JP6578629B2 - 機能層形成用インク、発光素子の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、機能層形成用インク、該機能層形成用インクを用いた発光素子の製造方法に関する。

近年、カラーフィルターの着色層（フィルター層）や有機エレクトロルミネッセンス素
子の発光層、有機薄膜トランジスターの半導体層などの機能層を形成する方法として、液
相プロセスを用いる方法が開発されている。液相プロセスの中でもインクジェット法（液
滴吐出法とも呼ばれる）は、インクジェットヘッドから所望の位置に所定量のインク（溶
液）を液滴として精度よく塗布することが可能な方法として注目されている。
一方で、インクジェット法で用いられるインク（溶液）は、乾燥によってインクジェッ
トヘッドのノズルに固形分が析出するとノズルの目詰まりを起こし、液滴の着弾位置がば
らついたり、ノズルから吐出される液滴の吐出量がばらついたりする吐出不良が生ずる。
したがって、吐出不良が生じ難いインク（溶液）が求められる。また、インク（溶液）を
塗布して乾燥することにより機能層（機能膜）を形成することから、基板などの被塗布物
において所望の領域にむら無く塗布可能であることが求められる。

例えば、特許文献１には、有機材料の溶解度が０．５ｗｔ％以上の第１溶媒と、有機材
料の溶解度が０．１ｗｔ％以下で沸点１２０℃以上のアルコール化合物からなる第２溶媒
とを含み、第１溶媒の沸点が第２溶媒の沸点よりも高い非晶質膜形成用インク組成物が開
示されている。特許文献１によれば、この非晶質膜形成用インク組成物は、インクジェッ
ト法に適していると記載されている。
また、例えば、特許文献２には、混合溶媒と機能材料とを含む塗液であって、混合溶媒
が、２以上の芳香環を有し、且つ対称構造を有する化合物により構成される第一溶媒と他
の溶媒とを含んでいる塗液が開示されている。この塗液を用いれば、インクジェット法に
おいてノズルの目詰まりが起こり難く、安定した吐出を実現できるとしている。
また、例えば、特許文献３には、有機半導体の良溶媒である少なくとも１種の有機溶媒
Ａと、有機半導体の貧溶媒である少なくとも１種の有機溶媒Ｂとを含み、有機溶媒Ａの沸
点が有機溶媒Ｂの沸点よりも高い、有機半導体の溶液が開示されている。この溶液によれ
ば、乾燥時に有機半導体材料が凝集して析出し難く、均質な成膜が可能で、安定した電気
特性を有する有機半導体を形成できるとしている。

特許第４６１６５９６号公報 特許第４７０７６５８号公報 特許第５０１９４５４号公報

しかしながら、上記インクジェット法では、隔壁で囲まれた膜形成領域にインクを充填
して、隔壁の側壁にインクが染み上がった状態で乾燥・固化されると、固化した後の機能
層の膜厚が中央部に比べて隔壁側で厚くなる現象が生ずる。また、乾燥過程におけるイン
ク中の溶質の移動状態によっては中央部の膜厚が他の部分に比べて厚くなることもある。
すなわち、膜形成領域内において膜厚が変動して断面形状がフラットな機能層を得ること
が難しいという課題があった。
例えば、機能層に発光層が含まれる場合、膜厚が変動すると輝度むらや発光色の色むら
などが生ずる。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の
形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例］本適用例に係る機能層形成用インクは、溶質である第１成分と、
前記第１成分の良溶媒であって、芳香環を２つ以上含む芳香族炭化水素、芳香族グリコールエーテル、脂肪族グリコールエーテル、脂肪族アセテート、脂肪族エステルの中から少なくとも１種が選ばれ、沸点が２８０℃以上３５０℃以下の第２成分と、
前記第１成分の良溶媒であって、芳香族炭化水素、芳香族エーテルの中から少なくとも１種が選ばれ、沸点が２００℃以上３００℃以下の第３成分と、を含み、
前記第２成分と前記第３成分とを含む混合溶媒における前記第２成分の割合が１０ｗｔ％以上であり、
前記第２成分の沸点は、前記第３成分の沸点よりも高く、前記第２成分と前記第３成分との沸点の差が５０℃以上であり、
前記第２成分は、トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）であることを特徴とする。

本適用例によれば、インクジェット法（液滴吐出法）を用いて機能層形成用インクを隔
壁で囲まれた膜形成領域に塗布して乾燥させたときに、第２成分として沸点が２８０℃未
満の有機溶媒を選択した場合に比べて、機能層形成用インクの粘度が高くなり機能層形成
用インクの流動性が低下するため、機能層形成用インクが隔壁に染み上がり難く、且つ第
２成分の乾燥がゆっくりと進む。したがって、乾燥後に膜形成領域における断面形状が比
較的にフラットな機能層を形成することが可能な機能層形成用インクを提供することがで
きる。

上記適用例に記載の機能層形成用インクにおいて、前記第２成分の粘度は、前記第３成分の粘度よりも高く、
前記第３成分は、芳香族炭化水素であることが好ましい。

上記適用例に記載の機能層形成用インクにおいて、前記第２成分の粘度が、１５．８ｃｐであり、前記第３成分の粘度が、１０ｃｐ未満であることが好ましい。
この構成によれば、機能層形成用インクの流動性を抑えつつ、インクジェット法（液滴吐出法）により適した状態に粘度が調整された機能層形成用インクを提供できる。

［適用例］本適用例に係る発光素子の製造方法は、一対の電極間に発光層を含む機能層
が挟まれた発光素子の製造方法であって、基板において前記一対の電極のうちの一方の電
極を含む膜形成領域を囲み、表面が撥液性の隔壁を形成する第１工程と、上記適用例に記
載の機能層形成用インクを前記膜形成領域に塗布する第２工程と、塗布された前記機能層
形成用インクを乾燥・固化する第３工程と、を備え、前記機能層形成用インクの前記第１
成分が、有機半導体材料であることを特徴とする。

本適用例によれば、上記適用例に記載の機能層形成用インクを用いることにより膜形成
領域における断面形状が比較的にフラットな機能層を形成することができるので、輝度む
らや発光色のむらが少ない発光素子を製造することができる。

上記適用例に記載の発光素子の製造方法において、前記第１成分は、高分子及び／また
は低分子の有機半導体材料であることを特徴とする。
本発明の機能層形成用インクは、乾燥後に比較的にフラットな断面形状の機能層を形成
可能であることから、溶質である第１成分が高分子及び／または低分子の有機半導体材料
であっても、それぞれの材料の特徴を反映させた機能層を形成することができる。

上記適用例に記載の発光素子の製造方法において、前記第３工程は、減圧乾燥工程を含
むことが好ましい。
この方法によれば、機能層形成用インクを減圧乾燥することで、例えば加熱乾燥に比べ
て溶媒の乾燥がむらなく進行することから、乾燥むらに起因する膜厚むらが生じ難くなり
、断面形状がよりフラットな機能層を形成することができる。

発光装置の構成を示す概略平面図。 有機エレクトロルミネッセンス素子の構成を示す模式断面図。 （ａ）〜（ｄ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 機能層の膜平坦性に係る評価方法を説明するための図。 （ａ）は実施例１〜実施例６、比較例１〜比較例７の機能層形成用インクの組成と評価結果を示す表、（ｂ）は実施例７〜実施例１２、比較例８〜比較例１４の機能層形成用インクの組成と評価結果を示す表。 （ａ）〜（ｄ）は実施例１３〜実施例３１、比較例１５〜比較例１９の機能層形成用インクの組成と評価結果を示す表。 （ｅ）〜（ｇ）は実施例３２〜実施例３５、比較例２０〜比較例３３の機能層形成用インクの組成と評価結果を示す表。 （ａ）は電子機器の一例であるノート型のパーソナルコンピューターを示す概略図、（ｂ）は電子機器の一例である薄型テレビ（ＴＶ）を示す概略図。

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図
面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示してい
る。

（第１実施形態）
＜発光装置＞
まず、本実施形態の発光装置について、図１及び図２を参照して説明する。図１は発光
装置の構成を示す概略平面図、図２は有機エレクトロルミネッセンス素子の構成を示す模
式断面図である。

図１に示すように、本実施形態の発光装置１００は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の
発光（発光色）が得られるサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが配置された基板とし
ての素子基板１０１を有している。各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂは略矩形状
であり、素子基板１０１の表示領域Ｅにおいてマトリックス状に配置されている。以降、
サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂを総称してサブ画素１１０と呼ぶこともある。同
じ発光色のサブ画素１１０が図面上において垂直方向（列方向あるいはサブ画素１１０の
長手方向）に配列し、異なる発光色のサブ画素１１０が図面上において水平方向（行方向
あるいはサブ画素１１０の短手方向）にＲ，Ｇ，Ｂの順で配列している。すなわち、異な
る発光色のサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが所謂ストライプ方式で配置されてい
る。なお、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂの平面形状と配置は、これに限定され
るものではない。また、略矩形状とは、正方形、長方形に加えて、角部が丸くなった四角
形、対向する２辺部が円弧状となった四角形を含むものである。

サブ画素１１０Ｒには、赤（Ｒ）の発光が得られる発光素子としての有機エレクトロル
ミネッセンス（ＥＬ）素子が設けられている。同じく、サブ画素１１０Ｇには、緑（Ｇ）
の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられ、サブ画素１１０Ｂには、青（Ｂ）の発光が得
られる有機ＥＬ素子が設けられている。

このような発光装置１００は、異なる発光色が得られる３つのサブ画素１１０Ｒ，１１
０Ｇ，１１０Ｂを１つの表示画素単位として、それぞれのサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，
１１０Ｂは電気的に制御される。これによりフルカラー表示が可能となっている。

各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂには、図２に示す発光素子としての有機ＥＬ
素子１３０が設けられている。
有機ＥＬ素子１３０は、素子基板１０１上に設けられた反射層１０２と、絶縁膜１０３
と、画素電極１０４と、対向電極１０５と、画素電極１０４と対向電極１０５との間に設
けられた、有機薄膜からなる発光層１３３を含む機能層１３６とを有している。

画素電極１０４は、陽極として機能するものであり、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１
１０Ｂごとに設けられ、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電膜を用いて
形成されている。

画素電極１０４の下層に設けられた反射層１０２は、光透過性を有する画素電極１０４
を透過した機能層１３６からの発光を再び画素電極１０４側に反射させるものである。反
射層１０２は、光反射性を有する例えばアルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）などの金属や
その合金などを用いて形成される。したがって、反射層１０２と画素電極１０４との電気
的な短絡を防ぐために、反射層１０２を覆う絶縁膜１０３が設けられる。絶縁膜１０３は
、例えば酸化シリコンや窒化シリコンあるいは酸窒化シリコンなどを用いて形成される。

機能層１３６は、画素電極１０４側から、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光
層１３３、電子輸送層１３４、電子注入層１３５が順に積層されたものである。特に、発
光層１３３は発光色に応じて構成材料が選ばれるが、ここでは発光色に関わらず総称して
発光層１３３と呼ぶ。なお、機能層１３６の構成は、これに限定されるものではなく、こ
れらの層以外に、キャリア（正孔や電子）の移動を制御する中間層などを備えていてもよ
い。

対向電極１０５は、陰極として機能するものであり、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１
１０Ｂに共通した共通電極として設けられ、例えば、Ａｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）
とＭｇ（マグネシウム）の合金などを用いて形成されている。

陽極としての画素電極１０４側から発光層１３３にキャリアとしての正孔が注入され、
陰極としての対向電極１０５側から発光層１３３にキャリアとしての電子が注入される。
発光層１３３において注入された正孔と電子とにより、励起子（エキシトン；正孔と電子
とがクーロン力にて互いに束縛された状態）が形成され、励起子（エキシトン）が消滅す
る際（正孔と電子とが再結合する際）にエネルギーの一部が蛍光や燐光となって放出され
る。

