JP2014160584A - 発光装置、発光装置の製造方法、電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】優れた発光効率及び発光寿命を有する有機ＥＬ素子を備えた発光装置、発光装置の製造方法、該発光装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】発光装置１００は、画素電極１３１Ｒと対向電極１３４との間に、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層１４２及び発光層１４５Ｒと、気相プロセスで形成された中間層１４３及び発光層１４５ＢＡとを有する第１有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子１３０Ｒと、画素電極１３１Ｂと対向電極１３４との間に、第１正孔輸送層１４２と、中間層１４３と、発光層１４５ＢＡとを有する第２有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ素子１３０Ｂと、を備え、中間層１４３は、有機ＥＬ素子１３０Ｒと有機ＥＬ素子１３０Ｂとに共通して形成され、画素電極側から順に積層された、発光層１４５ＢＢと第２正孔輸送層１４４とを含み、発光層１４５ＢＡ及び発光層１４５ＢＢは、同色の発光が得られる発光材料を含む。
【選択図】図４

Description

本発明は、発光素子として有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ；Electroluminescence）素子を備えた発光装置、発光装置の製造方法、該発光装置を備えた電子機器に関する。

上記発光装置として、蒸着法で形成された青色発光層を有する第１有機ＥＬ素子と、塗布法で形成された青色以外の赤色発光層あるいは緑色発光層を有する第２有機ＥＬ素子とを備えた有機ＥＬ表示装置が知られている（特許文献１）。
このように、異なる色の発光層の形成において蒸着法と塗布法とを併用する考え方は、有機ＥＬ素子の発光寿命（輝度寿命）や発光効率（電流効率または外部量子効率）において、塗布法で形成された赤色発光層や緑色発光層を備える有機ＥＬ素子は実用レベルに達しているものの、塗布法で形成された青色発光層を備える有機ＥＬ素子を実用レベルにすることが難しく、蒸着法で形成された青色発光層を備える有機ＥＬ素子が実用レベルに達していることが多いという技術的な背景がある。

また、上記特許文献１の有機ＥＬ表示装置では、青色以外の色に発光する第２有機ＥＬ素子では、塗布法で形成された青色以外の発光層上に蒸着法で形成された青色発光層が形成されている。そのため、該有機ＥＬ表示装置の製造方法は、蒸着用マスクを用いて、青色の第１有機ＥＬ素子（青色画素）のみに選択的に青色発光層を成膜する必要がないことから、大型の表示装置の製造に適している。

さらに、上記特許文献１の有機ＥＬ表示装置では、塗布法で形成された発光層と蒸着法で形成された青色発光層との間に、蒸着法で形成された共通正孔輸送層を挟むことで、第１有機ＥＬ素子における青色発光層の発光効率及び寿命特性を向上させることができるとしている。

特開２０１１−２３３８５５号公報

上記特許文献１の第１有機ＥＬ素子は、下部電極と青色発光層との間に、塗布法で形成された正孔輸送層と、蒸着法で形成された共通正孔輸送層とが積層された構造となっている。正孔輸送層の膜厚は１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であることが好ましいとされ、共通正孔輸送層の膜厚は１ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であることが好ましいとされている。
しかしながら、塗布法で形成された正孔輸送層の膜厚を例えば最大である２００ｎｍとすると、第１有機ＥＬ素子を発光させるための駆動電圧が上昇してしまい、低電圧駆動が困難になる。
また、共通正孔輸送層の膜厚を最小である１ｎｍをねらって蒸着法で形成しようとすると、成膜のむらが生じ易く、第１有機ＥＬ素子では製法が異なる正孔輸送層と青色発光層とが接する部分が生じてしまい、正孔輸送層と青色発光層との界面におけるキャリア（正孔）の移動がスムーズに行われないため、青色発光層における発光効率を向上させることができないおそれがあるという課題があった。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例に係わる発光装置は、陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層と、前記第１正孔輸送層に接して気相プロセスで形成された中間層と、前記中間層に接して気相プロセスで形成された第１発光層とを有する有機ＥＬ素子を備え、前記中間層は、前記陽極側から順に積層された、第２発光層と第２正孔輸送層とを含み、前記第１発光層及び前記第２発光層は、同色の発光が得られる発光材料を含むことを特徴とする。

本適用例によれば、有機ＥＬ素子は、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層と気相プロセスで形成された第１発光層との間に、第１正孔輸送層に接して気相プロセスで形成された中間層が配置されている。中間層は、第１発光層と同色の発光が得られる第２発光層と第２正孔輸送層とを含んでいるため、第１発光層から第２正孔輸送層を通過してキャリアとしての電子が漏れてきたとしても、第２発光層において当該電子と正孔とを結合させて発光に結びつけ、優れた発光効率と発光寿命とが得られる発光装置を提供できる。言い換えれば、第２正孔輸送層の膜厚が変動しても発光効率や発光寿命が低下し難い素子構造が実現された有機ＥＬ素子を有する発光装置を提供できる。

［適用例２］上記適用例に係わる発光装置において、前記第２発光層は、前記第１発光層に含まれるホスト材料と発光材料とを含むことが好ましい。
この構成によれば、有機ＥＬ素子において第１発光層と第２発光層とが共に発光したとしても発光の分光特性の変化を抑えることができる。言い換えれば、有機ＥＬ素子における色再現性が確保される。

［適用例３］上記適用例に係わる発光装置において、前記中間層の膜厚は、７ｎｍ〜２５ｎｍの範囲にあり、且つ前記第２正孔輸送層の膜厚は、２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあることが好ましい。
この構成によれば、中間層の膜厚が上記所定の範囲にあるので、第１正孔輸送層と第１発光層との間に中間層を挟むことに起因して有機ＥＬ素子の駆動電圧が大幅に上昇することを抑えることができる。また、第１発光層と第２発光層との間に位置する第２正孔輸送層の膜厚が上記所定の範囲にあるため、例えば第２正孔輸送層の膜厚を１ｎｍとする場合に比べて、第１発光層へのキャリア（正孔）の輸送（注入）が確実に行われる。

［適用例４］本適用例の係わる発光装置は、第１陽極と、共通陰極と、前記第１陽極と前記共通陰極との間に、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層と、前記第１正孔輸送層に接して液相プロセスで形成された第１発光層と、前記第１発光層に接して気相プロセスで形成された中間層と、前記中間層に接して気相プロセスで形成された第２発光層とを有する第１有機ＥＬ素子と、第２陽極と、前記共通陰極と、前記第２陽極と前記共通陰極との間に、前記第１正孔輸送層と、前記第１正孔輸送層に接して形成された前記中間層と、前記中間層に接して形成された前記第２発光層とを有する第２有機ＥＬ素子とを備え、前記中間層は、前記第１有機ＥＬ素子と前記第２有機ＥＬ素子とに共通して形成され、前記第１陽極側から順に積層された、第３発光層と第２正孔輸送層とを含み、前記第２発光層及び前記第３発光層は、同色の発光が得られる発光材料を含むことを特徴とする。

本適用例によれば、第２有機ＥＬ素子において、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層と気相プロセスで形成された第２発光層との間に、気相プロセスで形成された第３発光層と第２正孔輸送層とを含む中間層が配置されている。したがって、第２発光層から第２正孔輸送層を通過してキャリアとしての電子が漏れてきたとしても、第３発光層において当該電子と正孔とを結合させて発光させることができ、優れた発光効率と発光寿命とが得られる発光装置を提供できる。言い換えれば、第２正孔輸送層の膜厚が変動しても発光効率が低下し難い素子構造が実現された第１及び第２有機ＥＬ素子を有する発光装置を提供できる。また、第１有機ＥＬ素子は、同じ製法で形成された第１正孔輸送層と第１発光層とが接しているので、第１正孔輸送層から第１発光層へ効率的にキャリア（正孔）が輸送（注入）される。つまり、第１有機ＥＬ素子及び第２有機ＥＬ素子をそれぞれ選択的に発光させることができると共に、優れた発光効率と発光寿命とを兼ね備えた発光装置を提供できる。

［適用例５］上記適用例に係わる発光装置において、第３陽極と、前記共通陰極と、前記第３陽極と前記共通陰極との間に、前記第１正孔輸送層と、前記第１正孔輸送層に接して液相プロセスで形成された第４発光層と、前記第４発光層に接して形成された前記中間層と、前記中間層に接して形成された前記第２発光層とを有する第３有機ＥＬ素子をさらに備え、前記第１有機ＥＬ素子、前記第２有機ＥＬ素子、前記第３有機ＥＬ素子は、それぞれ異なる発光色を示すことを特徴とする。
この構成によれば、第１有機ＥＬ素子、第２有機ＥＬ素子、第３有機ＥＬ素子をそれぞれ選択的に発光させることができ、且つ発光効率と発光寿命とが改善された発光装置を提供できる。

［適用例６］上記適用例に係わる発光装置において、前記第１有機ＥＬ素子は、赤色の発光色を示し、前記第２有機ＥＬ素子は、青色の発光色を示し、前記第３有機ＥＬ素子は、緑色の発光色を示すことを特徴とする。
この構成によれば、発光効率と発光寿命とが改善され、フルカラー表示が可能な表示装置としての発光装置を提供できる。

［適用例７］上記適用例に係わる発光装置において、前記第３発光層は、前記第２発光層に含まれる電子輸送性のホスト材料と発光材料とを含むことが好ましい。
この構成によれば、第２発光層と第３発光層とが共に発光したとしても色再現性に優れた発光装置を実現できる。また、ホスト材料が電子輸送性を有していることから、第３発光層から第１発光層へのキャリア（電子）の輸送性が高まり第１発光層の発光効率を改善できる。

［適用例８］上記適用例に係わる発光装置において、前記第３発光層は、前記第２発光層に含まれるホスト材料と異なる電子輸送性のホスト材料を含むとしてもよい。
この構成によれば、第３発光層の構成材料としてより電子輸送性が高いホスト材料を選択できることから、第１発光層への電子輸送性をさらに高めて、第１発光層の発光効率を向上させることができる。

［適用例９］上記適用例に係わる発光装置において、前記第２正孔輸送層は、前記第２発光層または前記第３発光層に含まれる発光材料を含むことが好ましい。
この構成によれば、第２有機ＥＬ素子において第３発光層と第２発光層との間に挟まれた第２正孔輸送層からも同色の発光が得られるので、発光効率や発光寿命をさらに改善できる。

［適用例１０］上記適用例に係わる発光装置において、前記第２正孔輸送層における前記発光材料の含有割合は、前記第２発光層または前記第３発光層における前記発光材料の含有割合とほぼ同じであることが好ましい。
この構成によれば、第３発光層から第２発光層の間においてキャリア（正孔や電子）の注入バランスが多少崩れたとしても、安定した発光が得られる。

［適用例１１］上記適用例に係わる発光装置において、前記中間層の膜厚に前記第２発光層の膜厚を加えた値は、１２ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあり、前記第３発光層の膜厚は、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあり、且つ前記第２正孔輸送層の膜厚は、２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあることが好ましい。
この構成によれば、中間層の膜厚が７ｎｍ〜２５ｎｍの範囲となるので、第１正孔輸送層と第２発光層との間に中間層を挟むことに起因して第１〜第３有機ＥＬ素子の駆動電圧が大幅に上昇することを抑えることができる。また、第３発光層と第２発光層との間に位置する第２正孔輸送層の膜厚が２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあるため、例えば第２正孔輸送層の膜厚を１ｎｍとする場合に比べて、第２発光層へのキャリア（正孔）の輸送（注入）が確実に行われる。

