JP2017022068A - 有機ｅｌ素子の製造方法、有機ｅｌ素子の製造装置、電気光学装置および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】簡易な有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。【解決手段】有機ＥＬ素子１３０の製造方法は、基体１０１において、正孔注入層１３１と発光層１３３とを含む機能層１３６を備え、正孔注入層１３１を液相プロセスにより形成する第１工程と、発光層１３３を液相プロセスにより形成する第２工程と、を有し、第１工程において、正孔注入層１３１の形成に用いるインクを暗所で塗布し、第２工程において、発光層１３３の形成に用いるインクを暗所で塗布する。【選択図】図２

Description

本発明は、有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子の製造装置、電気光学装置および電子機器に関する。

従来から、有機ＥＬ（Electro−Luminescence；エレクトロルミネッセンス）素子は、有機発光層を含む機能層を備えており、酸素と水分と光エネルギーとが与えられると、機能層における発光機能が低下したり失われたりすることが知られている。
そのため、例えば、特許文献１では、機能層に用いられる有機材料を遮光状態で保存することによって、光エネルギーによる有機材料の劣化を抑制できる有機材料の保存方法が提案されている。
また、例えば、特許文献２では、窒素雰囲気下において、発光層用塗膜を成膜した後、光エネルギーが照射されないように、大気雰囲気下の暗所に保持し、その後、所定の酸素濃度および水分濃度の雰囲気下において、発光層用塗膜を焼成することにより有機膜を形成して、素子寿命の長い有機ＥＬ素子の製造方法が開示されている。

特開２００５−１３５７３３号公報 特開２０１１−１８１４９８号公報

しかしながら、特許文献１に記載の有機材料の保存方法では、遮光性の容器に密閉する保存状態において、酸素が供給されないように、窒素などの不活性ガス雰囲気下で保存する必要がある。
また、特許文献２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法では、正孔輸送層や発光層を構成する有機膜を形成する際に、有機化合物を含む溶液の塗布を窒素雰囲気下で行うために、窒素充填機構が必要となる。
その結果、製造工程が複雑になったり、大掛かりな装置が必要になったり、インフラコストが増大するおそれがあった。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例］本適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、基体において、正孔注入層と発光層とを含む機能層を備えた有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記正孔注入層を液相プロセスにより形成する第１工程と、前記発光層を液相プロセスにより形成する第２工程と、を有し、前記第１工程において、前記正孔注入層の形成に用いる第１の機能液を暗所で塗布し、前記第２工程において、前記発光層の形成に用いる第２の機能液を暗所で塗布することを特徴とする。

この方法によれば、正孔注入層を大気中で成膜する場合においても、光エネルギーが、正孔注入層の形成に用いるインクに与える影響を抑制することができる。その結果、有機ＥＬ素子の素子特性、例えば、発光特性や素子寿命の劣化を低減できる。そのため、窒素充填機構が不要となり、簡易な有機ＥＬ素子の製造方法を実現できる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、正孔輸送層を形成する第３工程を有し、前記第３工程において、前記正孔輸送層の形成に用いる第３の機能液を暗所で塗布することを特徴とする。

この方法によれば、第３の機能液の塗布を暗所で行うことによって、正孔輸送層を大気中で成膜する場合においても、光エネルギーが第３の機能液に与える影響を低減できる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第１工程を大気下で行うことを特徴とする。

この方法によれば、第１工程を減圧雰囲気や不活性ガス雰囲気下で行う場合に比べて、簡易な有機ＥＬ素子の製造方法を実現することができる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第１工程において、塗布した前記第１の機能液の乾燥を暗所で行うことを特徴とする。

この方法によれば、正孔注入層の形成に用いるインクの塗布だけでなく、乾燥を暗所で行うことによって、光エネルギーが、第１の機能液に与える影響を低減できる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第２工程において、塗布した前記第２の機能液の乾燥を暗所で行うことを特徴とする。

この方法によれば、第２の機能液の塗布だけでなく、乾燥を暗所で行うことによって、光エネルギーが、第２の機能液に与える影響を低減できる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第１工程において、塗布した前記第１の機能液を乾燥して得られた薄膜の焼成を、暗所で行うことを特徴とする。

この方法によれば、正孔注入層を形成するインクの塗布および乾燥だけでなく、焼成を暗所で行うことによって、光エネルギーが、正孔注入層を形成するインクに与える影響を低減できる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第２工程において、塗布した前記第２の機能液を乾燥して得られた薄膜の焼成を、暗所で行うことを特徴とする。

この方法によれば、発光層を形成するインクの塗布および乾燥だけでなく、焼成を暗所で行うことによって、光エネルギーが、発光層を形成するインクに与える影響を低減できる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記機能層は、電子輸送層、電子注入層のうちの少なくとも１つの層を有することを特徴とする。

この方法によれば、機能層が、発光層に効率的に電子を注入することができる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記液相プロセスは、インクジェット法であることを特徴とする。

この方法によれば、機能層を形成する領域に、機能層を形成する材料を含む所定量のインクを精度よく塗布することができる。そのため、機能層を所望の層厚に形成することができる。

上記適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記電子輸送層、前記電子注入層、陰極のうちの少なくとも１つの層は、真空蒸着法で形成されることを特徴とする。

この方法によれば、スパッタリング法と比較して、発光層にダメージを与え難い。そのため、有機ＥＬ素子の素子特性を向上させることができる。

［適用例］本適用例に係る有機ＥＬ素子の製造装置は、正孔注入層および発光層を形成する有機ＥＬ素子の製造装置であって、
前記第１の機能液の塗布および前記第２の機能液の塗布を暗所で行う塗布機構を有していることを特徴とする。

この構成によれば、正孔注入層を形成するインクの塗布および発光層を形成するインクの塗布を暗所で行うことによって、光エネルギーが、正孔注入層を形成するインクおよび発光層を形成するインクに与える影響を低減できる。

［適用例］本適用例に係る電気光学装置は、請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を備えていることを特徴とする。

この構成によれば、優れた電気光学特性を有する電気光学装置を提供できる。

［適用例］本適用例に係る電子機器は、請求項１２に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする。

この構成によれば、優れた電気光学特性を有する電子機器を提供できる。

電気光学装置としての有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図。 有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャート。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造装置の構成を示す概略斜視図。 インクジェットヘッドの構成を示す概略斜視図。 インクパックの構成を示す概略斜視図。 実施例および比較例の有機ＥＬ素子の製造方法における雰囲気と素子特性との関係を示す表。 電子機器の一例であるノート型のパーソナルコンピューターを示す概略図。 電子機器の一例である薄型テレビ（ＴＶ）を示す概略図。

以下に本発明を具体化した実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各構成要素を図面上で認識可能な程度の大きさにして、説明を分かりやすくするため、各構成要素の尺度を実際とは異なる尺度で記載している場合がある。

（第１実施形態）
＜電気光学装置＞
本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を備える電気光学装置について、図１および図２を参照して説明する。図１は、電気光学装置としての有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図であり、図２は、有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図である。

図１に示すように、本実施形態の電気光学装置としての有機ＥＬ装置１００は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光（発光色）が得られるサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが配置された素子基板１０１を有している。素子基板１０１は、ガラスなどからなる透明な基板である。

各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂは略矩形状であり、素子基板１０１の表示領域Ｅにおいてマトリックス状に配置されている。ここで、略矩形状とは、正方形、長方形に加えて、角部が丸くなった四角形、対向する２辺部が円弧状となった四角形を含むものである。以降、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂを総称してサブ画素１１０と呼ぶこともある。

同じ発光色のサブ画素１１０が、図面上において垂直方向（列方向あるいはサブ画素１１０の長手方向）に配列し、異なる発光色のサブ画素１１０が図面上において水平方向（行方向あるいはサブ画素１１０の短手方向）にＲ，Ｇ，Ｂの順で配列している。

