JP2014049179A - 有機ｅｌ装置、有機ｅｌ装置の製造方法、電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】所望の色の画素を選択的または支配的に発光させ、発光色が変化し難い有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置の製造方法、該有機ＥＬ装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１００は、異なる色が発せられるべきサブ画素１０Ｒ及びサブ画素１０Ｂを備え、サブ画素１０Ｒは、陽極３Ｒと共通陰極８との間に液相プロセスで形成され、第１の色を発光する機能を有する第１発光層としての赤色発光層５Ｒと、赤色発光層５Ｒと共通陰極８との間に気相プロセスで形成され、第２の色を発光する機能を有する第２発光層としての青色発光層５Ｂとを有し、サブ画素１０Ｂは、陽極３Ｂと共通陰極８との間に青色発光層５Ｂを有し、赤色発光層５Ｒと青色発光層５Ｂとの間に形成され、電子注入材料を含む中間層４４と、中間層４４を挟んで、上記電子注入材料の拡散を抑制する第１拡散抑制層４３と第２拡散抑制層４５と、を備えた。
【選択図】図３

Description

本発明は、画素に有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を備えた有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置の製造方法、有機ＥＬ装置を備えた電子機器に関する。

上記有機ＥＬ装置として、各色に発光する有機ＥＬ素子が備える赤色発光層と緑色発光層とが塗布法で形成され、青色発光層が蒸着法で形成された表示装置が提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２）。
このように、発光層の形成において塗布法と蒸着法とを併用する考え方は、有機ＥＬ素子の発光寿命（輝度寿命）や発光効率（電流効率または外部量子効率）において、塗布法で形成された赤色発光層や緑色発光層を備える有機ＥＬ素子は実用レベルに達しているものの、塗布法で形成された青色発光層を備える有機ＥＬ素子を実用レベルにすることが難しく、蒸着法で形成された青色発光層を備える有機ＥＬ素子が実用レベルに達していることが多いという技術的な背景がある。

上記特許文献１及び特許文献２の表示装置において、赤色に発光する有機ＥＬ素子と緑色に発光する有機ＥＬ素子とでは、塗布法で形成された赤色発光層及び緑色発光層に蒸着法で形成された青色発光層が積層形成されている。そのため、該表示装置の製造方法は、蒸着用マスクを用いて、青色の有機ＥＬ素子（青色画素）のみに選択的に青色発光層を成膜する必要がないことから、大型の表示装置の製造に適している。

特開２００７−７３５３２号公報 特開２０１１−１０８４６２号公報

しかしながら、上記特許文献１及び特許文献２の表示装置において、赤色発光層と緑色発光層とにそれぞれ青色発光層が接して形成されていることから、陰極側に位置する青色発光層から電子が赤色発光層と緑色発光層とに十分に注入されないおそれがあった。そのため、赤色の有機ＥＬ素子（赤色画素）と緑色の有機ＥＬ素子（緑色画素）において、キャリア（正孔と電子）の注入におけるバランスが崩れて意図しない青色発光層が発光し、赤色画素と、緑色画素における発光の色純度が低下することがあった。
すなわち、所望の色の画素を選択的または支配的に発光させることができないという課題があった。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例に係る有機ＥＬ装置は、互いに異なる色が発せられるべき第１サブピクセル及び第２サブピクセルと、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルとに亘って形成された共通陰極と、前記第１サブピクセルは、第１陽極と、前記第１陽極と前記共通陰極との間に液相プロセスで形成され、第１の色を発光する機能を有する第１発光層と、前記第１発光層と前記共通陰極との間に気相プロセスで形成され、第２の色を発光する機能を有する第２発光層とを備え、前記第２サブピクセルは、第２陽極と、前記第２陽極と前記共通陰極との間に気相プロセスで形成された前記第２発光層とを備え、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルとに亘り、前記第１発光層と前記第２発光層との間及び前記第２陽極と前記第２発光層との間に形成され、電子注入材料を含む中間層と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルとに亘り、前記中間層と前記第１発光層との間及び前記中間層と前記第２発光層との間のうち少なくとも一方の間に形成され、前記電子注入材料の拡散を抑制する拡散抑制層と、を備えたことを特徴とする。

本適用例の構成によれば、中間層が電子注入材料を含んでいるので、第１サブピクセルでは、第２発光層を有していても第１発光層に十分に電子を注入することができる。したがって、第１サブピクセルにおいて第２発光層が発光することを抑制し、第１発光層からの第１の色の発光に第２発光層からの第２の色の発光が混ざる混色を抑制することができる。加えて、拡散抑制層により中間層に含まれる電子注入材料が第１発光層側あるいは第２発光層側に拡散することが抑制される。つまり、中間層の機能が失われ難く、第１発光層を選択的または支配的に発光させることが可能な状態を持続することができ、長い発光寿命を有する有機ＥＬ装置を提供することができる。

［適用例２］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、前記中間層は気相プロセスで形成され、前記拡散抑制層は液相プロセスで形成されていることが好ましい。
これによれば、中間層を気相プロセスで形成することにより、中間層を液相プロセスで形成する場合と比べて、中間層の形成過程で含まれている電子注入材料が他の層へ拡散し難い。一方で拡散抑制層は液相プロセスで形成することにより、中間層の電子注入材料の拡散をより確実に抑制することができる。

［適用例３］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、前記中間層の前記電子注入材料が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物であることを特徴とする。
この構成によれば、中間層による第１発光層への優れた電子注入性を確保できる。

［適用例４］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、前記拡散抑制層が正孔輸送性を有する高分子有機材料を含むことを特徴とする。
この構成によれば、電子注入材料が他の層へ拡散することを効果的に抑制することができる。

［適用例５］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、第３サブピクセルをさらに有し、前記第３サブピクセルは、第３陽極と、前記第３陽極と前記共通陰極との間に液相プロセスで形成され、第３の色を発光する機能を有する第３発光層とを備え、前記中間層は前記第３発光層と前記共通陰極との間に形成され、前記拡散抑制層は、前記中間層に対して前記第３陽極側と前記共通陰極側とのうち少なくとも一方側に形成されていることが好ましい。
この構成によれば、第１サブピクセルの第１発光層に加えて、第３サブピクセルの第３発光層に対しても十分に電子を注入して、第３発光層を選択的または支配的に発光させることができる。

［適用例６］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、前記第１サブピクセルの前記第１陽極と前記第１発光層との間、及び前記第３サブピクセルの前記第３陽極と前記第３発光層との間に、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層を有し、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記中間層と前記第２発光層との間に、前記第２発光層に接して気相プロセスで形成された第２正孔輸送層を備えることが好ましい。
この構成によれば、第１陽極や第３陽極に対して液相プロセスで形成された第１発光層側や第３発光層側に同じく塗布で形成された第１正孔輸送層が存在し、中間層に対して気相プロセスで形成された第２発光層側に同じく気相プロセスで形成された第２正孔輸送層が存在する。したがって、第１正孔輸送層と第１発光層及び第３発光層との間での正孔輸送性及び第２正孔輸送層と第２発光層との間での正孔輸送性を高めることができる。つまり、第１発光層、第２発光層、第３発光層のそれぞれにおける発光効率を高めることができる。

［適用例７］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、前記第１の色が赤色であり、前記第２の色が青色であり、前記第３の色が緑色であることを特徴とする。
この構成によれば、長い発光寿命を有すると共に、フルカラー表示が可能な有機ＥＬ装置を提供することができる。

［適用例８］本適用例に係る有機ＥＬ装置の製造方法は、互いに異なる色の光が発せられるべき第１サブピクセルと第２サブピクセルと第３サブピクセルとを備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記第１サブピクセルの第１陽極上と前記第３サブピクセルの第３陽極上とに、第１正孔輸送層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第１の色を発光する機能を有する第１発光層を液相プロセスで形成する工程と、前記第３サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第３の色を発光する機能を有する第３発光層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第１発光層上及び前記第３発光層上並びに前記第２サブピクセルの第２陽極上に、電子注入材料の拡散を抑制する拡散抑制層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記拡散抑制層上に、前記電子注入材料を含む中間層を気相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記中間層上に、第２正孔輸送層を気相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第２正孔輸送層上に、第２の色を発光する機能を有する第２発光層を気相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、共通陰極を形成する工程と、を備えることを特徴とする。

本適用例によれば、第１発光層及び第３発光層と第２発光層との間に、電子注入材料を含む中間層が気相プロセスで形成されるので、第１発光層及び第３発光層に電子が十分に注入され、第１発光層及び第３発光層をそれぞれ選択的または支配的に発光させることができる。加えて、第１発光層及び第３発光層と中間層との間に拡散抑制層が液相プロセスで形成されるので、電子注入材料が第１発光層及び第３発光層に拡散することに起因する中間層の機能の低下が抑制される。したがって、第１サブピクセルにおける第１発光層の第１の色の発光に第２発光層の第２の色の発光が混ざる混色や、第３サブピクセルにおける第３発光層の第３の色の発光に第２発光層の第２の色の発光が混ざる混色が抑制される。ゆえに、第１発光層や第３発光層を選択的または支配的に発光させることができると共に、長い発光寿命と優れた表示品質を有する有機ＥＬ装置を製造することができる。

［適用例９］本適用例に係る有機ＥＬ装置の製造方法は、互いに異なる色の光が発せられるべき第１サブピクセルと第２サブピクセルと第３サブピクセルとを備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記第１サブピクセルの第１陽極上と前記第３サブピクセルの第３陽極上とに、第１正孔輸送層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第１の色を発光する機能を有する第１発光層を液相プロセスで形成する工程と、前記第３サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第３の色を発光する機能を有する第３発光層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第１発光層上及び前記第３発光層上並びに前記第２サブピクセルの第２陽極上に、電子注入材料を含む中間層を気相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記中間層上に、前記電子注入材料の拡散を抑制する拡散抑制層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記拡散抑制層上に、第２正孔輸送層を気相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第２正孔輸送層上に、第２の色を発光する機能を有する第２発光層を気相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、共通陰極を形成する工程と、を備えることを特徴とする。

本適用例によれば、第１発光層及び第３発光層と第２発光層との間に、電子注入材料を含む中間層が気相プロセスで形成されるので、第１発光層及び第３発光層に電子が十分に注入され、第１発光層及び第３発光層をそれぞれ選択的または支配的に発光させることができる。加えて、中間層と第２発光層との間に拡散抑制層が液相プロセスで形成されるので、電子注入材料が第２発光層に拡散することに起因する中間層の機能の低下が抑制される。したがって、第１サブピクセルにおける第１発光層の第１の色の発光に第２発光層の第２の色の発光が混ざる混色や、第３サブピクセルにおける第３発光層の第３の色の発光に第２発光層の第２の色の発光が混ざる混色が抑制される。ゆえに、第１発光層や第３発光層を選択的または支配的に発光させることができると共に、長い発光寿命と優れた表示品質とを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。