［適用例１２］上記適用例に係わる発光装置において、前記第２発光層の膜厚と前記第３発光層の膜厚とがほぼ同じであることが好ましい。
この構成によれば、第１発光層及び第３発光層への電子注入性の確保と、第２発光層への正孔注入性の確保とをバランスよく実現できる。

［適用例１３］上記適用例に係わる発光装置において、前記第２発光層の膜厚は、前記第３発光層の膜厚よりも大きいとしてもよい。
この構成によれば、第２発光層の発光効率を向上させることができる。

［適用例１４］本適用例に係わる発光装置の製造方法は、陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に、前記陽極側から順に形成された、第１正孔輸送層と、第２発光層と、第２正孔輸送層と、第１発光層とを有する有機ＥＬ素子を備えた発光装置の製造方法であって、液相プロセスを用いて前記第１正孔輸送層を形成する工程と、気相プロセスを用いて前記第１正孔輸送層に接して前記第２発光層を形成する工程と、気相プロセスを用いて前記第２発光層に接して前記第２正孔輸送層を形成する工程と、気相プロセスを用いて前記第２正孔輸送層に接して前記第１発光層を形成する工程と、を備え、前記第２発光層は、前記第１発光層と同色の発光が得られる発光材料を含むことを特徴とする。

本適用例によれば、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層と気相プロセスで形成された第１発光層との間に、第１正孔輸送層に接して気相プロセスで形成された第２発光層と第２正孔輸送層が形成される。したがって、第１発光層から第２正孔輸送層を通過してキャリアとしての電子が漏れてきたとしても、第２発光層において当該電子と正孔とを結合させて発光させることができ、優れた発光効率と発光寿命とが得られる発光装置を製造できる。言い換えれば、第２正孔輸送層の膜厚が変動しても発光効率が低下し難い素子構造が実現された有機ＥＬ素子を有する発光装置を液相プロセスと気相プロセスとを用いて効率よく製造できる。

［適用例１５］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第２発光層は、前記第１発光層に含まれるホスト材料と発光材料とを含むことが好ましい。
この方法によれば、有機ＥＬ素子において第１発光層と第２発光層とが共に発光したとしても発光の分光特性の変化を抑えることができる。言い換えれば、色再現性が確保された有機ＥＬ素子を備える発光装置を製造することができる。

［適用例１６］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第２発光層の膜厚に前記第２正孔輸送層の膜厚を加えた値は、７ｎｍ〜２５ｎｍの範囲にあり、且つ前記第２正孔輸送層の膜厚は、２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあることが好ましい。
この方法によれば、第２発光層の膜厚に第２正孔輸送層の膜厚を加えた値が上記所定の範囲にあるので、第１正孔輸送層と第１発光層との間に第２発光層及び第２正孔輸送層を挟むことに起因して有機ＥＬ素子の駆動電圧が大幅に上昇することを抑えることができる。また、第１発光層と第２発光層との間に位置する第２正孔輸送層の膜厚が２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあるため、例えば膜厚を１ｎｍとして第２正孔輸送層を形成する場合に比べて、第１発光層へのキャリア（正孔）の輸送（注入）が確実に行われる発光装置を製造することができる。

［適用例１７］本適用例に係わる発光装置の製造方法は、第１陽極と、共通陰極と、前記第１陽極と前記共通陰極との間に、第１発光層と、第２発光層とを有する第１有機ＥＬ素子と、第２陽極と、前記共通陰極と、前記第２陽極と前記共通陰極との間に前記第２発光層を有する第２有機ＥＬ素子とを備えた発光装置の製造方法であって、液相プロセスを用いて、前記第１陽極上及び前記第２陽極上に第１正孔輸送層を形成する工程と、液相プロセスを用いて、前記第１陽極上の前記第１正孔輸送層に接して前記第１発光層を形成する工程と、気相プロセスを用いて、前記第１発光層に接すると共に、前記第２陽極上の前記第１正孔輸送層に接して、第３発光層を形成する工程と、気相プロセスを用いて、前記第３発光層に接して第２正孔輸送層を前記第１有機ＥＬ素子と前記第２有機ＥＬ素子とに共通して形成する工程と、気相プロセスを用いて、前記第２正孔輸送層に接して前記第２発光層を前記第１有機ＥＬ素子と前記第２有機ＥＬ素子とに共通して形成する工程と、を備え、前記第３発光層は、前記第２発光層と同色の発光が得られる発光材料を含むことを特徴とする。

本適用例によれば、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層と気相プロセスで形成された第２発光層との間に、気相プロセスで第３発光層と第２正孔輸送層とが形成される。したがって、第２発光層から第２正孔輸送層を通過してキャリアとしての電子が漏れてきたとしても、第３発光層において当該電子と正孔とを結合させて発光させることができ、優れた発光効率と発光寿命とが得られる発光装置を製造できる。言い換えれば、第２正孔輸送層の膜厚が変動しても発光効率が低下し難い素子構造が実現された第１及び第２有機ＥＬ素子を有する発光装置を製造できる。また、第１有機ＥＬ素子は、同じ製法で形成された第１正孔輸送層と第１発光層とが接しているので、第１正孔輸送層から第１発光層へ効率的にキャリア（正孔）が輸送（注入）される。つまり、第１有機ＥＬ素子及び第２有機ＥＬ素子をそれぞれ選択的に発光させることができると共に、優れた発光効率と発光寿命とを兼ね備えた発光装置を液相プロセスと気相プロセスとを用いて効率よく製造できる。

［適用例１８］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、第３陽極と、前記共通陰極と、前記第３陽極と前記共通陰極との間に第４発光層とを有する第３有機ＥＬ素子をさらに備え、液相プロセスを用いて、前記第３陽極上に前記第１正孔輸送層を形成する工程と、液相プロセスを用いて、前記第３陽極上の前記第１正孔輸送層に接して前記第４発光層を形成する工程と、気相プロセスを用いて、前記第４発光層に接して前記第１有機ＥＬ素子及び前記第２有機ＥＬ素子並びに前記第３有機ＥＬ素子に共通して前記第３発光層を形成する工程と、気相プロセスを用いて、前記第３発光層に接して前記第１有機ＥＬ素子及び前記第２有機ＥＬ素子並びに前記第３有機ＥＬ素子に共通して前記第２正孔輸送層を形成する工程と、気相プロセスを用いて、前記第２正孔輸送層に接して前記第１有機ＥＬ素子及び前記第２有機ＥＬ素子並びに前記第３有機ＥＬ素子に共通して前記第２発光層を形成する工程と、を含み、前記第１有機ＥＬ素子、前記第２有機ＥＬ素子、前記第３有機ＥＬ素子は、それぞれ異なる発光色を示すことを特徴とする。
この方法によれば、第１有機ＥＬ素子、第２有機ＥＬ素子、第３有機ＥＬ素子をそれぞれ選択的に発光させることができ、且つ発光効率と発光寿命とが改善された発光装置を効率よく製造することができる。

［適用例１９］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第１有機ＥＬ素子は、赤色の発光色を示し、前記第２有機ＥＬ素子は、青色の発光色を示し、前記第３有機ＥＬ素子は、緑色の発光色を示すことを特徴とする。
この方法によれば、発光効率と発光寿命とが改善され、フルカラー表示が可能な表示装置としての発光装置を効率よく製造することができる。

［適用例２０］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第３発光層は、前記第２発光層に含まれる電子輸送性のホスト材料と発光材料とを含むことが好ましい。
この方法によれば、第３発光層と第２発光層とが共に発光したとしても色再現性に優れた発光装置を製造することができる。また、ホスト材料が電子輸送性を有していることから、第３発光層から第１発光層へのキャリア（電子）の輸送性が高まり第１発光層の発光効率を改善できる。

［適用例２１］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第３発光層は、前記第２発光層に含まれるホスト材料と異なる電子輸送性のホスト材料を含むとしてもよい。
この方法によれば、第３発光層の構成材料としてより電子輸送性が高いホスト材料を選択して形成できることから、第１発光層への電子輸送性をさらに高めて、第１発光層の発光効率を向上させることができる。

［適用例２２］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第２正孔輸送層は、前記第２発光層または前記第３発光層に含まれる発光材料を含むことを特徴とする。
この方法によれば、第２有機ＥＬ素子において第３発光層と第２発光層との間に挟まれた第２正孔輸送層からも同色の発光が得られるので、発光効率や発光寿命をさらに改善できる。

［適用例２３］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第２正孔輸送層における前記発光材料の含有割合は、前記第２発光層または前記第３発光層における前記発光材料の含有割合とほぼ同じであることが好ましい。
この方法によれば、第３発光層から第２発光層の間においてキャリア（正孔や電子）の注入バランスが多少崩れたとしても、安定した発光が得られる。

［適用例２４］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第３発光層の膜厚に前記第２正孔輸送層の膜厚及び前記第２発光層の膜厚を加えた値は、１２ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあり、前記第３発光層の膜厚は、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあり、且つ前記第２正孔輸送層の膜厚は、２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあることが好ましい。
この方法によれば、第３発光層の膜厚に第２正孔輸送層の膜厚を加えた値が７ｎｍ〜２５ｎｍの範囲となるので、第１正孔輸送層と第２発光層との間に第３発光層及び第２正孔輸送層を挟むことに起因して第１〜第３有機ＥＬ素子の駆動電圧が大幅に上昇することを抑えることができる。また、第３発光層と第２発光層との間に位置する第２正孔輸送層の膜厚が２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあるため、例えば膜厚を１ｎｍとして第２正孔輸送層を形成する場合に比べて、第２発光層へのキャリア（正孔）の輸送（注入）が確実に行われる発光装置を製造できる。

［適用例２５］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第２発光層の膜厚と前記第３発光層の膜厚とがほぼ同じであることが好ましい。
この方法によれば、第１発光層及び第３発光層への電子注入性の確保と、第２発光層への正孔注入性の確保とをバランスよく実現できる。

［適用例２６］上記適用例に係わる発光装置の製造方法において、前記第２発光層の膜厚は、前記第３発光層の膜厚よりも大きいとしてもよい。
この方法によれば、第２発光層の発光効率を向上させることができる。

［適用例２７］本適用例に係わる電子機器は、上記適用例に記載の発光装置を備えたことを特徴とする。

［適用例２８］本適用例に係わる電子機器は、上記適用例に記載の発光装置の製造方法を用いて製造された発光装置を備えたことを特徴とする。
これらの構成によれば、液相プロセスと気相プロセスとを用いて効率よく製造され、発光効率と発光寿命とが改善された発光装置を備えているので、見栄えのよい表示と信頼性とが確保され、高いコストパフォーマンスを有する電子機器を提供できる。

発光装置の電気的な構成を示す等価回路図。 発光装置の構成を示す概略平面図。 発光装置の画素の構造を示す概略断面図。 発光装置における各有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図。 発光装置の製造方法を示すフローチャート。 （ａ）〜（ｅ）は発光装置の製造方法を示す概略断面図。 （ｆ）〜（ｊ）は発光装置の製造方法を示す概略断面図。 （ａ）は比較例１の発光装置における各有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図、（ｂ）は比較例２の発光装置における各有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図。 実施例１と比較例４の赤の有機ＥＬ素子における分光特性を示すグラフ。 実施例１と比較例４の緑の有機ＥＬ素子における分光特性を示すグラフ。 （ａ）は電子機器の一例であるノート型のパーソナルコンピューターを示す概略図、（ｂ）は電子機器の一例である薄型テレビ（ＴＶ）を示す概略図。 変形例の発光装置の構成を示す概略平面図。 変形例の発光装置の有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図。

