JP4896236B2 - Substrate transport apparatus and substrate transport method - Google Patents
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Description
本発明は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置及び基板搬送方法に関する。 The present invention relates to a substrate transfer apparatus and a substrate transfer method for transferring a substrate to be processed in a flat flow.
例えば、FPD(フラットパネルディスプレイ)の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
前記フォトリソグラフィ工程は、具体的には次のように行われる。
先ず、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト(以下、レジストと呼ぶ)が塗布されレジスト膜が形成される。そして、回路パターンに対応してレジスト膜が露光され、これが現像処理される。
For example, in manufacturing an FPD (flat panel display), a circuit pattern is formed by a so-called photolithography process.
Specifically, the photolithography process is performed as follows.
First, after a predetermined film is formed on a substrate to be processed such as a glass substrate, a photoresist (hereinafter referred to as a resist) which is a processing liquid is applied to form a resist film. Then, the resist film is exposed corresponding to the circuit pattern and developed.
ところで近年、このフォトリソグラフィ工程では、スループット向上の目的により、被処理基板を略水平姿勢の状態で搬送しながら、その被処理面に対しレジストの塗布、乾燥、加熱、冷却処理等の各処理を施す構成が多く採用されている。
前記基板搬送の構成としては、基板を略水平姿勢の状態で所定の高さに浮上させ、基板搬送方向に搬送する浮上搬送が注目されている。
By the way, in recent years, in this photolithography process, for the purpose of improving throughput, each process such as resist coating, drying, heating, and cooling is performed on the surface to be processed while the substrate to be processed is conveyed in a substantially horizontal posture. Many configurations are used.
As a configuration of the substrate transport, levitation transport in which the substrate is floated to a predetermined height in a substantially horizontal posture and transported in the substrate transport direction has attracted attention.
この浮上搬送を用いた基板搬送装置は、特許文献1に開示されるように例えばレジスト塗布処理装置に採用されている。その従来の構成例について図8に基づいて説明する。尚、図8(a)乃至図8(c)は、基板搬送装置の動作状態を示したものである。
図8の基板搬送装置200は、被処理基板であるガラス基板G(例えばLCD用の基板)をX軸方向に浮上搬送するための浮上ステージ201と、前記ガラス基板Gの進行方向に対して浮上ステージ201の左右両側に敷設された一対のガイドレール202と、ガラス基板Gの四隅付近を下方から吸着保持し、ガイドレール202上をスライド移動する4つの基板キャリア203とを備えている。
As disclosed in Patent Document 1, for example, a resist coating apparatus is used for a substrate transfer apparatus using this levitation transfer. A conventional configuration example will be described with reference to FIG. 8A to 8C show the operation state of the substrate transfer apparatus.
A
浮上ステージ201の上面には、上方に向かって所定のガスを噴射するための多数のガス噴射口201aと、吸気を行うための多数の吸気口201bとが夫々、一定間隔で交互に設けられている。そして、ガス噴射口201aから噴射されるガス噴射量と吸気口201bからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、ガラス基板Gを浮上ステージ201の表面から一定の高さに浮上させるように構成されている。
