KR20170016276A - Substrate levitation and transportation device - Google Patents

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KR20170016276A
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켄지 하마카와
다이스케 오쿠다
토시히로 모리
칸지 오카모토
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도레 엔지니아린구 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention provides a substrate suspending carrier apparatus, which can maintain a fixed flatness rate of a wide substrate and convey the wide substrate at the same time. The substrate suspending carrier apparatus includes: a suspending stage unit, which is extended in a conveying direction and suspends the substrate on a substrate suspending surface; and a substrate holding unit, which holds the substrate suspended on the substrate suspending surface. As the substrate holding unit moves in the conveying direction while holding the substrate suspended on the substrate suspending surface, the substrate is conveyed while being suspended on the substrate suspending surface. A secondary suspending support unit is configured between the suspending stage unit and the substrate holding unit to suspend the emptied area of a wide surface created by emptying the substrate suspending surface in the widthwise direction when conveying the wide substrate of which a size in the widthwise direction perpendicular to the conveying direction is greater than that of a conventionally sized substrate.

Description

기판 부상 반송 장치{SUBSTRATE LEVITATION AND TRANSPORTATION DEVICE}[0001] SUBSTRATE LEVITATION AND TRANSPORTATION DEVICE [0002]

본 발명은, 기판을 부상(浮上)시키면서 반송(搬送)하는 기판 부상 반송 장치에 관한 것이고, 특히, 기준 사이즈의 기판에 대하여 천폭(川幅) 방향 치수가 큰 기판에서도 평면도를 고정도(高精度)로 유지하면서 반송할 수 있는 기판 부상 반송 장치에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a substrate lifting device for lifting and lowering the flatness of a substrate having a large dimension in the direction of the width (width) To a substrate floating carrier device capable of transporting the substrate while maintaining the same.

액정 디스플레이나 플라스마 디스플레이(plasma display) 등의 플랫 패널 디스플레이(flat panel display)에는, 기판 상(上)에 레지스트액이 도포된 것(도포 기판이라고 칭한다)이 사용되고 있다. 이 도포 기판은, 기판을 반송하면서 도포 장치에 의하여 기판 상에 레지스트액이 균일하게 도포되는 것에 의하여 도포막이 형성된다. 그 후, 나아가 기판 반송 장치에 의하여 반송되고, 건조 장치 등에 의하여 도포막이 건조되는 것에 의하여 생산된다.In a flat panel display such as a liquid crystal display or a plasma display, a substrate coated with a resist solution (referred to as a coated substrate) is used. In this coating substrate, a resist film is uniformly coated on a substrate by a coating apparatus while the substrate is being transported, thereby forming a coating film. Thereafter, it is further conveyed by the substrate conveyance device, and is produced by drying the coating film by a drying device or the like.

최근의 기판 반송 장치에서는, 도포 기판의 이면(裏面)(도포면과 반대 측)의 손상을 회피하기 위하여, 에어(air) 부상이나 초음파 부상 등, 기판을 부상시키면서 기판을 반송시키는 기판 부상 반송 장치가 사용되고 있다. 이 기판 부상 반송 장치는, 도 7에 도시하는 바와 같이, 기판(W)을 부상시키는 부상 스테이지부(100)와, 부상한 상태의 기판(W)을 보지(保持)하는 기판 보지부(102)를 가지고 있고, 기판 보지부(102)를 반송 방향으로 이동시키는 것에 의하여 기판(W)이 부상 스테이지부(100) 상을 부상한 상태로 반송되도록 되어 있다.In a recent substrate transfer apparatus, a substrate floating transfer device for transferring a substrate while floating the substrate, such as an air floating or an ultrasonic floating, is provided to avoid damage to the back surface (opposite to the application surface) of the application substrate . 7, the substrate floating apparatus includes a floating stage 100 for floating a substrate W, a substrate holding unit 102 for holding a substrate W in a floating state, And the substrate W is moved in a floating state on the floating stage unit 100 by moving the substrate holding unit 102 in the carrying direction.

예를 들어, 에어 부상 반송의 경우에는, 도 8(a)에 도시하는 바와 같이, 부상 스테이지부(100)에 있어서의 기판(W)을 부상시키는 기판 부상면(浮上面)(101)에, 에어를 분출(噴出)시키는 분출구와 에어를 흡인하는 흡인구가 일정한 비율로 배치되어 있고, 기판 부상면(101)으로부터 소정의 높이 위치로 기판(W)을 부상시킬 수 있도록 에어의 분출력과 에어의 흡인력이 조정된다(도 8의 화살표는 에어의 흐름을 도시한다). 그리고, 기판(W)의 반송 방향과 직교하는 방향(이하, 천폭 방향이라고 한다)의 양(兩) 단부(端部)는, 기판 보지부(102)의 흡착부(102a)에서 흡착되는 것에 의하여 보지되고, 이 상태에서 기판 보지부(102)가 반송 방향으로 주행하는 것에 의하여 기판(W)이 반송 방향으로 반송된다. 즉, 부상 스테이지부(100)는, 기판(W)에 대하여 천폭 방향으로 작게 형성되어 있고, 부상 스테이지부(100)의 기판 부상면(101)에 기판(W)을 재치(載置)한 상태에서는, 천폭 방향 양 단부에 기판(W)을 흡착할 수 있는 정도의 흡착대(吸着代)(비어져 나옴 영역(T))를 가지는 정도로 형성되어 있다. 그리고, 기판 보지부(102)를 부상 스테이지부(100)에 근접시켜 설치하는 것으로 에어 부상이 작용하지 않는 영역을 극력(極力) 적게 하는 것에 의하여, 천폭 방향 양단에 걸쳐 기판(W)을 균일하게 부상시킬 수 있고, 기판(W)의 평면 자세(이하, 평면도라고 한다)를 고정도로 유지한 상태에서 반송할 수 있다. 이것으로부터, 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치(103)나 건조 장치에 있어서, 기판(W)의 자세의 영향에 의한 도포 얼룩이나 건조 얼룩을 억제할 수 있도록 되어 있다.For example, as shown in Fig. 8 (a), in the case of air-floating transfer, on the substrate floating surface (floating surface) 101 for floating the substrate W in the floating stage unit 100, And a suction port for sucking the air are arranged at a predetermined ratio and the minute power of the air and the air flow rate of the air to blow the substrate W from the substrate floating surface 101 to a predetermined height position (Arrows in Fig. 8 show the flow of air). Both end portions of a direction perpendicular to the conveying direction of the substrate W (hereinafter referred to as a width direction) are attracted by the attracting portion 102a of the substrate holding portion 102 And the substrate W is transported in the transport direction by the substrate holding portion 102 traveling in the transport direction in this state. That is, the floating stage unit 100 is formed small in the direction of the width of the substrate W with respect to the substrate W, and a state in which the substrate W is placed on the substrate floating surface 101 of the floating stage unit 100 Is formed on the both ends in the width direction so as to have an adsorption band (vacant region T) to such an extent that the substrate W can be adsorbed. By providing the substrate holding portion 102 close to the flotation stage portion 100 and minimizing the region where no air flotation acts as much as possible, the substrate W is uniformly spread So that the substrate W can be transported while maintaining a plane posture (hereinafter referred to as a plan view) of the substrate W to a high degree. This makes it possible to suppress coating unevenness and drying unevenness due to the influence of the posture of the substrate W in the coating apparatus 103 and the drying apparatus combined with the substrate floating apparatus.

