서 흡착 패드(35)에 흡인력을 발생시키면, 기판(W)의 하면이 흡착 패드(35)로 흡인되면서, 그 흡인 상태를 유지한 채로, 흡착 패드(35) 자체가 개구부(34) 내에 수축하여 기판(W)의 하면이 흡착면(33)에 당접하고 기판(W)이 보지되도록 되어 있다(도 5(b) 참조). 이것에 의하여, 부상 스테이지부(10)에서 부상된 기판(W)이, 천폭 방향에 걸쳐 같은 부상 높이 위치를 유지한 상태로 보지된다.The
또한, 기판 보지부(30)는, 위치 조절 기구를 가지고 있다. 즉, 기판 보지부(30)는, 반송 본체부(31b)에 리니어 가이드(36)를 통하여 설치되어 있고, 천폭 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 반송 본체부(31b)에는, 천폭 방향으로 이동 가능한 리니어 가이드(36)가 장착되어 있고, 이 리니어 가이드(36)에 기판 보지부(30)가 장착되어 있다. 그리고, 리니어 가이드(36)를 구동 제어하는 것에 의하여 기판 보지부(30)가 천폭 방향으로 이동하고, 적절한 위치에서 정지할 수 있도록 되어 있다.Further, the
본 실시예에서는, 표준 기판(W)을 반송시키는 경우에는, 기판 보지부(30)가 부상 스테이지부(10)에 근접하는 위치로 이동하고 고정된다(도 4(a) 참조). 즉, 기판 보지부(30)와 부상 스테이지부(10)와의 사이에, 기판 보지부(30)가 반송 방향으로 주행하여도 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 가지도록, 기판 보지부(30)가 부상 스테이지부(10)에 극력 접근하는 위치에 고정된다. 이것에 의하여, 기판(W)에 부상 기구가 작용하지 않는 영역을 극력 적게 할 수 있고, 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다.In this embodiment, when the standard substrate W is to be transported, the
또한, 광폭 기판(W)을 반송시키는 경우에는, 보조 블록(40)이 존재하는 분만큼 천폭 방향 외측으로 이동하고, 기판 보지부(30)가 보조 블록(40)에 근접한 위치에 고정된다(도 4(b) 참조). 이 경우에 있어서도, 기판 보지부(30)와 보조 블록(40)과의 사이에, 기판 보지부(30)가 반송 방향으로 주행하여도 보조 블록(40)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 가지도록 고정되고, 기판(W)에 부상 기구가 작용하지 않는 영역을 극력 적게 하여, 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있도록 되어 있다.When the wide substrate W is to be transported, the
이와 같이, 본 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치(1)에서는, 부상 스테이지부(10)와 기판 보지부(30)와의 사이에 보조 부상 지지부(4)(보조 블록(40))를 구비하고 있기 때문에, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판(W)에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있다. 즉, 광폭 기판(W) 중, 부상 스테이지부(10)보다도 천폭 방향으로 비어져 나오는 영역은, 보조 부상 지지부(4)에 의한 부상 기구에 의하여, 부상 스테이지부(10) 상에 위치하는 기판(W)과 같은 부상 상태로 설정하는 것에 의하여, 천폭 방향에 걸쳐 부상 상태를 균일하게 할 수 있다. 따라서, 종래의 기판 부상 반송 장치(1)에 비하여, 광폭 기판(W)의 평면도를 고정도로 유지하여 기판(W) 유효 영역에 도포 얼룩이 발생하는 문제를 억제할 수 있고, 광폭 기판(W)을 위하여 새로운 기판 부상 반송 장치(1)를 별도 준비하는 설비 코스트를 억제할 수 있다.As described above, in the substrate floating system 1 according to the present embodiment, the auxiliary floating support 4 (auxiliary block 40) is provided between the floating
또한, 보조 블록(40)에는, 부상 스테이지부(10)와 같은 에어 부상 기구를 사용하고 있기 때문에, 보조 블록(40)에 있어서의 부상 상태를 부상 스테이지부(10)에 있어서의 부상 상태와 같은 상태로 할 수 있기 때문에, 광폭 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다.Since the