On the upper surface of the
また、浮上ステージ201の基板搬入位置Hにおいて、ステージ201の左右両側には、搬入されたガラス基板Gの四隅にそれぞれ対応する4つのアライメント装置204が設けられ、各アライメント装置204が作動することにより基板Gが所定位置に配置されるようになされている。
尚、この基板搬送装置200にあっては、塗布処理装置に適用されるため、図示するようにガラス基板Gの左右方向(幅方向)に跨って配置され、浮上ステージ201上で浮上搬送されるガラス基板Gの表面にレジスト液を供給するレジストノズル205を備えている。
Further, at the substrate loading position H of the
In addition, since this
このように構成された基板搬送装置200においては、前段工程の装置から搬入されたガラス基板Gに対し、基板搬送開始前に前記アライメント装置204による位置合わせ作業(アライメントと呼ぶ)が行われる。このアライメントの工程について、図8(a)(b)(c)、及び図9のフローに基づき説明する。
先ず、ガイドレール202に沿って1枚のガラス基板Gの搬送を完了した基板キャリア203は、次に搬送する基板Gを受け取るために、図8(a)に示すように浮上ステージ201の基板搬入位置Hまで戻り、待機する(図9のステップSP1)。
In the
First, the
次いで、図8(b)に示すように、新たにガラス基板Gが搬入されると、アライメント装置204のハンド部204aがステージ201上で浮上するガラス基板Gの高さまで上昇すると共に、基板G側(即ち内側)に移動開始し基板Gの四隅に接近する(図9のステップSP2)。
これによりガラス基板Gの四隅には、アライメント装置204のハンド部204aが接し、ガラス基板Gは押され、所定位置に移動し、位置合わせが行われる。基板Gの、この位置合わせが完了すると、基板キャリア203の吸着パッド203aが上昇し、図8(c)に示すように基板Gの四隅が吸着保持される(図9のステップSP3)。
Next, as shown in FIG. 8B, when a glass substrate G is newly carried in, the
Thereby, the
また、ガラス基板Gが基板キャリア203に保持されると、基板Gの位置がずれることはないため、アライメント装置204のハンド部204aは基板Gから離れて待機位置へ戻る(図9のステップSP4)。
そして、基板キャリア203がレール202に沿ってX方向に移動することにより、浮上ステージ201上を基板Gが搬送され、基板Gはレジストノズル205の下方を通過する際、レジスト液の塗布がなされる(図9のステップSP5)。
また、基板Gの搬送後、基板キャリア203は基板搬入位置Hまで戻り、待機位置に置かれる(図9のステップSP1)。
Further, when the glass substrate G is held by the
Then, the
Further, after the transfer of the substrate G, the
前記のように基板Gのアライメントにあっては、アライメント装置204のハンド部204aにより基板Gが所定位置に保持された状態で、基板キャリア203による吸着保持がなされる。このため、基板Gの位置がずれることなく基板キャリア203による搬送を行うことができる。
しかしながら、前記基板搬送装置200の構成にあっては、基板キャリア203が基板搬入位置Hに戻る前に、次に搬送された基板Gのアライメントを実施すると、基板搬入位置Hに復帰する基板キャリア203と、アライメント装置204のハンド部204aとが干渉するという技術的課題があった。
As described above, in the alignment of the substrate G, the
However, in the configuration of the
そのため、従来は、前記した図9のフローに沿って説明したように、アライメント装置204によるアライメントの作業は、基板搬送を完了した基板キャリア203が基板搬入位置Hに復帰後に行われていた。
しかしながら、その場合、浮上ステージ201において1枚の基板Gを搬送した後、基板キャリア203が基板投入位置Hに戻る時間と、アライメントの時間とを待たなければ、次の基板搬送を開始できず、スループットが低下するという技術的課題があった。
Therefore, conventionally, as described along the flow of FIG. 9 described above, the alignment work by the
However, in that case, the next substrate transfer cannot be started unless the
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、枚様式に1枚ずつ被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、基板搬入から搬送開始までのタクトタイムを短縮し、スループットを向上することのできる基板搬送装置及び基板搬送方法を提供する。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and in a substrate transport apparatus that transports a substrate to be processed one by one in a sheet format, the tact time from substrate loading to transport start A substrate transport apparatus and a substrate transport method that can shorten the throughput and improve the throughput.