発光装置１００において、光透過性を有するように対向電極１０５を構成すれば、反射
層１０２を有していることから、発光層１３３からの発光を対向電極１０５側から取り出
すことができる。このような発光方式はトップエミッション方式と呼ばれている。また、
反射層１０２を無くし、光反射性を有するように対向電極１０５を構成すれば、発光層１
３３からの発光を素子基板１０１側から取り出すボトムエミッション方式とすることもで
きる。本実施形態では、発光装置１００がトップエミッション方式であるとして、以降の
説明を行う。なお、本実施形態の発光装置１００は、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１
０Ｂごとの有機ＥＬ素子１３０をそれぞれ独立して駆動することができる画素回路を素子
基板１０１に備えたアクティブ駆動型の発光装置である。画素回路は公知の構成を採用す
ることができるので、図２では画素回路の図示を省略している。

本実施形態において発光装置１００は、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとの
有機ＥＬ素子１３０における画素電極１０４の外縁と重なると共に、画素電極１０４上に
開口部１０６ａを構成する隔壁１０６を有している。
本実施形態において有機ＥＬ素子１３０の機能層１３６は、機能層１３６を構成する正
孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３のうち、少なくとも１層が液相プロセ
スで形成されたものである。液相プロセスとは、それぞれの層を構成する成分と溶媒とを
含んだ溶液（機能層形成用インク）を隔壁１０６で囲まれた膜形成領域としての開口部１
０６ａに塗布して乾燥させることにより、それぞれの層を形成する方法である。それぞれ
の層を所望の膜厚で形成するためには、所定量の機能層形成用インクを精度よく開口部１
０６ａに塗布する必要があり、本実施形態では、液相プロセスとしてインクジェット法（
液滴吐出法）を採用している。

特に、トップエミッション方式の発光装置１００においては、機能層１３６を構成する
各層の断面形状がフラットであることが好ましい。本実施形態の機能層形成用インクは、
各層の断面形状がフラットになるように、開口部１０６ａに機能層形成用インクを塗布し
て乾燥させたときに、隔壁１０６の側壁に機能層形成用インクが染み上がり難い溶媒の構
成となっている。機能層形成用インクの詳しい構成については後述する。

＜発光素子の製造方法＞
次に、本実施形態の発光素子としての有機ＥＬ素子の製造方法について、図３を参照し
て具体的に説明する。図３（ａ）〜（ｄ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図で
ある。なお、前述したように、有機ＥＬ素子１３０を駆動制御する画素回路や、反射層１
０２や画素電極１０４の形成方法は、公知の方法を採用できるので、ここでは、隔壁形成
工程以降について説明する。

本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法は、隔壁形成工程（ステップＳ１）と、表
面処理工程（ステップＳ２）と、機能層形成工程（ステップＳ３）と、対向電極形成（ス
テップＳ４）とを有している。

ステップＳ１の隔壁形成工程では、図３（ａ）に示すように、反射層１０２及び画素電
極１０４が形成された素子基板１０１に、例えば機能層形成用インクに対して撥液性を示
す撥液材料を含む感光性樹脂材料を１μｍ〜２μｍの厚みで塗布して乾燥することにより
感光性樹脂層を形成する。塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられ
る。撥液材料としてはフッ素化合物やシロキサン系化合物が挙げられる。感光性樹脂材料
としては、ネガ型の多官能アクリル樹脂を挙げることができる。できあがった感光性樹脂
層をサブ画素１１０の形状に対応した露光用マスクを用いて露光・現像して、画素電極１
０４の外縁と重なると共に、画素電極１０４上に開口部１０６ａを構成する隔壁１０６を
形成する。そして、ステップＳ２へ進む。

ステップＳ２の表面処理工程では、隔壁１０６が形成された素子基板１０１に表面処理
を施す。表面処理工程は、次工程で機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送
層１３２、発光層１３３をインクジェット法（液滴吐出法）で形成するに際して、隔壁１
０６で囲まれた開口部１０６ａにおいて、機能層形成材料を含む機能層形成用インクがむ
らなく濡れ拡がるように、画素電極１０４の表面の隔壁残渣などの不要物を取り除く目的
で行われる。表面処理方法として、本実施形態ではエキシマＵＶ（紫外線）処理を実施し
た。なお、表面処理方法はエキシマＵＶ処理に限定されず、画素電極１０４の表面を清浄
化できればよく、例えば溶媒による洗浄・乾燥工程を行ってもよい。また、画素電極１０
４の表面が清浄な状態であれば、表面処理工程を実施しなくてもよい。なお、本実施形態
では、撥液材料を含む感光性樹脂材料を用いて隔壁１０６を形成したが、これに限定され
るものではなく、撥液材料を含まない感光性樹脂材料を用いて隔壁１０６を形成した後に
、ステップＳ２において、フッ素系の処理ガスを用いた例えばプラズマ処理を施して隔壁
１０６の表面に撥液性を与え、その後、酸素を処理ガスとするプラズマ処理を施して画素
電極１０４の表面を親液化する表面処理を行ってもよい。そして、ステップＳ３へ進む。

ステップＳ３の機能層形成工程では、まず、図３（ｂ）に示すように、正孔注入材料（
第１成分）を含む機能層形成用インクとしての正孔注入層形成用インク５０を開口部１０
６ａに塗布する。正孔注入層形成用インク５０の塗布方法は、正孔注入層形成用インク５
０をインクジェットヘッド２０のノズル２１から液滴Ｄとして吐出するインクジェット法
（液滴吐出法）を用いる。インクジェットヘッド２０から吐出される液滴Ｄの吐出量は、
ｐｌ単位で制御可能であって、所定量を液滴Ｄの吐出量で除した数の液滴Ｄが開口部１０
６ａに吐出される。吐出された正孔注入層形成用インク５０は隔壁１０６との界面張力に
より開口部１０６ａにおいて盛り上がるが、溢れてしまうことはない。言い換えれば、開
口部１０６ａから溢れ出ない程度の所定量となるように、正孔注入層形成用インク５０に
おける正孔注入材料（第１成分）の濃度が予め調整されている。そして、乾燥工程に進む
。

乾燥工程では、例えば正孔注入層形成用インク５０が塗布された素子基板１０１を減圧
下に放置し、正孔注入層形成用インク５０から溶媒を蒸発させて乾燥する減圧乾燥を用い
る（減圧乾燥工程）。その後、大気圧下で加熱処理を施すことにより固化して、図３（ｃ
）に示すように正孔注入層１３１を形成する。正孔注入層１３１は、後述する正孔注入材
料の選択や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではな
いが、およそ２０ｎｍ〜１５０ｎｍの膜厚で形成される。

次に、正孔輸送材料（第１成分）を含む機能層形成用インクとしての正孔輸送層形成用
インク６０を用いて正孔輸送層１３２を形成する。正孔輸送層１３２の形成方法も、正孔
注入層１３１と同様にインクジェット法（液滴吐出法）を用いて行う。すなわち、所定量
の正孔輸送層形成用インク６０をインクジェットヘッド２０のノズル２１から液滴Ｄとし
て開口部１０６ａに吐出する。そして、開口部１０６ａに塗布された正孔輸送層形成用イ
ンク６０を減圧乾燥する。その後、窒素などの不活性ガス環境下で、加熱処理を施すこと
により正孔輸送層１３２を形成する。正孔輸送層１３２は、後述する正孔輸送材料の選択
や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、お
よそ２０ｎｍの膜厚で形成される。

次に、発光層形成材料（第１成分）を含む機能層形成用インクとしての発光層形成用イ
ンク７０を用いて発光層１３３を形成する。発光層１３３の形成方法も、正孔注入層１３
１と同様に、インクジェット法（液滴吐出法）を用いて行う。すなわち、所定量の発光層
形成用インク７０をインクジェットヘッド２０のノズル２１から液滴Ｄとして開口部１０
６ａに吐出する。そして、開口部１０６ａに塗布された発光層形成用インク７０を減圧乾
燥する。その後、窒素などの不活性ガス環境下で、加熱処理を施すことにより発光層１３
３を形成する。発光層１３３は、後述する発光層形成材料の選択や機能層１３６における
他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ３０ｎｍ〜８０ｎｍ
の膜厚で形成される。

次に、発光層１３３を覆って電子輸送層１３４が形成される。電子輸送層１３４を構成
する電子輸送材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用い
て形成し得るように、例えば、ＢＡＬｑ、１，３，５−トリ（５−（４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）（ＯＸＤ−１）、ＢＣＰ（Bathocuproin
e）、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−
オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、４，４’−ビス（１，１−ビスージフ
ェニルエテニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，
４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）、４，４’−ビス（１，１−ビス（４−メチルフェニル
）エテニル）ビフェニル（ＤＴＶＢｉ）、２，５−ビス（４−ビフェニリル）−１，３，
４−オキサジアゾール（ＢＢＤ）などを挙げることができる。

また、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）、オキサジアゾール誘導
体、オキサゾール誘導体、フェナンソロリン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ベン
ゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアンスラキ
ノジメタン誘導体、フルオレン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン誘導体、ジフェノキ
ノン誘導体、ヒドロキシキノリン誘導体などを挙げることができる。これらのうちの１種
または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子輸送層１３４は、上記電子輸送材料の選択や機能層１３６における他の層との関係
で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ２０ｎｍ〜４０ｎｍの膜厚で形成さ
れる。これにより、陰極としての対向電極１０５から注入された電子を好適に発光層１３
３に輸送することができる。

次に、電子輸送層１３４を覆って電子注入層１３５を形成する。電子注入層１３５を構
成する電子注入材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用
いて形成し得るように、例えば、アルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物を挙げる
ことができる。

アルカリ金属化合物としては、例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ₂ＣＯ₃、ＬｉＣｌ、ＮａＦ、Ｎａ
₂ＣＯ₃、ＮａＣｌ、ＣｓＦ、Ｃｓ₂ＣＯ₃、ＣｓＣｌなどのアルカリ金属塩が挙げられる。
また、アルカリ土類金属化合物としては、例えば、ＣａＦ₂、ＣａＣＯ₃、ＳｒＦ₂、Ｓｒ
ＣＯ₃、ＢａＦ₂、ＢａＣＯ₃などのアルカリ土類金属塩が挙げられる。これらのアルカリ
金属化合物やアルカリ土類金属化合物うちの１種または２種以上を組み合わせて用いるこ
とができる。

電子注入層１３５の膜厚は、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程
度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上、５ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。これ
によって、陰極としての対向電極１０５から電子輸送層１３４に電子を効率よく注入でき
る。

次に、電子注入層１３５を覆って陰極としての対向電極１０５を形成する。対向電極１
０５の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましく、且つ真空蒸着法
などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ
、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕまたはこれ
らを含む合金等が用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば
、複数層の積層体等）用いることができる。

特に、本実施形態のように、発光装置１００をトップエミッション方式とする場合、対
向電極１０５の構成材料としては、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕなどの金属またはＭｇＡｇ、
ＭｇＡｌ、ＭｇＡｕ、ＡｌＡｇなどの合金を用いるのが好ましい。このような金属または
合金を用いることにより、対向電極１０５の光透過性を維持しつつ、対向電極１０５の電
子注入効率及び安定性の向上を図ることができる。
トップエミッション方式における対向電極１０５の膜厚は、特に限定されないが、１ｎ
ｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下程度であるの
がより好ましい。

なお、発光装置１００をボトムエミッション方式とする場合、対向電極１０５には光透
過性が求められない。したがって、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＡｌＡｇ、ＡｌＮｄなどの金属
または合金が好ましく用いられる。このような金属または合金を対向電極１０５の構成材
料として用いることにより、対向電極１０５の電子注入効率及び安定性の向上を図ること
ができる。
ボトムエミッション方式における対向電極１０５の膜厚は、特に限定されないが、５０
ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下
程度であるのがより好ましい。