［適用例１０］本適用例に係る有機ＥＬ装置の製造方法は、互いに異なる色の光が発せられるべき第１サブピクセルと第２サブピクセルと第３サブピクセルとを備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記第１サブピクセルの第１陽極上と前記第３サブピクセルの第３陽極上とに、第１正孔輸送層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第１の色を発光する機能を有する第１発光層を液相プロセスで形成する工程と、前記第３サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第３の色を発光する機能を有する第３発光層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第１発光層上及び前記第３発光層上並びに前記第２サブピクセルの第２陽極上に、電子注入材料の拡散を抑制する第１拡散抑制層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第１拡散抑制層上に、前記電子注入材料を含む中間層を気相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記中間層上に、前記電子注入材料の拡散を抑制する第２拡散抑制層を液相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第２拡散抑制層上に、第２正孔輸送層を気相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第２正孔輸送層上に、第２の色を発光する機能を有する第２発光層を気相プロセスで形成する工程と、前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、共通陰極を形成する工程と、を備えることを特徴とする。

本適用例によれば、第１発光層及び第３発光層と第２発光層との間に、電子注入材料を含む中間層が気相プロセスで形成されるので、第１発光層及び第３発光層に電子が十分に注入され、第１発光層及び第３発光層をそれぞれ選択的または支配的に発光させることができる。加えて、第１発光層及び第３発光層と中間層との間には第１拡散抑制層が液相プロセスで形成され、中間層と第２発光層との間に第２拡散抑制層が液相プロセスで形成されるので、電子注入材料が第１発光層、第２発光層、第３発光層に拡散することに起因する中間層の機能の低下が抑制される。したがって、第１サブピクセルにおける第１発光層の第１の色の発光に第２発光層の第２の色の発光が混ざる混色や、第３サブピクセルにおける第３発光層の第３の色の発光に第２発光層の第２の色の発光が混ざる混色が抑制される。ゆえに、第１発光層や第３発光層を選択的または支配的に発光させることができると共に、より長い発光寿命と優れた表示品質とを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。

［適用例１１］上記適用例に係る有機ＥＬ装置の製造方法において、前記中間層の前記電子注入材料が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物であることを特徴とする。
この方法によれば、中間層による第１発光層や第３発光層への優れた電子注入性を実現した有機ＥＬ装置を製造することができる。

［適用例１２］上記適用例に係る有機ＥＬ装置の製造方法において、正孔輸送性を有する高分子有機材料を用いて前記拡散抑制層または前記第１拡散抑制層あるいは前記第２拡散抑制層を形成することを特徴とする。
この方法によれば、電子注入材料が他の層へ拡散することを効果的に抑制可能な拡散抑制層を備えた有機ＥＬ装置を製造することができる。

［適用例１３］上記適用例に係る有機ＥＬ装置の製造方法において、前記第１の色が赤色であり、前記第２の色が青色であり、前記第３の色が緑色であることを特徴とする。
この方法によれば、長い発光寿命を有すると共に、フルカラー表示が可能な有機ＥＬ装置を製造することができる。

［適用例１４］本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、長い発光寿命と優れた表示品質とを兼ね備えた電子機器を提供することができる。

第１実施形態の有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図。 第１実施形態の有機ＥＬ装置の構造を示す概略断面図。 第１実施形態の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図。 第２実施形態の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図。 第３実施形態の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図。 比較例１の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図。 比較例２の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図。 実施例１〜実施例３、比較例１及び比較例２の発光効率、発光寿命、色の変化を評価した結果を示す表。 電子機器の一例としてのモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピューターを示す斜視図。 電子機器の一例としての携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図。 電子機器の一例としてのディジタルスチルカメラを示す斜視図。

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。

なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。

（第１実施形態）
＜有機ＥＬ装置＞
本実施形態の有機ＥＬ装置について、図１〜図３を参照して説明する。図１は第１実施形態の有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図、図２は第１実施形態の有機ＥＬ装置の構造を示す概略断面図、図３は第１実施形態の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図である。

図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の発光（発光色）が得られるサブ画素（サブピクセル）１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを有している。各サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは略矩形状であり、表示領域Ｅにおいてマトリックス状に配置されている。同色の発光が得られるサブ画素（サブピクセル）が図面上において垂直方向（列方向あるいは発光画素の長手方向）に配列し、異なる発光色のサブ画素が図面上において水平方向（行方向あるいは発光画素の短手方向）にＲ，Ｇ，Ｂの順で配列している。すなわち、異なる発光色のサブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが所謂ストライプ方式で配置されている。なお、異なる発光色のサブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの平面形状と配置は、これに限定されるものではない。

このような有機ＥＬ装置１００を表示装置として用いるならば、異なる発光色が得られる３つのサブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを１つの表示画素単位として、それぞれのサブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは電気的に制御される。これによりフルカラー表示が可能となる。

図２に示すように、有機ＥＬ装置１００は、基板２１と、基板２１上において、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対応して設けられた複数の発光素子としての有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂと、各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂをそれぞれ駆動するための複数の駆動用トランジスター２４とを有している。
なお、本実施形態において、有機ＥＬ装置１００は、各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂからの光Ｒ，Ｇ，Ｂを基板２１側から射出させるボトムエミッション構造のディスプレイパネルである。

基板２１上には、複数の駆動用トランジスター２４が設けられ、これらの駆動用トランジスター２４を覆うように、絶縁材料で構成された平坦化層２２が形成されている。
各駆動用トランジスター２４は、シリコン等の半導体材料からなる半導体層２４１と、半導体層２４１上に形成されたゲート絶縁層２４２と、ゲート絶縁層２４２上に形成されたゲート電極２４３と、ソース電極２４４と、ドレイン電極２４５とを有している。
また、平坦化層２２上には、各駆動用トランジスター２４に対応して、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂが設けられている。

有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂは、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、共通陰極８と、これらの電極の間に、異なる色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の発光が得られる発光層５Ｒ，５Ｇ，５Ｂを有している。以降、それぞれの発光色に対応させて、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ、青色発光層５Ｂと呼ぶ。

本実施形態では、陽極３Ｒが第１陽極に相当し、陽極３Ｂが第２陽極に相当し、陽極３Ｇが第３陽極に相当する。また、赤色発光層５Ｒが第１発光層に相当し、緑色発光層５Ｇが第３発光層に相当する。赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇは、例えばインクジェット法などの液相プロセス（塗布法）を用いて形成されている。青色発光層５Ｂが第２発光層に相当し、例えば真空蒸着法などの気相プロセスを用いて、３つの有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ（サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）に亘って形成されている。具体的には、有機ＥＬ素子１Ｒでは、赤色発光層５Ｒと共通陰極８との間に青色発光層５Ｂが形成されている。有機ＥＬ素子１Ｇでは、緑色発光層５Ｇと共通陰極８との間に青色発光層５Ｂが形成されている。有機ＥＬ素子１Ｂでは、陽極３Ｂと共通陰極８との間に青色発光層５Ｂが形成されている。

また、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂは、それぞれの陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと青色発光層５Ｂとの間にキャリア選択層４６を有している。キャリア選択層４６とは、キャリア選択層４６が陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ側において接する機能層の機能によってキャリア（電子や正孔を指す）の流れが選択される機能を有する層である。詳しくは後述するが、キャリア選択層４６は、電子注入材料を含む中間層と、中間層に接して形成され、中間層に含まれる上記電子注入材料が他の機能層に拡散することを抑制する拡散抑制層とを含むものである。

有機ＥＬ素子１Ｒにおいては、赤色発光層５Ｒと青色発光層５Ｂとの間にキャリア選択層４６が設けられている。有機ＥＬ素子１Ｇにおいては、緑色発光層５Ｇと青色発光層５Ｂとの間にキャリア選択層４６が設けられている。また、有機ＥＬ素子１Ｂにおいては、正孔注入層４１Ｂと青色発光層５Ｂとの間にキャリア選択層４６が設けられている。
なお、後述する第２実施形態、第３実施形態と区別するため、以降、第１実施形態のキャリア選択層４６を「キャリア選択層４６Ａ」として説明する。

本実施形態では、これらの有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ上を覆うように、エポキシ樹脂で構成された接着層３５が形成されている。そして、接着層３５を介して封止基板２０が設けられている。これにより、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの気密性が確保され、酸素や水分の浸入を防止できることから、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの信頼性の向上を図ることができる。なお、さらに酸素や水分の浸入を確実に防止するために、接着層３５を形成する前に、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂを覆って、例えば無機材料を用いた封止層を形成してもよい。

次に、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂのより具体的な構成について図３を参照して説明する。図３に示すように、有機ＥＬ素子１Ｒは、平坦化層２２上に、陽極３Ｒと、正孔注入層４１（４１Ｒ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｒ）と、第１発光層としての赤色発光層５Ｒと、キャリア選択層４６Ａと、第２正孔輸送層４７と、第２発光層としての青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。

また、有機ＥＬ素子１Ｇは、平坦化層２２上に、陽極３Ｇと、正孔注入層４１（４１Ｇ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｇ）と、第３発光層としての緑色発光層５Ｇと、キャリア選択層４６Ａと、第２正孔輸送層４７と、第２発光層としての青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。

さらに、有機ＥＬ素子１Ｂは、平坦化層２２上に、陽極３Ｂと、正孔注入層４１（４１Ｂ）と、キャリア選択層４６Ａと、第２正孔輸送層４７と、第２発光層としての青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
係る構成の有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの隣接するもの同士の間には、隔壁３１（図２参照）が設けられ、これにより有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂが個別に区分されている。

有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂに共通するキャリア選択層４６Ａは、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ側から順に積層された、第１拡散抑制層４３、中間層４４、第２拡散抑制層４５により構成されている。第１拡散抑制層４３及び第２拡散抑制層４５は、前述したように中間層４４に含まれる電子注入材料が他の機能層に拡散して、中間層４４の機能が低下することを抑制するために設けられている。

本実施形態では、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂにおいて、各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ、各正孔注入層４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ、各第１正孔輸送層４２Ｒ，４２Ｇ及び各発光層５Ｒ、５Ｇが、隔壁３１で区画されることにより個別に設けられ、第１拡散抑制層４３、中間層４４、第２拡散抑制層４５、第２正孔輸送層４７、青色発光層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３、及び共通陰極８が、一体的に設けられている。係る構成とすることで、各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、画素電極（個別電極）を構成し、さらに、各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの共通陰極８は、共通電極を構成する。また、各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、各駆動用トランジスター２４のドレイン電極２４５に導電部（配線）２７により電気的に接続されている（図２参照）。

以上説明したような有機ＥＬ装置１００は、各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂを選択的に発光させることで単色表示が可能であり、各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂを組み合わせて発光させることでフルカラー表示も可能となる。

以下、各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂについて、順次説明する。
（有機ＥＬ素子１Ｒ）
有機ＥＬ素子１Ｒは、正孔注入層４１Ｒと、第１正孔輸送層４２Ｒと、赤色（Ｒ）の発光が得られる赤色発光層５Ｒと、キャリア選択層４６Ａと、第２正孔輸送層４７と、青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３とが、陽極３Ｒ側からこの順に積層された積層体が、陽極３Ｒと共通陰極８との間に介挿されてなるものである。
陽極３Ｒ及び共通陰極８は、それぞれ、個別電極及び共通電極を構成し、陽極３Ｒは正孔注入層４１Ｒに正孔を注入する電極として機能し、共通陰極８は電子注入層６３に電子を注入する電極として機能する。
以下、有機ＥＬ素子１Ｒを構成する各部について順次説明する。