前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送装置は、枚様式に1枚ずつ被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置された一対のガイドレールと、前記一対のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリアと、前記浮上ステージの基板搬入位置において、搬入された前記基板に対し待機位置から所定位置まで進退自在に設けられ、前記基板に接して該基板を所定位置に配置するアライメント手段と、前記浮上ステージの基板搬入位置において、前記アライメント手段により所定位置に配置された前記基板を該基板の下方から支持する基板支持手段と、前記基板キャリアと前記アライメント手段と前記基板支持手段の動作を制御する制御部とを備え、前記制御部は、被処理基板の搬送を完了した前記基板キャリアが前記浮上ステージの基板搬入位置に戻るまでの間に、前記アライメント手段が前記基板を所定位置に配置する位置合わせを行い、更に前記基板支持手段が位置合わせがなされた前記基板を下方から支持すると共に、前記アライメント手段が前記基板キャリアと干渉しない待機位置に復帰するように制御することに特徴を有する。 In order to solve the above-described problems, a substrate transport apparatus according to the present invention is a substrate transport apparatus that transports a substrate to be processed flatly one by one in a sheet format, and the substrate is transported by gas injection or injection and suction. A levitation stage for levitation, a pair of guide rails arranged in parallel to the left and right sides of the levitation stage, and a pair of guide rails are provided so as to be movable along the pair of guide rails. A plurality of holdable substrate carriers and a substrate loading position of the levitation stage are provided so as to be able to advance and retreat from a standby position to a predetermined position with respect to the loaded substrate, and the substrate is disposed at a predetermined position in contact with the substrate. An alignment means and a substrate that supports the substrate placed at a predetermined position by the alignment means from below the substrate at the substrate loading position of the floating stage. A control unit that controls operations of the support unit, the substrate carrier, the alignment unit, and the substrate support unit, wherein the control unit completes the transfer of the substrate to be processed, and the substrate carrier is loaded into the floating stage. Before returning to the position, the alignment means aligns the substrate at a predetermined position, and the substrate support means supports the aligned substrate from below, and the alignment means Control is performed so as to return to a standby position that does not interfere with the substrate carrier.
このようにアライメント工程後の被処理基板を一時的に保持するための基板支持手段を備えるため、基板キャリアが浮上ステージの基板搬入位置に戻る前に、基板のアライメントを実施することができる。
即ち、従来のように基板キャリアが浮上ステージの基板搬入位置に戻った後にアライメントを行う必要がなく、基板キャリアが基板搬入位置に戻り次第、基板を保持して搬送開始することができるため、基板搬入から搬送開始までのタクトタイムが短縮され、スループットを向上することができる。
Thus, since the substrate support means for temporarily holding the substrate to be processed after the alignment step is provided, the substrate alignment can be performed before the substrate carrier returns to the substrate loading position of the floating stage.
In other words, it is not necessary to perform alignment after the substrate carrier returns to the substrate loading position of the levitation stage as in the prior art, and as soon as the substrate carrier returns to the substrate loading position, the substrate can be held and started to be conveyed. The tact time from the carry-in to the start of conveyance is shortened, and the throughput can be improved.
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送方法は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置された一対のガイドレールと、前記一対のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリアと、前記浮上ステージの基板搬入位置において、搬入された前記基板に対し待機位置から所定位置まで進退自在に設けられ、前記基板に接して該基板を所定位置に配置するアライメント手段と、前記浮上ステージの基板搬入位置において、前記アライメント手段により所定位置に配置された前記基板を該基板の下方から支持する基板支持手段と、前記基板キャリアと前記アライメント手段と前記基板支持手段の動作を制御する制御部とを具備する基板搬送装置において、枚様式に1枚ずつ被処理基板を平流し搬送する基板搬送方法であって、前記ガイドレールに沿って被処理基板の搬送を完了した前記基板キャリアが、次に搬送する被処理基板の受け取りのために前記浮上ステージの基板搬入位置に戻るまでの間に、前記浮上ステージ上の基板搬入位置に新たに搬入された被処理基板に対し、前記アライメント手段により所定位置に配置する位置合わせを行う工程と、位置合わせされた前記基板を前記基板支持手段により下方から支持する工程と、前記基板が前記基板支持手段により支持された状態で、前記アライメント手段を待機位置に復帰させる工程とを含むことに特徴を有する。 In order to solve the above-described problem, a substrate transport method according to the present invention is arranged in parallel to a levitation stage for levitating the substrate by gas injection or injection and suction, and to the left and right sides of the levitation stage. A pair of guide rails, a plurality of substrate carriers provided so as to be movable along the pair of guide rails and capable of adsorbing and holding the edge of the substrate from below, and loading at the substrate loading position of the floating stage An alignment unit that is provided so as to be able to advance and retreat from a standby position to a predetermined position with respect to the substrate, and is arranged at a predetermined position in contact with the substrate, and at a predetermined position by the alignment unit at the substrate loading position of the floating stage. Substrate support means for supporting the substrate placed on the substrate from below, the substrate carrier, the alignment means, and the substrate A substrate transfer apparatus comprising a control unit for controlling the operation of a plate support means, wherein the substrate transfer method is to transfer a substrate to be processed flatly one by one in a sheet format, the substrate being transferred along the guide rail. The substrate carrier that has been transported is newly loaded into the substrate loading position on the floating stage until the substrate carrier returns to the substrate loading position of the floating stage for receiving the next substrate to be transported. A step of aligning the processing substrate at a predetermined position by the alignment unit, a step of supporting the aligned substrate from below by the substrate support unit, and the substrate supported by the substrate support unit. And a step of returning the alignment means to the standby position.
