JP6594742B2 - フォトマスクブランク及びそれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 - Google Patents

フォトマスクブランク及びそれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6594742B2
JP6594742B2 JP2015218467A JP2015218467A JP6594742B2 JP 6594742 B2 JP6594742 B2 JP 6594742B2 JP 2015218467 A JP2015218467 A JP 2015218467A JP 2015218467 A JP2015218467 A JP 2015218467A JP 6594742 B2 JP6594742 B2 JP 6594742B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
film
photomask
light shielding
photomask blank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015218467A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2016105158A (ja
Inventor
誠治 坪井
勉 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd
Original Assignee
Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd filed Critical Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd
Priority to TW104137605A priority Critical patent/TWI676078B/zh
Priority to KR1020150161224A priority patent/KR20160060560A/ko
Publication of JP2016105158A publication Critical patent/JP2016105158A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6594742B2 publication Critical patent/JP6594742B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
JP2015218467A 2014-11-20 2015-11-06 フォトマスクブランク及びそれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 Active JP6594742B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW104137605A TWI676078B (zh) 2014-11-20 2015-11-13 光罩基底及使用其之光罩之製造方法、以及顯示裝置之製造方法
KR1020150161224A KR20160060560A (ko) 2014-11-20 2015-11-17 포토마스크 블랭크 및 그것을 사용한 포토마스크의 제조 방법과 표시 장치의 제조 방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014235460 2014-11-20
JP2014235460 2014-11-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016105158A JP2016105158A (ja) 2016-06-09
JP6594742B2 true JP6594742B2 (ja) 2019-10-23

Family

ID=56102775

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015218467A Active JP6594742B2 (ja) 2014-11-20 2015-11-06 フォトマスクブランク及びそれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6594742B2 (ko)
KR (1) KR20160060560A (ko)
TW (1) TWI676078B (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6632950B2 (ja) * 2016-09-21 2020-01-22 Hoya株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、及びそれらを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6812236B2 (ja) * 2016-12-27 2021-01-13 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6625692B2 (ja) * 2017-07-14 2019-12-25 Hoya株式会社 フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
TWI755337B (zh) * 2017-07-14 2022-02-11 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩基底、光罩之製造方法、以及顯示裝置製造方法
WO2019049919A1 (ja) * 2017-09-07 2019-03-14 株式会社ニコン フォトマスクブランクス、フォトマスク、露光方法、及び、デバイスの製造方法
JP2019061106A (ja) * 2017-09-27 2019-04-18 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びそれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6998181B2 (ja) * 2017-11-14 2022-02-04 アルバック成膜株式会社 マスクブランク、位相シフトマスクおよびその製造方法
CN109960105B (zh) * 2017-12-26 2024-06-18 Hoya株式会社 光掩模坯料及光掩模的制造方法、显示装置的制造方法
JP7113724B2 (ja) * 2017-12-26 2022-08-05 Hoya株式会社 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
TWI711878B (zh) * 2018-03-15 2020-12-01 日商大日本印刷股份有限公司 大型光罩
JP7062480B2 (ja) * 2018-03-22 2022-05-06 アルバック成膜株式会社 マスクブランクスおよびフォトマスク、その製造方法
JP7217620B2 (ja) * 2018-11-22 2023-02-03 アルバック成膜株式会社 マスクブランクスおよびマスク
KR102628816B1 (ko) * 2020-06-23 2024-01-24 주식회사피에스디이 반도체 나노 임프린트 장치 및 소프트 몰드의 잔류 감광액 제거 방법
CN114822282B (zh) * 2021-01-29 2023-11-28 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示装置和制备显示面板的方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59119353A (ja) * 1982-12-27 1984-07-10 Hoya Corp フオトマスクブランク
JPS6033557A (ja) * 1983-08-05 1985-02-20 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 電子線露光用マスク素材の製造方法
JP2785313B2 (ja) * 1989-04-05 1998-08-13 凸版印刷株式会社 フオトマスクブランクおよびフオトマスク
JP2002189284A (ja) * 2000-01-12 2002-07-05 Shin Etsu Chem Co Ltd 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びに位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法
JP2003195483A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Hoya Corp フォトマスクブランク、フォトマスク、及びそれらの製造方法
JP3956103B2 (ja) * 2002-02-26 2007-08-08 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスク及びフォトマスクブランクの評価方法
JP2007212705A (ja) * 2006-02-09 2007-08-23 Hoya Corp マスクブランク及びフォトマスク
KR101071471B1 (ko) * 2006-02-28 2011-10-10 호야 가부시키가이샤 포토마스크 블랭크 및 포토마스크와 그들의 제조 방법
JP5004283B2 (ja) * 2006-05-15 2012-08-22 Ｈｏｙａ株式会社 Ｆｐｄデバイス製造用マスクブランク、ｆｐｄデバイス製造用マスクブランクの設計方法、及び、ｆｐｄデバイス製造用マスクの製造方法
JP2009258357A (ja) * 2008-04-16 2009-11-05 Geomatec Co Ltd フォトマスク用基板及びフォトマスクとその製造方法
CN103229099B (zh) * 2010-11-22 2015-10-07 信越化学工业株式会社 光掩模坯料、制造光掩模的方法、以及含铬材料膜
JP5795992B2 (ja) * 2012-05-16 2015-10-14 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201621457A (zh) 2016-06-16
JP2016105158A (ja) 2016-06-09
TWI676078B (zh) 2019-11-01
KR20160060560A (ko) 2016-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6594742B2 (ja) フォトマスクブランク及びそれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6632950B2 (ja) フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、及びそれらを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6418035B2 (ja) 位相シフトマスクブランクス及び位相シフトマスク
US7901842B2 (en) Photomask blank and method of producing the same, method of producing photomask, and method of producing semiconductor device
JP5054766B2 (ja) フォトマスクブランク及びフォトマスク
KR102277835B1 (ko) 포토마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 포토마스크의 제조 방법, 그리고 표시 장치의 제조 방법
TW201730663A (zh) 遮罩基底用基板、具多層反射膜之基板、反射型遮罩基底及反射型遮罩以及半導體裝置之製造方法
JP6301383B2 (ja) フォトマスクブランク及びこれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
WO2004070472A1 (ja) フォトマスクブランク及びフォトマスク、並びにフォトマスクを用いたパターン転写方法
JP7335400B2 (ja) フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
KR20070095262A (ko) 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크, 하프톤형 위상반전포토마스크 및 그의 제조방법
CN106019817B (zh) 光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法
JP7255512B2 (ja) 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク
JP7113724B2 (ja) フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2022189860A (ja) フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法
JP2020020868A (ja) 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法
JP6627926B2 (ja) 位相シフトマスクブランクスの製造方法
WO2023276398A1 (ja) マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
JP2023070084A (ja) ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク
CN116500853A (zh) 掩模坯料、转印用掩模、转印用掩模的制造方法、及显示装置的制造方法
KR20230114713A (ko) 마스크 블랭크, 전사용 마스크, 전사용 마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
CN117311083A (zh) 掩模坯料、转印用掩模及其制作方法、显示装置的制造方法
JP2020046468A (ja) 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151111

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180626

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190415

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190423

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190723

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190903

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190925

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6594742

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250