図３（ｄ）に示すように、上記製造方法により形成された有機ＥＬ素子１３０は、例え
ば、外部から水分や酸素などが浸入すると、機能層１３６における発光機能が阻害され、
部分的に発光輝度が低下したり、発光しなくなったりする暗点（ダークスポット）が発生
する。また、発光寿命が短くなるおそれがある。そこで、有機ＥＬ素子１３０を水分や酸
素などの浸入から保護するために、封止層（図示省略）によって覆うことが好ましい。封
止層としては、例えば、水分や酸素などの透過性が低い、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）な
どの無機絶縁材料を用いることができる。さらには、例えば透明なガラスなどの封止基板
を、有機ＥＬ素子１３０が形成された素子基板１０１に接着剤を介して貼り付けることに
より、有機ＥＬ素子１３０を封着してもよい。

上記有機ＥＬ素子１３０の製造方法では、機能層１３６のうち、正孔注入層１３１、正
孔輸送層１３２、発光層１３３を液相プロセス（インクジェット法）で形成したが、これ
らの層のうち１つを液相プロセス（インクジェット法）で形成すればよく、他の層は真空
蒸着などの気相プロセスを用いて形成してもよい。

＜第１成分＞
正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３について、液相プロセスまたは気
相プロセスで用いることが可能な第１成分の構成材料について説明する。

［正孔注入材料］
上記正孔注入層１３１の形成に好適な正孔注入材料としては、例えば、ポリ（３，４−
エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ），ＰＥＤＯ
Ｔ／ＰＳＳ／Ｎａｆｉｏｎ（登録商標）、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリアニリン
及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ’−テトラフェニルー
ｐ−ジアミノベンゼン及びその誘導体などの高分子の有機半導体材料が挙げられ、これら
のうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

また、正孔注入材料としては、例えば、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、１，１−ビス
［４−（ジ−ｐ−トリル）アミノフェニル］シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）、Ｎ，Ｎ’−ジ
フェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−メチルフェニル）−１，１’ビフェニル−４，４’−
ジアミン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（１−ナフチル）−１，
１’ビフェニル−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤ）、４，４’，４”−トリス（Ｎ−３
−メチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’，４”−
トリス（Ｎ，Ｎ−（２−ナフチル）フェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴ
Ａ）、４，４’，４”−トリ（Ｎ−カルバゾル基）トリフェニルアミン（ＴＣＴＡ）、１
，３，５−トリス−（Ｎ，Ｎ―ビス−（４−メトキシーフェニル）アミノフェニル）ベン
ゼン（ＴＤＡＰＢ）、トリス−（４−カルバゾール−９−イル−フェニル）−アミン（ス
ピローＴＡＤ）、ＤＰＰＤ（ＤＴＰ）、トリス−ｐ−トリルアミン（ＨＴＭ１）、１，１
−ビス［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＨＴＭ２）、１，３，５
−トリス（４−ピリジル）−２，４，６−トリアジン（ＴＰＴ１）、トリフェニルアミン
−テトラマー（ＴＰＴＥ）などを挙げることができる。これらの正孔注入材料はいずれも
ｐ型の低分子の有機半導体材料である。

［正孔輸送材料］
上記正孔輸送層１３２の形成に好適な正孔輸送材料としては、例えば、上述した正孔注
入材料を用いることができる。また、上述した正孔注入材料以外では、例えば、ＴＦＢ；
poly（9,9-dioctyl-fluorene-co-Ｎ-(4-butylphenyl)-diphenylamine）に代表されるトリ
フェニルアミン系ポリマーやPoly[N,N’-bis(4-butylphenyl)-N,N’-bis(phenyl)-benzid
ine]に代表されるブチルフェニルアミン系ポリマーなどのアリールアミン骨格を有する芳
香族アミン系化合物、フルオレンービチオフェン共重合体のようなフルオレン骨格や、フ
ルオレンーアリールアミン共重合体のようなアリールアミン骨格及びフロオレン骨格の双
方を有するポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリビ
ニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリ
ヘキシルチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリチニレンビニレン、ピレン
ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体など
が挙げられる。これらはｐ型の高分子の有機半導体材料である。このようなｐ型の高分子
材料は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェン
を含む混合物としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン
酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）などが挙げられる。

発光層１３３は、発光材料であるドーパント（ゲスト材料）と、ホスト材料とを含むも
のである。ホスト材料は、正孔と電子とを再結合させて励起子を生成するとともに、その
励起子のエネルギーを発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させる
機能を有している。正孔と電子とを再結合させて得られるエネルギーによって導かれる発
光は、発光材料によって蛍光と燐光とのうちいずれかとなる。以降、好ましいホスト材料
及びドーパント（ゲスト材料）の例を挙げる。

［ホスト材料］
赤色、緑色、青色のそれぞれの発光が得られる発光層１３３に共通するホスト材料とし
ては、ＣＢＰ(4,4'-bis(9-dicarbazolyl)-2,2'-biphenyl）、ＢＡｌｑ（Bis-(2-methyl-8
-quinolinolate)-4-(phenylphenolate)aluminium）、ｍＣＰ（N,N-dicarbazolyl-3,5-ben
zene：ＣＢＰ誘導体）、ＣＤＢＰ（4,4'-bis(9-carbazolyl)-2,2'-dimethyl-biphenyl）
、ＤＣＢ（N,N’-Dicarbazolyl-1,4-dimethene-benzene）、Ｐ０６（2,7-bis(diphenylph
osphine oxide)-9,9-dimethylfluorene）、ＳｉｍＣＰ（3,5-bis(9-carbazolyl)tetraphe
nylsilane）、ＵＧＨ３（W-bis(triphenylsilyl)benzene）、ＴＤＡＰＢ（1,3,5-tris［4
-(diphenylamino)phenyl］benzen）などが挙げられる。これらのホスト材料は、低分子の
有機半導体材料である。

［赤色発光材料（ドーパント）］
赤色発光が得られるドーパント（ゲスト材料）としては、Ｂｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（Bi
s(2-phenylbenxothiozolato-N,C2’)iridium(III)(acetylacetonate)）、Ｂｔｐ２Ｉｒ（
ａｃａｃ）（Bis(2-2'-benzothienyl)-pyridinato-N,C3）Iridium(acetylacetonate）な
どのイリジウム錯体、ＰｔＯＥＰ（2,3,7,8,12,13,17,18-Octaethyl-21H,23H-porphine,p
latinum(II）)などの白金錯体が挙げられ、前述したホスト材料に添加することで赤色の
燐光を得ることができる。これらのゲスト材料は、低分子の有機半導体材料である。

一方で高分子の有機半導体材料を用いた赤色発光材料（ドーパント）としては、化学式
（１）や（２）などのフルオレン誘導体を挙げることができる。

Poly[{9,9-dihexyl-2,7-bis(1-cyanovinylene)fluorenylene}-alt-co-{2,5-bis(N,N’-di
phenylamino)-1,4-phenylene}]

Poly[{2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-1,4-(1-cyanovinylenephenylene)}-co-{2,5-bis(
N,N'-diphenylamino)-1,4-phenylene}]

［緑色発光材料（ドーパント）］
緑色発光が得られるドーパント（ゲスト材料）としては、Ｉｒ（ｐｐｙ）３（Fac-tris
(2-phenypyridine)iridium）、Ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（Bis(2-phenyl-pyridinato-N,
C2)iridium(acetylacetone）)などのイリジウム錯体が挙げられ、前述したホスト材料に
添加することで緑色の燐光を得ることができる。これらのゲスト材料は、低分子の有機半
導体材料である。

一方で、高分子の有機半導体材料を用いた緑色発光材料（ドーパント）としては、化学
式（３）や（４）などのフェニレンビニレン誘導体、化学式（５）のジフェニルベンゼン
誘導体を挙げることができる。

Poly[(9,9-dioctyl-2,7-bis{2-cyanovinylenefluorenylene})-alt-co-(2-methoxy-5-{2-e
thylhexyoxy}-1,4-phenylene)]

Poly[(9,9-dioctyl-2,7-divinylenefluorenylene)-alt-co-{2-methoxy-5-(2-ethylhexy
loxy)-1,4-phenylene}]

Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(N,N'-diphenyl)-N,N'-di(p-butylphenyl)
-1,4-diamino-benzene]

［青色発光材料（ドーパント）］
青色発光が得られるドーパント（ゲスト材料）としては、ＦＩｒｐｉｃ（Iridium-bis(
4,6difluorophenyl-pyridinato-N,C.2.)-picolinate）、Ｉｒ（ｐｍｂ）３（Iridium-tri
s(1-phenyl-3-methylbenzimidazolin-2-ylidene-C,C(2)'）)、ＦＩｒＮ４((Iridium(III)
bis(4,6-difluorophenylpyridinato)(5-(pyridin-2-yl)-tetrazolate）)、Ｆｉｒｔａｚ
（（Iridium(III)bis(4,6-difluorophenylpyridinato)(5-(pyridine-2-yl)-1,2,4-triazo
-late）)などのイリジウム錯体が挙げられる。これらのゲスト材料は、低分子の有機半導
体材料である。これらのドーパント（ゲスト材料）を前述した低分子のホスト材料に添加
することで青色の燐光を得ることができる。

また、低分子の有機半導体材料を用いた青色発光材料（ゲスト材料）としては、化学式
（６）、（７）、（８）、（９）などのスチリル誘導体を用いることが好ましい。また、
ホスト材料としては、化学式（１０）、（１１）、（１２）などの低分子の有機半導体材
料であるアントラセン誘導体を用いることが好ましい。

高分子の青色発光材料（ドーパント）としては、化学式（１３）のポリ（９，９−ジヘ
キシルフルオレニル−２，７−ジイル）とその誘導体を挙げることができる。

Poly[9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl]

また、蛍光が得られる発光材料（ドーパント）としては、Ａｌｑ３（８−ヒドロキシキ
ノリナート）アルミニウム、ルブレン、ペリレン、９．１０−ジフェニルアントラセン、
テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリンが挙げられる。
また、青色の蛍光を得ることができる発光材料（ドーパント）としては、１，４−ビス
（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−
ビス−（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−（３−メチルスチリル）ベンゼン、１
，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−
エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビ
ス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、などのスチリルベンゼン誘導体が挙げ
られる。これらの発光材料はいずれも低分子の有機半導体材料である。

なお、本実施形態において、低分子とは分子量が１０００未満のものを指し、高分子と
は分子量が１０００以上であって、基本骨格が繰り返された構造を有するものを指す。

＜機能層形成用インク＞
次に、本実施形態の機能層形成用インクの構成について説明する。本実施形態の有機Ｅ
Ｌ素子１３０の機能層１３６のうち、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３
３のそれぞれを液相プロセス（インクジェット法）で形成する際に好適な機能層形成用イ
ンクの基本的な構成は、次の通りである。
機能層形成用インクは、溶質である第１成分と、第１成分の良溶媒であって、芳香環を
２つ以上含む芳香族炭化水素、芳香族グリコールエーテル、脂肪族グリコールエーテル、
脂肪族アセテート、脂肪族エステルの中から少なくとも１種が選ばれ、沸点が２８０℃以
上３５０℃以下の第２成分と、を含んで構成される。

また、機能層形成用インクは、第１成分の良溶媒であって、芳香族炭化水素、芳香族エ
ーテル、脂肪族エーテルの中から少なくとも１種が選ばれ、沸点が２００℃以上３００℃
以下の第３成分をさらに含み、第２成分と第３成分とを含む混合溶媒における第２成分の
割合が１０ｗｔ％以上であることが好ましい。第３成分を含む場合は、第２成分の沸点の
方が第３成分の沸点よりも高いことが好ましい。言い換えれば、第３成分として、第２成
分の沸点よりも沸点が低いものが上述した芳香族炭化水素、芳香族エーテル、脂肪族エー
テルの中から選ばれる。

