KR102605684B1 - Substrate levitation and transportation device - Google Patents

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KR102605684B1
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다이스케 오쿠다
토시히로 모리
칸지 오카모토
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도레 엔지니아린구 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 천폭(川幅) 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도(高精度)로 유지하면서 반송(搬送)할 수 있는 기판 부상(浮上) 반송 장치를 제공한다.
[해결 수단] 반송 방향으로 연장되고, 기판 부상면(浮上面) 상(上)에 기판을 부상시키는 부상 스테이지부와, 기판 부상면 상에 부상한 기판을 보지(保持)하는 기판 보지부를 구비하고, 기판 부상면 상에 부상한 상태의 기판을 보지한 상태로 기판 보지부가 반송 방향을 따라 이동하는 것에 의하여, 기판이 기판 부상면 상에 부상한 상태로 반송되는 기판 부상 반송 장치에 있어서, 부상 스테이지부와 기판 보지부와의 사이에는, 기준 사이즈의 기판보다도 반송 방향과 직교하는 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판을 반송하는 경우에, 기판 부상면으로부터 천폭 방향으로 비어져 나오는 광폭 기판의 비어져 나옴 영역을 부상시키는 보조 부상 지지부를 구비하는 구성으로 한다.[Problem] To provide a substrate floating transport device that can transport wide substrates with large dimensions in the width direction while maintaining flatness with high precision.
[Solution] A floating stage extending in the conveyance direction for levitating a substrate on a substrate floating surface, and a substrate holding portion for holding the substrate floating on the substrate floating surface. A floating stage in a substrate floating transport device in which the substrate is transported in a floating state on the substrate floating surface by moving the substrate holding portion along the transport direction while holding the substrate in a floating state on the substrate floating surface, the floating stage Between the section and the substrate holding portion, a protrusion area of the wide substrate protrudes in the fabric direction from the substrate floating surface when transporting a wide substrate with a larger dimension in the fabric width direction orthogonal to the transportation direction than a standard size substrate. It is configured to include an auxiliary flotation support unit that levitates.

Description

기판 부상 반송 장치{SUBSTRATE LEVITATION AND TRANSPORTATION DEVICE}Substrate levitation and transport device {SUBSTRATE LEVITATION AND TRANSPORTATION DEVICE}

본 발명은, 기판을 부상(浮上)시키면서 반송(搬送)하는 기판 부상 반송 장치에 관한 것이고, 특히, 기준 사이즈의 기판에 대하여 천폭(川幅) 방향 치수가 큰 기판에서도 평면도를 고정도(高精度)로 유지하면서 반송할 수 있는 기판 부상 반송 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate levitating and conveying device that transports a substrate while levitating it. In particular, the present invention relates to a substrate levitating and transporting device, and in particular, it relates to a substrate having a large width in the width direction with respect to a substrate of a standard size, with high degree of flatness. It relates to a substrate floating transport device that can transport while maintaining the substrate.

액정 디스플레이나 플라스마 디스플레이(plasma display) 등의 플랫 패널 디스플레이(flat panel display)에는, 기판 상(上)에 레지스트액이 도포된 것(도포 기판이라고 칭한다)이 사용되고 있다. 이 도포 기판은, 기판을 반송하면서 도포 장치에 의하여 기판 상에 레지스트액이 균일하게 도포되는 것에 의하여 도포막이 형성된다. 그 후, 나아가 기판 반송 장치에 의하여 반송되고, 건조 장치 등에 의하여 도포막이 건조되는 것에 의하여 생산된다.In flat panel displays such as liquid crystal displays and plasma displays, a substrate coated with a resist liquid (referred to as an applied substrate) is used. A coating film is formed on this coated substrate by uniformly applying a resist liquid onto the substrate using a coating device while transporting the substrate. After that, it is further transported by a substrate transport device and produced by drying the coating film using a drying device or the like.

최근의 기판 반송 장치에서는, 도포 기판의 이면(裏面)(도포면과 반대 측)의 손상을 회피하기 위하여, 에어(air) 부상이나 초음파 부상 등, 기판을 부상시키면서 기판을 반송시키는 기판 부상 반송 장치가 사용되고 있다. 이 기판 부상 반송 장치는, 도 7에 도시하는 바와 같이, 기판(W)을 부상시키는 부상 스테이지부(100)와, 부상한 상태의 기판(W)을 보지(保持)하는 기판 보지부(102)를 가지고 있고, 기판 보지부(102)를 반송 방향으로 이동시키는 것에 의하여 기판(W)이 부상 스테이지부(100) 상을 부상한 상태로 반송되도록 되어 있다.In recent substrate transport devices, in order to avoid damage to the back surface (opposite to the application surface) of the coated substrate, a substrate levitation transport device is used to transport the substrate while levitating it, such as air levitation or ultrasonic levitation. It is being used. As shown in FIG. 7, this substrate levitating transfer device includes a floating stage unit 100 for levitating a substrate W, and a substrate holding unit 102 for holding the substrate W in a levitated state. The substrate W is transported in a floating state on the floating stage 100 by moving the substrate holding portion 102 in the conveying direction.

예를 들어, 에어 부상 반송의 경우에는, 도 8(a)에 도시하는 바와 같이, 부상 스테이지부(100)에 있어서의 기판(W)을 부상시키는 기판 부상면(浮上面)(101)에, 에어를 분출(噴出)시키는 분출구와 에어를 흡인하는 흡인구가 일정한 비율로 배치되어 있고, 기판 부상면(101)으로부터 소정의 높이 위치로 기판(W)을 부상시킬 수 있도록 에어의 분출력과 에어의 흡인력이 조정된다(도 8의 화살표는 에어의 흐름을 도시한다). 그리고, 기판(W)의 반송 방향과 직교하는 방향(이하, 천폭 방향이라고 한다)의 양(兩) 단부(端部)는, 기판 보지부(102)의 흡착부(102a)에서 흡착되는 것에 의하여 보지되고, 이 상태에서 기판 보지부(102)가 반송 방향으로 주행하는 것에 의하여 기판(W)이 반송 방향으로 반송된다. 즉, 부상 스테이지부(100)는, 기판(W)에 대하여 천폭 방향으로 작게 형성되어 있고, 부상 스테이지부(100)의 기판 부상면(101)에 기판(W)을 재치(載置)한 상태에서는, 천폭 방향 양 단부에 기판(W)을 흡착할 수 있는 정도의 흡착대(吸着代)(비어져 나옴 영역(T))를 가지는 정도로 형성되어 있다. 그리고, 기판 보지부(102)를 부상 스테이지부(100)에 근접시켜 설치하는 것으로 에어 부상이 작용하지 않는 영역을 극력(極力) 적게 하는 것에 의하여, 천폭 방향 양단에 걸쳐 기판(W)을 균일하게 부상시킬 수 있고, 기판(W)의 평면 자세(이하, 평면도라고 한다)를 고정도로 유지한 상태에서 반송할 수 있다. 이것으로부터, 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치(103)나 건조 장치에 있어서, 기판(W)의 자세의 영향에 의한 도포 얼룩이나 건조 얼룩을 억제할 수 있도록 되어 있다.For example, in the case of air floating transport, as shown in FIG. 8(a), the substrate W in the floating stage unit 100 is levitated on the substrate floating surface 101, The blowout port for blowing out air and the suction port for sucking in air are arranged at a certain ratio, and the air blowout force and air are used to levitate the substrate W to a predetermined height from the substrate floating surface 101. The suction force is adjusted (the arrow in Figure 8 shows the flow of air). In addition, both ends in the direction perpendicular to the transport direction of the substrate W (hereinafter referred to as the fabric width direction) are adsorbed by the adsorption portion 102a of the substrate holding portion 102. It is held, and in this state, the substrate W is conveyed in the conveyance direction by the substrate holding portion 102 traveling in the conveyance direction. That is, the floating stage unit 100 is formed to be small in the width direction with respect to the substrate W, and the substrate W is placed on the substrate floating surface 101 of the floating stage unit 100. , it is formed to have an adsorption zone (protruding area T) at both ends in the fabric width direction capable of adsorbing the substrate W. Then, by installing the substrate holding part 102 close to the floating stage part 100, the area where air floating does not act is reduced as much as possible, thereby uniformly lifting the substrate W across both ends of the fabric width direction. It can be levitated and transported while maintaining the planar posture (hereinafter referred to as flatness) of the substrate W with high precision. From this, in the coating device 103 and the drying device combined with the substrate levitating transport device, coating unevenness and drying unevenness due to the influence of the posture of the substrate W can be suppressed.