일본국 공개특허공보 특개2013-115125호Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2013-115125

근년(近年)에는, 기판(W)의 다종다양화(多種多樣化)에 수반하여, 사이즈가 다른 도포 기판(W)이 요구되는 경우가 있다. 즉, 최종 제품의 기판 사이즈의 다양화에 의하여, 통상(通常)보다도 천폭 방향으로 치수가 큰 기판(W)(이하, 광폭 기판(W)이라고 한다)이 요구되는 경우가 있다. 그런데 상기의 기판 부상 반송 장치로 광폭 기판(W)을 반송하려고 하면, 도 8(b)에 도시하는 바와 같이, 도포해야 할 기판 유효 영역(α)이 부상 스테이지부(100)를 넘어 기판 보지부(102)에 걸쳐 버리는 것에 의하여, 기판(W)의 평면도를 유지할 수 없다고 하는 문제가 있었다. 즉, 기판 유효 영역(α)이 기판 보지부(102)에 걸치면, 부상 스테이지부(100)와 기판 보지부(102)에서 기판 유효 영역(α) 내에 부상 상태가 다르기 때문에, 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치(103)나 건조 장치에 있어서, 기판(W)의 자세 변화에 의한 도포 얼룩이나 건조 얼룩이 발생한다고 하는 문제가 있었다.In recent years, there has been a case where a coated substrate W having a different size is required in accordance with the diversification of the substrate W in many kinds. That is, the substrate W having a large dimension in the direction of the width of the substrate (hereinafter referred to as a wide substrate W) may be required due to diversification of the substrate size of the final product. As shown in Fig. 8 (b), when the wide substrate W is to be carried by the above-described substrate floating apparatus, the substrate effective area [alpha] to be coated is moved beyond the floating stage unit 100, There is a problem in that the flatness of the substrate W can not be maintained. That is, when the substrate effective area? Extends over the substrate holding portion 102, the floating state is different in the substrate effective region? In the floating stage portion 100 and the substrate holding portion 102, There has been a problem that coating unevenness and drying unevenness due to a change in the posture of the substrate W occur in the coating apparatus 103 and the drying apparatus to be combined.

이와 같은 경우에는, 천폭 방향으로 약간이라도 치수가 큰 광폭 기판(W)은, 상기 기판 부상 반송 장치에서는 반송하지 못하고, 광폭 기판(W)을 반송시키기 위하여 새로운 기판 부상 반송 장치를 별도 준비할 필요가 있다고 하는 문제가 있었다.In such a case, it is necessary to separately prepare a new substrate floating transport device for transporting the wide substrate W without transporting the wide substrate W having a slight size in the direction of the width direction by the substrate floating transport device There was a problem that said.

본 발명은, 상기의 문제점에 감안하여 이루어진 것이고, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있는 기판 부상 반송 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a substrate floating apparatus capable of carrying a substrate while maintaining a high degree of planarity even in a wide substrate having a large dimension in the direction of the substrate.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기판 부상 반송 장치는, 반송 방향으로 연장되고, 기판 부상면 상에 기판을 부상시키는 부상 스테이지부와, 상기 기판 부상면 상에 부상한 기판을 보지하는 기판 보지부를 구비하고, 상기 기판 부상면 상에 부상한 상태의 기판을 보지한 상태로 상기 기판 보지부가 상기 반송 방향을 따라 이동하는 것에 의하여, 기판이 기판 부상면 상에 부상한 상태로 반송되는 기판 부상 반송 장치에 있어서, 상기 부상 스테이지부와 상기 기판 보지부와의 사이에는, 기준 사이즈의 기판보다도 반송 방향과 직교하는 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판을 반송하는 경우에, 상기 기판 부상면으로부터 천폭 방향으로 비어져 나오는 상기 광폭 기판의 비어져 나옴 영역을 부상시키는 보조 부상 지지부를 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.In order to solve the above problems, a substrate floating apparatus of the present invention comprises: a floating stage unit that extends in a carrying direction and floats a substrate on a substrate floating surface; and a substrate holding unit that holds the substrate floating on the substrate floating surface And the substrate holding portion is moved in the carrying direction while holding the substrate in a floating state on the substrate floating surface so that the substrate is transported in a floating state on the substrate floating surface, Wherein when the wide substrate having a larger dimension in the width direction perpendicular to the transport direction than the substrate having the standard size is transported between the floating stage portion and the substrate holding portion, And an auxiliary lifting supporter for lifting a vacant region of the wide substrate to be lifted out .

상기 기판 부상 반송 장치에 의하면, 부상 스테이지부와 기판 보지부와의 사이에 보조 부상 지지부를 구비하고 있기 때문에, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있다. 즉, 광폭 기판 중, 부상 스테이지부보다도 천폭 방향으로 비어져 나오는 영역은, 보조 부상 지지부에 의한 부상 기구에 의하여, 부상 스테이지부 상에 위치하는 기판과 같은 부상 상태로 설정하는 것에 의하여, 천폭 방향에 걸쳐 부상 상태를 균일하게 할 수 있다. 따라서, 종래의 기판 부상 반송 장치에 비하여, 광폭 기판의 평면도를 고정도로 유지하여 기판 유효 영역에 도포 얼룩이 발생하는 문제를 억제할 수 있고, 광폭 기판을 위하여 새로운 기판 부상 반송 장치를 별도 준비하는 설비 코스트를 억제할 수 있다.According to the above-mentioned substrate floating type transfer apparatus, since the auxiliary floating support portion is provided between the floating stage portion and the substrate holding portion, it is possible to carry the substrate while maintaining a high degree of flatness even in a wide substrate having a large dimension in the direction of the width. That is, in the wide substrate, the region emerging in the direction of the width of the floating stage relative to the floating stage is set in a floating state such as a substrate located on the floating stage portion by the floating mechanism by the auxiliary floating support portion, So that the floating state can be made uniform. Therefore, compared with the conventional substrate floating apparatus, the problem that the coating unevenness occurs in the substrate effective region by maintaining the flatness of the wide substrate at a high level can be suppressed, and a facility cost for separately preparing a new substrate floating transfer apparatus for the wide substrate Can be suppressed.

또한, 상기 보조 부상 지지부는, 그 부상 기구가 상기 부상 스테이지부와 같은 부상 기구를 가지고 있는 구성이 바람직하다.It is preferable that the above-mentioned auxiliary lifting support portion has a lifting mechanism such as the lifting stage portion.

이 구성에 의하면, 보조 부상 지지부는, 부상 스테이지부와 같은 부상 기구(예를 들어, 에어 부상, 초음파 부상 등)를 가지고 있기 때문에, 보조 부상 지지부에 있어서의 부상 상태를 부상 스테이지부에 있어서의 부상 상태와 같은 상태로 할 수 있고, 광폭 기판의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다.According to this configuration, since the auxiliary lifting support portion has a lifting mechanism (for example, air lifting, ultrasonic lifting, etc.) such as the lifting stage portion, the lifted state of the auxiliary lifting support portion is lifted by the lifting State, and the floating state of the wide substrate can be made uniform over the width direction.

예를 들어, 상기 보조 부상 지지부는, 상기 부상 스테이지부에 착탈(着脫) 가능하게 설치되어 있고, 상기 광폭 기판이 반송되는 경우에 상기 부상 스테이지부에 장착되고, 상기 광폭 기판은 상기 부상 스테이지부 및 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여 부상되는 구성으로 하여도 무방하다.For example, the auxiliary lifting supporter is attached to the lifting stage unit so as to be attachable to and detachable from the lifting stage unit. When the wide substrate is transported, the auxiliary lifting support unit is mounted to the lifting stage unit, And the lifting mechanism of the auxiliary lifting support portion.

이 구성에 의하면, 광폭 기판을 반송하는 경우에만, 보조 부상 지지부를 부상 스테이지부에 장착하면 되기 때문에, 간단한 구성으로 보조 부상 지지부를 설치할 수 있다.According to this structure, only when the wide substrate is transported, the auxiliary floating support portion can be mounted on the floating stage portion, so that the auxiliary floating support portion can be provided with a simple structure.

또한, 상기 기판 보지부는, 상기 부상 스테이지부에 대하여 천폭 방향으로 위치 조절 가능하게 형성되어 있고, 상기 보조 부상 지지부가 떼어내져 있는 경우에는, 상기 부상 스테이지부에 근접하는 위치에 배치되고, 상기 부상 스테이지부에 상기 보조 부상 지지부가 장착된 경우에는, 상기 부상 스테이지부로부터 떨어진 위치에 배치되는 구성으로 하여도 무방하다.The substrate holding portion is formed so as to be positionally adjustable in the direction of the width direction with respect to the floating stage portion. When the auxiliary floating support portion is detached, the substrate holding portion is disposed at a position close to the floating stage portion, And the auxiliary lifting support portion is disposed at a position away from the lifting stage portion.

