JP2008066675A - Substrate conveying apparatus, and substrate conveying method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば半導体ウエハやフラットパネルディスプレイ用ガラスプレート等の基板を枚葉搬送するための基板搬送装置及び基板搬送方法に関する。 The present invention relates to a substrate transfer apparatus and a substrate transfer method for transferring a single wafer such as a semiconductor wafer or a glass plate for a flat panel display.
半導体装置を製造する工場や、液晶装置、PDP、EL装置等のフラットパネルディスプレイを製造する工場等に設置される基板搬送装置においては、半導体ウエハやガラスプレート等の基板を搬送し、ローダやロボットアーム等を用いて、薄膜形成装置、エッチング装置、試験装置等の各種処理装置と、搬送経路との間で基板の受け渡しが行われている。このような基板搬送装置では、基板は、基板を複数枚収容可能なカセットに収容された状態で搬送されるのが一般的である。 In substrate transfer devices installed in factories that manufacture semiconductor devices and factories that manufacture flat panel displays such as liquid crystal devices, PDPs, and EL devices, substrates such as semiconductor wafers and glass plates are transferred to loaders and robots. An arm or the like is used to transfer a substrate between various processing apparatuses such as a thin film forming apparatus, an etching apparatus, and a test apparatus, and a transport path. In such a substrate transport apparatus, the substrate is generally transported in a state of being accommodated in a cassette that can accommodate a plurality of substrates.
さて、近年は、液晶テレビ等のフラットパネルディスプレイの大画面化等に伴って、基板が大型化している。例えば、ガラスプレートに関しては、1870mm×2200mm(第7世代)から、更に大きなサイズへと大型化が進展している。このため、基板を収容するカセット等も大型化・重量化し、搬送速度が低下することで、例えば仕掛在庫の増大を招く等、効率的な搬送が困難になりつつある。
このため、基板を一枚ずつ高速に搬送する枚葉搬送が注目されている(特許文献1参照。
For this reason, single-wafer conveyance that conveys substrates one by one at high speed has attracted attention (see Patent Document 1).
しかしながら、基板が枚葉搬送される場合には、カセットによって搬送する場合と比較して搬送する個体数が増加する。このため、従来と同等もしくはそれ以上の処理速度を実現するためには、より基板を高速搬送する必要がある。
特に、メインコンベヤと、このメインコンベヤと水平分岐する分岐コンベヤとの間における基板の受け渡し速度は、基板の高速搬送を実現させるにあたって非常に重要となってくる。このため、メインコンベヤと分岐コンベヤ間における基板の受け渡し速度を向上させる技術が望まれている。
However, when the substrate is conveyed by a single wafer, the number of individuals to be conveyed increases compared to the case where the substrate is conveyed by a cassette. For this reason, in order to realize a processing speed equal to or higher than the conventional one, it is necessary to transport the substrate at a higher speed.
In particular, the transfer speed of the substrate between the main conveyor and the branch conveyor that branches horizontally from the main conveyor is very important in realizing high-speed transfer of the substrate. For this reason, the technique which improves the delivery speed of the board | substrate between a main conveyor and a branch conveyor is desired.
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、メインコンベヤと分岐コンベヤ間における基板の受け渡し速度を向上させることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to improve the substrate transfer speed between the main conveyor and the branch conveyor.
上記目的を達成するために、本発明の基板搬送装置は、基板を枚葉搬送するメインコンベヤと、上記メインコンベヤに対して水平分岐する分岐コンベヤと、上記メインコンベヤ上及び上記分岐コンベヤ上において上記基板を浮上支持する支持手段と、該支持手段によって浮上支持された上記基板を、姿勢を変化させることなく上記メインコンベヤと上記分岐コンベヤとの間で受け渡しする基板受渡部と、を備えることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the substrate transport apparatus of the present invention includes a main conveyor that transports substrates in a single sheet, a branch conveyor that branches horizontally with respect to the main conveyor, the main conveyor, and the branch conveyor. A support means for levitating and supporting the substrate; and a substrate delivery section for delivering the substrate that is levitated and supported by the support means between the main conveyor and the branch conveyor without changing the posture. And
このような本発明の基板搬送装置によれば、基板が、支持手段によってメインコンベヤ上及び分岐コンベヤ上において浮上支持され、この状態において姿勢を変化させることなく受け渡される。
したがって、基板は、摩擦抵抗が無いに等しい状態でメインコンベヤと分岐コンベヤとの間において受け渡される。
According to such a substrate transport apparatus of the present invention, the substrate is supported by the supporting means so as to float on the main conveyor and the branch conveyor, and in this state, the substrate is transferred without changing its posture.