일본국 공개특허공보 특개2013-115125호Japanese Patent Publication No. 2013-115125

근년(近年)에는, 기판(W)의 다종다양화(多種多樣化)에 수반하여, 사이즈가 다른 도포 기판(W)이 요구되는 경우가 있다. 즉, 최종 제품의 기판 사이즈의 다양화에 의하여, 통상(通常)보다도 천폭 방향으로 치수가 큰 기판(W)(이하, 광폭 기판(W)이라고 한다)이 요구되는 경우가 있다. 그런데 상기의 기판 부상 반송 장치로 광폭 기판(W)을 반송하려고 하면, 도 8(b)에 도시하는 바와 같이, 도포해야 할 기판 유효 영역(α)이 부상 스테이지부(100)를 넘어 기판 보지부(102)에 걸쳐 버리는 것에 의하여, 기판(W)의 평면도를 유지할 수 없다고 하는 문제가 있었다. 즉, 기판 유효 영역(α)이 기판 보지부(102)에 걸치면, 부상 스테이지부(100)와 기판 보지부(102)에서 기판 유효 영역(α) 내에 부상 상태가 다르기 때문에, 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치(103)나 건조 장치에 있어서, 기판(W)의 자세 변화에 의한 도포 얼룩이나 건조 얼룩이 발생한다고 하는 문제가 있었다.In recent years, with the wide variety of substrates W, there are cases where coating substrates W of different sizes are required. That is, due to the diversification of the substrate size of the final product, there are cases where a substrate W (hereinafter referred to as a wide substrate W) with a larger dimension in the width direction than usual is required. However, when attempting to transport the wide substrate W with the above-mentioned substrate floating transport device, as shown in FIG. 8(b), the effective area α of the substrate to be applied extends beyond the floating stage 100 and falls into the substrate holding part. There was a problem that the flatness of the substrate W could not be maintained by discarding it over (102). That is, when the substrate effective area α spans the substrate holding portion 102, the floating state within the substrate effective area α is different in the floating stage portion 100 and the substrate holding portion 102, so the substrate floating transfer device and In the combined coating device 103 and drying device, there was a problem that coating unevenness or drying unevenness occurred due to a change in the posture of the substrate W.

이와 같은 경우에는, 천폭 방향으로 약간이라도 치수가 큰 광폭 기판(W)은, 상기 기판 부상 반송 장치에서는 반송하지 못하고, 광폭 기판(W)을 반송시키기 위하여 새로운 기판 부상 반송 장치를 별도 준비할 필요가 있다고 하는 문제가 있었다.In such a case, the wide substrate W, which has a slightly large dimension in the width direction, cannot be transported by the above substrate floating transfer device, and it is necessary to separately prepare a new substrate floating transportation device to transport the wide substrate W. There was a problem that was said to exist.

본 발명은, 상기의 문제점에 감안하여 이루어진 것이고, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있는 기판 부상 반송 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.The present invention was made in view of the above problems, and its purpose is to provide a substrate levitating transport device that can transport a wide substrate having a large dimension in the fabric width direction while maintaining the flatness with high precision.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기판 부상 반송 장치는, 반송 방향으로 연장되고, 기판 부상면 상에 기판을 부상시키는 부상 스테이지부와, 상기 기판 부상면 상에 부상한 기판을 보지하는 기판 보지부를 구비하고, 상기 기판 부상면 상에 부상한 상태의 기판을 보지한 상태로 상기 기판 보지부가 상기 반송 방향을 따라 이동하는 것에 의하여, 기판이 기판 부상면 상에 부상한 상태로 반송되는 기판 부상 반송 장치에 있어서, 상기 부상 스테이지부와 상기 기판 보지부와의 사이에는, 기준 사이즈의 기판보다도 반송 방향과 직교하는 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판을 반송하는 경우에, 상기 기판 부상면으로부터 천폭 방향으로 비어져 나오는 상기 광폭 기판의 비어져 나옴 영역을 부상시키는 보조 부상 지지부를 구비하고 있고, 상기 보조 부상 지지부는, 상기 기판 보지부에 설치되어 있고, 상기 보조 부상 지지부에는, 상기 기준 사이즈의 기판이 흡착되어 보지되는 흡착면이 상기 기판 보지부의 흡착면보다도 천폭 방향 내측(內側)에 설치되고, 상기 기준 사이즈의 기판이 반송될 때에는, 상기 보조 부상 지지부의 흡착면에서 상기 기준 사이즈의 기판이 흡착 보지되고, 상기 광폭 기판이 반송될 때에는 상기 기판 보지부의 흡착면에서 상기 광폭 기판이 흡착 보지되는 것을 특징으로 하고 있다.In order to solve the above problem, the substrate floating transfer device of the present invention includes a floating stage part extending in the transport direction and levitating the substrate on the substrate floating surface, and a substrate holding part holding the substrate floating on the substrate floating surface. A substrate floating transfer device provided, wherein the substrate is transported in a floating state on the substrate floating surface by moving the substrate holding portion along the transport direction while holding the substrate in a floating state on the substrate floating surface. In the case where a wide substrate having a larger dimension in the fabric width direction perpendicular to the transportation direction is transported between the floating stage portion and the substrate holding portion than a substrate of the standard size, there is a space between the floating stage portion and the substrate holding portion in the fabric width direction from the substrate floating surface. and an auxiliary floating supporter for levitating a protruding area of the wide substrate. The auxiliary floating supporter is provided in the substrate holding section, and the auxiliary floating supporter holds a substrate of the standard size by adsorbing it. The suction surface is provided on the inner side of the suction surface of the substrate holding portion in the width direction, and when the substrate of the standard size is conveyed, the substrate of the standard size is suction-held by the suction surface of the auxiliary floating support portion. When the wide substrate is transported, the wide substrate is adsorbed and held on the suction surface of the substrate holding portion.

상기 기판 부상 반송 장치에 의하면, 부상 스테이지부와 기판 보지부와의 사이에 보조 부상 지지부를 구비하고 있기 때문에, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있다. 즉, 광폭 기판 중, 부상 스테이지부보다도 천폭 방향으로 비어져 나오는 영역은, 보조 부상 지지부에 의한 부상 기구에 의하여, 부상 스테이지부 상에 위치하는 기판과 같은 부상 상태로 설정하는 것에 의하여, 천폭 방향에 걸쳐 부상 상태를 균일하게 할 수 있다. 따라서, 종래의 기판 부상 반송 장치에 비하여, 광폭 기판의 평면도를 고정도로 유지하여 기판 유효 영역에 도포 얼룩이 발생하는 문제를 억제할 수 있고, 광폭 기판을 위하여 새로운 기판 부상 반송 장치를 별도 준비하는 설비 코스트를 억제할 수 있다.According to the above-mentioned substrate floating transport device, since the auxiliary floating support part is provided between the floating stage part and the substrate holding part, even a wide substrate with a large dimension in the fabric width direction can be transported while maintaining the flatness with high precision. That is, among the wide substrates, the area that protrudes in the shallow width direction beyond the floating stage portion is set to the same floating state as the substrate located on the floating stage portion by the floating mechanism provided by the auxiliary floating support portion, so that the area protrudes in the shallow width direction beyond the floating stage portion. It is possible to equalize the injury condition throughout the injury. Therefore, compared to the conventional substrate levitation device, the flatness of the wide substrate can be maintained with high precision, preventing the problem of coating unevenness in the effective area of the substrate, and reducing the equipment cost of separately preparing a new substrate levitation device for the wide substrate. can be suppressed.

또한, 상기 보조 부상 지지부는, 그 부상 기구가 상기 부상 스테이지부와 같은 부상 기구를 가지고 있는 구성이 바람직하다.Additionally, it is preferable that the auxiliary floating support portion has the same floating mechanism as the floating stage portion.

이 구성에 의하면, 보조 부상 지지부는, 부상 스테이지부와 같은 부상 기구(예를 들어, 에어 부상, 초음파 부상 등)를 가지고 있기 때문에, 보조 부상 지지부에 있어서의 부상 상태를 부상 스테이지부에 있어서의 부상 상태와 같은 상태로 할 수 있고, 광폭 기판의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다.According to this configuration, since the auxiliary levitation support portion has the same levitation mechanism (e.g., air levitation, ultrasonic levitation, etc.) as the levitation stage portion, the levitation state of the auxiliary levitation support portion is determined by the levitation state of the levitation stage portion. This can be done in the same condition, and the floating state of the wide substrate can be made uniform across the width direction.