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。

なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。

（第１実施形態）
＜発光装置＞
まず、有機ＥＬ素子を備えた発光装置の一例について、図１〜図３を参照して説明する。図１は発光装置の電気的な構成を示す等価回路図、図２は発光装置の構成を示す概略平面図、図３は発光装置の画素の構造を示す概略断面図である。

図１に示すように、本実施形態の発光装置１００は、互いに交差する複数の走査線１１２及び複数のデータ線１１３と、複数のデータ線１１３のそれぞれに対して並列する電源線１１４とを有している。複数の走査線１１２が接続される走査線駆動回路１０３と、複数のデータ線１１３が接続されるデータ線駆動回路１０４とを有している。また、複数の走査線１１２と複数のデータ線１１３との各交差部に対応してマトリックス状に配置された複数の発光画素１０７を有している。

発光画素１０７は、発光素子である有機ＥＬ素子１３０と、有機ＥＬ素子１３０の駆動を制御する画素回路１１１とを有している。

有機ＥＬ素子１３０は、陽極としての画素電極１３１と、陰極としての対向電極１３４と、画素電極１３１と対向電極１３４との間に設けられた発光層を含む機能層１３２とを有している。このような有機ＥＬ素子１３０は電気的にダイオードとして表記することができる。なお、対向電極１３４は複数の発光画素１０７に亘る共通電極として形成されている。

画素回路１１１は、スイッチング用トランジスター１２１と、駆動用トランジスター１２２と、蓄積容量１２３とを含んでいる。２つのトランジスター１２１，１２２は、例えばｎチャネル型もしくはｐチャネル型の薄膜トランジスター（ＴＦＴ；Thin Film transistor）やＭＯＳトランジスターを用いて構成することができる。

スイッチング用トランジスター１２１のゲートは走査線１１２に接続され、ソースまたはドレインのうち一方がデータ線１１３に接続され、ソースまたはドレインのうち他方が駆動用トランジスター１２２のゲートに接続されている。
駆動用トランジスター１２２のソースまたはドレインのうち一方が有機ＥＬ素子１３０の画素電極１３１に接続され、ソースまたはドレインのうち他方が電源線１１４に接続されている。駆動用トランジスター１２２のゲートと電源線１１４との間に蓄積容量１２３が接続されている。

走査線１１２が駆動されてスイッチング用トランジスター１２１がオン状態になると、そのときにデータ線１１３から供給される画像信号に基づく電位がスイッチング用トランジスター１２１を介して蓄積容量１２３に保持される。該蓄積容量１２３の電位すなわち駆動用トランジスター１２２のゲート電位に応じて、駆動用トランジスター１２２のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用トランジスター１２２がオン状態になると、電源線１１４から駆動用トランジスター１２２を介して画素電極１３１と対向電極１３４とに挟まれた機能層１３２にゲート電位に応じた量の電流が流れる。有機ＥＬ素子１３０は、機能層１３２を流れる電流量に応じて発光する。
なお、画素回路１１１の構成は、これに限定されるものではない。例えば、駆動用トランジスター１２２と画素電極１３１との間に、駆動用トランジスター１２２と画素電極１３１との間の導通を制御する発光制御用トランジスターを備えていてもよい。

図２に示すように、発光装置１００は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の発光（発光色）が得られる発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂを有している。各発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂは略矩形状であり、表示領域Ｅにおいてマトリックス状に配置されている。発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂのそれぞれには、対応する色の発光が得られる有機ＥＬ素子１３０が設けられている。同色の発光が得られる発光画素が図面上において垂直方向（列方向あるいは発光画素の長手方向）に配列し、異なる発光色の発光画素が図面上において水平方向（行方向あるいは発光画素の短手方向）にＲ，Ｇ，Ｂの順で配列している。すなわち、異なる発光色の発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂが所謂ストライプ方式で配置されている。なお、異なる発光色の発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂの平面形状と配置は、これに限定されるものではない。

このような発光装置１００を表示装置として用いるならば、異なる発光色が得られる３つの発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂを１つの表示画素単位１０８として、それぞれの発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂは電気的に制御される。これによりフルカラー表示が可能となる。

図３に示すように、本実施形態の発光装置１００は、発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂに対応して設けられた有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂを有する素子基板１０１と、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂを封着する封止層１３５を介して素子基板１０１に接着された封止基板１０２とを備えている。発光装置１００は、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂからの発光が素子基板１０１側から射出されるボトムエミッション方式となっている。なお、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂからの発光が封止基板１０２側から射出されるトップエミッション方式としてもよい。

有機ＥＬ素子１３０Ｒは、陽極としての画素電極１３１Ｒと共通陰極としての対向電極１３４との間に赤色の発光が得られる発光層を含む機能層１３２Ｒを有している。
有機ＥＬ素子１３０Ｇは、陽極としての画素電極１３１Ｇと共通陰極としての対向電極１３４との間に緑色の発光が得られる発光層を含む機能層１３２Ｇを有している。
有機ＥＬ素子１３０Ｂは、陽極としての画素電極１３１Ｂと共通陰極としての対向電極１３４との間に青色の発光が得られる発光層１４５ＢＡを含む機能層１３２Ｂを有している。

各機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂは、それぞれに中間層１４３、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を含んでいる。
中間層１４３、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７はそれぞれ気相プロセスを用いて形成されている。
中間層１４３は、発光層１４５ＢＡと同じ青色の発光が得られる発光層１４５ＢＢと第２正孔輸送層１４４とを含むものである。
つまり、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂは、気相プロセスで形成された中間層１４３、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を共有している。

有機ＥＬ素子１３０Ｒが本発明の第１有機ＥＬ素子に相当し、有機ＥＬ素子１３０Ｇが本発明の第３有機ＥＬ素子に相当し、有機ＥＬ素子１３０Ｂが本発明の第２有機ＥＬ素子に相当するものである。以降、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの詳しい構成について、図４を参照して説明する。

図４は発光装置における各有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図である。
図４に示すように、有機ＥＬ素子１３０Ｒは、画素電極１３１Ｒと、画素電極１３１Ｒ側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、赤色の発光が得られる発光層１４５Ｒ、中間層１４３（発光層１４５ＢＢ及び第２正孔輸送層１４４）、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７の各層と、共通陰極である対向電極１３４とを含んで構成されている。
有機ＥＬ素子１３０Ｇは、画素電極１３１Ｇと、画素電極１３１Ｇ側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、緑色の発光が得られる発光層１４５Ｇ、中間層１４３（発光層１４５ＢＢ及び第２正孔輸送層１４４）、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７の各層と、共通陰極である対向電極１３４とを含んで構成されている。
有機ＥＬ素子１３０Ｂは、画素電極１３１Ｂと、画素電極１３１Ｂ側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、中間層１４３（発光層１４５ＢＢ及び第２正孔輸送層１４４）、青色の発光が得られる発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７の各層と、共通陰極である対向電極１３４とを含んで構成されている。

有機ＥＬ素子１３０Ｒの機能層１３２Ｒは、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、発光層１４５Ｒ、中間層１４３、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を含むものである。
有機ＥＬ素子１３０Ｇの機能層１３２Ｇは、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、発光層１４５Ｇ、中間層１４３、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を含むものである。
有機ＥＬ素子１３０Ｂの機能層１３２Ｂは、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、中間層１４３、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を含むものである。

なお、画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇと発光層１４５Ｒ，１４５Ｇとの間、あるいは発光層１４５ＢＡと対向電極１３４との間に、キャリア（正孔や電子）の移動を制御するための他の薄膜層を形成してもよい。また、電子輸送層１４６や電子注入層１４７は、陰極としての対向電極１３４や発光層１４５ＢＡの構成によっては、どちらか一方を削除することもできる。
以降、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの構成について、より具体的に説明する。

［陽極］
陽極としての画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂは、正孔注入層１４１に正孔を注入する電極である。
この画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂの構成材料としては、特に限定されないが、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料が好適に用いられ、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、フッ素添加ＳｎＯ₂、Ｓｂ添加ＳｎＯ₂、ＺｎＯ、Ａｌ添加ＺｎＯ、Ｇａ添加ＺｎＯ等の金属酸化物、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
このような画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂの膜厚は、特に限定されないが、１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましく、３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲にあることがより好ましい。
なお、発光装置１００を、ボトムエミッション構造の表示装置とする場合、画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂには光透過性が求められるため、上述した構成材料のうち、光透過性を有する金属酸化物が好適に用いられる。

［正孔注入層１４１］
正孔注入層１４１は、高分子の正孔注入材料を含んだ溶液を所定の膜形成領域に塗布して、乾燥・加熱することにより形成されている（液相プロセス）。高分子の正孔注入材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、オリゴアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを挙げることができる。
正孔注入層１４１の膜厚は、特に限定されないが、１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、２０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲にあることがより好ましい。

［第１正孔輸送層１４２］
第１正孔輸送層１４２は、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇにおいて、正孔注入層１４１と発光層１４５Ｒ，１４５Ｇとの間に設けられ、発光層１４５Ｒ，１４５Ｇに対する正孔の輸送性（注入性）を向上させると共に、発光層１４５Ｒ，１４５Ｇから正孔注入層１４１に電子が侵入して、正孔注入層１４１の機能が低下することを抑制するために設けられている。すなわち、発光層１４５Ｒ，１４５Ｇにおける正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。
また、第１正孔輸送層１４２は、有機ＥＬ素子１３０Ｂにおいて、正孔注入層１４１と中間層１４３との間に設けられ、中間層１４３に対する正孔の輸送性を向上させると共に、中間層１４３から正孔注入層１４１に電子が侵入して、正孔注入層１４１の機能が低下することを抑制するために設けられている。

第１正孔輸送層１４２は、高分子の正孔輸送材料を含んだ溶液（インク）を所定の膜形成領域に塗布して乾燥・加熱すること（液相プロセス）により、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの正孔注入層１４１に接し、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通して形成されている。
高分子の正孔輸送材料としては、例えば、トリフェニルアミン系ポリマーなどのアミン系化合物が好適に用いられる。そのほかポリフルオレン誘導体（ＰＦ）やポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）を含むポリシラン系などの高分子有機材料を挙げることができる。
第１正孔輸送層１４２の膜厚は、特に限定されないが、１５ｎｍ〜２５ｎｍの範囲にあることが好ましい。

［発光層１４５Ｒ，１４５Ｇ］
赤色の発光が得られる発光層１４５Ｒ及び緑色の発光が得られる発光層１４５Ｇは、それぞれ、低分子のホスト材料にゲスト材料としての発光材料がドープされた発光層形成材料を含む溶液（インク）を所定の膜形成領域に塗布して乾燥・加熱すること（液相プロセス）により、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇの第１正孔輸送層１４２に接し、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇに対応して選択的に形成されている。発光層１４５Ｒが本発明の第１発光層に相当し、発光層１４５Ｇが本発明の第４発光層に相当するものである。

