JP2009011892A

JP2009011892A - Coating device

Info

Publication number: JP2009011892A
Application number: JP2007173832A
Authority: JP
Inventors: Toshihiro Mori; 俊裕森
Original assignee: Toray Engineering Co Ltd
Current assignee: Toray Engineering Co Ltd
Priority date: 2007-07-02
Filing date: 2007-07-02
Publication date: 2009-01-22

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating device which can prevent a defective substrate from being produced even when the coating device is divided by an increase in the size of a substrate. <P>SOLUTION: The coating device comprises a stage mounting a substrate, rails extending in a specified direction along the stage, and a coating unit discharging a coating liquid while running on the rails to apply the coating liquid onto the substrate mounted on the stage. A dividing part that divides the stage is formed in the stage so as to extend from one side end to the other side end of the stage in the specified direction. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものである。 The present invention relates to a coating apparatus that coats a coating solution on a substrate.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス基板上にレジスト液が塗布されたもの（塗布基板と称す）が使用されている。この塗布基板は、レジスト液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。 A flat panel display such as a liquid crystal display or a plasma display uses a glass substrate coated with a resist solution (referred to as a coated substrate). This coating substrate is formed by a coating apparatus that uniformly coats a resist solution.

すなわち、塗布装置は、ガラス基板を載置するステージと、レジスト液を吐出する口金と、この口金をステージ上に支持するとともにステージに沿って移動させる門型のガントリとを有しており、口金のスリットノズルからレジスト液を吐出させながら、ガントリをガラス基板に沿う方向に走行させることにより、均一厚さのレジスト液膜が塗布された塗布基板が形成されるようになっている。そして、これらを載置する基台上には、一方向に延びるレールが設置されており、ガントリは、このレールに沿って走行するように構成されている。 That is, the coating apparatus includes a stage on which a glass substrate is placed, a base for discharging a resist solution, and a portal gantry that supports the base on the stage and moves along the stage. A coating substrate coated with a resist liquid film having a uniform thickness is formed by running the gantry along the glass substrate while discharging the resist liquid from the slit nozzle. A rail extending in one direction is installed on the base on which these are placed, and the gantry is configured to travel along this rail.

近年では、フラットパネルディスプレイの大型化に伴い、大型の塗布基板を生産すべく、ステージの大型化及びレールの長尺化が余儀なくされている。しかし、ステージやレールが大型化、長尺化するにしたがって、納入先まで塗布装置を運送する際に、塗布装置の運送規制上の問題（特に道路の幅方向寸法規制の問題）から塗布装置を分割化する必要がある。そのため、下記特許文献１では、レールを分割したステージ装置が開示されている。 In recent years, with the increase in size of flat panel displays, the size of the stage and the length of the rail have been inevitably increased in order to produce a large coated substrate. However, as the stages and rails become larger and longer, when the applicator is transported to the delivery destination, the applicator must be removed due to problems with the transport restrictions of the applicator (especially the width dimension of the road). It needs to be divided. Therefore, in the following Patent Document 1, a stage device in which the rail is divided is disclosed.

特開２００６−９５６６５号公報JP 2006-95665 A

しかし、上記特許文献１に示されたステージ装置を塗布装置に適用すると、レールの継ぎ目の存在により、不良基板を生産されやすいという問題がある。すなわち、上記ステージ装置のレールには、そのほぼ中央部分にレールの継ぎ目が設けられているため、ガントリがレールの分割部分を通過する際にガントリの定速走行に乱れが生じる虞れがある。そのため、ガントリの定速走行が乱れることにより、塗布液の供給状態が不安定となることから塗布ムラが発生して不良基板が生産されやすくなるという問題がある。 However, when the stage apparatus shown in Patent Document 1 is applied to a coating apparatus, there is a problem that a defective substrate is likely to be produced due to the presence of a rail joint. That is, since the rail of the stage device is provided with a rail joint at a substantially central portion thereof, there is a possibility that the gantry may run at a constant speed when the gantry passes through the divided portion of the rail. For this reason, there is a problem in that the coating state of the coating liquid becomes unstable due to disturbance in the constant speed running of the gantry, so that coating unevenness occurs and defective substrates are easily produced.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、基板の大型化に伴って塗布装置を分割化する場合であっても不良基板が生産されるのを抑えることのできる塗布装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and provides a coating apparatus capable of suppressing the production of defective substrates even when the coating apparatus is divided in accordance with the increase in size of the substrate. The purpose is to do.

上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに沿って特定方向に延びるレールと、前記レール上を走行しつつ塗布液を吐出することにより、前記ステージ上に載置された基板上に塗布液を塗布する塗布ユニットと、を備えており、前記ステージには、このステージを分割する分割部が形成されており、この分割部は、ステージの一方側端部から他方側端部に亘って前記特定方向に延びるように形成されていることを特徴としている。 In order to solve the above problems, a coating apparatus of the present invention includes a stage on which a substrate is placed, a rail extending in a specific direction along the stage, and discharging the coating liquid while running on the rail. A coating unit that applies a coating solution onto a substrate placed on a stage, and the stage is formed with a dividing unit that divides the stage. It is formed so that it may extend in the said specific direction from a side edge part to the other side edge part.

上記塗布装置によれば、ステージを分割する分割部がステージの一方側端部から他方側端部に亘って前記特定方向に延びるように形成されているため、ステージがほぼレールの延びる方向に沿って分割される。すなわち、ステージをレールの延びる方向に沿って適当な大きさに分割することができる。したがって、従来のように、レールを分割することによりレールの長手方向中央部分にレールの継ぎ目ができる場合に比べて、塗布ユニットの定速走行の乱れを抑えることができるため、不良基板が発生するという問題を抑えることができる。 According to the coating apparatus, the dividing portion that divides the stage is formed so as to extend in the specific direction from one end of the stage to the other end, so that the stage is substantially along the direction in which the rail extends. Divided. That is, the stage can be divided into appropriate sizes along the direction in which the rail extends. Therefore, as compared with the case where the rail joint is formed at the central portion in the longitudinal direction of the rail by dividing the rail as in the conventional case, the disturbance of the constant speed running of the coating unit can be suppressed, and thus a defective substrate is generated. Can be suppressed.

また、前記ステージを載置する基台を有しており、この基台には、基台を分割する基台分割部が形成されており、この基台分割部は、前記基台の一方側端部から他方側端部に亘って前記特定方向に延びるように形成されている構成とすることもできる。 In addition, the base has a base on which the stage is placed, and the base has a base splitting part that splits the base, and the base splitting part is on one side of the base. It can also be set as the structure currently formed so that it may extend in the said specific direction from an edge part to the other side edge part.

この構成によれば、レール及び基台共に分割することができるため、塗布装置全体を運送に適した大きさに分割することができる。 According to this structure, since both a rail and a base can be divided | segmented, the whole coating device can be divided | segmented into the magnitude | size suitable for conveyance.

そして、前記ステージには、前記分割部により複数のステージ部片に分割され、それぞれの前記ステージ部片は、前記基台上に支持部材によって支持されており、それぞれの前記支持部材には、ステージの高さ寸法を調節する高さ調節機構が備えられている。 The stage is divided into a plurality of stage pieces by the dividing portion, and each stage piece is supported by a support member on the base, and each support member has a stage. There is provided a height adjusting mechanism for adjusting the height dimension of the.