＜第２成分＞
沸点（ｂｐ）が２８０℃以上３５０℃以下の第２成分である芳香環を２つ以上含む芳香
族炭化水素としては、イソプロピルビフェニル（ｂｐ．３００℃）、１，１−ビス（３，
４−ジメチルフェニルエタン）（ｂｐ．３３３）などが挙げられる。
同じく第２成分である芳香族グリコールエーテルとしては、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル（ｂｐ．２８３℃）などが挙げられる。
同じく第２成分である脂肪族グリコールエーテルとしては、テトラエチレンモノブチル
エーテル（ｂｐ．３０４℃）が挙げられる。
同じく第２成分である脂肪族アセテートとしては、トリブチリン（ｂｐ．３０５℃）な
どが挙げられる。
同じく第２成分である脂肪族エステルとしては、トリエチレングリコールビス（２−エ
チルヘキサノエート）（ｂｐ．３４４℃）などが挙げられる。

＜第３成分＞
沸点（ｂｐ）が２００℃以上３００℃以下の第３成分である芳香族炭化水素としては、
１，４−ジイソプロピルベンゼン（ｂｐ．２０５℃）、シクロヘキシルベンゼン（ｂｐ．
２３６℃）、ノニルベンゼン（ｂｐ．２８２℃）、デシルベンゼン（ｂｐ．２９８℃）な
どが挙げられる。
同じく第３成分である芳香族エーテルとしては、３−フェノキシトルエンなどが挙げら
れる。
同じく第３成分である脂肪族エーテルとしては、ジエチレングリコールブチルメチルエ
ーテル（ｂｐ．２１０℃）、ジエチレングリコールジブチルエーテル（ｂｐ．２５６℃）
などが挙げられる。

第３成分として挙げた上記溶媒は、沸点が高いほど粘度が低下しているが、いずれも粘
度は１０ｃｐ未満である。一方で、第２成分として挙げた上記溶媒は、第３成分よりも沸
点が高く、且つ粘度が１０ｃｐ以上である（図５参照）。第２成分として挙げた上記溶媒
の粘度は、概ね沸点が高い溶媒ほど粘度も高くなるものの、例えば、沸点が３０５℃のト
リブチン（粘度１７．５ｃｐ）に対して、沸点が２８３℃のエチレングリコールモノフェ
ニルエーテル（粘度２５．２ｃｐ）のほうが、粘度が高い例がある。また、沸点が３０５
℃のトリブチン（粘度１７．５ｃｐ）に対して、沸点が３４４℃のトリエチレングリコー
ルビス（２−エチルヘキサノエート）（粘度１５．８ｃｐ）ほうが、粘度が低い例もある
。

インクジェット法（液滴吐出法）に適した機能層形成用インクとしては、インクジェッ
トヘッド２０からの吐出性を考慮すると、粘度が４０ｃｐ以下であることが好ましい。一
方で、機能層形成用インクの粘度が１０ｃｐ未満であると、溶質としての第１成分を含ん
だとしても機能層形成用インクの流動性が高くなるので、開口部１０６ａに塗布したとき
に隔壁１０６の側壁に染み上がることが懸念される。また、機能層形成用インクの流動性
が高く沸点が低いと、機能層形成用インクの乾燥過程で塗布領域の端から乾燥が進んだ場
合、先に溶媒が蒸発した部分に溶質が固定され、後から溶媒が蒸発した部分に溶質が残り
難くなる、いわゆるコーヒーステイン現象が生じ易くなる。つまり、機能層の膜厚むらが
生じ易くなる。

発明者らは、インクジェット法（液滴吐出法）に適すると共に、乾燥後に隔壁１０６で
囲まれた開口部１０６ａにおいて断面形状がフラットになるように、隔壁１０６の側壁に
染み上がり難い、第２成分の選択や、第２成分と第３成分との組み合わせを開発した。
以降、機能層形成用インクの具体的な実施例と比較例とを挙げ、図４〜図７を参照して
機能層形成用インクの具体的な組成と効果について説明する。図４は機能層の膜平坦性に
係る評価方法を説明するための図、図５（ａ）は実施例１〜実施例６、比較例１〜比較例
７の機能層形成用インクの組成と評価結果を示す表、図５（ｂ）は実施例７〜実施例１２
、比較例８〜比較例１４の機能層形成用インクの組成と評価結果を示す表である。図６（
ａ）〜（ｄ）は実施例１３〜実施例３１、比較例１５〜比較例１９の機能層形成用インク
の組成と評価結果を示す表、図７（ｅ）〜（ｇ）は実施例３２〜実施例３５、比較例２０
〜比較例３３の機能層形成用インクの組成と評価結果を示す表である。

機能層形成用インクの評価項目として、インクジェット法（液滴吐出法）に好適に用い
られることはもちろんのこと、成膜後（乾燥後）の機能層の断面形状がフラットであるこ
とが挙げられる。本実施形態では、図４に示すように、素子基板１０１上において隔壁１
０６で囲まれた画素電極１０４を含む開口部１０６ａに、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔輸
送層（ＨＴＬ）、発光層（ＥＭＬ）を形成したときの、各層の膜平坦性を評価する。具体
的には、開口部１０６ａの画素電極１０４上における、中央部の機能層の膜厚ｔ₁と、隔
壁１０６の際における機能層の膜厚ｔ₂とを比較して膜平坦性を評価する。膜平坦性の評
価は、ｔ₂≦２ｔ₁のときを◎とし、２ｔ₁＜ｔ₂≦３ｔ₁のときを○とし、３ｔ₁＜ｔ₂≦４
ｔ₁のときを△とし、４ｔ₁≦ｔ₂のときを×とする。
なお、図４は、平面視で略矩形状のサブ画素１１０（図１参照）の中央部の短辺方向に
おける機能層の断面形状を示すものである。開口部１０６ａの短辺方向における膜厚分布
は、開口部１０６ａの長辺方向における膜厚分布よりも、機能層形成用インクが隔壁１０
６の側壁に染み上がった影響を受け易いので、短辺方向における膜厚分布を評価対象とし
ている。
また、短辺方向における機能層の断面形状は、図４に示すように、必ずしも隔壁１０６
側で染み上がった凹形状となるとは限らない。該機能層の断面形状が凸状やＭ字状となる
こともある。したがって、膜厚ｔ₁は開口部１０６ａにおける機能層の断面形状において
膜厚が最小と思われる部分の膜厚とし、膜厚ｔ₂は開口部１０６ａにおける機能層の断面
形状において膜厚が最大と思われる部分の膜厚として定義されるものである。本実施形態
における機能層の膜厚の測定は、触針式段差計を用いて実施した。

機能層形成用インクの評価項目として、第１成分の溶媒に対する溶解性が挙げられる。
溶解性は、第１成分が１．５ｗｔ％以上溶解する溶媒を◎とし、第１成分が０．５ｗｔ％
以上１．５ｗｔ％まで溶解する溶媒を○とし、第１成分が０．５ｗｔ％まで溶解する溶媒
を△とし、第１成分が不溶な溶媒を×とする。なお、本実施形態の機能層形成用インクに
おける実施例及び比較例は、いずれも第１成分を溶解する良溶媒を用いているため、その
評価は、すべて○または◎である。本実施形態では、第１成分を０．５ｗｔ％以上溶解す
る溶媒を良溶媒と定義し、第１成分を０．５ｗｔ％未満溶解する溶媒を貧溶媒と定義する
。

以降、実施例、比較例の機能層形成用インクについて、その構成と評価結果について説
明するが、ここでは、機能層形成用インクを単に「インク」と呼ぶこととする。

（実施例１）
図５（ａ）に示すように、実施例１のインクは、第１成分として高分子の正孔注入材料
であるＰＶＫ（ポリビニルカルバゾール）を第２成分として沸点が２８３℃のエチレング
リコールモノフェニルエーテルにおよそ１．２ｗｔ％程度溶解させた正孔注入層形成用イ
ンクである。前述した有機ＥＬ素子１３０の製造方法で説明した通り、インクジェット法
で開口部１０６ａに実施例１のインクを塗布して乾燥することにより正孔注入層（ＨＩＬ
）を形成した。実施例１のインクにおける第１成分の溶解性は◎である。また、第２成分
のエチレングリコールモノフェニルエーテルの粘度は、室温で２５．２ｃｐ（センチポア
ズ）であり、インクジェット法で問題なく実施例１のインクを液滴として吐出することが
できた。乾燥後に得られた正孔注入層（ＨＩＬ）の膜平坦性は○であった。

（実施例２）
図５（ａ）に示すように、実施例２のインクは、第２成分として沸点が３００℃、室温
での粘度が１０．５ｃｐのイソプロピルビフェニルを用いたものであり、他の組成は、実
施例１のインクと同じである。実施例２のインクにおける第１成分の溶解性は◎であり、
またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することができた。乾燥後に得られた正
孔注入層（ＨＩＬ）の膜平坦性は○であった。

（実施例３）
図５（ａ）に示すように、実施例３のインクは、第２成分として沸点が３０４℃、室温
での粘度が１４．０ｃｐのテトラエチレングリコールモノブチルエーテルを用いたもので
あり、他の組成は、実施例１のインクと同じである。実施例３のインクにおける第１成分
の溶解性は○であり、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することができた
。乾燥後に得られた正孔注入層（ＨＩＬ）の膜平坦性は○であった。

（実施例４）
図５（ａ）に示すように、実施例４のインクは、第２成分として沸点が３０５℃、室温
での粘度が１７．５ｃｐのトリブチリンを用いたものであり、他の組成は、実施例１のイ
ンクと同じである。実施例４のインクにおける第１成分の溶解性は○であり、またインク
ジェット法で問題なく液滴として吐出することができた。乾燥後に得られた正孔注入層（
ＨＩＬ）の膜平坦性は○であった。

（実施例５）
図５（ａ）に示すように、実施例５のインクは、第２成分として沸点が３３３℃、室温
での粘度が３４．１ｃｐの１，１−ビス（３，４−ジメチルフェニルエタン）を用いたも
のであり、他の組成は、実施例１のインクと同じである。実施例５のインクにおける第１
成分の溶解性は◎であり、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することがで
きた。乾燥後に得られた正孔注入層（ＨＩＬ）の膜平坦性は◎であった。

（実施例６）
図５（ａ）に示すように、実施例６のインクは、第２成分として沸点が３４４℃、室温
での粘度が１５．８ｃｐのトリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）を
用いたものであり、他の組成は、実施例１のインクと同じである。実施例６のインクにお
ける第１成分の溶解性は○であり、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出する
ことができた。乾燥後に得られた正孔注入層（ＨＩＬ）の膜平坦性は○であった。

（比較例１）
図５（ａ）に示すように、比較例１のインクは、第２成分として沸点が２１０℃、室温
の粘度が２．０ｃｐのジエチレングリコールブチルメチルエーテルを用いたものであり、
他の組成は、実施例１と同じである。比較例１のインクにおける第１成分の溶解性は○で
あり、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後
に得られた正孔注入層（ＨＩＬ）の膜平坦性は×であった。

（比較例２）
図５（ａ）に示すように、比較例２のインクは、第２成分として沸点が２５６℃、室温
の粘度が２．４ｃｐのジエチレングリコールジブチルエーテルを用いたものであり、他の
組成は、実施例１と同じである。比較例２のインクにおける第１成分の溶解性は○であり
、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得
られた正孔注入層（ＨＩＬ）の膜平坦性は×であった。

（比較例３）
図５（ａ）に示すように、比較例３のインクは、第２成分として沸点が２０５℃、室温
の粘度が１．９ｃｐの１，４−ジイソプロピルベンゼンを用いたものであり、他の組成は
、実施例１と同じである。比較例３のインクにおける第１成分の溶解性は○であり、また
インクジェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得られた
正孔注入層（ＨＩＬ）の膜平坦性は×であった。

（比較例４）
図５（ａ）に示すように、比較例４のインクは、第２成分として沸点が２３６℃、室温
の粘度が２．６ｃｐのシクロヘキシルベンゼンを用いたものであり、他の組成は、実施例
１と同じである。比較例４のインクにおける第１成分の溶解性は◎であり、またインクジ
ェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得られた正孔注入
層（ＨＩＬ）の膜平坦性は×であった。