［陽極３Ｒ］
陽極３Ｒは、正孔注入層４１（４１Ｒ）に正孔を注入する電極である。
この陽極３Ｒの構成材料としては、特に限定されないが、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料が好適に用いられる。
陽極３Ｒの構成材料としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、フッ素添加ＳｎＯ₂、Ｓｂ添加ＳｎＯ₂、ＺｎＯ、Ａｌ添加ＺｎＯ、Ｇａ添加ＺｎＯ等の金属酸化物、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
このような陽極３Ｒの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、有機ＥＬ装置１００を、ボトムエミッション構造のディスプレイパネルとする場合、陽極３Ｒには光透過性が求められるため、上述した構成材料のうち、光透過性を有する金属酸化物が好適に用いられる。

［正孔注入層４１］
正孔注入層４１（４１Ｒ）は、陽極３Ｒからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。
この正孔注入層４１（４１Ｒ）の構成材料（正孔注入材料）としては、特に限定されないが、後述する、正孔注入層４１（４１Ｒ）の形成工程において、液相プロセスを用いて形成し得るように、導電性高分子材料（または導電性オリゴマー材料）に電子受容性ドーパントを添加したイオン伝導性正孔注入材料が好適に用いられる。
このようなイオン伝導性正孔注入材料としては、例えば、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いることができる。また、これらの物質をエチレングリコールやジエチレングリコールなどのグリコール系溶媒に溶解させた溶液として用いる。好適例としては、エーテル系溶媒にＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを溶解させたものが挙げられる。
また、正孔注入材料として、銅フタロシアニン（ＴＡＰＣ）、１，１−ビス［４−（ジ−ｐ−トリル）アミニフェニル］シクロヘキサン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−メチルフェニル）−１，１’ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（１−ナフチル）−１，１’ビフェニル−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤ）、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ、４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）、４，４’，４”−トリス（Ｎ，Ｎ−（２−ナフチル）フェニルアミノ）トリフェニルアミン（ＴＣＴＡ）、トリス−（４−カルバゾール−９−イル−フェニル）−アミン（スピローＴＡＤ）、ＤＰＰＤ（ＤＴＰ）、ＨＴＭ１、トリス−ｐ−トリルアミン（ＨＴＭ２）、１，１−ビス［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＴＰＴ１）、１，３，５−トリス（４−ピリジル）−２，４，６−トリアジン（ＴＰＴＥ）、トリフェニルアミン−テトラマーなども用いることができる。

このような正孔注入層４１（４１Ｒ）の平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、正孔注入層４１Ｒは、有機ＥＬ素子１Ｒを構成する、陽極３Ｒ、第１正孔輸送層４２Ｒ及び赤色発光層５Ｒの構成材料の種類及びその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。

［第１正孔輸送層４２］
第１正孔輸送層４２（４２Ｒ）は、正孔注入層４１（４１Ｒ）から注入された正孔を赤色発光層５Ｒまで輸送する機能を有する。また、第１正孔輸送層４２は、赤色発光層５Ｒから第１正孔輸送層４２へ通過しようとする電子をブロックする機能を有する場合もある。
この第１正孔輸送層４２の構成材料としては、特に限定されないが、後述する、第１正孔輸送層４２の形成工程において、液相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、下記化学式（１）で表わされるトリフェニルアミン系ポリマー等のアミン系化合物が好適に用いられる。

この他にも、正孔輸送材料として、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニルビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）を含むポリシラン系などの高分子有機材料を用いることができる。

このような第１正孔輸送層４２の平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、第１正孔輸送層４２は、有機ＥＬ素子１Ｒを構成する、陽極３Ｒ、正孔注入層４１、赤色発光層５Ｒ、第１拡散抑制層４３、中間層４４、第２拡散抑制層４５、第２正孔輸送層４７、青色発光層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３、及び共通陰極８の構成材料の種類及びその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。

［赤色発光層５Ｒ］
赤色発光層５Ｒは、赤色に発光する赤色発光材料を含んで構成される。
有機ＥＬ素子１Ｒでは、この赤色発光層５Ｒが、陽極３Ｒとキャリア選択層４６Ａとの間に設けられた第１発光層を構成し、この赤色発光層５Ｒが有機ＥＬ素子１Ｒにおける第１の色（赤色）を発光する機能を有する。
このような赤色発光層５Ｒの構成材料は、特に限定されないが、後述する、赤色発光層５Ｒの形成工程において、液相プロセス（塗布法）を用いて形成し得るように、溶液化または分散液化できることが望ましい。そこで、赤色発光層５Ｒの構成材料としては、溶媒または分散媒に、溶解または分散することができる、高分子赤色発光材料及び低分子赤色発光材料が好適に用いられ、例えば、下記化学式（２）及び下記化学式（３）で表わされるフルオレン誘導体の高分子赤色発光材料が挙げられる。

なお、このような液相プロセスを経て形成される赤色発光層５Ｒを備える有機ＥＬ素子１Ｒは、実用レベルの発光寿命特性を十分に備えるものである。
このような赤色発光層５Ｒの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

［キャリア選択層４６］
第１拡散抑制層４３と、中間層４４と、第２拡散抑制層４５とが、陽極３Ｒ側からこの順に積層された積層体により、キャリア選択層４６Ａが構成される。
有機ＥＬ素子１Ｒにおいて、キャリア選択層４６Ａは、青色発光層５Ｂからキャリア選択層４６Ａに流れてくる電子を赤色発光層５Ｒに円滑に注入するというキャリア注入動作を行う。このため、有機ＥＬ素子１Ｒにおいて、青色発光層５Ｂの発光は大幅に抑制され、赤色発光層５Ｒが選択的もしくは支配的に発光する。

［第１拡散抑制層４３］
第１拡散抑制層４３は、正孔輸送性の高分子有機材料を用いて液相プロセス（塗布法）で形成されている。具体的な液相プロセス（塗布法）としては、スピンコート法、スプレイコート法、インクジェット法（液滴吐出法）などが挙げられる。
正孔輸送性の高分子有機材料としては、先に説明した第１正孔輸送層４２と同じ、トリフェニルアミン系ポリマーなどのアミン系化合物、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニルビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）を含むポリシラン系などの高分子有機材料を用いることができる。
このような第１拡散抑制層４３の平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

なお、上記した正孔輸送性の高分子有機材料は、導電性を有しており、キャリア（正孔や電子）の授受が容易なため、赤色発光層５Ｒと中間層４４との間に第１拡散抑制層４３を形成しても発光効率が著しく低下するおそれがない。

また、第１拡散抑制層４３を構成する高分子有機材料は、キャリア（正孔や電子）の授受に支障が生じない程度の膜厚（例えば５ｎｍ以下）で形成すれば、正孔輸送性を有しない、例えばポリスチレンやＰＭＭＡなどの高分子有機材料を用いることもできる。

［中間層４４］
中間層４４は、キャリア選択層４６Ａを構成する１つの層であり、電子注入材料を用いて第１拡散抑制層４３に接して気相プロセスで形成されている。

中間層４４を構成する電子注入材料としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、あるいはアルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物を挙げることができ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
中間層４４をこのような電子注入材料が分散された有機物を用いて形成することで、キャリア選択層４６Ａを介して、青色発光層５Ｂから赤色発光層５Ｒへの電子の注入効率をより向上させることができる。

アルカリ金属としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓが挙げられる。また、アルカリ土類金属としては、例えば、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａが挙げられる。

アルカリ金属の化合物としては、例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ₂ＣＯ₃、ＬｉＣｌ、ＮａＦ、Ｎａ₂ＣＯ₃、ＮａＣｌ、ＣｓＦ、Ｃｓ₂ＣＯ₃、ＣｓＣｌなどのアルカリ金属塩が挙げられる。また、アルカリ土類金属の化合物としては、例えば、ＣａＦ₂、ＣａＣＯ₃、ＳｒＦ₂、ＳｒＣＯ₃、ＢａＦ₂、ＢａＣＯ₃などのアルカリ土類金属塩が挙げられる。

中間層４４の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上、５ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。中間層４４の平均厚さを係る範囲内に設定することにより、キャリア選択層４６Ａの有機ＥＬ素子１Ｒにおけるキャリア注入動作が確実に行われる。

［第２拡散抑制層４５］
第２拡散抑制層４５は、第１拡散抑制層４３と同様に、正孔輸送性の高分子有機材料を用いて液相プロセス（塗布法）で形成されている。
このような第２拡散抑制層４５の平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

また、第２拡散抑制層４５も第１拡散抑制層４３と同様に、キャリア（正孔や電子）の授受に支障が生じない程度の膜厚（例えば５ｎｍ以下）で形成すれば、正孔輸送性を有しない、例えばポリスチレンやＰＭＭＡなどの高分子有機材料を用いて形成してもよい。

［第２正孔輸送層４７］
第２正孔輸送層４７は、第２拡散抑制層４５に接して気相プロセスで形成されている。
この第２正孔輸送層４７の構成材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｍ−トリル）−ベンジジン（ＴＰＤ）、下記化学式（４）で表わされるビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）、下記化学式（５）で表わされる化合物のようなベンジジン誘導体等のアミン系化合物が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

このような第２正孔輸送層４７の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、３０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。第２正孔輸送層４７の平均厚さを係る範囲内に設定することにより、第２正孔輸送層４７に接するキャリア選択層４６Ａの有機ＥＬ素子１Ｒにおけるキャリア注入動作が確実に行われる。

［青色発光層５Ｂ］
青色発光層５Ｂは、青色に発光する青色発光材料を含んで構成されている。
本実施形態では、この青色発光層５Ｂが、陽極（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）と共通陰極８との間に設けられた第２発光層を構成し、この青色発光層５Ｂが第２の色（青色）を発光する機能を有する。
この青色発光層５Ｂの構成材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るものが好適に用いられ、例えば、下記化学式（６）で表わされるスチリル誘導体の青色発光材料が挙げられる。

また、その他に青色発光層５Ｂの構成材料としては、青色発光材料をゲスト材料としてホスト材料にドープしたものが用いられる。ホスト材料は、正孔と電子とを再結合させて励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを青色発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させる機能を有する。このホスト材料の機能により、ゲスト材料である青色発光材料が効率よく励起され、発光する。

ここで、ホスト材料としては、例えば、下記化学式（７）、下記化学式（８）及び下記化学式（９）で表わされるアントラセン誘導体が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、ゲスト材料としての青色発光材料としては、例えば、下記化学式（１０）、下記化学式（１１）及び下記化学式（１２）で表わされるスチリル誘導体が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。

なお、このような気相プロセスを経て形成される青色発光層５Ｂを備える有機ＥＬ素子１Ｒは、実用レベルの発光寿命特性を十分に備えるものである。
さらに、このようなゲスト材料及びホスト材料を用いる場合、青色発光層５Ｂ中におけるゲスト材料の含有量（ドープ量）は、ホスト材料に対して重量比で０．１％以上、２０％以下程度であるのが好ましく、０．５％以上、１０％以下程度であるのがより好ましい。ゲスト材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。
このような青色発光層５Ｂの平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

［電子輸送層６２］
電子輸送層６２は、共通陰極８から電子輸送層６２に注入された電子を青色発光層５Ｂに輸送する機能を有するものである。また、電子輸送層６２は、青色発光層５Ｂから電子輸送層６２へ通過しようとする正孔をブロックする機能を有する場合もある。