Accordingly, the substrate is transferred between the main conveyor and the branch conveyor with no frictional resistance.
また、本発明の基板搬送装置においては、上記基板受渡部が、上記基板の外縁を把持するとともに上記分岐コンベヤにおける上記基板の搬送方向に移動可能な把持部材を有するという構成を採用することができる。 Moreover, in the board | substrate conveyance apparatus of this invention, the said board | substrate delivery part can employ | adopt the structure that it has the holding member which can move to the conveyance direction of the said board | substrate in the said branch conveyor while holding the outer edge of the said board | substrate. .
また、本発明の基板搬送装置においては、上記支持手段が、圧縮空気を用いて上記基板を浮上支持するという構成を採用することができる。 In the substrate transfer apparatus of the present invention, a configuration in which the support means floats and supports the substrate using compressed air can be employed.
次に、本発明の基板搬送方法は、基板をメインコンベヤにより枚葉搬送し、上記基板を上記メインコンベヤ上において浮上支持し、上記メインコンベヤ上において浮上支持状態の上記基板を、上記メインコンベヤに対して水平分岐する分岐コンベヤに浮上支持状態を維持しつつかつ姿勢を変化させることなく受け渡すことを特徴とする。 Next, in the substrate transfer method of the present invention, the substrate is transferred by a main conveyor, the substrate is levitated and supported on the main conveyor, and the substrate in the levitating support state on the main conveyor is transferred to the main conveyor. On the other hand, it is characterized in that it is delivered to a branching conveyor that branches horizontally without changing the posture while maintaining a floating support state.
このような特徴を有する本発明の基板搬送方法によれば、基板がメインコンベヤ上において浮上支持され、この状態を維持しつつかつ姿勢を変化させることなく分岐コンベヤに受け渡される。
したがって、基板は、摩擦抵抗が無いに等しい状態でメインコンベヤから分岐コンベヤに受け渡される。
According to the substrate transport method of the present invention having such a feature, the substrate is supported and floated on the main conveyor, and is transferred to the branch conveyor without changing the posture while maintaining this state.
Accordingly, the substrate is transferred from the main conveyor to the branch conveyor in a state where there is no frictional resistance.
次に、本発明の基板搬送方法は、メインコンベヤに対して水平分岐する分岐コンベヤ上において基板を浮上支持し、上記分岐コンベヤ上において浮上状態の上記基板を、浮上支持状態を維持しつつかつ姿勢を変化させることなく上記メインコンベヤに受け渡すことを特徴とする。 Next, the substrate transfer method of the present invention floats and supports the substrate on a branch conveyor that branches horizontally with respect to the main conveyor, and maintains the floating support state and posture of the substrate that is floating on the branch conveyor. Is transferred to the main conveyor without changing the length.
このような特徴を有する本発明の基板搬送方法によれば、基板が分岐コンベヤ上において浮上支持され、この状態を維持しつつかつ姿勢を変化させることなくメインコンベヤに受け渡される。
したがって、基板は、摩擦抵抗が無いに等しい状態で分岐コンベヤからメインコンベヤに受け渡される。
According to the substrate transport method of the present invention having such a feature, the substrate is supported and floated on the branch conveyor, and is transferred to the main conveyor while maintaining this state and without changing the posture.
Accordingly, the substrate is transferred from the branching conveyor to the main conveyor in a state where there is no frictional resistance.
本発明によれば、基板が、摩擦抵抗が無いに等しい状態で、メインコンベヤと分岐コンベヤとの間において受け渡される。このため、受け渡し速度を高速化した場合であっても、衝撃が加わることによる基板の損傷が生じない。
したがって、本発明によれば、メインコンベヤと分岐コンベヤ間における基板の受け渡し速度を向上させることが可能となる。
According to the present invention, the substrate is transferred between the main conveyor and the branch conveyor with no frictional resistance. For this reason, even when the delivery speed is increased, the substrate is not damaged by the impact.
Therefore, according to this invention, it becomes possible to improve the delivery speed of the board | substrate between a main conveyor and a branch conveyor.