すなわち、異なる発光色のサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが、いわゆるストライプ方式で配置されている。なお、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂの平面形状と配置は、これに限定されるものではない。

サブ画素１１０Ｒには、赤（Ｒ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられており、同じく、サブ画素１１０Ｇには、緑（Ｇ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられており、サブ画素１１０Ｂには、青（Ｂ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられている。

このような有機ＥＬ装置１００は、異なる発光色が得られる３つのサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂを１つの表示画素単位として、それぞれのサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂは電気的に制御される。これによりフルカラー表示が可能となっている。

各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂには、図２に示す有機ＥＬ素子１３０が設けられている。図２に示すように、有機ＥＬ素子１３０は、基体としての素子基板１０１と、絶縁膜１０２と、画素電極１０３と、対向電極１０４と、機能層１３６と、を有している。

絶縁膜１０２は、素子基板１０１と画素電極１０３との電気的な短絡を防ぐために、素子基板１０１上に形成されており、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンあるいは酸窒化シリコンなどを用いて形成される。

画素電極１０３は、陽極として機能するものであり、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとに設けられ、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電膜を用いて形成されている。

対向電極１０４は、陰極として機能するものであり、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂに共通した共通電極として設けられ、例えば、Ａｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）とＭｇ（マグネシウム）の合金などを用いて形成されている。

陽極としての画素電極１０３側から発光層１３３にキャリアとしての正孔が注入され、陰極としての対向電極１０４側から発光層１３３にキャリアとしての電子が注入される。

発光層１３３において、注入された正孔と電子とにより、励起子（エキシトン）が形成され、励起子（エキシトン）が消滅する際に、言い換えれば、正孔と電子とが再結合する際に、エネルギーの一部が蛍光や燐光となって放出される。励起子（エキシトン）とは、正孔と電子とがクーロン力にて互いに束縛された状態のことをいう。

機能層１３６は、画素電極１０３と対向電極１０４との間に設けられており、画素電極１０３側から、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３、電子輸送層１３４、電子注入層１３５が順に積層されたものである。

特に、発光層１３３は発光色に応じて構成材料が選ばれるが、ここでは、発光色に関わらず総称して発光層１３３と呼ぶ。
なお、機能層１３６の構成は、これに限定されるものではなく、これらの層以外に、電荷（キャリア；正孔や電子）の移動を制御する中間層などを備えていてもよい。

有機ＥＬ装置１００において、光反射性を有するように対向電極１０４を構成すれば、発光層１３３からの発光を素子基板１０１側から取り出すボトムエミッション方式とすることができる。

また、画素電極１０３と素子基板１０１との間に反射層を設ける、または光反射性を有するように画素電極１０３を構成し、光透過性を有するように対向電極１０４を構成すれば、発光層１３３からの発光を対向電極１０４側から取り出すトップエミッション方式とすることもできる。

本実施形態では、有機ＥＬ装置１００がボトムエミッション方式であるとして、以降の説明を行う。また、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとの有機ＥＬ素子１３０をそれぞれ独立して駆動することができる画素回路を素子基板１０１に備えたアクティブ駆動型である。画素回路は、公知の構成を採用することができるので、図２では画素回路の図示を省略している。

有機ＥＬ装置１００は、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとの有機ＥＬ素子１３０における画素電極１０３の外縁と重なると共に、画素電極１０３上に開口部１０５ａを構成する隔壁１０５を備えている。

有機ＥＬ素子１３０は、機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３が液相プロセスにより形成されたものである。ここで、液相プロセスとは、それぞれの層を構成する成分と溶媒とを含んだ溶液、言い換えれば、機能層１３６を形成するために用いる材料（機能層形成用組成物）を隔壁１０５で囲まれた開口部１０５ａに塗布して乾燥、焼成することにより、それぞれの層を形成する方法である。

それぞれの層を所望の膜厚で形成するためには、機能層形成用組成物を、量と位置とに関して精度よく、開口部１０５ａに塗布する必要があり、本実施形態では、液相プロセスとして、インクジェット法（液滴吐出法）を採用している。

＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法について、図面を参照して具体的に説明する。図３は、有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャートであり、図４〜図１０は、有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。
なお、前述したように、有機ＥＬ素子１３０を駆動制御する画素回路や画素電極１０３の形成方法は、公知の方法を採用することができるので、ここでは、隔壁１０５を形成する工程以降について説明する。

本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法は、隔壁１０５を形成する工程（ステップＳ１）と、表面処理をする工程（ステップＳ２）と、正孔注入層１３１を形成する工程（ステップＳ３）と、正孔輸送層１３２を形成する工程（ステップＳ４）と、発光層１３３を形成する工程（ステップＳ５）と、封止する工程（ステップＳ６）と、を備えている。
なお、本実施形態では、正孔注入層１３１を形成する工程が、本発明における第１工程に相当し、正孔輸送層１３２を形成する工程が、本発明における第３工程に相当し、発光層１３３を形成する工程が、本発明における第２工程に相当している。

（１）ステップＳ１ 隔壁を形成する工程
まず、図４に示すように、画素電極１０３が形成された素子基板１０１に、例えば、機能層形成用組成物（以下、インクという）に対して撥液性を示す撥液材料を含む感光性樹脂材料を、１μｍ〜２μｍの厚みで塗布して乾燥することにより、感光性樹脂層（図示せず）を形成する。

塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。撥液材料としては、フッ素化合物やシロキサン系化合物が挙げられる。感光性樹脂材料としては、ネガ型の多官能アクリル樹脂を挙げることができる。

次に、できあがった感光性樹脂層をサブ画素１１０の形状に対応した露光用マスクを用いて露光、現像して、画素電極１０３の外縁と重なると共に、画素電極１０３上に開口部１０５ａを構成する隔壁１０５を形成する。

（２）ステップＳ２ 表面処理をする工程
隔壁１０５が形成された素子基板１０１に表面処理を施す。表面処理をする工程は、次工程で機能層１３６（図２参照）を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３をインクジェット法で形成する際に、隔壁１０５で囲まれた開口部１０５ａにおいて、インクがむらなく濡れ拡がるように、画素電極１０３の表面の隔壁残渣などの不要物を取り除く目的で行われる。

表面処理をする方法として、本実施形態ではエキシマＵＶ（紫外線）処理を実施した。なお、表面処理をする方法は、エキシマＵＶ処理に限定されず、画素電極１０３の表面を清浄化できればよく、例えば、溶媒による洗浄、乾燥工程を行ってもよい。また、画素電極１０３の表面が清浄な状態であれば、表面処理をする工程を実施しなくてもよい。

本実施形態では、撥液材料を含む感光性樹脂材料を用いて隔壁１０５を形成したが、これに限定されるものではない。例えば、撥液材料を含まない感光性樹脂材料を用いて隔壁１０５を形成した後に、フッ素系の処理ガスを用いたプラズマ処理を施して隔壁１０５の表面に撥液性を与え、その後、酸素を処理ガスとするプラズマ処理を施して画素電極１０３の表面を親液化する表面処理を行ってもよい。

（３）ステップＳ３ 正孔注入層を形成する工程
図５に示すように、正孔注入層１３１を形成するために用いる正孔注入層形成材料を含む第１の機能液としてのインク６０を開口部１０５ａに塗布する（塗布工程）。このとき、インク６０の塗布工程を暗所で行う。ここで、暗所とは、照度が１ルクス以下の環境のことをいう。インク６０を塗布する工程が暗所で行われることから、光エネルギーがインク６０に与える影響を低減できるので、塗布工程を行う雰囲気は、窒素充填機構などの装置を必要としない大気下で実施する。

