JP6673207B2 - 表示装置および電子機器 - Google Patents

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Description

本開示は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electro Luminescence）現象を利用して発光する表示装置およびこれを備えた電子機器に関する。
有機材料のＥＬ現象を利用して発光する有機ＥＬ素子は、視野角が広く、コントラストが優秀なだけでなく応答時間が速い、高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。赤，緑，青の色光を発する発光素子として、上記有機ＥＬ素子を用いた表示装置（有機ＥＬ表示装置）では、例えば特許文献１に示した表示装置のように、各色の発光素子上に対応する色のカラーフィルタを配設することによって、色純度が向上すると共に、色域を深化させることができる。
特開２０１１−４０３５２号公報
しかしながら、表示装置の色度を重視して色域を深化、特に青色域を深化させると発光効率が低下し、さらに消費電力が高くなるという問題があった。
従って、消費電力を抑えつつ、広色域表示が可能な表示装置および電子機器を提供することが望ましい。
本技術の一実施形態である表示装置は、第１発光層を有すると共に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のいずれかに対応する第１画素と、第２発光層を有すると共に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のうちの第１画素とは異なる色に対応する第２画素と、第１画素および第２画素に対向配置され、第１画素に対して光透過率が互いに異なる第１領域および第２領域の２領域を有すると共に、第２画素に対しては１領域からなるカラーフィルタ層とを備えたものであり、第１画素は、カラーフィルタ層の第１領域および第２領域にそれぞれ対応する２つの副画素を有し、第１領域は第２領域よりも光透過率が高く、第２領域は、第１領域に隣接すると共に、第１画素に対応する赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のいずれかの波長域の光を選択的に透過する。
本技術の一実施形態である電子機器は、上記一実施形態の表示装置を備えたものである。
本技術の一実施形態である表示装置では、隣接する２つの副画素を有する第１画素に対向する位置に、光透過率が互いに異なる第１領域および第２領域を有し、第１領域は第２領域よりも光透過率が高く、第２領域は赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のいずれかの波長域の光を選択的に透過するカラーフィルタを設けることにより、第１画素に設けられた発光層からの外部への光取り出し効率が向上すると共に、３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）以外の色光を組み込むことができる。
本技術の一実施形態である表示装置および一実施形態である電子機器によれば、隣接する２つの副画素を有する第１画素に対向する位置に、光透過率が互いに異なる第１領域および第２領域を有し、第１領域は第２領域よりも光透過率が高く、第２領域は赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のいずれかの波長域の光を選択的に透過するカラーフィルタを設けるようにした。これにより、外部への光取り出し効率が向上すると共に、３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）以外の色光を組み込むことができる。よって、消費電力を抑えつつ、色域の広い表示装置およびこれを備えた電子機器を提供することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の構成の一例を表す断面図である。 本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の構成の他の例を表す平面図および断面図である。 本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の構成の他の例を表す断面図である。 図１に示した表示装置の全体構成を表す平面図である。 図４に示した画素駆動回路の一例を表す図である。 本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の構成の一例を表す断面図である。 図６に示した表示装置の発光層とカラーフィルタとの組み合わせおよび表示色の一例を表す模式図である。 本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の発光層とカラーフィルタとの組み合わせおよび表示色の他の例を表す模式図である。 本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の発光層とカラーフィルタとの組み合わせおよび表示色の他の例を表す模式図である。 本開示の変形例に係る表示装置の画素の構成を表す平面模式図である。 比較例における単位面積当たりの輝度（Ａ）と図１０に示した表示装置における単位面積当たりの輝度（Ｂ）とを比較する模式図である。 図１に示した表示装置等の適用例１の一例の外観を表す斜視図である。 適用例１の他の例の外観を表す斜視図である。 適用例２の外観を表す斜視図である。 適用例３の表側から見た外観を表す斜視図である。 適用例３の裏側から見た外観を表す斜視図である。 適用例４の外観を表す斜視図である。 適用例５の外観を表す斜視図である。
以下、本開示の実施の形態について図面を参照して以下の順に詳細に説明する。
１．第１の実施の形態（青色画素に対応するカラーフィルタの一部に開口を設けた例）
１−１．基本構成
１−２．製造方法
１−３．全体構成
２．第２の実施の形態（隣り合う２画素間でカラーフィルタの配色が異なる例）
３．変形例（マトリクス状に配置された画素の一部のカラーフィルタの膜厚を変化させた例）
（１．第１の実施の形態）
図１は、本開示の第１の実施の形態に係る表示装置１の断面構成を表したものである。この表示装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置等として用いられるものであり、例えば、駆動基板１１上には表示領域１１０が設けられている。表示領域１１０内には、色画素（副画素；請求項１における第１画素および第２画素に相当）として赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂを有する複数の画素５がマトリクス状に配置されており、各色画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂには対応する発光素子１０がそれぞれ設けられている（例えば、図４参照）。
（１−１．基本構成）
本実施の形態では、画素５を構成する色画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂのうち、例えば青色画素５Ｂ上に設けられた青色のカラーフィルタ（青色フィルタ４２Ｂ）の一部（一領域）に開口４２Ａが設けられており、青色画素５Ｂは、青色に発光する領域と、例えばシアン色に発光する領域を含んでいる。各領域には互いに独立した画素電極１４が設けられているため、青色画素５Ｂには、青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃの２つの発光素子が設けられ、実質、青色画素５ＢＢおよびシアン色画素５ＢＣの２つの色画素が設けられた構成を有する。発光素子１０は、画素電極１４と対向電極１７との間に有機層１６として、例えば、正孔供給層１６Ａ（正孔注入層１６Ａ１，正孔輸送層１６Ａ２），発光層１６Ｂおよび電子供給層１６Ｃ（電子注入層１６Ｃ２，電子輸送層１６Ｃ１）が積層された構成を有する。
なお、図１では、青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃを青色画素５Ｂ内で並列配置した例を示したが、これに限らず、例えば図２（Ａ），（Ｂ）に示したように、青色画素５Ｂ内で縦列に配置してもよい。
駆動基板１１は、その一主面側に赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃが配列形成される支持体であって、公知のものであって良く、例えば、石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシート等が用いられる。この中でも石英やガラスが好ましく、樹脂製の場合には、その材質としてポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に代表されるメタクリル樹脂類、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ)等のポリエステル類、もしくはポリカーボネート樹脂等が挙げられるが、透水性や透ガス性を抑える積層構造、表面処理を行うことが必要である。