이 구성에 의하면, 보조 부상 지지부의 유무에 관계없이, 기판 보지부와 부상 스테이지부(보조 부상 지지부가 장착되어 있는 경우에는 보조 부상 지지부)에서 형성되는 간극(間隙)을 필요 최소한으로 할 수 있기 때문에, 그 간극이 기판의 평면도에 영향을 미치는 것을 극력 억제할 수 있다.According to this configuration, the gap formed in the substrate holding portion and the flotation stage portion (the auxiliary flotation support portion when the auxiliary flotation support portion is mounted) can be minimized irrespective of the presence or absence of the auxiliary flotation support portion , It is possible to minimize the influence of the gap on the flatness of the substrate.

또한, 상기 보조 부상 지지부는, 상기 기판 보지부에 설치되어 있고, 상기 보조 부상 지지부에 설치된 흡착부에 의하여 기준 사이즈의 기판을 흡착하여 보지하고, 상기 기판 보지부의 흡착부에 의하여 광폭 기판이 흡착되어 보지되는 구성으로 하여도 무방하다.The auxiliary lifting supporter is provided on the substrate holding portion and sucks and holds the substrate of the reference size by the sucking portion provided on the auxiliary lifting supporter and the wide substrate is adsorbed by the adsorbing portion of the substrate holding portion It is also possible to adopt a constitution in which it is held.

이 구성에 의하면, 기준 사이즈의 기판, 광폭 기판, 어느 한 쪽을 반송하는 경우여도, 장치 구성을 재조합할 일이 없이, 절차 작업을 간략화할 수 있다.According to this configuration, even when a substrate of a standard size or a wide substrate is transported, the procedure work can be simplified without re-assembling the apparatus configuration.

또한, 상기 기판 보지부의 흡착부는, 상기 보조 부상 지지부의 흡착부보다도 높이 위치가 높게 설정되어 있고, 상기 기판 보지부의 흡착부에 의하여 광폭 기판이 보지된 상태에서는, 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여, 상기 부상 스테이지부에 있어서의 부상 상태와 같은 부상 상태로 유지되는 구성으로 하여도 무방하다.The suction portion of the substrate holding portion is set to be higher in height than the suction portion of the auxiliary flotation support portion, and when the wide substrate is held by the suction portion of the substrate holding portion, , It is also possible to adopt a constitution in which it is held in a floating state such as a floating state in the floating stage portion.

이 구성에 의하면, 광폭 기판을 보지하는 경우에 있어서, 부상 스테이지부 및 보조 부상 지지부 중 어느 하나에 있어서도 부상 상태가 같은 상태로 유지되기 때문에, 천폭 방향에 걸쳐 광폭 기판의 평면도를 고정도로 유지할 수 있다.According to this configuration, in the case of holding the wide substrate, the floating state is maintained in the same state in either the floating stage portion or the auxiliary floating support portion, so that the flatness of the wide substrate can be maintained to a high degree .

본 발명의 기판 부상 반송 장치에 의하면, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있다.According to the substrate floating apparatus of the present invention, it is possible to carry the substrate while maintaining a high degree of flatness even on a wide substrate having a large dimension in the direction of the width.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치를 도시하는 사시도이다.
도 2는 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치의 정면도이다.
도 3은 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치에 있어서 기판을 보지한 상태를 도시하는 확대도이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면, (b)는 광폭 기판을 보지하기 위하여 부상 스테이지부에 보조 부상 지지부를 장착한 상태를 도시하는 도면이다.
도 4는 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치의 기판 보지부를 도시하는 도면이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면, (b)는 보조 부상 지지부를 장착한 경우에 광폭 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이다.
도 5는 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치의 기판 보지부의 흡착 패드를 도시하는 도면이고, (a)는 흡착하기 전의 상태를 도시하는 도면이고, (b)는 흡착한 상태를 도시하는 도면이다.
도 6은 다른 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치의 기판 보지부를 도시하는 도면이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이고, (b)는 광폭 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이다.
도 7은 종래의 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치를 도시하는 사시도이다.
도 8은 종래의 기판 부상 반송 장치에 있어서 기판의 보지 상태를 도시하는 도면이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이고, (b)는 광폭 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a perspective view showing a coating apparatus combined with a substrate floating apparatus according to an embodiment of the present invention; Fig.
2 is a front view of a coating apparatus combined with a substrate floating apparatus in the above embodiment.
FIG. 3 is an enlarged view showing a state in which a substrate is held in a substrate floating device in the above embodiment. FIG. 3 (a) is a view showing a state in which a standard substrate is held, And the auxiliary lifting support portion is mounted on the lifting stage portion in order to hold it.
Fig. 4 is a view showing a substrate holding portion of the substrate floating device in the above embodiment, Fig. 4 (a) is a view showing a state in which a standard substrate is held, Fig. 4 Fig. 8 is a diagram showing a state in which a wide substrate is held.
Fig. 5 is a view showing the adsorption pad of the substrate holding portion of the substrate floating device in the above embodiment, Fig. 5 (a) showing the state before adsorption, and Fig. 5 FIG.
FIG. 6 is a view showing a substrate holding portion of the substrate floating device in another embodiment. FIG. 6 (a) is a view showing a state in which a standard substrate is held, FIG.
7 is a perspective view showing a coating apparatus combined with a conventional substrate floating apparatus.
8A is a view showing a state in which a standard substrate is held, FIG. 8B is a view showing a state in which a wide substrate is held, FIG. 8A is a view showing a state in which a standard substrate is held, FIG.

본 발명의 기판 부상 반송 장치에 관련되는 실시예에 관하여 도면을 이용하여 설명한다.An embodiment related to the substrate floating apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은, 본 발명의 기판 부상 반송 장치(1)와 조합되는 도포 장치(2)를 개략적으로 도시하는 사시도이고, 도 2는, 도 1에 있어서의 기판 부상 반송 장치(1)와 조합되는 도포 장치(2)의 정면도이다.Fig. 1 is a perspective view schematically showing a coating apparatus 2 combined with the substrate floating apparatus 1 of the present invention. Fig. 2 is a perspective view showing the coating apparatus 2 combined with the substrate floating apparatus 1 shown in Fig. Figure 2 is a front view of the device 2;

도 1, 도 2에 있어서, 기판(W)을 반송시키는 기판 부상 반송 장치(1)는, 반송되는 기판(W)에 도포막을 형성하는 도포 장치(2)의 도포 유닛(21)과 조합되어 있고, 일련의 기판 처리 장치를 형성하고 있다. 이 기판 부상 반송 장치(1)는, 일 방향으로 연장되는 부상 스테이지부(10)를 가지고 있고, 이 부상 스테이지부(10)가 연장되는 방향을 따라 기판(W)이 반송된다. 도 1의 예에서는, 부상 스테이지부(10)는, X축 방향으로 연장되어 형성되어 있고, 기판(W)이 X축 방향으로 상류 측(전(前) 공정 측)으로부터 하류 측(후(後) 공정 측)으로 반송되도록 되어 있다. 그리고, 도포 유닛(21)으로부터 도포액을 토출(吐出)하는 것에 의하여, 기판(W) 상에 도포막이 형성된다. 구체적으로는, 기판(W)이 부상 스테이지부(10)에 부상된 상태로 X축 방향으로 반송되면서, 도포 유닛(21)으로부터 도포액이 토출되는 것에 의하여, 기판(W) 상에 균일 두께의 도포막이 형성되도록 되어 있다. 덧붙여, 이하의 설명에서는, 기판(W)이 반송되는 방향을 X축 방향으로 하고, X축 방향이 반송 방향에 상당한다. 또한, X축 방향(반송 방향)과 수평면 상에서 직교하는 방향을 Y축 방향으로 하고, 특히 Y축 방향을 천폭 방향이라고도 한다. 그리고, X축 방향 및 Y축 방향의 쌍방에 직교하는 방향을 Z축 방향으로 하여 설명을 해 나가는 것으로 한다.1 and 2, a substrate floating apparatus 1 for carrying a substrate W is combined with a coating unit 21 of a coating apparatus 2 for forming a coating film on a substrate W to be transported , And a series of substrate processing apparatuses are formed. This substrate floating carrier apparatus 1 has a floating stage unit 10 extending in one direction and the substrate W is carried along the direction in which the floating stage unit 10 extends. 1, the floating stage portion 10 is formed to extend in the X-axis direction, and the substrate W is moved in the X-axis direction from the upstream side (the previous process side) to the downstream side ) Process side). Then, a coating film is formed on the substrate W by discharging (discharging) the coating liquid from the coating unit 21. More specifically, the coating liquid is discharged from the coating unit 21 while the substrate W is being transported in the X-axis direction while floating on the floating stage unit 10, So that a coating film is formed. Incidentally, in the following description, the direction in which the substrate W is transported is the X axis direction, and the X axis direction is the transport direction. The direction orthogonal to the X axis direction (transport direction) on the horizontal plane is the Y axis direction, and the Y axis direction is also referred to as the width direction. It is assumed that the direction orthogonal to both the X-axis direction and the Y-axis direction is the Z-axis direction.