インク６０の塗布方法は、インク６０をインクジェットヘッド５０のノズル５１から液滴Ｄとして吐出するインクジェット法を用いる。
インクジェットヘッド５０から吐出される液滴Ｄの吐出量は、ｐｌ（ピコリットル）単位で制御可能であって、所定量を液滴Ｄの吐出量で除した数の液滴Ｄが開口部１０５ａに吐出される。

吐出されたインク６０は、隔壁１０５との界面張力により開口部１０５ａにおいて盛り上がるが、溢れてしまうことはない。言い換えれば、開口部１０５ａから溢れ出ない程度の所定量となるように、インク６０における後述する正孔注入層形成材料の濃度が予め調整されている。

次に、インク６０が塗布された素子基板１０１を減圧下に放置し、インク６０から溶媒を蒸発させて乾燥する（減圧乾燥工程）。この減圧乾燥工程は、イエロールーム内で実施する。

ここで、イエロールームとは、クリーンルーム内で、特に感光性物質が扱われるフォトリソグラフィー工程のレジストの感光を防ぐために、波長５００ｎｍ以下の紫外線を遮断して、黄色の蛍光灯（波長５９２ｎｍ）で照らされたエリアのことである。

次に、図６に示すように、窒素などの不活性ガス雰囲気下で、例えば、１８０℃で、３０分間加熱する焼成処理を施すことにより、正孔注入層１３１が完成する（焼成工程）。この焼成工程は、イエロールーム内で実施する。

ここで、不活性ガス雰囲気下とは、酸素濃度と水分濃度とがそれぞれ１ｐｐｍ以下となるように乾燥された窒素が充填された環境のことをいう。

正孔注入層１３１は、正孔注入層形成材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で、必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ４０ｎｍ〜１００ｎｍの膜厚で形成される。

（４）ステップＳ４ 正孔輸送層を形成する工程
図７に示すように、正孔輸送層１３２を形成するために用いる正孔輸送層形成材料を含む第３の機能液としてのインク７０を用いて正孔輸送層１３２を形成する。正孔輸送層１３２の形成方法も、インクジェット法を用いて行う。すなわち、所定量のインク７０をインクジェットヘッド５０のノズル５１から液滴Ｄとして開口部１０５ａに吐出する（塗布工程）。この塗布工程は、イエロールーム内で実施する。

次に、インク７０が塗布された素子基板１０１を減圧下に放置し、インク７０から溶媒を蒸発させて乾燥する（減圧乾燥工程）。この減圧乾燥工程は、イエロールーム内で実施する。

次に、図８に示すように、窒素などの不活性ガス雰囲気下で、例えば、２２０℃で、３０分間加熱する焼成処理を施すことにより、正孔輸送層１３２が完成する（焼成工程）。この焼成工程は、イエロールーム内で実施する。

正孔輸送層１３２は、正孔輸送層形成材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で、必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ１０ｎｍ〜３０ｎｍの膜厚で形成される。
また、機能層１３６における他の層との関係で、正孔注入層１３１と正孔輸送層１３２とを合体させた正孔注入輸送層としてもよい。

（５）ステップＳ５ 発光層を形成する工程
図９に示すように、発光層１３３を形成するための材料を含む第２の機能液としてのインク８０を用いて発光層１３３を形成する。発光層１３３の形成方法も、正孔注入層１３１と同様に、インクジェット法を用いて行う。

すなわち、所定量のインク８０をインクジェットヘッド５０のノズル５１から液滴Ｄとして開口部１０５ａに吐出する（塗布工程）。このとき、インク８０の塗布工程を暗所で行う。インク８０を塗布する工程が暗所で行われることから、光エネルギーがインク８０に与える影響を低減できるので、塗布工程を行う雰囲気は、窒素充填機構などの装置を必要としない大気下で実施する。

次に、インク８０が塗布された素子基板１０１を減圧下に放置し、インク８０から溶媒を蒸発させて乾燥する（減圧乾燥工程）。この減圧乾燥工程は、イエロールーム内で実施する。

次に、図１０に示すように、窒素などの不活性ガス雰囲気下で、例えば、１６０℃で、１０分間加熱する焼成処理を施すことにより、発光層１３３が完成する（焼成工程）。この焼成工程は、イエロールーム内で実施する。

発光層１３３は、発光層形成材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で、必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ４０ｎｍ〜７０ｎｍの膜厚で形成される。

次に、発光層１３３と隔壁１０５とを覆って電子輸送層１３４を形成する（図２参照）。電子輸送層１３４を構成する電子輸送材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成できるように、例えば、ＢＡＬｑ、１，３，５−トリ（５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）（ＯＸＤ−１）、ＢＣＰ（Bathocuproine）、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、４，４’−ｂｉｓ（１，１−ｂｉｓジフェニルエテニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、２，５−ｂｉｓ（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）、４，４’−ｂｉｓ（１，１−ｂｉｓ（４−メチルフェニル）エテニル）ビフェニル（ＤＴＶＢｉ）、２，５−ｂｉｓ（４−ビフェニリル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＢＤ）などを挙げることができる。

また、電子輸送層１３４を構成する電子輸送材料としては、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、フェナンソロリン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン誘導体、フルオレン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン誘導体、ジフェノキノン誘導体、ヒドロキシキノリン誘導体などを挙げることができる。これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子輸送層１３４は、上記電子輸送材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で、必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ２０ｎｍ〜４０ｎｍの膜厚で形成される。これにより、対向電極１０４から注入された電子を好適に発光層１３３に輸送することができる。また、機能層１３６における他の層との関係で、電子輸送層１３４を省略することもできる。

次に、電子輸送層１３４を覆って電子注入層１３５を形成する（図２参照）。電子注入層１３５を構成する電子注入材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成できるように、例えば、アルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物を挙げることができる。

アルカリ金属化合物としては、例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ₂ＣＯ₃、ＬｉＣｌ、ＮａＦ、Ｎａ₂ＣＯ₃、ＮａＣｌ、ＣｓＦ、Ｃｓ₂ＣＯ₃、ＣｓＣｌなどのアルカリ金属塩が挙げられる。また、アルカリ土類金属化合物としては、例えば、ＣａＦ₂、ＣａＣＯ₃、ＳｒＦ₂、ＳｒＣＯ₃、ＢａＦ₂、ＢａＣＯ₃などのアルカリ土類金属塩が挙げられる。これらのアルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物うちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子注入層１３５の膜厚は、特に限定されないが、１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１ｎｍ以上、５ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。これによって、対向電極１０４から電子輸送層１３４に電子を効率よく注入できる。

次に、電子注入層１３５を覆って対向電極１０４を形成する（図２参照）。対向電極１０４の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましく、かつ、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成できるものが好ましい。

対向電極１０４の構成材料としては、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕ、または、これらを含む合金などが用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体など）用いることができる。

特に、本実施形態のように、有機ＥＬ装置１００をボトムエミッション方式とする場合には、対向電極１０４に光反射性が求められるため、対向電極１０４の構成材料として、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＡｌＡｇ、ＡｌＮｄなどの金属または合金が好ましく用いられる。このような金属または合金を対向電極１０４の構成材料として用いることにより、対向電極１０４の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。

ボトムエミッション方式における対向電極１０４の膜厚は、特に限定されないが、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

有機ＥＬ装置１００をトップエミッション方式とする場合、対向電極１０４の構成材料としては、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕなどの金属、またはＭｇＡｇ、ＭｇＡｌ、ＭｇＡｕ、ＡｌＡｇなどの合金を用いるのが好ましい。このような金属または合金を用いることにより、対向電極１０４の光透過性を維持しつつ、対向電極１０４の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。

トップエミッション方式における対向電極１０４の膜厚は、特に限定されないが、１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

（６）ステップＳ６ 封止する工程
上記製造方法により形成された有機ＥＬ素子１３０は、例えば、外部から水分や酸素などが浸入すると、機能層１３６における発光機能が阻害され、部分的に発光輝度が低下したり、発光しなくなったりする暗点（ダークスポット）が発生したりするおそれがある。また、発光寿命が短くなるおそれがある。