電子輸送層６２の構成する電子輸送材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、ＢＡＬｑ、１，３，５−トリ（５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）（ＯＸＤ−１）、ＢＣＰ（Bathocuproine）、（２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、４，４’−ビス（１，１−ビスージフェニルエテニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）、４，４’−ビス（１，１−ビス（４−メチルフェニル）エテニル）ビフェニル（ＤＴＶＢｉ）、２，５−ビス（４−ビフェニリル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＢＤ）などを挙げることができる。

また、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、フェナンソロリン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン誘導体、フルオレン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン誘導体、ジフェノキノン誘導体、ヒドロキシキノリン誘導体などを挙げることができる。これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子輸送層６２の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。これにより、共通陰極８から注入された電子を好適に青色発光層５Ｂに輸送することができる。
なお、この電子輸送層６２は、有機ＥＬ素子１Ｒを構成する赤色発光層５Ｒ、キャリア選択層４６Ａ、第２正孔輸送層４７、青色発光層５Ｂ、電子注入層６３、及び共通陰極８の構成材料の種類及びその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。

［電子注入層６３］
電子注入層６３は、共通陰極８から電子輸送層６２への電子の注入効率を向上させる機能を有するものである。
この電子注入層６３の構成材料（電子注入材料）としては、特に限定されないが、例えば、前述の中間層４４を構成する電子注入材料として挙げたものと同様のものを用いることができる。
なお、電子注入層６３および中間層４４の構成材料（電子注入材料）は、それぞれ、これらを挟持する２つの層の構成材料の組み合わせに応じて、最適な注入効率が得られるものが選択されるため、電子注入層６３の構成材料と中間層４４の構成材料とは、同一であっても異なっていてもよい。
電子注入層６３の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、電子注入層６３は、電子輸送層６２と共通陰極８の構成材料の種類およびその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。

［共通陰極８］
共通陰極８は、電子注入層６３に電子を注入する電極である。
この共通陰極８の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。共通陰極８の構成材料としては、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕまたはこれらを含む合金等が用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体等）用いることができる。

特に、本実施形態のように、ボトムエミッション構造の有機ＥＬ装置１００とする場合、共通陰極８には光透過性が求められず、共通陰極８の構成材料としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＡｌＡｇ、ＡｌＮｄ等の金属または合金が好ましく用いられる。このような金属または合金を共通陰極８の構成材料として用いることにより、共通陰極８の電子注入効率及び安定性の向上を図ることができる。
ボトムエミッション構造における共通陰極８の平均厚さは、特に限定されないが、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

有機ＥＬ装置１００がトップエミッション構造の表示装置である場合、共通陰極８の構成材料としては、ＭｇＡｇ、ＭｇＡｌ、ＭｇＡｕ、ＡｌＡｇ等の金属または合金を用いるのが好ましい。このような金属または合金を共通陰極８の構成材料として用いることにより、共通陰極８の光透過性を維持しつつ、共通陰極８の電子注入効率及び安定性の向上を図ることができる。
トップエミッション構造における共通陰極８の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

なお、上記有機ＥＬ素子１Ｒの陽極３Ｒ、正孔注入層４１Ｒ、第１正孔輸送層４２Ｒ、赤色発光層５Ｒ、キャリア選択層４６Ａ、第２正孔輸送層４７、青色発光層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３、共通陰極８の各層の間には、キャリアの移動を制御するための任意の層が設けられていてもよい。

（有機ＥＬ素子１Ｇ）
有機ＥＬ素子１Ｇは、正孔注入層４１（４１Ｇ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｇ）と、緑色（Ｇ）の発光が得られる緑色発光層５Ｇと、キャリア選択層４６Ａと、第２正孔輸送層４７と、青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３とが、陽極３Ｇ側からこの順に積層された積層体が、陽極３Ｇと共通陰極８との間に介挿されてなるものである。
有機ＥＬ素子１Ｇにおいて、陽極３Ｇ及び共通陰極８は、それぞれ、個別電極及び共通電極を構成し、陽極３Ｇは正孔注入層４１Ｇに正孔を注入する電極として機能し、共通陰極８は電子注入層６３に電子を注入する電極として機能する。
以下、有機ＥＬ素子１Ｇについて説明するが、前述した有機ＥＬ素子１Ｒとの相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
有機ＥＬ素子１Ｇは、赤色発光層５Ｒに代えて緑色発光層５Ｇを備えること以外は、前述の有機ＥＬ素子１Ｒと同様の構成のものである。

［緑色発光層５Ｇ］
緑色発光層５Ｇは、緑色に発光する緑色発光材料を含んで構成される。
有機ＥＬ素子１Ｇでは、この緑色発光層５Ｇが、陽極３Ｇとキャリア選択層４６Ａとの間に設けられた第３発光層を構成し、この緑色発光層５Ｇが有機ＥＬ素子１Ｇにおける第３の色（緑色）を発光する機能を有する。
このような緑色発光層５Ｇの構成材料は、特に限定されないが、液相プロセス（塗布法）を用いて形成し得るように、溶液化または分散液化できることが望ましい。そこで、緑色発光層５Ｇの構成材料としては、溶媒または分散媒に、溶解または分散することができる、高分子緑色発光材料及び低分子緑色発光材料が好適に用いられ、例えば、下記化学式（１３）及び下記化学式（１４）で表わされるフェニレンビニレン誘導体の高分子緑色発光材料が挙げられる。

なお、このような液相プロセスを経て形成される緑色発光層５Ｇを備える有機ＥＬ素子１Ｇは、実用レベルの発光寿命特性を十分に備えるものである。
このような緑色発光層５Ｇの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、上記有機ＥＬ素子１Ｇの陽極３Ｇ、正孔注入層４１Ｇ、第１正孔輸送層４２Ｇ、緑色発光層５Ｇ、キャリア選択層４６Ａ、第２正孔輸送層４７、青色発光層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３、共通陰極８の各層の間には、キャリアの移動を制御するための任意の層が設けられていてもよい。

（有機ＥＬ素子１Ｂ）
有機ＥＬ素子１Ｂは、正孔注入層４１（４１Ｂ）と、キャリア選択層４６Ａと、第２正孔輸送層４７と、青色（Ｂ）の発光が得られる青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３とが、陽極３Ｂ側からこの順に積層された積層体が、陽極３Ｂと共通陰極８との間に介挿されてなるものである。
有機ＥＬ素子１Ｂにおいて、陽極３Ｂ及び共通陰極８は、それぞれ、個別電極及び共通電極を構成し、陽極３Ｂは正孔注入層４１Ｂに正孔を注入する電極として機能し、共通陰極８は電子注入層６３に電子を注入する電極として機能する。
以下、有機ＥＬ素子１Ｂについて説明するが、前述した有機ＥＬ素子１Ｒとの相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。

有機ＥＬ素子１Ｂは、第１正孔輸送層４２及び赤色発光層５Ｒの形成を省略して、正孔注入層４１（４１Ｂ）とキャリア選択層４６Ａとが互いに接する構成としたこと以外は、上記有機ＥＬ素子１Ｒと同様の構成のものである。但し、正孔注入層４１Ｂとキャリア選択層４６Ａとが互いに接する構成としたことに起因して、有機ＥＬ素子１Ｂにおけるキャリア選択層４６Ａの機能は、有機ＥＬ素子１Ｒ及び有機ＥＬ素子１Ｇにおけるキャリア選択層４６Ａの機能とは大きく異なる。また、正孔注入層４１Ｂに求められる機能も異なる場合がある。

［正孔注入層４１］
正孔注入層４１（４１Ｂ）は、陽極３Ｂからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。
この正孔注入層４１を構成する正孔注入材料としては、特に限定されないが、液相プロセス（塗布法）を用いて形成し得るように、導電性高分子材料（または導電性オリゴマー材料）に電子受容性ドーパントを添加したイオン伝導性正孔注入材料が好適に用いられる。

また、正孔注入層４１の構成材料（正孔注入材料）としては、中間層４４を構成する電子注入材料が、拡散もしくは吸着しやすい材料を選択することが望ましい。これによって、キャリア選択層４６Ａの有機ＥＬ素子１Ｂにおけるキャリアブロック動作が確実に行われる。中間層４４を構成する電子注入材料が、拡散もしくは吸着しやすい正孔注入材料としては、例えば、イオン伝導性正孔注入材料が挙げられる。
このようなイオン伝導性正孔注入材料としては、前述したＰＥＤＯＴ／ＰＳＳなどを用いることができる。

［キャリア選択層４６Ａ］
有機ＥＬ素子１Ｂにおいて、キャリア選択層４６Ａは、青色発光層５Ｂからキャリア選択層４６Ａに流れてくる電子をブロックし、これら電子を青色発光層５Ｂに留めるというキャリアブロック動作を行う。このため、有機ＥＬ素子１Ｂにおいて、青色発光層５Ｂは効率よく発光する。このキャリアブロック動作を確実に行うためには、有機ＥＬ素子１Ｂの第２拡散抑制層４５には、キャリアブロック機能を有するものを用いることが望ましい。例えば、前述の有機ＥＬ素子１Ｒの第２正孔輸送層４７の構成材料として挙げたアミン系化合物を用いることにより、第２拡散抑制層４５は電子ブロック機能を有するものとなる。

なお、上記有機ＥＬ素子１Ｂの陽極３Ｂ、正孔注入層４１Ｂ、キャリア選択層４６Ａ、第２正孔輸送層４７、青色発光層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３、共通陰極８の各層の間には、キャリアの移動を制御するための任意の層が設けられていてもよい。

以下、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂにおける作用・効果について、キャリア選択層４６Ａの機能を中心に説明する。
本実施形態では、キャリア選択層４６Ａは、第１拡散抑制層４３と、中間層４４と、第２拡散抑制層４５とが、陽極（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）側からこの順に積層された積層体により構成される。
キャリア選択層４６Ａは、青色発光層５Ｂからキャリア選択層４６Ａに注入される電子の量を、キャリア選択層４６Ａの陽極（３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）側に接する層に応じて、制御する機能を有する層である。

具体的には、有機ＥＬ素子１Ｒ及び有機ＥＬ素子１Ｇのように、キャリア選択層４６Ａの陽極（３Ｒ、３Ｇ）側に接する層が、それぞれ、赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇの場合、キャリア選択層４６Ａは青色発光層５Ｂからキャリア選択層４６Ａに流れてくる電子を赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇに円滑に注入する（キャリア注入動作）。このため、有機ＥＬ素子１Ｒの青色発光層５Ｂでは、正孔と電子との再結合が確実に抑制または防止されるため、有機ＥＬ素子１Ｒの青色発光層５Ｂは、青色発光しないか、青色発光したとしてもその発光は抑制される。
これに対して、赤色発光層５Ｒには、共通陰極８側から青色発光層５Ｂを介して電子が供給（注入）されるとともに、陽極３Ｒ側から正孔が供給（注入）される。そして、赤色発光層５Ｒでは、正孔と電子とが再結合し、この再結合によって励起子（エキシトン）が生成し、励起子が基底状態に戻る際にエネルギーを蛍光やりん光として放出するため、赤色発光層５Ｒが赤色に発光する。その結果、有機ＥＬ素子１Ｒは赤色に発光する。同様に、有機ＥＬ素子１Ｇにおいても、青色発光層５Ｂの発光は大幅に抑制され、緑色発光層５Ｇが選択的もしくは支配的に発光する。その結果、有機ＥＬ素子１Ｇは緑色に発光する。