（比較例５）
図５（ａ）に示すように、比較例５のインクは、第２成分として沸点が２８２℃、室温
の粘度が６．０ｃｐのノニルベンゼンを用いたものであり、他の組成は、実施例１と同じ
である。比較例５のインクにおける第１成分の溶解性は◎であり、またインクジェット法
で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得られた正孔注入層（ＨＩ
Ｌ）の膜平坦性は×であった。

（比較例６）
図５（ａ）に示すように、比較例６のインクは、第２成分として沸点が２９８℃、室温
の粘度が８．０ｃｐのデシルベンゼンを用いたものであり、他の組成は、実施例１と同じ
である。比較例６のインクにおける第１成分の溶解性は○であり、またインクジェット法
で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得られた正孔注入層（ＨＩ
Ｌ）の膜平坦性は×であった。

（比較例７）
図５（ａ）に示すように、比較例７のインクは、第２成分として沸点が２７２℃、室温
の粘度が５．８ｃｐの３−フェノキシトルエンを用いたものであり、他の組成は、実施例
１と同じである。比較例７のインクにおける第１成分の溶解性は◎であり、またインクジ
ェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得られた正孔注入
層（ＨＩＬ）の膜平坦性は×であった。

実施例１〜実施例６のインクは、第１成分を溶解する良溶媒を第２成分として用い、沸
点が２８０℃以上３５０℃以下であって、且つ粘度が１０ｃｐ以上４０ｃｐ以下である。
したがって、インクの流動性が低く隔壁１０６に染み上がり難い。また乾燥がゆっくりと
進むので、乾燥後に良好な膜平坦性を有する正孔注入層（ＨＩＬ）が得られたと考えられ
る。

これに対して、比較例１〜比較例７のインクは、第１成分を溶解する良溶媒を第２成分
として用いているが、沸点が３００℃未満であって、且つ粘度が１０ｃｐ未満である。し
たがって、実施例１〜実施例６のインクに比べて、インクの流動性が高く、隔壁１０６に
染み上がった状態で乾燥が進むことから正孔注入層（ＨＩＬ）の膜平坦性が低下したもの
と考えられる。

上記実施例１〜実施例６、比較例１〜比較例７において、第１成分として低分子の正孔
注入材料である前述したＣｕＰｃ、ＴＡＰＣ、ＴＰＤ、α−ＮＰＤ、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ、
２−ＴＮＡＴＡ、ＴＣＴＡ、ＴＤＡＰＢ、スピローＴＡＤ、ＤＰＰＤ、ＤＴＰ、ＨＴＭ１
、ＨＴＭ２、ＴＰＴ１、ＴＰＴＥのそれぞれを用いて、同じ溶媒組成でインクを構成して
も、高分子の正孔注入材料を用いた場合と同様な膜平坦性の結果が得られた。

また、上記実施例１〜実施例６、比較例１〜比較例７において、第１成分として高分子
の正孔輸送材料である前述したＰＦ、ＰＰＶ、ＰＭＰＳ、Poly[N,N’-bis(4-butylphenyl
)-N,N’-bis(phenyl)-benzidine]、ＴＦＢのそれぞれを、第２成分の溶媒に対して０．５
ｗｔ％溶解させたインクを用いて正孔輸送層（ＨＴＬ）を形成しても、正孔注入層（ＨＩ
Ｌ）を形成した場合と同様な膜平坦性の結果が得られた。なお、正孔輸送層（ＨＴＬ）は
、正孔注入層（ＨＩＬ）上にインクを塗布して形成している。その場合の正孔注入層（Ｈ
ＩＬ）は、膜平坦性の評価が◎であった実施例５のインクを用いて形成している。また、
ＴＦＢを用いて正孔輸送層（ＨＴＬ）を形成した場合には、減圧乾燥した後に、窒素雰囲
気下において１８０℃、１時間加熱して塗布膜を焼成し、キシレン溶媒によりＴＦＢの可
溶層を除去して有機溶媒に不溶なＴＦＢからなる正孔輸送層（ＨＴＬ）を形成した。

また、上記低分子の正孔注入材料は正孔輸送材料としても利用することができるので、
第１成分として上記低分子の正孔注入材料を用いて正孔輸送層（ＨＴＬ）を、高分子の正
孔注入材料を用いた正孔注入層（ＨＩＬ）上に形成しても、やはり同様な膜平坦性の結果
が得られた。

さらには、これらの正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔輸送層（ＨＴＬ）は高分子材料と低分
子材料とを組み合わせて形成してもよく、その場合も、上記実施例１〜実施例６、比較例
１〜比較例７と同様な膜平坦性の結果が得られると考えられる。なお、高分子材料と低分
子材料の混合割合は、機能層における正孔と電子とのキャリアバランスに左右されるので
、特に限定されるものではないが、安定的な成膜の観点から高分子材料と低分子材料の総
量に対して高分子材料を３０ｗｔ％以上含むことが好ましい。

次に、発光層形成材料を第１成分とした実施例７〜実施例１２、比較例８〜比較例１４
のインクについて、図５（ｂ）を参照して説明する。

（実施例７）
図５（ｂ）に示すように、実施例７のインクは、第１成分として高分子の発光層形成材
料であるPoly(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl)を第２成分として沸点が２８３℃のエチ
レングリコールモノフェニルエーテルにおよそ１．０ｗｔ％程度溶解させた発光層形成用
インクである。前述した有機ＥＬ素子１３０の製造方法で説明した通り、インクジェット
法で開口部１０６ａに実施例７のインクを塗布して乾燥することにより発光層（ＥＭＬ）
を形成した。実施例７のインクにおける第１成分の溶解性は◎である。また、第２成分の
エチレングリコールモノフェニルエーテルの粘度は、室温で２５．２ｃｐ（センチポアズ
）であり、インクジェット法で問題なく液滴として吐出することができた。乾燥後に得ら
れた発光層（ＥＭＬ）の膜平坦性は○であった。なお、発光層（ＥＭＬ）は、開口部１０
６ａにおいて積層して形成された正孔注入層（ＨＩＬ）及び正孔輸送層（ＨＴＬ）に対し
て実施例７のインクを塗布して乾燥することにより形成している。この場合の正孔注入層
（ＨＩＬ）は上記実施例５のインクを用いて形成されたものである。また、正孔輸送層（
ＨＴＬ）は上記実施例５のインク組成において、第１成分としてＴＦＢを用いたものであ
る。つまり、発光層形成材料として青色の発光が得られるPoly(9,9-dihexylfluorenyl-2,
7-diyl)を用いた発光層（ＥＭＬ）を、正孔注入材料としてＰＶＫを用いた正孔注入層（
ＨＩＬ）に積層された正孔輸送材料としてＴＦＢを用いた正孔輸送層（ＨＴＬ）上に形成
した。

（実施例８）
図５（ｂ）に示すように、実施例８のインクは、第２成分として沸点が３００℃、室温
での粘度が１０．５ｃｐのイソプロピルビフェニルを用いたものであり、他の組成は、実
施例７のインクと同じである。実施例８のインクにおける第１成分の溶解性は◎であり、
またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することができた。乾燥後に得られた発
光層（ＥＭＬ）の膜平坦性は○であった。

（実施例９）
図５（ｂ）に示すように、実施例９のインクは、第２成分として沸点が３０４℃、室温
での粘度が１４．０ｃｐのテトラエチレングリコールモノブチルエーテルを用いたもので
あり、他の組成は、実施例７のインクと同じである。実施例９のインクにおける第１成分
の溶解性は○であり、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することができた
。乾燥後に得られた発光層（ＥＭＬ）の膜平坦性は○であった。

（実施例１０）
図５（ｂ）に示すように、実施例１０のインクは、第２成分として沸点が３０５℃、室
温での粘度が１７．５ｃｐのトリブチリンを用いたものであり、他の組成は、実施例７の
インクと同じである。実施例１０のインクにおける第１成分の溶解性は○であり、またイ
ンクジェット法で問題なく液滴として吐出することができた。乾燥後に得られた発光層（
ＥＭＬ）の膜平坦性は○であった。

（実施例１１）
図５（ｂ）に示すように、実施例１１のインクは、第２成分として沸点が３３３℃、室
温での粘度が３４．１ｃｐの１，１−ビス（３，４−ジメチルフェニルエタン）を用いた
ものであり、他の組成は、実施例７のインクと同じである。実施例１１のインクにおける
第１成分の溶解性は◎であり、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出すること
ができた。乾燥後に得られた発光層（ＥＭＬ）の膜平坦性は◎であった。

（実施例１２）
図５（ｂ）に示すように、実施例１２のインクは、第２成分として沸点が３４４℃、室
温での粘度が１５．８ｃｐのトリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）
を用いたものであり、他の組成は、実施例７のインクと同じである。実施例１２のインク
における第１成分の溶解性は○であり、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出
することができた。乾燥後に得られた発光層（ＥＭＬ）の膜平坦性は○であった。

（比較例８）
図５（ｂ）に示すように、比較例８のインクは、第２成分として沸点が２１０℃、室温
の粘度が２．０ｃｐのジエチレングリコールブチルメチルエーテルを用いたものであり、
他の組成は、実施例７と同じである。比較例８のインクにおける第１成分の溶解性は○で
あり、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後
に得られた発光層（ＥＭＬ）の膜平坦性は×であった。

（比較例９）
図５（ｂ）に示すように、比較例９のインクは、第２成分として沸点が２５６℃、室温
の粘度が２．４ｃｐのジエチレングリコールジブチルエーテルを用いたものであり、他の
組成は、実施例７と同じである。比較例９のインクにおける第１成分の溶解性は○であり
、またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得
られた発光層（ＥＭＬ）の膜平坦性は×であった。

（比較例１０）
図５（ｂ）に示すように、比較例１０のインクは、第２成分として沸点が２０５℃、室
温の粘度が１．９ｃｐの１，４−ジイソプロピルベンゼンを用いたものであり、他の組成
は、実施例７と同じである。比較例１０のインクにおける第１成分の溶解性は○であり、
またインクジェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得ら
れた発光層（ＥＭＬ）の膜平坦性は×であった。

（比較例１１）
図５（ｂ）に示すように、比較例１１のインクは、第２成分として沸点が２３６℃、室
温の粘度が２．６ｃｐのシクロヘキシルベンゼンを用いたものであり、他の組成は、実施
例７と同じである。比較例１１のインクにおける第１成分の溶解性は◎であり、またイン
クジェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得られた発光
層（ＥＭＬ）の膜平坦性は×であった。

（比較例１２）
図５（ｂ）に示すように、比較例１２のインクは、第２成分として沸点が２８２℃、室
温の粘度が６．０ｃｐのノニルベンゼンを用いたものであり、他の組成は、実施例７と同
じである。比較例１２のインクにおける第１成分の溶解性は◎であり、またインクジェッ
ト法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得られた発光層（ＥＭ
Ｌ）の膜平坦性は×であった。

（比較例１３）
図５（ｂ）に示すように、比較例１３のインクは、第２成分として沸点が２９８℃、室
温の粘度が８．０ｃｐのデシルベンゼンを用いたものであり、他の組成は、実施例７と同
じである。比較例１３のインクにおける第１成分の溶解性は○であり、またインクジェッ
ト法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得られた発光層（ＥＭ
Ｌ）の膜平坦性は×であった。

（比較例１４）
図５（ｂ）に示すように、比較例１４のインクは、第２成分として沸点が２７２℃、室
温の粘度が５．８ｃｐの３−フェノキシトルエンを用いたものであり、他の組成は、実施
例７と同じである。比較例１４のインクにおける第１成分の溶解性は◎であり、またイン
クジェット法で問題なく液滴として吐出することができたものの、乾燥後に得られた発光
層（ＥＭＬ）の膜平坦性は×であった。