画素電極１４は、駆動基板１１上に、赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃの各々ごとに設けられている。画素電極１４は、例えば、積層方向の厚み（以下、単に厚みと言う）が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）等の金属元素の単体または合金が挙げられる。また、画素電極１４は、これらの金属元素の単体または合金よりなる金属膜と、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、ＩｎＺｎＯ（インジウム亜鉛オキシド）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金等の透明導電膜との積層構造を有していてもよい。なお、画素電極１４が陽極として使われる場合には、画素電極１４は正孔注入性の高い材料により構成されていることが望ましい。但し、Ａｌ合金のように、表面の酸化皮膜の存在や、仕事関数が大きくないことによる正孔注入障壁が問題となる材料においても、適切な正孔注入層１６Ａ１を設けることによって画素電極１４として使用することが可能である。
隔壁１５は、画素電極１４と対向電極１７との絶縁性を確保すると共に発光領域を所望の形状にするためのものである。更に、後述する製造工程においてインクジェット方式またはノズルコート方式等による塗布を行う際の隔壁としての機能も有している。隔壁１５は、例えば、ＳｉＯ2等の無機絶縁材料よりなる下部隔壁１５Ａの上に、ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール，ポジ型感光性ポリイミド等の感光性樹脂よりなる上部隔壁１５Ｂを有している。隔壁１５には、発光領域に対応して開口が設けられている。なお、有機層１６ないし対向電極１７は、開口だけでなく隔壁１５の上にも設けられていてもよいが、発光が生じるのは隔壁１５の開口だけである。
発光素子１０は、上記のように、画素電極１４と対向電極１７との間に、画素電極１４側から、例えば、正孔供給層１６Ａ（正孔注入層１６Ａ１，正孔輸送層１６Ａ２），発光層１６Ｂおよび電子供給層１６Ｃ（電子注入層１６Ｃ２，電子輸送層１６Ｃ１）がこの順に積層された構成を有する。ここで、赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇには、それぞれ対応する発光層（赤色発光層１６ＢＲ，緑色発光層１６ＢＧ）が設けられており、青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃは共通の発光層（青色発光層１６ＢＢ）が設けられている。この青色発光層１６ＢＢはさらに赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇ上にも延在している。このため、赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇには、赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧ上に青色発光層１６ＢＢが積層されている。
正孔注入層１６Ａ１は、各発光層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢへの正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層であり、画素電極１４の上に赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂの各々ごとに設けられている。
正孔注入層１６Ａ１の厚みは例えば５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは８ｎｍ〜５０ｎｍである。正孔注入層１６Ａ１の構成材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン、ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体等の導電性高分子、金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等）、カーボン等が挙げられる。
正孔注入層１６Ａ１に用いられる材料が高分子材料である場合には、その高分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は５０００〜３０万の範囲であればよく、特に１万〜２０万程度が好ましい。また、２０００〜１万程度のオリゴマーを用いてもよいが、Ｍｗが５０００未満では正孔輸送層以後の層を形成する際に、正孔注入層が溶解してしまう虞がある。また３０万を超えると材料がゲル化し、成膜が困難になる虞がある。
正孔注入層１６Ａ１の構成材料として使用される典型的な導電性高分子としては、例えばポリアニリン、オリゴアニリンおよびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）等のポリジオキシチオフェンが挙げられる。この他、エイチ・シー・スタルク製Nafion(商標)で市販されているポリマー、または商品名Liquion(商標)で溶解形態で市販されているポリマーや、日産化学製エルソース（商標）や、綜研化学製導電性ポリマーベラゾール（商標）等がある。
正孔輸送層１６Ａ２は、発光層１６Ｂへの正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層１６Ａ２は、正孔注入層１６Ａ１の上に赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂの各々ごとに設けられている。
正孔輸送層１６Ａ２の厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔輸送層１６Ａ２を構成する高分子材料としては、有機溶媒に可溶な発光材料、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリシランまたはそれらの誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリピロール等を用いることができる。
なお、本実施の形態では、正孔注入層１６Ａ１，正孔輸送層１６Ａ２および赤色発光層１６ＢＲ，緑色発光層１６ＢＧまでを塗布法を用いて形成する。このため、正孔注入層１６Ａ１，正孔輸送層１６Ａ２としてはこれらを形成した後の熱処理等によって架橋し溶媒に不溶化する化合物を用いる必要がある。
赤色発光層１６ＢＲ，緑色発光層１６ＢＧおよび青色発光層１６ＢＢでは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり発光する。赤色発光層１６ＢＲ，緑色発光層１６ＢＧの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｃに共通の青色発光層１６ＢＢの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは、１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。
赤色発光層１６ＢＲ，緑色発光層１６ＢＧを構成する材料としては、例えば、一般的に用いられている蛍光発光材料のほか、りん光発光材料が挙げられ、りん光発光材料を用いることが好ましい。蛍光発光材料は、励起状態、即ち一重項状態から直接基底状態に戻り、この際に発光する。一重項状態はエネルギーが高く不安定であるため、その寿命は短い。これに対し、りん光発光材料は、一重項状態からやや安定した中間状態、即ち三重項状態を経て基底状態に戻る。三重項状態は、一重項より遷移した状態であるため、りん光の寿命は蛍光と比較して長いためである。また、りん光発光材料の中でも低分子材料を用いることが好ましい。ここで、低分子材料とは、低分子化合物が同じ反応または類似の反応を連鎖的に繰り返すことにより生じた高分子量の重合体または縮合体の分子からなる化合物以外のものであって、分子量が実質的に単一であるものを指す。また、加熱による分子間の新たな化学結合は生じず、単分子で存在する。このような低分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は１万以下であることが好ましい。
りん光発光材料をホスト材料として、これにドープするドーパントとしては、りん光性金属錯体化合物、具体的には、オルトメタル化金属錯体またはポルフィリン金属錯体が挙げられる。中心金属には周期表７〜１１族から選ばれる金属、例えばルテニウム（Ｒｕ），ロジウム（Ｒｈ），パラジウム（Ｐｄ），銀（Ａｇ），レニウム（Ｒｅ），オスミウム（Ｏｓ），イリジウム（Ｉｒ），白金（Ｐｔ）および金（Ａｕ）を用いることが好ましい。なお、上記ドーパントは１種あるいは２種以上用いてもよい。また、中心金属が異なるドーパントを組み合わせてもよい。
青色発光層１６ＢＢを構成する材料としては、アントラセン化合物が挙げられる。青色発光層１６ＢＢには、このアントラセン化合物をホスト材料として青色もしくは緑色の蛍光性色素のゲスト材料がドーピングされており、これにより、青色もしくは緑色の発光光を発生する。
一方、青色発光層１６ＢＢを構成する発光性ゲスト材料としては、発光効率が高い低分子蛍光材料、りん光色素あるいは金属錯体等の有機発光材料等が用いられる。
ここで青色の発光性ゲスト材料とは、発光の波長範囲が約４００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲にピークを有する化合物を示す。このよう化合物として、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ナフタセン誘導体、スチリルアミン誘導体、ビス（アジニル）メテンホウ素錯体等の有機物質が用いられる。なかでも、アミノナフタレン誘導体、アミノアントラセン誘導体、アミノクリセン誘導体、アミノピレン誘導体、スチリルアミン誘導体、ビス（アジニル）メテンホウ素錯体から選択されることが好ましい。なお、青色発光層１６ＢＢに用いられる材料としては、上記蛍光材料に限らず、りん光を用いてもよい。