以下、図面を参照して、本発明に係る基板搬送装置及び基板搬送方法の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。 Hereinafter, an embodiment of a substrate transfer apparatus and a substrate transfer method according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale of each member is appropriately changed in order to make each member a recognizable size.
図1は、本実施形態に係る基板搬送装置1を示す模式図である。
基板搬送装置1は、液晶装置、PDP、EL装置等のフラットパネルディスプレイを製造する工場において、ガラスプレートPを一枚づつ枚葉搬送する装置であって、メインコンベヤ10と、メインコンベヤ10に対して水平分岐する複数の分岐コンベヤ20と、これらを統括的に制御する不図示の制御部等を備えている。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a substrate transfer apparatus 1 according to this embodiment.
The substrate transfer device 1 is a device that transfers glass plates P one by one in a factory that manufactures flat panel displays such as liquid crystal devices, PDPs, and EL devices. And a plurality of
メインコンベヤ10は、ガラスプレートPを水平に載置しつつ、その表面に沿った方向に、一定速度で搬送する装置であって、ガラスプレートPを空気により浮上させて非接触支持するエア浮上ユニット12(支持手段)とコンベヤ部15等から構成される(図2及び図3参照)。すなわち、本実施形態においては、本発明における支持手段の機能がメインコンベヤ10の一部に組み込まれている。
メインコンベヤ10は、工場のクリーンルーム内の床面に略直線状に配置される。そして、メインコンベヤ10の複数箇所には、分岐コンベヤ20の一端がメインコンベヤ10に対して略直交かつ水平に連結される。
The
The
分岐コンベヤ20は、メインコンベヤ10と同様に、ガラスプレートPを水平に載置しつつ、その表面沿った方向に一定速度で搬送する装置であって、エア浮上ユニット12と、コンベヤ部15等から構成される。すなわち、本実施形態においては、本発明における支持手段の機能が分岐コンベヤ10の一部にも組み込まれている。
更に、分岐コンベヤ20は、メインコンベヤ10上を搬送されるガラスプレートPを分岐コンベヤ20に受け入れたり、逆に分岐コンベヤ20上を搬送されるガラスプレートPをメインコンベヤ10に受け渡したりするために、メインコンベヤ10と分岐コンベヤ20との間でガラスプレートPの受け渡しを行うプレート受渡部40(基板受渡部)を備えている。
Similar to the
Further, the
分岐コンベヤ20の他端側には、薄膜形成装置5、エッチング装置6、試験装置7等の各種処理装置が配置・連結されている。薄膜形成装置5、エッチング装置6、試験装置7等の各種処理装置には、それぞれ2つの分岐コンベヤ20が平行配置されている。
例えば、薄膜形成装置5に連結する分岐コンベヤ21,22(分岐コンベヤ20)のうち、分岐コンベヤ21は、ガラスプレートPを薄膜形成装置5に搬入するためのコンベヤであり、分岐コンベヤ22は、ガラスプレートPを薄膜形成装置5から搬出するためのコンベヤである。
同様に、分岐コンベヤ23,25(分岐コンベヤ20)は、エッチング装置6、試験装置7にガラスプレートPを搬入するためのコンベヤであり、分岐コンベヤ24,26(分岐コンベヤ20)は、エッチング装置6、試験装置7からガラスプレートPを搬出するためのコンベヤである。
なお、各種処理装置にガラスプレートPを搬入する分岐コンベヤ21,23,25は、
ガラスプレートPを搬出する分岐コンベヤ22,24,26に対して、メインコンベヤ10の上流側に配置される。
Various processing apparatuses such as a thin film forming apparatus 5, an etching apparatus 6, and a test apparatus 7 are arranged and connected to the other end side of the
For example, among the
Similarly, the
The branch conveyors 21, 23, 25 that carry the glass plate P into various processing apparatuses are
With respect to the
図2は、メインコンベヤ10の詳細構成を示す図である。
メインコンベヤ10は、上述したように、ガラスプレートPを空気により浮上させつつ、水平方向の一方向に搬送する装置であり、エア浮上ユニット12とコンベヤ部15等を複数備えている。
FIG. 2 is a diagram illustrating a detailed configuration of the
As described above, the
エア浮上ユニット12は、平面状の上面を備えた部材であって、この上面(載置面)には圧縮空気を噴出する複数の流体噴出孔13が略均等な配置密度で形成されている。エア浮上ユニット12は、平面視矩形状に形成され、その長手方向がガラスプレートPの搬送方向に一致するように設けられている。また、エア浮上ユニット12の短手方向(幅方向)は、ガラスプレートPの幅方向(搬送方向に直交する方向)よりもやや狭く形成されている。