そこで、有機ＥＬ素子１３０を水分や酸素などの浸入から保護するために、封止層（図示せず）によって覆うことが好ましい。封止層としては、例えば、水分や酸素などの透過性が低い、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）などの無機絶縁材料を用いることができる。

また、例えば、透明なガラスなどの封止基板を、有機ＥＬ素子１３０が形成された素子基板１０１に接着剤を介して貼り付けることにより、有機ＥＬ素子１３０を封着してもよい。こうすることによって、発光寿命において高い信頼性を有する有機ＥＬ装置１００を提供することができる。
以上により、有機ＥＬ素子１３０が完成する。

＜構成材料＞
次に、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３について、液相プロセスで用いることが可能なそれぞれの構成材料（形成材料）について説明する。

［正孔注入輸送材料（ＨＩＬ材料、ＨＴＬ材料）］
正孔注入層（ＨＩＬ）１３１や正孔輸送層（ＨＴＬ）１３２の形成に好適な正孔注入輸送材料としては、特に限定されないが、各種ｐ型の高分子材料や、各種ｐ型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができる。

ｐ型の高分子材料（有機ポリマー）としては、例えば、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−sec−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）などのポリアリールアミンのようなアリールアミン骨格を有する芳香族アミン系化合物、フルオレン−ビチオフェン共重合体のようなフルオレン骨格や、フルオレン−アリールアミン共重合体のようなアリールアミン骨格およびフルオレン骨格の双方を有するポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（ＰＶＫ）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系、ポリ[ｂｉｓ(４―フェニル)(２，４，６―トリメチルフェニル)アミン])（ＰＴＴＡ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（フェニル）−ベンジジン］などが挙げられる。

このようなｐ型の高分子材料は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、綜研化学製導電性ポリマーベラゾール（商標）など、ポリアニリンとして日産化学製エルソース（商標）が挙げられる。

ｐ型の低分子材料としては、例えば、１，１−ｂｉｓ（４−ジ−パラ−トリアミノフェニル）シクロへキサン、１，１’−ｂｉｓ（４−ジ−パラ−トリルアミノフェニル）−４−フェニル−シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）のようなアリールシクロアルカン系化合物、４，４’，４’’−トリメチルトリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（３−メチルフェニル）−１，１’ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ１）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（４−メトキシフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ２）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メトキシフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ３）、Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤ）、トリフェニルアミン−テトラマー（ＴＰＴＥ）、１，３，５−トリス−[４−（ジフェニルアミノ）ベンゼン（ＴＤＡＰＢ）、トリス−（４−カルバゾール−９−イル−フェニル）−アミン（スピローＴＡＤ）、トリス−ｐ−トリルアミン（ＨＴＭ１）、１，１−ｂｉｓ［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＨＴＭ２）、Ｎ４,Ｎ４’−(ビフェニル−４,４’−ジイル)ｂｉｓ（Ｎ４,Ｎ４’,Ｎ４’−トリフェニルビフェニル−４,４’−ジアミン）（ＴＰＴ１）のようなアリールアミン系化合物、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−パラ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（パラ−トリル）−パラ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（メタ−トリル）−メタ−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）、ＰＤＡ−Ｓｉ（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．Ｖｏｌ．４６２．ｐｐ．２４９−２５６，２００７）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，４−フェニレンジアミン（ＤＰＰＤ）のようなフェニレンジアミン系化合物、カルバゾール、Ｎ−イソプロピルカルバゾール、Ｎ−フェニルカルバゾール、ＶＢ−ＴＣＡ（Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００７，１９，３００−３０４）のようなカルバゾール系化合物、スチルベン、４−ジ−パラ−トリルアミノスチルベンのようなスチルベン系化合物、ＯｘＺのようなオキサゾール系化合物、トリフェニルメタン、４，４’，４”−トリス（Ｎ−３−メチルフェニル−Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’，４”−トリス（Ｎ，Ｎ−（２−ナフチル）フェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）、４，４’，４”−トリ（Ｎ−カルバゾリル）トリフェニルアミン（ＴＣＴＡ）のようなトリフェニルメタン系化合物、１−フェニル−３−（パラ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリンのようなピラゾリン系化合物、ベンジン（シクロヘキサジエン）系化合物、トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、イミダゾールのようなイミダゾール系化合物、１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ジ（４−ジメチルアミノフェニル）−１，３，４，−オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物、アントラセン、９−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセンのようなアントラセン系化合物、フルオレノン、２，４，７，−トリニトロ−９−フルオレノン、２，７−ｂｉｓ（２−ヒドロキシ−３−（２−クロロフェニルカルバモイル）−１−ナフチルアゾ）フルオレノンのようなフルオレノン系化合物、ポリアニリンのようなアニリン系化合物、シラン系化合物、１，４−ジチオケト−３，６−ジフェニル−ピロロ−（３，４−ｃ）ピロロピロールのようなピロール系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリンのようなポルフィリン系化合物、キナクリドンのようなキナクリドン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン、鉄フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、銅ナフタロシアニン、バナジルナフタロシアニン、モノクロロガリウムナフタロシアニンのような金属または無金属のナフタロシアニン系化合物、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジンのようなベンジジン系化合物などが挙げられる。

なお、ＰＤＡ−Ｓｉは、高分子化を図るために、カチオン重合性化合物；キシレンビスオキセタン（東亞合成 アロンオキセタンＯＸＴ−１２１）、ラジカル重合開始剤；脂肪族系ジアシルパーオキサイド（パーロイルＬ、日本油脂株式会社）が添加されて用いられる。

ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの好ましい溶媒としては、水が挙げられる。他のｐ型の高分子材料や低分子材料の溶媒としては、トルエン、キシレン、３−フェノキシトルエン（３−ＰＴ）などの芳香族溶媒が挙げられる。

［発光材料］
次に、蛍光または燐光が得られる発光材料（ＥＭＬ材料）について、発光色ごとに具体例を挙げて説明する。

（赤色発光材料）
まず、赤色発光材料としては、特に限定されず、各種赤色蛍光材料、赤色燐光材料を１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
赤色蛍光材料としては、赤色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、ペリレン誘導体、ユーロピウム錯体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ポルフィリン誘導体、ナイルレッド、２−（１，１−ジメチルエチル）−６−（２−（２，３，６，７−テトラヒドロ−１，１，７，７−テトラメチル−１Ｈ，５Ｈ−ベンゾ（ｉｊ）キノリジン−９−イル）エテニル）−４Ｈ−ピラン−４Ｈ−イリデン）プロパンジニトリル（ＤＣＪＴＢ）、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、ポリ[２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシロキシ）−１，４−（１−シアノビニレンフェニレン）]、ポリ[｛９，９−ジヘキシル−２，７−ｂｉｓ（１−シアノビニレン）フルオレニレン｝オルト−ｃｏ−｛２，５−ｂｉｓ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアミノ）−１，４−フェニレン｝]、ポリ[{２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシロキシ）−１，４−（１−シアノビニレンフェニレン）}−ｃｏ−{２，５−ｂｉｓ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアミノ）−１，４−フェニレン}]などが挙げられる。

赤色燐光材料としては、赤色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウムなどの金属錯体が挙げられ、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも１つがフェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格などを持つものも挙げられる。

さらに具体的には、トリス（１−フェニルイソキノリン）イリジウム、ｂｉｓ［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ３’］イリジウム（アセチルアセトネート）（Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ））、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−１２Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリン−白金（ＩＩ）、ファク−トリス（２−フェニル）−ｂｉｓ（２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ３’］イリジウム（アセチルアセトネート）（Ｂｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ））、ｂｉｓ（２−フェニルピリジン）イリジウム（アセチルアセトネート）などが挙げられる。