なお、青色発光層１６ＢＢは必ずしも各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｃの共通層である必要はない。例えば図３に示したように、青色発光層１６ＢＢは、赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇには設けず、青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃ上にのみ形成された構成としてもよい。また、各発光層１６ＢＲ，ＢＧ，ＢＢをりん光発光材料を用いて形成する場合には、赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧと、青色発光層１６ＢＢとの間に接続層（図示せず）を設けることが好ましい。接続層は、赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧ内で形成される三重項励起子を赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧ内に閉じ込める共に、青色発光層１６ＢＢへの正孔の注入効率を向上させるためのものである。
接続層を構成する材料としては、励起三重項エネルギーが上記赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧの励起三重項エネルギーよりも十分に大きい材料が好ましい。また、青色発光層１６ＢＢへの正孔の注入効率を向上させるために高い正孔輸送性能を有し、且つ上記青色有機ＥＬ素子用の正孔輸送層１６Ａ２との間に大きな正孔注入障壁を生じさせない材料が好ましい。更に、蒸着法で形成することが可能なように、低分子材料であることが好ましい。具体的には、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーまたはオリゴマーが挙げられる。
接続層の厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１ｎｍ〜３０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１ｎｍ〜１５ｎｍである。
電子輸送層１６Ｃ１は、赤色発光層１６ＢＲ，緑色発光層１６ＢＧ，青色発光層１６ＢＢへの電子の輸送効率を高めるためのものであり、青色発光層１６ＢＢ上に各発光素子１０Ｒ, １０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｃの共通層として設けられている。電子輸送層１６Ｃ１の厚みは素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１０ｎｍ〜１７０ｎｍである。
電子輸送層１６Ｃ１の材料としては、優れた電子輸送能を有する有機材料を用いることが好ましい。発光層、特に赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧへの電子の輸送効率を高めることにより、電界強度による赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇにおける発光色の変化が抑制される。このような有機材料としては、具体的には電子移動度が１０-6ｃｍ2／Ｖｓ以上１．０×１０-1ｃｍ2／Ｖｓ以下の含窒素複素環誘導体を用いることができる。
なお、電子輸送層１６Ｃ１に用いる有機材料はアントラセン骨格を有する化合物が好ましいが、これに限らない。例えばアントラセン骨格に変えて、ピレン骨格またはクリセン骨格を備えたベンゾイミダゾール誘導体、ピリジルフェニル誘導体、ビピリジル誘導体を用いてもよい。また、電子輸送層１６Ｃ１に用いる有機材料は１種類だけでなく、複数種類を混合または積層して用いてもよい。更にまた、これら有機材料は後述する電子注入層１６Ｃ２に用いてもよい。
電子注入層１６Ｃ２は、電子注入効率を高めるためのものであり、電子輸送層１６Ｃ１上に、電子輸送層１６Ｃ１と同様に共通層として設けられている。電子注入層１６Ｃ２の材料としては、例えばリチウム（Ｌｉ）の酸化物である酸化リチウム（ＬｉＯ2）や、セシウム（Ｃｓ）の複合酸化物である炭酸セシウム（Ｃｓ2ＣＯ3）、さらにはこれらの酸化物および複合酸化物の混合物を用いることができる。また、電子注入層１６Ｃ２は、このような材料に限定されることはなく、例えば、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、さらにはインジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の仕事関数の小さい金属、さらにはこれらの金属の酸化物および複合酸化物、フッ化物等を、単体でまたはこれらの金属および酸化物および複合酸化物、フッ化の混合物や合金として安定性を高めて使用してもよい。
対向電極１７は、例えば、厚みが２ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、金属導電膜により構成されている。具体的には、Ａｌ，Ｍｇ，ＣａまたはＮａの合金が挙げられる。中でも、マグネシウムと銀との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）は、薄膜での導電性と吸収の小ささとを兼ね備えているので好ましい。Ｍｇ−Ａｇ合金におけるマグネシウムと銀との比率は特に限定されないが、膜厚比でＭｇ：Ａｇ＝２０：１〜１：１の範囲であることが望ましい。また、対向電極１７の材料は、ＡｌとＬｉとの合金（Ａｌ−Ｌｉ合金）でもよい。
更に、対向電極１７は、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体、フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層でもよい。この場合には、さらに第３層としてＭｇＡｇのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。なお、対向電極１７は、アクティブマトリックス駆動方式の場合、有機層１６と隔壁１５とによって、画素電極１４と絶縁された状態で駆動基板１１上にベタ膜状に形成され、赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃの共通電極として用いられる。
保護層３０は、例えば厚みが２〜３μｍであり、絶縁性材料または導電性材料のいずれにより構成されていてもよい。絶縁性材料としては、無機アモルファス性の絶縁性材料、例えばアモルファスシリコン（α−Ｓｉ）,アモルファス炭化シリコン（α−ＳｉＣ）,アモルファス窒化シリコン（α−Ｓｉ1-xＮx），アモルファスカーボン（α−Ｃ）等が好ましい。このような無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないため透水性が低く、良好な保護膜となる。
対向基板４０は、赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃの対向電極１７の側に位置しており、接着層（図示せず）と共に各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｃを封止するものである。対向基板４０は、各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｃで発生した光に対して透明なガラス等の材料により構成されている。対向基板４０には、例えば、ブラックマトリクス４１およびカラーフィルタ層４２が設けられており、各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｃで発生した光を取り出すと共に、各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｃ並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。なお、対向電極１７が反射電極であり、透明な画素電極１４から発生した光を取り出す構成としてはこの限りではない。例えば、保護層３０および対向基板４０は不透明な材料を用いてもよい。その際には、ブラックマトリクス４１およびカラーフィルタ層４２を画素電極１４側の画素駆動回路１４０上に形成することにより上記効果と同様の効果を得ることができる。
ブラックマトリクス４１は、例えば黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜、または薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより構成されている。このうち黒色の樹脂膜により構成するようにすれば、安価で容易に形成することができるので好ましい。薄膜フィルタは、例えば、金属，金属窒化物あるいは金属酸化物よりなる薄膜を１層以上積層し、薄膜の干渉を利用して光を減衰させるものである。薄膜フィルタとしては、具体的には、Ｃｒと酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ2Ｏ3）とを交互に積層したものが挙げられる。
カラーフィルタ層４２は、赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇおよび青色発光素子１０Ｂに対応する位置に赤色フィルタ４２Ｒ，緑色フィルタ４２Ｇおよび青色フィルタ４２Ｂが形成されており、シアン色発光素子１０Ｃに対応する位置には、例えば開口４２Ａが設けられている。各色フィルタ４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂは、それぞれ例えば矩形形状で隙間なく形成されている。各色フィルタ４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。なお、ここでは、カラーフィルタ層４２のシアン色発光素子１０Ｃに対応する位置には開口４２Ａが設けられているとしたが、これに限らず、例えば光透過性を有する透明樹脂材料によって透明樹脂層が形成されていてもよい。