この構成によれば、ステージ部片を支持する支持部材が高さ調節機構を有しているため、それぞれのステージ部片の高さ寸法を独立して調節することができる。したがって、納入先における基台の組付けが、精度よく行われていない場合であってもそれぞれのステージ部片の高さ寸法を独立して調節することにより、ステージ全体の高さ寸法を精度よく調節することができる。すなわち、基板を載置させるステージの表面の平坦度を精度よく調節することができる。 According to this structure, since the support member which supports a stage piece has a height adjustment mechanism, the height dimension of each stage piece can be adjusted independently. Therefore, even if the base is not assembled accurately at the delivery destination, the height of the entire stage can be accurately adjusted by adjusting the height of each stage piece independently. Can be adjusted. That is, the flatness of the surface of the stage on which the substrate is placed can be adjusted with high accuracy.

また、前記レールは、前記塗布ユニットが塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する塗布走行部と、この塗布走行部から特定方向に延長された延長部とを有しており、前記塗布走行部は、連続状に一体成形されており、前記延長部にはレールを分割するレール分割部が形成されている構成とすることが好ましい。 In addition, the rail includes an application traveling unit in which the coating unit travels from the start to the end of discharge of the coating liquid, and an extension portion that extends in a specific direction from the application traveling unit. Is preferably integrally formed in a continuous manner, and the extension portion is formed with a rail dividing portion for dividing the rail.

この構成によれば、塗布装置において、ステージ等を前記分割部で分割してもなお、レールの長尺化が運送に影響を与えるためレールを分割せざるを得ない場合がある。このような場合には、レール分割部をレールの前記延長部に設ける構成をとることにより、塗布ユニットが塗布液の吐出中に走行する塗布走行部にはレール分割部が形成されることがないため、レール分割部が、塗布液吐出中の塗布ユニットの定速走行性に影響することはない。したがって、不良基板が生産されるのを抑えることができる。 According to this configuration, even if the stage or the like is divided by the dividing unit in the coating apparatus, the rail may be forced to be divided because the lengthening of the rail affects the transportation. In such a case, by adopting a configuration in which the rail dividing portion is provided in the extension portion of the rail, the rail dividing portion is not formed in the coating traveling portion where the coating unit travels while discharging the coating liquid. For this reason, the rail division portion does not affect the constant speed running performance of the coating unit during the coating liquid discharge. Therefore, production of defective substrates can be suppressed.

本発明の塗布装置によれば、基板の大型化に伴って塗布装置を分割化する場合であっても不良基板が生産されるのを抑えることのできる塗布装置を提供することができる。 According to the coating apparatus of the present invention, it is possible to provide a coating apparatus that can suppress the production of a defective substrate even when the coating apparatus is divided as the size of the substrate increases.

本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。 Embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.

図１は、本発明の一実施形態における塗布装置１を示す概略上面図、図２は、その側面図、図３は、図１におけるＡ−Ａ矢視図である。なお、図１においては、塗布ユニット５等は省略している。 FIG. 1 is a schematic top view showing a coating apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view thereof, and FIG. 3 is a view taken along the line AA in FIG. In FIG. 1, the coating unit 5 and the like are omitted.

図１〜図３に示すように、塗布装置は、供給される薄板状の基板２に薬液やレジスト等の液状物（以下塗布液と称す）を塗布するものであり、基台３と、その基台３上に基板２を載置するためのステージ４と、このステージ４に対し特定方向に延びるレール６とを有しており、塗布ユニット５が、このレール６上を走行するように構成されている。すなわち、塗布ユニット５がステージ４上に載置された基板２上を特定方向に移動しつつ、塗布液を吐出することによって基板２上に均一厚さの塗布液が塗布されるようになっている。 As shown in FIGS. 1 to 3, the coating apparatus applies a liquid material such as a chemical solution or a resist (hereinafter referred to as a coating solution) to the supplied thin plate-like substrate 2. A stage 4 for placing the substrate 2 on the base 3 and a rail 6 extending in a specific direction with respect to the stage 4 are provided, and the coating unit 5 is configured to run on the rail 6. Has been. That is, the coating unit 5 moves in a specific direction on the substrate 2 placed on the stage 4 while discharging the coating solution, so that the coating solution having a uniform thickness is applied onto the substrate 2. Yes.

なお、以下の説明では、塗布ユニット５が移動する方向をＸ軸方向（本発明の特定方向）、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向とし、基台３に基板２が載置される側を上方、基板２が載置される側と反対側を下方として説明を進めることとする。 In the following description, the direction in which the coating unit 5 moves is the X-axis direction (the specific direction of the present invention), and the direction orthogonal to this on the horizontal plane is orthogonal to both the Y-axis direction, the X-axis direction, and the Y-axis direction. The description will be made with the direction as the Z-axis direction, with the side on which the substrate 2 is placed on the base 3 as the upper side and the side opposite to the side on which the substrate 2 is placed as the lower side.

前記基台３は、基準ベース部３１とこの基準ベース部３１に連結される４体の分割ベース部３２とを有している。この基準ベース部３１には、ステージ４が載置されており、このステージ４を挟むようにレール６が配置されている。すなわち、基準ベース部３１及び分割ベース部３２上には、レール６がステージ４に沿って特定方向（Ｘ軸方向）に延びている。レール６は、塗布ユニット５の走行をガイドするものである。このレール６は、基準ベース部３１のレール部６１及び分割ベース部３２のレール部６２が連結されることによって構成されており、塗布走行部６ａと延長部６ｂとを有している。 The base 3 has a reference base portion 31 and four divided base portions 32 connected to the reference base portion 31. The stage 4 is placed on the reference base portion 31, and the rail 6 is disposed so as to sandwich the stage 4. That is, the rail 6 extends along the stage 4 in a specific direction (X-axis direction) on the reference base portion 31 and the divided base portion 32. The rail 6 guides the travel of the coating unit 5. The rail 6 is configured by connecting the rail portion 61 of the reference base portion 31 and the rail portion 62 of the divided base portion 32, and has a coating traveling portion 6a and an extending portion 6b.

ここで、塗布走行部６ａは、前記塗布ユニット５が塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する部分であり、図２において、塗布液の吐出が開始される位置（吐出開始位置Ｓ）から塗布液の吐出が終了する位置（吐出終了位置Ｔ）までに相当する部分である。また、延長部６ｂは、この塗布走行部６ａからＸ軸方向に延長される部分である。そして、塗布走行部６ａは、分割されることなく連続的に一体成形されており、延長部６ｂには、レール６が分割されるレール分割部６３が形成されている。 Here, the application traveling unit 6a is a part where the application unit 5 travels from the start of the discharge of the application liquid to the end of the application liquid, and in FIG. This is a portion corresponding to the position where the liquid discharge ends (discharge end position T). Moreover, the extension part 6b is a part extended in this X-axis direction from this application | coating traveling part 6a. And the application | coating travel part 6a is integrally formed continuously without being divided | segmented, The rail division part 63 into which the rail 6 is divided | segmented is formed in the extension part 6b.

基準ベース部３１は、ステージ４を載置する部分であり、石材によって形成されている。基準ベース部３１は、図３に示すように、断面凹状の立体形状を有しており、そのＹ軸方向両端部分にはＺ軸方向に突出するレール部６１を有している。そして、この基準ベース部３１は、複数の基準ベース部片３１ａ、３１ｂに分割できるように構成されている。 The reference base portion 31 is a portion on which the stage 4 is placed, and is formed of a stone material. As shown in FIG. 3, the reference base portion 31 has a three-dimensional shape having a concave cross section, and has rail portions 61 protruding in the Z-axis direction at both ends in the Y-axis direction. And this reference | standard base part 31 is comprised so that it can divide | segment into the some reference | standard base piece 31a, 31b.