예를 들어, 상기 보조 부상 지지부는, 상기 부상 스테이지부에 착탈(着脫) 가능하게 설치되어 있고, 상기 광폭 기판이 반송되는 경우에 상기 부상 스테이지부에 장착되고, 상기 광폭 기판은 상기 부상 스테이지부 및 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여 부상되는 구성으로 하여도 무방하다.For example, the auxiliary floating support part is removably installed on the floating stage, and is mounted on the floating stage when the wide substrate is transported, and the wide substrate is attached to the floating stage. And it may be configured to be levitated by a levitating mechanism of the auxiliary levitating support portion.

이 구성에 의하면, 광폭 기판을 반송하는 경우에만, 보조 부상 지지부를 부상 스테이지부에 장착하면 되기 때문에, 간단한 구성으로 보조 부상 지지부를 설치할 수 있다.According to this configuration, the auxiliary floating support unit only needs to be mounted on the floating stage unit when transporting a wide substrate, so the auxiliary floating support unit can be installed with a simple configuration.

또한, 상기 기판 보지부는, 상기 부상 스테이지부에 대하여 천폭 방향으로 위치 조절 가능하게 형성되어 있고, 상기 보조 부상 지지부가 떼어내져 있는 경우에는, 상기 부상 스테이지부에 근접하는 위치에 배치되고, 상기 부상 스테이지부에 상기 보조 부상 지지부가 장착된 경우에는, 상기 부상 스테이지부로부터 떨어진 위치에 배치되는 구성으로 하여도 무방하다.In addition, the substrate holding portion is formed to be positionally adjustable in the width direction with respect to the floating stage portion, and when the auxiliary floating support portion is removed, it is disposed at a position close to the floating stage portion, and the floating stage portion is When the auxiliary floating support unit is mounted on the unit, it may be configured to be disposed at a position away from the floating stage unit.

이 구성에 의하면, 보조 부상 지지부의 유무에 관계없이, 기판 보지부와 부상 스테이지부(보조 부상 지지부가 장착되어 있는 경우에는 보조 부상 지지부)에서 형성되는 간극(間隙)을 필요 최소한으로 할 수 있기 때문에, 그 간극이 기판의 평면도에 영향을 미치는 것을 극력 억제할 수 있다.According to this configuration, regardless of the presence or absence of the auxiliary floating support, the gap formed between the substrate holding part and the floating stage (if the auxiliary floating support is installed, the auxiliary floating support) can be kept to the necessary minimum. , it is possible to suppress the gap from affecting the flatness of the substrate as much as possible.

또한, 상기 보조 부상 지지부는, 상기 기판 보지부에 설치되어 있고, 상기 보조 부상 지지부에 설치된 흡착부에 의하여 기준 사이즈의 기판을 흡착하여 보지하고, 상기 기판 보지부의 흡착부에 의하여 광폭 기판이 흡착되어 보지되는 구성으로 하여도 무방하다.In addition, the auxiliary floating support part is installed in the substrate holding part, and the suction part installed in the auxiliary floating support part adsorbs and holds a substrate of a standard size, and the wide substrate is adsorbed by the adsorption part of the substrate holding part. It is okay to use a configuration that is visible.

그리고, 기준 사이즈의 기판, 광폭 기판, 어느 한 쪽을 반송하는 경우여도, 장치 구성을 재조합할 일이 없이, 절차 작업을 간략화할 수 있다.Moreover, even in the case of transporting either a standard size substrate or a wide substrate, the procedural work can be simplified without having to reorganize the device configuration.

또한, 상기 기판 보지부의 흡착면은, 상기 보조 부상 지지부의 흡착면보다도 높이 위치가 높게 설정되어 있고, 상기 기판 보지부의 흡착면에 의하여 광폭 기판이 보지된 상태에서는, 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여, 상기 부상 스테이지부에 있어서의 부상 상태와 같은 부상 상태로 유지되는 구성으로 하여도 무방하다.In addition, the suction surface of the substrate holding portion is set at a higher height than the suction surface of the auxiliary floating support portion, and in a state where a wide substrate is held by the suction surface of the substrate holding portion, the suction surface of the auxiliary floating support portion is operated by the floating mechanism. Accordingly, it may be configured to maintain the same floating state as that of the floating stage portion.

이 구성에 의하면, 광폭 기판을 보지하는 경우에 있어서, 부상 스테이지부 및 보조 부상 지지부 중 어느 하나에 있어서도 부상 상태가 같은 상태로 유지되기 때문에, 천폭 방향에 걸쳐 광폭 기판의 평면도를 고정도로 유지할 수 있다.According to this configuration, when holding a wide substrate, the floating state is maintained in the same state in either the floating stage portion or the auxiliary floating support portion, so the flatness of the wide substrate can be maintained with high precision across the fabric width direction. .

본 발명의 기판 부상 반송 장치에 의하면, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있다.According to the substrate floating transport device of the present invention, even wide substrates with large dimensions in the fabric width direction can be transported while maintaining flatness with high precision.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치를 도시하는 사시도이다.
도 2는 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치의 정면도이다.
도 3은 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치에 있어서 기판을 보지한 상태를 도시하는 확대도이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면, (b)는 광폭 기판을 보지하기 위하여 부상 스테이지부에 보조 부상 지지부를 장착한 상태를 도시하는 도면이다.
도 4는 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치의 기판 보지부를 도시하는 도면이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면, (b)는 보조 부상 지지부를 장착한 경우에 광폭 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이다.
도 5는 상기 일 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치의 기판 보지부의 흡착 패드를 도시하는 도면이고, (a)는 흡착하기 전의 상태를 도시하는 도면이고, (b)는 흡착한 상태를 도시하는 도면이다.
도 6은 다른 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치의 기판 보지부를 도시하는 도면이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이고, (b)는 광폭 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이다.
도 7은 종래의 기판 부상 반송 장치와 조합되는 도포 장치를 도시하는 사시도이다.
도 8은 종래의 기판 부상 반송 장치에 있어서 기판의 보지 상태를 도시하는 도면이고, (a)는 표준 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이고, (b)는 광폭 기판을 보지한 상태를 도시하는 도면이다.1 is a perspective view showing a coating device combined with a substrate levitating transport device according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a front view of a coating device combined with a substrate levitating transport device in the above-mentioned embodiment.
FIG. 3 is an enlarged view showing a state in which a substrate is held in the substrate levitating transport device according to the above-described embodiment, (a) a view showing a state in which a standard substrate is held, and (b) a view showing a state in which a wide substrate is held. This is a diagram showing a state in which an auxiliary floating support is mounted on the floating stage for holding.
FIG. 4 is a diagram showing the substrate holding portion of the substrate levitating and transport device in the above-described embodiment, (a) showing a state in which a standard substrate is held, and (b) illustrating a state in which the auxiliary floating support portion is mounted. This is a diagram showing a state in which a wide substrate is held.
FIG. 5 is a diagram showing the suction pad of the substrate holding portion of the substrate levitation transfer device in the above-mentioned embodiment, (a) is a diagram showing the state before suction, and (b) is a diagram showing the state after suction. It is a drawing.
Fig. 6 is a diagram showing a substrate holding portion of a substrate levitating and transport device in another embodiment, (a) showing a state in which a standard substrate is held, and (b) showing a state in which a wide substrate is held. This is a drawing.
Figure 7 is a perspective view showing a coating device combined with a conventional substrate levitating transport device.
Figure 8 is a diagram showing the holding state of a substrate in a conventional substrate floating transfer device, (a) showing a state holding a standard substrate, and (b) showing a state holding a wide substrate. It is a drawing.

본 발명의 기판 부상 반송 장치에 관련되는 실시예에 관하여 도면을 이용하여 설명한다.Embodiments related to the substrate floating transport apparatus of the present invention will be described using the drawings.

도 1은, 본 발명의 기판 부상 반송 장치(1)와 조합되는 도포 장치(2)를 개략적으로 도시하는 사시도이고, 도 2는, 도 1에 있어서의 기판 부상 반송 장치(1)와 조합되는 도포 장치(2)의 정면도이다.FIG. 1 is a perspective view schematically showing the coating device 2 combined with the substrate levitation device 1 of the present invention, and FIG. 2 is a coating device combined with the substrate levitation device 1 in FIG. 1. This is a front view of the device (2).