実施例７〜実施例１２のインクは、第１成分を溶解する良溶媒を第２成分として用い、
沸点が２８０℃以上３５０℃以下であって、且つ粘度が１０ｃｐ以上４０ｃｐ以下である
。したがって、インクの流動性が低く隔壁１０６に染み上がり難い。また乾燥がゆっくり
と進むので、乾燥後に良好な膜平坦性を有する発光層（ＥＭＬ）が得られたと考えられる
。

これに対して、比較例８〜比較例１４のインクは、第１成分を溶解する良溶媒を第２成
分として用いているが、沸点が３００℃未満であって、且つ粘度が１０ｃｐ未満である。
したがって、実施例７〜実施例１２のインクに比べて、インクの流動性が高く、隔壁１０
６に染み上がった状態で乾燥が進むことから発光層（ＥＭＬ）の膜平坦性が低下したもの
と考えられる。

上記実施例７〜実施例１２、比較例８〜比較例１４において、第１成分として高分子の
発光層形成材料である例えば、赤色の発光が得られるPoly[{9,9-dihexyl-2,7-bis(1-cyan
ovinylene)fluorenyl-ene}-alt-co-{2,5-bis(N,N’-diphenylamino)-1,4-phenylene}]や
、緑色の発光が得られるPoly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(N,N’-diphenyl)-N
,N’-di(p-butylphenyl)1,4-diamino-benzene]を用いて発光層（ＥＭＬ）を形成しても、
Poly(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl)を用いた場合と同様な膜平坦性の結果が得られた
。

また、上記実施例７〜実施例１２、比較例８〜比較例１４において、第１成分として低
分子のホスト材料とゲスト材料（ドーパント）とを含む発光層形成材料を用いて発光層（
ＥＭＬ）を形成しても、Poly(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl)を用いた場合と同様な膜
平坦性の結果が得られた。その場合、低分子のホスト材料としては、図５（ｂ）に示すよ
うに、ＣＢＰ、ＢＡｌｑ、ｍＣＰ、ＣＤＢＰ、ＤＣＢＰ０６、ＳｉｍＣＰ、ＵＧＨ３、Ｔ
ＤＡＰＢを挙げることができる。また、低分子のゲスト材料としては、赤のゲスト材料で
あるＢｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ＰｔＯＥＰ、緑のゲスト材料
であるＩｒ（ｐｐｙ）３、Ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、青のゲスト材料であるＦＩｒｐｉ
ｃ、Ｉｒ（ｐｍｂ）３、ＦＩｒＮ４、ＦＩｒｔａｚなどのイリジウム化合物や白金化合物
を挙げることができる。
また、高分子のホスト材料と低分子のゲスト材料（ドーパント）とを組み合わせたとし
ても同様な膜平坦性の結果が得られると考えられる。なお、ホスト材料は、高分子材料と
低分子材料とを組み合わせてもよい。

上記実施例１〜実施例１２、比較例１〜比較例１４のインクの評価結果をまとめると、
次の通りとなる。第１成分を溶解する良溶媒として、沸点が２８０℃以上３５０℃以下で
あって、且つ粘度が１０ｃｐ以上４０ｃｐ以下である第２成分を、芳香環を２つ以上含む
芳香族炭化水素、芳香族グリコールエーテル、脂肪族グリコールエーテル、脂肪族アセテ
ート、脂肪族エステルの中から選択すれば、機能層形成用インクの流動性が低く隔壁１０
６に染み上がり難い。また乾燥がゆっくりと進むので、乾燥後に良好な膜平坦性を有する
機能層が得られる。特に、沸点が３００℃以上で且つ粘度３０ｃｐ以上の１，１−ビス（
３，４−ジメチルフェニルエタン）を第２成分として用いた場合には、機能層において良
好な膜平坦性が得られる。
また、第１成分は、高分子及び／または低分子の有機半導体材料を選択することができ
る。

なお、上記実施例１〜実施例１２、比較例１〜比較例１４では、第２成分として１種の
溶媒を選択したが、これに限定されるものではない。沸点が２８０℃以上３５０℃以下の
第２成分は、芳香環を２つ以上含む芳香族炭化水素、芳香族グリコールエーテル、脂肪族
グリコールエーテル、脂肪族アセテート、脂肪族エステルの中から少なくとも１種が選ば
れればよく、複数種を選択して混合溶媒としても、上記の効果が得られると考えられる。

次に、第１成分を溶解する良溶媒である第３成分をさらに含む機能層形成用インクの実
施例１３〜実施例３５、比較例１５〜比較例３３について、図６及び図７を参照して説明
する。第３成分は、沸点が２００℃以上３００℃以下である、芳香族炭化水素、芳香族エ
ーテル、脂肪族エーテルの中から少なくとも１種が選ばれる。また、第２成分及び第３成
分はいずれも第１成分を溶解する良溶媒が選択されており、溶解性は問題がないので、膜
平坦性のみ評価を行った。

（実施例１３）
図６（ａ）に示すように、実施例１３のインクは、第１成分として高分子の正孔注入材
料であるＰＶＫ（ポリビニルカルバゾール）を、第２成分である沸点が２８３℃のエチレ
ングリコールモノフェニルエーテルと第３成分である沸点が２０５℃の１，４−ジイソプ
ロピルベンゼンとの混合溶媒におよそ１．２ｗｔ％程度溶解させた正孔注入層形成用イン
クである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点の差は７８℃である
。また、混合溶媒における第２成分と第３成分との割合（第２成分：第３成分）が、１０
：９０、２０：８０、３０：７０、４０：６０、５０：５０、６０：４０、７０：３０、
８０：２０、９０：１０の９水準のインクを調合した。
前述した有機ＥＬ素子１３０の製造方法で説明した通り、インクジェット法で開口部１
０６ａに実施例１３の上記９水準のインクをそれぞれ塗布して乾燥することにより正孔注
入層（ＨＩＬ）を形成した。室温で粘度が２５．２ｃｐのエチレングリコールモノフェニ
ルエーテル（第２成分）に、室温で粘度が１．９ｃｐの１，４−ジイソプロピルベンゼン
（第３成分）を加えることにより、インクの粘度は低下してインクジェット法に適した状
態となり実施例１３の上記９水準のインクをそれぞれ問題なく液滴として吐出することが
できた。実施例１３の上記９水準のインクのそれぞれにおいて、乾燥後に得られた正孔注
入層（ＨＩＬ）の膜平坦性は○であった。

なお、実施例１３の場合も、実施例１〜実施例１２と同様に、溶質である第１成分は、
正孔注入層材料、正孔輸送層形成材料、発光層形成材料のいずれであっても、また高分子
材料及び／または低分子材料のいずれの組み合わせであっても同様な膜平坦性の結果が得
られた。以降の実施例及び比較例における説明では、第１成分の選択は、基本的に実施例
１〜実施例１２と同じであって、詳しい説明は省略するものとする。したがって、以降の
説明における機能層は、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔輸送層（ＨＴＬ）、発光層（ＥＭＬ
）のいずれかを指すものとする。

（実施例１４）
図６（ａ）に示すように、実施例１４のインクは、実施例１３のインクに対して第２成
分として沸点が３００℃のイソプロピルビフェニルを用いたものである。他の組成は、実
施例１３と同じである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点の差は
９５℃である。室温で粘度が１０．５ｃｐのイソプロピルビフェニル（第２成分）に、室
温で粘度が１．９ｃｐの１，４−ジイソプロピルベンゼン（第３成分）を加えることによ
り、インクの粘度は低下してインクジェット法に適した状態となり実施例１４の９水準の
インクをそれぞれ問題なく液滴として吐出することができた。実施例１４の９水準のイン
クのそれぞれにおいて、乾燥後に得られた機能層の膜平坦性は○であった。

（実施例１５）
図６（ａ）に示すように、実施例１５のインクは、実施例１３のインクに対して第２成
分として沸点が３０４℃のテトラエチレングリコールモノブチルエーテルを用いたもので
ある。他の組成は、実施例１３と同じである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも
高く、その沸点の差は９９℃である。室温で粘度が１４．０ｃｐのテトラエチレングリコ
ールモノブチルエーテル（第２成分）に、室温で粘度が１．９ｃｐの１，４−ジイソプロ
ピルベンゼン（第３成分）を加えることにより、インクの粘度は低下してインクジェット
法に適した状態となり実施例１５の９水準のインクをそれぞれ問題なく液滴として吐出す
ることができた。実施例１５の９水準のインクのそれぞれにおいて、乾燥後に得られた機
能層の膜平坦性は○であった。

（実施例１６）
図６（ａ）に示すように、実施例１６のインクは、実施例１３のインクに対して第２成
分として沸点が３０５℃のトリブチリンを用いたものである。他の組成は、実施例１３と
同じである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点の差は１００℃で
ある。室温で粘度が１７．５ｃｐのトリブチリン（第２成分）に、室温で粘度が１．９ｃ
ｐの１，４−ジイソプロピルベンゼン（第３成分）を加えることにより、インクの粘度は
低下してインクジェット法に適した状態となり実施例１６の９水準のインクをそれぞれ問
題なく液滴として吐出することができた。実施例１６の９水準のインクのそれぞれにおい
て、乾燥後に得られた機能層の膜平坦性は○であった。

（実施例１７）
図６（ａ）に示すように、実施例１７のインクは、実施例１３のインクに対して第２成
分として沸点が３３３℃の１，１−ビス（３，４−ジメチルフェニルエタン）を用いたも
のである。他の組成は、実施例１３と同じである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よ
りも高く、その沸点の差は１２８℃である。室温で粘度が３４．１ｃｐの１，１−ビス（
３，４−ジメチルフェニルエタン）（第２成分）に、室温で粘度が１．９ｃｐの１，４−
ジイソプロピルベンゼン（第３成分）を加えることにより、インクの粘度は低下してイン
クジェット法に適した状態となり実施例１７の９水準のインクをそれぞれ問題なく液滴と
して吐出することができた。実施例１７の９水準のインクのそれぞれにおいて、乾燥後に
得られた機能層の膜平坦性は◎であった。

（実施例１８）
図６（ａ）に示すように、実施例１８のインクは、実施例１３のインクに対して第２成
分として沸点が３４４℃のトリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）を
用いたものである。他の組成は、実施例１３と同じである。第２成分の沸点は、第３成分
の沸点よりも高く、その沸点の差は１３９℃である。室温で粘度が１５．８ｃｐのトリエ
チレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）（第２成分）に、室温で粘度が１．
９ｃｐの１，４−ジイソプロピルベンゼン（第３成分）を加えることにより、インクの粘
度は低下してインクジェット法に適した状態となり実施例１８の９水準のインクをそれぞ
れ問題なく液滴として吐出することができた。実施例１８の９水準のインクのそれぞれに
おいて、乾燥後に得られた機能層の膜平坦性は○であった。

（実施例１９〜実施例２４）
図６（ｂ）に示すように、実施例１９〜実施例２４のインクは、６種の第２成分［エチ
レングリコールモノフェニルエーテル（ｂｐ．２８３℃）、イソプロピルビフェニル（ｂ
ｐ．３００℃）、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル（ｂｐ．３０４℃）、ト
リブチリン（ｂｐ．３０５℃）、１，１−ビス（３，４−ジメチルフェニルエタン）（ｂ
ｐ．３３３℃）、トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）（ｂｐ．３
４４℃）］のそれぞれと、第３成分としてジエチレングリコールブチルメチルエーテル（
ｂｐ．２１０℃）との混合溶媒に所定量（ｗｔ％）の第１成分を溶解させたものである。
第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点差は、実施例１９から順に７３
℃、９０℃、９４℃、９５℃、１２３℃、１３４℃である。第３成分であるジエチレング
リコールブチルメチルエーテルの室温における粘度は２．４ｃｐであって、第２成分より
も小さいことから、第３成分を加えることにより、インクの粘度は低下してインクジェッ
ト法に適した状態となり実施例１９〜実施例２４のそれぞれにおいて９水準のインクをそ
れぞれ問題なく液滴として吐出することができた。実施例１９〜実施例２２、実施例２４
のそれぞれにおける９水準のインクのそれぞれにおいて、乾燥後に得られた機能層の膜平
坦性は○であった。また、実施例２３の９水準のインクのそれぞれにおいて、乾燥後に得
られた機能層の膜平坦性は◎であった。