一方、有機ＥＬ素子１Ｂのように、キャリア選択層４６Ａの陽極３Ｂ側に接する層が正孔注入層４１Ｂの場合、すなわち、キャリア選択層４６Ａの陽極側界面に正孔注入層４１Ｂが接触する場合、キャリア選択層４６Ａは青色発光層５Ｂからキャリア選択層４６Ａに流れてくる電子をブロックし、これら電子を青色発光層５Ｂに留める（キャリアブロック動作）。このため、青色発光層５Ｂにおいて、陽極３Ｂ側から供給（注入）された正孔と、共通陰極８側から供給（注入）された電子とが、再結合しやすくなる。この再結合によって励起子（エキシトン）が生成し、励起子が基底状態に戻る際にエネルギーを蛍光やりん光として放出するため、青色発光層５Ｂは効率良く発光する。その結果、有機ＥＬ素子１Ｂは高効率で青色に発光する。
このように、キャリア選択層４６Ａは、キャリア選択層４６Ａに接する層の種類によって、キャリア注入動作を行ったり、キャリアブロック動作を行ったりする。

有機ＥＬ素子１Ｒと有機ＥＬ素子１Ｇにおけるキャリア選択層４６Ａの電子に対する挙動と、有機ＥＬ素子１Ｂにおけるキャリア選択層４６Ａの電子に対する挙動が異なる理由について、正孔注入層４１がイオン伝導性の正孔注入材料だった場合を例に説明を行う。
まず、有機ＥＬ素子１Ｒ及び有機ＥＬ素子１Ｇのように、キャリア選択層４６Ａの陽極（３Ｒ、３Ｇ）側に接する層が、それぞれ、赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇの場合、キャリア選択層４６Ａの中間層４４を構成している電子注入材料が、それぞれ、有機ＥＬ素子１Ｒ及び有機ＥＬ素子１Ｇの第１拡散抑制層４３内と第２拡散抑制層４５内とに拡散する。これによって正孔輸送性の高分子有機材料で形成された第１拡散抑制層４３と第２拡散抑制層４５とに備わっている電子ブロック機能が低下する。この結果、有機ＥＬ素子１Ｒ及び有機ＥＬ素子１Ｇでは、青色発光層５Ｂから第２拡散抑制層４５へ電子が円滑に注入される。さらに、赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇと、第２拡散抑制層４５との間に存在する中間層４４の機能により、青色発光層５Ｂから、赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇへの電子の注入も円滑に行われる。
以上により、有機ＥＬ素子１Ｒ及び有機ＥＬ素子１Ｇのように、キャリア選択層４６Ａの陽極（３Ｒ、３Ｇ）側に接する層が、それぞれ、赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇの場合、青色発光層５Ｂからキャリア選択層４６Ａに流れてくる電子は、それぞれ、赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇに円滑に注入される（キャリア注入動作）。

一方、有機ＥＬ素子１Ｂのように、キャリア選択層４６Ａの陽極３Ｂ側に接する層が正孔注入層４１Ｂで、且つ、その正孔注入層４１Ｂがイオン伝導性の正孔注入材料によって構成されている場合、キャリア選択層４６Ａの中間層４４を構成している電子注入材料が、第１拡散抑制層４３を通過して正孔注入層４１内に激しく拡散、もしくは正孔注入層４１の第１拡散抑制層４３側界面に吸着するため、該電子注入材料が有機ＥＬ素子１Ｂの第２拡散抑制層４５や第２正孔輸送層４７には拡散せず、有機ＥＬ素子１Ｂの第２拡散抑制層４５及び第２正孔輸送層４７に備わっている電子ブロック機能が低下することはない。この結果、有機ＥＬ素子１Ｂでは、青色発光層５Ｂから第２拡散抑制層４５へ流れてくる電子が、第２拡散抑制層４５によってブロックされ、青色発光層５Ｂ内に留まる。以上より、キャリア選択層４６Ａの陽極３Ｂ側に接する層が正孔注入層４１の場合、青色発光層５Ｂからキャリア選択層４６Ａに流れてくる電子はブロックされ、当該電子を青色発光層５Ｂに留める（キャリアブロック動作）。すなわち、キャリア選択層４６Ａは、青色発光層５Ｂから流れてくる電子（キャリア）の流れを抑制する動作を行う。

本実施形態では、キャリア選択層４６Ａを構成する中間層４４は気相プロセスによって形成される。電子注入材料を液相プロセスで成膜すると、一般的には電子注入材料が凝集して不安定な状態となりやすいが、本実施形態では、液相プロセス（塗布法）で形成された第１拡散抑制層４３に接して中間層４４が形成されるので、電子注入材料の凝集が起こり難い。すなわち、電子注入材料の凝集を抑制し、安定してキャリア制御が可能な中間層４４を形成することができる。

中間層４４に含まれる電子注入材料として、上述したアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物を用いる場合、これらの電子注入材料は、中間層４４に接する他の機能層に拡散し易い。電子注入材料の拡散が進んで行くと、上述した中間層４４の電子注入機能が低下することになる。本実施形態のキャリア選択層４６Ａでは、第１拡散抑制層４３と第２拡散抑制層４５との間に中間層４４を挟む構成としている。第１拡散抑制層４３及び第２拡散抑制層４５は、正孔輸送性の高分子有機材料を用いて液相プロセス（塗布法）で形成されており、中間層４４の電子注入材料が第１拡散抑制層４３及び第２拡散抑制層４５を越えて他の機能層に拡散することを抑制することができる。これによってキャリア選択層４６Ａにおける上述したキャリア注入機能とキャリアブロック機能とを長期間に亘って維持することができる。すなわち、長い発光寿命を有する有機ＥＬ装置１００を実現できる。

＜有機ＥＬ装置の製造方法＞
本実施形態の有機ＥＬ装置１００の製造方法をまとめる次のようになる。なお、基板２１上に駆動用トランジスター２４を含む駆動回路を形成する方法や、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを形成する方法は、公知の方法を用いることができるので、ここでは、本実施形態における特徴部分について述べる。

有機ＥＬ装置１００の製造方法は、
サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂに接して、正孔注入層４１（４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ）を液相プロセス（塗布法）で形成する工程と、
サブ画素１０Ｒとサブ画素１０Ｇとにおいて、正孔注入層４１Ｒ，４１Ｇに接して、第１正孔輸送層４２（４２Ｒ，４２Ｇ）を液相プロセス（塗布法）で形成する工程と、
サブ画素１０Ｒの第１正孔輸送層４２Ｒに接して、第１の色を発光する機能を有する第１発光層としての赤色発光層５Ｒを液相プロセス（塗布法）で形成する工程と、
サブ画素１０Ｇの第１正孔輸送層４２Ｇに接して、第３の色を発光する機能を有する第３発光層としての緑色発光層５Ｇを液相プロセス（塗布法）で形成する工程と、
サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘り、赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇ並びにサブ画素１０Ｂの正孔注入層４１Ｂに接して、正孔輸送性の高分子有機材料を用いて第１拡散抑制層４３を液相プロセス（塗布法）で形成する工程と、
サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘り、第１拡散抑制層４３に接して、電子注入材料を含む中間層４４を気相プロセスで形成する工程と、
サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘り、中間層４４に接して、正孔輸送性の高分子有機材料を用いて第２拡散抑制層４５を液相プロセス（塗布法）で形成する工程と、
サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘り、第２拡散抑制層４５に接して、第２正孔輸送層４７を気相プロセスで形成する工程と、
サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘り、第２正孔輸送層４７に接して、第２の色を発光する機能を有する第２発光層としての青色発光層５Ｂを気相プロセスで形成する工程と、
サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘り、青色発光層５Ｂに接して、電子輸送層６２を気相プロセスで形成する工程と、
サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘り、電子輸送層６２に接して、電子注入層６３を気相プロセスで形成する工程と、
サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘り、電子注入層６３に接して、共通陰極８を気相プロセスで形成する工程と、を備える。

なお、正孔注入層４１、第１正孔輸送層４２、第１拡散抑制層４３、中間層４４、第２拡散抑制層４５、青色発光層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３、共通陰極８の各層の間に、キャリアの移動を制御するための任意の層を形成する工程を有していてもよい。
また、正孔注入層４１は、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ（サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）に共通して同じ材料で形成されることに限定されず、その後に形成される第１正孔輸送層４２、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇなどの機能層の構成に応じて、３つの有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ（サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）のうち少なくとも１つについて正孔注入層４１の材料構成を異ならせてもよい。これにより、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂごとにおけるエネルギーダイヤグラムを適正化してより高い発光効率を実現することが可能である。

（第２実施形態）
次に、第２実施形態の有機ＥＬ装置とその製造方法について、図４を参照して説明する。図４は第２実施形態の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図である。第２実施形態の有機ＥＬ装置は、第１実施形態の有機ＥＬ装置１００に対してキャリア選択層の構成を異ならせたものである。したがって、第１実施形態の有機ＥＬ装置１００と同じ構成には同じ符号を付して詳細な説明は省略する。

図４に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置２００は、サブ画素１０Ｒに有機ＥＬ素子２０１Ｒを有し、サブ画素１０Ｇに有機ＥＬ素子２０１Ｇを有し、サブ画素１０Ｂに有機ＥＬ素子２０１Ｂを有している。以下、各有機ＥＬ素子２０１Ｒ，２０１Ｇ，２０１Ｂの具体的な構成について説明する。

有機ＥＬ素子２０１Ｒは、平坦化層２２上に順に積層された、陽極３Ｒと、正孔注入層４１（４１Ｒ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｒ）と、第１発光層としての赤色発光層５Ｒと、キャリア選択層４６Ｂと、第２正孔輸送層４７と、第２発光層としての青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とを有している。

有機ＥＬ素子２０１Ｇは、平坦化層２２上に順に積層された、陽極３Ｇと、正孔注入層４１（４１Ｇ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｇ）と、第３発光層としての緑色発光層５Ｇと、キャリア選択層４６Ｂと、第２正孔輸送層４７と、第２発光層としての青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とを有している。

有機ＥＬ素子２０１Ｂは、平坦化層２２上に順に積層された、陽極３Ｂと、正孔注入層４１（４１Ｂ）と、キャリア選択層４６Ｂと、第２正孔輸送層４７と、第２発光層としての青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とを有している。

有機ＥＬ素子２０１Ｒ，２０１Ｇ，２０１Ｂにおいて、正孔注入層４１は、液相プロセス（塗布法）を用いて、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのそれぞれに形成されている。第１正孔輸送層４２、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇは、それぞれ液相プロセス（塗布法）を用いて、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇに対応して選択的に形成されている。一方で、第２正孔輸送層４７、青色発光層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３、共通陰極８は、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘って共通に形成されている。

有機ＥＬ素子２０１Ｒ，２０１Ｇ，２０１Ｂにおいて、キャリア選択層４６Ｂは、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ側に形成された第１拡散抑制層４３と、第１拡散抑制層４３に接して形成された中間層４４とを有している。第１拡散抑制層４３は液相プロセス（塗布法）を用いて形成され、中間層４４は真空蒸着などの気相プロセスを用いて形成され、共にサブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘って共通に形成されている。

液相プロセス（塗布法）を用いて形成された、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ、正孔注入層４１（４１Ｂ）に接するように、同じく液相プロセス（塗布法）を用いて第１拡散抑制層４３が形成されている。そして、真空蒸着などの気相プロセスを用いて形成された中間層４４に接するように、同じく真空蒸着などの気相プロセスを用いて第２正孔輸送層４７が形成されている。つまり、本実施形態のキャリア選択層４６Ｂは、第１実施形態のキャリア選択層４６Ａから第２拡散抑制層４５を除いた構成となっている。