このような方法によれば、基板支持手段により、アライメント後の被処理基板を一時的に保持できるため、基板キャリアが浮上ステージの基板搬入位置に戻る前に、基板のアライメントを実施することができる。
即ち、従来のように基板キャリアが浮上ステージの基板搬入位置に戻った後にアライメントを行う必要がなく、基板キャリアが基板搬入位置に戻り次第、基板を保持して搬送開始することができるため、基板搬入から搬送開始までのタクトタイムが短縮され、スループットを向上することができる。
According to such a method, since the substrate to be processed after alignment can be temporarily held by the substrate support means, alignment of the substrate can be performed before the substrate carrier returns to the substrate loading position of the floating stage. .
In other words, it is not necessary to perform alignment after the substrate carrier returns to the substrate loading position of the levitation stage as in the prior art, and as soon as the substrate carrier returns to the substrate loading position, the substrate can be held and started to be conveyed. The tact time from the carry-in to the start of conveyance is shortened, and the throughput can be improved.
本発明によれば、枚様式に1枚ずつ被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、基板搬入から搬送開始までのタクトタイムを短縮し、スループットを向上することのできる基板搬送装置及び基板搬送方法を得ることができる。 According to the present invention, in a substrate transfer apparatus for transferring and transferring a substrate to be processed one by one in a sheet format, a substrate transfer apparatus and a substrate capable of reducing the tact time from substrate transfer to transfer start and improving throughput. A conveyance method can be obtained.
以下、本発明の基板搬送装置にかかる実施形態を、図1乃至図7に基づき説明する。尚、この実施形態にあっては、基板搬送装置を、被処理基板であるガラス基板に対しレジスト塗布を行うレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明する。 Hereinafter, an embodiment of the substrate transfer apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, a case where the substrate transport apparatus is applied to a resist coating processing unit that performs resist coating on a glass substrate that is a substrate to be processed will be described as an example.
この基板搬送装置1は、ガラス基板Gを枚様式に一枚ずつ浮上搬送するための浮上搬送部2Aと、前記浮上搬送部2Aから基板Gを受け取り、コロ搬送するコロ搬送部2Bとを備え、基板Gが所謂平流し搬送されるように構成されている。
前記浮上搬送部2Aにおいては、基板搬送方向であるX方向に延長された浮上ステージ3が設けられている。浮上ステージ3の上面には、図示するように多数のガス噴出口3aとガス吸気口3bとがX方向とY方向に一定間隔で交互に設けられ、ガス噴出口3aからの不活性ガスの噴出量と、ガス吸気口3bからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、ガラス基板Gを浮上させている。尚、この実施形態においては、ガスの噴出及び吸気により基板Gを浮上させるようにしたが、それに限定されず、ガス噴出のみの構成によって基板浮上させるようにしてもよい。
The substrate transport apparatus 1 includes a
In the
また、前記浮上ステージ3の幅方向(Y方向)の左右側方には、X方向に平行に延びる一対のガイドレール5が設けられている。この一対のガイドレール5には、ガラス基板Gの四隅の縁部を下方から吸着保持してガイドレール5上を移動する4つの基板キャリア6が設けられている。これら基板キャリア6により浮上ステージ3上に浮上したガラス基板Gを搬送方向に沿って移動される。尚、浮上搬送部2Aからコロ搬送部2Bへの基板引き渡しを円滑に行うために、ガイドレール5は、浮上ステージ3の左右側方だけでなく、コロ搬送部2Bの側方にまで延設されている。
A pair of