또한, 상기 실시예에서는, 보조 부상 지지부(4)가 부상 스테이지부(10)에 장착되는 보조 블록(40)인 경우에 관하여 설명하였지만, 보조 부상 지지부(4)가 기판 보지부(30)에 설치되는 것이어도 무방하다. 도 6에 도시하는 예에서는, 기판 보지부(30)의 흡착면(33a)이 보조 부상 지지부(4)의 일부를 이루도록 구성되어 있다. 즉, 기판 보지부(30)에는, 흡착 블록(37)이 설치되고, 천폭 방향 내측(內側)에 보조 부상 지지부(4)가 형성되고, 천폭 방향 외측에 기판 보지부(30)가 형성되고, 이것들이 일체적으로 구성되어 있다. 구체적으로는, 기판 보지부(30)의 흡착면(33a)이, 천폭 방향 외측에 위치하고, 보조 부상 지지부(4)의 흡착면(33b)보다도 일단(一段) 높은 위치에 형성되어 있다. 그리고, 각각의 흡착면(33)(흡착면(33a) 및 흡착면(33b))에는, 개구부(34)가 형성되어 있고, 그 개구부(34)에 상술한 흡착 패드(35)가 매설되고, 기판(W)을 흡착하여 보지할 수 있도록 되어 있다. 즉, 흡착 블록(37)에 있어서의 보조 부상 지지부(4)는, 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 근접하는 위치에 배치되어 있고, 부상 스테이지부(10)에 표준 기판(W)이 재치되면 기판 부상면(12a)으로부터 비어져 나온 비어져 나옴 영역(T)을 흡착 패드(35)로 흡착할 수 있도록 되어 있다(도 6(a)). 즉, 흡착 블록(37)의 보조 부상 지지부(4)는, 상기 실시예와 마찬가지로, 기판 보지부(30)가 반송 방향으로 주행하여도 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 가지도록 배치되고, 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 부상시키고, 기판(W)의 평면도를 고정도로 유지한 상태에서 부상시킬 수 있다.In the above embodiment, the case where the
또한, 기판 보지부(30)에 있어서의 흡착 패드(35)는, 부상 스테이지부(10)에 재치된 광폭 기판(W)의 비어져 나옴 영역(T)을 흡착할 수 있는 위치에 배치되어 있다. 또한, 보조 부상 지지부(4)의 흡착면(33b)에는, 분출구(도시하지 않음)와 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 평판부(12)의 분출구 및 흡인구와 같은 태양으로 형성되어 있다. 즉, 부상 스테이지부(10)에 광폭 기판(W)이 재치되면, 부상 스테이지부(10)로부터 비어져 나오는 부분은, 흡착 블록(37)의 보조 부상 지지부(4)에 설치된 부상 기구에 의하여 부상된다. 또한, 흡착면(33b)과 기판 부상면(12a)의 높이 위치는 공통의 높이로 설정되어 있다. 이것에 의하여, 광폭 기판(W)의 비어져 나옴 영역(T)은, 부상 스테이지부(10)에 설치된 부상 기구와 같은 구성의 부상 기구로 부상시킬 수 있기 때문에, 기판 보지부(30)가 부상 스테이지부(10)로부터 천폭 방향 외측으로 떨어진 위치에 배치되어 있어도, 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다. 그리고, 본 실시예에서는, 상기 실시예와 같이, 표준 기판(W)과 광폭 기판(W)을 반송할 때에, 보조 블록(40)을 갈아 끼울 필요가 없기 때문에, 상기 실시예에 비하여, 절차 작업을 간략화할 수 있다.The
또한, 상기 실시예에서는, 부상 스테이지부(10)의 부상 기구로서 에어 부상 기구를 사용하는 예에 관하여 설명하였지만, 초음파 부상 등, 다른 부상 기구를 이용하는 것이어도 무방하다.In the above embodiment, an example of using the air lifting mechanism as the lifting mechanism of the lifting
또한, 상기 실시예에서는, 보조 부상 지지부(4)에 있어서, 부상 스테이지부(10)와 같은 부상 기구를 이용하는 예에 관하여 설명하였지만, 다른 부상 기구를 이용하는 것이어도 무방하다. 예를 들어, 부상 스테이지부(10)에 초음파 부상 기구를 사용하고, 보조 부상 지지부(4)에 있어서 에어 부상 기구를 사용하여도 무방하다. 어느 부상 기구를 사용하여도, 부상 스테이지부(10) 및 보조 부상 지지부(4)에서의 부상 높이를 공통으로 하여 천폭 방향에 걸쳐 균일한 부상 상태를 형성할 수 있으면 된다.Further, in the above embodiment, the example in which the lifting mechanism such as the lifting
또한, 상기 실시예에서는, 기판 부상 반송 장치(1)를 도포 장치(2)에 조합하는 예에 관하여 설명하였지만, 기판 부상 반송 장치(1)를 건조 장치에 조합하여도 무방하고, 다양한 기판 처리 장치에 조합하여 사용할 수 있다.In the above-described embodiment, an example in which the substrate floating carrier device 1 is combined with the