도 1, 도 2에 있어서, 기판(W)을 반송시키는 기판 부상 반송 장치(1)는, 반송되는 기판(W)에 도포막을 형성하는 도포 장치(2)의 도포 유닛(21)과 조합되어 있고, 일련의 기판 처리 장치를 형성하고 있다. 이 기판 부상 반송 장치(1)는, 일 방향으로 연장되는 부상 스테이지부(10)를 가지고 있고, 이 부상 스테이지부(10)가 연장되는 방향을 따라 기판(W)이 반송된다. 도 1의 예에서는, 부상 스테이지부(10)는, X축 방향으로 연장되어 형성되어 있고, 기판(W)이 X축 방향으로 상류 측(전(前) 공정 측)으로부터 하류 측(후(後) 공정 측)으로 반송되도록 되어 있다. 그리고, 도포 유닛(21)으로부터 도포액을 토출(吐出)하는 것에 의하여, 기판(W) 상에 도포막이 형성된다. 구체적으로는, 기판(W)이 부상 스테이지부(10)에 부상된 상태로 X축 방향으로 반송되면서, 도포 유닛(21)으로부터 도포액이 토출되는 것에 의하여, 기판(W) 상에 균일 두께의 도포막이 형성되도록 되어 있다. 덧붙여, 이하의 설명에서는, 기판(W)이 반송되는 방향을 X축 방향으로 하고, X축 방향이 반송 방향에 상당한다. 또한, X축 방향(반송 방향)과 수평면 상에서 직교하는 방향을 Y축 방향으로 하고, 특히 Y축 방향을 천폭 방향이라고도 한다. 그리고, X축 방향 및 Y축 방향의 쌍방에 직교하는 방향을 Z축 방향으로 하여 설명을 해 나가는 것으로 한다.1 and 2, the substrate floating transport device 1 for transporting the substrate W is combined with the application unit 21 of the coating device 2 for forming a coating film on the transported substrate W, , forming a series of substrate processing devices. This substrate floating and transport device 1 has a floating stage 10 extending in one direction, and the substrate W is transported along the direction in which the floating stage 10 extends. In the example of FIG. 1, the floating stage unit 10 is formed to extend in the ) is to be returned to the process side). Then, a coating film is formed on the substrate W by discharging the coating liquid from the coating unit 21. Specifically, while the substrate W is transported in the A coating film is formed. In addition, in the following description, the direction in which the substrate W is transported is assumed to be the X-axis direction, and the X-axis direction corresponds to the transport direction. In addition, the direction orthogonal to the The explanation will be made by considering the direction orthogonal to both the X-axis direction and the Y-axis direction as the Z-axis direction.

도포 유닛(21)은, 기판(W)에 도포액을 도포하는 것이고, 프레임부(22)와 구금부(口金部)(23)를 가지고 있다. 프레임부(22)는, 부상 스테이지부(10)의 Y축 방향 양측(兩側)에 각각 배치되는 지주(支柱)(22a)를 가지고 있고, 이 지주(22a)에 구금부(23)가 설치되어 있다. 구체적으로는, 지주(22a)는, Y축 방향(천폭 방향) 양측에 고정되어 설치되어 있고, 후술하는 기판 보지부(30)의 주행을 방해하는 일이 없도록, 기판 보지부(30)의 주행 경로보다도 외측(外側)에 배치되어 있다. 그리고, 이러한 지주(22a)에 구금부(23)가 걸쳐져 설치되어 있고, 구금부(23)가 부상 스테이지부(10)를 가로지르는 상태로 장착되어 있다. 또한, 지주(22a)에는 승강 기구가 설치되어 있고, 승강 기구를 작동시키는 것에 의하여 구금부(23)가 Z축 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 즉, 승강 기구에 의하여 구금부(23)가 부상 스테이지부(10)에 대하여 접리(接離) 동작할 수 있도록 되어 있다.The application unit 21 applies the coating liquid to the substrate W, and has a frame portion 22 and a cage portion 23. The frame portion 22 has struts 22a disposed on both sides of the floating stage portion 10 in the Y-axis direction, and a retaining portion 23 is installed on this prop 22a. It is done. Specifically, the struts 22a are fixedly installed on both sides of the Y-axis direction (fabric width direction), and are installed so as not to interfere with the movement of the substrate holding portion 30, which will be described later. It is placed outside the path. Then, the confinement portion 23 is installed across the support 22a, and the confinement portion 23 is mounted across the floating stage portion 10. Additionally, a lifting mechanism is provided on the support 22a, and the holding portion 23 can move in the Z-axis direction by operating the lifting mechanism. That is, the detention part 23 can move in relation to the floating stage part 10 by the lifting mechanism.

구금부(23)는, 도포액을 토출하는 것이고, 일 방향으로 연장되어 형성되어 있다. 이 구금부(23)는, 일 방향으로 연장되는 슬릿 노즐(23a)(도 2 참조)이 형성되어 있고, 구금부(23) 내에 저류(貯留)된 도포액을 슬릿 노즐(23a)로부터 토출할 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 슬릿 노즐(23a)은, 부상 스테이지부(10)와 대향하는 면에 형성되어 있고, 구금부(23)는 슬릿 노즐(23a)이 천폭 방향으로 연장되는 상태로 설치되어 있다. 그리고, 반송되는 기판(W)에 대하여 구금부(23)를 승강시켜 기판(W)과 슬릿 노즐(23a)과의 거리를 소정의 거리에 맞춘 상태에서, 슬릿 노즐(23a)로부터 도포액을 토출하는 것에 의하여, 천폭 방향으로 일양(一樣)한 도포막이 반송 방향으로 연속적으로 형성되도록 되어 있다.The nozzle portion 23 discharges the coating liquid and is formed to extend in one direction. This cap 23 is formed with a slit nozzle 23a (see Fig. 2) extending in one direction, and the coating liquid stored in the cap 23 can be discharged from the slit nozzle 23a. It is possible to do so. Specifically, the slit nozzle 23a is formed on the surface opposite to the floating stage portion 10, and the nozzle portion 23 is installed in a state in which the slit nozzle 23a extends in the cloth width direction. Then, the nozzle portion 23 is raised and lowered with respect to the conveyed substrate W, and the coating liquid is discharged from the slit nozzle 23a while adjusting the distance between the substrate W and the slit nozzle 23a to a predetermined distance. By doing this, a coating film that is uniform in the fabric width direction is formed continuously in the conveyance direction.

또한, 기판 부상 반송 장치(1)는, 기판(W)을 부상시키면서 특정 방향으로 반송시키는 것이다. 기판 부상 반송 장치(1)는, 기판(W)을 부상시키는 부상 스테이지부(10)와, 부상 스테이지부(10)에 부상시킨 기판(W)을 보지하고 반송시키는 기판 반송 유닛(3)을 가지고 있다.Additionally, the substrate levitating transport device 1 transports the substrate W in a specific direction while levitating it. The substrate floating transfer device 1 has a floating stage unit 10 for levitating a substrate W, and a substrate transfer unit 3 for holding and transferring the substrate W levitated on the floating stage unit 10. there is.

부상 스테이지부(10)는, 기판(W)을 부상시키는 것이고, 본 실시예에서는 에어 부상 기구를 가지고 있다. 부상 스테이지부(10)는, 기대(基臺)(11) 상에 평판부(平板部)(12)가 설치되어 형성되어 있고, 복수 매(枚)의 평판부(12)가 X축 방향을 따라 배열되어 형성되어 있다. 즉, 평판부(12)는, 평활한 기판 부상면(12a)(도 3 참조)을 가지고 있고, 각각의 기판 부상면(12a)이 균일 높이가 되도록 배열되어 있다. 그리고, 기판 부상면(12a)에는, 반송시키는 기판(W)과의 사이에 공기층이 형성되는 것에 의하여 기판(W)을 소정 높이 위치로 부상시킬 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 평판부(12)에는, 기판 부상면(12a)에 개구(開口)하는 미소(微小)한 분출구(도시하지 않음)와 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 분출구와 컴프레서(compressor)가 배관으로 접속되고, 흡인구와 진공 펌프가 배관으로 접속되어 있다. 그리고, 분출구로부터 분출되는 에어와 흡인구에 발생하는 흡인력을 밸런스(balance)시키는 것에 의하여, 기판(W)이 기판 부상면(12a)으로부터 소정 높이로 수평의 자세로 부상시킬 수 있도록 되어 있다. 이것에 의하여, 기판(W)의 평면 자세(평면도라고 한다)를 고정도로 유지한 상태에서 반송할 수 있도록 되어 있다.The floating stage unit 10 levitates the substrate W, and has an air floating mechanism in this embodiment. The floating stage portion 10 is formed by installing a flat plate portion 12 on a base 11, and a plurality of flat portions 12 extend in the X-axis direction. They are arranged and formed accordingly. That is, the flat plate portion 12 has a smooth substrate floating surface 12a (see FIG. 3), and is arranged so that each substrate floating surface 12a has a uniform height. And, on the substrate floating surface 12a, an air layer is formed between the substrate W to be transported, thereby allowing the substrate W to be levitated to a predetermined height position. Specifically, the flat plate portion 12 is formed with a minute blowout port (not shown) and a suction port (not shown) opening on the substrate floating surface 12a, and the blowout port and the compressor are formed. The compressor is connected by a pipe, and the suction port and vacuum pump are connected by a pipe. And, by balancing the air blown out from the jet and the suction force generated at the suction port, the substrate W can be levitated in a horizontal position at a predetermined height from the substrate floating surface 12a. As a result, it is possible to transport the substrate W while maintaining its planar posture (referred to as flatness) with high precision.