各基板キャリア6は、図3に示すように、ガイドレール5に沿って移動可能に設けられたスライド部材6aと、基板Gの下面に対し吸引・開放動作により吸着可能な吸着部材6bと、吸着部材6bを昇降移動させるシリンダ駆動部6cとを有する。
尚、吸着部材6bには、吸引ポンプ(図示せず)が接続され、基板Gとの接触領域の空気を吸引して真空状態に近づけることにより、基板Gに吸着するようになされている。
また、前記スライド部材6aと、シリンダ駆動部6cと、前記吸引ポンプは、それぞれコンピュータからなる制御部50によって、その駆動が制御される。
As shown in FIG. 3, each
Note that a suction pump (not shown) is connected to the
Further, the driving of the
また、図1、図2に示すように、浮上ステージ3において前段工程の装置から基板Gが搬入される位置(基板搬入位置H)にあっては、搬入された基板Gを所定位置に配置する位置合わせ作業(アライメント)が行われる。そのため、浮上ステージ3の基板搬入位置Hの左右両側において、基板Gの四隅にそれぞれ対応するように4つのアライメント装置7が設けられている。
各アライメント装置7は、基板Gの四隅(角部)に対し、それぞれ側方から接近し接触可能に設けられたハンド部材7a(アライメント手段)を有している。また、前記ハンド部材7aを基板Gの四隅に接触可能とするために、図4に示すようにハンド部材7aを昇降させるシリンダ駆動部7bと、ハンド部材7aを基板Gに対して水平に(Y方向に)進退移動させるシリンダ駆動部7cとを有している。尚、前記シリンダ駆動部7b、7cは、制御部50によって、その駆動が制御される。
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, in the floating
Each
また、この基板搬送装置1にあっては、アライメント装置7により位置合わせがなされた基板Gを下方から支持する昇降可能な支持ピン機構8(基板支持手段)を備える。この支持ピン機構8は、浮上ステージ3の基板搬入位置Hにおいて位置合わせされた基板Gの四隅付近にそれぞれ設けられている。
具体的には、各支持ピン機構8は、図2、図4に示すように浮上ステージ3表面から上方に所定寸法(例えば0.5mm)だけ突出可能に設けられた支持ピン8aと、支持ピン8aを昇降移動させるシリンダ駆動部8b(昇降駆動部)とを有している。尚、シリンダ駆動部8bは、制御部50によって、その駆動が制御される。
Further, the substrate transport apparatus 1 includes a support pin mechanism 8 (substrate support means) that can be moved up and down to support the substrate G that has been aligned by the
Specifically, as shown in FIGS. 2 and 4, each
また、基板搬送装置1の浮上ステージ3上には、ガラス基板Gにレジスト液を吐出するノズル9が設けられている。ノズル9は、Y方向に向けて例えば長い略直方体形状に形成されている。また、ノズル9は、例えばガラス基板GのY方向の幅よりも長く形成されている。図2に示すようにノズル9の下端部には、スリット状の吐出口9aが形成され、このノズル9には,レジスト液供給源(図示せず)からレジスト液が供給されるようになされている。
A
図1に示すようにノズル9の両側には、X方向に延びるガイドレール10が形成されている。ノズル9は、ガイドレール10上を移動するノズルアーム11によって保持されている。このノズル9は、ノズルアーム11が有する駆動機構により、ガイドレール10に沿ってX方向に移動可能となされている。
また、ノズルアーム11には、昇降機構が設けられており、ノズル9は、所定の高さに昇降可能である。かかる構成により、図2に示すように、ノズル9は、ガラス基板Gにレジスト液を吐出する吐出位置と、それより上流側にある回転ロール12及び待機部14との間を移動可能となされている。
As shown in FIG. 1,
The
前記回転ロール12は、洗浄タンク13内に軸周りに回転可能に収容されている。
尚、図2に示すノズル9の吐出口9aを洗浄する際には、回転ロール12の最上部にノズル9の吐出口9aを近接させる。そして、回転ロール12を回転させながら、吐出口9aから回転ロール12にレジスト液を吐出することにより、ノズル9の吐出口9aにおけるレジスト液の付着状態が整えられる。これにより、ノズル9の吐出口9aにおけるレジスト液の吐出状態を安定させることができる。
前記回転ロール12のさらに上流側には,ノズル9の待機部14が設けられている。この待機部14には,例えばノズル9を洗浄する機能やノズル9の乾燥を防止する機能が設けられている。
The
When the discharge port 9 a of the
A
また、前記のように前記浮上搬送部2Aの後段には、コロ搬送部2Bが設けられている。このコロ搬送部2Bにおいては、ステージ3の後段に、コロ駆動部25によって回転駆動される複数本のコロ軸16が並列に設けられている。各コロ軸16には、複数の搬送コロ17が取り付けられ、これら搬送コロ17の回転によって基板Gを搬送する構成となされている。
Further, as described above, the
続いて、このように構成された基板搬送装置1における基板Gに対するアライメントの工程について図5のフロー、及び図6,7に沿って説明する。
基板搬送装置1においては、基板キャリア6によって浮上ステージ3上を1枚ずつ基板Gが搬送され、基板Gの表面に対しノズル9から吐出されたレジスト液が塗布される。
そして、浮上ステージ3上を搬送された基板Gは、コロ搬送部2Bに引き渡され、基板キャリア6は次に浮上ステージ3に搬入される基板Gを受け取るために基板搬入位置Hまで戻り始める(図5のステップS1)。