また、赤色の発光層１３３中には、前述した赤色発光材料の他に、赤色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料を含んでいてもよい。
ホスト材料は、正孔と電子とを再結合して励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを赤色発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させて、赤色発光材料を励起する機能を有する。

このようなホスト材料を用いる場合、例えば、ゲスト材料である赤色発光材料をドーパントとしてホスト材料にドープして用いることができる。
このようなホスト材料としては、用いる赤色発光材料に対して、前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、赤色発光材料が赤色蛍光材料を含む場合、例えば、ナフタセン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体のようなアセン誘導体（アセン系材料）、ジスチリルアリーレン誘導体、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）などのキノリノラト系金属錯体（ＢＡｑｌ）、トリフェニルアミンの４量体などのトリアリールアミン誘導体（ＴＤＡＰＢ）、オキサジアゾール誘導体、シロール誘導体（ＳｉｍＣＰ、ＵＧＨ３）、ジカルバゾール誘導体（ＣＢＰ、ｍＣＰ、ＣＤＢＰ、ＤＣＢ）、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、４，４’−ｂｉｓ（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、リン誘導体（ＰＯ６）などが挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。

前述したような赤色発光材料（ゲスト材料）およびホスト材料を用いる場合、赤色の発光層１３３中における赤色発光材料の含有量（ドープ量）は、０．０１ｗｔ％〜１０ｗｔ％であるのが好ましく、０．１ｗｔ％〜５ｗｔ％であるのがより好ましい。赤色発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。

（緑色発光材料）
緑色発光材料としては、特に限定されず、例えば、各種緑色蛍光材料および緑色燐光材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
緑色蛍光材料としては、緑色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、クマリン誘導体、キナクリドンおよびその誘導体、９，１０−ｂｉｓ［（９−エチル−３−カルバゾール）−ビニレニル］−アントラセン、ポリ（９，９−ジヘキシル−２，７−ビニレンフルオレニレン）、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（１，４−ジフェニレン−ビニレン−２−メトキシ−５−｛２−エチルヘキシルオキシ｝ベンゼン）］、ポリ［（９，９−ジオクチル−２，７−ジビニレンフルオレニレン）−オルト−ｃｏ−（２−メトキシ−５−（２−エトキシルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレン）］、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−オルト−ｃｏ−（１，４−ベンゾ−｛２,１’,３｝−チアジアゾール）］（Ｆ８ＢＴ）などが挙げられる。

緑色燐光材料としては、緑色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウムなどの金属錯体が挙げられ、具体的には、ファク−トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（Ｉｒ（ｐｐｙ）３）、ｂｉｓ（２−フェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（アセチルアセトネート）（Ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ））、ファク−トリス［５−フルオロ−２−（５−トリフルオロメチル−２−ピリジン）フェニル−Ｃ，Ｎ］イリジウムなどが挙げられる。

また、緑色の発光層１３３中には、前述した緑色発光材料の他に、緑色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、前述した赤色の発光層１３３で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。

（青色発光材料）
青色発光材料としては、例えば、各種青色蛍光材料および青色燐光材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
青色蛍光材料としては、青色の蛍光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、ジスチリルジアミン系化合物などのジスチリルアミン誘導体、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、ペリレンおよびペリレン誘導体、アントラセン誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、テトラフェニルブタジエン、４，４’−ｂｉｓ（９−エチル−３−カルバゾビニレン）−１，１’−ビフェニル（ＢＣｚＶＢｉ）、ポリ［（９．９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（２，５−ジメトキシベンゼン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジヘキシルオキシフルオレン−２，７−ジイル）−オルト−ｃｏ−（２−メトキシ−５−｛２−エトキシヘキシルオキシ｝フェニレン−１，４−ジイル）］、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（エチルニルベンゼン）］、ポリ［（９．９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（Ｎ,Ｎ’−ジフェニル）−Ｎ,Ｎ’−ジ（パラ−ブチルフェニル）−１,４−ジアミノ−ベンゼン］］などが挙げられる。

青色燐光材料としては、青色の燐光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウムなどの金属錯体が挙げられ、さらに具体的には、ｂｉｓ［４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］−ピコリネート−イリジウム（ＦＩｒｐｉｃ）、トリス（１−フェニル−３−メチルベンズイミダゾリン−２−イリデン−Ｃ,Ｃ２’）（Ｉｒ（ｐｍｂ）３）、ｂｉｓ（２,４−ジフルオロフェニルピリジネート）（５−（ピリジン−２−イル）−１Ｈ−テトラゾール）イリジウム（ＦＩｒＮ４）、トリス［２−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム、ｂｉｓ［２−（３，５−トリフルオロメチル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’］−ピコリネート−イリジウム、ｂｉｓ（４，６−ジフルオロフェニルピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（アセチルアセトネート）などが挙げられる。

また、青色の発光層１３３中には、前述した青色発光材料の他に、青色発光材料がゲスト材料として添加されるホスト材料が含まれていてもよい。
このようなホスト材料としては、前述した赤色の発光層１３３で説明したホスト材料と同様のものを用いることができる。

本実施形態において、低分子とは、分子量が１０００未満のモノマー、あるいは重量平均分子量が１０００未満の、基本骨格が繰り返された構造を有するポリマーまたはオリゴマーを指し、高分子とは、重量平均分子量が１０００以上の、基本骨格が繰り返された構造を有するポリマーまたはオリゴマーを指す。
これらの発光層形成材料の好ましい溶媒としては、トルエン、キシレン、３−フェノキシトルエン（３−ＰＴ）などの芳香族溶媒が挙げられる。

＜有機ＥＬ素子の製造装置＞
有機ＥＬ素子の製造装置について、図面を参照して説明する。図１１は、有機ＥＬ素子の製造装置の構成を示す概略斜視図である。

図１１に示すように、有機ＥＬ素子の製造装置１０は、遮蔽部１１と、ＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air Filter）ユニット１２と、ステージ２２と、インクカートリッジ２３と、配管２４と、キャリッジ２５と、基台２６と、制御部２７と、Ｘ方向ガイド軸２８と、Ｙ方向ガイド軸２９と、Ｘ軸駆動モーター３０と、クリーニング機構３２と、Ｙ軸駆動モーター３１，３３などを備えている。

製造装置１０は、金属などの遮光性を有する材料で形成された遮蔽部１１によって装置全体が覆われており、遮蔽部１１の内側が、外部からの光に照射され難い構造になっている。
そのため、製造装置１０を用いることによって、素子基板１０１に正孔注入層１３１を形成するインク６０の塗布および発光層１３３を形成するインク８０の塗布を実施する際に、これらのインクが光エネルギーを得ることの少ない暗所で塗布を行うことができる。つまり、遮蔽部１１が、本発明の塗布機構の一例を示すものである。

遮蔽部１１の天井部分には、ＨＥＰＡユニット１２が設けられており、遮蔽部１１の内側に清浄化した空気を送っている。ＨＥＰＡユニット１２により、インク６０、インク７０、インク８０（以下、まとめてインクということがある）を素子基板１０１の表面に塗布する際に、異物などが素子基板１０１の表面に付着しないようにクリーン度が確保されている。

キャリッジ２５には、ノズル面５８ａ（図１２参照）がステージ２２と対向するように、インクジェットヘッド５０が取り付けられており、インクが充填されたインクパック４０を内包するインクカートリッジ２３から配管２４を通じてインクジェットヘッド５０にインクが供給される。ステージ２２に素子基板１０１を搭載して、インクジェットヘッド５０のノズル５１（図１２参照）からインクを液滴として吐出する。

なお、キャリッジ２５に搭載されるインクジェットヘッド５０は、１つに限定されるものではなく、吐出されるインクの種類に対応して、複数のインクジェットヘッド５０が搭載されていてもよい。その場合には、インクパック４０を含むインクカートリッジ２３は、インクの種類ごとに設けられることになる。