（１−２．製造方法）
表示装置１は、例えば次のようにして製造することができる。
まず、上述した材料よりなる駆動基板１１の上に駆動トランジスタＴｒ１を含む画素駆動回路１４０を形成し、例えば感光性樹脂よりなる平坦化絶縁膜（図示せず）を設ける。
（画素電極１４を形成する工程）
次いで、駆動基板１１の全面に例えばＩＴＯよりなる透明導電膜を形成し、この透明導電膜をパターニングすることにより、画素電極１４を赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃの各々ごとに形成する。その際、画素電極１４を、平坦化絶縁膜（図示せず）のコンタクトホール（図示せず）を介して駆動トランジスタＴｒ１（図５参照）のドレイン電極と導通させる。
（隔壁１５を形成する工程）
続いて、画素電極１４上および平坦化絶縁膜（図示せず）上に、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相成長）法により、ＳｉＯ2等の無機絶縁材料を成膜し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いてパターニングすることにより、下部隔壁１５Ａを形成する。
そののち、下部隔壁１５Ａの所定位置、詳しくは画素の発光領域を囲む位置に、上述した感光性樹脂よりなる上部隔壁１５Ｂを形成する。これにより、上部隔壁１５Ｂおよび下部隔壁１５Ａよりなる隔壁１５が形成される。
隔壁１５を形成したのち、駆動基板１１の画素電極１４および隔壁１５を形成した側の表面を酸素プラズマ処理し、その表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させる。具体的には、駆動基板１１を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行う。
（撥水化処理を行う工程）
プラズマ処理を行ったのち、撥水化処理（撥液化処理）を行うことにより、特に上部隔壁１５Ｂの上面および側面の濡れ性を低下させる。具体的には、大気圧下で４フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理（ＣＦ4プラズマ処理）を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された駆動基板１１を室温まで冷却することで、上部隔壁１５Ｂの上面および側面を撥液化し、その濡れ性を低下させる。
なお、このＣＦ 4 プラズマ処理においては、画素電極１４の露出面および下部隔壁１５Ａについても多少の影響を受けるが、画素電極１４の材料であるＩＴＯおよび下部隔壁１５Ａの構成材料であるＳｉＯ2等はフッ素に対する親和性に乏しいため、酸素プラズマ処理で濡れ性が向上した面は濡れ性がそのままに保持される。
（正孔注入層１６Ａ１を形成する工程）
撥水化処理を行ったのち、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域内に、上述した材料よりなる正孔注入層１６Ａ１を形成する。この正孔注入層１６Ａ１は、スピンコート法や液滴吐出法等の塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に正孔注入層１６Ａ１の形成材料を選択的に配する場合には、液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式を用いることが好ましい。なお、正孔注入層１６Ａ１の膜厚を同一に形成する場合には、スリットコート方式等を用いて領域内に一括して塗布することで工程数を削減することができる。
具体的には、例えばインクジェット方式により、正孔注入層１６Ａ１の形成材料であるポリアニリンやポリチオフェン等の溶液または分散液を画素電極１４の露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、正孔注入層１６Ａ１を形成する。
熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。ポリアニリンやポリチオフェン等の導電性高分子を用いる場合には、大気雰囲気下、もしくは酸素雰囲気下で行うことが好ましい。酸素による導電性高分子の酸化により、導電性が発現しやすくなるためである。
加熱温度は、１５０℃〜３００℃が好ましく、さらに好ましくは１８０℃〜２５０℃である。時間は、温度および雰囲気条件にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。この乾燥後の膜厚みは、５ｎｍ〜１００ｎｍが好ましい。さらに好ましくは、８ｎｍ〜５０ｎｍである。
（正孔輸送層１６Ａ２を形成する工程）
正孔注入層１６Ａ１を形成したのち、正孔注入層１６Ａ１の上に、上述した高分子材料を含む正孔輸送層１６Ａ２を赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇおよび青色発光素子１０Ｂの各々ごとに形成する。この正孔輸送層１６Ａ２は、スピンコート法や液滴吐出法等の塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に正孔輸送層１６Ａ２の形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式を用いることが好ましい。
具体的には、例えばインクジェット方式により、正孔輸送層１６Ａ２の形成材料である高分子ポリマーおよび低分子材料の混合溶液または分散液を正孔注入層１６Ａ１の露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇの正孔輸送層１６Ａ２を形成する。
熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。塗布する雰囲気や溶媒を乾燥、加熱する雰囲気としては、窒素（Ｎ2）を主成分とする雰囲気中が好ましい。酸素や水分が存在すると、作製された表示装置１の発光効率や寿命が低下する虞がある。特に、加熱工程においては、酸素や水分の影響が大きいため、注意が必要である。酸素濃度は、０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下が好ましく、５０ｐｐｍ以下であればより好ましい。１００ｐｐｍより多い酸素があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた表示装置１の発光効率や寿命が低下する虞がある。また、酸素濃度が０．１ｐｐｍ未満の場合には素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を０．１ｐｐｍ未満に保持する装置のコストが多大になる可能性がある。
また、水分については、露点が例えば−８０℃以上−４０℃以下であることが好ましい。更に、−５０℃以下であればより好ましく、−６０℃以下であれば更に好ましい。−４０℃より高い水分が存在すると、形成された薄膜の界面が汚染され、得られた表示装置１の発光効率や寿命が低下する虞がある。また、−８０℃未満の水分の場合には素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を−８０℃未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。
加熱温度は、１００℃〜２３０℃が好ましく、さらに好ましくは１００℃〜２００℃である。少なくとも、正孔注入層１６Ａ１形成時の温度よりも低いことが好ましい。時間は、温度および雰囲気条件にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。乾燥後の膜厚みは、素子の全体構成にもよるが、１０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。さらに、１５ｎｍ〜１５０ｎｍであればより好ましい。
（赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧを形成する工程）
赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇの正孔輸送層１６Ａ２を形成したのち、赤色発光素子１０Ｒの正孔輸送層１６Ａ２の上に上述したりん光性ドーパントを含有するりん光性ホスト材料よりなる赤色発光層１６ＢＲを形成する。また、緑色発光素子１０Ｇの正孔輸送層１６Ａ２の上にりん光性ドーパントを含有するりん光性ホスト材料よりなる緑色発光層１６ＢＧを形成する。赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧは、スピンコート法や液滴吐出法等の塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧの形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式を用いることが好ましい。
具体的には、例えばインクジェット方式により、赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧの形成材料であるりん光性ホスト材料にりん光性ドーパントを、例えば1重量％になるように、キシレンとシクロヘキシルベンゼンを２：８に混合した溶媒に溶解した混合溶液または分散液を正孔輸送層１６Ａ２の露出面上に配する。その後、上記赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇの正孔輸送層１６Ａ２を形成する工程で説明した熱処理（乾燥処理）と同様の方法および条件の熱処理を行うことにより、赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧを形成する。