Next, an alignment process for the substrate G in the substrate transport apparatus 1 configured as described above will be described with reference to the flow of FIG. 5 and FIGS.
In the substrate transport apparatus 1, the substrates G are transported one by one on the floating
Then, the substrate G transported on the floating
一方、図6(a)に示すように浮上ステージ3の基板搬入位置Hでは、新たにガラス基板Gが投入される。ここで、浮上ステージ3上には、ガス噴出口3aから不活性ガスが噴出され、ガス吸気口3bから吸気されることによって、不活性ガスの気流が形成されている。前記搬入された基板Gは、浮上ステージ3上に形成された前記不活性ガスの気流によって下方から支持される。
On the other hand, as shown in FIG. 6A, a glass substrate G is newly loaded at the substrate loading position H of the
前記新たに搬入された基板Gに対し、アライメント装置7のハンド部材7aがシリンダ駆動部7bによって基板Gの浮上高さまで上昇され、シリンダ駆動部7cによって基板Gの四隅の角部に接するように水平移動される。これによりガラス基板Gは、浮上ステージ3上の所定位置に移動され、位置合わせが行われる(同じく図5のステップS1)。このように本実施の形態においては、図6(b)に示すように基板キャリア6が基板搬入位置Hに戻る前に、アライメントが実施される。
With respect to the newly loaded substrate G, the
搬入された基板Gに対するアライメントが完了すると、4つの各支持ピン機構8において、シリンダ駆動部8bにより支持ピン8aが上昇移動され、基板Gは4本の支持ピン8aによって下方から支持される(図5のステップS2)。
基板Gが支持ピン8aによって所定位置に保持されると、図6(c)に示すように、アライメント装置7のハンド部材7aは、シリンダ駆動部7bによって下降移動し、更にシリンダ駆動部7cによって基板Gの左右方向に移動し、その待機位置へ復帰する(図5のステップS3)。尚、このアライメント装置7の待機位置は、基板キャリア6と干渉しない位置に置かれている。
When the alignment with respect to the loaded substrate G is completed, in each of the four
When the substrate G is held at a predetermined position by the support pins 8a, as shown in FIG. 6C, the
ここで、前記ステップS3の後は、アライメント装置7は待機位置に復帰しているが、基板Gは下方から支持ピン8aによって支持されるため、浮上ステージ3上に形成された不活性ガスの気流に流されて移動することがない。即ち、基板Gは、位置ずれすることなく所定位置に保持される。また、基板Gは、前記浮上ステージ3上に形成された不活性ガスの気流によって下方から支持されるため撓むことがない。
Here, after step S3, the
前記ステップS3のようにアライメント装置7のハンド部材7aが、確実にその待機位置に戻ると、基板キャリア6はアライメント装置7と干渉することなく基板搬入位置Hへの移動を完了する。
基板搬入位置Hに戻った基板キャリア6においては、シリンダ駆動部6cにより吸着部材6bが上昇移動し、図7(a)に示すように吸着部材6bによって基板Gの縁部が下方から吸着保持される(図5のステップS4)。
When the
In the
また、基板キャリア6により基板Gが保持されると、制御部50は、各支持ピン機構8においてシリンダ駆動部8bにより支持ピン8aを下降移動させ、支持ピン8aによる支持状態を解除する。
そして、基板キャリア6によって基板Gは、図7(b)に示すようにガイドレール5に沿って浮上ステージ5上を移動し(図5のステップS5)、ノズル9からレジスト液が吐出されて、基板表面にレジスト液が塗布される。
When the substrate G is held by the
Then, the substrate G is moved by the
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、アライメント後の基板Gを一時的に保持するための支持ピン機構8を備えるため、基板キャリア6が浮上ステージ3の基板搬入位置Hに戻る前に、次に搬送する基板Gのアライメントを実施することができる。
即ち、従来のように基板キャリア6が浮上ステージ3の基板搬入位置Hに戻った後に次に搬送する基板Gのアライメントを実施する必要がなく、基板キャリア6が基板搬入位置Hに戻り次第、基板キャリア6により基板Gを保持して搬送開始することができるため、基板搬入から搬送開始までのタクトタイムが短縮され、スループットを向上することができる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, since the
That is, it is not necessary to perform alignment of the substrate G to be transported next after the