具体的には、図３に示すように、基準ベース部３１のＹ軸方向中央部分には、Ｘ軸方向に延びるベース分割部８ａが形成されており、このベース分割部８ａで２つの基準ベース部片３１ａ、３１ｂに分離できるようになっている。すなわち、ベース分割部８ａ（本発明の基台分割部）は、基準ベース部３１のＸ軸方向一方側端部３１ｃ（図１参照）から他方側端部３１ｄ（図１参照）に亘って直線状に形成されている。この一方側端部３１ｃ、他方側端部３１ｄは、基準ベース部３１の特定方向（Ｘ軸方向）における端部（Ｙ軸方向に延びる縁端部分）である。本実施形態では、この一方側端部３１ｃ、他方側端部３１ｄのＹ軸方向ほぼ中央部分にベース分割部８ａが設けられている。そして、基準ベース部３１をベース分割部８ａで分割することにより、基準ベース部片３１ａ、３１ｂのＹ軸方向寸法が、運送規制寸法以下になるようになっている。したがって、大型基板に対応するために基台３のＹ軸方向寸法が運送規制寸法よりも大きくなる場合であっても、基台３をベース分割部８ａで分割することにより、運送規制上の問題を回避して基台３を運送することができる。 Specifically, as shown in FIG. 3, a base divided portion 8a extending in the X-axis direction is formed at the center portion in the Y-axis direction of the reference base portion 31, and two reference bases are formed in the base divided portion 8a. It can be separated into pieces 31a and 31b. That is, the base dividing portion 8a (the base dividing portion of the present invention) is a straight line extending from one end portion 31c (see FIG. 1) in the X-axis direction of the reference base portion 31 to the other end portion 31d (see FIG. 1). It is formed in a shape. The one side end portion 31c and the other side end portion 31d are end portions (edge end portions extending in the Y axis direction) in the specific direction (X axis direction) of the reference base portion 31. In the present embodiment, the base divided portion 8a is provided at the substantially central portion in the Y-axis direction of the one side end portion 31c and the other side end portion 31d. Then, by dividing the reference base part 31 by the base dividing part 8a, the Y-axis direction dimensions of the reference base part pieces 31a and 31b are set to be equal to or less than the transport regulation dimension. Therefore, even if the dimension of the base 3 in the Y-axis direction is larger than the transport regulation dimension in order to cope with a large substrate, the problem of transportation regulation is caused by dividing the base 3 by the base dividing portion 8a. The base 3 can be transported avoiding the above.

また、レール部６１は、Ｘ軸方向に延びるように形成されており、図１〜図３に示すように、このレール部６１は、基準ベース部３１のＸ軸方向に亘って連続して形成されており、塗布走行部６ａと延長部６ｂとを有している。そして、このレール部６１には、平坦かつ平滑なガイド面６１ａが形成されている。すなわち、このガイド面６１ａは、後述する塗布ユニット５のエアベアリング１４と対向する位置に形成されており、本実施形態では、それぞれのレール部６１に、Ｚ軸方向に垂直をなす方向と、Ｙ軸方向に垂直をなす方向との２カ所にガイド面６１ａが形成されている。 The rail portion 61 is formed so as to extend in the X-axis direction. As shown in FIGS. 1 to 3, the rail portion 61 is formed continuously over the X-axis direction of the reference base portion 31. It has a coating travel part 6a and an extension part 6b. The rail portion 61 has a flat and smooth guide surface 61a. That is, the guide surface 61a is formed at a position facing an air bearing 14 of the coating unit 5 described later, and in this embodiment, each rail portion 61 has a direction perpendicular to the Z-axis direction, and Y Guide surfaces 61a are formed at two locations, which are perpendicular to the axial direction.

また、基準ベース部３１の下面には、基準ベース部３１を支持する支持部３１ｅが取り付けられており、この支持部３１ｅにより、基準ベース部３１が水平となる姿勢を維持できるようになっている。そして、支持部３１ｅは、高さ調節部（不図示）を有しており、支持部３１ｅが高さ方向（Ｚ軸方向）に変位可能になっている。これにより、基準ベース部３１上面のガイド面６１ａの高さ位置を所定の高さ位置に調節することができるようになっている。 Further, a support portion 31e that supports the reference base portion 31 is attached to the lower surface of the reference base portion 31, and the support base 31e can maintain a posture in which the reference base portion 31 is horizontal. . And the support part 31e has a height adjustment part (not shown), and the support part 31e can be displaced to a height direction (Z-axis direction). As a result, the height position of the guide surface 61a on the upper surface of the reference base portion 31 can be adjusted to a predetermined height position.

分割ベース部３２は、基準ベース部３１と同様に石材で形成されており、ブロック状に形成された分割ベース本体部３２ａ（図２参照）と、この分割ベース本体部３２ａの上方に配置されるレール部６２とを有している。レール部６２は、分割ベース本体部３２ａにボルトで固定されており、基準ベース部３１のレール部６１と同様に、分割ベース部３２のＸ軸方向に亘って連続して形成されている。そして、このレール部６２は、その全体が延長部６ｂとして構成されている。 The divided base portion 32 is formed of a stone material like the reference base portion 31, and is arranged above the divided base main body portion 32a and a divided base main body portion 32a (see FIG. 2) formed in a block shape. Rail part 62. The rail portion 62 is fixed to the divided base main body portion 32 a with bolts, and is formed continuously along the X-axis direction of the divided base portion 32, similarly to the rail portion 61 of the reference base portion 31. The entire rail portion 62 is configured as an extension portion 6b.

また、レール部６２は、平坦かつ平滑なガイド面６２ａを有しており、このガイド面６２ａは、後述する塗布ユニット５のエアベアリング１４と対向する位置に形成されている。すなわち、ガイド面６２ａは基準ベース部３１と同様に、Ｚ軸方向に垂直をなす方向と、Ｙ軸方向に垂直をなす方向との２カ所にガイド面６２ａが形成されている。そして、基準ベース部３１と分割ベース部３２とが連結された状態では、レール部６１，６２がＸ軸方向に延びるように連結され、レール部６１，６２のガイド面６１ａ、６２ａがレール分割部６３を形成しつつ連続状に連結される。すなわち、レール６のレール分割部６３においては、それぞれのレール部６１，６２のガイド面６１ａ，６２ａ同士が連続し、平坦かつ平滑に連結される。これにより、塗布ユニット５が基準ベース部３１のレール部６１及び分割ベース部３２のレール部６２上をスムーズに移動できるようになっている。 Moreover, the rail part 62 has the flat and smooth guide surface 62a, and this guide surface 62a is formed in the position facing the air bearing 14 of the coating unit 5 mentioned later. That is, the guide surface 62a is formed in two places, the direction perpendicular to the Z-axis direction and the direction perpendicular to the Y-axis direction, like the reference base portion 31. When the reference base portion 31 and the divided base portion 32 are connected, the rail portions 61 and 62 are connected so as to extend in the X-axis direction, and the guide surfaces 61a and 62a of the rail portions 61 and 62 are connected to the rail divided portion. 63 are connected in a continuous manner. That is, in the rail division part 63 of the rail 6, the guide surfaces 61a and 62a of each rail part 61 and 62 are continuous, and are connected evenly and smoothly. Accordingly, the coating unit 5 can smoothly move on the rail portion 61 of the reference base portion 31 and the rail portion 62 of the divided base portion 32.