（青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃの正孔輸送層１６Ａ２を形成する工程）
赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧを形成したのち、青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃ用の正孔注入層１６Ａ１の上に、上述した低分子材料よりなる正孔輸送層１６Ａ２を形成する。正孔輸送層１６Ａ２は、スピンコート法や液滴吐出法等の塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に正孔輸送層１６Ａ２の形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式を用いることが好ましい。
具体的には、例えばインクジェット方式により、正孔輸送層１６Ａ２の形成材料である低分子の溶液または分散液を正孔注入層１６Ａ１の露出面上に配する。その後、上記赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇの正孔輸送層１６Ａ２を形成する工程で説明した熱処理（乾燥処理）と同様の方法および条件の熱処理を行うことにより形成する。
（工程の順序について）
赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇの正孔輸送層１６Ａ２を形成する工程と、青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃの正孔輸送層１６Ａ２を形成する工程と、赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧを形成する工程とは、いずれの順番で行ってもよいが、少なくとも、形成する層を展開する下地が先に形成されており、加熱乾燥各工程の加熱工程を経ていることが好ましい。また、加熱工程時の温度が、前工程よりも少なくとも同等もしくは低い温度で行うように、塗布することが好ましい。例えば、赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧの加熱温度が、１３０℃であり、青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃ用の正孔輸送層１６Ａ２の加熱温度が同じ１３０℃である場合、赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧの塗布を行い、乾燥せずに、続けて、青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃ用の正孔輸送層１６Ａ２の塗布をしたのち、赤色発光層１６ＢＲ，緑色発光層１６ＢＧ，青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃ用の正孔輸送層１６Ａ２の乾燥、加熱工程を行ってもよい。
なお、赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇの正孔輸送層１６Ａ２と青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃの正孔輸送層１６Ａ２とを同一材料および均一な膜厚とする場合には、上述したように、正孔輸送層１６Ａ２はスリットコート方式等を用いて領域内全面に共通層として一括して形成してもよい。これにより、工程数を削減することができる。具体的には、正孔輸送層１６Ａ２を共通層として各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｇ，１０Ｃ上の正孔注入層１６Ａ１上の全面にスリットコート方式等の塗布法により形成したのち、上記正孔輸送層１６Ａ２を形成する工程で説明した熱処理（乾燥処理）と同様の方法および条件の熱処理を行う。その後、上述したように赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧを形成する。
更に、上記各工程において、乾燥と加熱とは別個の工程として分けて行うことが好ましい。理由として、乾燥工程では、塗布したウエット膜が、非常に流動しやすいために、膜ムラが起きやすいからである。好ましい乾燥工程は、常圧で均一に真空乾燥する方法であり、さらに、乾燥中に風等をあてずに乾燥させることが望ましい。加熱工程では、ある程度、溶媒が飛んで流動性が低下し、硬化した膜になっており、そこからゆっくりと、熱をかけることにより、微量に残存している溶媒を取り除いたり、発光材料や正孔輸送層の材料を分子レベルで再配列を起こさせることが可能となる。
（青色発光層１６ＢＢを形成する工程）
赤色発光層１６ＢＲ、緑色発光層１６ＢＧと、青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃ用の正孔輸送層１６Ａ２とを形成したのち、蒸着法により、各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｃ上に、上述した低分子材料よりなる青色発光層１６ＢＢを共通層として形成する。
（電子輸送層１６Ｃ１，電子注入層１６Ｃ２および対向電極１７を形成する工程）
青色発光層１６ＢＢを形成したのち、この青色発光層１６ＢＢの全面に、蒸着法により、上述した材料よりなる電子輸送層１６Ｃ１，電子注入層１６Ｃ２および対向電極１７を形成する。
対向電極１７を形成したのち、下地に対して影響を及ぼすことのない程度に、成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法、例えば蒸着法やＣＶＤ法により、保護層３０を形成する。例えば、アモルファス窒化シリコンからなる保護層３０を形成する場合には、ＣＶＤ法によって２〜３μｍの膜厚に形成する。この際、有機層１６の劣化による輝度の低下を防止するため、成膜温度を常温に設定すると共に、保護層３０の剥がれを防止するために膜のストレスが最小になる条件で成膜することが望ましい。
青色発光層１６ＢＢ，電子輸送層１６Ｃ１，電子注入層１６Ｃ２，対向電極１７および保護層３０は、微細なマスクを用いることなく全面にベタ膜として形成される。また、青色発光層１６ＢＢ，電子輸送層１６Ｃ１，電子注入層１６Ｃ２，対向電極１７および保護層３０の形成は、望ましくは、大気に暴露されることなく同一の成膜装置内において連続して行われる。これにより大気中の水分による有機層１６の劣化が防止される。
なお、画素電極１４と同一工程で補助電極（図示せず）を形成した場合、補助電極の上部にベタ膜で形成された有機層１６を、対向電極１７を形成する前にレーザアブレーション等の手法によって除去してもよい。これにより対向電極１７を補助電極に直接接続させることが可能となり、接触性が向上する。
保護層３０を形成したのち、例えば、上述した材料よりなる対向基板４０に、上述した材料よりなるブラックマトリクス４１を、各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｃに対応するように、例えば格子状に形成する。続いて、対向基板４０に赤色フィルタ４２Ｒの材料をスピンコート等により塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより赤色フィルタ４２Ｒを形成する。続いて、赤色フィルタ４２Ｒと同様にして、緑色フィルタ４２Ｇおよび青色フィルタ４２Ｂを順次形成することにより、カラーフィルタ層４２を形成する。このとき、本実施の形態では、シアン色発光素子１０Ｃに対応する位置には、いずれのフィルタも設けられていない開口４２Ａが形成されている。
そののち、保護層３０の上に、接着層（図示せず）を形成し、この接着層を間にして対向基板４０を貼り合わせる。以上により図１に示した表示装置１が完成する。
（１−３．全体構成）
図４は、図１に示した表示装置１の全体構成を表したものである。上記のように、駆動基板１１上には、赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂがそれぞれ設けられた複数の画素５がマトリクス状に配置された表示領域１１０が設けられており、その周縁に、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０等が設けられている。なお、青色画素５Ｂは、青色画素５ＢＢとシアン色画素５ＢＣとからなり、それぞれ独立して駆動されるものとする。
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図５は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、後述する画素電極１４の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。すなわち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された赤色発光素子１０Ｒ（または緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂ，シアン色発光素子１０Ｃ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、赤色発光素子１０Ｒ（赤色画素５Ｒ），緑色発光素子１０Ｇ（緑色画素５Ｇ），青色発光素子１０Ｂ（青色画素５ＢＢ）およびシアン色発光素子１０Ｃ（シアン色画素５ＢＣ）のいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