尚、前記実施の形態においては、本発明にかかる基板搬送装置をレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明したが、本発明にかかる基板搬送装置は、このユニットに限定されることなく、他の基板処理ユニット等においても好適に用いることができる。 In the above embodiment, the case where the substrate transfer apparatus according to the present invention is applied to the resist coating unit has been described as an example. However, the substrate transfer apparatus according to the present invention is not limited to this unit. It can be suitably used also in other substrate processing units.
Claims (6)
気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置された一対のガイドレールと、前記一対のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリアと、前記浮上ステージの基板搬入位置において、搬入された前記基板に対し待機位置から所定位置まで進退自在に設けられ、前記基板に接して該基板を所定位置に配置するアライメント手段と、前記浮上ステージの基板搬入位置において、前記アライメント手段により所定位置に配置された前記基板を該基板の下方から支持する基板支持手段と、前記基板キャリアと前記アライメント手段と前記基板支持手段の動作を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、被処理基板の搬送を完了した前記基板キャリアが前記浮上ステージの基板搬入位置に戻るまでの間に、前記アライメント手段が前記基板を所定位置に配置する位置合わせを行い、更に前記基板支持手段が位置合わせがなされた前記基板を下方から支持すると共に、前記アライメント手段が前記基板キャリアと干渉しない待機位置に復帰するように制御することを特徴とする基板搬送装置。 A substrate transfer apparatus for transferring and transferring a substrate to be processed one by one in a sheet format,
A levitation stage for levitating the substrate by gas injection or injection and suction, a pair of guide rails arranged parallel to the left and right sides of the levitation stage, and a pair of guide rails movably provided along the pair of guide rails A plurality of substrate carriers capable of adsorbing and holding the edge of the substrate from below; and a substrate loading position of the levitation stage, wherein the substrate loaded is movably provided from a standby position to a predetermined position. An alignment means for placing the substrate at a predetermined position in contact with the substrate; a substrate support means for supporting the substrate placed at a predetermined position by the alignment means from below the substrate at the substrate loading position of the floating stage; A substrate carrier, the alignment means, and a controller for controlling the operation of the substrate support means,
The control unit performs alignment so that the alignment unit arranges the substrate at a predetermined position until the substrate carrier that has completed the transfer of the substrate to be processed returns to the substrate carry-in position of the levitation stage. A substrate transport apparatus, wherein the substrate support means supports the aligned substrate from below and controls the alignment means to return to a standby position where it does not interfere with the substrate carrier.