또한, 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)는, 그 Y축 방향 치수가 기준 사이즈의 기판(W)(표준 기판(W))의 Y축 방향 치수보다도 작게 형성되어 있고, 기판 부상면(12a) 상에 기판(W)을 재치하면, 기판 부상면(12a)으로부터 기판(W)의 Y축 방향 단부가 비어져 나온 상태가 된다. 이 비어져 나온 부분(비어져 나옴 영역(T))을 후술의 기판 반송 유닛(3)으로 보지하는 것에 의하여, 기판(W)을 반송할 수 있도록 되어 있다. 이 평판부(12)의 Y축 방향 치수는, 비어져 나옴 영역(T)이 기판 보지부(30)에서 보지할 수 있는 필요 최소한의 치수로 되도록 설정되어 있다. 즉, 비어져 나옴 영역(T)의 비어져 나옴량은, 기판 보지부(30)에서 기판(W)의 비어져 나옴 영역(T)을 보지한 경우에, 기판 보지부(30)와 평판부(12)와의 사이에 서로 접촉하는 일이 없는 약간의 간극이 형성되는 정도로 설정되어 있다. 덧붙여, 기준 사이즈의 기판(W)이란, 기판 부상 반송 장치(1)를 설계할 때에 기준이 되는 크기의 기판(W)의 것을 말하고, 후술의 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판(W)에 대하여 표준 기판(W)으로 부르는 것으로 한다.In addition, the flat plate portion 12 of the floating stage portion 10 is formed so that its Y-axis direction dimension is smaller than the Y-axis direction dimension of the standard size substrate W (standard substrate W), and the substrate floating surface When the substrate W is placed on (12a), the Y-axis direction end of the substrate W protrudes from the substrate floating surface 12a. The substrate W can be transported by holding this protruding portion (protruding area T) with the substrate transport unit 3 described later. The Y-axis direction dimension of this flat plate portion 12 is set so that the protruding area T has the minimum necessary dimension that can be held by the substrate holding portion 30. That is, the amount of protrusion of the protruding area T is determined by the amount of protrusion between the substrate holding unit 30 and the flat plate part when the protruding area T of the substrate W is held in the substrate holding unit 30. It is set to a level where a slight gap is formed between (12) and no contact with each other. In addition, the standard size substrate W refers to a substrate W of a size that serves as a standard when designing the substrate floating transfer device 1, and the standard size for the wide substrate W having a large width direction described later is standard. It shall be referred to as substrate (W).

또한, 평판부(12)는, 보조 부상 지지부(4)를 장착할 수 있도록 되어 있다. 이 보조 부상 지지부(4)는, 표준 기판(W)에 대하여 천폭 방향 치수가 큰 광폭 기판(W)을 반송시키는 경우에, 광폭 기판(W)의 자세를 천폭 방향에 걸쳐 수평으로 유지시키는 것이다.Additionally, the flat plate portion 12 is capable of mounting the auxiliary floating support portion 4. This auxiliary floating support portion 4 maintains the attitude of the wide substrate W horizontally across the fabric width direction when transporting a wide substrate W having a large dimension in the fabric width direction relative to the standard substrate W.

본 실시예의 보조 부상 지지부(4)는, 보조 블록(40)이고, 광폭 기판(W)을 반송시키는 경우에, 평판부(12)의 Y축 방향(천폭 방향) 측면에 장착하여 고정되도록 되어 있다. 구체적으로는, 보조 블록(40)은, 직방체 형상을 가지고 있고, 반송 방향 치수는 평판부(12)와 같은 치수로 형성되고, 천폭 방향 치수는, 광폭 기판(W)이 기판 부상면(12a)에 재치된 경우에, 광폭 기판(W)의 Y축 방향 단부가 천폭 방향으로 비어져 나온 상태가 되는 치수로 형성되어 있다. 즉, 비어져 나옴량은, 표준 기판(W)과 마찬가지로, 기판 보지부(30)에서 기판(W)을 보지한 경우에, 기판 보지부(30)가 보조 블록(40)에 접촉하지 않고 주행하는데 최저한 필요로 하는 치수, 즉, 기판 보지부(30)와 보조 블록(40)과의 사이에 서로 접촉하는 일이 없는 약간의 간극이 형성되는 치수로 설정되어 있다. 또한, 보조 블록(40)이 장착된 상태에서는, 보조 블록(40)의 상면(上面)이 평판부(12)의 기판 부상면(12a)과 같은 높이로 되도록 설정되어 있다. 이것에 의하여, 평판부(12)와 보조 블록(40)에 의하여 한층 큰 평탄하고 일양한 기판 부상면(12a)이 형성되도록 되어 있다.The auxiliary floating support portion 4 of the present embodiment is an auxiliary block 40, and is mounted and fixed to the side of the flat plate portion 12 in the Y-axis direction (fabric width direction) when transporting the wide substrate W. . Specifically, the auxiliary block 40 has a rectangular parallelepiped shape, and the transport direction dimension is formed to be the same as that of the flat plate portion 12, and the width direction dimension is such that the wide substrate W is formed on the substrate floating surface 12a. When mounted, the Y-axis direction end of the wide substrate W is formed in a dimension such that it protrudes in the width direction. That is, the amount of protrusion is similar to the standard substrate W, when the substrate W is held in the substrate holding portion 30, the substrate holding portion 30 travels without contacting the auxiliary block 40. It is set to the minimum required dimension, that is, the dimension that forms a slight gap between the substrate holding portion 30 and the auxiliary block 40 without contacting each other. In addition, when the auxiliary block 40 is mounted, the upper surface of the auxiliary block 40 is set to be at the same height as the substrate floating surface 12a of the flat plate portion 12. As a result, a larger, flat and uniform substrate floating surface 12a is formed by the flat plate portion 12 and the auxiliary block 40.

또한, 보조 블록(40)(보조 부상 지지부(4))은, 부상 스테이지부(10)와 같은 부상 기구(본 실시예에서는 에어 부상 기구)를 가지고 있다. 구체적으로는, 보조 블록(40)의 기판 부상면(12a)을 형성하는 면에는, 평판부(12)와 마찬가지로, 분출구(도시하지 않음)와 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 평판부(12)의 분출구 및 흡인구와 같은 태양(態樣)으로 형성되어 있다. 즉, 평판부(12)의 분출구 및 흡인구와 같은 비율, 같은 위치 관계를 가지도록 형성되어 있고, 평판부(12)에 있어서의 기판(W)의 부상 상태와, 보조 블록(40)에 있어서의 기판(W)의 부상 상태를 같은 상태로 할 수 있도록 되어 있다. 따라서, 보조 블록(40)이 장착된 상태에서는, 광폭 기판(W)에서도, 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 부상시킬 수 있고, 기판(W)의 평면도를 고정도로 유지한 상태에서 부상시킬 수 있다.Additionally, the auxiliary block 40 (auxiliary floating support portion 4) has a floating mechanism (air floating mechanism in this embodiment) similar to the floating stage portion 10. Specifically, on the surface forming the substrate floating surface 12a of the auxiliary block 40, a blowout port (not shown) and a suction port (not shown) are formed, similar to the flat plate portion 12, It is formed in the same form as the outlet and suction port of part 12. That is, it is formed to have the same ratio and the same positional relationship as the ejection port and the suction port of the flat plate portion 12, and the floating state of the substrate W in the flat plate portion 12 and the auxiliary block 40 The floating state of the substrate W can be maintained in the same state. Therefore, with the auxiliary block 40 mounted, even a wide substrate W can be levitated uniformly across the width direction, and the substrate W can be levitated while maintaining the flatness of the substrate W with high precision.