도포 유닛(21)은, 기판(W)에 도포액을 도포하는 것이고, 프레임부(22)와 구금부(口金部)(23)를 가지고 있다. 프레임부(22)는, 부상 스테이지부(10)의 Y축 방향 양측(兩側)에 각각 배치되는 지주(支柱)(22a)를 가지고 있고, 이 지주(22a)에 구금부(23)가 설치되어 있다. 구체적으로는, 지주(22a)는, Y축 방향(천폭 방향) 양측에 고정되어 설치되어 있고, 후술하는 기판 보지부(30)의 주행을 방해하는 일이 없도록, 기판 보지부(30)의 주행 경로보다도 외측(外側)에 배치되어 있다. 그리고, 이러한 지주(22a)에 구금부(23)가 걸쳐져 설치되어 있고, 구금부(23)가 부상 스테이지부(10)를 가로지르는 상태로 장착되어 있다. 또한, 지주(22a)에는 승강 기구가 설치되어 있고, 승강 기구를 작동시키는 것에 의하여 구금부(23)가 Z축 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 즉, 승강 기구에 의하여 구금부(23)가 부상 스테이지부(10)에 대하여 접리(接離) 동작할 수 있도록 되어 있다.The coating unit 21 applies a coating liquid to the substrate W and has a frame portion 22 and a mouth portion 23. The frame portion 22 has pillars 22a disposed on both sides in the Y axis direction of the floating stage portion 10 and a claw portion 23 is provided on the pillars 22a . Specifically, the struts 22a are fixed on both sides in the Y-axis direction (in the direction of the width), and are arranged so as not to interfere with traveling of the substrate holding portion 30 (Outer side) than the path. A claw 23 is provided on the support 22a and the claw 23 is mounted across the crawler stage 10. [ Further, the column 22a is provided with a lifting mechanism, and by operating the lifting mechanism, the claw 23 can move in the Z-axis direction. That is, the lifting mechanism allows the detaching portion 23 to move toward and away from the lifting stage 10.

구금부(23)는, 도포액을 토출하는 것이고, 일 방향으로 연장되어 형성되어 있다. 이 구금부(23)는, 일 방향으로 연장되는 슬릿 노즐(23a)(도 2 참조)이 형성되어 있고, 구금부(23) 내에 저류(貯留)된 도포액을 슬릿 노즐(23a)로부터 토출할 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 슬릿 노즐(23a)은, 부상 스테이지부(10)와 대향하는 면에 형성되어 있고, 구금부(23)는 슬릿 노즐(23a)이 천폭 방향으로 연장되는 상태로 설치되어 있다. 그리고, 반송되는 기판(W)에 대하여 구금부(23)를 승강시켜 기판(W)과 슬릿 노즐(23a)과의 거리를 소정의 거리에 맞춘 상태에서, 슬릿 노즐(23a)로부터 도포액을 토출하는 것에 의하여, 천폭 방향으로 일양(一樣)한 도포막이 반송 방향으로 연속적으로 형성되도록 되어 있다.The holding portion 23 discharges the coating liquid, and is formed so as to extend in one direction. A slit nozzle 23a (see Fig. 2) extending in one direction is formed in the housing portion 23 and the coating liquid stored in the housing portion 23 is discharged from the slit nozzle 23a . Specifically, the slit nozzle 23a is formed on a surface facing the floating stage portion 10, and the holding portion 23 is provided in a state in which the slit nozzle 23a extends in the direction of the width. The coating liquid is discharged from the slit nozzle 23a in a state in which the holding portion 23 is elevated with respect to the substrate W to be transferred and the distance between the substrate W and the slit nozzle 23a is adjusted to a predetermined distance Whereby a uniform coating film in the direction of the width of the film is continuously formed in the transport direction.

또한, 기판 부상 반송 장치(1)는, 기판(W)을 부상시키면서 특정 방향으로 반송시키는 것이다. 기판 부상 반송 장치(1)는, 기판(W)을 부상시키는 부상 스테이지부(10)와, 부상 스테이지부(10)에 부상시킨 기판(W)을 보지하고 반송시키는 기판 반송 유닛(3)을 가지고 있다.The substrate floating carrier device 1 transports the substrate W in a specific direction while lifting up the substrate W. The substrate floating carrier apparatus 1 has a floating stage unit 10 for lifting a substrate W and a substrate carrier unit 3 for holding and transporting a substrate W floated on the floating stage unit 10 have.

부상 스테이지부(10)는, 기판(W)을 부상시키는 것이고, 본 실시예에서는 에어 부상 기구를 가지고 있다. 부상 스테이지부(10)는, 기대(基臺)(11) 상에 평판부(平板部)(12)가 설치되어 형성되어 있고, 복수 매(枚)의 평판부(12)가 X축 방향을 따라 배열되어 형성되어 있다. 즉, 평판부(12)는, 평활한 기판 부상면(12a)(도 3 참조)을 가지고 있고, 각각의 기판 부상면(12a)이 균일 높이가 되도록 배열되어 있다. 그리고, 기판 부상면(12a)에는, 반송시키는 기판(W)과의 사이에 공기층이 형성되는 것에 의하여 기판(W)을 소정 높이 위치로 부상시킬 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 평판부(12)에는, 기판 부상면(12a)에 개구(開口)하는 미소(微小)한 분출구(도시하지 않음)와 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 분출구와 컴프레서(compressor)가 배관으로 접속되고, 흡인구와 진공 펌프가 배관으로 접속되어 있다. 그리고, 분출구로부터 분출되는 에어와 흡인구에 발생하는 흡인력을 밸런스(balance)시키는 것에 의하여, 기판(W)이 기판 부상면(12a)으로부터 소정 높이로 수평의 자세로 부상시킬 수 있도록 되어 있다. 이것에 의하여, 기판(W)의 평면 자세(평면도라고 한다)를 고정도로 유지한 상태에서 반송할 수 있도록 되어 있다.The floating stage unit 10 floats the substrate W and has an air lifting mechanism in this embodiment. The floating stage portion 10 is provided with a flat plate portion 12 on a base 11 and a plurality of flat plate portions 12 extend in the X- Respectively. That is, the flat plate portion 12 has a smooth substrate floating surface 12a (see FIG. 3), and each substrate floating surface 12a is arranged so as to have a uniform height. An air layer is formed between the substrate floating surface 12a and the substrate W to be transported, so that the substrate W can be lifted to a predetermined height position. Specifically, the flat plate portion 12 is provided with a minute air outlet (not shown) and a suction port (not shown) that open on the substrate floating surface 12a, and the outlet port and the compressor a compressor is connected by a pipe, and a suction port and a vacuum pump are connected by a pipe. The substrate W is allowed to float in a horizontal posture at a predetermined height from the substrate floating surface 12a by balancing the air ejected from the ejection port and the suction force generated in the suction port. Thus, it is possible to carry the substrate W in a state in which the plane posture (referred to as a plan view) of the substrate W is maintained to a high degree.