（比較例１５）
図６（ｃ）に示すように、比較例１５のインクは、上記実施例１３に対して、第３成分
として沸点が２３６℃のシクロヘキシルベンゼンを選択したものである。他の組成は実施
例１３と同じである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高いが、その沸点差は４
７℃である。第３成分であるシクロヘキシルベンゼンの室温における粘度は２．６ｃｐで
あって、第２成分よりも小さいことから、第３成分を加えることにより、インクの粘度は
低下してインクジェット法に適した状態となり比較例１５の９水準のインクをそれぞれ問
題なく液滴として吐出することができた。しかしながら、機能層の膜平坦性は、第２成分
：第３成分の割合が、１０：９０、２０：８０の２水準において×、３０：７０、４０：
６０、５０：５０、６０：４０の４水準において△、７０：３０、８０：２０、９０：１
０の３水準において○であった。

（実施例２５〜実施例２９）
図６（ｃ）に示すように、実施例２５〜実施例２９のインクは、５種の第２成分［イソ
プロピルビフェニル（ｂｐ．３００℃）、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル
（ｂｐ．３０４℃）、トリブチリン（ｂｐ．３０５℃）、１，１−ビス（３，４−ジメチ
ルフェニルエタン）（ｂｐ．３３３℃）、トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキ
サノエート）（ｂｐ．３４４℃）］のそれぞれと、第３成分としてシクロヘキシルベンゼ
ン（ｂｐ．２３６℃）との混合溶媒に所定量（ｗｔ％）の第１成分を溶解させたものであ
る。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点差は、実施例２５から順に
６４℃、６８℃、６９℃、９７℃、１０８℃である。第３成分であるシクロヘキシルベン
ゼンの室温における粘度は２．６ｃｐであって、第２成分よりも小さいことから、第３成
分を加えることにより、インクの粘度は低下してインクジェット法に適した状態となり実
施例２５〜実施例２９のそれぞれにおいて９水準のインクをそれぞれ問題なく液滴として
吐出することができた。実施例２５〜実施例２７、実施例２９のそれぞれにおける９水準
のインクのそれぞれにおいて、乾燥後に得られた機能層の膜平坦性は○であった。また、
実施例２８の９水準のインクのそれぞれにおいて、乾燥後に得られた機能層の膜平坦性は
◎であった。

（比較例１６〜比較例１９）
図６（ｄ）に示すように、比較例１６〜比較例１９のインクは、４種の第２成分［エチ
レングリコールモノフェニルエーテル（ｂｐ．２８３℃）、イソプロピルビフェニル（ｂ
ｐ．３００℃）、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル（ｂｐ．３０４℃）、ト
リブチリン（ｂｐ．３０５℃）］のそれぞれと、第３成分としてジエチレングリコールジ
ブチルエーテル（ｂｐ．２５６℃）との混合溶媒に所定量（ｗｔ％）の第１成分を溶解さ
せたものである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点差は、比較例
１６から順に２７℃、４４℃、４８℃、４９℃である。第３成分であるジエチレングリコ
ールジブチルエーテルの室温における粘度は２．４ｃｐであって、第２成分よりも小さい
ことから、第３成分を加えることにより、インクの粘度は低下してインクジェット法に適
した状態となり比較例１６〜比較例１９のそれぞれにおいて９水準のインクをそれぞれ問
題なく液滴として吐出することができた。一方で、機能層の膜平坦性は、比較例１６では
、第２成分：第３成分の割合が、１０：９０、２０：８０、３０：７０、４０：６０、５
０：５０の５水準において×、６０：４０、７０：３０の２水準において△、８０：２０
、９０：１０の２水準において○であった。比較例１７〜比較例１９では、第２成分：第
３成分の割合が、１０：９０において×、２０：８０、３０：７０、４０：６０、５０：
５０、６０：４０の５水準において△、７０：３０、８０：２０、９０：１０の３水準に
おいて○であった。

（実施例３０、実施例３１）
図６（ｄ）に示すように、実施例３０、実施例３１のインクは、２種の第２成分［１，
１−ビス（３，４−ジメチルフェニルエタン）（ｂｐ．３３３℃）、トリエチレングリコ
ールビス（２−エチルヘキサノエート）（ｂｐ．３４４℃）］のそれぞれと、第３成分と
してジエチレングリコールジブチルエーテル（ｂｐ．２５６℃）との混合溶媒に所定量（
ｗｔ％）の第１成分を溶解させたものである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも
高く、その沸点差は、実施例３０が７７℃、実施例３１が８８℃である。第３成分である
ジエチレングリコールジブチルエーテルの室温における粘度は２．４ｃｐであって、第２
成分よりも小さいことから、第３成分を加えることにより、インクの粘度は低下してイン
クジェット法に適した状態となり実施例３０、実施例３１のそれぞれにおいて９水準のイ
ンクをそれぞれ問題なく液滴として吐出することができた。機能層の膜平坦性は、実施例
３０では、９水準のインクのそれぞれにおいて◎であった。実施例３１では、同じく９水
準のインクにおいて○であった。

（比較例２０〜比較例２３）
図７（ｅ）に示すように、比較例２０〜比較例２３のインクは、４種の第２成分［エチ
レングリコールモノフェニルエーテル（ｂｐ．２８３℃）、イソプロピルビフェニル（ｂ
ｐ．３００℃）、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル（ｂｐ．３０４℃）、ト
リブチリン（ｂｐ．３０５℃）］のそれぞれと、第３成分として３−フェノキシトルエン
（ｂｐ．２７２℃）との混合溶媒に所定量（ｗｔ％）の第１成分を溶解させたものである
。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点差は、比較例２０から順に１
１℃、２８℃、３２℃、３３℃である。第３成分である３−フェノキシトルエンの室温に
おける粘度は５．８ｃｐであって、第２成分よりも小さいことから、第３成分を加えるこ
とにより、インクの粘度は低下してインクジェット法に適した状態となり比較例２０〜比
較例２３のそれぞれにおいて９水準のインクをそれぞれ問題なく液滴として吐出すること
ができた。一方で、機能層の膜平坦性は、比較例２０では、第２成分：第３成分の割合が
、１０：９０、２０：８０、３０：７０、４０：６０、５０：５０、６０：４０、７０：
３０、８０：２０の８水準において×、１０：９０において△であった。比較例２１〜比
較例２３では、第２成分：第３成分の割合が、１０：９０、２０：８０、３０：７０の３
水準において×、４０：６０、５０：５０、６０：４０の３水準において△、７０：３０
、８０：２０、９０：１０の３水準において○であった。

（実施例３２、実施例３３）
図７（ｅ）に示すように、実施例３２、実施例３３のインクは、２種の第２成分［１，
１−ビス（３，４−ジメチルフェニルエタン）（ｂｐ．３３３℃）、トリエチレングリコ
ールビス（２−エチルヘキサノエート）（ｂｐ．３４４℃）］のそれぞれと、第３成分と
して３−フェノキシトルエン（ｂｐ．２７２℃）との混合溶媒に所定量（ｗｔ％）の第１
成分を溶解させたものである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点
差は、実施例３２が６１℃、実施例３３が７２℃である。第３成分である３−フェノキシ
トルエンの室温における粘度は５．８ｃｐであって、第２成分よりも小さいことから、第
３成分を加えることにより、インクの粘度は低下してインクジェット法に適した状態とな
り実施例３２、実施例３３のそれぞれにおいて９水準のインクをそれぞれ問題なく液滴と
して吐出することができた。一方で、機能層の膜平坦性は、実施例３２では、９水準のイ
ンクのそれぞれにおいて◎であった。実施例３３では、同じく９水準のインクにおいて○
であった。

（比較例２４〜比較例２７）
図７（ｆ）に示すように、比較例２４〜比較例２７のインクは、４種の第２成分［エチ
レングリコールモノフェニルエーテル（ｂｐ．２８３℃）、イソプロピルビフェニル（ｂ
ｐ．３００℃）、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル（ｂｐ．３０４℃）、ト
リブチリン（ｂｐ．３０５℃）］のそれぞれと、第３成分としてノニルベンゼン（ｂｐ．
２８２℃）との混合溶媒に所定量（ｗｔ％）の第１成分を溶解させたものである。第２成
分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点差は、比較例２４から順に１℃、１８
℃、２２℃、２３℃である。第３成分であるノニルベンゼンの室温における粘度は６．０
ｃｐであって、第２成分よりも小さいことから、第３成分を加えることにより、インクの
粘度は低下してインクジェット法に適した状態となり比較例２４〜比較例２７のそれぞれ
において９水準のインクをそれぞれ問題なく液滴として吐出することができた。一方で、
機能層の膜平坦性は、比較例２４では、第２成分：第３成分の割合が、１０：９０、２０
：８０、３０：７０、４０：６０、５０：５０、６０：４０、７０：３０、８０：２０の
８水準において×、９０：１０において△であった。比較例２５では、第２成分：第３成
分の割合が、１０：９０、２０：８０、３０：７０、４０：６０、５０：５０、６０：４
０の６水準において×、７０：３０、８０：２０の２水準において△、９０：１０におい
て○であった。比較例２６、比較例２７では、第２成分：第３成分の割合が、１０：９０
、２０：８０、３０：７０の３水準において×、４０：６０、５０：５０、６０：４０の
３水準において△、７０：３０、８０：２０、９０：１０の３水準において○であった。

（実施例３４、実施例３５）
図７（ｆ）に示すように、実施例３４、実施例３５のインクは、２種の第２成分［１，
１−ビス（３，４−ジメチルフェニルエタン）（ｂｐ．３３３℃）、トリエチレングリコ
ールビス（２−エチルヘキサノエート）（ｂｐ．３４４℃）］のそれぞれと、第３成分と
してノニルベンゼン（ｂｐ．２８２℃）との混合溶媒に所定量（ｗｔ％）の第１成分を溶
解させたものである。第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、その沸点差は、実
施例３４が５１℃、実施例３５が６２℃である。第３成分であるノニルベンゼンの室温に
おける粘度は６．０ｃｐであって、第２成分よりも小さいことから、第３成分を加えるこ
とにより、インクの粘度は低下してインクジェット法に適した状態となり実施例３４、実
施例３５のそれぞれにおいて９水準のインクをそれぞれ問題なく液滴として吐出すること
ができた。機能層の膜平坦性は、実施例３４では、９水準のインクのそれぞれにおいて◎
であった。実施例３５では、同じく９水準のインクにおいて○であった。