또한, 기판 반송 유닛(3)은, 부상 상태의 기판(W)을 반송시키는 것이고, 기판(W)을 보지하는 기판 보지부(30)와, 기판 보지부(30)를 주행시키는 반송 구동부(31)를 가지고 있다.In addition, the substrate transport unit 3 transports the substrate W in a floating state, and includes a substrate holding unit 30 that holds the substrate W, and a transport drive unit 31 that moves the substrate holding unit 30. ) has.

반송 구동부(31)는, 기판 보지부(30)를 반송 방향으로 이동시키도록 구성되어 있고, 부상 스테이지부(10)를 따라 반송 방향으로 연장되는 반송 레일부(31a)와, 이 반송 레일부(31a) 상을 주행하는 반송 본체부(31b)로 형성되어 있다. 구체적으로는, 반송 방향으로 연장되도록 설치된 기대(11)가 부상 스테이지부(10)의 천폭 방향 양측에 배치되어 있고, 각각의 기대(11) 상에 반송 레일부(31a)가 설치되어 있다. 즉, 반송 레일부(31a)가 부상 스테이지부(10)를 따라 중단되는 일 없이 연속하여 설치되어 있다. 또한, 반송 본체부(31b)는, 오목 형상으로 형성된 판상(板狀) 부재이고, 도 4(a)에 도시하는 바와 같이, 반송 레일부(31a)의 상면을 덮도록 설치되어 있다. 구체적으로는, 반송 본체부(31b)는, 에어 패드(32)를 통하여 반송 레일부(31a)에 덮도록 설치되어 있고, 도시하지 않는 리니어(linear) 모터를 구동시키는 것에 의하여, 반송 본체부(31b)가 반송 레일부(31a) 상을 주행하도록 되어 있다. 즉, 리니어 모터를 구동 제어하는 것에 의하여, 반송 본체부(31b)가 반송 레일부(31a) 상을 접촉하는 일 없이 주행하고, 적절한 위치에서 정지할 수 있도록 되어 있다.The conveyance drive unit 31 is configured to move the substrate holding portion 30 in the conveyance direction, and includes a conveyance rail portion 31a extending in the conveyance direction along the floating stage portion 10, and this conveyance rail portion ( 31a) It is formed of a conveyance main body portion 31b running on the top. Specifically, bases 11 installed to extend in the conveyance direction are arranged on both sides in the cloth width direction of the floating stage portion 10, and conveyance rail portions 31a are provided on each base 11. That is, the conveyance rail portion 31a is installed continuously without interruption along the floating stage portion 10. In addition, the conveyance main body portion 31b is a plate-shaped member formed in a concave shape, and is installed so as to cover the upper surface of the conveyance rail portion 31a, as shown in FIG. 4(a). Specifically, the conveyance main body 31b is installed to cover the conveyance rail portion 31a through the air pad 32, and drives a linear motor (not shown) to form the conveyance main body ( 31b) is configured to run on the conveyance rail portion 31a. That is, by controlling the drive of the linear motor, the conveyance body portion 31b can travel without contacting the conveyance rail portion 31a and stop at an appropriate position.

또한, 기판 보지부(30)는, 기판(W)을 보지하는 것이고, 반송 본체부(31b)에 장착되어 있다. 구체적으로는, 도 4(a)에 도시하는 바와 같이, 기판 보지부(30)는, 거의 직방체의 블록상(狀)으로 형성되어 있고, 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 통하여 장착되어 있다. 또한, 기판 보지부(30)는, 그 상면(흡착면(33))이 부상시킨 기판(W)의 하면(下面)의 높이 위치와 면 위치가 되도록 설정되어 있다. 그리고, 도 5에 도시하는 바와 같이, 흡착면(33)에는, 개구부(34)가 형성되어 있고, 그 개구부(34) 내에 탄성 변형 가능한 주름 호스 형상의 흡착 패드(35)가 매설되어 있다. 이 흡착 패드(35)는, 흡인력을 발생시켜 기판(W)을 흡착 보지하는 것이고, 통상 상태(기판(W)이 없는 상태)에서는, 그 선단(先端)이 개구부(34)로부터 약간 돌출한 상태에서 대기하도록 설정되어 있다(도 5(a) 참조). 그리고, 기판 부상면(12a)에 기판(W)이 재치되면 기판 부상면(12a)으로부터 천폭 방향으로 비어져 나온 부분이 흡착 패드(35)에 당접(當接)한다. 이 상태에서 흡착 패드(35)에 흡인력을 발생시키면, 기판(W)의 하면이 흡착 패드(35)로 흡인되면서, 그 흡인 상태를 유지한 채로, 흡착 패드(35) 자체가 개구부(34) 내에 수축하여 기판(W)의 하면이 흡착면(33)에 당접하고 기판(W)이 보지되도록 되어 있다(도 5(b) 참조). 이것에 의하여, 부상 스테이지부(10)에서 부상된 기판(W)이, 천폭 방향에 걸쳐 같은 부상 높이 위치를 유지한 상태로 보지된다.Additionally, the substrate holding portion 30 holds the substrate W and is mounted on the conveyance main body portion 31b. Specifically, as shown in FIG. 4(a), the substrate holding portion 30 is formed in a substantially rectangular block shape, and is in contact with the flat plate portion 12 of the floating stage portion 10. It is installed through a gap that is not sufficient. Additionally, the substrate holding portion 30 is set so that its upper surface (adsorption surface 33) is at the height and surface position of the lower surface of the floating substrate W. As shown in Fig. 5, an opening 34 is formed in the suction surface 33, and an elastically deformable corrugated hose-shaped suction pad 35 is embedded in the opening 34. This suction pad 35 generates suction force to adsorb and hold the substrate W, and in a normal state (state without the substrate W), its tip slightly protrudes from the opening 34. It is set to wait at (see Figure 5(a)). Then, when the substrate W is placed on the substrate floating surface 12a, the portion protruding from the substrate floating surface 12a in the width direction comes into contact with the suction pad 35. In this state, when a suction force is generated on the suction pad 35, the lower surface of the substrate W is attracted to the suction pad 35, and while maintaining the suction state, the suction pad 35 itself is inserted into the opening 34. By contracting, the lower surface of the substrate W comes into contact with the suction surface 33 and the substrate W is held (see Fig. 5(b)). As a result, the substrate W levitated on the floating stage unit 10 is held in a state in which the same floating height position is maintained across the fabric width direction.

또한, 기판 보지부(30)는, 위치 조절 기구를 가지고 있다. 즉, 기판 보지부(30)는, 반송 본체부(31b)에 리니어 가이드(36)를 통하여 설치되어 있고, 천폭 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 반송 본체부(31b)에는, 천폭 방향으로 이동 가능한 리니어 가이드(36)가 장착되어 있고, 이 리니어 가이드(36)에 기판 보지부(30)가 장착되어 있다. 그리고, 리니어 가이드(36)를 구동 제어하는 것에 의하여 기판 보지부(30)가 천폭 방향으로 이동하고, 적절한 위치에서 정지할 수 있도록 되어 있다.Additionally, the substrate holding portion 30 has a position adjustment mechanism. That is, the substrate holding portion 30 is installed on the conveyance main body portion 31b via a linear guide 36 and is movable in the width direction. Specifically, a linear guide 36 movable in the fabric width direction is mounted on the conveyance main body portion 31b, and a substrate holding portion 30 is mounted on this linear guide 36. Then, by controlling the drive of the linear guide 36, the substrate holding portion 30 can move in the width direction and stop at an appropriate position.

본 실시예에서는, 표준 기판(W)을 반송시키는 경우에는, 기판 보지부(30)가 부상 스테이지부(10)에 근접하는 위치로 이동하고 고정된다(도 4(a) 참조). 즉, 기판 보지부(30)와 부상 스테이지부(10)와의 사이에, 기판 보지부(30)가 반송 방향으로 주행하여도 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 가지도록, 기판 보지부(30)가 부상 스테이지부(10)에 극력 접근하는 위치에 고정된다. 이것에 의하여, 기판(W)에 부상 기구가 작용하지 않는 영역을 극력 적게 할 수 있고, 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다.In this embodiment, when transporting the standard substrate W, the substrate holding portion 30 moves to a position close to the floating stage portion 10 and is fixed (see Fig. 4(a)). That is, between the substrate holding portion 30 and the floating stage portion 10, there is a gap between the substrate holding portion 30 and the floating stage portion 10 that does not contact the flat plate portion 12 of the floating stage portion 10 even if the substrate holding portion 30 travels in the conveyance direction. The substrate holding portion 30 is fixed at a position as close as possible to the floating stage portion 10 so as to have a gap. As a result, the area on the substrate W where the lifting mechanism does not act can be reduced as much as possible, and the floating state of the substrate W can be made uniform across the width direction.