低分子のホスト材料としては、ＴＤＡＰＢ（１，３，５−トリス−（Ｎ，Ｎ−ビス−（４−メトキシ−フェニル）−アミノフェニル）−ベンゼン）、ＣＢＰ(４，４’−bis(９−dicarbazolyl)−２，２’−biphenyl）、ＢＡｌｑ（Bis−（２−methyl−８−quinolinolate）−４−（phenylphenolate）aluminium）、ｍＣＰ（Ｎ，Ｎ−dicarbazolyl−３，５−benzene：ＣＢＰ誘導体）、ＣＤＢＰ（４，４’−bis（９−carbazolyl）−２，２’−dimethyl−biphenyl）、ＤＣＢ（Ｎ，Ｎ’−Dicarbazolyl−１，４−dimethene−benzene）、Ｐ０６（２，７−bis（diphenylphosphineoxide）９，９−dimethylfluorene）、ＳｉｍＣＰ（３，５−bis（９−carbazolyl）tetraphenylsilane）、ＵＧＨ３（Ｗ−bis（triphenylsilyl）benzene）などが挙げられる。これらの低分子のホスト材料はいずれも電子輸送性を有している。

発光材料としては、蛍光材料、燐光材料、いずれも用いることができる。蛍光材料としては、アメリカンダイソース社製のＡＤＳ１１１ＲＥ（赤色）、ＡＤＳ１０９ＧＥ（緑色）が挙げられる。
燐光材料としては、Ｂｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（Bis（２−phenylbenxothiozolato−Ｎ，Ｃ２’）Iridium（III）（acetylacetonate））、Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（Bis（２，２’−benzothienyl）−pyridinato−Ｎ，Ｃ３）Iridium（acetylacetonate））などのイリジウム錯体、ＰｔＯＥＰ（２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−Octaethyl−２１Ｈ，２３Ｈ−porphine，platinum（II））などの白金錯体が挙げられ、前述したホスト材料に添加することで赤色の燐光を得ることができる。
また、Ｉｒ（ｐｐｙ）３（Fac−tris（２−phenypyridine）iridium）、Ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（Bis（２−phenyl−pyridinato−Ｎ，Ｃ２）Iridium（acetylacetone））などのイリジウム錯体が挙げられ、前述したホスト材料に添加することで緑色の燐光を得ることができる。

発光層１４５Ｒ，１４５Ｇの膜厚は、特に限定されないが、５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることがより好ましい。

［中間層１４３］
中間層１４３は、気相プロセスで形成された発光層１４５ＢＢと、気相プロセスで形成された第２正孔輸送層１４４とが積層されたものである。
発光層１４５ＢＢは、本発明における第３発光層に相当するものであり、後述する本発明における第２発光層としての発光層１４５ＢＡと同じ青色の発光が得られるものである。
発光層１４５ＢＢは、気相プロセスにより上述した電子輸送性を有する低分子のホスト材料にゲスト材料としての発光材料をドープして第１正孔輸送層１４２に接し、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通して形成されている。気相プロセス（例えば、蒸着法）を用いて形成される青色の発光層１４５ＢＢのホスト材料としては、アントラセン誘導体を用いることが好ましい。

発光材料は、蛍光材料、燐光材料のいずれも使用することができる。蛍光材料としては、アメリカンダイソース社製のＡＤＳ１３６ＢＥ（青色）が挙げられる。
燐光材料としては、ＦＩｒｐｉｃ（Iridium−bis（４，６−difluorophenyl−pyridinato−Ｎ，Ｃ２）−picolinate）、Ｉｒ（ｐｍｂ）３（Iridium−tris（１−phenyl−３−methylbenzimidazolin−２−ylidene−Ｃ，Ｃ（２）’））、ＦＩｒＮ４（Iridium （III）bis（４，６−difluorophenylpyridinato）（５−（pyridin−２−yl）−tetrazolate））、ＦＩｒｔａｚ（Iridium（III）bis（４，６−difluorophenylpyridinato）（５−（pyridine−２−yl）−１，２，４−triazolate））などのイリジウム錯体が挙げられ、前述したホスト材料に添加することで青色の燐光を得ることができる。

第２正孔輸送層１４４は、低分子の正孔輸送材料を用いて、気相プロセスにより発光層１４５ＢＢに接して、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通して形成されている。
気相プロセスで用いることが可能な低分子の正孔輸送材料としては、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ（４，４’，４”−トリス（Ｎ−３−メチルフェニルアミノ）−トリフェニルアミン）、ＴＣＴＡ（４，４’，４”−トリ（Ｎ−カルバゾル基）トリフェニルアミン）、α−ＮＰＤ（ビス（Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル）ベンジジン）などを挙げることができる。

［発光層１４５ＢＡ］
青色の発光が得られる発光層１４５ＢＡは、本発明における第２発光層に相当するものであって、発光層１４５ＢＢと同様に、気相プロセスにより上述した電子輸送性を有する低分子のホスト材料にゲスト材料として上述した発光材料をドープして第２正孔輸送層１４４に接し、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通して形成されている。

上述したように、中間層１４３及び発光層１４５ＢＡは、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通して形成されている。有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂのそれぞれから所望の発光を得るには、中間層１４３及び発光層１４５ＢＡの膜厚を適正な範囲とする必要がある。具体的には、有機ＥＬ素子１３０Ｒからは赤色の発光を、有機ＥＬ素子１３０Ｇからは緑色の発光を得たいので、中間層１４３及び発光層１４５ＢＡの膜厚はできるだけ小さい方がよい。その一方で、有機ＥＬ素子１３０Ｂからは青色の発光を効率よく取り出したい。
そこで本実施形態では、中間層１４３の膜厚に発光層１４５ＢＡの膜厚を加えた値を１２ｎｍ〜４０ｎｍの範囲とし、且つ中間層１４３における第２正孔輸送層１４４の膜厚を２ｎｍ〜５ｎｍの範囲とした。

また、同じ青色の発光が得られる発光層１４５ＢＡと発光層１４５ＢＢの膜厚はほぼ同等、または発光層１４５ＢＡの膜厚が発光層１４５ＢＢよりも大きいことが好ましい。
発光層１４５ＢＡと発光層１４５ＢＢの膜厚をほぼ同等とすることによって、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇにおいて、電子輸送層１４６から発光層１４５ＢＡ、中間層１４３を経由して発光層１４５Ｒ，１４５Ｇへの電子注入性を確保することができる。また、有機ＥＬ素子１３０Ｂにおいて、発光層１４５ＢＡから第２正孔輸送層１４４を通過して漏れた電子を発光層１４５ＢＢにおいて正孔と結合させて発光させることができるので、青色の発光における発光効率を向上させることができる。
また、発光層１４５ＢＡの膜厚を発光層１４５ＢＢよりも大きくすれば、青色の発光における発光効率をさらに向上させることができる。

また、第２正孔輸送層１４４の膜厚を上記所定の範囲とすることで、気相プロセスにおいてムラ無く第２正孔輸送層１４４を形成できるので、第２正孔輸送層１４４から発光層１４５ＢＡへの正孔の輸送を確実に行える。

発光層１４５ＢＡ，１４５ＢＢと第２正孔輸送層１４４の膜厚の設定に関する上記の考え方を踏まえて、本実施形態では、発光層１４５ＢＡ，１４５ＢＢの膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲とした。すなわち、発光層１４５ＢＢの膜厚に第２正孔輸送層１４４の膜厚を加えた中間層１４３の膜厚を７ｎｍ〜２５ｎｍの範囲とした。
中間層１４３の膜厚を上記所定の範囲とすることで、発光層１４５Ｒ，１４５Ｇと発光層１４５ＢＡとの間、及び第１正孔輸送層１４２と発光層１４５ＢＡとの間に中間層１４３を挟むことに起因する有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの駆動電圧の上昇を抑制することができる。また、同色の発光が得られる発光層１４５ＢＡ，１４５ＢＢの膜厚を上記所定の範囲とすることで、発光層１４５ＢＢが無い場合に比べて、有機ＥＬ素子１３０Ｂにおける発光効率と発光寿命とを向上させることができる。

また、有機ＥＬ素子１３０Ｂにおける青色の発光効率を向上させる観点から、第２正孔輸送層１４４は、上述した青色の発光が得られる発光材料（ゲスト材料）を含んでいてもよい。第２正孔輸送層１４４が発光材料を含むことによって、中間層１４３と発光層１４５ＢＡとを含む層においてキャリアとしての正孔と電子の注入バランスが変化したとしても（言い換えれば、正孔と電子が結合して発光する位置が変化しても）、発光層１４５ＢＢから発光層１４５ＢＡの間の各層において青色の発光が得られる。このときの青色の発光における発光輝度が変動し難いように、発光層１４５ＢＢ及び第２正孔輸送層１４４に含まれる発光材料の含有割合は、発光層１４５ＢＡにおける発光材料の含有割合とほぼ同等であることが好ましい。本実施形態における発光層１４５ＢＡの発光材料の含有割合は５ｗｔ％となっている。

［電子輸送層１４６］
電子輸送層１４６は、気相プロセスを用いて形成され、陰極としての対向電極１３４から電子輸送層１４６に注入された電子を発光層１４５ＢＡに輸送する機能を有するものである。また、電子輸送層１４６は、発光層１４５ＢＡから電子輸送層１４６へ通過しようとする正孔をブロックする機能を有する場合もある。

電子輸送層１４６を構成する電子輸送材料としては、特に限定されないが、蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、ＢＡＬｑ、ＯＸＤ−１（１，３，５−トリ（５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール））、ＢＣＰ（Bathocuproine）、ＰＢＤ（２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール）、ＴＡＺ（３−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール）、ＤＰＶＢｉ（４，４’−ビス（１，１−ビスージフェニルエテニル）ビフェニル）、ＢＮＤ（２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール）、ＤＴＶＢｉ（４，４’−ビス（１，１−ビス（４−メチルフェニル）エテニル）ビフェニル）、ＢＢＤ（２，５−ビス（４−ビフェニリル）−１，３，４−オキサジアゾール）などを挙げることができる。

また、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、フェナンソロリン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン誘導体、フルオレン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン誘導体、ジフェノキノン誘導体、ヒドロキシキノリン誘導体などを挙げることができる。これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子輸送層１４６の膜厚は、特に限定されないが、１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましく、５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることがより好ましい。

［電子注入層１４７］
電子注入層１４７は、気相プロセスを用いて形成され、対向電極１３４から電子輸送層１４６への電子の注入効率を向上させる機能を有するものである。
この電子注入層１４７の構成材料（電子注入材料）としては、特に限定されないが、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、あるいはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物を挙げることができ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

アルカリ金属としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓが挙げられる。また、アルカリ土類金属としては、例えば、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａが挙げられる。

アルカリ金属の化合物としては、例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ₂ＣＯ₃、ＬｉＣｌ、ＮａＦ、Ｎａ₂ＣＯ₃、ＮａＣｌ、ＣｓＦ、Ｃｓ₂ＣＯ₃、ＣｓＣｌなどのアルカリ金属塩が挙げられる。また、アルカリ土類金属の化合物としては、例えば、ＣａＦ₂、ＣａＣＯ₃、ＳｒＦ₂、ＳｒＣＯ₃、ＢａＦ₂、ＢａＣＯ₃などのアルカリ土類金属塩が挙げられる。

電子注入層１４７の膜厚は、特に限定されないが、０．０１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲であることが好ましく、０．１ｎｍ〜５ｎｍの範囲であることがより好ましい。