また、表示領域１１０には、赤色を表示する赤色発光素子１０Ｒと、緑色を表示する緑色発光素子１０Ｇと、シアン色を表示するシアン色発光素子１０Ｃと、青色を表示する青色発光素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に配置されている。なお、赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇおよびシアン色発光素子１０Ｃで表示される色は、それぞれ各発光層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢが発する光であり、青色発光素子１０Ｂにおいて表示される色（青色）は、発光層１６ＢＢにおいて発せられた光のうち、青色フィルタ４２Ｂを透過することによって選択的に波長域４００ｎｍ〜４７０ｎｍを有する光が取り出される。
この表示装置１では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、赤色発光素子１０Ｒ，緑色発光素子１０Ｇ，青色発光素子１０Ｂおよびシアン色発光素子１０Ｃに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には画素電極１４および駆動基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には対向電極１７，カラーフィルタ層４２および対向基板４０を透過して取り出される。
前述したように、赤，緑または青の色光を発する複数の発光素子によって構成された一般的な有機ＥＬ表示装置では、色度を重視して色域を深化させると、発光効率が低下する。特に、青色の色域を深化させた場合には、その影響は大きく、深化前の発光効率と同程度の輝度となるようにするには、消費電力が大幅に増大する。このように、色域の深化と、発光効率および消費電力とはトレードオフの関係にあった。
これに対して、本実施の形態では、色域を深化させたい色の副画素（色画素；例えば、ここでは青色画素５）に対応する位置に設けられた青色フィルタ４２Ｂの一領域に開口４２Ａを設ける。これにより、青色画素５Ｂにおいて発せられた光（青色光）は、青色フィルタ４２Ｂによって対応する波長域の光が選択的に外部に取り出されると共に、開口４２Ａから発光層光量が減ることなく外部に取り出される。よって、表示装置１は、光の取り出し効率が向上すると共に、３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）以外の色光を組み込むことが可能となる。
ここで、本実施の形態における表示装置１と、一般的な構成を有する有機ＥＬ表示装置とのＤＣＩ色域に対応した場合のパネル消費電力負担割合を比較する。ＤＣＩ色域とは、デジタルシネマ用に策定されている広色域な規格であり、従来のデジタルテレビ方向化機よりも広い色域を有しており、広色域対応のディスプレイで対応が進められている。ＤＣＩ色域に対応するパネル消費電流負担割合は、原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の各画素の色度がＤＣＩ色度点に対応するようにカラーフィルタを用いて調整したうえで、目的の色度点の色を表現する際に、各画素に分配された輝度を元に算出する。比較の際には、それぞれ、複数枚の写真ファイルを表示した場合の各電流割合を積算し、標準的な映像信号を表示するときの平均値を算出して行う。上記のような算出法を用いて各色画素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）におけるパネル消費電力負担割合を算出すると、一般的な有機ＥＬ表示装置では、赤色画素（Ｒ），緑色画素（Ｇ），青色画素（Ｂ）はそれぞれ３１％，２４％，４５％であるのに対して、本実施の形態の表示装置１では、それぞれ３８％，３０％，３２％（うち、青色画素５ＢＢ；５％，シアン色画素５ＢＣ２７％）となる。即ち、一般的な有機ＥＬ表示装置の消費電力と比較して、約２割の消費電力を削減することができることがわかる。
以上のように、本実施の形態の表示装置１では、例えば、青色画素５Ｂに対向する位置に設けられたカラーフィルタ層４２（青色フィルタ４２Ｂ）の一領域に開口４２Ａを設けるようにした。これにより、青色画素５Ｂでは、青色フィルタ４２Ｂが設けられている領域から本来の青色光を取り出しつつ、開口４２Ａから青色発光層１６ＢＢから発せられた光量を減らすことなく外部へ取り出すことができる。よって、光の取り出し効率が向上すると共に、３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）以外の色光を組み込むことが可能となる。即ち、消費電力を抑えつつ、色域の広い表示装置１およびこれを備えた電子機器を提供することが可能となる。
なお、上記実施の形態では、青色画素５Ｂ内におけるシアン色発光素子１０Ｃに対応する位置のカラーフィルタ層４２には開口４２Ａを設けるようにしたが、上記のように透明樹脂材料からなる透明樹脂層を設けてもよいし、あるいは、青色フィルタ４２Ｂよりも厚みを薄くした青色フィルタを設けるようにしてもよい。
また、本実施の形態では、第１画素に対応する画素として青色画素５Ｂを例に本発明を説明したが、これに限らず、赤色画素５Ｒあるいは緑色画素５Ｇに本発明の構造を適用してもよい。赤色画素５Ｒに適用する場合には、赤色発光層１６ＢＲは、例えば波長域が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍである橙色の発光光を発する材料を含むことが好ましい。具体的な材料としては、例えばりん光性発光材料であるイリジウム錯体材料が挙げられる。緑色画素５Ｇに適用する場合には、緑色発光層１６ＢＧは、例えば波長域が５２０ｎｍ〜６００ｎｍである黄緑色の発光光を発する材料を含むことが好ましい。具体的な材料としては、例えばりん光性発光材料であるイリジウム錯体材料が挙げられる。
以下に、第２の実施の形態および変形例について説明する。なお、第１の実施の形態と同一の構成要素については同一符号を付してその説明は省略する。
（２．第２の実施の形態）
図６は、本開示の第２の実施の形態に係る表示装置２の断面構成の一例を表したものである。この表示装置２は、第１の実施の形態と同様に、有機ＥＬテレビジョン装置等として用いられるものであり、例えば、駆動基板１１上には表示領域１１０が設けられている。表示領域１１０内には、例えば３つの色画素（副画素）から構成された複数の画素６がマトリクス状に配置されている。本実施の形態では、画素６は互いに配色が異なる２種類の画素（画素６Ｍ、画素６Ｎ）を有し、これら画素６Ｍおよび画素６Ｎは、表示領域１１０内にそれぞれ交互に配された、いわゆる市松状に配置されている。画素６Ｍおよび画素６Ｎにおける色画素の構成としては、画素６Ｍは、例えば、赤色画素６Ｒ，緑色画素６Ｇ，青色画素６Ｂから構成され、画素６Ｎは、例えば、赤色画素６Ｒ，黄色画素６Ｙ，青色画素６Ｂから構成されている。即ち、本実施の形態における表示装置２は、配色の異なる２種類の画素６Ｍおよび画素６Ｎを組み合わせることによって、１画素３副画素の構成で、通常、１画素４副画素の構成で実現される４色表示が可能となる。
表示装置２を構成する発光素子１０は、上記第１の実施の形態と同様に、画素電極１４と対向電極１７との間に有機層２６として、例えば、正孔供給層２６Ａ（正孔注入層２６Ａ１，正孔輸送層２６Ａ２），発光層２６Ｂおよび電子供給層２６Ｃ（電子注入層２６Ｃ２１，電子輸送層２６Ｃ１）が積層された構成を有する。
図７は、図１に示した表示装置２（表示装置２Ａ）を構成する画素６Ｍおよび画素６Ｎの各色画素６ＭＲ（＝６Ｍ１），６ＭＧ（＝６Ｍ２），６ＭＢ（＝６Ｍ３），６ＮＲ（＝６Ｎ１），６ＮＹ（＝６Ｎ２），６ＮＢ（＝６Ｎ３）における発光層２６Ｂ（Ａ），色領域（カラーフィルタ層）４２（Ｂ）および表示光（Ｃ）の構成を模式的に表したものである。
画素６Ｍおよび画素６Ｎの赤色発光層２６ＢＲおよび黄色発光層２６ＢＹは、上記表示装置１における赤色発光層１６ＢＲおよび緑色発光層１６ＢＧと同様に、それぞれ各色画素６ＭＲ，６ＭＧ，６ＮＲ，６ＮＹごとにそれぞれ独立して塗り分けられている。青色発光層２６ＢＢは、図１に示したように画素６Ｍ（色画素６ＭＲ，６ＭＧ，６ＭＢ）および画素６Ｎ（色画素６ＮＲ，６ＮＹ，６ＮＢ）における共通層として設けられている。
画素６Ｍおよび画素６Ｎのカラーフィルタ層４２は、各色画素６ＭＲ，６ＭＧ，６ＭＢ，６ＮＲ，６ＮＹ，６ＮＢに対応する色のカラーフィルタ４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂが設けられている。ここで、黄色画素６ＮＹに対応する位置のカラーフィルタ層４２には、表示装置１のように開口４２Ｈが設けられていてもよいし、図６等に示したように、光透過性を有する透明樹脂材料によって構成された透明樹脂層４２Ｎが設けられていてもよい。あるいは、黄色のカラーフィルタが設けられていてもよいが、その場合には、他のカラーフィルタよりも膜厚を薄くして他の色のカラーフィルタよりも光透過率を高めることが好ましい。
このような構成とすることにより、本実施の形態の表示装置２では、図７（Ｃ）に示したように、それぞれ３色画素からなる２つの画素６Ｍ，６Ｎによって、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）および黄色（Ｙ）の４色の発光光（表示光）が得られるようになる。
なお、本実施の形態における各色画素における発光層２６Ｂの構成およびカラーフィルタ層４２の構成は限定されず、例えば、以下のように構成としてもよい。