또한, 광폭 기판(W)을 반송시키는 경우에는, 보조 블록(40)이 존재하는 분만큼 천폭 방향 외측으로 이동하고, 기판 보지부(30)가 보조 블록(40)에 근접한 위치에 고정된다(도 4(b) 참조). 이 경우에 있어서도, 기판 보지부(30)와 보조 블록(40)과의 사이에, 기판 보지부(30)가 반송 방향으로 주행하여도 보조 블록(40)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 가지도록 고정되고, 기판(W)에 부상 기구가 작용하지 않는 영역을 극력 적게 하여, 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있도록 되어 있다.In addition, when transporting the wide substrate W, the auxiliary block 40 moves outward in the width direction by the amount present, and the substrate holding portion 30 is fixed at a position close to the auxiliary block 40 (Figure 4(b)). Even in this case, there is a gap between the substrate holding portion 30 and the auxiliary block 40 such that the substrate holding portion 30 does not contact the auxiliary block 40 even when traveling in the conveyance direction. It is fixed, and the area on which the floating mechanism does not act on the substrate W is reduced as much as possible, so that the floating state of the substrate W can be made uniform across the width direction.

이와 같이, 본 실시예에 있어서의 기판 부상 반송 장치(1)에서는, 부상 스테이지부(10)와 기판 보지부(30)와의 사이에 보조 부상 지지부(4)(보조 블록(40))를 구비하고 있기 때문에, 천폭 방향으로 치수가 큰 광폭 기판(W)에서도 평면도를 고정도로 유지하면서 반송할 수 있다. 즉, 광폭 기판(W) 중, 부상 스테이지부(10)보다도 천폭 방향으로 비어져 나오는 영역은, 보조 부상 지지부(4)에 의한 부상 기구에 의하여, 부상 스테이지부(10) 상에 위치하는 기판(W)과 같은 부상 상태로 설정하는 것에 의하여, 천폭 방향에 걸쳐 부상 상태를 균일하게 할 수 있다. 따라서, 종래의 기판 부상 반송 장치(1)에 비하여, 광폭 기판(W)의 평면도를 고정도로 유지하여 기판(W) 유효 영역에 도포 얼룩이 발생하는 문제를 억제할 수 있고, 광폭 기판(W)을 위하여 새로운 기판 부상 반송 장치(1)를 별도 준비하는 설비 코스트를 억제할 수 있다.In this way, in the substrate floating transfer device 1 in this embodiment, the auxiliary floating support portion 4 (auxiliary block 40) is provided between the floating stage portion 10 and the substrate holding portion 30; Therefore, even a wide substrate W having a large dimension in the width direction can be transported while maintaining the flatness with high precision. That is, of the wide substrate W, the area protruding in the width direction beyond the floating stage 10 is a substrate positioned on the floating stage 10 by the floating mechanism by the auxiliary floating support portion 4. By setting the floating state as W), the floating state can be made uniform across the fabric width direction. Therefore, compared to the conventional substrate floating transfer device 1, the flatness of the wide substrate W can be maintained with high precision, the problem of coating unevenness occurring in the effective area of the substrate W can be suppressed, and the wide substrate W can be For this reason, the equipment cost of separately preparing a new substrate floating transfer device 1 can be reduced.

또한, 보조 블록(40)에는, 부상 스테이지부(10)와 같은 에어 부상 기구를 사용하고 있기 때문에, 보조 블록(40)에 있어서의 부상 상태를 부상 스테이지부(10)에 있어서의 부상 상태와 같은 상태로 할 수 있기 때문에, 광폭 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다.In addition, since the same air levitation mechanism as that of the levitating stage unit 10 is used in the auxiliary block 40, the levitation state of the auxiliary block 40 is the same as the levitation state of the levitating stage portion 10. Since the floating state of the wide substrate W can be made uniform across the width direction.

또한, 상기 실시예에서는, 보조 부상 지지부(4)가 부상 스테이지부(10)에 장착되는 보조 블록(40)인 경우에 관하여 설명하였지만, 보조 부상 지지부(4)가 기판 보지부(30)에 설치되는 것이어도 무방하다. 도 6에 도시하는 예에서는, 기판 보지부(30)의 흡착면(33a)이 보조 부상 지지부(4)의 일부를 이루도록 구성되어 있다. 즉, 기판 보지부(30)에는, 흡착 블록(37)이 설치되고, 천폭 방향 내측(內側)에 보조 부상 지지부(4)가 형성되고, 천폭 방향 외측에 기판 보지부(30)가 형성되고, 이것들이 일체적으로 구성되어 있다. 구체적으로는, 기판 보지부(30)의 흡착면(33a)이, 천폭 방향 외측에 위치하고, 보조 부상 지지부(4)의 흡착면(33b)보다도 일단(一段) 높은 위치에 형성되어 있다. 그리고, 각각의 흡착면(33)(흡착면(33a) 및 흡착면(33b))에는, 개구부(34)가 형성되어 있고, 그 개구부(34)에 상술한 흡착 패드(35)가 매설되고, 기판(W)을 흡착하여 보지할 수 있도록 되어 있다. 즉, 흡착 블록(37)에 있어서의 보조 부상 지지부(4)는, 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 근접하는 위치에 배치되어 있고, 부상 스테이지부(10)에 표준 기판(W)이 재치되면 기판 부상면(12a)으로부터 비어져 나온 비어져 나옴 영역(T)을 흡착 패드(35)로 흡착할 수 있도록 되어 있다(도 6(a)). 즉, 흡착 블록(37)의 보조 부상 지지부(4)는, 상기 실시예와 마찬가지로, 기판 보지부(30)가 반송 방향으로 주행하여도 부상 스테이지부(10)의 평판부(12)에 접촉하지 않는 정도의 간극을 가지도록 배치되고, 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 부상시키고, 기판(W)의 평면도를 고정도로 유지한 상태에서 부상시킬 수 있다.In addition, in the above embodiment, the case where the auxiliary floating support portion 4 is the auxiliary block 40 mounted on the floating stage portion 10 has been described, but the auxiliary floating support portion 4 is installed on the substrate holding portion 30. It is okay to do anything. In the example shown in FIG. 6, the suction surface 33a of the substrate holding portion 30 is configured to form a part of the auxiliary floating support portion 4. That is, the suction block 37 is installed in the substrate holding portion 30, the auxiliary floating support portion 4 is formed on the inner side in the fabric width direction, and the substrate holding portion 30 is formed on the outer side in the fabric width direction, These are comprised of one whole. Specifically, the suction surface 33a of the substrate holding portion 30 is located on the outer side in the fabric width direction and is formed at a position one end higher than the suction surface 33b of the auxiliary floating support portion 4. And, an opening 34 is formed in each adsorption surface 33 (adsorption surface 33a and 33b), and the above-described adsorption pad 35 is embedded in the opening 34, It is designed to adsorb and hold the substrate (W). That is, the auxiliary floating support portion 4 in the suction block 37 is disposed in a position close to the flat plate portion 12 of the floating stage portion 10, and the standard substrate (W ) is placed, the protruding area T protruding from the substrate floating surface 12a can be adsorbed by the suction pad 35 (FIG. 6(a)). That is, the auxiliary floating support portion 4 of the suction block 37 does not contact the flat plate portion 12 of the floating stage portion 10 even if the substrate holding portion 30 travels in the conveyance direction, as in the above embodiment. It is arranged so as to have a gap that is small enough to allow the substrate W to be levitated uniformly across the fabric width direction, and the substrate W can be levitated while maintaining the flatness of the substrate W with high precision.