［陰極］
陰極としての対向電極１３４は、電子注入層１４７に電子を注入する電極である。
この対向電極１３４の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。また、蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕまたはこれらを含む合金等が用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体等）用いることができる。

特に、本実施形態のように、ボトムエミッション構造の発光装置１００とする場合、対向電極１３４には光透過性が求められず、対向電極１３４の構成材料としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＡｌＡｇ、ＡｌＮｄ等の金属または合金が好ましく用いられる。このような金属または合金を対向電極１３４の構成材料として用いることにより、対向電極１３４の電子注入効率及び安定性の向上を図ることができる。
ボトムエミッション構造における対向電極１３４の膜厚は、特に限定されないが、５０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲にあることが好ましく、１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲にあることがより好ましい。

発光装置１００をトップエミッション構造とする場合、対向電極１３４の構成材料としては、ＭｇＡｇ、ＭｇＡｌ、ＭｇＡｕ、ＡｌＡｇ等の金属または合金を用いるのが好ましい。このような金属または合金を対向電極１３４の構成材料として用いることにより、対向電極１３４の光透過性を維持しつつ、対向電極１３４の電子注入効率及び安定性の向上を図ることができる。
トップエミッション構造における対向電極１３４の膜厚は、特に限定されないが、１ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあることがより好ましい。

なお、上記有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂから第１正孔輸送層１４２の間の各層の間、及び発光層１４５Ｒ，１４５Ｇから対向電極１３４の間の各層の間には、キャリアの移動を制御するための任意の層が設けられていてもよい。

このような有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂを有する素子基板１０１は、熱硬化型エポキシ樹脂等を封着部材として用いた封止層１３５を介して封止基板１０２と隙間なくベタ封止されている（図３参照）。

本実施形態の発光装置１００は、前述したようにボトムエミッション型に限定されず、例えば画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂを光反射性の導電材料を用いて形成し、陰極としての対向電極１３４を透明な導電材料を用いて形成して、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの発光を画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂで反射させて、封止基板１０２側から取り出すトップエミッション型の構造としてもよい。また、トップエミッション型とする場合、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの発光色に対応させたカラーフィルターを各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに対応させて設ける構成としてもよい。

液相プロセスとしては、インクジェットヘッドのノズルから溶液（インク）を液滴として吐出する液滴吐出法（インクジェット法）を用いることが好ましい。液滴吐出法（インクジェット法）によれば、所望の領域に所定量の溶液を液滴として精度よく吐出することができる。液滴吐出法（インクジェット法）以外の液相プロセスとしては、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法などを挙げることができる。

気相プロセスとしては、蒸着法、スパッタ法、イオンビーム法などを挙げることができる。成膜時に先に形成された膜に熱などの影響を与え難い点で蒸着法を用いることが好ましい。

＜発光装置の製造方法＞
次に、本実施形態の発光装置１００の製造方法について、図５〜図７を参照して説明する。図５は発光装置の製造方法を示すフローチャート、図６（ａ）〜（ｅ）及び図７（ｆ）〜（ｊ）は発光装置の製造方法を示す概略断面図である。なお、発光装置１００の製造方法は、より具体的な実施例１として説明する。

図５に示すように、本実施形態の発光装置１００の製造方法は、正孔注入層形成工程（ステップＳ１１）と、第１正孔輸送層形成工程（ステップＳ１２）と、Ｒ，Ｇ発光層形成工程（ステップＳ１３）と、Ｂ発光層形成工程（ステップＳ１４）と、第２正孔輸送層形成工程（ステップＳ１５）と、Ｂ発光層形成工程（ステップＳ１６）と、電子輸送層形成工程（ステップＳ１７）と、電子注入層形成工程（ステップＳ１８）と、陰極形成工程（ステップＳ１９）と、封止基板接着工程（ステップＳ２０）とを備えている。

（実施例１）
まず、図６（ａ）に示すように、赤、緑、青の発光画素１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂ（図２参照）に対応する画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂと、画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂのそれぞれを区画するように形成された隔壁１３３とを有する素子基板１０１を用意する。また、隔壁１３３は、絶縁性を有すると共に、後に用いる溶液（インク）に対して撥液性を示す撥液材料を含む例えば感光性のアクリル系樹脂やポリイミド樹脂を用いて形成されている。また、隔壁１３３の形成時に画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂの表面に残った残渣を取り除くため、エキシマＵＶ処理（紫外線を照射して発生したオゾン（Ｏ３）により、有機物からなる残渣を取り除く処理）を施す。なお、隔壁１３３を撥液材料を含まない上記感光性樹脂材料で形成してから、酸素を処理ガスとするプラズマ処理を施して画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂの表面に親液性を付与し、その後、例えばＣＦ₄などのフッ素系処理ガスを用いたプラズマ処理を施して隔壁１３３に撥液性を付与する表面処理を施してもよい。

図５の正孔注入層形成工程（ステップＳ１１）では、図６（ｂ）に示すように、隔壁１３３で区画された膜形成領域のそれぞれに、正孔注入材料を含む溶液（インク）６０を塗布する。溶液（インク）６０の塗布は、複数のノズル５１を有するインクジェットヘッド５０と素子基板１０１とを対向配置して、相対的に移動させる間に、複数のノズル５１から溶液（インク）６０を液滴として吐出するインクジェット法（液滴吐出法）を用いる。塗布された溶液（インク）６０は、隔壁１３３で区画された膜形成領域に万遍なく充填されて表面張力により盛り上がる。そして、塗布された溶液（インク）６０を５Ｐａ以下の真空度で減圧乾燥を３０分行った後に、乾燥機（オーブン）にて大気中で２２０℃、１０分間乾燥して、図６（ｃ）に示すように画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂのそれぞれに接した正孔注入層１４１を形成した。正孔注入層１４１の膜厚はおよそ２５ｎｍ〜５０ｎｍである。
溶液（インク）６０は、正孔注入材料であるＰＥＤＯＴ：ＰＳＳを０．５ｗｔ％の濃度で含有した水あるいはエーテル系溶媒の分散液を用いる。そして、ステップＳ１２へ進む。

図５の第１正孔輸送層形成工程（ステップＳ１２）では、図６（ｄ）に示すように、隔壁１３３で区画された画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂの正孔注入層１４１上に高分子の正孔輸送材料を含む溶液（インク）７０を塗布する。溶液（インク）７０の塗布もインクジェットヘッド５０を用いる。溶液（インク）７０は、高分子の正孔輸送材料としてのトリフェニルアミン系ポリマーを０．３ｗｔ％含んだＣＨＢ（シクロヘキシルベンゼン）溶液を用いる。塗布された溶液（インク）７０は、隔壁１３３で区画された膜形成領域に万遍なく充填されて表面張力により盛り上がる。そして、塗布された溶液（インク）７０を５Ｐａ以下の真空度で減圧乾燥を３０分行った後に、乾燥機（オーブン）にて窒素雰囲気中で２２０℃、１０分間乾燥して、図６（ｅ）に示すように、画素電極１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂの正孔注入層１４１に接して第１正孔輸送層１４２を形成した。第１正孔輸送層１４２の膜厚は、１５ｎｍ〜２０ｎｍである。そして、ステップＳ１３へ進む。

図５のＲ，Ｇ発光層形成工程（ステップＳ１３）では、図７（ｆ）に示すように、隔壁１３３で区画された画素電極１３１Ｒの第１正孔輸送層１４２上に発光層形成材料を含む溶液（インク）９０Ｒを塗布する。また、隔壁１３３で区画された画素電極１３１Ｇの第１正孔輸送層１４２上にも発光層形成材料を含む溶液（インク）９０Ｇを塗布する。溶液（インク）９０Ｒ，９０Ｇの塗布もそれぞれに対応するインクが充填されたインクジェットヘッド５０を用いる。溶液（インク）９０Ｒ，９０Ｇは、低分子のホスト材料であるＣＢＰに、発光材料である前述したインジウム錯体を加えた発光層形成材料を１．０ｗｔ％含むＣＨＢ溶液を用いる。塗布された溶液（インク）９０Ｒ，９０Ｇは、それぞれ隔壁１３３で区画された対応する膜形成領域に万遍なく充填されて表面張力により盛り上がる。そして、塗布された溶液（インク）９０Ｒ，９０Ｇを５Ｐａ以下の真空度で減圧乾燥を３０分行った後に、乾燥機（オーブン）にて窒素雰囲気中で１３０℃、１０分間乾燥して、図７（ｇ）に示すように第１正孔輸送層１４２に接した発光層１４５Ｒ，１４５Ｇを形成した。発光層１４５Ｒ，１４５Ｇの膜厚はおよそ４０ｎｍである。液滴吐出法（インクジェット法）を用いて溶液（インク）９０Ｒ，９０Ｇを塗布するので、発光層１４５Ｒ，１４５Ｇを容易に塗り分けて形成することができる。そして、ステップＳ１４へ進む。

図５のＢ発光層形成工程（ステップＳ１４）では、図７（ｈ）に示すように、発光層１４５Ｒ，１４５Ｇと画素電極１３１Ｂ上の第１正孔輸送層１４２と隔壁１３３とを覆う青（Ｂ）の発光層１４５ＢＢを気相プロセスである蒸着法により形成する。具体的な発光層１４５ＢＢの形成方法としては、前述した低分子のホスト材料であるＣＢＰと、青色の燐光が得られる発光材料（燐光材料）であるＦＩｒｐｉｃとを共蒸着することによって発光層１４５ＢＢを成膜する。発光層１４５ＢＢの膜厚はおよそ１０ｎｍである。そして、ステップＳ１５へ進む。

図５の第２正孔輸送層形成工程（ステップＳ１５）では、図７（ｉ）に示すように、発光層１４５ＢＢを覆う第２正孔輸送層１４４を気相プロセスである蒸着法により形成する。第２正孔輸送層１４４は、低分子の正孔輸送材料であるα−ＮＰＤを含むものである。第２正孔輸送層１４４の膜厚は、およそ３ｎｍである。これにより、膜厚がおよそ１３ｎｍの中間層１４３ができあがる。なお、前述したように、第２正孔輸送層１４４に発光層１４５ＢＡに含まれる発光材料を含有させる場合は、低分子の正孔輸送材料と該発光材料とを共蒸着して第２正孔輸送層１４４を形成する。そして、ステップＳ１６へ進む。

図５のＢ発光層形成工程（ステップＳ１６）では、図７（ｊ）に示すように、第２正孔輸送層１４４を覆う（言い換えれば、中間層１４３を覆う）青（Ｂ）の発光層１４５ＢＡを気相プロセスである蒸着法により形成する。具体的には、発光層１４５ＢＢと同様に、前述した低分子のホスト材料であるＣＢＰと、青色の燐光が得られる発光材料（燐光材料）であるＦＩｒｐｉｃとを共蒸着することによって発光層１４５ＢＡを成膜する。発光層１４５ＢＡの膜厚は、発光層１４５ＢＢと同じでおよそ１０ｎｍである。そして、ステップＳ１７へ進む。

図５の電子輸送層形成工程（ステップＳ１７）では、発光層１４５ＢＡを覆う電子輸送層１４６を気相プロセスである蒸着法により形成する。電子輸送層１４６は、電子輸送材料であるＡｌｑ３を含むものであり、電子輸送層１４６の膜厚はおよそ２０ｎｍである。そして、ステップＳ１８に進む。