前記昇降駆動部が前記複数の支持ピンを前記浮上ステージの表面から所定の高さまで上昇させることにより、前記複数の支持ピンにより前記基板が支持されることを特徴とする請求項1に記載された基板搬送装置。 The substrate support means includes a plurality of support pins provided so as to protrude upward from the surface of the levitation stage, and an elevating drive unit configured to raise and lower the plurality of support pins.
2. The substrate according to claim 1, wherein the lift driving unit raises the plurality of support pins to a predetermined height from the surface of the levitation stage, whereby the substrate is supported by the plurality of support pins. Substrate transfer device.
前記複数の支持ピンにより支持された前記基板が、前記複数の基板キャリアにより吸着保持されると、前記昇降駆動部により前記複数の支持ピンを下降移動するよう制御し、
前記複数の支持ピンによる前記基板の支持が解除されることを特徴とする請求項2に記載された基板搬送装置。 The controller is
When the substrate supported by the plurality of support pins is sucked and held by the plurality of substrate carriers, the lift drive unit controls the plurality of support pins to move downward,
The substrate transfer apparatus according to claim 2, wherein the support of the substrate by the plurality of support pins is released.
前記ガイドレールに沿って被処理基板の搬送を完了した前記基板キャリアが、次に搬送する被処理基板の受け取りのために前記浮上ステージの基板搬入位置に戻るまでの間に、
前記浮上ステージ上の基板搬入位置に新たに搬入された被処理基板に対し、前記アライメント手段により所定位置に配置する位置合わせを行う工程と、
位置合わせされた前記基板を前記基板支持手段により下方から支持する工程と、
前記基板が前記基板支持手段により支持された状態で、前記アライメント手段を待機位置に復帰させる工程とを含むことを特徴とする基板搬送方法。 A levitation stage for levitating the substrate by gas injection or injection and suction, a pair of guide rails arranged parallel to the left and right sides of the levitation stage, and a pair of guide rails movably provided along the pair of guide rails A plurality of substrate carriers capable of adsorbing and holding the edge of the substrate from below; and a substrate loading position of the levitation stage, wherein the substrate loaded is movably provided from a standby position to a predetermined position. An alignment means for placing the substrate at a predetermined position in contact with the substrate; a substrate support means for supporting the substrate placed at a predetermined position by the alignment means from below the substrate at the substrate loading position of the floating stage; In a substrate transport apparatus comprising a substrate carrier, the alignment means, and a controller for controlling the operation of the substrate support means. One by one, sheets Form A substrate transfer method for transporting a processed substrate flat flow,
Until the substrate carrier that has completed the transfer of the substrate to be processed along the guide rail returns to the substrate loading position of the floating stage for receiving the substrate to be processed next to be transferred,
A step of aligning the target substrate newly loaded at the substrate loading position on the levitation stage by placing the substrate at a predetermined position by the alignment unit;
Supporting the aligned substrate from below by the substrate support means;
Returning the alignment means to a standby position in a state where the substrate is supported by the substrate support means.
前記昇降駆動部が前記複数の支持ピンを前記浮上ステージの表面から所定の高さまで上昇させることにより、前記複数の支持ピンにより前記基板が支持されることを特徴とする請求項4に記載された基板搬送方法。 The substrate support means includes a plurality of support pins provided so as to protrude upward from the surface of the levitation stage, and an elevating drive unit configured to raise and lower the plurality of support pins.
The said raising / lowering drive part raises these support pins to the predetermined height from the surface of the said levitation | floating stage, The said board | substrate is supported by these support pins. Substrate transport method.
前記浮上ステージの基板搬入位置に戻った前記基板キャリアにより前記基板を吸着保持する工程と、
前記昇降駆動部により前記複数の支持ピンを下降移動し、前記複数の支持ピンによる前記基板の支持を解除する工程とを含むことを特徴とする請求項5に記載された基板搬送方法。 After the step of returning the alignment means to the standby position in a state where the substrate is supported by the substrate support means,
Sucking and holding the substrate by the substrate carrier returned to the substrate loading position of the floating stage;
The substrate transport method according to claim 5, further comprising a step of moving down the plurality of support pins by the lift driving unit and releasing the support of the substrate by the plurality of support pins.
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