また、図１に示すように、分割ベース部３２の下面には、分割ベース部３２を支持する支持部３２ｅが取り付けられている。これにより、分割ベース部３２は、基準ベース部３１と連結に適した姿勢を維持できるようになっている。また、支持部３２ｅは、高さ調節部を有しており、支持部３２ｅが高さ方向（Ｚ軸方向）に変位可能になっている。これにより、分割ベース部３２のガイド面６２ａの高さ位置を所定の高さ位置に調節することができるようになっている。 As shown in FIG. 1, a support portion 32 e that supports the divided base portion 32 is attached to the lower surface of the divided base portion 32. Thereby, the division | segmentation base part 32 can maintain the attitude | position suitable for a connection with the reference | standard base part 31 now. Moreover, the support part 32e has a height adjustment part, and the support part 32e can be displaced in a height direction (Z-axis direction). Thereby, the height position of the guide surface 62a of the division | segmentation base part 32 can be adjusted to a predetermined height position.

前記ステージ４は、搬入された基板２をその表面に載置して保持するものである。具体的には、ステージ４には、その表面に開口する複数の吸引孔（不図示）が形成されており、これらの吸引孔と真空ポンプとが連通して接続されている。そして、ステージ４の表面に基板２が載置された状態で真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し基板２がステージ４の表面側に吸引されて吸着保持されるようになっている。 The stage 4 places and holds the substrate 2 that has been loaded on the surface thereof. Specifically, the stage 4 is formed with a plurality of suction holes (not shown) opened on the surface thereof, and these suction holes and a vacuum pump are connected in communication. Then, by operating the vacuum pump while the substrate 2 is placed on the surface of the stage 4, a suction force is generated in the suction hole so that the substrate 2 is sucked and held by suction on the surface side of the stage 4. It has become.

また、ステージ４には、基板２を昇降動作させる基板昇降機構（不図示）が設けられている。すなわち、ステージ４の表面には複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピンが埋設されている。これにより、ステージ４の表面に基板２を載置した状態でリフトピンを上昇又は下降させることにより、基板２にリフトピンの先端部分が当接した状態で、基板２の昇降動作、及び、基板２を所定の高さ位置に保持できるようになっている。 The stage 4 is provided with a substrate lifting mechanism (not shown) that moves the substrate 2 up and down. That is, a plurality of pin holes are formed on the surface of the stage 4, and lift pins that can be moved up and down in the Z-axis direction are embedded in the pin holes. As a result, the lift pins are lifted or lowered while the substrate 2 is placed on the surface of the stage 4, so that the lift operation of the substrate 2 and the substrate 2 can be performed while the tip of the lift pin is in contact with the substrate 2. It can be held at a predetermined height position.

また、ステージ４は、複数のステージ部片４１ａ、４１ｂに分割できるようになっている。具体的には、図３に示すように、ステージ４には、Ｘ軸方向に延びる分割部８ｂが形成されており、この分割部８ｂで２つのステージ部片４１ａ、４１ｂに分割できるようになっている。すなわち、分割部８ｂは、ステージ４におけるＸ軸方向一方側端部４ａから他方側端部４ｂに亘って直線的に形成されている。この一方側端部４ａ、他方側端部４ｂは、ステージ４の特定方向（Ｘ軸方向）における端部（Ｙ軸方向に延びる縁端部分）である。本実施形態では、この一方側端部４ａ、他方側端部４ｂのＹ軸方向ほぼ中央部分に分割部８ｂが設けられている。そして、本実施形態では、分割後のステージ部片４１ａ、４１ｂのＹ軸方向寸法が運送規制寸法以下になっている。したがって、大型基板に対応するためにステージ４のＹ軸方向寸法が運送規制寸法よりも大きくなる場合であっても、ステージ４を分割部８ｂでステージ部片４１ａ、４１ｂに分割することにより運送規制上の問題を回避してステージ４を運送することができる。 The stage 4 can be divided into a plurality of stage pieces 41a and 41b. Specifically, as shown in FIG. 3, the stage 4 is formed with a dividing portion 8b extending in the X-axis direction, and the dividing portion 8b can be divided into two stage piece pieces 41a and 41b. ing. That is, the dividing portion 8b is linearly formed from the one side end portion 4a in the X-axis direction on the stage 4 to the other side end portion 4b. The one side end 4a and the other side end 4b are ends (edge portions extending in the Y axis direction) in the specific direction (X axis direction) of the stage 4. In the present embodiment, the dividing portion 8b is provided at the substantially central portion in the Y-axis direction of the one side end portion 4a and the other side end portion 4b. And in this embodiment, the dimension of the Y-axis direction of the stage part pieces 41a and 41b after division | segmentation is below a conveyance control dimension. Therefore, even if the dimension in the Y-axis direction of the stage 4 is larger than the transport restriction dimension in order to cope with a large substrate, the transport restriction is achieved by dividing the stage 4 into the stage part pieces 41a and 41b by the split part 8b. The stage 4 can be transported avoiding the above problem.

なお、これら２つのステージ部片４１ａ、４１ｂは、ボルトによって連結固定されるようになっており、連結固定された状態では、分割部８ｂにおけるステージ部片４１ａ、４１ｂの対向面が互いに密接するようになっている。 The two stage pieces 41a and 41b are connected and fixed by bolts, and in the state of being connected and fixed, the opposing surfaces of the stage pieces 41a and 41b in the divided portion 8b are in close contact with each other. It has become.

また、ステージ部片４１ａには支持部材４３ａ、ステージ部片４１ｂには支持部材４３ｂが取り付けられており、この支持部材４３ａ、４３ｂによりステージ４１ａ、４１ｂの表面が水平になる姿勢に維持できるようになっている。また、この支持部材４３ａ、４３ｂには、高さ調節機構が備えられており、支持部材４３ａ、４３ｂがＺ軸方向に変位できるようになっている。これにより、それぞれのステージ部片４１ａ、４１ｂにおいて、その表面高さ位置の調節が独立して可能となり、ステージ４の表面全体が所定の高さ位置になるように調節できるようになっている。すなわち、それぞれの基準ベース部片３１ａ、３１ｂの表面高さ位置が異なる場合であっても、支持部材４３ａ、４３ｂを調節することによりステージ４の表面全体が均一の高さ寸法となるように調節することができる。 Further, a support member 43a is attached to the stage piece 41a, and a support member 43b is attached to the stage piece 41b, so that the surfaces of the stages 41a and 41b can be maintained horizontal by the support members 43a and 43b. It has become. In addition, the support members 43a and 43b are provided with a height adjusting mechanism so that the support members 43a and 43b can be displaced in the Z-axis direction. Thereby, in each stage part piece 41a, 41b, the adjustment of the surface height position is attained independently, and it can adjust now so that the whole surface of the stage 4 may become a predetermined height position. That is, even when the surface height positions of the respective reference base pieces 31a and 31b are different, the entire surface of the stage 4 is adjusted to have a uniform height by adjusting the support members 43a and 43b. can do.