또한, 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)는, 그 Y축 방향 치수가 기준 사이즈의 기판(W)(표준 기판(W))의 Y축 방향 치수보다도 작게 형성되어 있고, 기판 부상면(12a) 상에 기판(W)을 재치하면, 기판 부상면(12a)으로부터 기판(W)의 Y축 방향 단부가 비어져 나온 상태가 된다. 이 비어져 나온 부분(비어져 나옴 영역(T))을 후술의 기판 반송 유닛(3)으로 보지하는 것에 의하여, 기판(W)을 반송할 수 있도록 되어 있다. 이 평판부(12)의 Y축 방향 치수는, 비어져 나옴 영역(T)이 기판 보지부(30)에서 보지할 수 있는 필요 최소한의 치수로 되도록 설정되어 있다. 즉, 비어져 나옴 영역(T)의 비어져 나옴량은, 기판 보지부(30)에서 기판(W)의 비어져 나옴 영역(T)을 보지한 경우에, 기판 보지부(30)와 평판부(12)와의 사이에 서로 접촉하는 일이 없는 약간의 간극이 형성되는 정도로 설정되어 있다. 덧붙여, 기준 사이즈의 기판(W)이란, 기판 부상 반송 장치(1)를 설계할 때에 기준이 되는 크기의 기판(W)의 것을 말하고, 후술의 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판(W)에 대하여 표준 기판(W)으로 부르는 것으로 한다.The flat plate portion 12 of the floating stage portion 10 is formed such that the dimension in the Y axis direction is smaller than the dimension in the Y axis direction of the substrate W (standard substrate W) of the reference size, When the substrate W is placed on the substrate holding surface 12a, the Y-axis direction end portion of the substrate W is evacuated from the substrate floating surface 12a. The substrate W can be transported by holding the vacated portion (the vacant region T) of the substrate W by the substrate transfer unit 3 described later. The dimension in the Y-axis direction of the flat plate portion 12 is set so as to be the minimum necessary dimension that can be held by the substrate holding portion 30. That is to say, the amount of the projecting portion of the projected portion T is larger than the projected portion of the substrate holding portion 30 and the projected portion of the flat plate portion 30 when the vacant region T of the substrate W is held by the substrate holding portion 30. [ Is set to such a degree that a slight clearance which does not contact each other is formed between the upper surface 12 and the lower surface 12a. The substrate W of the reference size refers to a substrate W having a size that is a standard for designing the substrate floating system 1 and is a standard for a wide substrate W having a large dimension in the width direction And is referred to as a substrate W.

또한, 평판부(12)는, 보조 부상 지지부(4)를 장착할 수 있도록 되어 있다. 이 보조 부상 지지부(4)는, 표준 기판(W)에 대하여 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판(W)을 반송시키는 경우에, 광폭 기판(W)의 자세를 천폭 방향에 걸쳐 수평으로 유지시키는 것이다.Further, the flat plate portion 12 is capable of mounting the auxiliary lifting support portion 4. The auxiliary lifting supporter 4 keeps the attitude of the wide substrate W horizontally across the width direction when transporting the wide substrate W having a large dimension in the width direction to the standard substrate W. [

본 실시예의 보조 부상 지지부(4)는, 보조 블록(40)이고, 광폭 기판(W)을 반송시키는 경우에, 평판부(12)의 Y축 방향(천폭 방향) 측면에 장착하여 고정되도록 되어 있다. 구체적으로는, 보조 블록(40)은, 직방체 형상을 가지고 있고, 반송 방향 치수는 평판부(12)와 같은 치수로 형성되고, 천폭 방향 치수는, 광폭 기판(W)이 기판 부상면(12a)에 재치된 경우에, 광폭 기판(W)의 Y축 방향 단부가 천폭 방향으로 비어져 나온 상태가 되는 치수로 형성되어 있다. 즉, 비어져 나옴량은, 표준 기판(W)과 마찬가지로, 기판 보지부(30)에서 기판(W)을 보지한 경우에, 기판 보지부(30)가 보조 블록(40)에 접촉하지 않고 주행하는데 최저한 필요로 하는 치수, 즉, 기판 보지부(30)와 보조 블록(40)과의 사이에 서로 접촉하는 일이 없는 약간의 간극이 형성되는 치수로 설정되어 있다. 또한, 보조 블록(40)이 장착된 상태에서는, 보조 블록(40)의 상면(上面)이 평판부(12)의 기판 부상면(12a)과 같은 높이로 되도록 설정되어 있다. 이것에 의하여, 평판부(12)와 보조 블록(40)에 의하여 한층 큰 평탄하고 일양한 기판 부상면(12a)이 형성되도록 되어 있다.The auxiliary lifting supporter 4 of the present embodiment is an auxiliary block 40 and is mounted and fixed to the side surface of the flat plate portion 12 in the Y-axis direction (in the direction of the width) when the wide substrate W is transported . More specifically, the auxiliary block 40 has a rectangular parallelepiped shape, and the dimensions in the carrying direction are the same as those of the flat plate portion 12, and the widthwise dimension of the auxiliary block 40 is set such that the wide substrate W is in contact with the substrate floating surface 12a, The width direction of the wide substrate W is formed in such a manner that the end portion in the Y-axis direction of the wide substrate W becomes out of the width direction. That is, in the case of holding the substrate W in the substrate holding portion 30, the substrate holding portion 30 does not contact the auxiliary block 40, That is, between the substrate holding portion 30 and the auxiliary block 40, a small gap is formed which does not contact each other. The upper surface of the auxiliary block 40 is set to have the same height as the board floating surface 12a of the flat plate portion 12 in a state in which the auxiliary block 40 is mounted. By this, the flat plate portion 12 and the auxiliary block 40 are formed so that a larger flat and uniform substrate floating surface 12a is formed.

또한, 보조 블록(40)(보조 부상 지지부(4))은, 부상 스테이지부(10)와 같은 부상 기구(본 실시예에서는 에어 부상 기구)를 가지고 있다. 구체적으로는, 보조 블록(40)의 기판 부상면(12a)을 형성하는 면에는, 평판부(12)와 마찬가지로, 분출구(도시하지 않음)와 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 평판부(12)의 분출구 및 흡인구와 같은 태양(態樣)으로 형성되어 있다. 즉, 평판부(12)의 분출구 및 흡인구와 같은 비율, 같은 위치 관계를 가지도록 형성되어 있고, 평판부(12)에 있어서의 기판(W)의 부상 상태와, 보조 블록(40)에 있어서의 기판(W)의 부상 상태를 같은 상태로 할 수 있도록 되어 있다. 따라서, 보조 블록(40)이 장착된 상태에서는, 광폭 기판(W)에서도, 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 부상시킬 수 있고, 기판(W)의 평면도를 고정도로 유지한 상태에서 부상시킬 수 있다.The auxiliary block 40 (auxiliary lifting support portion 4) has a lifting mechanism (an air lifting mechanism in this embodiment) such as the lifting stage 10. Concretely, a jet port (not shown) and a suction port (not shown) are formed on the surface of the sub block 40 on which the substrate floating surface 12a is formed, like the flat plate portion 12, And is formed in a sun shape such as a jet port and a suction port of the unit 12. In other words, the same positional relationship as that of the ejection port and the suction port of the flat plate portion 12 is formed so that the floating state of the substrate W in the flat plate portion 12 and the floating state of the substrate W in the auxiliary block 40 So that the floating state of the substrate W can be made the same. Therefore, in the state in which the sub-block 40 is mounted, the substrate W can be floated evenly over the wide width direction, and the substrate W can be floated while maintaining a high degree of planarity.

또한, 기판 반송 유닛(3)은, 부상 상태의 기판(W)을 반송시키는 것이고, 기판(W)을 보지하는 기판 보지부(30)와, 기판 보지부(30)를 주행시키는 반송 구동부(31)를 가지고 있다.The substrate transport unit 3 transports the substrate W in a floating state and includes a substrate holding section 30 for holding the substrate W and a transport driving section 31 for driving the substrate holding section 30 ).