図５の電子注入層形成工程（ステップＳ１８）では、電子輸送層１４６を覆う電子注入層１４７を気相プロセスである蒸着法により形成する。電子注入層１４７は、電子注入材料であるＬｉＦを含むものであり、電子注入層１４７の膜厚はおよそ１ｎｍである。そして、ステップＳ１９へ進む。

図５の陰極形成工程（ステップＳ１９）では、電子注入層１４７を覆う陰極としての対向電極１３４を気相プロセスである蒸着法により形成する。対向電極１３４は、陰極材料としてのＡｌを含むものであり、対向電極１３４の膜厚はおよそ２００ｎｍである。これにより、図４に示すように、画素電極１３１Ｒと対向電極１３４との間に赤の発光層１４５Ｒを含む機能層１３２Ｒが形成され、画素電極１３１Ｇと対向電極１３４との間に緑の発光層１４５Ｇを含む機能層１３２Ｇが形成され、画素電極１３１Ｂと対向電極１３４との間に発光層１４５ＢＡを含む機能層１３２Ｂが形成される。そして、ステップＳ２０へ進む。

図５の封止基板接着工程（ステップＳ２０）では、図３に示したように、素子基板１０１の各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂを覆って封止する透明な樹脂を塗布してなる接着性を有する封止層１３５を介して、素子基板１０１と封止基板１０２とを接着する。これにより、発光装置１００ができあがる。

次に、具体的な比較例１，２，３，４及び実施例１，２，３，４を挙げて、その評価結果について説明する。図８（ａ）は比較例１の発光装置における各有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図、図８（ｂ）は比較例２の発光装置における各有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図である。図９は実施例１と比較例４の赤の有機ＥＬ素子における分光特性を示すグラフ、図１０は実施例１と比較例４の緑の有機ＥＬ素子における分光特性を示すグラフである。
なお、比較例１，２，３，４及び実施例２，３，４の説明において、実施例１の発光装置１００と同じ構成には同じ符号を付して詳細の説明は省略する。

（比較例１）
図８（ａ）に示すように、比較例１の発光装置１００Ｃは、実施例１の発光装置１００に対して、中間層１４３（発光層１４５ＢＢ及び第２正孔輸送層１４４を含む）を除いたものである。つまり、比較例１の発光装置１００Ｃの有機ＥＬ素子１３０Ｒは、画素電極１３１Ｒと対向電極１３４との間に、画素電極１３１Ｒ側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、発光層１４５Ｒ、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を有する。同じく、比較例１の有機ＥＬ素子１３０Ｇは、画素電極１３１Ｇと対向電極１３４との間に、画素電極１３１Ｇ側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、発光層１４５Ｇ、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を有する。同じく、比較例１の有機ＥＬ素子１３０Ｂは、画素電極１３１Ｂと対向電極１３４との間に、画素電極１３１Ｂ側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を有する。
正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、発光層１４５Ｒ，１４５Ｇはそれぞれ液相プロセスを用い、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに対応してそれぞれ選択的に形成されている。発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７はそれぞれ気相プロセスを用い、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通して形成されている。発光層１４５ＢＡの膜厚は、およそ２０ｎｍである。各層を構成する材料は実施例１と同じである。また、発光層１４５ＢＡを除いた各層の膜厚は実施例１と同じである。

（比較例２）
図８（ｂ）に示すように、比較例２の発光装置１００Ｄは、実施例１の発光装置１００に対して、中間層１４３における発光層１４５ＢＢを除いたものである。つまり、比較例２の発光装置１００Ｄの有機ＥＬ素子１３０Ｒは、画素電極１３１Ｒと対向電極１３４との間に、画素電極１３１Ｒ側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、発光層１４５Ｒ、第２正孔輸送層１４４、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を有する。同じく、比較例２の有機ＥＬ素子１３０Ｇは、画素電極１３１Ｇと対向電極１３４との間に、画素電極１３１Ｇ側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、発光層１４５Ｇ、第２正孔輸送層１４４、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を有する。同じく、比較例２の有機ＥＬ素子１３０Ｂは、画素電極１３１Ｂと対向電極１３４との間に、画素電極１３１Ｂ側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、第２正孔輸送層１４４、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を有する。
正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、発光層１４５Ｒ，１４５Ｇはそれぞれ液相プロセスを用い、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに対応してそれぞれ選択的に形成されている。第２正孔輸送層１４４、発光層１４５ＢＡ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７はそれぞれ気相プロセスを用い、有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通して形成されている。発光層１４５ＢＡの膜厚は、およそ２０ｎｍである。各層を構成する材料は実施例１と同じである。また、発光層１４５ＢＡを除いた各層の膜厚は実施例１と同じである。

（比較例３）
比較例３の発光装置は、実施例１の発光装置１００に対して、発光層１４５ＢＢの膜厚をおよそ３ｎｍとした。したがって、発光層１４５ＢＢに第２正孔輸送層１４４を加えた中間層１４３の膜厚はおよそ６ｎｍである。発光層１４５ＢＡの膜厚はおよそ１７ｎｍとした。つまり、発光層１４５ＢＡに発光層１４５ＢＢを加えた同じ青色の発光が得られる発光層１４５の膜厚はおよそ２０ｎｍであって、比較例１，２及び実施例１と同じである。他の構成は、実施例１と同じであるため、比較例３の発光装置における有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの構成を示す図は省略した。

（比較例４）
比較例４の発光装置は、実施例１の発光装置１００に対して、第２正孔輸送層１４４の膜厚を異ならせたものである。具体的には、実施例１の第２正孔輸送層１４４の膜厚がおよそ３ｎｍ（実際の成膜時における膜厚の範囲は２ｎｍ〜５ｎｍ）であるのに対して、第２正孔輸送層１４４の膜厚をおよそ７ｎｍ（実際の成膜時における膜厚の範囲としては５ｎｍ〜１０ｎｍ）としたものである。他の構成は、実施例１と同じであるため、比較例４の発光装置における有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの構成を示す図は省略した。

（実施例２）
実施例２の発光装置は、実施例１の発光装置１００に対して、発光層１４５ＢＢの膜厚をおよそ６ｎｍとした。したがって、発光層１４５ＢＢに第２正孔輸送層１４４を加えた中間層１４３の膜厚はおよそ９ｎｍである。発光層１４５ＢＡの膜厚はおよそ１４ｎｍとした。つまり、発光層１４５ＢＡに発光層１４５ＢＢを加えた同じ青色の発光が得られる発光層１４５の膜厚はおよそ２０ｎｍであって、比較例１，２，３，４及び実施例１と同じである。他の構成は、実施例１と同じであるため、実施例２の発光装置における有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの構成を示す図は省略した。

（実施例３）
実施例３の発光装置は、実施例１の発光装置１００に対して、発光層１４５ＢＢの膜厚をおよそ１４ｎｍとした。したがって、発光層１４５ＢＢに第２正孔輸送層１４４を加えた中間層１４３の膜厚はおよそ１７ｎｍである。発光層１４５ＢＡの膜厚は発光層１４５ＢＢと同じくおよそ１４ｎｍとした。つまり、発光層１４５ＢＡに発光層１４５ＢＢを加えた同じ青色の発光が得られる発光層１４５の膜厚はおよそ２８ｎｍである。他の構成は、実施例１と同じであるため、実施例３の発光装置における有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの構成を示す図は省略した。

（実施例４）
実施例４の発光装置は、実施例１の発光装置１００に対して、発光層１４５ＢＢの膜厚をおよそ１７ｎｍとした（実際の成膜時における膜厚の範囲は１５ｎｍ〜２０ｎｍ）。したがって、発光層１４５ＢＢに第２正孔輸送層１４４を加えた中間層１４３の膜厚はおよそ２０ｎｍである（実際の膜厚の範囲は１７ｎｍ〜２５ｎｍ）。発光層１４５ＢＡの膜厚はおよそ１８ｎｍとした。つまり、発光層１４５ＢＡに発光層１４５ＢＢを加えた同じ青色の発光が得られる発光層１４５の膜厚はおよそ３５ｎｍである。他の構成は、実施例１と同じであるため、実施例４の発光装置における有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの構成を示す図は省略した。

表１は、上記の比較例１〜４および実施例１〜４における発光層１４５ＢＢ、第２正孔輸送層１４４、中間層１４３、発光層１４５ＢＡの各膜厚と、発光層１４５ＢＡに発光層１４５ＢＢを加えた膜厚を表したものである。

表２は比較例１〜４、及び実施例１〜４、それぞれの赤（ＲＥＤ）、緑（ＧＲＥＥＮ）、青（ＢＬＵＥ）の有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂにおける、発光効率と発光輝度の半減期（ＬＴ５０）を示すものである。具体的には、発光効率は、比較例１における各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの発光輝度が１０００ｎｉｔｓのときの電流効率（Ｃｄ／Ａ）を「１．０」として、比較例２〜４、及び実施例１〜４における各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの発光輝度が１０００ｎｉｔｓのときの電流効率（Ｃｄ／Ａ）を数値化して示している。
発光輝度の半減期（ＬＴ５０）は、比較例１における各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの発光輝度が１０００ｎｉｔｓから半分の５００ｎｉｔｓとなる通電時間を「１．０」として、比較例２〜３、及び実施例１〜４における各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの発光輝度が１０００ｎｉｔｓから半分の５００ｎｉｔｓとなる通電時間を数値化して示している。

以下、表２を参照して、比較例１〜４、及び実施例１〜４についての評価結果を説明する。
比較例２の発光装置１００Ｄは、各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通する気相プロセスで形成された青の発光層１４５ＢＡと、液相プロセスで選択的に形成された発光層１４５Ｒ，１４５Ｇ、第１正孔輸送層１４２との間に、気相プロセスで形成された第２正孔輸送層１４４を有しているので、比較例１よりも特に青の有機ＥＬ素子１３０Ｂにおいて発光効率と発光寿命が改善されている。具体的には、比較例２の発光効率は比較例１に対して１．７倍になり、発光寿命（ＬＴ５０）は３．０倍になっている。ところが、比較例２の緑の有機ＥＬ素子１３０Ｇでは、比較例１に対して発光効率が０．９倍、発光寿命（ＬＴ５０）が０．８倍つまり低下した。

比較例３の発光装置は、各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通する気相プロセスで形成された青の発光層１４５ＢＡと、液相プロセスで選択的に形成された発光層１４５Ｒ，１４５Ｇ、第１正孔輸送層１４２との間に、気相プロセスで形成された第２正孔輸送層１４４（膜厚３ｎｍ）と発光層１４５ＢＢ（膜厚３ｎｍ）とを含む中間層１４３（膜厚６ｎｍ）を有しているので、比較例１よりも特に青の有機ＥＬ素子１３０Ｂにおいて発光効率と発光寿命が改善されている。具体的には、比較例２と同様に発光効率は比較例１に対して１．７倍になり、発光寿命（ＬＴ５０）は３．０倍になっている。緑の有機ＥＬ素子１３０Ｇでは、比較例２のように比較例１に対して発光効率や発光寿命（ＬＴ５０）が低下する現象は見られなかった。しかしながら、中間層１４３の膜厚が実施例１に比べておよそ半分であり、有機ＥＬ素子１３０Ｂにおける発光寿命は実用上まだ十分とは言えない。