前記塗布ユニット５は、ステージ４に載置された基板２に塗布液を塗布するためのものであり、図４に示すように、一方向に延び塗布液を吐出する口金部５１と、この口金部５１の両端部分に設けられたユニット支持部５２とを有している。本実施形態では、互いに独立して動作することができる塗布ユニット５が２台設置されている。これら塗布ユニット５は、塗布動作前では、図２に示すように、初期位置Ｐで停止している。すなわち、図２において左側の塗布ユニット５は左側の初期位置Ｐで停止しており（二点鎖線で示す）、右側の塗布ユニット５は右側の初期位置Ｐで停止している。 The coating unit 5 is for coating the coating liquid on the substrate 2 placed on the stage 4. As shown in FIG. 4, the base unit 51 that extends in one direction and discharges the coating liquid, and the base And unit support portions 52 provided at both end portions of the portion 51. In the present embodiment, two coating units 5 that can operate independently from each other are installed. These application units 5 are stopped at the initial position P as shown in FIG. 2 before the application operation. That is, in FIG. 2, the left coating unit 5 is stopped at the left initial position P (indicated by a two-dot chain line), and the right coating unit 5 is stopped at the right initial position P.

前記ユニット支持部５２は、口金部５１を昇降動作可能に支持するとともに、この口金部５１をＸ軸方向に移動させるためのものである。すなわち、このユニット支持部５２は、口金部５１を昇降動作させる昇降装置２０と、口金部５１を走行させる走行装置１０とを有している。 The unit support portion 52 supports the base portion 51 so that it can be moved up and down, and moves the base portion 51 in the X-axis direction. That is, the unit support portion 52 includes the lifting device 20 that moves the base portion 51 up and down, and the traveling device 10 that runs the base portion 51.

昇降装置２０は、図４に示すように、口金部５１を昇降動作させるものであり、Ｚ軸方向に延びるガイドレール２１と、口金部５１と連結されるスライダ２２とを有している。このガイドレール２１には、スライダ２２がガイドレール２１に沿ってスライド自在に取り付けられている。また、スライダ２２にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ２２がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。これにより、口金部５１は、Ｚ軸方向への昇降動作が駆動制御され、ステージ４に対して接離可能に動作するようになっている。 As shown in FIG. 4, the lifting device 20 moves the base portion 51 up and down, and includes a guide rail 21 extending in the Z-axis direction and a slider 22 connected to the base portion 51. A slider 22 is slidably attached to the guide rail 21 along the guide rail 21. Also, a ball screw mechanism driven by a servo motor is attached to the slider 22. By controlling the servo motor, the slider 22 moves in the Z-axis direction and can be stopped at an arbitrary position. It has become. As a result, the base 51 is controlled to move up and down in the Z-axis direction, and operates so as to be able to contact and separate from the stage 4.

走行装置１０は、図４に示すように、口金部５１をＸ軸方向に走行させるためのものであり、スライド支持部１１とリニアモータ１２とを有している。 As illustrated in FIG. 4, the traveling device 10 is for traveling the base portion 51 in the X-axis direction, and includes a slide support portion 11 and a linear motor 12.

このスライド支持部１１は、レール６との間に設けられるエアベアリング１４（本発明の軸受け部）によってレール６上に支持されている。そして、スライド支持部１１に取り付けられたリニアモータ１２を駆動制御することにより、スライド支持部１１がＸ軸方向に移動するようになっている。具体的には、スライド支持部１１に設けられたエアベアリング１４にはコンプレッサが接続されており、このコンプレッサを作動させることにより、エアベアリング１４からガイド面６１ａ、６２ａ側にエアが供給される。そして、エアベアリング１４とガイド面６１ａ、６２ａとの間にエアが供給されることにより、スライド支持部１１がガイド面６１ａ、６２ａから浮上する状態に維持される。そして、スライド支持部１１が浮上する状態においてリニアモータ１２を駆動させることにより、スライド支持部１１がＸ軸方向に移動するようになっている。すなわち、塗布ユニット５は、リニアモータ１２を駆動させることにより、エアベアリング１４がレール６から浮上した状態で、Ｘ軸方向に沿って走行することができるようになっている。 The slide support portion 11 is supported on the rail 6 by an air bearing 14 (bearing portion of the present invention) provided between the slide support portion 11 and the rail 6. And the slide support part 11 moves to a X-axis direction by drive-controlling the linear motor 12 attached to the slide support part 11. FIG. Specifically, a compressor is connected to the air bearing 14 provided on the slide support portion 11, and air is supplied from the air bearing 14 to the guide surfaces 61a and 62a by operating the compressor. And by supplying air between the air bearing 14 and the guide surfaces 61a and 62a, the slide support part 11 is maintained in the state of floating from the guide surfaces 61a and 62a. The slide support 11 is moved in the X-axis direction by driving the linear motor 12 while the slide support 11 is floating. That is, the application unit 5 can travel along the X-axis direction by driving the linear motor 12 while the air bearing 14 floats from the rail 6.

また、塗布ユニット５はＸ軸方向における位置が検出されるようになっている。すなわち、レール６上には、ガイド面６２ａに沿ってスケール１５ｂが設けられている。そして、スライド支持部１１には、このスケール１５ｂと対向する位置にスケール読取部１５ａが取り付けられており、このスケール読取り部１５ａによりスケール１５ｂを読み取ることにより、塗布ユニット５が走行中であっても、現在における塗布ユニット５の位置を精度よく検出できるようになっている。 In addition, the position of the coating unit 5 in the X-axis direction is detected. That is, the scale 15b is provided on the rail 6 along the guide surface 62a. A scale reading unit 15a is attached to the slide support unit 11 at a position facing the scale 15b, and the scale reading unit 15a reads the scale 15b so that the coating unit 5 is running. The current position of the coating unit 5 can be detected with high accuracy.

これにより、塗布ユニット５は、初期位置ＰからＸ軸方向において移動終了位置Ｑまで移動することができるとともに、これらを含めた任意の位置で停止できるようになっている。なお、この移動終了位置Ｑは、塗布動作終了後、塗布ユニット５が基板２の取出しの妨げになることのない位置である。 Thereby, the coating unit 5 can move from the initial position P to the movement end position Q in the X-axis direction, and can be stopped at any position including these. The movement end position Q is a position where the coating unit 5 does not interfere with the removal of the substrate 2 after the coating operation is completed.

前記口金部５１は、基板２上に塗布液を吐出するものである。この口金部５１は、Ｙ軸方向に延びる形状を有する柱状部材であり、ステージ４の表面と対向する側には塗布液を吐出するノズル５１ａ（図４参照）が形成されている。このノズル５１ａは、ステージ４の表面側に突出し、この突出した部分にはＹ軸方向に延びる形状のスリットが形成されている。すなわち、このスリットを通じて口金部５１に供給された塗布液が基板２の表面に吐出されるようになっている。 The base 51 discharges the coating liquid onto the substrate 2. The base 51 is a columnar member having a shape extending in the Y-axis direction, and a nozzle 51 a (see FIG. 4) that discharges the coating liquid is formed on the side facing the surface of the stage 4. The nozzle 51a protrudes to the surface side of the stage 4, and a slit having a shape extending in the Y-axis direction is formed in the protruding portion. That is, the coating liquid supplied to the base 51 through this slit is discharged onto the surface of the substrate 2.

本実施形態では、塗布ユニット５は、初期位置ＰからＸ軸方向に移動し、吐出開始位置Ｓで塗布液の吐出が開始されるとともに吐出終了位置Ｔで塗布液の吐出を終了させ、さらに、移動終了位置Ｑまで移動できるようになっている。 In the present embodiment, the coating unit 5 moves in the X-axis direction from the initial position P, starts discharging the coating liquid at the discharge start position S and ends the discharge of the coating liquid at the discharge end position T. It can move to the movement end position Q.