반송 구동부(31)는, 기판 보지부(30)를 반송 방향으로 이동시키도록 구성되어 있고, 부상 스테이지부(10)를 따라 반송 방향으로 연장되는 반송 레일부(31a)와, 이 반송 레일부(31a) 상을 주행하는 반송 본체부(31b)로 형성되어 있다. 구체적으로는, 반송 방향으로 연장되도록 설치된 기대(11)가 부상 스테이지부(10)의 천폭 방향 양측에 배치되어 있고, 각각의 기대(11) 상에 반송 레일부(31a)가 설치되어 있다. 즉, 반송 레일부(31a)가 부상 스테이지부(10)를 따라 중단되는 일 없이 연속하여 설치되어 있다. 또한, 반송 본체부(31b)는, 오목 형상으로 형성된 판상(板狀) 부재이고, 도 4(a)에 도시하는 바와 같이, 반송 레일부(31a)의 상면을 덮도록 설치되어 있다. 구체적으로는, 반송 본체부(31b)는, 에어 패드(32)를 통하여 반송 레일부(31a)에 덮도록 설치되어 있고, 도시하지 않는 리니어(linear) 모터를 구동시키는 것에 의하여, 반송 본체부(31b)가 반송 레일부(31a) 상을 주행하도록 되어 있다. 즉, 리니어 모터를 구동 제어하는 것에 의하여, 반송 본체부(31b)가 반송 레일부(31a) 상을 접촉하는 일 없이 주행하고, 적절한 위치에서 정지할 수 있도록 되어 있다.The transport driving section 31 is configured to move the substrate holding section 30 in the transport direction and includes a transport rail section 31a extending in the transport direction along the lifting stage section 10, 31a of the conveying body 31b. Specifically, the base 11 provided to extend in the carrying direction is disposed on both sides in the direction of the width of the lifting stage 10, and a conveying rail portion 31a is provided on each of the base 11. That is, the conveying rail portion 31a is continuously provided without being interrupted along the lifting stage portion 10. The conveying body 31b is a plate-like member formed in a concave shape and is provided so as to cover the upper surface of the conveying rail portion 31a as shown in Fig. 4 (a). Specifically, the conveying body 31b is provided so as to cover the conveying rail portion 31a through the air pad 32. By driving a linear motor (not shown), the conveying body portion 31b run on the conveying rail portion 31a. In other words, by driving and controlling the linear motor, the transporting main body portion 31b travels without touching the transport rail portion 31a and can stop at an appropriate position.

또한, 기판 보지부(30)는, 기판(W)을 보지하는 것이고, 반송 본체부(31b)에 장착되어 있다. 구체적으로는, 도 4(a)에 도시하는 바와 같이, 기판 보지부(30)는, 거의 직방체의 블록상(狀)으로 형성되어 있고, 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 통하여 장착되어 있다. 또한, 기판 보지부(30)는, 그 상면(흡착면(33))이 부상시킨 기판(W)의 하면(下面)의 높이 위치와 면 위치가 되도록 설정되어 있다. 그리고, 도 5에 도시하는 바와 같이, 흡착면(33)에는, 개구부(34)가 형성되어 있고, 그 개구부(34) 내에 탄성 변형 가능한 주름 호스 형상의 흡착 패드(35)가 매설되어 있다. 이 흡착 패드(35)는, 흡인력을 발생시켜 기판(W)을 흡착 보지하는 것이고, 통상 상태(기판(W)이 없는 상태)에서는, 그 선단(先端)이 개구부(34)로부터 약간 돌출한 상태에서 대기하도록 설정되어 있다(도 5(a) 참조). 그리고, 기판 부상면(12a)에 기판(W)이 재치되면 기판 부상면(12a)으로부터 천폭 방향으로 비어져 나온 부분이 흡착 패드(35)에 당접(當接)한다. 이 상태에서 흡착 패드(35)에 흡인력을 발생시키면, 기판(W)의 하면이 흡착 패드(35)로 흡인되면서, 그 흡인 상태를 유지한 채로, 흡착 패드(35) 자체가 개구부(34) 내에 수축하여 기판(W)의 하면이 흡착면(33)에 당접하고 기판(W)이 보지되도록 되어 있다(도 5(b) 참조). 이것에 의하여, 부상 스테이지부(10)에서 부상된 기판(W)이, 천폭 방향에 걸쳐 같은 부상 높이 위치를 유지한 상태로 보지된다.The substrate holding portion 30 holds the substrate W and is mounted on the transport body portion 31b. More specifically, as shown in Fig. 4 (a), the substrate holding portion 30 is formed in a substantially rectangular parallelepiped block shape, and contacts the flat plate portion 12 of the floating stage portion 10 And it is mounted through a clearance that does not exceed. The substrate holding portion 30 is set to be the height position and the surface position of the lower surface of the substrate W on which the upper surface (attracting surface 33) is lifted. 5, an opening portion 34 is formed on the adsorption face 33, and an adsorption pad 35 in the form of a pleated hose capable of being elastically deformed is embedded in the opening portion 34. As shown in Fig. The adsorption pad 35 absorbs and holds the substrate W by generating a suction force so that the tip end of the adsorption pad 35 slightly protrudes from the opening 34 in a normal state (See Fig. 5 (a)). When the substrate W is placed on the substrate floating surface 12a, a portion of the substrate floating surface 12a in the direction of the width of the substrate is brought into contact with the adsorption pad 35. In this state, when the suction force is generated in the adsorption pad 35, the lower surface of the substrate W is attracted to the adsorption pad 35, and the adsorption pad 35 itself is held in the opening 34 So that the lower surface of the substrate W comes into contact with the attracting surface 33 to hold the substrate W (see FIG. 5 (b)). As a result, the substrate W lifted by the floating stage unit 10 is held in a state where the same floating height position is maintained across the width direction.

또한, 기판 보지부(30)는, 위치 조절 기구를 가지고 있다. 즉, 기판 보지부(30)는, 반송 본체부(31b)에 리니어 가이드(36)를 통하여 설치되어 있고, 천폭 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 반송 본체부(31b)에는, 천폭 방향으로 이동 가능한 리니어 가이드(36)가 장착되어 있고, 이 리니어 가이드(36)에 기판 보지부(30)가 장착되어 있다. 그리고, 리니어 가이드(36)를 구동 제어하는 것에 의하여 기판 보지부(30)가 천폭 방향으로 이동하고, 적절한 위치에서 정지할 수 있도록 되어 있다.Further, the substrate holding portion 30 has a position adjusting mechanism. That is, the substrate holding portion 30 is provided in the carrying main body portion 31b through the linear guide 36, and is movable in the direction of the width. More specifically, a linear guide 36 movable in the direction of the width is mounted on the transporting main body portion 31b, and the substrate holding portion 30 is mounted on the linear guide 36. As shown in Fig. By controlling the linear guide 36, the substrate holding portion 30 moves in the width direction and can stop at an appropriate position.

본 실시예에서는, 표준 기판(W)을 반송시키는 경우에는, 기판 보지부(30)가 부상 스테이지부(10)에 근접하는 위치로 이동하고 고정된다(도 4(a) 참조). 즉, 기판 보지부(30)와 부상 스테이지부(10)와의 사이에, 기판 보지부(30)가 반송 방향으로 주행하여도 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 가지도록, 기판 보지부(30)가 부상 스테이지부(10)에 극력 접근하는 위치에 고정된다. 이것에 의하여, 기판(W)에 부상 기구가 작용하지 않는 영역을 극력 적게 할 수 있고, 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다.In this embodiment, when the standard substrate W is to be transported, the substrate holding portion 30 is moved to a position close to the floating stage portion 10 and is fixed (see Fig. 4 (a)). That is, between the substrate holding portion 30 and the floating stage portion 10, the substrate holding portion 30 does not contact the flat plate portion 12 of the floating stage portion 10 even if the substrate holding portion 30 travels in the carrying direction The substrate holding portion 30 is fixed at a position where the substrate holding portion 30 approaches the floating stage portion 10 so as to have a clearance. As a result, the region where the lifting mechanism does not act on the substrate W can be minimized, and the floating state of the substrate W can be made uniform over the widthwise direction.