図８は、本実施の形態の表示装置２Ｂを構成する画素６Ｍおよび画素６Ｎの各色画素（６Ｍ１，６Ｍ２，６Ｍ３，６Ｎ１，６Ｎ２，６Ｎ３）における発光層２６Ｂ（Ａ），カラーフィルタ層４２（Ｂ）および表示光（Ｃ）の他の構成を模式的に表したものである。
画素６Ｍおよび画素６Ｎに設けられ発光層２６Ｂとしては、例えば図８（Ａ）に示したように、隣接する２つの色画素（例えば、色画素６Ｍ１，６Ｍ２および色画素６Ｎ１，６Ｎ２）に共通の黄色発光層２６ＢＹが、残り１つの画素（例えば、色画素６Ｍ３および色画素６Ｎ３）に青色発光層２６ＢＢが設けられている。なお、青色発光層２６ＢＢは、図６に示したように各画素を構成する色画素（６Ｍ１，６Ｍ２，６Ｍ３，６Ｎ１，６Ｎ２，６Ｎ３）の全てにおける共通層として設けてもよい。
画素６Ｍおよび画素６Ｎのカラーフィルタ層４２は、例えば、例えば図８（Ｂ）に示したように、色画素６Ｍ１には透明樹脂層４２Ｎを、色画素６Ｍ２には緑色フィルタ４２Ｇを、色画素６Ｍ３には青色フィルタ４２Ｂを、色画素６Ｎ１には赤色フィルタ４２Ｒを、色画素６Ｎ２には透明樹脂層４２Ｎを、色画素６Ｎ３には青色フィルタ４２Ｂが設けられている。
このような構成とすることにより、本実施の形態の表示装置２Ｂでは、図８（Ｃ）に示したように、色画素６Ｍ１では黄色光（Ｙ）が、色画素６Ｍ２では緑色光（Ｇ）が、色画素６Ｍ３では青色光（Ｂ）が、色画素６Ｎ１では赤色光（Ｒ）が、色画素６Ｎ２では黄色光（Ｙ）が、色画素６Ｎ３では青色光（Ｂ）が得られる。このように、２つの画素６Ｍ，６Ｎによって、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）および黄色（Ｙ）の４色の発光光（表示色）が得られるようになる。
また、本実施の形態では、画素６Ｍおよび画素６Ｎを構成する各色画素（６Ｍ１，６Ｍ２，６Ｍ３，６Ｎ１，６Ｎ２，６Ｎ３）に設けられる発光層２６Ｂおよびカラーフィルタ層４２の組み合わせを適宜選択することによって２画素４色の発光光だけでなく、２画素５色の発光光を得ることができる。以下のその一例を示す。
図９は、本実施の形態の表示装置２Ｃを構成する画素６Ｍおよび画素６Ｎの各色画素（６Ｍ１，６Ｍ２，６Ｍ３，６Ｎ１，６Ｎ２，６Ｎ３）における発光層２６Ｂ（Ａ），カラーフィルタ層４２（Ｂ）および表示光（Ｃ）の構成を模式的に表したものである。
画素６Ｍおよび画素６Ｎに設けられ発光層２６Ｂとしては、例えば図９（Ａ）に示したように、隣接する２つの色画素（例えば、色画素６Ｍ１，６Ｍ２および色画素６Ｎ１，６Ｎ２）に共通の黄色発光層２６ＢＹが、残り１つの画素（例えば、色画素６Ｍ３および色画素６Ｎ３）にシアン色発光層２６ＢＢが設けられている。なお、青色発光層２６ＢＢは、図６に示したように各画素を構成する色画素（６Ｍ１，６Ｍ２，６Ｍ３，６Ｎ１，６Ｎ２，６Ｎ３）の全てにおける共通層として設けてもよい。
画素６Ｍおよび画素６Ｎのカラーフィルタ層４２は、例えば図９（Ｂ）に示したように、色画素６Ｍ１には透明樹脂層４２Ｎを、色画素６Ｍ２には緑色フィルタ４２Ｇを、色画素６Ｍ３には青色フィルタ４２Ｂを、色画素６Ｎ１には赤色フィルタ４２Ｒを、色画素６Ｎ２および色画素６Ｎ３には透明樹脂層４２Ｎが設けられている。
このような構成とすることにより、本実施の形態の表示装置２Ｃでは、図９（Ｃ）に示したように、色画素６Ｍ１では黄色光（Ｙ）が、色画素６Ｍ２では緑色光（Ｇ）が、色画素６Ｍ３では青色光（Ｂ）が、色画素６Ｎ１では赤色光（Ｒ）が、色画素６Ｎ２では黄色光（Ｙ）が、色画素６Ｎ３ではシアン色光（Ｃ）が得られる。このように、２つの画素６Ｍ，６Ｎによって、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ），黄色（Ｙ）およびシアン（Ｃ）の５色の発光光（表示色）が得られるようになる。
有機ＥＬ表示装置では、輝度を向上させたり、消費電力を低減するために、赤色光（Ｒ），緑色光（Ｇ），青色光（Ｂ）のほかに、黄色光（Ｙ）やシアン色（Ｙ）を用いることが考えられている。一般的な有機ＥＬ表示装置では、上記のようにＲＧＢに、例えばＹを加える場合には、ＲＧＢＹの４画素駆動が考えられる。ここでいう画素とは、色画素のことである。このように４画素駆動とした場合には、色画素が画素毎に１つづつ増えるため、表示装置全体での画素数は増大し、製造工程が複雑化し結果的にコスト増加要因となるという問題があった。
これに対して、本実施の形態では、２つの画素（画素６Ｍおよび画素６Ｎ）において、各画素６Ｍ，画素６Ｎを構成する色画素６Ｍ１，６Ｍ２，６Ｍ３および色画素６Ｎ１，６Ｎ２，６Ｎ３に対応する位置にそれぞれ色画素単位で配色されたカラーフィルタ層４２の少なくとも１つの色画素同士においてその配色構造における光透過率が互いに異なるようにした。具体的には、例えば、色画素６Ｍ１，６Ｎ１には赤色フィルタ４２Ｒ、色画素６Ｍ３，６Ｎ３には青色フィルタ４２Ｂが設けられているのに対し、色画素６Ｍ２には緑色フィルタ４２Ｇが、色画素６Ｎ２には透明樹脂層４２Ｎからなる無色のカラーフィルタが設けられるようにする。これにより、それぞれ３つの色画素からなる２つの画素（画素６Ｍおよび画素６Ｎ）によって４色の色光を取り出すことが可能となり、３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）以外の色光を組み込むことができる。また、１つの色画素に無色のカラーフィルタ（例えば色画素６Ｎ２に透明樹脂層４２Ｎ）を設けることにより、対応する発光光から発せられた光量を減らすことなく、外部へ取り出すことが可能となる。
以上のように、本実施の形態における表示装置２では、２つの画素（画素６Ｍおよび画素６Ｎ）において、各画素６Ｍ，画素６Ｎを構成する色画素６Ｍ１，６Ｍ２，６Ｍ３および色画素６Ｎ１，６Ｎ２，６Ｎ３に対応する位置にそれぞれ色画素単位で配色されたカラーフィルタ層４２の少なくとも１つの色画素同士においてその配色構造における光透過率が互いに異なる、例えば一方のカラーフィルタが無色となる構成とした。これにより、外部への光取り出し効率が向上すると共に、３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）以外の色光を用いた表示が可能となる。よって、消費電力を抑えつつ、色域の広い表示装置およびこれを備えた電子機器を提供することが可能となる。
（３．変形例）
図１０は、上記第１の実施の形態および第２の実施の形態に示した表示装置１，２のように、複数の画素がマトリクス状に配置された表示装置３の平面の一部を模式的に表したものである。なお、各画素に設けられている発光素子は、上記実施の形態と同様に、各色の発光素子上には対応する色のカラーフィルタが設けられているものする。この表示装置３では、マトリクス状に配置された画素の一部、例えば、図１０に示したように行方向および列方向に３×３に配列された画素の１つ（画素Ｘ）にカラーフィルタを設けない、あるいはカラーフィルタの厚みが他の画素における厚みよりも薄くなるように設計されている。図１１は、表示装置における単位面積当たりの輝度を、横軸を彩度（Ｓ），縦軸を明度（Ｖ）として表したものである。一般的な表示装置（Ａ）と比較して、本変形例における表示装置３（Ｂ）では、単位面積当たりの輝度が向上することがわかる。
（適用例）
以下、上記第１，第２の実施の形態および変形例で説明した表示装置（表示装置１，２，３）の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラ等、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。特に、大型のディスプレイに対してより効果を奏する。以下にその一例を示す。
（適用例１）
図１２Ａおよび図１２Ｂは、適用例１に係るタブレットパーソナルコンピュータの外観を表したものである。このタブレットパーソナルコンピュータは、例えば、表示部６１０および操作部６３０が配置された筐体６２０を有しており、表示部６１０に上記実施の形態等の表示装置１，２，３が搭載されている。
（適用例２）
図１３は、適用例２に係るテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、映像表示画面３００が、上記実施の形態等の表示装置１，２，３に相当する。
（適用例３）
図１４Ａおよび図１４Ｂは、上記実施の形等の表示装置１，２，３が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記実施の形態等に係る表示装置１，２，３により構成されている。
（適用例４）
図１５は、上記実施の形態等の表示装置１，２，３が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記実施の形態等に係る表示装置１，２，３により構成されている。
（適用例５）
図１６は、上記実施の形態等の表示装置１，２，３が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記実施の形態等に係る表示装置１，２，３により構成されている。
以上、第１，第２の実施の形態および変形例を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態および変形例に限定されるものではなく、種々変形が可能である。
例えば、上記実施の形態等において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