また、分割ベース部３２上には、口金部５１を清掃する清掃装置７が設けられている。この清掃装置７は、スクレーパとトレイとを有しており、スクレーパにより口金部５１のノズル付近に付着した塗布液の残留物を掻き取って、剥がれた付着物をトレイにて受け取るように構成されている。本実施形態では、清掃装置７が分割ベース部３２上に２カ所設けられており、図２において右側の塗布ユニット５が右側の清掃装置７で清掃されるとともに、左側の塗布ユニット５が左側の清掃装置７で清掃されるようになっている。なお、初期位置Ｐは、この清掃装置７上に口金部５１が位置する状態である。 A cleaning device 7 for cleaning the base 51 is provided on the divided base portion 32. The cleaning device 7 has a scraper and a tray, and is configured to scrape off the residue of the coating liquid adhering to the vicinity of the nozzle of the base 51 by the scraper and receive the peeled off deposit on the tray. ing. In the present embodiment, two cleaning devices 7 are provided on the divided base portion 32. In FIG. 2, the right coating unit 5 is cleaned by the right cleaning device 7, and the left coating unit 5 is disposed on the left side. Cleaning is performed by the cleaning device 7. The initial position P is a state in which the base 51 is positioned on the cleaning device 7.

次に、この塗布装置の組み立て作業について説明する。 Next, the assembling work of this coating apparatus will be described.

まず、基準ベース部３１の組立を行う。具体的には、それぞれの基準ベース部片３１ａ、３１ｂを分割部３１ｂで密着させ、それぞれの支持部３１ｅ、３２ｅの高さ調節機構を調節しながら、ステージ４を載置する表面がほぼ同一高さ位置となるように連結固定させる。 First, the reference base part 31 is assembled. Specifically, the reference base pieces 31a and 31b are brought into intimate contact with each other at the dividing portion 31b, and the height adjustment mechanism of the respective support portions 31e and 32e is adjusted, and the surface on which the stage 4 is placed has almost the same height. Connect and fix so that it is in the right position.

次に、分割ベース部３２を組立後の基準ベース部３１の所定位置に配置する。そして、基準ベース部３１のガイド面６２ａと分割ベース部３２のガイド面６２ａとの高さ位置がほぼ同じになるように、基準ベース部３１及び分割ベース部３２における支持部３１ｅ、３２ｅの高さ調節部を調節する。このとき、基準ベース部３１のガイド面６２ａと分割ベース部３２のガイド面６２ａとの高さ位置の精度がよくない場合、すなわち、ガイド面６２ａとガイド面６２ｂとで形成される段差が大きい場合には、塗布ユニット５の定速走行の乱れにより、塗布ムラが発生する虞がある。したがって、ガイド面６２ａとガイド面６２ｂは精度よく連結する必要がある。本実施形態では、基準ベース部３１及び分割ベース部３２は、それぞれの支持部３１ｅ、３２ｂにより独立して高さ寸法を調節することができるため、これらを用いて基準ベース部３１に対し、それぞれの分割ベース部３２の高さ位置を確実に調節することができる。 Next, the division | segmentation base part 32 is arrange | positioned in the predetermined position of the reference | standard base part 31 after an assembly. The heights of the support portions 31e and 32e in the reference base portion 31 and the divided base portion 32 so that the height positions of the guide surface 62a of the reference base portion 31 and the guide surface 62a of the divided base portion 32 are substantially the same. Adjust the adjuster. At this time, when the accuracy of the height positions of the guide surface 62a of the reference base portion 31 and the guide surface 62a of the divided base portion 32 is not good, that is, the step formed between the guide surface 62a and the guide surface 62b is large. In some cases, coating unevenness may occur due to disturbance of constant speed running of the coating unit 5. Therefore, it is necessary to connect the guide surface 62a and the guide surface 62b with high accuracy. In the present embodiment, the reference base portion 31 and the divided base portion 32 can be independently adjusted in height by the respective support portions 31e and 32b. The height position of the divided base portion 32 can be adjusted reliably.

次に、分割ベース部３２をボルトにより基準ベース部３１に固定する。すなわち、分割ベース部３２と基準ベース部３１との組付け精度の確認及び調節を行って固定する。具体的には、基準ベース部片３１ａ、３１ｂと、分割ベース部３２のレール部６１、６２のガイド面６１ａ、６２ａとの高さ位置を計測することにより、これらのずれ量が所定範囲になるように調節して固定する。 Next, the divided base portion 32 is fixed to the reference base portion 31 with bolts. That is, the assembling accuracy between the divided base portion 32 and the reference base portion 31 is confirmed and adjusted. Specifically, by measuring the height positions of the reference base pieces 31a and 31b and the guide surfaces 61a and 62a of the rail portions 61 and 62 of the divided base portion 32, the amount of deviation is within a predetermined range. Adjust to fix.

次に、精度よく基台３の組付け作業が完了した後、ステージ４を組付ける。具体的には、基台３上の所定の位置にそれぞれのステージ部片４１ａ、４１ｂを配置し、分割部８ｂにおけるそれぞれのステージ部片４１ａ、４１ｂが密着する状態で仮固定する。具体的には、ステージ部片４１ａ、４１ｂを基台３上の所定位置にそれぞれ配置し、ステージ部片４１ａ、４１ｂの高さ位置が同じになるように高さ調節機構で調節する。具体的には、ステージ部片４１ａ、４１ｂの高さ位置とレール６のガイド面６１ａ、６１ｂの高さ位置とが所定の位置関係となるようにそれぞれ独立して調節する。そして、同時に、支持部材４３ａ、４３ｂの高さ調節機構を調節することにより、ステージ部片４１ａ、４１ｂの表面高さ位置が所定の高さ位置になるように調節する。すなわち、分割部８ｂにおいて段差が生じることのないように、ステージ４の表面全体が一様の表面となるように調節する。 Next, after the assembly work of the base 3 is completed with high accuracy, the stage 4 is assembled. Specifically, the respective stage part pieces 41a and 41b are arranged at predetermined positions on the base 3, and are temporarily fixed in a state where the respective stage part pieces 41a and 41b in the divided part 8b are in close contact with each other. Specifically, the stage pieces 41a and 41b are respectively arranged at predetermined positions on the base 3, and are adjusted by the height adjusting mechanism so that the height positions of the stage pieces 41a and 41b are the same. Specifically, the height positions of the stage pieces 41a and 41b and the height positions of the guide surfaces 61a and 61b of the rail 6 are adjusted independently so as to have a predetermined positional relationship. At the same time, the height adjustment mechanism of the support members 43a and 43b is adjusted so that the surface height positions of the stage pieces 41a and 41b are adjusted to the predetermined height positions. That is, the entire surface of the stage 4 is adjusted to be a uniform surface so that no step is generated in the dividing portion 8b.

次に、塗布ユニット５等を組付ける。すなわち、塗布ユニット５のエアベアリング１４がレール６のガイド面６１ａ、６２ａに対向するように組付けるとともに、分割ベース部３２上に清掃装置７を組付ける。 Next, the coating unit 5 and the like are assembled. In other words, the air bearing 14 of the coating unit 5 is assembled so as to face the guide surfaces 61 a and 62 a of the rail 6, and the cleaning device 7 is assembled on the divided base portion 32.