これに対して、実施例１の発光装置１００では、各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通する気相プロセスで形成された青の発光層１４５ＢＡと、液相プロセスで選択的に形成された発光層１４５Ｒ，１４５Ｇ、第１正孔輸送層１４２との間に、気相プロセスで形成された発光層１４５ＢＢ（膜厚１０ｎｍ）と第２正孔輸送層１４４（膜厚３ｎｍ）とを含む中間層１４３（膜厚１３ｎｍ）を有しているので、比較例１よりも特に青の有機ＥＬ素子１３０Ｂにおいて発光効率と発光寿命が改善されている。具体的には、実施例１の発光効率は比較例１に対して１．８倍になり、発光寿命（ＬＴ５０）は３．５倍になっている。また、比較例２の有機ＥＬ素子１３０Ｂにおける発光効率や発光寿命よりも優れている。加えて、比較例２では緑の有機ＥＬ素子１３０Ｇにおいて比較例１よりも発光効率、発光寿命が劣っていたが、実施例１の緑の有機ＥＬ素子１３０Ｇでは、比較例１と同等な発光効率、発光寿命となっている。言い換えれば、実施例１は、各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通する気相プロセスで形成された青の発光層１４５ＢＡと、液相プロセスで形成された発光層１４５Ｒ，１４５Ｇ及び第１正孔輸送層１４２との間に、気相プロセスで形成された青の発光が得られる発光層１４５ＢＢを含む中間層１４３を挟んでも、赤や緑の有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇにおける発光輝度や発光寿命を低下させることなく、青の有機ＥＬ素子１３０Ｂの発光効率や発光寿命を改善することができる。

また、図９及び図１０に示すように、実施例１の赤の有機ＥＬ素子１３０Ｒでは、所望の発光波長（およそ６００ｎｍ）において輝度のピークが現れている。同じく、実施例１の緑の有機ＥＬ素子１３０Ｇでは、所望の発光波長（およそ５５０ｎｍ）において輝度のピークが現れている。これに対して第２正孔輸送層１４４の膜厚（およそ７ｎｍ）が実施例１の膜厚（およそ３ｎｍ）よりも厚い比較例４の赤の有機ＥＬ素子１３０Ｒ及び緑の有機ＥＬ素子１３０Ｇでは、赤の発光層１４５Ｒ及び緑の発光層１４５Ｇへのキャリア（正孔や電子）の注入バランスが実施例１に比べて崩れ、共通に設けられた青の発光層１４５ＢＡが発光することで、それぞれ所望の発光波長における輝度のピークに対して短波長側に輝度のピークが現れる。このような比較例４における赤の有機ＥＬ素子１３０Ｒ及び緑の有機ＥＬ素子１３０Ｇの発光状態は、比較例４の発光装置としての色再現性に影響を及ぼす。赤や緑の発光輝度に対して青の発光輝度が１０％を超えると、ＮＴＳＣ比が５０％以上の色再現性を確保することが困難になるので、実施例１のように第２正孔輸送層１４４の膜厚は２ｎｍ〜５ｎｍの範囲であることが好ましい。

実施例２〜実施例４の発光装置は、実施例１の発光装置１００に対して、発光層１４５ＢＡ及び発光層１４５ＢＢの膜厚を異ならせたものである。実施例２では、発光層１４５ＢＡに発光層１４５ＢＢを加えた青色の発光が得られる発光層１４５の膜厚は、実施例１と同じく２０ｎｍとなっている。実施例３では、発光層１４５ＢＡ及び発光層１４５ＢＢの膜厚がそれぞれ１４ｎｍであり、合計膜厚が２８ｎｍとなっている。実施例４では、発光層１４５ＢＡの膜厚が１８ｎｍであり、発光層１４５ＢＢの膜厚が１７ｎｍであり、合計膜厚が３５ｎｍとなっている。実施例１〜４における第２正孔輸送層１４４の実質的な膜厚の範囲は２ｎｍ〜５ｎｍ（平均膜厚３ｎｍ）であり、中間層１４３の実質的な膜厚の範囲は、７ｎｍ〜２５ｎｍとなっている。中間層１４３に発光層１４５ＢＡを加えた実質的な膜厚の範囲は、１２ｎｍ〜４０ｎｍとなっている。

実施例２〜４の有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇの発光輝度及び発光寿命は実施例１と同等レベルとなっている。実施例２の有機ＥＬ素子１３０Ｂの発光輝度は比較例１に対して１．５倍、発光寿命は３．３倍となっている。実施例３の有機ＥＬ素子１３０Ｂの発光輝度は比較例１に対して１．８倍、発光寿命は３．７倍となっている。実施例４の有機ＥＬ素子１３０Ｂの発光輝度は比較例１に対して１．８倍、発光寿命は３．８倍となっている。実施例１〜４の有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの発光輝度及び発光寿命は実用レベルに到達している。

上記第１実施形態の発光装置１００及びその製造方法によれば、以下の効果が得られる。
（１）発光装置１００は、各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通する気相プロセスで形成された青の発光層１４５ＢＡと、液相プロセスで選択的に形成された発光層１４５Ｒ，１４５Ｇ、第１正孔輸送層１４２との間に、気相プロセスで発光層１４５ＢＢと第２正孔輸送層１４４とを含む中間層１４３が形成されている。発光層１４５ＢＢは、発光層１４５ＢＡに含まれる電子輸送性のホスト材料と発光材料を用いて気相プロセス（共蒸着）で形成されている。発光層１４５ＢＡへのキャリア（正孔や電子）の注入バランスが崩れて、例えば発光層１４５ＢＡから第２正孔輸送層１４４を通過して電子が漏れたとしても、発光層１４５ＢＢにおいて該電子と正孔とを結合させて青色の発光を得ることができる。したがって、中間層１４３が無い場合（比較例１）に比べて、赤や緑の有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇにおける発光効率や発光寿命を低下させることなく、青の有機ＥＬ素子１３０Ｂの発光効率や発光寿命を向上させることができる。言い換えれば、優れた発光効率と発光寿命とが実現された発光装置１００を液相プロセスと気相プロセスとを使い分けることにより効率的に製造することができる。
（２）各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂに共通して形成された中間層１４３の膜厚に発光層１４５ＢＡの膜厚を加えた値が１２ｎｍ〜４０ｎｍの範囲であることから、中間層１４３を挟むことに起因する駆動電圧の上昇を抑えて、青の有機ＥＬ素子１３０Ｂにおける発光効率を向上させることができる。
（３）中間層１４３における第２正孔輸送層１４４の膜厚が２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にある。したがって、例えば第２正孔輸送層１４４の膜厚を１ｎｍで形成した場合に比べて、気相プロセスでムラ無く第２正孔輸送層１４４を形成できるので、有機ＥＬ素子１３０Ｂにおける発光層１４５ＢＡへの正孔輸送性を確保することができる。加えて、例えば第２正孔輸送層１４４の膜厚を７ｎｍで形成した場合（比較例４）に比べて、色再現性を確保することができる。

（第２実施形態）
次に、本実施形態の電子機器について、図１１を参照して説明する。図１１（ａ）は電子機器の一例であるノート型のパーソナルコンピューターを示す概略図、図１１（ｂ）は電子機器の一例である薄型テレビ（ＴＶ）を示す概略図である。

図１１（ａ）に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピューター１０００は、キーボード１００２を備えた本体部１００１と、表示部１００４を備える表示ユニット１００３とにより構成され、表示ユニット１００３は、本体部１００１に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピューター１０００において、表示部１００４に上記第１実施形態の発光装置１００が搭載されている。

図１１（ｂ）に示すように、電子機器としての薄型テレビ（ＴＶ）１１００は、表示部１１０１に上記第１実施形態の発光装置１００が搭載されている。

発光装置１００は、発光効率と発光寿命とが改善され、液相プロセスと気相プロセスとを利用して効率的に製造されているので、コストパフォーマンスに優れたパーソナルコンピューター１０００や薄型ＴＶ１１００を提供することができる。

なお、発光装置１００が搭載される電子機器は、上記パーソナルコンピューター１０００や薄型ＴＶ１１００に限定されない。例えば、スマートフォンやＰＯＳなどの携帯型情報端末、ナビゲーター、ビューワー、デジタルカメラ、モニター直視型のビデオレコーダーなどの表示部を有する電子機器が挙げられる。

本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う発光装置及び該発光装置の製造方法ならびに該発光装置を適用する電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）本発明が適用可能な発光装置とその製造方法は、発光装置が赤、緑、青の有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂを有する構成に限定されない。図１２は変形例１の発光装置の構成を示す概略平面図、図１３は変形例１の発光装置の有機ＥＬ素子の構成を示す模式断面図である。なお、変形例１の発光装置２００において、上記第１実施形態の発光装置１００と同じ構成には同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
例えば、図１２に示すように、変形例１の発光装置２００は、複数の発光画素１０７がマトリックス状に配置された表示領域Ｅを有する素子基板１０１を有している。各発光画素１０７には単色（白色を含む）の発光が得られる有機ＥＬ素子２３０が設けられている。素子基板１０１は有機ＥＬ素子２３０を封止する封止層を介して封止基板１０２と接着されている。図１３に示すように、変形例１の発光装置２００における有機ＥＬ素子２３０は、陽極としての画素電極１３１と、陰極としての対向電極１３４と、画素電極１３１側から順に積層された、正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２、中間層２４３、発光層２４５Ａ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７を有している。

正孔注入層１４１、第１正孔輸送層１４２はそれぞれ液相プロセスを用いて発光画素１０７ごとに選択的に形成されている。中間層２４３、発光層２４５Ａ、電子輸送層１４６、電子注入層１４７は気相プロセス（例えば蒸着法）を用いて、複数の発光画素１０７（有機ＥＬ素子２３０）に共通して形成されている。中間層２４３は、第１正孔輸送層１４２に接して形成され、発光層２４５Ａと同じ発光が得られる発光材料を含んだ発光層２４５Ｂと、第２正孔輸送層２４４とを含むものである。

発光層２４５Ａ，２４５Ｂは、例えば低分子のホスト材料とゲスト材料としての発光材料とを含むものであって、ホスト材料や発光材料は上記第１実施形態で挙げたものを用いることができる。
第２正孔輸送層２４４は、低分子の正孔輸送材料を含み、低分子の正孔輸送材料としては上記第１実施形態で挙げたものを用いることができる。なお、発光層２４５Ａに含まれる発光材料を含んでいてもよい。

中間層２４３の膜厚は７ｎｍ〜２５ｎｍの範囲にあり、第２正孔輸送層２４４の膜厚の範囲は２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にある。
このような変形例１の有機ＥＬ素子２３０によれば、発光層２４５Ａにおけるキャリア（正孔や電子）の注入バランスが崩れて、例えば発光層２４５Ａから第２正孔輸送層２４４を通過して電子が漏れたとしても、発光層２４５Ｂにおいて該電子と正孔とを結合させて、発光層２４５Ａと同色の発光を得ることができる。すなわち、有機ＥＬ素子２３０における発光効率と発光寿命とを向上させることができる。つまり、優れた発光効率と発光寿命とが実現された単色の発光が得られる発光装置２００を提供できると共に、液相プロセスと気相プロセスとを使い分けて効率よく製造することができる。