또한, 광폭 기판(W)을 반송시키는 경우에는, 보조 블록(40)이 존재하는 분만큼 천폭 방향 외측으로 이동하고, 기판 보지부(30)가 보조 블록(40)에 근접한 위치에 고정된다(도 4(b) 참조). 이 경우에 있어서도, 기판 보지부(30)와 보조 블록(40)과의 사이에, 기판 보지부(30)가 반송 방향으로 주행하여도 보조 블록(40)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 가지도록 고정되고, 기판(W)에 부상 기구가 작용하지 않는 영역을 극력 적게 하여, 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있도록 되어 있다.When the wide substrate W is to be transported, the substrate holder 30 moves to the outside in the width direction by an amount corresponding to the presence of the sub-block 40, and the substrate holder 30 is fixed at a position close to the sub- 4 (b)). Even in this case, even if the substrate holding portion 30 travels in the carrying direction, there is no gap between the substrate holding portion 30 and the auxiliary block 40 so as not to contact the auxiliary block 40 So that the area in which the lifting mechanism does not act on the substrate W is minimized and the lifted state of the substrate W can be uniform over the widthwise direction.

이와 같이, 본 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치(1)에서는, 부상 스테이지부(10)와 기판 보지부(30)와의 사이에 보조 부상 지지부(4)(보조 블록(40))를 구비하고 있기 때문에, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판(W)에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있다. 즉, 광폭 기판(W) 중, 부상 스테이지부(10)보다도 천폭 방향으로 비어져 나오는 영역은, 보조 부상 지지부(4)에 의한 부상 기구에 의하여, 부상 스테이지부(10) 상에 위치하는 기판(W)과 같은 부상 상태로 설정하는 것에 의하여, 천폭 방향에 걸쳐 부상 상태를 균일하게 할 수 있다. 따라서, 종래의 기판 부상 반송 장치(1)에 비하여, 광폭 기판(W)의 평면도를 고정도로 유지하여 기판(W) 유효 영역에 도포 얼룩이 발생하는 문제를 억제할 수 있고, 광폭 기판(W)을 위하여 새로운 기판 부상 반송 장치(1)를 별도 준비하는 설비 코스트를 억제할 수 있다.As described above, in the substrate floating system 1 according to the present embodiment, the auxiliary floating support 4 (auxiliary block 40) is provided between the floating stage 10 and the substrate holding portion 30 The substrate W can be transported while maintaining a high degree of flatness even in a wide substrate W having a large dimension in the direction of the width of the substrate. That is, a region of the wide substrate W which is projected in the direction of the width of the floating stage portion 10 in the direction of the width of the floating stage portion 10, W), it is possible to make the floating state uniform over the width direction. Therefore, compared with the conventional substrate floating apparatus 1, the flatness of the wide substrate W can be maintained at a high level to suppress the problem of coating unevenness in the effective region of the substrate W, The cost of equipment for separately preparing a new substrate floating carrier device 1 can be suppressed.

또한, 보조 블록(40)에는, 부상 스테이지부(10)와 같은 에어 부상 기구를 사용하고 있기 때문에, 보조 블록(40)에 있어서의 부상 상태를 부상 스테이지부(10)에 있어서의 부상 상태와 같은 상태로 할 수 있기 때문에, 광폭 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다.Since the auxiliary float 40 uses the same air lifting mechanism as that of the float stage 10, the floating state of the sub-block 40 is the same as the floating state of the float stage 10 State, the floating state of the wide substrate W can be made uniform over the entire width direction.

또한, 상기 실시예에서는, 보조 부상 지지부(4)가 부상 스테이지부(10)에 장착되는 보조 블록(40)인 경우에 관하여 설명하였지만, 보조 부상 지지부(4)가 기판 보지부(30)에 설치되는 것이어도 무방하다. 도 6에 도시하는 예에서는, 기판 보지부(30)의 흡착면(33a)이 보조 부상 지지부(4)의 일부를 이루도록 구성되어 있다. 즉, 기판 보지부(30)에는, 흡착 블록(37)이 설치되고, 천폭 방향 내측(內側)에 보조 부상 지지부(4)가 형성되고, 천폭 방향 외측에 기판 보지부(30)가 형성되고, 이것들이 일체적으로 구성되어 있다. 구체적으로는, 기판 보지부(30)의 흡착면(33a)이, 천폭 방향 외측에 위치하고, 보조 부상 지지부(4)의 흡착면(33b)보다도 일단(一段) 높은 위치에 형성되어 있다. 그리고, 각각의 흡착면(33)(흡착면(33a) 및 흡착면(33b))에는, 개구부(34)가 형성되어 있고, 그 개구부(34)에 상술한 흡착 패드(35)가 매설되고, 기판(W)을 흡착하여 보지할 수 있도록 되어 있다. 즉, 흡착 블록(37)에 있어서의 보조 부상 지지부(4)는, 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 근접하는 위치에 배치되어 있고, 부상 스테이지부(10)에 표준 기판(W)이 재치되면 기판 부상면(12a)으로부터 비어져 나온 비어져 나옴 영역(T)을 흡착 패드(35)로 흡착할 수 있도록 되어 있다(도 6(a)). 즉, 흡착 블록(37)의 보조 부상 지지부(4)는, 상기 실시예와 마찬가지로, 기판 보지부(30)가 반송 방향으로 주행하여도 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 가지도록 배치되고, 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 부상시키고, 기판(W)의 평면도를 고정도로 유지한 상태에서 부상시킬 수 있다.In the above embodiment, the case where the auxiliary lifting supporter 4 is mounted on the lifting stage 10 has been described. However, the auxiliary lifting supporter 4 may be provided on the substrate holding portion 30 It is also possible to be. 6, the attracting surface 33a of the substrate holding portion 30 is configured to form a part of the auxiliary lifting support portion 4. As shown in Fig. That is, the substrate holding portion 30 is provided with the suction block 37, the auxiliary floating support portion 4 is formed on the inner side in the width direction, the substrate holding portion 30 is formed on the outer side in the width direction, These are integrally constructed. Specifically, the adsorption surface 33a of the substrate holding portion 30 is located at a position higher than the adsorption surface 33b of the auxiliary lifting supporter 4 by one step, which is located on the outer side in the direction of the width. An opening 34 is formed in each of the adsorption faces 33 (the adsorption face 33a and the adsorption face 33b). The above-described adsorption pad 35 is embedded in the opening 34, So that the substrate W can be held by suction. That is, the auxiliary lifting support portion 4 of the suction block 37 is disposed at a position close to the flat plate portion 12 of the lifting stage portion 10, and the standard substrate W (See FIG. 6 (a)), the vacant region T evacuated from the substrate floating surface 12a can be adsorbed by the adsorption pad 35 (FIG. 6 (a)). That is, the auxiliary lifting supporter 4 of the suction block 37 is arranged so that the substrate holding portion 30 does not contact the flat plate portion 12 of the floating stage portion 10 even if the substrate holding portion 30 travels in the carrying direction So as to float uniformly in the direction of the width of the wafer W and float in a state in which the flatness of the substrate W is maintained to a high degree.

또한, 기판 보지부(30)에 있어서의 흡착 패드(35)는, 부상 스테이지부(10)에 재치된 광폭 기판(W)의 비어져 나옴 영역(T)을 흡착할 수 있는 위치에 배치되어 있다. 또한, 보조 부상 지지부(4)의 흡착면(33b)에는, 분출구(도시하지 않음)와 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 평판부(12)의 분출구 및 흡인구와 같은 태양으로 형성되어 있다. 즉, 부상 스테이지부(10)에 광폭 기판(W)이 재치되면, 부상 스테이지부(10)로부터 비어져 나오는 부분은, 흡착 블록(37)의 보조 부상 지지부(4)에 설치된 부상 기구에 의하여 부상된다. 또한, 흡착면(33b)과 기판 부상면(12a)의 높이 위치는 공통의 높이로 설정되어 있다. 이것에 의하여, 광폭 기판(W)의 비어져 나옴 영역(T)은, 부상 스테이지부(10)에 설치된 부상 기구와 같은 구성의 부상 기구로 부상시킬 수 있기 때문에, 기판 보지부(30)가 부상 스테이지부(10)로부터 천폭 방향 외측으로 떨어진 위치에 배치되어 있어도, 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다. 그리고, 본 실시예에서는, 상기 실시예와 같이, 표준 기판(W)과 광폭 기판(W)을 반송할 때에, 보조 블록(40)을 갈아 끼울 필요가 없기 때문에, 상기 실시예에 비하여, 절차 작업을 간략화할 수 있다.The adsorption pad 35 of the substrate holding portion 30 is disposed at a position where the vacant region T of the wide substrate W placed on the floating stage portion 10 can be adsorbed . A suction port (not shown) and a suction port (not shown) are formed on the suction surface 33b of the auxiliary flotation support part 4 and are formed as a sun or a suction port of the flat plate part 12 have. That is, when the wide substrate W is placed on the floating stage portion 10, the portion which is emptied from the floating stage portion 10 is lifted by the floating mechanism provided on the auxiliary lifting support portion 4 of the suction block 37, do. The height positions of the attracting surface 33b and the substrate lifting surface 12a are set to a common height. This makes it possible to raise the vacant region T of the wide substrate W by the lifting mechanism having the same structure as that of the lifting mechanism provided on the lifting stage 10, The floating state of the substrate W can be made uniform over the width direction even when the stage W is disposed at a position apart from the stage portion 10 in the direction of the width direction. In this embodiment, there is no need to replace the auxiliary block 40 when transporting the standard substrate W and the wide substrate W as in the above embodiment. Therefore, compared with the above embodiment, Can be simplified.