The
そして、不図示の圧縮空気供給装置からエア浮上ユニット12に圧縮空気が供給されることにより、圧縮空気が各流体噴出孔13から噴出するようになっている。これにより、エア浮上ユニット12上に載置されたガラスプレートPを各流体噴出孔13から噴出する圧縮空気により浮上させて、非接触に支持可能となっている。
The compressed air is supplied from the compressed air supply device (not shown) to the
コンベヤ部15は、複数のローラ16と、この複数のローラ16の周りに取り付けられたベルト17を備えている。また、ベルト17の表面には、複数の突起18がベルト17の長手方向(メインコンベヤ10の搬送方向)に均等な間隔で設けられている。
コンベヤ部15は、エア浮上ユニット12の両側に、ガラスプレートPの搬送方向に沿って配置されている。そして、一対のコンベヤ部15の配置間隔(距離)は、ガラスプレートPの幅方向と略同一となっている。
The
The
コンベヤ部15の各ローラ16の上端は同一水平面に位置するように配置され、これによりベルト17の表面に設けられた突起18がエア浮上ユニット12の上面よりも僅かに上方に位置するように配置される。そして、突起18がエア浮上ユニット12上に載置されたガラスプレートPの下面の外縁(幅方向の両端側)に当接するようになっている。
コンベヤ部15の各ローラ16は、不図示のモータ等によって同一の回転速度で同一方向に回転するようになっている。これにより、ガラスプレートPをエア浮上ユニット12により非接触に支持しつつ、コンベヤ部15によってエア浮上ユニット12に沿って搬送することが可能となっている。
The upper ends of the
Each
また、コンベヤ部15は、不図示の昇降装置により、上下方向に移動可能に構成されている。
コンベヤ部15を昇降装置により上昇させた場合には、各突起18がエア浮上ユニット12の上面よりも僅かに上方に位置するようになる。この場合には、コンベヤ部15の突起18がガラスプレートPの下面に当接し、ガラスプレートPを搬送できる。
一方、コンベヤ部15を下降させた場合には、各突起18がエア浮上ユニット12の上面よりも下方に位置するようになる。この場合には、コンベヤ部15(各突起18)がガラスプレートPから離間して、ガラスプレートPはエア浮上ユニット12上で完全に非接触支持された状態となる。したがって、ガラスプレートP外力が加わらない限り、ガラスプレートPはエア浮上ユニット12上で停止した状態で保持される。
Moreover, the
When the
On the other hand, when the
そして、メインコンベヤ10は、エア浮上ユニット12とコンベヤ部15とを、複数連結して構成されている。すなわち、各エア浮上ユニット12と各コンベヤ部15が互いに近接して、水平方向に並べて配置される。この際、各エア浮上ユニット12の上面(載置面)は、同一水平面に位置するように調整される。
The
図3は、分岐コンベヤ20の構成を示す図である。
この図に示すように、分岐コンベヤ20は、メインコンベヤ10と同様にエア浮上ユニット12とコンベヤ部15を備えるとともに、上述したように、ガラスプレートPをメインコンベヤ10と分岐コンベヤ20との間で受け渡すプレート受渡部40を備えている。
プレート受渡部40は、一対のリニアアクチュエータ42と、各リニアアクチュエータ42に連結駆動されて往復移動する把持部材44等から構成される。一対のリニアアクチュエータ42は、分岐コンベヤ20のエア浮上ユニット12とコンベヤ部15との間に、コンベヤ部15に沿って平行に配置される。また、プレート受渡部40は、各把持部材44が、分岐コンベヤ20のエア浮上ユニット12の上面と略同一高さの水平面において、分岐コンベヤ20の一端から他端側に向けて、ガラスプレートPの幅方向と同一長さ分だけ、分岐コンベヤ20におけるガラスプレートPの搬送方向(ガラスプレートPの幅方向)に移動可能となっている。
そして、一対の把持部材44は、分岐コンベヤ20のエア浮上ユニット12の長手方向(ガラスプレートPの搬送方向)において、常に同一位置にあるように制御される。
FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the
As shown in this figure, the
The
And a pair of holding
把持部材44は、ガラスプレートPの外縁部分、具体的には、ガラスプレートPの幅方向の一辺付近を把持可能に構成されている。ガラスプレートPの側面を吸着保持することによってガラスプレートPを把持してもよいし、ガラスプレートPの上面と下面を挟持することによってガラスプレートPを把持してもよい。
このような構成により、プレート受渡部40は、一対の把持部材44によりガラスプレートPの外縁を把持しつつ、分岐コンベヤ20の一端付近で往復移動することにより、姿勢を変化させることなくガラスプレートPをメインコンベヤ10と分岐コンベヤ20との間で受け渡すことが可能となっている。
このように、本実施形態においては、本発明の基板受渡部(プレート受渡部40)が、分岐コンベヤ20に組み込まれている。
The holding
With such a configuration, the
Thus, in this embodiment, the board | substrate delivery part (plate delivery part 40) of this invention is integrated in the
次に、基板搬送装置1の動作(基板搬送方法)について説明する。
メインコンベヤ10上を搬送されるガラスプレートPを分岐コンベヤ20に受け渡す場合(分岐コンベヤ21,23,25の動作)について説明する。
Next, the operation (substrate transport method) of the substrate transport apparatus 1 will be described.