基台２６の下部には、制御部２７が設けられている。制御部２７は、インクジェットヘッド５０に吐出電圧を供給し、吐出電圧に応じてインクジェットヘッド５０から吐出されるインクの液滴の量（吐出量ともいう）を可変している。

基台２６の上部には、Ｘ方向ガイド軸２８とＹ方向ガイド軸２９とが設けられている。Ｘ方向ガイド軸２８は、インクジェットヘッド５０が取り付けられたキャリッジ２５を副走査方向（Ｘ方向）に駆動するものである。Ｘ軸駆動モーター３０は、Ｘ方向ガイド軸２８を回転させるモーターであり、例えば、ステッピングモーターなどが挙げられる。

Ｙ方向ガイド軸２９は、ステージ２２を副走査方向（Ｘ方向）に対して直交する主走査方向（Ｙ方向）に駆動するものである。Ｙ軸駆動モーター３１は、Ｙ方向ガイド軸２９を回転させるモーターであり、Ｘ軸駆動モーター３０と同様に、例えば、ステッピングモーターなどが挙げられる。

Ｘ方向ガイド軸２８およびＸ軸駆動モーター３０、Ｙ方向ガイド軸２９およびＹ軸駆動モーター３１は、インクジェットヘッド５０に対して、ステージ２２を対向させて主走査方向（Ｙ方向）および副走査方向（Ｘ方向）に相対的に移動させる移動手段である。

Ｘ軸駆動モーター３０は、制御部２７からＸ方向の駆動パルス信号が供給されて、Ｘ方向ガイド軸２８を回転させ、Ｘ方向ガイド軸２８に係合したキャリッジ２５をＸ方向に移動させる。

Ｙ軸駆動モーター３１は、制御部２７からＹ方向の駆動パルス信号が供給されて、Ｙ方向ガイド軸２９を回転させ、ステージ２２をＹ方向に移動させる。

クリーニング機構３２は、インクジェットヘッド５０を臨む位置に移動し、インクジェットヘッド５０のノズル面５８ａ（図１２参照）に密着して不要なインクを吸引するキャッピング、インクなどが付着したノズル面５８ａを拭き取るワイピング、インクジェットヘッド５０の全ノズル５１（図１２参照）からインクの塗布を行う予備塗布、あるいは不要となったインクを受けて排出させる回復処理を行う。

クリーニング機構３２は、インクジェットヘッド５０をクリーニング（回復処理）するための機構である。クリーニング機構３２には、Ｙ軸駆動モーター３３が備えられている。
Ｙ軸駆動モーター３３も、Ｙ軸駆動モーター３１と同様に、クリーニング機構３２をＹ方向移動させる移動手段であり、例えば、ステッピングモーターなどが挙げられる。

また、Ｙ軸駆動モーター３３は、制御部２７からＹ方向の駆動パルス信号が供給されて、Ｙ方向ガイド軸２９を回転させ、クリーニング機構３２をＹ方向に移動させる。

＜インクジェットヘッド＞
インクジェットヘッドについて、図面を参照して説明する。図１２は、インクジェットヘッドの構成を示す概略斜視図である。
図１２に示すように、インクジェットヘッド５０は、いわゆる２連のものであり、導入部５３と、ヘッド基板５５と、ヘッド本体５６などを備えている。

導入部５３は、２連の接続針５４を有している。接続針５４は、前述したインクカートリッジ２３に配管２４を経由して接続され、接続針５４を経由してインクがヘッド内流路（図示せず）に供給される。

ヘッド基板５５は、導入部５３に積層されており、フレキシブルフラットケーブル（図示せず）を介してヘッド駆動回路部（図示せず）に接続される２連のコネクター５９を備えている。

ヘッド本体５６は、加圧部５７と、ノズルプレート５８と、を備えている。
加圧部５７は、ヘッド基板５５上に配置され、内部にインクのヘッド内流路が形成されており、ピエゾ素子などのアクチュエーターを備えたキャビティを有している。
ノズルプレート５８は、ノズル面５８ａに相互に平行に形成されている２つのノズル列５２，５２を有している。

２つのノズル列５２，５２は、それぞれ複数（１８０個）のノズル５１が、略等間隔に並べられており、互いに半ノズルピッチずれた状態で、ノズルプレート５８に配設されている。本実施形態におけるノズルピッチは、およそ１４０μｍである。よって、ノズル列５２に直交する方向から見ると、３６０個のノズル５１が、およそ７０μｍのノズルピッチで配列した状態となっている。

インクジェットヘッド５０は、ヘッド駆動回路部から電気信号としての駆動波形がアクチュエーターに印加されると、加圧部５７のノズル５１ごとに設けられたキャビティの体積変動が起こり、これによるポンプ作用で、キャビティに充填されたインクが加圧され、キャビティに連通するノズル５１からインクを液滴として吐出することができる。

インクジェットヘッド５０について、アクチュエーターはピエゾ素子に限らず、インクを加熱してノズル５１から液滴として塗布させる、例えば、ヒーターなどの電気熱変換素子、キャビティを構成する振動板を静電気で変形させる電気機械変換素子であってもよい。

＜インクパック＞
次に、インクパックについて、図面を参照して説明する。図１３は、インクパックの構成を示す概略斜視図である。
図１３に示すように、インクパック４０は、液体収容袋４１と、連通部４５と、を備えている。

液体収容袋４１は、同じ大きさの長方形状で可撓性を有する２枚のフィルム部材４２，４３を重ね合わせて、その４辺の縁を熱溶着することにより袋状に形成されている。

フィルム部材４２，４３は、例えば、ポリエチレンフィルムなどの熱可塑性樹脂層の間に蒸着されたアルミニウムなどのガスバリア層を挟んだ積層構造となっている。

連通部４５は、液体収容袋４１の４辺のうちの１つである辺４４に、２枚のフィルム部材４２，４３に挟まれた状態で熱溶着されている。

連通部４５は、液体収容袋４１の内部と外部とを連通させており、フィルム部材４２，４３の上記熱可塑性樹脂層と熱溶着可能な樹脂とによって形成されている。これにより、液体収容袋４１の内部空間は封止されている。

インクパック４０は、連通部４５を通じて液体収容袋４１の内部にインクが充填される。連通部４５にキャップ（図示せず）をすることによって、インクが充填されたインクパック４０を密封することができる。インクパック４０の容量は、例えば、５００ｍｌ（ミリリットル）である。

インクパック４０は、液体充填装置を用いてインクが充填されるので、異物などが含まれずに清浄度が確保された状態で、インクパック４０内にインクを保持することができる。従って、このようなインクパック４０を用いて、製造装置１０のインクジェットヘッド５０からインクを吐出すれば、素子基板１０１上に異物などが少ない機能膜を安定的に形成することができる。ここで、異物とは、金属粉や繊維などの作業環境から混入するもの、インクがゲル化したものなどを含む。

＜遮蔽部＞
図１１で説明したように、製造装置１０は、金属などの遮光性を有する材料で形成されている遮蔽部１１によって装置全体が覆われており、遮蔽部１１の内側が、外部からの光に照射され難い構造になっている。

素子基板１０１に正孔注入層１３１を形成するインク６０の塗布および発光層１３３を形成するインク８０の塗布を実施する際に、これらのインクが光エネルギーを得ることの少ない暗所で塗布を行うことができる環境であれば、上記形態には限らない。

このようなことから、製造装置１０が遮光性を有する外装体で囲まれていてもよい。ここで、外装体とは、遮光状態を形成するための物質、用具、機材または設備を意味するものであり、特定のものに限定されない。