第２拡散抑制層４５を除いて、キャリア選択層４６Ｂを第１拡散抑制層４３と中間層４４との積層体としても、有機ＥＬ素子２０１Ｒ，２０１Ｇ（サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ）では、中間層４４から第１拡散抑制層４３に電子注入材料が拡散して、第１拡散抑制層４３の電子ブロック機能が低下し、青色発光層５Ｂから赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇへの電子注入機能（キャリア注入機能）を確保することができる。
一方、有機ＥＬ素子２０１Ｂ（サブ画素１０Ｂ）では、第２拡散抑制層４５が除かれているので、中間層４４に接した第２正孔輸送層４７に中間層４４に含まれる電子注入材料が拡散し易いが、第１実施形態で説明したように、正孔注入層４１がイオン導電性の正孔注入材料で構成されており、中間層４４の電子注入材料は正孔注入層４１に向かって激しく拡散あるいは吸着される。したがって、第２正孔輸送層４７側には拡散し難いので、第２正孔輸送層４７の電子ブロック機能がある程度維持される。ゆえに、有機ＥＬ素子２０１Ｂ（サブ画素１０Ｂ）では、電子輸送層６２から青色発光層５Ｂに注入された電子を漏らさずに留め置く電子ブロック機能（キャリアブロック機能）が働く。つまり、有機ＥＬ素子２０１Ｒ，２０１Ｇ，２０１Ｂにおいて、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ、青色発光層５Ｂを選択的または支配的に発光させることができる。

（第３実施形態）
次に、第３実施形態の有機ＥＬ装置とその製造方法について、図５を参照して説明する。図５は第３実施形態の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図である。第３実施形態の有機ＥＬ装置は、第１実施形態の有機ＥＬ装置１００に対してキャリア選択層の構成を異ならせたものである。したがって、第１実施形態の有機ＥＬ装置１００と同じ構成には同じ符号を付して詳細な説明は省略する。

図５に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置３００は、サブ画素１０Ｒに有機ＥＬ素子３０１Ｒを有し、サブ画素１０Ｇに有機ＥＬ素子３０１Ｇを有し、サブ画素１０Ｂに有機ＥＬ素子３０１Ｂを有している。以下、各有機ＥＬ素子３０１Ｒ，３０１Ｇ，３０１Ｂの具体的な構成について説明する。

有機ＥＬ素子３０１Ｒは、平坦化層２２上に順に積層された、陽極３Ｒと、正孔注入層４１（４１Ｒ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｒ）と、第１発光層としての赤色発光層５Ｒと、キャリア選択層４６Ｃと、第２正孔輸送層４７と、第２発光層としての青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とを有している。

有機ＥＬ素子３０１Ｇは、平坦化層２２上に順に積層された、陽極３Ｇと、正孔注入層４１（４１Ｇ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｇ）と、第３発光層としての緑色発光層５Ｇと、キャリア選択層４６Ｃと、第２正孔輸送層４７と、第２発光層としての青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とを有している。

有機ＥＬ素子３０１Ｂは、平坦化層２２上に順に積層された、陽極３Ｂと、正孔注入層４１（４１Ｂ）と、キャリア選択層４６Ｃと、第２正孔輸送層４７と、第２発光層としての青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とを有している。

有機ＥＬ素子３０１Ｒ，３０１Ｇ，３０１Ｂにおいて、正孔注入層４１は、液相プロセス（塗布法）を用いて、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのそれぞれに形成されている。第１正孔輸送層４２、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇは、それぞれ液相プロセス（塗布法）を用いて、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇに対応して選択的に形成されている。一方で、第２正孔輸送層４７、青色発光層５Ｂ、電子輸送層６２、電子注入層６３、共通陰極８は、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘って共通に形成されている。

有機ＥＬ素子３０１Ｒ，３０１Ｇ，３０１Ｂにおいて、キャリア選択層４６Ｃは、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ側に形成された中間層４４と、中間層４４に接して形成された第２拡散抑制層４５とを有している。中間層４４は真空蒸着などの気相プロセスを用いて形成され、第２拡散抑制層４５は液相プロセス（塗布法）を用いて形成され、共にサブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに亘って共通に形成されている。
つまり、本実施形態のキャリア選択層４６Ｃは、第１実施形態のキャリア選択層４６Ａから第１拡散抑制層４３を除いた構成となっている。

有機ＥＬ素子３０１Ｒ，３０１Ｇ（サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ）では、第１拡散抑制層４３が除かれているので、中間層４４から赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇに電子注入材料が拡散して、青色発光層５Ｂから赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇへの電子注入機能（キャリア注入機能）を維持することができる。
一方、有機ＥＬ素子３０１Ｂ（サブ画素１０Ｂ）では、第１実施形態で説明したように、正孔注入層４１がイオン導電性の正孔注入材料で構成されており、中間層４４の電子注入材料は正孔注入層４１に向かって激しく拡散あるいは吸着される。また、中間層４４の第２正孔輸送層４７側には第２拡散抑制層４５が形成されており電子注入材料が拡散し難いので、第２拡散抑制層４５及び第２正孔輸送層４７の電子ブロック機能が維持される。ゆえに、有機ＥＬ素子３０１Ｂ（サブ画素１０Ｂ）では、電子輸送層６２から青色発光層５Ｂに注入された電子を漏らさずに留め置く電子ブロック機能（キャリアブロック機能）が働く。つまり、有機ＥＬ素子３０１Ｒ，３０１Ｇ，３０１Ｂにおいて、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ、青色発光層５Ｂを選択的または支配的に発光させることができる。

なお、上記第１実施形態から第３実施形態の説明において使用した、図３〜図５において、正孔注入層４１は、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ（異なる色の３つの有機ＥＬ素子）に跨るように図示したが、実際には隔壁３１で区画された膜形成領域にそれぞれ液相プロセスで形成される。また、第１正孔輸送層４２は、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ（赤と緑の有機ＥＬ素子）に跨るように図示したが、同じく実際には隔壁３１で区画された膜形成領域にそれぞれ液相プロセスで形成される。つまり、図３〜図５では、同じ構成材料を用いて液相プロセスで正孔注入層４１と第１正孔輸送層４２とが対応するサブ画素に形成されていることを示すものである。

上記第１実施形態及び上記第２実施形態並びに上記第３実施形態に共通する、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ、青色発光層５Ｂについて、さらに詳しく説明する。
発光層は、発光材料であるドーパント（ゲスト材料）をホスト材料に加えることによって効率的に発光が得られる構成となっている。ホスト材料は、正孔と電子とを再結合させて励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させる機能を有している。正孔と電子とを再結合させて得られるエネルギーによって導かれる発光は、発光材料によって蛍光と燐光とのうちいずれかとなる。以降、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ、青色発光層５Ｂのそれぞれにおいて、好ましいホスト材料及びドーパント材料（ゲスト材料）の例を挙げる。

［ホスト材料］
赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ、青色発光層５Ｂに共通するホスト材料としては、ＣＢＰ(4,4'-bis(9-dicarbazolyl)-2,2'-biphenyl）、ＢＡｌｑ（Bis-(2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolate)aluminium）、ｍＣＰ（N,N-dicarbazolyl-3,5-benzene：ＣＢＰ誘導体）、ＣＤＢＰ（4,4'-bis(9-carbazolyl)-2,2'-dimethyl-biphenyl）、
ＤＣＢ（N,N’-Dicarbazolyl-1,4-dimethene-benzene）、Ｐ０６（2,7-bis(diphenylphosphine oxide)-9,9-dimethylfluorene）、ＳｉｍＣＰ（3,5-bis(9-carbazolyl)tetraphenylsilane）、ＵＧＨ３（W-bis(triphenylsilyl)benzene）などが挙げられる。特に、真空蒸着法を用いて形成される青色発光層５Ｂのホスト材料としては、前述したように、アントラセン誘導体を用いることが好ましい。

［赤色発光材料（ドーパント）］
赤色発光層５Ｒに用いられるドーパント（ゲスト材料）としては、Ｂｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（Bis(2-phenylbenxothiozolato-N,C2’)iridium(III)(acetylacetonate)）、
Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（Bis(2-2'-benzothienyl)-pyridinato-N,C3）Iridium(acetylacetonate）などのイリジウム錯体、ＰｔＯＥＰ（2,3,7,8,12,13,17,18-Octaethyl-21H,23H-porphine,platinum(II）などの白金錯体が挙げられ、前述したホスト材料に添加することで赤色の燐光を得ることができる。

［緑色発光材料（ドーパント）］
緑色発光層５Ｇに用いられるドーパント（ゲスト材料）としては、Ｉｒ（ｐｐｙ）３（Fac-tris(2-phenypyridine)iridium）、Ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（Bis(2-phenyl-pyridinato-N,C2)iridium(acetylacetone）などのイリジウム錯体が挙げられ、前述したホスト材料に添加することで緑色の燐光を得ることができる。

［青色発光材料（ドーパント）］
青色発光層５Ｂに用いられるドーパント（ゲスト材料）としては、ＦＩｒｐｉｃ（Iridium-bis(4,6difluorophenyl-pyridinato-N,C.2.)-picolinate）、Ｉｒ（ｐｍｂ）３（Iridium-tris(1-phenyl-3-methylbenzimidazolin-2-ylidene-C,C(2)'）、ＦＩｒＮ４（（(Iridium (III)bis(4,6-difluorophenylpyridinato)(5-(pyridin-2-yl)-tetrazolate）、Ｆｉｒｔａｚ（（Iridium(III)bis(4,6-difluorophenylpyridinato)(5-(pyridine-2-yl)-1,2,4-triazo-late）などのイリジウム錯体が挙げられ、前述したホスト材料に添加することで青色の燐光を得ることができる。
また、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス−（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、などのスチリルベンゼン誘導体をドーパントとして用い、前述したホスト材料に添加することで青色の蛍光を得ることができる。

次に、上記第１実施形態及び上記第２実施形態並びに上記第３実施形態に対応したより具体的な実施例と比較例とを挙げて、その具体的な効果を説明する。

（実施例１）
実施例１は、図３に示した上記第１実施形態の有機ＥＬ装置１００における有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの構成及びその製造方法の一例を具体的に示すものである。
＜１＞ まず、平均厚さ１．０ｍｍの透明なガラス基板を基板２１として用意した。次に、この基板２１上に、スパッタ法により、平均厚さ５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した後、このＩＴＯ膜をフォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることでＩＴＯ電極（陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ／個別電極）を形成した。
そして、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが形成された基板２１をアセトン、２−プロパノールの順に浸漬し、超音波洗浄した後、酸素プラズマ処理を施した。

＜２＞ 次に、陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが形成された基板２１上に、スピンコート法により、感光性アクリル系樹脂で構成される絶縁層を形成した後、この絶縁層をフォトリソグラフィー法を用いてＩＴＯ電極を露出するようにパターニングすることで隔壁（バンク）３１を形成した（図２参照）。さらに、隔壁３１が形成された基板２１の表面を、まずＯ₂ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの表面と隔壁３１の表面（壁面を含む）が活性化され親液化する。続いて、隔壁３１が形成された基板２１の表面を、ＣＦ₄ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより、アクリル系樹脂からなる隔壁３１の表面のみにＣＦ₄ガスが反応して撥液化される。
なお、表面が撥液性を有する隔壁３１の形成方法は、これに限定されず、例えば、感光性アクリル系樹脂自体がフッ素系の撥液性材料を予め含んでいてもよい。