The case where the glass plate P conveyed on the
まず、メインコンベヤ10及び分岐コンベヤ20の各エア浮上ユニット12に圧縮空気を供給して、各流体噴出孔13から圧縮空気を噴出させる。また、コンベヤ部15を駆動して、各ローラ16を一定の回転速度で回転させる。この際、各コンベヤ部15を不図示の昇降装置により上昇させておく。
そして、メインコンベヤ10の上流側において、ガラスプレートPを一枚づつ載置することにより、ガラスプレートPは枚葉搬送される。なお、ガラスプレートPは、例えば、その長手方向が搬送方向に一致するように、メインコンベヤ10上に載置される。
First, compressed air is supplied to each
Then, on the upstream side of the
そして、メインコンベヤ10上のガラスプレートPが分岐コンベヤ20との分岐部分まで移動すると、プレート受渡部40の把持部材44が分岐コンベヤ20の一端まで移動して、メインコンベヤ10上のガラスプレートPの外縁を把持する。これと同時に、メインコンベヤ10及び分岐コンベヤ20のコンベヤ部15は、不図示の昇降装置により下降する。
そして、把持部材44を分岐コンベヤ20に沿って移動させることで、ガラスプレートPはメインコンベヤ10上から分岐コンベヤ20上に搬送される。
And if the glass plate P on the
And the glass plate P is conveyed on the
ガラスプレートPが分岐コンベヤ20上に搬送されると、再びメインコンベヤ10及び分岐コンベヤ20のコンベヤ部15は、不図示の昇降装置により上昇する。これと同時に、プレート受渡部40の把持部材44によるガラスプレートPの把持が解除されることで、ガラスプレートPは分岐コンベヤ20により、メインコンベヤ10から離間する方向に搬送される。
When the glass plate P is transported onto the
そして、ガラスプレートPは、分岐コンベヤ20により搬送されて、薄膜形成装置5、エッチング装置6、試験装置7等の各種処理装置に受け渡される。
なお、各処理装置(薄膜形成装置5、エッチング装置6、試験装置7等)に受け渡されたガラスプレートPは、各処理装置において所定の処理が施された後に、各処理装置の外部に搬出される。
And the glass plate P is conveyed by the
The glass plate P delivered to each processing apparatus (the thin film forming apparatus 5, the etching apparatus 6, the test apparatus 7, etc.) is carried out to the outside of each processing apparatus after a predetermined process is performed in each processing apparatus. Is done.