例えば、製造装置１０を、暗室、グローブボックスなどの外装体に収納することによって遮光状態を形成してもよい。
また、製造装置１０の内部の一部が、遮光性を有する内装体で囲まれることによって、素子基板１０１に正孔注入層１３１を形成するインク６０の塗布および発光層１３３を形成するインク８０の塗布を実施する環境が、局所的に暗所となっていてもよい。

外装体および内装体の材質は、例えば、紙、布、段ボール、木、ガラス、アルミニウムやステンレスなどの金属またはその合金、陶磁器、樹脂などが挙げられる。

このような外装体または内装体による遮光状態の形成は、１つの手段によって限定されるものではなく、２つ以上の手段を組み合わせてもよい。

＜塗布時の雰囲気と素子特性との関係＞
有機ＥＬ素子１３０の製造方法における実施例と比較例とを挙げ、図面を参照して、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３のそれぞれの形成工程において、インクを塗布する際の環境および雰囲気と有機ＥＬ素子の素子特性との関係について説明する。

以下の実施例および比較例で説明する有機ＥＬ素子１３０は、すでに図２で説明した、画素電極１０３と対向電極１０４との間に設けられた、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３、電子輸送層１３４、電子注入層１３５を含む機能層１３６を有しているという素子構成は共通している。なお、機能層１３６からは、緑色発光が得られる有機ＥＬ素子１３０の構成となっている。

図１４は、実施例および比較例のインクを塗布する際の環境および雰囲気と有機ＥＬ素子の素子特性との関係を示す表である。
図１４に示すように、素子基板１０１に、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、および発光層１３３を形成するためにインクを塗布する際の、環境と雰囲気とをパラメーターとして、有機ＥＬ素子１３０の素子特性の評価として、駆動電圧、電流効率、素子寿命を測定する実験を実施した。

図１４では、環境が暗所で、雰囲気が大気の場合を「Ａ」、環境がイエロールーム内で、雰囲気が大気の場合を「Ｂ」、環境が暗所で、雰囲気が不活性ガスの場合を「Ｃ」、と示している。

初めに、実施例１から実施例７までを具体的に説明する。
（実施例１）
まず、正孔注入層１３１を形成するため、インクジェット法により、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含むインク６０を隔壁１０５の開口部１０５ａに塗布した（塗布工程）。塗布工程は、暗所で大気下で実施した。その後、イエロールーム内にて減圧乾燥することにより正孔注入層前駆体を形成した。

イエロールーム内の窒素雰囲気下で正孔注入層前駆体を焼成して正孔注入層１３１を形成した。正孔注入層１３１の膜厚は、４０ｎｍ〜１００ｎｍである。ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの溶媒は水である。

窒素雰囲気下での焼成は、酸素濃度と水分濃度とがそれぞれ１ｐｐｍ以下となるように乾燥された窒素が充填されたチャンバー内に素子基板１０１を放置して行った。

次に、正孔輸送層１３２を形成するため、インクジェット法により、ＴＦＢを含むインク７０を隔壁１０５の開口部１０５ａに塗布した（塗布工程）。塗布工程は、イエロールーム内の大気下で実施した。その後、イエロールーム内にて減圧乾燥することにより正孔輸送層前駆体を形成した。

イエロールーム内の窒素雰囲気下で、正孔輸送層前駆体を焼成して正孔輸送層１３２を形成した。正孔輸送層１３２の膜厚は、１０ｎｍ〜３０ｎｍである。ＴＦＢの溶媒は、３−フェノキシトルエン（３−ＰＴ）である。

次に、発光層１３３を形成するため、インクジェット法により、緑色発光が得られるＰＰＶ（ポリフェニレンビニレン誘導体）を含むインク８０を隔壁１０５の開口部１０５ａに塗布した（塗布工程）。塗布工程は、イエロールーム内で大気下で実施した。その後、イエロールーム内にて減圧乾燥することにより発光層前駆体を形成した。

イエロールーム内の窒素雰囲気下で、発光層前駆体を焼成して発光層１３３を形成した。発光層１３３の膜厚は、４０ｎｍ〜７０ｎｍである。ＰＰＶの溶媒は、３−フェノキシトルエン（３−ＰＴ）である。

電子輸送層１３４は、真空蒸着法により、電子輸送材料としてのＡｌｑ３を成膜して形成した。電子輸送層１３４の膜厚は２０ｎｍ〜４０ｎｍである。

電子注入層１３５は、真空蒸着法により、電子注入材料としてのＣａを成膜して形成した。電子注入層１３５の膜厚は１ｎｍ〜５ｎｍである。

対向電極１０４は、真空蒸着法により、Ａｌを成膜して形成した。対向電極１０４の膜厚は１００ｎｍ〜２００ｎｍである。

このようにして得られた有機ＥＬ素子の素子特性、具体的には、駆動電圧、電流効率、素子寿命を測定した結果、駆動電圧は、０．９５であり、電流効率は、１．０５であり、素子寿命は１．１０であった。
なお、これらの素子特性を示す数値は、後述する比較例８の値を１としたときの相対値を示しており、以下の実施例および比較例においても同様である。
有機ＥＬ素子の素子特性として、駆動電圧に関しては、数値が小さい方が優れており、電流効率、素子寿命に関しては、数値が大きい方が優れている。

以下に説明する実施例２から実施例７および比較例１から比較例８までの有機ＥＬ素子１３０についても、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成する方法は、実施例１の有機ＥＬ素子と同じである。

実施例２から実施例７および比較例１から比較例８までの有機ＥＬ素子について、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成するためのインクを塗布する際の環境と雰囲気とが実施例１と異なる部分を中心に説明する。

なお、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を形成するためのインクを塗布した後、イエロールーム内にて減圧乾燥し、焼成する工程は共通である。

（実施例２）
実施例２の有機ＥＬ素子では、正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は大気下で実施した。

実験の結果、有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．９０であり、電流効率は、１．１０であり、素子寿命は１．２０であった。

（実施例３）
実施例３の有機ＥＬ素子では、発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は大気下で実施した。

実験の結果、有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．８５であり、電流効率は、１．１５であり、素子寿命は１．３０であった。

（実施例４）
実施例４の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
正孔輸送層１３２を形成する際のインク７０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は大気下で実施した。

実験の結果、有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．９５であり、電流効率は、１．０５であり、素子寿命は１．１５であった。

（実施例５）
実施例５の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は大気下で実施した。
発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は大気下で実施した。

実験の結果、有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．８０であり、電流効率は、１．２０であり、素子寿命は１．４０であった。

（実施例６）
実施例６の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
発光層１３３を形成する際のインク８０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は大気下で実施した。

実験の結果、有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．９０であり、電流効率は、１．１０であり、素子寿命は１．２０であった。

（実施例７）
実施例７の有機ＥＬ素子では、正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は大気下で実施した。
発光層１３３を形成する際のインク８０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は大気下で実施した。

実験の結果、有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．７５であり、電流効率は、１．２５であり、素子寿命は１．５０であった。

以上で説明した実施例１から実施例７までの有機ＥＬ素子における素子特性は、良好であるという結果となった。
次に、比較例１から比較例８までを具体的に説明する。

（比較例１）
比較例１の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。以下の説明も含めて、不活性ガスは窒素を用いた。
正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。

実験の結果、比較例１の有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、１．００であり、電流効率は、１．０５であり、素子寿命は１．１０であった。

（比較例２）
比較例２の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。
正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。
発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。

実験の結果、比較例２の有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．９５であり、電流効率は、１．１０であり、素子寿命は１．２０であった。

（比較例３）
比較例３の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。
正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。

実験の結果、比較例３の有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．９０であり、電流効率は、１．２０であり、素子寿命は１．３５であった。

（比較例４）
比較例４の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。
発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。

実験の結果、比較例４の有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．９０であり、電流効率は、１．１０であり、素子寿命は１．２０であった。

（比較例５）
比較例５の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。
発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。