또한, 상기 실시예에서는, 부상 스테이지부(10)의 부상 기구로서 에어 부상 기구를 사용하는 예에 관하여 설명하였지만, 초음파 부상 등, 다른 부상 기구를 이용하는 것이어도 무방하다.In the above embodiment, an example of using the air lifting mechanism as the lifting mechanism of the lifting stage 10 has been described. However, other lifting mechanisms such as ultrasonic floating may be used.

또한, 상기 실시예에서는, 보조 부상 지지부(4)에 있어서, 부상 스테이지부(10)와 같은 부상 기구를 이용하는 예에 관하여 설명하였지만, 다른 부상 기구를 이용하는 것이어도 무방하다. 예를 들어, 부상 스테이지부(10)에 초음파 부상 기구를 사용하고, 보조 부상 지지부(4)에 있어서 에어 부상 기구를 사용하여도 무방하다. 어느 부상 기구를 사용하여도, 부상 스테이지부(10) 및 보조 부상 지지부(4)에서의 부상 높이를 공통으로 하여 천폭 방향에 걸쳐 균일한 부상 상태를 형성할 수 있으면 된다.Further, in the above embodiment, the example in which the lifting mechanism such as the lifting stage 10 is used in the auxiliary lifting supporter 4 has been described, but it is also possible to use another lifting mechanism. For example, an ultrasonic flotation mechanism may be used for the flotation stage unit 10, and an air flotation mechanism for the auxiliary flotation support unit 4 may be used. It is only necessary that a floatation height in the floatation stage portion 10 and the auxiliary floatation support portion 4 are made common and a uniform floatation state can be formed in the trunk width direction.

또한, 상기 실시예에서는, 기판 부상 반송 장치(1)를 도포 장치(2)에 조합하는 예에 관하여 설명하였지만, 기판 부상 반송 장치(1)를 건조 장치에 조합하여도 무방하고, 다양한 기판 처리 장치에 조합하여 사용할 수 있다.In the above-described embodiment, an example in which the substrate floating carrier device 1 is combined with the coating device 2 has been described. However, the substrate floating carrier device 1 may be combined with a drying device, Can be used in combination.

1: 기판 부상 반송 장치
2: 도포 장치
3: 기판 반송 유닛
4: 보조 부상 지지부
10: 부상 스테이지부
12: 평판부
12a: 기판 부상면
30: 기판 보지부
33: 흡착면
37: 흡착 블록
40: 보조 블록1: Substrate floating carrier
2: dispensing device
3: substrate transfer unit
4: Auxiliary floating support
10: Floating stage part
12:
12a: substrate floating surface
30: substrate holding portion
33: adsorption face
37: Adsorption block
40: auxiliary block

Claims (6)

반송(搬送) 방향으로 연장되고, 기판 부상면(浮上面) 상(上)에 기판을 부상(浮上)시키는 부상 스테이지부와,
상기 기판 부상면 상에 부상한 기판을 보지(保持)하는 기판 보지부
를 구비하고, 상기 기판 부상면 상에 부상한 상태의 기판을 보지한 상태로 상기 기판 보지부가 상기 반송 방향을 따라 이동하는 것에 의하여, 기판이 기판 부상면 상에 부상한 상태로 반송되는 기판 부상 반송 장치에 있어서,
상기 부상 스테이지부와 상기 기판 보지부와의 사이에는, 기준 사이즈의 기판보다도 반송 방향과 직교하는 천폭(川幅) 방향 치수가 큰 광폭 기판을 반송하는 경우에, 상기 기판 부상면으로부터 천폭 방향으로 비어져 나오는 상기 광폭 기판의 비어져 나옴 영역을 부상시키는 보조 부상 지지부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.A floating stage portion which extends in a carrying direction and floats the substrate on a substrate floating surface;
A substrate holding unit for holding (holding) the floating substrate on the substrate floating surface,
Wherein the substrate holding portion is moved along the carrying direction while holding the substrate floating on the substrate floating surface so that the substrate is lifted up on the substrate floating surface, In the apparatus,
When a wide substrate having a large dimension in a width direction perpendicular to the transport direction is transported from the substrate of the reference size to the floating position portion between the floating stage portion and the substrate holding portion, And an auxiliary lifting support for lifting a vacant region of the wide substrate to be lifted. 제1항에 있어서,
상기 보조 부상 지지부는, 그 부상 기구가 상기 부상 스테이지부와 같은 부상 기구를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.The method according to claim 1,
Wherein the auxiliary lifting support portion has a lifting mechanism such as the lifting stage portion. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 보조 부상 지지부는, 상기 부상 스테이지부에 착탈(着脫) 가능하게 설치되어 있고, 상기 광폭 기판이 반송되는 경우에 상기 부상 스테이지부에 장착되고, 상기 광폭 기판은 상기 부상 스테이지부 및 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여 부상되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the auxiliary lifting supporter is attached to the lifting stage part so as to be attachable and detachable and is mounted to the lifting stage part when the wide substrate is transported, the wide substrate is supported by the lifting stage part and the auxiliary lifting stage part, And is lifted by the lifting mechanism of the supporting portion. 제3항에 있어서,
상기 기판 보지부는, 상기 부상 스테이지부에 대하여 천폭 방향으로 위치 조절 가능하게 형성되어 있고, 상기 보조 부상 지지부가 떼어내져 있는 경우에는, 상기 부상 스테이지부에 근접하는 위치에 배치되고, 상기 부상 스테이지부에 상기 보조 부상 지지부가 장착된 경우에는, 상기 부상 스테이지부로부터 떨어진 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.The method of claim 3,
The substrate holding portion is formed so as to be positionally adjustable in the direction of the width of the float stage with respect to the float stage portion and is disposed at a position close to the float stage portion when the auxiliary float supporter is detached, And when the auxiliary flotation support portion is mounted, the flotation stage is disposed at a position away from the flotation stage portion. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 보조 부상 지지부는, 상기 기판 보지부에 설치되어 있고, 상기 보조 부상 지지부에 설치된 흡착부에 의하여 기준 사이즈의 기판을 흡착하여 보지하고, 상기 기판 보지부의 흡착부에 의하여 광폭 기판이 흡착되어 보지되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
The auxiliary lifting supporter is provided on the substrate holding portion and sucks and holds the substrate of the reference size by the sucking portion provided on the auxiliary lifting supporter and the wide substrate is attracted and held by the attracting portion of the substrate holding portion And the substrate is lifted up. 제5항에 있어서,
상기 기판 보지부의 흡착부는, 상기 보조 부상 지지부의 흡착부보다도 높이 위치가 높게 설정되어 있고, 상기 기판 보지부의 흡착부에 의하여 광폭 기판이 보지된 상태에서는, 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여, 상기 부상 스테이지부에 있어서의 부상 상태와 같은 부상 상태로 유지되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the suction portion of the substrate holding portion is set to be higher in height than the suction portion of the auxiliary flotation support portion and in a state where the wide substrate is held by the suction portion of the substrate holding portion, And is held in a floating state such as a floating state in the floating stage portion.
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