このように、メインコンベヤ10上を搬送されるガラスプレートPを分岐コンベヤ20に受け渡す場合には、ガラスプレートPが、メインコンベヤ10上において浮上支持され、この状態を維持しつつかつ姿勢を変化させることなく分岐コンベヤ20に受け渡される。
したがって、ガラスプレートPは、摩擦抵抗が無いに等しい状態でメインコンベヤ10から分岐コンベヤ20に受け渡される。
As described above, when the glass plate P conveyed on the
Accordingly, the glass plate P is transferred from the
次に、ガラスプレートPを分岐コンベヤ20からメインコンベヤ10に受け渡す場合(分岐コンベヤ22,24,26の動作)について説明する。
ガラスプレートPを分岐コンベヤ20からメインコンベヤ10に受け渡す動作は、ガラスプレートPをメインコンベヤ10から分岐コンベヤ20に受け渡す動作を略反転させたものである。
Next, a case where the glass plate P is transferred from the
The operation of transferring the glass plate P from the
まず、メインコンベヤ10及び分岐コンベヤ20の各エア浮上ユニット12に圧縮空気を供給して、各流体噴出孔13から圧縮空気を噴出させる。また、コンベヤ部15を駆動して、各ローラ16を一定の回転速度で回転させる。この際、コンベヤ部15を不図示の昇降装置により上昇させておく。
First, compressed air is supplied to each
次に、ガラスプレートPが薄膜形成装置5、エッチング装置6、試験装置7等の各種処理装置から分岐コンベヤ20に受け渡される。ガラスプレートPは分岐コンベヤ20により搬送されて、分岐コンベヤ20の端部まで移動する。これと同時に、プレート受渡部40の把持部材44が分岐コンベヤ20上のガラスプレートPの外縁(搬送方向とは逆側の側面付近)を把持する。
Next, the glass plate P is delivered to the
次に、把持部材44を分岐コンベヤ20に沿って移動し、分岐コンベヤ20の一端まで移動することで、ガラスプレートPは分岐コンベヤ20上からメインコンベヤ10上に搬送される。
そして、把持部材44によるガラスプレートPの把持を解除する。これと同時に、メインコンベヤ10及び分岐コンベヤ20のコンベヤ部15は、不図示の昇降装置により上昇する。
これにより、メインコンベヤ10のコンベヤ部15の突起18がガラスプレートPの下面の幅方向両端に当接して、ガラスプレートPがメインコンベヤ10に受け渡され、枚葉搬送される。
Next, the glass plate P is transported from the
Then, the holding of the glass plate P by the holding
Thereby, the
このように、ガラスプレートPを分岐コンベヤ20からメインコンベヤ10に受け渡す場合には、ガラスプレートPが、分岐コンベヤ20上において浮上支持され、この状態を維持しつつかつ姿勢を変化させることなくメインコンベヤ10に受け渡される。
したがって、ガラスプレートPは、摩擦抵抗が無いに等しい状態で分岐コンベヤ20からメインコンベヤ10に受け渡される。
As described above, when the glass plate P is transferred from the
Therefore, the glass plate P is transferred from the
以上説明したように、本実施形態に係る基板搬送装置1は、ガラスプレートPを枚葉搬送するメインコンベヤ10と、該メインコンベヤ10に対して水平分岐する分岐コンベヤ20と、メインコンベヤ10上及び分岐コンベヤ20上においてガラスプレートPを浮上支持するエア浮上ユニット12と、該エア浮上ユニット12によって浮上支持されたガラスプレートPを、姿勢を変化させることなくメインコンベヤ10と分岐コンベヤ20との間で受け渡しするプレート受渡部40と、を備える。
このような本実施形態に係る基板搬送装置1によれば、ガラスプレートPが、摩擦抵抗が無いに等しい状態で、メインコンベヤ10と分岐コンベヤ20との間において受け渡される。このため、受け渡し速度を高速化した場合であっても、衝撃が加わることによるガラスプレートPの損傷が生じない。
したがって、本実施形態の基板搬送装置1によれば、メインコンベヤ10と分岐コンベヤ20間におけるガラスプレートPの受け渡し速度を向上させることが可能となる。
As described above, the substrate transport apparatus 1 according to the present embodiment includes the
According to such a substrate transport apparatus 1 according to the present embodiment, the glass plate P is transferred between the
Therefore, according to the substrate transfer apparatus 1 of the present embodiment, it is possible to improve the delivery speed of the glass plate P between the
なお、上述した実施の形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ、又は動作手順等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。 It should be noted that the shapes, combinations, operation procedures, and the like of the constituent members shown in the above-described embodiments are merely examples, and various changes can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.
例えば、上記実施形態においては、圧縮空気を用いてガラスプレートPを浮上支持する場合について説明したが、これに限らない。例えば、空間を伝播する振動波をガラスプレートPに付与することによってガラスプレートPを浮上支持させてもよい。 For example, in the said embodiment, although the case where the glass plate P was floated and supported using compressed air was demonstrated, it is not restricted to this. For example, the glass plate P may be levitated and supported by applying a vibration wave propagating through the space to the glass plate P.