次に、この塗布装置における動作について、図５に示すフローチャート及び図６に示す塗布ユニット５とレール６等との位置関係を示す概略図を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、一方の塗布ユニット５（図２において左側）によって塗布動作を行う場合について説明するものとし、他方の塗布ユニット５（図２において右側）については、一方の塗布ユニット５の塗布動作と同様であるため説明は省略する。 Next, the operation of the coating apparatus will be described with reference to the flowchart shown in FIG. 5 and the schematic diagram showing the positional relationship between the coating unit 5 and the rails 6 shown in FIG. In the following description, the case where the coating operation is performed by one coating unit 5 (left side in FIG. 2) will be described, and the other coating unit 5 (right side in FIG. 2) Since it is the same as the coating operation, the description is omitted.

まず、ステップＳ１において、基板２の搬入が行われる。すなわち、図示しないロボットハンドにより基板２が搬入される。具体的には、ステージ４の表面から複数のリフトピンが突出した状態で待機されており、これらのリフトピンの先端部分に基板２が載置される。そして、リフトピンを下降させて基板２をステージ４の表面に載置し、この状態で真空ポンプを作動させて吸引孔に吸引力を発生させることにより、基板２をステージ４の表面上に吸着させて保持させる。 First, in step S1, the substrate 2 is carried in. That is, the substrate 2 is carried in by a robot hand (not shown). Specifically, the apparatus is on standby with a plurality of lift pins protruding from the surface of the stage 4, and the substrate 2 is placed on the tip portions of these lift pins. Then, the lift pins are lowered to place the substrate 2 on the surface of the stage 4, and in this state, the vacuum pump is operated to generate a suction force in the suction hole, so that the substrate 2 is adsorbed on the surface of the stage 4. Hold.

次に、ステップＳ２において、塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置しているか否かの確認が行われる。具体的には、塗布ユニット５に設けられた位置検出器１５ａ、１５ｂにより、それぞれの塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置しているか否か判断される。そして、塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置していないと判断した場合には、ステップＳ２においてＮＯの方向に進み、リニアモータ１２を駆動制御することにより、それぞれの塗布ユニット５を初期位置Ｐに復帰させる（ステップＳ３）。すなわち、塗布ユニット５は、図６（ａ）に示す位置に配置された状態となる。 Next, in step S2, it is confirmed whether or not the coating unit 5 is located at the initial position P. Specifically, whether or not each coating unit 5 is located at the initial position P is determined by position detectors 15 a and 15 b provided in the coating unit 5. If it is determined that the coating unit 5 is not located at the initial position P, the process proceeds in the NO direction in step S2, and the linear motor 12 is driven to control each coating unit 5 to the initial position P. Return (step S3). That is, the application unit 5 is in a state of being disposed at the position shown in FIG.

ステップＳ２において、塗布ユニット５がそれぞれの初期位置Ｐに位置している場合には、ステップＳ２においてＹＥＳの方向に進み、塗布動作が行われる（ステップＳ４）。具体的には、塗布動作を行う塗布ユニット５（図６において左側）がレール６の延長部６ｂを走行し、吐出開始位置Ｓまで移動する（図６（ｂ））。このとき、レール６のレール分割部６３を通過するため、塗布ユニット５の定速走行性に影響する虞れがあるが、塗布液は未だ吐出されていないため、レール分割部６３の通過が塗布ムラの発生に影響することを抑えることができる。 In step S2, when the coating unit 5 is located at each initial position P, the process proceeds to YES in step S2 and a coating operation is performed (step S4). Specifically, the coating unit 5 (left side in FIG. 6) that performs the coating operation travels along the extension 6b of the rail 6 and moves to the discharge start position S (FIG. 6 (b)). At this time, since it passes through the rail division part 63 of the rail 6, there is a possibility of affecting the constant speed running performance of the application unit 5, but since the application liquid has not yet been discharged, the passage through the rail division part 63 is applied. It is possible to suppress the occurrence of unevenness.

そして、吐出開始位置Ｓから塗布ユニット５の口金部５１から塗布液が吐出され、その状態で塗布ユニット５がレール６の塗布走行部６ａを走行することにより、基板上に塗布液が塗布される。そして、塗布ユニット５が吐出終了位置Ｔに達すると塗布液の吐出が停止した後、さらにレール６の延長部６ｂを走行して移動終了位置Ｑで停止する（図６（ｃ））。 Then, the coating liquid is discharged from the base 51 of the coating unit 5 from the discharge start position S, and the coating unit 5 travels on the coating traveling part 6a of the rail 6 in this state, so that the coating liquid is coated on the substrate. . When the coating unit 5 reaches the discharge end position T, the discharge of the coating liquid stops, and then travels along the extension 6b of the rail 6 and stops at the movement end position Q (FIG. 6C).

塗布動作が終了すると、次に初期位置復帰動作が行われる（ステップＳ５）。すなわち、塗布ユニット５のリニアモータ１２を駆動制御することにより、塗布ユニット５をもとの初期位置Ｐに位置させる（図６（ｄ））。このとき、塗布ユニット５がレール６のレール分割部６３を通過するが、塗布液は吐出されていないため、レール分割部６３の通過が塗布ムラの発生に影響することを抑えることができる。 When the application operation is completed, an initial position return operation is then performed (step S5). That is, by driving and controlling the linear motor 12 of the coating unit 5, the coating unit 5 is positioned at the original initial position P (FIG. 6D). At this time, the application unit 5 passes through the rail division part 63 of the rail 6, but since the application liquid is not discharged, it is possible to suppress the passage of the rail division part 63 from affecting the occurrence of application unevenness.

次に、塗布ユニット５の清掃処理が行われる（ステップＳ６）。具体的には、図６（ｅ）に示すように、初期位置Ｐに位置した塗布ユニット５の口金部５１を下降させることにより、口金部５１の下方部分と清掃装置７のスクレーパを接触させる。この状態からスクレーパを口金部５１の延びる方向に移動させることにより、スリットノズル５１ａ付近の付着物が掻き取られ、口金部５１のノズル部分の清掃が完了する。 Next, the coating unit 5 is cleaned (step S6). Specifically, as shown in FIG. 6 (e), the lower part of the base part 51 and the scraper of the cleaning device 7 are brought into contact with each other by lowering the base part 51 of the coating unit 5 located at the initial position P. By moving the scraper in the extending direction of the base 51 from this state, the deposits near the slit nozzle 51a are scraped off, and the cleaning of the nozzle portion of the base 51 is completed.

次に、基板２の取出しが行われる（ステップＳ７）。具体的には、リフトピンを上昇させることにより、リフトピンの先端部分で基板２を保持する。そして、図示しないロボットハンドに基板２の受け渡しが行われ、ステージ４表面から基板２が排出される。 Next, the substrate 2 is taken out (step S7). Specifically, the substrate 2 is held at the tip of the lift pin by raising the lift pin. Then, the substrate 2 is transferred to a robot hand (not shown), and the substrate 2 is discharged from the surface of the stage 4.