＜３−１＞ 次に、有機ＥＬ素子１Ｒを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側に、インクジェット法を用いて、１．０ｗｔ％ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を塗布した。

＜３−２＞ 次に、有機ＥＬ素子１Ｇを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側に、インクジェット法を用いて、１．０ｗｔ％ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を塗布した。

＜３−３＞ 次に、有機ＥＬ素子１Ｂを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側に、インクジェット法を用いて、１．０ｗｔ％ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を塗布した。

＜３−４＞ 次に、上記各工程で塗布したＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を乾燥した後、大気中にて基板２１を加熱し、各陽極３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ上に、それぞれ、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳで構成される平均厚さ５０ｎｍのイオン伝導性の正孔注入層４１を形成した。

＜４−１＞ 次に、有機ＥＬ素子１Ｒを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（１）で表わされる化合物（ＴＦＢ）の１．５ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。

＜４−２＞ 次に、有機ＥＬ素子１Ｇを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（１）で表わされる化合物（ＴＦＢ）の１．５ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。

＜４−３＞ 次に、上記各工程で塗布した上記化学式（１）で表わされる化合物（ＴＦＢ）のテトラメチルベンゼン溶液を乾燥した後、窒素雰囲気中にて基板２１を加熱した。さらに、基板２１の、有機ＥＬ素子１Ｒ及び有機ＥＬ素子１Ｇを形成すべき領域をキシレンによってリンスした。これにより、各正孔注入層４１上に、それぞれ、上記化学式（１）で表わされる化合物（ＴＦＢ）で構成される平均厚さ２０ｎｍの第１正孔輸送層４２を形成した。

＜５−１＞ 次に、有機ＥＬ素子１Ｒを形成すべき領域に位置する隔壁３１の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（２）で表わされる化合物（フルオレン誘導体）の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。

＜５−２＞ 次に、有機ＥＬ素子１Ｇを形成すべき領域に位置する隔壁の内側に、インクジェット法を用いて、上記化学式（１３）で表わされる化合物（フェニルビニレン誘導体）の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。

＜５−３＞ 次に、上記各工程で塗布した、上記化学式（２）で表わされる化合物（フルオレン誘導体）のテトラメチルベンゼン溶液と、上記化学式（１３）で表わされる化合物（フェニレンビニレン誘導体）のテトラメチルベンゼン溶液とを乾燥した後、窒素雰囲気中にて基板２１を加熱する。これにより、各第１正孔輸送層４２上に、それぞれ、上記化学式（２）で表わされる化合物（フルオレン誘導体）で構成される平均厚さ６０ｎｍの赤色発光層５Ｒと、上記化学式（１３）で表わされる化合物（フェニレンビニレン誘導体）で構成される平均厚さ６０ｎｍの緑色発光層５Ｇとを形成した。

＜６＞ 次に、有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂを形成すべき各領域に亘って、上記化学式（１）で表わされる化合物（ＴＦＢ）を０．５ｗｔ％〜１．０ｗｔ％の濃度で含有するテトラメチルベンゼン溶液をスピンコート法で塗布した。そして、窒素雰囲気中で基板２１を加熱して平均厚さ５０ｎｍの第１拡散抑制層４３を形成した。

＜７＞ 次に、第１拡散抑制層４３上に、炭酸セシウム（Ｃｓ₂ＣＯ₃）を真空蒸着して、平均厚さ５ｎｍの膜を形成し、中間層４４とした。

＜８＞ 次に、中間層４４上に、上記化学式（１）で表わされる化合物（ＴＦＢ）を０．５ｗｔ％〜１．０ｗｔ％の濃度で含有するテトラメチルベンゼン溶液をスピンコート法で塗布した。そして、窒素雰囲気中で基板２１を加熱して平均厚さ５０ｎｍの第２拡散抑制層４５を形成した。

＜９＞ 次に、第２拡散抑制層４５上に、真空蒸着法を用いて、上記化学式（４）で表される化合物（α−ＮＰＤ）で構成される平均厚さ１０ｎｍの第２正孔輸送層４７を形成した。

＜１０＞ 次に、第２正孔輸送層４７上に、真空蒸着法を用いて以下に示す青色発光層形成材料で構成される平均厚さ２０ｎｍの青色発光層５Ｂを形成した。
ここで、青色発光層５Ｂの形成材料としては、ホスト材料として上記化学式（７）で表わされる化合物（アントラセン誘導体）を用い、ゲスト材料として上記化学式（１０）で表わされる化合物（スチリル誘導体）を用いた。また、青色発光層５Ｂ中のゲスト材料（ドーパント）の含有量（ドープ濃度）は、ホスト材料に対して重量比で５．０％とした。

＜１１＞ 次に、青色発光層５Ｂ上に、真空蒸着法を用いて、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）で構成される平均厚さ２０ｎｍの電子輸送層６２を形成した。

＜１２＞ 次に、電子輸送層６２上に、真空蒸着法を用いて、フッ化リチウム（ＬｉＦ）で構成される、平均厚さ１ｎｍの電子注入層６３を形成した。

＜１３＞ 次に、電子注入層６３上に、真空蒸着法を用いてＡｌで構成される、平均厚さ１００ｎｍの共通陰極８を形成した。
＜１４＞ 次に、形成した有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂを覆うように、エポキシ樹脂の接着層３５を形成して、ガラス製の封止基板２０を被せ、固定、封止した。
以上の工程により、図２に示すようなボトムエミッション構造の有機ＥＬ装置１００を製造した。

なお、上記機能層の形成における液相プロセスで用いられる溶媒または分散媒としては、例えば、硝酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素水、水、二硫化炭素、四塩化炭素、エチレンカーボネイトなどの各種無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、シクロヘキサンなどのケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリンなどアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（カルビトール）などのエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、テトラリンなどの脂環式炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、などの芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ヒドラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドンなどの芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、などのアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロメタンなどのハロゲン化合物系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、ギ酸エチルなどのエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランなどの硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピニオニトリル、アクロニトリルなどのニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸系溶媒、のような各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶液を挙げることができる。

（実施例２）
実施例２は、上記第２実施形態の有機ＥＬ装置２００における有機ＥＬ素子２０１Ｒ，２０１Ｇ，２０１Ｂの構成及びその製造方法の一例を示すものである。
具体的には、上記実施例１における上記工程＜１＞〜＜１４＞のうち＜８＞を省いて、図４に示した有機ＥＬ装置２００を製造した。

（実施例３）
実施例３は、上記第３実施形態の有機ＥＬ装置３００における有機ＥＬ素子３０１Ｒ，３０１Ｇ，３０１Ｂの構成及びその製造方法の一例を示すものである。
具体的には、上記実施例１における上記工程＜１＞〜＜１４＞のうち＜６＞を省いて、図５に示した有機ＥＬ装置３００を製造した。

（比較例１）
図６は比較例１の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図である。図６に示すように、比較例１の有機ＥＬ装置４００は、（基板２１の）平坦化層２２上に赤色に対応した有機ＥＬ素子４０１Ｒと、緑色に対応した有機ＥＬ素子４０１Ｇと、青色に対応した有機ＥＬ素子４０１Ｂとを有している。
具体的には、有機ＥＬ素子４０１Ｒは、平坦化層２２上に、陽極３Ｒと、正孔注入層４１（４１Ｒ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｒ）と、赤色発光層５Ｒと、中間層４４と、第２正孔輸送層４７と、青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
有機ＥＬ素子４０１Ｇは、平坦化層２２上に、陽極３Ｇと、正孔注入層４１（４１Ｇ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｇ）と、緑色発光層５Ｇと、中間層４４と、第２正孔輸送層４７と、青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
有機ＥＬ素子４０１Ｂは、平坦化層２２上に、陽極３Ｂと、正孔注入層４１（４１Ｂ）と、中間層４４と、第２正孔輸送層４７と、青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
各機能層の構成及びその製造方法は、上記実施例１と同じである。つまり、比較例１の有機ＥＬ装置４００における各有機ＥＬ素子４０１Ｒ，４０１Ｇ，４０１Ｂの構成は、上記実施例１の各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの構成から第１拡散抑制層４３と第２拡散抑制層４５とを除いた構成となっている。

（比較例２）
図７は比較例２の有機ＥＬ装置のサブピクセルにおける有機ＥＬ素子の構成を示す模式図である。図７に示すように、比較例２の有機ＥＬ装置５００は、基板２１上に赤色に対応した有機ＥＬ素子５０１Ｒと、緑色に対応した有機ＥＬ素子５０１Ｇと、青色に対応した有機ＥＬ素子５０１Ｂとを有している。

具体的には、有機ＥＬ素子５０１Ｒは、平坦化層２２上に、陽極３Ｒと、正孔注入層４１（４１Ｒ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｒ）と、赤色発光層５Ｒと、第２正孔輸送層４７と、青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
有機ＥＬ素子５０１Ｇは、平坦化層２２上に、陽極３Ｇと、正孔注入層４１（４１Ｇ）と、第１正孔輸送層４２（４２Ｇ）と、緑色発光層５Ｇと、第２正孔輸送層４７と、青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
有機ＥＬ素子５０１Ｂは、平坦化層２２上に、陽極３Ｂと、正孔注入層４１（４１Ｂ）と、第２正孔輸送層４７と、青色発光層５Ｂと、電子輸送層６２と、電子注入層６３と、共通陰極８とが、この順に積層されている。
各機能層の形成方法は、上記実施例１と同じである。つまり、比較例２の有機ＥＬ装置５００における各有機ＥＬ素子５０１Ｒ，５０１Ｇ，５０１Ｂの構成は、上記実施例１の各有機ＥＬ素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂおけるキャリア選択層４６Ａ（第１拡散抑制層４３、中間層４４、第２拡散抑制層４５）を除いた構成となっている。

図８は実施例１〜実施例３、比較例１及び比較例２の発光効率、発光寿命、色の変化を評価した結果を示す表である。図８において、発光効率は所定の電流を流したときの輝度を比較例１を基準として数値化し、発光寿命は所定の電流を流し続けて輝度が初期に対して半減するまでの時間を比較例１を基準として数値化したものである。色の変化（発光色の変化）は目視の評価である。発光効率、発光寿命、色の変化を総合的に判断して、実用レベルに到達している場合を「○」あるいは「◎」とし、実用レベルに到達していない場合を「×」とした。

図８に示すように、比較例１の有機ＥＬ装置４００における赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇ並びに青色発光層５Ｂは、初期的には適正な色の発光が得られるものの、中間層４４に接する他の層に中間層４４に含まれる電子注入材料が拡散してゆくことで、キャリアバランスが次第に崩れ、発光寿命において輝度が半減したときには、明らかな色の変化が認められるので総合評価は「×」とした。