また、上記実施形態においては、コンベヤ部15が、不図示の昇降装置により下降することによって、メインコンベヤ10と分岐コンベヤ20との間においてガラスプレートPを受け渡す場合に、ガラスプレートPがコンベヤ部15と接触することを防止することができる構成とした。しかしながら、本発明はこれに限るものではなく、コンベヤ部15が下降する替わりに、エア浮上ユニット12が上昇することによって、ガラスプレートPとコンベヤ部15とが接触することを防止しても構わない。この場合には、受け渡し側のコンベヤのエア浮上ユニット12上面は、上昇された後のエア浮上ユニット12の上面と面一となるように位置されている。
Moreover, in the said embodiment, when the
上記実施形態においては、ガラスプレートPを枚葉搬送する場合について説明したが、これに限らない。例えば、半導体ウエハ等の薄い板状部材であればよい。 In the said embodiment, although the case where the glass plate P was conveyed single sheet was demonstrated, it is not restricted to this. For example, a thin plate member such as a semiconductor wafer may be used.
上述した実施形態においては、分岐コンベヤ20の他端側に、薄膜形成装置5、エッチング装置6、試験装置7等の各種処理装置を配置・連結する場合について説明したが、これに限らない。分岐コンベヤ20の下流側(他端側)に、更に分岐コンベヤ20が連結される場合であってもよい。
また、薄膜形成装置5、エッチング装置6、試験装置7等の各種処理装置の他、ガラスプレートP等の基板を複数一時的に保存するストッカを配置してもよい。
In the above-described embodiment, the case where various processing apparatuses such as the thin film forming apparatus 5, the etching apparatus 6, and the test apparatus 7 are arranged and connected to the other end side of the
Further, in addition to various processing apparatuses such as the thin film forming apparatus 5, the etching apparatus 6, and the test apparatus 7, a stocker for temporarily storing a plurality of substrates such as a glass plate P may be disposed.
上述した実施形態においては、薄膜形成装置5、エッチング装置6、試験装置7等の各種処理装置に、ガラスプレートPを搬入する分岐コンベヤ21,23,25とガラスプレートPを搬出する分岐コンベヤ22,24,26を配置する場合について説明したが、これに限らない。一つの分岐コンベヤ20が、ガラスプレートPを搬入・搬出を行う場合であってもよい。
In the above-described embodiment, the
P…ガラスプレート(基板)
1…基板搬送装置
10…メインコンベヤ
12…エア浮上ユニット(支持手段)
15…コンベア部
20…分岐コンベヤ
40…プレート引渡部(基板受渡部)
44…把持部材
P ... Glass plate (substrate)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
15 ...
44. Holding member
Claims (5)
前記メインコンベヤに対して水平分岐する分岐コンベヤと、
前記メインコンベヤ上及び前記分岐コンベヤ上において前記基板を浮上支持する支持手段と、
該支持手段によって浮上支持された前記基板を、姿勢を変化させることなく前記メインコンベヤと前記分岐コンベヤとの間で受け渡しする基板受渡部と、
を備えることを特徴とする基板搬送装置。 A main conveyor that transports substrates one by one,
A branching conveyor that branches horizontally with respect to the main conveyor;
Support means for levitating and supporting the substrate on the main conveyor and the branch conveyor;
A substrate delivery section for delivering the substrate supported and levitated by the support means between the main conveyor and the branch conveyor without changing the posture;
The board | substrate conveyance apparatus characterized by the above-mentioned.
前記基板を前記メインコンベヤ上において浮上支持し、
前記メインコンベヤ上において浮上支持状態の前記基板を、前記メインコンベヤに対して水平分岐する分岐コンベヤに浮上支持状態を維持しつつかつ姿勢を変化させることなく受け渡す
ことを特徴とする基板搬送方法。 A board is conveyed by a main conveyor.
The substrate is levitated and supported on the main conveyor,
A substrate transfer method, wherein the substrate in a floating support state on the main conveyor is delivered to a branching conveyor that branches horizontally with respect to the main conveyor without changing the posture while maintaining the floating support state.
前記分岐コンベヤ上において浮上状態の前記基板を、浮上支持状態を維持しつつかつ姿勢を変化させることなく前記メインコンベヤに受け渡す
ことを特徴とする基板搬送方法。
Supports the substrate floating on the branch conveyor that branches horizontally to the main conveyor,
A substrate transfer method, wherein the substrate in a floating state on the branch conveyor is transferred to the main conveyor without changing the posture while maintaining a floating support state.
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