또한, 기판 보지부(30)에 있어서의 흡착 패드(35)는, 부상 스테이지부(10)에 재치된 광폭 기판(W)의 비어져 나옴 영역(T)을 흡착할 수 있는 위치에 배치되어 있다. 또한, 보조 부상 지지부(4)의 흡착면(33b)에는, 분출구(도시하지 않음)와 흡인구(도시하지 않음)가 형성되어 있고, 평판부(12)의 분출구 및 흡인구와 같은 태양으로 형성되어 있다. 즉, 부상 스테이지부(10)에 광폭 기판(W)이 재치되면, 부상 스테이지부(10)로부터 비어져 나오는 부분은, 흡착 블록(37)의 보조 부상 지지부(4)에 설치된 부상 기구에 의하여 부상된다. 또한, 흡착면(33b)과 기판 부상면(12a)의 높이 위치는 공통의 높이로 설정되어 있다. 이것에 의하여, 광폭 기판(W)의 비어져 나옴 영역(T)은, 부상 스테이지부(10)에 설치된 부상 기구와 같은 구성의 부상 기구로 부상시킬 수 있기 때문에, 기판 보지부(30)가 부상 스테이지부(10)로부터 천폭 방향 외측으로 떨어진 위치에 배치되어 있어도, 기판(W)의 부상 상태를 천폭 방향에 걸쳐 균일하게 할 수 있다. 그리고, 본 실시예에서는, 상기 실시예와 같이, 표준 기판(W)과 광폭 기판(W)을 반송할 때에, 보조 블록(40)을 갈아 끼울 필요가 없기 때문에, 상기 실시예에 비하여, 절차 작업을 간략화할 수 있다.In addition, the suction pad 35 in the substrate holding portion 30 is disposed at a position capable of adsorbing the protruding region T of the wide substrate W placed on the floating stage portion 10. . In addition, a jet port (not shown) and a suction port (not shown) are formed on the adsorption surface 33b of the auxiliary floating support portion 4, and are formed in the same manner as the jet port and suction port of the flat plate portion 12. there is. That is, when the wide substrate W is placed on the floating stage unit 10, the portion protruding from the floating stage unit 10 is floated by the floating mechanism installed on the auxiliary floating support unit 4 of the suction block 37. do. Additionally, the height positions of the adsorption surface 33b and the substrate floating surface 12a are set to a common height. As a result, the protruding area T of the wide substrate W can be levitated by a levitation mechanism of the same configuration as the levitation mechanism installed in the levitation stage portion 10, so that the substrate holding portion 30 is levitated. Even if it is disposed at a position away from the stage portion 10 in the fabric width direction, the floating state of the substrate W can be made uniform across the fabric width direction. In addition, in this embodiment, as in the above embodiment, there is no need to replace the auxiliary block 40 when transporting the standard substrate W and the wide substrate W, so compared to the above embodiment, there is no need for procedural work. can be simplified.

또한, 상기 실시예에서는, 부상 스테이지부(10)의 부상 기구로서 에어 부상 기구를 사용하는 예에 관하여 설명하였지만, 초음파 부상 등, 다른 부상 기구를 이용하는 것이어도 무방하다.In addition, in the above embodiment, an example of using an air levitation mechanism as a levitation mechanism of the levitation stage unit 10 has been described, but other levitation mechanisms such as ultrasonic levitation may be used.

또한, 상기 실시예에서는, 보조 부상 지지부(4)에 있어서, 부상 스테이지부(10)와 같은 부상 기구를 이용하는 예에 관하여 설명하였지만, 다른 부상 기구를 이용하는 것이어도 무방하다. 예를 들어, 부상 스테이지부(10)에 초음파 부상 기구를 사용하고, 보조 부상 지지부(4)에 있어서 에어 부상 기구를 사용하여도 무방하다. 어느 부상 기구를 사용하여도, 부상 스테이지부(10) 및 보조 부상 지지부(4)에서의 부상 높이를 공통으로 하여 천폭 방향에 걸쳐 균일한 부상 상태를 형성할 수 있으면 된다.In addition, in the above embodiment, an example of using the same levitation mechanism as the levitation stage portion 10 has been described in the auxiliary levitation support portion 4, but other levitation mechanisms may be used. For example, an ultrasonic levitation mechanism may be used for the levitation stage portion 10, and an air levitation mechanism may be used for the auxiliary levitation support portion 4. Regardless of which flotation mechanism is used, it is sufficient as long as the flotation stage portion 10 and the auxiliary flotation support portion 4 have a common flotation height to form a uniform flotation state across the fabric width direction.

또한, 상기 실시예에서는, 기판 부상 반송 장치(1)를 도포 장치(2)에 조합하는 예에 관하여 설명하였지만, 기판 부상 반송 장치(1)를 건조 장치에 조합하여도 무방하고, 다양한 기판 처리 장치에 조합하여 사용할 수 있다.In addition, in the above embodiment, the example of combining the substrate levitation device 1 with the coating device 2 has been described, but the substrate levitation device 1 may be combined with a drying device and can be used in various substrate processing devices. It can be used in combination with .

1: 기판 부상 반송 장치
2: 도포 장치
3: 기판 반송 유닛
4: 보조 부상 지지부
10: 부상 스테이지부
12: 평판부
12a: 기판 부상면
30: 기판 보지부
33: 흡착면
37: 흡착 블록
40: 보조 블록1: Substrate floating transport device
2: Applicator
3: Substrate transfer unit
4: Secondary flotation support
10: Injury stage part
12: Reputation section
12a: Substrate floating surface
30: Substrate holding portion
33: Suction surface
37: Suction block
40: Auxiliary block

Claims (6)

반송(搬送) 방향으로 연장되고, 기판 부상면(浮上面) 상(上)에 기판을 부상(浮上)시키는 부상 스테이지부와,
상기 기판 부상면 상에 부상한 기판을 보지(保持)하는 기판 보지부
를 구비하고, 상기 기판 부상면 상에 부상한 상태의 기판을 보지한 상태로 상기 기판 보지부가 상기 반송 방향을 따라 이동하는 것에 의하여, 기판이 기판 부상면 상에 부상한 상태로 반송되는 기판 부상 반송 장치에 있어서,
상기 부상 스테이지부와 상기 기판 보지부와의 사이에는, 기준 사이즈의 기판보다도 반송 방향과 직교하는 천폭(川幅) 방향 치수가 큰 광폭 기판을 반송하는 경우에, 상기 기판 부상면으로부터 천폭 방향으로 비어져 나오는 상기 광폭 기판의 비어져 나옴 영역을 부상시키는 보조 부상 지지부를 구비하고 있고,
상기 보조 부상 지지부는, 상기 기판 보지부에 일체적으로 설치되어 있고, 상기 보조 부상 지지부에는, 상기 기준 사이즈의 기판이 흡착되어 보지되는 흡착면이 상기 기판 보지부의 흡착면보다도 천폭 방향 내측(內側)에 설치되고,
상기 기준 사이즈의 기판이 반송될 때에는, 상기 보조 부상 지지부의 흡착면에서 상기 기준 사이즈의 기판이 흡착 보지되고, 상기 광폭 기판이 반송될 때에는 상기 기판 보지부의 흡착면에서 상기 광폭 기판이 흡착 보지되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.a floating stage extending in the conveyance direction and levitating the substrate on the substrate floating surface;
A substrate holding portion that holds the substrate floating on the substrate floating surface.
and a substrate floating transport in which the substrate is transported in a floating state on the substrate floating surface by moving the substrate holding portion along the transport direction while holding the substrate in a floating state on the substrate floating surface. In the device,
Between the floating stage part and the substrate holding part, when transporting a wide substrate having a larger width in the width direction perpendicular to the transport direction than a standard size substrate, there is a gap in the width direction from the floating surface of the substrate. It is provided with an auxiliary floating support that levitates the protruding area of the wide substrate,
The auxiliary floating support portion is integrally installed with the substrate holding portion, and the auxiliary floating support portion has an adsorption surface on which a substrate of the standard size is adsorbed and held inside the auxiliary floating support portion in the width direction than the suction surface of the substrate holding portion. is installed on,
When the substrate of the standard size is transported, the substrate of the standard size is adsorbed and held on the adsorption surface of the auxiliary floating support, and when the wide substrate is transported, the wide substrate is adsorbed and held on the adsorption surface of the substrate holding part. A substrate floating transport device characterized by: 제1항에 있어서,
상기 기판 보지부의 흡착면은, 상기 보조 부상 지지부의 흡착면보다도 높이 위치가 높게 설정되어 있고, 상기 기판 보지부의 흡착면에 의하여 광폭 기판이 보지된 상태에서는, 상기 보조 부상 지지부의 부상 기구에 의하여, 상기 부상 스테이지부에 있어서의 부상 상태와 같은 부상 상태로 유지되는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.According to paragraph 1,
The suction surface of the substrate holding portion is set at a higher height than the suction surface of the auxiliary floating support portion, and in a state where a wide substrate is held by the suction surface of the substrate holding portion, by the floating mechanism of the auxiliary floating support portion, A substrate floating transport device characterized in that the substrate is maintained in a floating state similar to the floating state in the floating stage portion. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 보조 부상 지지부는, 그 부상 기구가 상기 부상 스테이지부와 같은 부상 기구를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 기판 부상 반송 장치.
According to claim 1 or 2,
A substrate levitating transport device, wherein the auxiliary floating support portion has the same floating mechanism as the floating stage portion.
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