（変形例２）上記第１実施形態の発光装置１００において、発光層１４５ＢＢは、発光層１４５ＢＡに含まれる低分子のホスト材料と発光材料とを含むとしたが、これに限定されない。発光層１４５ＢＢは、発光層１４５ＢＡと同色の発光が得られる発光材料を含んでいればよく、例えば発光層１４５ＢＡと異なる電子輸送性のホスト材料を含んでいてもよい。より具体的には、発光層１４５ＢＡは低分子のホスト材料であるＢＡｌｑと、発光材料であるインジウム錯体のＦＩｒｐｉｃとを含み、発光層１４５ＢＢは低分子のホスト材料であるＣＢＰと、発光材料であるＦＩｒｐｉｃとを含む構成としてもよい。ＣＢＰはバイポーラー性（両極性）を有しており正孔も電子も流し易い、したがって、液相プロセスで形成された他の赤や緑の発光層１４５Ｒ，１４５Ｇに接する膜として好ましい。これに比べてＢＡｌｑはホールブロック性（正孔を流し難い）を有しているので、青の発光を主体的に得たい発光層１４５ＢＡのホスト材料として好ましい。言い換えれば、発光層１４５ＢＡと発光層１４５ＢＢとに含まれるホスト材料を異ならせ、発光層１４５ＢＢにおいてよりキャリア輸送性が高いホスト材料を採用することで、各有機ＥＬ素子１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂの発光効率や発光寿命を改善することができる。

（変形例３）上記第１実施形態の発光装置１００は表示装置として使用されることに限定されない。例えば、単色あるいは多色で発光する照明装置、あるいは感光部材を感光させる感光装置としても利用することができる。

（変形例４）上記第１実施形態の発光装置１００は、青色よりも長波長の光を発光する発光素子として、赤、緑の有機ＥＬ素子を備える構成としたが、これに限定されず、黄色や橙色のような青色よりも長波長の光を発光する有機ＥＬ素子を備えるものであってもよい。この場合、黄色や橙色の発光が得られる発光層は液相プロセスを用いて塗り分けて形成することが好ましい。

１００…発光装置、１３０Ｒ，１３０Ｇ，１３０Ｂ…有機ＥＬ素子、１３１Ｒ，１３１Ｇ，１３１Ｂ…陽極としての画素電極、１３４…陰極あるいは共通陰極としての対向電極、１４１…正孔注入層、１４２…第１正孔輸送層、１４４…第２正孔輸送層、１４５ＢＡ，１４５ＢＢ…青色の発光が得られる発光層、１４５Ｒ…赤色の発光が得られる発光層、１４５Ｇ…緑色の発光が得られる発光層、１０００…電子機器としてのパーソナルコンピューター、１１００…電子機器としての薄型ＴＶ。

Claims (28)

1. 陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層と、前記第１正孔輸送層に接して気相プロセスで形成された中間層と、前記中間層に接して気相プロセスで形成された第１発光層とを有する有機ＥＬ素子を備え、
   前記中間層は、前記陽極側から順に積層された、第２発光層と第２正孔輸送層とを含み、
   前記第１発光層及び前記第２発光層は、同色の発光が得られる発光材料を含むことを特徴とする発光装置。
2. 前記第２発光層は、前記第１発光層に含まれるホスト材料と発光材料とを含むことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
3. 前記中間層の膜厚は、７ｎｍ〜２５ｎｍの範囲にあり、
   且つ前記第２正孔輸送層の膜厚は、２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
4. 第１陽極と、共通陰極と、前記第１陽極と前記共通陰極との間に、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層と、前記第１正孔輸送層に接して液相プロセスで形成された第１発光層と、前記第１発光層に接して気相プロセスで形成された中間層と、前記中間層に接して気相プロセスで形成された第２発光層とを有する第１有機ＥＬ素子と、
   第２陽極と、前記共通陰極と、前記第２陽極と前記共通陰極との間に、前記第１正孔輸送層と、前記第１正孔輸送層に接して形成された前記中間層と、前記中間層に接して形成された前記第２発光層とを有する第２有機ＥＬ素子とを備え、
   前記中間層は、前記第１有機ＥＬ素子と前記第２有機ＥＬ素子とに共通して形成され、前記第１陽極側から順に積層された、第３発光層と第２正孔輸送層とを含み、
   前記第２発光層及び前記第３発光層は、同色の発光が得られる発光材料を含むことを特徴とする発光装置。
5. 第３陽極と、前記共通陰極と、前記第３陽極と前記共通陰極との間に、前記第１正孔輸送層と、前記第１正孔輸送層に接して液相プロセスで形成された第４発光層と、前記第４発光層に接して形成された前記中間層と、前記中間層に接して形成された前記第２発光層とを有する第３有機ＥＬ素子をさらに備え、
   前記第１有機ＥＬ素子、前記第２有機ＥＬ素子、前記第３有機ＥＬ素子は、それぞれ異なる発光色を示すことを特徴とする請求項４に記載の発光装置。
6. 前記第１有機ＥＬ素子は、赤色の発光色を示し、
   前記第２有機ＥＬ素子は、青色の発光色を示し、
   前記第３有機ＥＬ素子は、緑色の発光色を示すことを特徴とする請求項５に記載の発光装置。
7. 前記第３発光層は、前記第２発光層に含まれる電子輸送性のホスト材料と発光材料とを含むことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか一項に記載の発光装置。
8. 前記第３発光層は、前記第２発光層に含まれるホスト材料と異なる電子輸送性のホスト材料を含むことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか一項に記載の発光装置。
9. 前記第２正孔輸送層は、前記第２発光層または前記第３発光層に含まれる発光材料を含むことを特徴とする請求項４乃至８のいずれか一項に記載の発光装置。
10. 前記第２正孔輸送層における前記発光材料の含有割合は、前記第２発光層または前記第３発光層における前記発光材料の含有割合とほぼ同じであることを特徴とする請求項９に記載の発光装置。
11. 前記中間層の膜厚に前記第２発光層の膜厚を加えた値は、１２ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあり、
    前記第３発光層の膜厚は、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあり、
    且つ前記第２正孔輸送層の膜厚は、２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項４乃至１０のいずれか一項に記載の発光装置。
12. 前記第２発光層の膜厚と前記第３発光層の膜厚とがほぼ同じであることを特徴とする請求項１１に記載の発光装置。
13. 前記第２発光層の膜厚は、前記第３発光層の膜厚よりも大きいことを特徴とする請求項１１に記載の発光装置。
14. 陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に、前記陽極側から順に形成された、第１正孔輸送層と、第２発光層と、第２正孔輸送層と、第１発光層とを有する有機ＥＬ素子を備えた発光装置の製造方法であって、
    液相プロセスを用いて前記第１正孔輸送層を形成する工程と、
    気相プロセスを用いて前記第１正孔輸送層に接して前記第２発光層を形成する工程と、
    気相プロセスを用いて前記第２発光層に接して前記第２正孔輸送層を形成する工程と、
    気相プロセスを用いて前記第２正孔輸送層に接して前記第１発光層を形成する工程と、を備え、
    前記第２発光層は、前記第１発光層と同色の発光が得られる発光材料を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
15. 前記第２発光層は、前記第１発光層に含まれるホスト材料と発光材料とを含むことを特徴とする請求項１４に記載の発光装置の製造方法。
16. 前記第２発光層の膜厚に前記第２正孔輸送層の膜厚を加えた値は、７ｎｍ〜２５ｎｍの範囲にあり、且つ前記第２正孔輸送層の膜厚は、２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１４または１５に記載の発光装置の製造方法。
17. 第１陽極と、共通陰極と、前記第１陽極と前記共通陰極との間に、第１発光層と、第２発光層とを有する第１有機ＥＬ素子と、
    第２陽極と、前記共通陰極と、前記第２陽極と前記共通陰極との間に前記第２発光層を有する第２有機ＥＬ素子とを備えた発光装置の製造方法であって、
    液相プロセスを用いて、前記第１陽極上及び前記第２陽極上に第１正孔輸送層を形成する工程と、
    液相プロセスを用いて、前記第１陽極上の前記第１正孔輸送層に接して前記第１発光層を形成する工程と、
    気相プロセスを用いて、前記第１発光層に接すると共に、前記第２陽極上の前記第１正孔輸送層に接して、第３発光層を形成する工程と、
    気相プロセスを用いて、前記第３発光層に接して第２正孔輸送層を前記第１有機ＥＬ素子と前記第２有機ＥＬ素子とに共通して形成する工程と、
    気相プロセスを用いて、前記第２正孔輸送層に接して前記第２発光層を前記第１有機ＥＬ素子と前記第２有機ＥＬ素子とに共通して形成する工程と、を備え、
    前記第３発光層は、前記第２発光層と同色の発光が得られる発光材料を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
18. 第３陽極と、前記共通陰極と、前記第３陽極と前記共通陰極との間に第４発光層とを有する第３有機ＥＬ素子をさらに備え、
    液相プロセスを用いて、前記第３陽極上に前記第１正孔輸送層を形成する工程と、
    液相プロセスを用いて、前記第３陽極上の前記第１正孔輸送層に接して前記第４発光層を形成する工程と、
    気相プロセスを用いて、前記第４発光層に接して前記第１有機ＥＬ素子及び前記第２有機ＥＬ素子並びに前記第３有機ＥＬ素子に共通して前記第３発光層を形成する工程と、
    気相プロセスを用いて、前記第３発光層に接して前記第１有機ＥＬ素子及び前記第２有機ＥＬ素子並びに前記第３有機ＥＬ素子に共通して前記第２正孔輸送層を形成する工程と、
    気相プロセスを用いて、前記第２正孔輸送層に接して前記第１有機ＥＬ素子及び前記第２有機ＥＬ素子並びに前記第３有機ＥＬ素子に共通して前記第２発光層を形成する工程と、を含み、
    前記第１有機ＥＬ素子、前記第２有機ＥＬ素子、前記第３有機ＥＬ素子は、それぞれ異なる発光色を示すことを特徴とする請求項１７に記載の発光装置の製造方法。
19. 前記第１有機ＥＬ素子は、赤色の発光色を示し、
    前記第２有機ＥＬ素子は、青色の発光色を示し、
    前記第３有機ＥＬ素子は、緑色の発光色を示すことを特徴とする請求項１８に記載の発光装置の製造方法。
20. 前記第３発光層は、前記第２発光層に含まれる電子輸送性のホスト材料と発光材料とを含むことを特徴とする請求項１７乃至１９のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法。
21. 前記第３発光層は、前記第２発光層に含まれるホスト材料と異なる電子輸送性のホスト材料を含むことを特徴とする請求項１７乃至１９のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法。
22. 前記第２正孔輸送層は、前記第２発光層または前記第３発光層に含まれる発光材料を含むことを特徴とする請求項１７乃至２１のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法。
23. 前記第２正孔輸送層における前記発光材料の含有割合は、前記第２発光層または前記第３発光層における前記発光材料の含有割合とほぼ同じであることを特徴とする請求項２２に記載の発光装置の製造方法。
24. 前記第３発光層の膜厚に前記第２正孔輸送層の膜厚と前記第２発光層の膜厚を加えた値は、１２ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあり、
    前記第３発光層の膜厚は、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあり、且つ前記第２正孔輸送層の膜厚は、２ｎｍ〜５ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１７乃至２３のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法。
25. 前記第２発光層の膜厚と前記第３発光層の膜厚とがほぼ同じであることを特徴とする請求項２４に記載の発光装置の製造方法。
26. 前記第２発光層の膜厚は、前記第３発光層の膜厚よりも大きいことを特徴とする請求項２４に記載の発光装置の製造方法。
27. 請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の発光装置を備えたことを特徴とする電子機器。
28. 請求項１４乃至２６のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法を用いて製造された発光装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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