比較例２の有機ＥＬ装置５００における赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇは、青色発光層５Ｂから赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇへの電子注入が適正に行われないため、比較例１に比べても発光効率や発光寿命が劣っている。また、赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇにおけるキャリアバランスが崩れており、赤色発光層５Ｒや緑色発光層５Ｇの発光に青色発光層５Ｂの発光が混ざって色の変化が発生したので「×」とした。一方、比較例２の有機ＥＬ素子５０１Ｂにおける青色発光層５Ｂはキャリア（正孔、電子）の注入が行われるものの、比較例１に比べて、青色発光層５Ｂにキャリア（正孔、電子）を留めることができず、発光効率、発光寿命ともに劣っている。キャリア（正孔、電子）を充分に青色発光層５Ｂに留めることはできないものの、キャリアバランスとしては比較例１よりもよいので、色の変化は認められるが、比較例１よりも軽度であり「△」とした。総合評価としては、比較例１と同様に「×」とした。

このような比較例１，２に対して、実施例１，２，３は、いずれも赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ、青色発光層５Ｂが選択的または支配的に発光する。実施例１，２，３では、キャリア選択層４６Ａ，４６Ｂ，４６Ｃを設けることに起因して特にサブ画素１０Ｂでは比較例１よりも発光効率の数値がやや下回った結果になったが、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇでは比較例１よりも優れた発光効率及び発光寿命の結果が得られている。とりわけ、キャリア選択層４６Ａとして第１拡散抑制層４３と第２拡散抑制層４５との間に中間層４４を有する実施例１は、色の変化が発生しないことはもちろんのこと、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇでは、実施例２，３よりも発光効率と発光寿命とにおいて優れた評価結果が得られたので、総合評価を「◎」とした。

第１拡散抑制層４３が赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇと中間層４４との間に設けられた実施例２は、第１拡散抑制層４３を有していない実施例３よりもサブ画素１０Ｒ，１０Ｇにおいて発光寿命が劣っている。その理由は、実施例３に比べて実施例２の第１拡散抑制層４３が赤色発光層５Ｒ及び緑色発光層５Ｇへの電子注入の障壁になり得るからである。

（第４実施形態）
＜電子機器＞
次に、本実施形態の電子機器について図９〜図１１を参照して説明する。
上記実施形態の有機ＥＬ装置１００，２００，３００は、各種の電子機器に組み込むことができる。

図９は、電子機器の一例としてのモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピューターを示す斜視図である。
図９に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピューター１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備える表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピューター１１００において、表示ユニット１１０６が備える表示部が前述の有機ＥＬ装置１００（あるいは有機ＥＬ装置２００または有機ＥＬ装置３００）で構成されている。

図１０は、電子機器の一例としての携帯電話機を示す斜視図である。
図１０に示すように、電子機器としての携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４及び送話口１２０６とともに、表示部を備えている。
携帯電話機１２００において、この表示部が前述の有機ＥＬ装置１００（あるいは有機ＥＬ装置２００または有機ＥＬ装置３００）で構成されている。

図１１は、電子機器の一例としてのディジタルスチルカメラを示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
電子機器としてのディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
図１１に示すように、ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。
ディジタルスチルカメラ１３００において、この表示部が前述の有機ＥＬ装置１００（あるいは有機ＥＬ装置２００または有機ＥＬ装置３００）で構成されている。
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリーが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリーに転送・格納される。
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはＬＣＤなどのモニター１４３０が、データ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピューター１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリーに格納された撮像信号が、モニター１４３０や、パーソナルコンピューター１４４０に出力される構成になっている。

なお、上記実施形態の有機ＥＬ装置１００（あるいは有機ＥＬ装置２００または有機ＥＬ装置３００）が適用される電子機器は、上記パーソナルコンピューター（モバイル型パーソナルコンピューター）１１００、携帯電話機１２００、ディジタルスチルカメラ１３００の他にも、例えば、テレビや、ビューファインダー型、モニター直視型のビデオレコーダー、ラップトップ型パーソナルコンピューター、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレーター、その他各種モニター類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。

以上、本発明の有機ＥＬ装置とその製造方法及び電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）上記実施形態の有機ＥＬ装置１００，２００，３００は、青色よりも長波長の光を発光する発光素子として、有機ＥＬ素子１Ｒ（２０１Ｒ，３０１Ｒ）及び有機ＥＬ素子１Ｇ（２０１Ｇ，３０１Ｇ）を備える構成としたが、これに限定されず、黄色有機ＥＬ素子や橙色有機ＥＬ素子のような青色よりも長波長の光を発光する発光素子を備えるものであってもよい。この場合、これら黄色有機ＥＬ素子及び橙色有機ＥＬ素子に本発明の有機ＥＬ装置におけるキャリア選択層４６（４６Ａ，４６Ｂ，４６Ｃ）の構成が適用される。

（変形例２）本発明のキャリア選択層４６（４６Ａ，４６Ｂ，４６Ｃ）の構成を適用可能な有機ＥＬ装置は、ボトムエミッション型に限定されず、トップエミッション型の有機ＥＬ装置にも適用可能である。

１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ…有機ＥＬ素子、３Ｒ…第１陽極としての陽極、３Ｇ…第３陽極としての陽極、３Ｂ…第２陽極としての陽極、５Ｒ…第１発光層としての発光層または赤色発光層、５Ｇ…第３発光層としての発光層または緑色発光層、５Ｂ…第２発光層としての発光層または青色発光層、８…共通陰極、１０Ｒ…第１サブピクセルとしての赤のサブ画素、１０Ｇ…第３サブピクセルとしての緑のサブ画素、１０Ｂ…第２サブピクセルとしての青のサブ画素、４１，４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ…正孔注入層、４２，４２Ｒ，４２Ｇ…第１正孔輸送層、４３…第１拡散抑制層、４４…中間層、４５…第２拡散抑制層、４６，４６Ａ，４６Ｂ，４６Ｃ…キャリア選択層、４７…第２正孔輸送層、６２…電子輸送層、１００，２００，３００…有機ＥＬ装置、１１００…電子機器としてのパーソナルコンピューター、１２００…電子機器としての携帯電話機、１３００…電子機器としてのディジタルスチルカメラ。

Claims (14)

1. 互いに異なる色が発せられるべき第１サブピクセル及び第２サブピクセルと、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルとに亘って形成された共通陰極と、
   前記第１サブピクセルは、第１陽極と、前記第１陽極と前記共通陰極との間に液相プロセスで形成され、第１の色を発光する機能を有する第１発光層と、前記第１発光層と前記共通陰極との間に気相プロセスで形成され、第２の色を発光する機能を有する第２発光層とを備え、
   前記第２サブピクセルは、第２陽極と、前記第２陽極と前記共通陰極との間に気相プロセスで形成された前記第２発光層とを備え、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルとに亘り、前記第１発光層と前記第２発光層との間及び前記第２陽極と前記第２発光層との間に形成され、電子注入材料を含む中間層と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルとに亘り、前記中間層と前記第１発光層との間及び前記中間層と前記第２発光層との間のうち少なくとも一方の間に形成され、前記電子注入材料の拡散を抑制する拡散抑制層と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置。
2. 前記中間層は気相プロセスで形成され、前記拡散抑制層は液相プロセスで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置。
3. 前記中間層の前記電子注入材料が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ装置。
4. 前記拡散抑制層が正孔輸送性を有する高分子有機材料を含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置。
5. 第３サブピクセルをさらに有し、
   前記第３サブピクセルは、第３陽極と、前記第３陽極と前記共通陰極との間に液相プロセスで形成され、第３の色を発光する機能を有する第３発光層とを備え、
   前記中間層は前記第３発光層と前記共通陰極との間に形成され、
   前記拡散抑制層は、前記中間層に対して前記第３陽極側と前記共通陰極側とのうち少なくとも一方側に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置。
6. 前記第１サブピクセルの前記第１陽極と前記第１発光層との間、及び前記第３サブピクセルの前記第３陽極と前記第３発光層との間に、液相プロセスで形成された第１正孔輸送層を有し、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記中間層と前記第２発光層との間に、前記第２発光層に接して気相プロセスで形成された第２正孔輸送層を備えたことを特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬ装置。
7. 前記第１の色が赤色であり、前記第２の色が青色であり、前記第３の色が緑色であることを特徴とする請求項５または６に記載の有機ＥＬ装置。
8. 互いに異なる色の光が発せられるべき第１サブピクセルと第２サブピクセルと第３サブピクセルとを備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、
   前記第１サブピクセルの第１陽極上と前記第３サブピクセルの第３陽極上とに、第１正孔輸送層を液相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第１の色を発光する機能を有する第１発光層を液相プロセスで形成する工程と、
   前記第３サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第３の色を発光する機能を有する第３発光層を液相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第１発光層上及び前記第３発光層上並びに前記第２サブピクセルの第２陽極上に、電子注入材料の拡散を抑制する拡散抑制層を液相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記拡散抑制層上に、前記電子注入材料を含む中間層を気相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記中間層上に、第２正孔輸送層を気相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第２正孔輸送層上に、第２の色を発光する機能を有する第２発光層を気相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、共通陰極を形成する工程と、を備えることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
9. 互いに異なる色の光が発せられるべき第１サブピクセルと第２サブピクセルと第３サブピクセルとを備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、
   前記第１サブピクセルの第１陽極上と前記第３サブピクセルの第３陽極上とに、第１正孔輸送層を液相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第１の色を発光する機能を有する第１発光層を液相プロセスで形成する工程と、
   前記第３サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第３の色を発光する機能を有する第３発光層を液相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第１発光層上及び前記第３発光層上並びに前記第２サブピクセルの第２陽極上に、電子注入材料を含む中間層を気相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記中間層上に、前記電子注入材料の拡散を抑制する拡散抑制層を液相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記拡散抑制層上に、第２正孔輸送層を気相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第２正孔輸送層上に、第２の色を発光する機能を有する第２発光層を気相プロセスで形成する工程と、
   前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、共通陰極を形成する工程と、を備えることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
10. 互いに異なる色の光が発せられるべき第１サブピクセルと第２サブピクセルと第３サブピクセルとを備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、
    前記第１サブピクセルの第１陽極上と前記第３サブピクセルの第３陽極上とに、第１正孔輸送層を液相プロセスで形成する工程と、
    前記第１サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第１の色を発光する機能を有する第１発光層を液相プロセスで形成する工程と、
    前記第３サブピクセルの前記第１正孔輸送層上に、第３の色を発光する機能を有する第３発光層を液相プロセスで形成する工程と、
    前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第１発光層上及び前記第３発光層上並びに前記第２サブピクセルの第２陽極上に、電子注入材料の拡散を抑制する第１拡散抑制層を液相プロセスで形成する工程と、
    前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第１拡散抑制層上に、前記電子注入材料を含む中間層を気相プロセスで形成する工程と、
    前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記中間層上に、前記電子注入材料の拡散を抑制する第２拡散抑制層を液相プロセスで形成する工程と、
    前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第２拡散抑制層上に、第２正孔輸送層を気相プロセスで形成する工程と、
    前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、前記第２正孔輸送層上に、第２の色を発光する機能を有する第２発光層を気相プロセスで形成する工程と、
    前記第１サブピクセルと前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとに亘り、共通陰極を形成する工程と、を備えることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
11. 前記中間層の前記電子注入材料が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物であることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
12. 正孔輸送性を有する高分子有機材料を用いて前記拡散抑制層または前記第１拡散抑制層あるいは前記第２拡散抑制層を形成することを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
13. 前記第１の色が赤色であり、前記第２の色が青色であり、前記第３の色が緑色であることを特徴とする請求項８乃至１２のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
14. 請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする電子機器。

Images