1: 기판 부상 반송 장치
2: 도포 장치
3: 기판 반송 유닛
4: 보조 부상 지지부
10: 부상 스테이지부
12: 평판부
12a: 기판 부상면
30: 기판 보지부
33: 흡착면
37: 흡착 블록
40: 보조 블록1: Substrate floating carrier
2: dispensing device
3: substrate transfer unit
4: Auxiliary floating support
10: Floating stage part
12:
12a: substrate floating surface
30: substrate holding portion
33: adsorption face
37: Adsorption block
40: auxiliary block
Claims (6)
상기 기판 부상면 상에 부상한 기판을 보지(保持)하는 기판 보지부
를 구비하고, 상기 기판 부상면 상에 부상한 상태의 기판을 보지한 상태로 상기 기판 보지부가 상기 반송 방향을 따라 이동하는 것에 의하여, 기판이 기판 부상면 상에 부상한 상태로 반송되는 기판 부상 반송 장치에 있어서,
상기 부상 스테이지부와 상기 기판 보지부와의 사이에는, 기준 사이즈의 기판보다도 반송 방향과 직교하는 천폭(川幅) 방향 치수가 큰 광폭 기판을 반송하는 경우에, 상기 기판 부상면으로부터 천폭 방향으로 비어져 나오는 상기 광폭 기판의 비어져 나옴 영역을 부상시키는 보조 부상 지지부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.A floating stage portion which extends in a carrying direction and floats the substrate on a substrate floating surface;
A substrate holding unit for holding (holding) the floating substrate on the substrate floating surface,
Wherein the substrate holding portion is moved along the carrying direction while holding the substrate floating on the substrate floating surface so that the substrate is lifted up on the substrate floating surface, In the apparatus,
When a wide substrate having a large dimension in a width direction perpendicular to the transport direction is transported from the substrate of the reference size to the floating position portion between the floating stage portion and the substrate holding portion, And an auxiliary lifting support for lifting a vacant region of the wide substrate to be lifted.
상기 보조 부상 지지부는, 그 부상 기구가 상기 부상 스테이지부와 같은 부상 기구를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.The method according to claim 1,
Wherein the auxiliary lifting support portion has a lifting mechanism such as the lifting stage portion.
상기 보조 부상 지지부는, 상기 부상 스테이지부에 착탈(着脫) 가능하게 설치되어 있고, 상기 광폭 기판이 반송되는 경우에 상기 부상 스테이지부에 장착되고, 상기 광폭 기판은 상기 부상 스테이지부 및 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여 부상되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the auxiliary lifting supporter is attached to the lifting stage part so as to be attachable and detachable and is mounted to the lifting stage part when the wide substrate is transported, the wide substrate is supported by the lifting stage part and the auxiliary lifting stage part, And is lifted by the lifting mechanism of the supporting portion.