このように、本実施形態における塗布装置によれば、ステージ４を分割する分割部８ｂがステージ４のＸ軸方向一方側端部４ａから他方側端部４ｂまで延びるように形成されているため、ステージ４がレール６の延びる方向に沿って適当な大きさに分割される。したがって、従来のように、レール６を分割することによりレール６の長手方向中央部分にレール６の継ぎ目ができる場合に比べて、塗布ユニット５の定速走行の乱れを抑えることができるため、不良基板２が発生するという問題を抑えることができる。 Thus, according to the coating apparatus in the present embodiment, the dividing portion 8b that divides the stage 4 is formed so as to extend from the one end 4a in the X-axis direction of the stage 4 to the other end 4b. The stage 4 is divided into an appropriate size along the direction in which the rail 6 extends. Therefore, as compared with the conventional case where the rail 6 is divided to form a joint of the rail 6 at the central portion in the longitudinal direction of the rail 6, it is possible to suppress disturbance of constant speed travel of the coating unit 5. The problem that the substrate 2 is generated can be suppressed.

また、上記実施形態によれば、基台３をＸ軸方向に分割することができるため、基板が大型化すると大型化せざるを得ない基台３についても適当な大きさに分割することができる。したがって、塗布装置全体を適当な大きさに分割することができる。 Moreover, according to the said embodiment, since the base 3 can be divided | segmented to an X-axis direction, when the board | substrate becomes large, the base 3 which must be enlarged can also be divided | segmented into a suitable magnitude | size. it can. Therefore, the entire coating apparatus can be divided into appropriate sizes.

また、上記実施形態によれば、レール６の塗布走行部６ａが一体成形される一方で、レール６の延長部６ｂにレール分割部６３が形成されているため、塗布装置全体がＸ軸方向に大型化するものであってレール６を分割せざるを得ない場合であっても、塗布ユニット５が塗布液の吐出中に走行する塗布走行部６ａにはレール分割部６３が形成されることがないため、レール分割部６３が塗布ユニット５の定速走行に影響することがない。したがって、レール６を分割する場合であっても不良塗布基板２が生産されるのを抑えることができる。そして、塗布装置が分割部８ｂ、ベース分割部８ａ、レール分割部６３で分割されることにより、それぞれ個々のパーツが小型化することができるため、それらの組み立て作業の作業性を向上させることができる。 Moreover, according to the said embodiment, since the application | coating running part 6a of the rail 6 is integrally molded, since the rail division | segmentation part 63 is formed in the extension part 6b of the rail 6, the whole coating device is the X-axis direction. Even when the size of the rail 6 is inevitably divided, the rail dividing portion 63 may be formed in the coating traveling portion 6a where the coating unit 5 travels while discharging the coating liquid. Therefore, the rail division part 63 does not affect the constant speed travel of the coating unit 5. Therefore, even when the rail 6 is divided, it is possible to prevent the defective coated substrate 2 from being produced. And since each part can be reduced in size by dividing | segmenting the coating device by the division part 8b, the base division part 8a, and the rail division part 63, it is possible to improve the workability of those assembly operations. it can.

また、上記実施形態では、ステージ４を２つのステージ部片４１ａ、４１ｂに分割される例について説明したが、２つ以上の分割部８ｂを設けて３つ以上のステージ部片に分割されるものであってもよい。すなわち、分割後のステージ部片のＹ軸方向寸法が所定以下の寸法（例えば輸送規制寸法以下の寸法）になるように分割部８ｂを設けるものであればよい。同様に、基準ベース部３１についても２以上のベース分割部８ａを設けるものであってもよい。 Moreover, although the said embodiment demonstrated the example which divides | segments the stage 4 into the two stage part pieces 41a and 41b, provided two or more division parts 8b and divided | segmented into three or more stage part pieces It may be. In other words, it suffices if the dividing portion 8b is provided so that the dimension in the Y-axis direction of the stage piece after the division becomes a predetermined dimension or less (for example, a dimension equal to or less than the transport regulation dimension). Similarly, the reference base portion 31 may be provided with two or more base dividing portions 8a.

また、上記実施形態では、分割部８ｂ及びベース分割部８ａは、特定方向（レール６の延びる方向）にほぼ平行に設ける例について説明したが、特定方向に対して角度を有するように設けるものであってもよい。いずれの場合であっても、分割後のステージ部片４１ａ、４１ｂ及び基準ベース部片３１ａ、３１ｂのＹ軸方向寸法が所定の寸法以下であればよい。 Moreover, although the division part 8b and the base division part 8a demonstrated the example provided substantially parallel to a specific direction (direction where the rail 6 is extended) in the said embodiment, it provides so that it may have an angle with respect to a specific direction. There may be. In any case, the Y-axis direction dimension of the stage part pieces 41a and 41b and the reference base part pieces 31a and 31b after the division may be equal to or smaller than a predetermined dimension.

また、上記実施形態では、レール６にもレール分割部６３を設ける例について説明したが、運送規制上、問題ない場合には、レール６を一体物としレール分割部６３を不要とした構成であってもよい。この場合には、分割部８ｂ、ベース分割部８ａの高さ調節だけでよく、高度な組付け精度が要求されるレール６のガイド面６２ａとガイド面６２ｂとの高さ位置の調節が不要となるため、現地において塗布装置を早急に組み立てることが可能となる。 In the above embodiment, an example in which the rail dividing portion 63 is also provided on the rail 6 has been described. However, when there is no problem in terms of transportation control, the rail 6 is an integral component and the rail dividing portion 63 is unnecessary. May be. In this case, it is only necessary to adjust the heights of the dividing portion 8b and the base dividing portion 8a, and it is not necessary to adjust the height positions of the guide surface 62a and the guide surface 62b of the rail 6 that require high assembly accuracy. Therefore, it becomes possible to quickly assemble the coating apparatus at the site.

本発明の一実施形態における塗布装置を示す概略上面図である。It is a schematic top view which shows the coating device in one Embodiment of this invention. 上記塗布装置の側面図である。It is a side view of the said coating device. 図１におけるＡ−Ａ矢視図である。It is an AA arrow line view in FIG. 上記塗布装置のユニット支持部付近を示す図である。It is a figure which shows the unit support part vicinity of the said coating device. 上記塗布装置の動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement of the said coating device. 塗布ユニットとレールとの位置関係を示す概略図である。It is the schematic which shows the positional relationship of a coating unit and a rail.

Explanation of symbols

２基板
３基台
５塗布ユニット
６レール
６ａ塗布走行部
６ｂ延長部
８ａベース分割部
８ｂ分割部
３１基準ベース部
３２分割ベース部 2 Substrate 3 Base 5 Application unit 6 Rail 6a Application traveling unit 6b Extension unit 8a Base division unit 8b Division unit 31 Reference base unit 32 Division base unit

Claims

A stage on which a substrate is placed;
A rail extending in a specific direction along the stage;
An application unit that applies the application liquid onto the substrate placed on the stage by discharging the application liquid while running on the rail;
With
The stage is formed with a dividing portion for dividing the stage, and the dividing portion is formed so as to extend in the specific direction from one end of the stage to the other end. A characteristic coating apparatus.

The base has a base on which the stage is placed, and the base is formed with a base splitting part for splitting the base, and the base splitting part is at one end of the base. The coating apparatus according to claim 1, wherein the coating apparatus is formed so as to extend in the specific direction from the other end to the other end.

The stage is divided into a plurality of stage part pieces by the division part, and each stage part piece is supported by a support member on the base, and each of the support members has a stage height. The coating apparatus according to claim 1, further comprising a height adjusting mechanism that adjusts dimensions.

The rail includes an application traveling unit in which the coating unit travels from the start of discharge of the coating liquid to the end of discharge, and an extended portion that extends from the application traveling unit in the specific direction. The coating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating device is integrally formed in a continuous manner, and a rail division portion for dividing a rail is formed in the extension portion.