また、上記第１の実施の形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂ以外の４色目の色としてシアン色（Ｃ）を用いた表示装置の例（表示装置１）を説明したが、例えば４色目の色として黄色（Ｙ）を用いてもよい。この場合には、各発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ，１０Ｙにおける各発光層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢ，１６ＢＹは各発光素子毎に塗り分けによって形成してもよいが、例えば、黄色発光層１６ＢＹを黄色発光素子１０Ｙと緑色発光素子１０Ｇの共通層として形成し、緑色発光素子１０Ｇにおける緑色光は緑色フィルタ４２Ｇによって取り出すようにしてもよい。あるいは、黄色発光層１６ＢＹを黄色発光素子１０Ｙ，赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇの共通層として形成し、赤色発光素子１０Ｒおよび緑色発光素子１０Ｇにおける赤色光および緑色光は、それぞれ赤色フィルタ４２Ｒおよび緑色フィルタ４２Ｇによって取り出すようにしてもよい。このような構成とすることにより、有機層１６の製造工程における印刷回数を削減することが可能となり、製造コストを低減することができる。
更に、上記実施の形態等では、発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。
更にまた、上記実施の形態等では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本開示はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。
また、上記第１の実施の形態では、正孔注入層１６Ａ１、正孔輸送層１６Ａ２および赤色発光層１６ＢＲ、緑色発光層１６ＢＧを、塗布法のうちノズルコート方式を用いて形成するとしたが、これに限らず、スピンコート方式、インクジェット方式、スリットコート方式を用いてもよい。更に、例えばマイクロシリンジ等の各画素もしくは各画素間上を直接描画する吐出方式や凸版印刷，フレキソ印刷，オフセット印刷およびグラビア印刷に代表される版を用いた版方式を用いて形成してもよい。
なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。
なお、本技術は以下のような構成をとることも可能である。
（１）発光層をそれぞれ有する第１画素および第２画素と、前記第１画素および前記第２画素に対向配置されたカラーフィルタ層とを備え、前記カラーフィルタ層は、少なくとも前記第１画素に対向する位置に、光透過率が異なる複数の領域を有する表示装置。
（２）前記透過率の異なる複数の領域は、第１領域と、前記第１領域よりも透過率の低い第２領域とからなる、前記（１）に記載の表示装置。
（３）前記第１領域は、光透過性を有する透明樹脂材層を含んで構成されている、前記（２）に記載の表示装置。
（４）前記カラーフィルタ層における前記第１領域には開口が形成されている、前記（２）または（３）に記載の表示装置。
（５）前記第１領域に設けられたカラーフィルタ層の膜厚は、前記第２領域の膜厚よりも薄い、前記（２）乃至（４）のいずれか1つに記載の表示装置。
（６）前記第１画素は前記発光層としては第１発光層を、前記第２画素は前記発光層として第２発光層有し、前記第１発光層は、前記第１画素および前記第２画素の共通層として連続して設けられている、前記（１）乃至（５）のいずれか1つに記載の表示装置。
（７）前記第１画素は青色画素である、前記（１）乃至（６）のいずれか1つに記載の表示装置。
（８）複数の副画素をそれぞれ有する第１画素および第２画素と、前記第１画素および前記第２画素に対向配置され、前記副画素単位で配色された複数の色領域を有するカラーフィルタ層とを備え、前記第１画素に対向する前記色領域同士での配色構造の光透過率が、前記第２画素に対向する前記色領域同士での配色構造と、少なくとも１つの前記副画素同士において互いに異なっている表示装置。
（９）前記第１画素および前記第２画素を構成する副画素は、それぞれ赤色発光層、黄色発光層および青色発光層を有する、前記（８）に記載の表示装置。
（１０）前記第１画素および前記第２画素を構成する副画素は、それぞれ黄色発光層および青色発光層を有する、前記（８）または（９）に記載の表示装置。
（１１）前記第１画素および前記第２画素を構成する副画素は、それぞれ黄色発光層およびシアン色発光層を有する、前記（８）乃至（１０）のいずれか1つに記載の表示装置。
（１２）前記第１画素における前記色領域は赤色，緑色および青色からなり、前記第２画素における前記色領域は赤色，無色および青色からなる、前記（９）乃至（１１）のいずれか1つに記載の表示装置。
（１３）前記第１画素における前記色領域は透明，緑色および青色からなり、前記第２画素における前記色領域は赤色，無色および青色からなる、前記（１０）乃至（１２）のいずれか1つに記載の表示装置。
（１４）前記第１画素における前記色領域は、無色，緑色および青色からなり、前記第２画素における前記色領域は赤色および無色からなる、前記（１１）乃至（１３）のいずれか1つに記載の表示装置。
（１５）無色の前記色領域は光透過性を有する透明樹脂層を含んで構成されている、前記（１２）乃至（１４）のいずれか1つに記載の表示装置。
（１６）無色の前記色領域には開口が構成されている、前記（１２）乃至（１５）のいずれか1つに記載の表示装置。
（１７）表示装置を備え、前記表示装置は、発光層をそれぞれ有する第１画素および第２画素と、前記第２画素および前記第２画素に対向配置されたカラーフィルタ層とを備え、前記カラーフィルタ層は、少なくとも前記第１画素に対向する位置に、光透過率が異なる複数の領域を有する電子機器。
（１８）表示装置を備え、前記表示装置は、複数の副画素をそれぞれ有する第１画素および第２画素と、前記第１画素および前記第２画素に対向配置され、前記副画素単位で配色された複数の色領域を有するカラーフィルタ層とを備え、前記第１画素に対向する前記色領域同士での配色構造の光透過率が、前記第２画素に対向する前記色領域同士での配色構造と、少なくとも１つの前記副画素同士において互いに異なっている電子機器。
本出願は、日本国特許庁において２０１４年１０月１日に出願された日本特許出願番号２０１４−２０３１３６号を基礎として優先権を主張するものであり、この出願の全ての内容を参照によって本出願に援用する。
当業者であれば、設計上の要件や他の要因に応じて、種々の修正、コンビネーション、サブコンビネーション、および変更を想到し得るが、それらは添付の請求の範囲やその均等物の範囲に含まれるものであることが理解される。

Claims (8)

  1. 第１発光層を有すると共に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のいずれかに対応する第１画素と、
    第２発光層を有すると共に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のうちの前記第１画素とは異なる色に対応する第２画素と、
    前記第１画素および前記第２画素に対向配置され、前記第１画素に対して光透過率が互いに異なる第１領域および第２領域の２領域を有すると共に、前記第２画素に対しては１領域からなるカラーフィルタ層と
    を備え、
    前記第１画素は、前記カラーフィルタ層の前記第１領域および前記第２領域にそれぞれ対応する２つの副画素を有し、
    前記第１領域は前記第２領域よりも光透過率が高く、
    前記第２領域は、前記第１領域に隣接すると共に、前記第１画素に対応する赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のいずれかの波長域の光を選択的に透過する
    表示装置。
  2. 前記第１領域は、光透過性を有する透明樹脂材層を含んで構成されている、請求項１に記載の表示装置。
  3. 前記カラーフィルタ層における前記第１領域には開口が形成されている、請求項１に記載の表示装置。
  4. 前記第１領域に設けられた前記カラーフィルタ層の膜厚は、前記第２領域の膜厚よりも薄い、請求項１または２に記載の表示装置。
  5. 前記第１発光層は、前記第１画素および前記第２画素の共通層として連続して設けられている、請求項１乃至４のいずれか１つに記載の表示装置。
  6. 並列配置された赤色画素、緑色画素および青色画素を有し、
    前記第１画素は前記青色画素に対応し、前記第２画素は前記赤色画素および前記緑色画素の少なくとも一方に対応する、請求項１乃至５のいずれか１つに記載の表示装置。
  7. 前記隣接する２つの副画素の間にブラックマトリクスをさらに有し、
    前記第１領域および前記第２領域は、前記ブラックマトリクス上に境界を有する、請求項１乃至６のいずれか１つに記載の表示装置。
  8. 表示装置を備え、
    前記表示装置は、
    第１発光層を有すると共に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のいずれかに対応する第１画素と、
    第２発光層を有すると共に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のうちの前記第１画素とは異なる色に対応する第２画素と、
    前記第１画素および前記第２画素に対向配置され、前記第１画素に対して光透過率が互いに異なる第１領域および第２領域の２領域を有すると共に、前記第２画素に対しては１領域からなるカラーフィルタ層と
    を備え、
    前記第１画素は、前記カラーフィルタ層の前記第１領域および前記第２領域にそれぞれ対応する２つの副画素を有し、
    前記第１領域は前記第２領域よりも光透過率が高く、
    前記第２領域は、前記第１領域に隣接すると共に、前記第１画素に対応する赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｒ）のいずれかの波長域の光を選択的に透過する
    電子機器。
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