（比較例２８〜比較例３３）
図７（ｇ）に示すように、比較例２８〜比較例３３のインクは、６種の第２成分［エチ
レングリコールモノフェニルエーテル（ｂｐ．２８３℃）、イソプロピルビフェニル（ｂ
ｐ．３００℃）、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル（ｂｐ．３０４℃）、ト
リブチリン（ｂｐ．３０５℃）、１，１−ビス（３，４−ジメチルフェニルエタン）（ｂ
ｐ．３３３℃）、トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）（ｂｐ．３
４４℃）］のそれぞれと、第３成分としてデシルベンゼン（ｂｐ．２９８℃）との混合溶
媒に所定量（ｗｔ％）の第１成分を溶解させたものである。第２成分の沸点は、第３成分
の沸点よりも高く、その沸点差は、比較例２８から順に−１５℃、２℃、６℃、７℃、３
５℃、４６℃である。第３成分であるデシルベンゼンの室温における粘度は８．０ｃｐで
あって、第２成分よりも小さいことから、第３成分を加えることにより、インクの粘度は
低下してインクジェット法に適した状態となり比較例２８〜比較例３３のそれぞれにおい
て９水準のインクをそれぞれ問題なく液滴として吐出することができた。一方で、機能層
の膜平坦性は、比較例２８、比較例２９では、第２成分：第３成分の割合が、１０：９０
、２０：８０、３０：７０、４０：６０、５０：５０、６０：４０、７０：３０、８０：
２０の８水準において×、９０：１０において△であった。比較例３０、比較例３１では
、第２成分：第３成分の割合が、１０：９０、２０：８０、３０：７０、４０：６０、５
０：５０、６０：４０、７０：３０の７水準において×、８０：２０において△、９０：
１０において○であった。比較例３２では、第２成分：第３成分の割合が、１０：９０に
おいて×、２０：８０、３０：７０、４０：６０の３水準において△、５０：５０、６０
：４０の２水準において○、７０：３０、８０：２０、９０：１０の３水準において◎で
あった。比較例３３では、第２成分：第３成分の割合が、１０：９０において×、２０：
８０、３０：７０、４０：６０、５０：５０、６０：４０の５水準において△、７０：３
０、８０：２０、９０：１０の３水準において○であった。

上記実施例１３〜実施例３５、比較例１５〜比較例３３のインクの評価結果をまとめる
と、次の通りとなる。第１成分を溶解する良溶媒であり、沸点が２８０℃以上３５０℃以
下であって、且つ粘度が１０ｃｐ以上４０ｃｐ以下である第２成分を、芳香環を２つ以上
含む芳香族炭化水素、芳香族グリコールエーテル、脂肪族グリコールエーテル、脂肪族ア
セテート、脂肪族エステルの中から少なくとも１種選択する。さらに、第１成分の良溶媒
であり、沸点が２００℃以上３００℃以下であって、且つ粘度が１０ｃｐ未満である第３
成分を、芳香族炭化水素、芳香族エーテル、脂肪族エーテルの中から少なくとも１種選択
する。第２成分と第３成分とを含む混合溶媒における第２成分の割合が１０ｗｔ％以上で
あり、且つ第２成分と第３成分との沸点の差が５０℃以上である機能層形成用インクは、
良溶媒が第２成分だけである場合に比べて、インクジェット法に適した粘度に調整し易い
。また、機能層形成用インクの流動性が低く隔壁１０６に染み上がり難く、乾燥がゆっく
りと進むので、乾燥後に良好な膜平坦性を有する機能層が得られる。
第１成分は、高分子及び／または低分子の有機半導体材料を選択することができる。言
い換えれば、第１成分の分子量の大きさによらず、開口部１０６ａにおいて断面形状がフ
ラットな機能層が得られる。

比較例１５〜比較例３３の中には、第２成分と第３成分とからなる混合溶媒における第
２成分の割合が大きくなるにつれて膜平坦性の評価が○や◎になるものがある。ところが
、これらのインク組成では、第３成分の割合が低下するので、インクジェット法に適した
粘度調整の範囲が狭くなり、インクジェットヘッドを用いた吐出条件や乾燥条件が限られ
るおそれがあるので、好適とは言えない。

なお、上記実施例１３〜実施例３５、比較例１５〜比較例３３では、第３成分として１
種の溶媒を選択したが、これに限定されるものではない。沸点が２００℃以上３００℃以
下の第３成分は、芳香族炭化水素、芳香族エーテル、脂肪族エーテルの中から少なくとも
１種が選ばれればよく、複数種が選ばれてもよい。第３成分として複数種の溶媒を選択し
て第２成分を含めた混合溶媒としても、上記の効果が得られると考えられる。

上記第１実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）本実施形態の機能層形成用インクは、溶質である第１成分と、第１成分の良溶媒
であって、芳香環を２つ以上含む芳香族炭化水素、芳香族グリコールエーテル、脂肪族グ
リコールエーテル、脂肪族アセテート、脂肪族エステルの中から少なくとも１種が選ばれ
、沸点が２８０℃以上３５０℃以下の第２成分と、を含む。したがって、機能層形成用イ
ンクの流動性が低く隔壁１０６に染み上がり難い。また乾燥がゆっくりと進むので、乾燥
後に良好な膜平坦性を有する機能層が得られる。また、第１成分としての有機半導体材料
は、高分子及び／または低分子のいずれも選択することができる。言い換えれば、本実施
形態の機能層形成用インクを用いれば第１成分の種類や第１成分が高分子材料や低分子材
料であることに係らず、乾燥後に良好な膜平坦性を有する機能層が得られる。
（２）第２成分だけでなく、第１成分の良溶媒であって、芳香族炭化水素、芳香族エー
テル、脂肪族エーテルの中から少なくとも１種が選ばれ、沸点が２００℃以上３００℃以
下の第３成分をさらに含み、第２成分と第３成分とを含む混合溶媒における第２成分の割
合を１０ｗｔ％以上とすることで、インクジェット法に好適な状態に粘度を調整可能な機
能層形成用インクを提供できる。
また、第３成分を含む場合、第２成分の沸点は、第３成分の沸点よりも高く、第２成分
と第３成分との沸点の差が５０℃以上であることが好ましい。このような第２成分と第３
成分とを選択することにより、乾燥過程で先に第３成分が蒸発しても第２成分が十分に残
存するので乾燥がゆっくり進み、乾燥後に優れた膜平坦性を有する機能層が得られる。
（３）本実施形態の機能層形成用インクを用いた有機ＥＬ素子１３０の製造方法によれ
ば、隔壁１０６で囲まれた開口部１０６ａにおいて断面形状がフラットな機能層１３６を
形成することができるので、輝度むらや発光色の色むらが低減され、優れた発光特性を有
する有機ＥＬ素子１３０を形成することができる。
（４）本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子１
３０をサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂのそれぞれに備えることにより、優れた表
示品質（発光特性）を有するトップエミッション方式の発光装置１００を提供することが
できる。

（第２実施形態）
＜電子機器＞
次に、本実施形態の電子機器について、図８を参照して説明する。図８（ａ）は電子機
器の一例であるノート型のパーソナルコンピューターを示す概略図、図８（ｂ）は電子機
器の一例である薄型テレビ（ＴＶ）を示す概略図である。

図８（ａ）に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピューター１０００は、キ
ーボード１００２を備えた本体部１００１と、表示部１００４を備える表示ユニット１０
０３とにより構成され、表示ユニット１００３は、本体部１００１に対しヒンジ構造部を
介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピューター１０００において、表示部１００４に上記第１実施形態
の発光装置１００が搭載されている。

図８（ｂ）に示すように、電子機器としての薄型テレビ（ＴＶ）１１００は、表示部１
１０１に上記第１実施形態の発光装置１００が搭載されている。

発光装置１００のサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂに設けられた有機ＥＬ素子１
３０は、機能層１３６における正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３のう
ち少なくとも１層が上記第１実施形態の機能層形成用インクを用いて液相プロセス（イン
クジェット法）により形成されている。したがって、膜厚むらが少なく、暗点や輝点など
の発光不良も少ないので歩留まりよく発光装置１００が製造される。つまり、コストパフ
ォーマンスに優れたパーソナルコンピューター１０００や薄型ＴＶ１１００を提供するこ
とができる。

発光装置１００が搭載される電子機器は、上記パーソナルコンピューター１０００や薄
型ＴＶ１１００に限定されない。例えば、スマートフォンやＰＯＳなどの携帯型情報端末
、ナビゲーター、ビューワー、デジタルカメラ、モニター直視型のビデオレコーダーなど
の表示部を有する電子機器が挙げられる。

本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う機能層形成用インク及び発光素子の製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）発光装置１００は、発光素子としてトップエミッション型の有機ＥＬ素子１３０を有することに限定されず、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子１３０を備えていてもよい。また、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂのうちいずれかに有機ＥＬ素子１３０を備えていればよい。例えば、サブ画素１１０Ｒとサブ画素１１０Ｇとには、機能層形成用インクを用いて形成された機能層１３６を有する有機ＥＬ素子１３０を備え、サブ画素１１０Ｂには気相プロセスで形成された機能層１３６を有する有機ＥＬ素子１３０を備えるとしてもよい。

（変形例２）複数の層からなる機能層１３６のうち少なくとも１層がインクジェット法
（液滴吐出法）を用いて形成された有機ＥＬ素子１３０が適用される発光装置１００は、
表示装置であることに限定されない。例えば、照明装置や感光物を露光させる露光装置で
あってもよい。

（変形例３）有機ＥＬ素子１３０の製造方法において、隔壁１０６で囲まれた開口部１
０６ａに機能層形成用インクを塗布する方法は、インクジェット法（液滴吐出法）に限定
されない。例えば、ノズルから定量の機能層形成用インクを吐出するディスペンサー（定
量吐出装置）であってもよい。

（変形例４）本発明の溶媒の組成を適用可能な機能層形成用インクは、発光層を含む機
能層１３６を形成する際に用いられることに限定されない。例えば、溶質である第１成分
は、有機トランジスターを構成する半導体層などの回路素子形成材料や、カラーフィルタ
ーに用いられる顔料を含む樹脂であってもよい。

２０…インクジェットヘッド、２１…ノズル、５０…機能層形成用インクとしての正孔
注入層形成用インク、６０…機能層形成用インクとしての正孔輸送層形成用インク、７０
…機能層形成用インクとしての発光層形成用インク、１００…発光装置、１０１…基板と
しての素子基板、１０２…反射層、１０４…画素電極、１０５…対向電極、１０６…隔壁
、１０６ａ…膜形成領域としての開口部、１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂ…サブ画素、１
３０…発光素子としての有機ＥＬ素子、１３１…正孔注入層、１３２…正孔輸送層、１３
３…発光層、１３４…電子輸送層、１３５…電子注入層、１３６…機能層、１０００…電
子機器としてのパーソナルコンピューター、１１００…薄型テレビ（ＴＶ）。

Claims (6)

1. 溶質である第１成分と、
   前記第１成分の良溶媒であって、芳香環を２つ以上含む芳香族炭化水素、芳香族グリコールエーテル、脂肪族グリコールエーテル、脂肪族アセテート、脂肪族エステルの中から少なくとも１種が選ばれ、沸点が２８０℃以上３５０℃以下の第２成分と、
   前記第１成分の良溶媒であって、芳香族炭化水素、芳香族エーテルの中から少なくとも１種が選ばれ、沸点が２００℃以上３００℃以下の第３成分と、を含み、
   前記第２成分と前記第３成分とを含む混合溶媒における前記第２成分の割合が１０ｗｔ％以上であり、
   前記第２成分の沸点は、前記第３成分の沸点よりも高く、前記第２成分と前記第３成分との沸点の差が５０℃以上であり、
   前記第２成分は、トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）であることを特徴とする機能層形成用インク。
2. 前記第２成分の粘度は、前記第３成分の粘度よりも高く、
   前記第３成分は、芳香族炭化水素である請求項１に記載の機能層形成用インク。
3. 前記第２成分の粘度が、１５．８ｃｐであり、
   前記第３成分の粘度が、１０ｃｐ未満である請求項１に記載の機能層形成用インク。
4. 一対の電極間に発光層を含む機能層が挟まれた発光素子の製造方法であって、
   基板において前記一対の電極のうちの一方の電極を含む膜形成領域を囲み、表面が撥液性の隔壁を形成する第１工程と、
   請求項１乃至３のいずれか一項に記載の機能層形成用インクを前記膜形成領域に塗布する第２工程と、
   塗布された前記機能層形成用インクを乾燥・固化する第３工程と、を備え、
   前記機能層形成用インクの前記第１成分が、有機半導体材料であることを特徴とする発光素子の製造方法。
5. 前記第１成分は、高分子及び／または低分子の有機半導体材料である請求項４に記載の発光素子の製造方法。
6. 前記第３工程は、減圧乾燥工程を含む請求項４または５に記載の発光素子の製造方法。

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