実験の結果、比較例５の有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．８０であり、電流効率は、１．２５であり、素子寿命は１．５０であった。

（比較例６）
比較例６の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。

実験の結果、比較例６の有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．９０であり、電流効率は、１．１０であり、素子寿命は１．２５であった。

（比較例７）
比較例７の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。
正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。
発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境は暗所であり、雰囲気は不活性ガス雰囲気下で実施した。

実験の結果、比較例７の有機ＥＬ素子の素子特性を測定すると、駆動電圧は、０．８０であり、電流効率は、１．３０であり、素子寿命は１．６０であった。

（比較例８）
比較例８の有機ＥＬ素子では、正孔注入層１３１を形成するためのインク６０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
正孔輸送層１３２を形成するためのインク７０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。
発光層１３３を形成するためのインク８０を塗布する際の環境はイエロールーム内であり、雰囲気は大気下で実施した。

比較例８の駆動電圧、電流効率、素子寿命を測定し、測定した値を本実験の有機ＥＬ素子の素子特性の基準、つまり、「１」であるとした。

この実験により、以下のことが明らかになった。
（１）実施例１から実施例７までは、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３のいずれのインクを塗布する際にも、雰囲気は大気下で実施した。言い換えれば、塗布工程において、雰囲気を不活性ガス雰囲気下としていないため、不活性ガス充填機構や不活性ガスを密閉する容器やそれらを繋ぐ配管などが不要である。

（２）実施例１から実施例７まで、および比較例１から比較例７までにおいて、今回測定した有機ＥＬ素子の素子特性（駆動電圧、電流効率、素子寿命）は、いずれも比較例８と比較して、同等または優れている。

以上のことから、本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
この方法によれば、正孔注入層１３１を大気中で成膜する場合においても、光エネルギーが、正孔注入層１３１の形成に用いるインク６０に与える影響を抑制することができる。その結果、有機ＥＬ素子１３０の素子特性、例えば、発光特性や素子寿命の劣化を低減できる。そのため、窒素充填機構が不要となり、簡易な有機ＥＬ素子１３０の製造方法を実現できる。

（第２実施形態）
＜電子機器＞
次に、本実施形態の電子機器について、図１５、図１６を参照して説明する。図１５は、電子機器の一例であるノート型のパーソナルコンピューターを示す概略図であり、図１６は、電子機器の一例である薄型テレビ（ＴＶ）を示す概略図である。

図１５に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピューター１０００は、本体部１００１と、表示ユニット１００３と、を備えている。さらに、本体部１００１は、キーボード１００２を備えており、表示ユニット１００３は、表示部１００４を備えている。

表示ユニット１００３は、本体部１００１に対して、ヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピューター１０００において、上記第１実施形態の有機ＥＬ装置１００が、表示部１００４に搭載されている。

図１６に示すように、電子機器としての薄型テレビ（ＴＶ）１１００は、上記第１実施形態の有機ＥＬ装置１００が、表示部１１０１に搭載されている。

つまり、優れた表示品質と信頼性品質とを有するパーソナルコンピューター１０００や薄型ＴＶ１１００を提供することができる。

有機ＥＬ装置１００が搭載される電子機器は、上記パーソナルコンピューター１０００や薄型ＴＶ１１００に限定されない。例えば、スマートフォンやＰＯＳなどの携帯型情報端末、ナビゲーター、ビューワー、デジタルカメラ、モニター直視型のビデオレコーダーなどの表示部を有する電子機器が挙げられる。

本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う有機ＥＬ素子の製造方法および該有機ＥＬ素子を備えた電気光学装置、該電気光学装置を適用する電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）
上記第１実施形態では、インク７０を用いて正孔輸送層１３２を形成する工程において、インク７０の塗布をイエロールーム内で実施しているが、暗所で実施してもよい。
こうすることによって、光エネルギーがインク７０に与える影響を低減できる。そのため、有機ＥＬ素子１３０の素子特性が光エネルギーによって劣化することを抑制できる。

（変形例２）
上記第１実施形態では、インク６０を用いて正孔注入層１３１を形成する工程において、インク６０の減圧乾燥工程をイエロールーム内で実施しているが、暗所で実施してもよい。
こうすることによって、インク６０の塗布だけでなく、乾燥を暗所で行うことによって、光エネルギーが、インク６０に与える影響を低減できる。

（変形例３）
上記第１実施形態では、インク８０を用いて発光層１３３を形成する工程において、インク８０の減圧乾燥工程をイエロールーム内で実施しているが、暗所で実施してもよい。
こうすることによって、インク８０の塗布だけでなく、乾燥を暗所で行うことによって、光エネルギーが、インク８０に与える影響を低減できる。

（変形例４）
上記第１実施形態では、インク６０を用いて正孔注入層１３１を形成する工程において、インク６０を乾燥して得られた薄膜の焼成をイエロールーム内で実施しているが、暗所で実施してもよい。
こうすることによって、インク６０の塗布および乾燥だけでなく、焼成を暗所で行うことによって、光エネルギーが、インク６０に与える影響を低減できる。

（変形例５）
上記第１実施形態では、インク８０を用いて発光層１３３を形成する工程において、インク８０を乾燥して得られた薄膜の焼成をイエロールーム内で実施しているが、暗所で実施してもよい。
こうすることによって、インク８０の塗布および乾燥だけでなく、焼成を暗所で行うことによって、光エネルギーが、インク８０に与える影響を低減できる。

（変形例６）
第１実施形態の有機ＥＬ素子１３０が適用される電気光学装置は、表示部を有する有機ＥＬ装置１００に限定されず、照明装置や感光物を露光する露光装置であってもよい。

１０…製造装置、６０…インク、７０…インク、８０…インク、１００…電気光学装置としての有機ＥＬ装置、１０１…基体としての素子基板、１０４…陰極としての対向電極、１３０…有機ＥＬ素子、１３１…正孔注入層、１３２…正孔輸送層、１３３…発光層、１３４…電子輸送層、１３５…電子注入層、１３６…機能層、１０００…電子機器としてのパーソナルコンピューター、１１００…電子機器としての薄型ＴＶ。

Claims (13)

1. 基体において、正孔注入層と発光層とを含む機能層を備えた有機ＥＬ素子の製造方法であって、
   前記正孔注入層を液相プロセスにより形成する第１工程と、
   前記発光層を液相プロセスにより形成する第２工程と、
   を有し、
   前記第１工程において、前記正孔注入層の形成に用いる第１の機能液を暗所で塗布し、
   前記第２工程において、前記発光層の形成に用いる第２の機能液を暗所で塗布することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
2. 正孔輸送層を形成する第３工程を有し、前記第３工程において、前記正孔輸送層の形成に用いる第３の機能液を暗所で塗布することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
3. 前記第１工程を大気下で行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
4. 前記第１工程において、塗布した前記第１の機能液の乾燥を暗所で行うことを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
5. 前記第２工程において、塗布した前記第２の機能液の乾燥を暗所で行うことを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
6. 前記第１工程において、塗布した前記第１の機能液を乾燥して得られた薄膜の焼成を、暗所で行うことを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
7. 前記第２工程において、塗布した前記第２の機能液を乾燥して得られた薄膜の焼成を、暗所で行うことを特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
8. 前記機能層は、電子輸送層、電子注入層のうちの少なくとも１つの層を有することを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
9. 前記液相プロセスは、インクジェット法であることを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
10. 前記電子輸送層、前記電子注入層、陰極のうちの少なくとも１つの層は、真空蒸着法で形成されることを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
11. 正孔注入層および発光層を形成する有機ＥＬ素子の製造装置であって、
    前記第１の機能液の塗布および前記第２の機能液の塗布を暗所で行う塗布機構を有していることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造装置。
12. 請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を備えていることを特徴とする電気光学装置。
13. 請求項１２に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。

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