상기 기판 보지부는, 상기 부상 스테이지부에 대하여 천폭 방향으로 위치 조절 가능하게 형성되어 있고, 상기 보조 부상 지지부가 떼어내져 있는 경우에는, 상기 부상 스테이지부에 근접하는 위치에 배치되고, 상기 부상 스테이지부에 상기 보조 부상 지지부가 장착된 경우에는, 상기 부상 스테이지부로부터 떨어진 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.The method of claim 3,
The substrate holding portion is formed so as to be positionally adjustable in the direction of the width of the float stage with respect to the float stage portion and is disposed at a position close to the float stage portion when the auxiliary float supporter is detached, And when the auxiliary flotation support portion is mounted, the flotation stage is disposed at a position away from the flotation stage portion.
상기 보조 부상 지지부는, 상기 기판 보지부에 설치되어 있고, 상기 보조 부상 지지부에 설치된 흡착부에 의하여 기준 사이즈의 기판을 흡착하여 보지하고, 상기 기판 보지부의 흡착부에 의하여 광폭 기판이 흡착되어 보지되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
The auxiliary lifting supporter is provided on the substrate holding portion and sucks and holds the substrate of the reference size by the sucking portion provided on the auxiliary lifting supporter and the wide substrate is attracted and held by the attracting portion of the substrate holding portion And the substrate is lifted up.
상기 기판 보지부의 흡착부는, 상기 보조 부상 지지부의 흡착부보다도 높이 위치가 높게 설정되어 있고, 상기 기판 보지부의 흡착부에 의하여 광폭 기판이 보지된 상태에서는, 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여, 상기 부상 스테이지부에 있어서의 부상 상태와 같은 부상 상태로 유지되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the suction portion of the substrate holding portion is set to be higher in height than the suction portion of the auxiliary flotation support portion and in a state where the wide substrate is held by the suction portion of the substrate holding portion, And is held in a floating state such as a floating state in the floating stage portion.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2015-153105 | 2015-08-03 | ||
JP2015153105A JP6605871B2 (en) | 2015-08-03 | 2015-08-03 | Substrate floating transfer device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170016276A true KR20170016276A (en) | 2017-02-13 |
KR102605684B1 KR102605684B1 (en) | 2023-11-24 |
Family
ID=57987307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160087888A KR102605684B1 (en) | 2015-08-03 | 2016-07-12 | Substrate levitation and transportation device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6605871B2 (en) |
KR (1) | KR102605684B1 (en) |
CN (1) | CN106684014B (en) |
TW (1) | TWI675788B (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200070191A (en) * | 2020-06-10 | 2020-06-17 | 세메스 주식회사 | Floating type Substrate Transferring Apparatus |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108045983A (en) * | 2017-12-15 | 2018-05-18 | 天津市展特装饰工程有限公司 | Plate conveying device |
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JP2021150351A (en) * | 2020-03-17 | 2021-09-27 | 東レエンジニアリング株式会社 | Substrate floating transport device |
JP7470749B2 (en) * | 2022-08-24 | 2024-04-18 | 株式会社Screenホールディングス | Coating Equipment |
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-
2015
- 2015-08-03 JP JP2015153105A patent/JP6605871B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-06-22 TW TW105119622A patent/TWI675788B/en not_active IP Right Cessation
- 2016-07-12 KR KR1020160087888A patent/KR102605684B1/en active IP Right Grant
- 2016-07-21 CN CN201610579895.8A patent/CN106684014B/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106684014B (en) | 2022-01-04 |
TWI675788B (en) | 2019-11-01 |
JP2017034104A (en) | 2017-02-09 |
CN106684014A (en) | 2017-05-17 |
TW201708087A (en) | 2017-03-01 |
KR102605684B1 (en) | 2023-11-24 |
JP6605871B2 (en) | 2019-11-13 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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